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JP3239192B2 - Manufacturing method of special shape emboss - Google Patents
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JP3239192B2 - Manufacturing method of special shape emboss - Google Patents

Manufacturing method of special shape emboss

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JP3239192B2
JP3239192B2 JP35190292A JP35190292A JP3239192B2 JP 3239192 B2 JP3239192 B2 JP 3239192B2 JP 35190292 A JP35190292 A JP 35190292A JP 35190292 A JP35190292 A JP 35190292A JP 3239192 B2 JP3239192 B2 JP 3239192B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の目的】[Object of the invention]

【産業上の利用分野】本発明は運動靴の靴底に設けられ
るような防滑性のエンボス並びにその製造方法並びにそ
のエンボスを有する靴に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a non-slip embossing, such as provided on a shoe sole of athletic shoes, a method of manufacturing the same, and a shoe having the embossing.

【0002】[0002]

【発明の背景】近年の陸上競技では100分の1秒とい
う近差で勝敗を決することも多く、運動靴にもそれなり
の機能性と高品質性が要求されている。特に接地面底の
滑り止め用のエンボスは、靴の地面把持力に直接関係す
るため、種々の靴底のエンボス形態が開発されている。
しかし現在市場に提供されている運動靴の靴底のエンボ
ス形態は、エンボスの配置やつながり方を変えたものに
すぎず、最も地面把持力に関係があるエンボス接地面の
形状に変化を与えたものは、その成形の困難性からほと
んど製品化されていないのが現状である。
BACKGROUND OF THE INVENTION In recent track and field sports, winning or losing is often determined with a difference of 1/100 second, and athletic shoes are required to have a certain level of functionality and high quality. In particular, various types of embossed soles have been developed because the non-slip embossing on the sole of the tread directly relates to the gripping force of the shoe.
However, the shape of the embossed sole of the athletic shoes currently on the market has only changed the arrangement and connection of the embosses, and has changed the shape of the embossed contact surface that is most related to the ground grip force At present, it is hardly commercialized due to the difficulty of molding.

【0003】[0003]

【開発を試みた技術的事項】本発明はこのような背景に
鑑みなされたものであって、地面把持力に優れたエンボ
スとこのエンボスを靴底に有する靴を提供するととも
に、そのエンボスを極めて簡易に製造できる製造方法の
開発を試みたものである。
[Technical matters attempted to be developed] The present invention has been made in view of such a background, and provides an embossing excellent in ground gripping force and a shoe having the embossment on a shoe sole, and the embossing is extremely improved. This is an attempt to develop a manufacturing method that can be easily manufactured.

【0004】[0004]

【発明の構成】Configuration of the Invention

【目的達成の手段】即ち本出願に係る第一の発明である
特殊形状エンボスの製造方法は、磁性を有する孔版と、
磁石板とによって素地シートを挟持することにより、前
孔版の一面に素地シートを密着し、前記孔版の他面か
ら孔版の孔部にエンボス液体原料を流し込んだ後、前記
孔版の他面側における孔部中のエンボス液体原料液面を
スキージ処理により凹状態にして、その後エンボス液体
原料を硬化させ脱版することを特徴として成るものであ
る。そして上記発明により前記目的を達成せんとするも
のである。
Means for Achieving the Object: That is, a method for manufacturing a specially-shaped embossment according to the first invention of the present application includes a stencil having magnetism,
By holding the base sheet with the magnet plate,
After adhering the base sheet to one surface of the stencil plate and pouring the embossed liquid material from the other surface of the stencil into the hole of the stencil, the squeegee treatment is performed on the liquid surface of the embossed liquid material in the hole on the other surface side of the stencil. The method is characterized in that the embossed liquid raw material is cured, and the plate is released from the plate after the concave state. The above-mentioned invention achieves the above object.

【0005】[0005]

【発明の作用】本発明によって形成される特殊形状エン
ボスは、エンボスの接地面が凹陥状であり、接地面の周
端部はエンボスの側面に対して鋭角的に形成されるか
ら、エンボスの接地把握力が大きくなる。
According to the specially-shaped emboss formed by the present invention, the ground surface of the emboss is concave, and the peripheral end of the ground surface is formed at an acute angle with respect to the side surface of the emboss. Greater grasping power.

【0006】また本発明の特殊形状エンボスの製造方法
は、磁性を有する孔版と、磁石板とによって素地シート
を挟持することにより、前記孔版の一面に不織布を密着
し、孔版の他面からエンボス液体原料を流し込んだ後、
孔版の他面側をスキージ処理し、その後エンボス液体原
料を硬化させ脱版するようにしたから、スキージ処理の
際にエンボス液体原料と孔版の孔部並びにスキージ具先
端との表面張力、接触角、濡れなどの関係から、エンボ
ス液体原料の液面が孔版の面から凹状態に窪み、そのま
ま硬化脱版されることでエンボス接地面が凹状態に形成
され、接地面の周端部はエンボス側面に対して鋭角的に
形成される。この際、素地シートと孔版との密着を図る
ことができ、紫外線硬化樹脂の浸み出しを防ぐことがで
きるため、エンボスの形成が好適に行われる。
Further, the method for producing a specially-shaped embossment of the present invention provides a method of manufacturing a base sheet by using a magnetic stencil and a magnet plate.
By sandwiching the nonwoven fabric on one surface of the stencil, and after pouring the embossed liquid raw material from the other surface of the stencil,
Since the other side of the stencil was subjected to squeegee processing, and then the embossed liquid material was hardened and depressurized, the surface tension, contact angle between the embossed liquid material and the hole of the stencil and the tip of the squeegee tool during squeegee processing, Due to the wetting, etc., the liquid surface of the embossed liquid raw material is depressed from the surface of the stencil to a concave state, and the embossed grounding surface is formed in a concave state by curing and depressurizing as it is. It is formed at an acute angle to it. At this time, the close contact between the base sheet and the stencil
Can prevent seepage of UV curable resin
Therefore, embossing is preferably performed.

【0007】[0007]

【実施例】以下本発明を運動靴1の靴底のエンボス2を
例にとって、図示の実施例に基づいて説明する。尚、説
明の都合上、図面ではエンボスがに凸になるように描
き、以下の説明もこれに合わせる。運動靴1の靴底の一
つのエンボス2は例えば図1において拡大して示すよう
にほぼ円柱形をしており、図中エンボス2の上面に接地
面3を形成し、円柱形の周囲に側面4を形成して成る。
そして接地面3は全体が多少とも緩やかな凹陥状に形成
されるとともに、接地面3の周端部5は側面4に対して
鋭角的に形成される。このような構造は本発明の特徴的
構成であって、他の種々のエンボス2にも適用できる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to an embodiment shown in FIG. Incidentally, for convenience of description, the drawings drawn so as to upwardly convex emboss, tailored to also the following description. One emboss 2 of the sole of the athletic shoe 1 has, for example, a substantially cylindrical shape as shown in an enlarged view in FIG. 1, and a grounding surface 3 is formed on the upper surface of the emboss 2 in the figure. 4 is formed.
The grounding surface 3 is formed as a whole with a somewhat gentle depression, and the peripheral end 5 of the grounding surface 3 is formed at an acute angle with respect to the side surface 4. Such a structure is a characteristic configuration of the present invention, and can be applied to other various embossments 2.

【0008】例えば図2(a)に示すものは、側面4を
テーパ状に形成したものであり、図2(b)に示すもの
は横断面が長円形に形成されたものであって、それぞれ
のエンボスに上記特徴的構成を適用したものである。ま
た更にこのような構成は、連続的なエンボス2にも適用
できるものである。その例として図2(c)に示すよう
に波形のエンボスの接地面3を凹陥状に形成したり、図
2(d)に示すようにリング状のエンボスのリング部分
の接地面3を凹陥状に形成してもよい。
For example, the one shown in FIG. 2A has a side surface 4 formed in a tapered shape, and the one shown in FIG. 2B has an oval cross section, and The above-mentioned characteristic configuration is applied to the emboss. Further, such a configuration can be applied to the continuous embossing 2. For example, as shown in FIG. 2C, the corrugated embossed ground surface 3 is formed in a concave shape, or as shown in FIG. 2D, the ring-shaped embossed ground surface 3 is formed in a concave shape. May be formed.

【0009】次に以上のような特殊形状エンボスの製造
方法について説明する。この製造方法は従来のエンボス
製造法とは異なり、孔版を用いるものであるため、まず
孔版の作成について説明し、そのあとエンボスの成形工
程を説明する。因みに孔版を適用してエンボスを成形す
ることは本発明の一つの特徴でもあり、これにより円柱
形のエンボスは勿論のこと、従来の凹版的な金型を用い
て行う方法では全く対応できなかった上記図2(c)
(d)のような波形あるいはリング状の接地面3を凹陥
状にしたエンボスも成形可能になったのである。
Next, a method of manufacturing the special shape emboss as described above will be described. Since this manufacturing method uses a stencil unlike the conventional embossing manufacturing method, first, the preparation of the stencil will be described, and then the embossing forming process will be described. By the way, embossing by applying a stencil is also one of the features of the present invention, whereby the method using a conventional intaglio-shaped mold, as well as a cylindrical emboss, could not be dealt with at all. FIG. 2 (c) above
As shown in FIG. 4D, it is possible to form a corrugated or embossed ring-shaped grounding surface 3 having a concave shape.

【0010】(1) 孔版の作成 イ)サンドブラストによる方法 まず所望のエンボスデザインを作成し、このエンボスデ
ザインを被転写体Aとして、図3に示すように写真撮影
手法でポジフィルムであるリスフィルム10を作成す
る。尚この手法ではカメラを用いるので、エンボスデザ
インの縮小、拡大は自由である。因みにこのようなポジ
フィルムは、もちろん他のものを適用することも可能で
あるが、後の露光の際に感光部と非感光部との境界を明
確にするため、本実施例では薄く硬調なコントラストが
得られるリスフィルムを採用している。
(1) Preparation of a stencil a) Method by sandblasting First, a desired embossed design is prepared, and this embossed design is used as a transfer object A as shown in FIG. Create In this method, since a camera is used, the emboss design can be freely reduced or enlarged. By the way, such a positive film can, of course, be applied to other films, but in order to clarify the boundary between the photosensitive portion and the non-photosensitive portion at the time of subsequent exposure, in the present embodiment, a thin and hard tone is used. Uses a squirrel film that provides contrast.

【0011】次にこのリスフィルム10を図4(a)に
示すように光硬化性樹脂フィルム12に密着させ、リス
フィルム10側から露光して、リスフィルム10のエン
ボスデザイン以外の部分に対応した光硬化性樹脂フィル
ム12の部分を硬化させる。
Next, as shown in FIG. 4A, the squirrel film 10 is brought into close contact with the photocurable resin film 12 and exposed from the squirrel film 10 side to correspond to portions other than the embossed design of the squirrel film 10. The part of the photocurable resin film 12 is cured.

【0012】尚、光硬化性樹脂フィルム12は、サンド
ブラスト保護マスクとなるものであり、例えば光硬化性
樹脂層を透明フィルムで両面から剥離可能にサンドイッ
チし、使用時にリスフィルムとの密着面側の透明フィル
ムあるいは後述の硬質板との密着面側の透明フィルムを
剥離して用いる形態のものが便利である。また光硬化性
樹脂フィルム12は、後述するようにサンドブラストに
対する耐久性を要求される。この観点から選択できる光
硬化性樹脂フィルム12の一例として、ウレタン系感光
フィルムがあり、このものは100μmの薄さでもサン
ドブラストに耐えることができる。尚もちろん種々の樹
脂であっても、精度の点を問題としなければ、厚さを厚
くしてサンドブラストへの耐久性を増すことができるか
ら、作業性やコスト面等を考慮して適宜の樹脂を選択す
ることもできる。
The photo-curable resin film 12 serves as a sandblast protection mask. For example, a photo-curable resin layer is sandwiched between transparent surfaces with a transparent film so that it can be peeled off from both sides. It is convenient to use a transparent film or a transparent film on the side of the surface in close contact with the hard plate, which will be described later. The photocurable resin film 12 is required to have durability against sand blast as described later. An example of the photocurable resin film 12 that can be selected from this viewpoint is a urethane-based photosensitive film, which can withstand sandblasting even with a thickness of 100 μm. Of course, even if various resins are used, if the accuracy is not a problem, the thickness can be increased to increase the durability against sand blasting. Can also be selected.

【0013】ここで光硬化性樹脂は、例えばスチリルピ
リジニウム基を感光基としてポリ酢酸ビニル・ポリビニ
ルアルコールエマルジョンに導入した感光性樹脂や、こ
の他カラギナン、ゼラチン等の天然水溶性ポリマー、カ
ルボキシメチルセルロース、アルギン酸アンモン、でん
ぷん、メチルアミノプロピルエーテル等の半合成水溶性
ポリマー及びベンゾフェノン、チオキサントン、ベンゾ
インエーテル等の光重合開始剤、そしてモノマーとから
成る光重合型のものや、重クロム酸塩、ジアゾ樹脂、ビ
スアジド化合物等の光架橋剤とから成る混合型のものが
ある。
The photocurable resin may be, for example, a photosensitive resin having a styrylpyridinium group as a photosensitive group introduced into a polyvinyl acetate / polyvinyl alcohol emulsion, a natural water-soluble polymer such as carrageenan or gelatin, carboxymethylcellulose, or alginic acid. Ammonium, starch, semisynthetic water-soluble polymers such as methylaminopropyl ether, and photopolymerization initiators such as benzophenone, thioxanthone, and benzoin ether; and photopolymerization type composed of monomers, dichromates, diazo resins, and bisazides There is a mixed type comprising a photo-crosslinking agent such as a compound.

【0014】尚、光硬化樹脂の「光硬化」とは、可視
光、紫外線、X線、電子線などのエネルギーの高い電磁
波の照射を受けると、エネルギーを吸収して架橋、硬
化、不溶化を起こして固化する物質全般を指すものであ
り、同様に「光」とはこれらエネルギーの高い電磁波を
総称するものである。
The "photo-curing" of a photo-curing resin means that when irradiated with high-energy electromagnetic waves such as visible light, ultraviolet rays, X-rays, and electron beams, the energy is absorbed to cause crosslinking, curing, and insolubilization. Similarly, the term “light” is a general term for these high-energy electromagnetic waves.

【0015】次に光硬化性樹脂フィルム12のうち、リ
スフィルム10のエンボスデザインに対応した非感光部
分を図4(b)に示すように炭酸水中でブラシB等を用
いて洗い流し、これを乾燥した後、感光部分の硬度を上
げる目的で再度露光してマスク13を作成する。そして
図4(c)に示すように、このマスク13を版の原板で
ある硬質板14の表面に密着させ、この状態でマスク1
3側の面にサンドブラスト加工を施す。尚、マスク13
を硬質板14に密着させるため、予め硬質板14側に接
着剤を塗布しておくとよい。
Next, of the photocurable resin film 12, a non-photosensitive portion corresponding to the embossed design of the lith film 10 is washed away in a carbonated water using a brush B or the like as shown in FIG. After that, the mask 13 is formed by exposing again to increase the hardness of the photosensitive portion. Then, as shown in FIG. 4C, the mask 13 is brought into close contact with the surface of a hard plate 14 which is the original plate of the plate.
Sand blasting is applied to the three side surfaces. The mask 13
In order for the hard plate 14 to be in close contact with the hard plate 14, an adhesive may be applied to the hard plate 14 in advance.

【0016】ここで硬質板14とは、硬質の素材から成
り、サンドブラスト加工に適する素材をいい、例えばガ
ラス、セラミックス、石材、人工大理石等脆弱性を有す
る素材の他、加工に多少の困難性を伴うものの金属等も
含むものである。尚、硬質板14の中でもガラス板は割
れることさえ気をつければ、安価で入手しやすい上にサ
ンドブラスト加工がおこないやすく、また靴底のエンボ
スの長さ程度であれば数十分という短時間で加工できる
ので作業性が良い。
Here, the hard plate 14 is made of a hard material and is suitable for sand blasting. For example, glass, ceramics, stone, artificial marble, and the like, have some difficulty in processing. However, it also includes metals and the like. It should be noted that even if the glass plate is broken even among the hard plates 14, it is inexpensive and easily obtainable, and sandblasting is easy to be performed. Workability is good because it can be processed.

【0017】またブラスト用の研磨材は、通常墓石や表
札などの蝕刻に用いるものでよく、例えば天然硅素、ガ
ーネット、炭化硅素カーボン、ランダム、人造コランダ
ム等が適用できる。もちろんこれら研磨材の選定は、硬
質板14の材質や作業性等を加味して適宜選択すること
になる。
The abrasive for blasting may be one usually used for etching gravestones, nameplates and the like. For example, natural silicon, garnet, silicon carbide carbon, random, artificial corundum and the like can be applied. Of course, the selection of these abrasives is appropriately made in consideration of the material of the hard plate 14, workability, and the like.

【0018】次にサンドブラストによる蝕刻加工につい
て説明する。予定するエンボスの長さと同じ厚さの硬質
板14を用いて、図4(c)に示すように研磨材を当て
て蝕刻により孔部18を形成して孔版19を作成する。
この場合、通常のサンドブラストでは図6に示すように
孔部にテーパが付き易いため、これを利用してテーパ付
きのエンボスを成形することもできるし、またこのテー
パを抜き勾配として利用することもできる。更に発展し
て例えば靴底の爪先部分のように、なだらかに傾斜しな
がらせり上がるような、言わばなだらかなテーパ面を有
するエンボスの成形にも利用できる。サンドブラストの
距離をおき、時間をかけてブラストすれば、テーパのな
い垂直面を有する孔部も形成できる。尚、蝕刻面は梨地
状になっているから、脱版性向上のため、版使用前に離
型剤を塗布しておくことが好ましい。
Next, a description will be given of an etching process by sandblasting. Using a hard plate 14 having the same thickness as the expected length of the emboss, a hole 18 is formed by etching with a polishing material as shown in FIG.
In this case, as shown in FIG. 6, in the ordinary sand blast, the hole is easily tapered, so that the tapered emboss can be formed by using this, and this taper can be used as a draft. it can. The present invention can be further developed to form an emboss having a so-called gentle taper surface, such as a toe portion of a shoe sole, which rises with a gentle inclination. A hole having a vertical surface without taper can also be formed by sandblasting at a distance and blasting over time. Since the etched surface has a satin finish, it is preferable to apply a release agent before using the plate in order to improve the deprinting property.

【0019】また図7(a)のようにまず範囲a1 を蝕
刻して孔部18を形成し、その後この範囲a1 と一部重
複した範囲a2 に途中まで蝕刻を施せば、このような孔
版を用いて図7(b)のような段差付きのエンボス
形成することができる。
[0019] The hole portion 18 is formed by etching as first range a 1 of FIG. 7 (a), then if Hodokose the etched partway in the range a 2 that partially overlaps this range a 1, thus An embossed stepped portion 2 as shown in FIG. 7B can be formed by using a stencil.

【0020】ロ)マスター型を利用する方法 図8(a)に示すように靴底のエンボス模様と同様な模
様のマスター型25を用意し、これに鉄、ニッケル等の
磁性体金属26を溶射する。そしてこのマスター型25
の各凸部27間に型用樹脂28を流し込んで熱硬化さ
せ、図8(b)のように表面を削ってマスター型25の
凸部27天面に付着している磁性体金属26をとり去
る。最後にマスター型25をはずすことにより、図8
(c)に示すような孔部18を有する孔版19が得られ
る。尚このような孔版19は、孔部18以外の下面に磁
性体金属26が設けられることになるが、これは後述す
るように磁力によって素地シートと孔版19との密着性
を向上させるためのものであって、他の方法で両者の密
着性の向上が図れる場合には、磁性体金属26の存在は
必ずしも必要とされない。
(B) Method using a master mold As shown in FIG. 8 (a), a master mold 25 having a pattern similar to the embossed pattern of the shoe sole is prepared, and a magnetic metal 26 such as iron or nickel is sprayed on the master mold 25. I do. And this master mold 25
The mold resin 28 is poured between the convex portions 27 and thermally cured, and the surface is shaved as shown in FIG. 8B to remove the magnetic metal 26 attached to the top surface of the convex portion 27 of the master mold 25. leave. Finally, by removing the master mold 25, FIG.
A stencil 19 having a hole 18 as shown in FIG. In addition, in such a stencil 19, a magnetic metal 26 is provided on the lower surface other than the hole 18, and this is for improving the adhesion between the base sheet and the stencil 19 by magnetic force as described later. However, if the adhesion between the two can be improved by another method, the presence of the magnetic metal 26 is not necessarily required.

【0021】またこのような方法において孔版19に磁
性を帯びさせるための類似技術として、孔版19に磁性
粉を担持させる手法を採ることもできる。その具体的手
法として、型用樹脂28が液状の段階で、これに磁性粉
を混入し、これをマスター型25に流し込んで孔版19
を製作する方法や、磁性を有しない孔版に後から磁性粉
を付着させる方法が採り得る。因みに磁性粉を付着させ
るには、ガス炎、アーク炎、プラズマ等により磁性体を
細かい溶滴状にして孔版に溶射する方法で容易に行え
る。尚、この方法では、磁性粉が孔版の孔部にも付着し
て脱版が行い難くなるおそれがあるから、マスク等をし
て孔部に磁性体が付着しないようにする手立てが必要と
なる。
As a similar technique for imparting magnetism to the stencil 19 in such a method, a method of supporting magnetic powder on the stencil 19 may be employed. As a specific method, when the mold resin 28 is in a liquid state, a magnetic powder is mixed into the liquid, and the mixture is poured into the master mold 25 to form a stencil 19.
And a method of attaching a magnetic powder later to a stencil having no magnetism. By the way, the magnetic powder can be easily attached by a method in which a magnetic substance is formed into fine droplets by a gas flame, an arc flame, plasma or the like and sprayed onto a stencil. In this method, since the magnetic powder may adhere to the holes of the stencil and it may be difficult to remove the plate, it is necessary to provide a mask or the like to prevent the magnetic substance from adhering to the holes. .

【0022】ハ)光硬化樹脂フィルムを利用する方法 まず図9(a)に示すように光硬化樹脂を2mm厚のフ
ィルム状に乾燥成形して、光硬化樹脂フィルム30を作
成する。尚このフィルムは上記サンドブラスト法の中で
説明したものと同じであるが、成形するエンボスの高さ
に応じて厚めのものを適用する。この露光前の光硬化樹
脂フィルム30を、図9(a)に示すように下面を水で
濡らした後、ガラス、アルミ板等の基板31に接着し、
70℃前後で5〜10分間乾燥し、両者を一体化する。
その後図9(b)(c)に示すように、露光前の光硬化
樹脂フィルム30の上に靴底のエンボス模様を形成した
マスク32を密着し、例えば超高圧水銀灯ブロードハン
ド(365nm、5.7mW/cm2 )で10〜15分
露光後、マスク32を外して、ブラシ等を用いて温水シ
ャワー中で未露光部33を取り除く。
(C) Method using photocurable resin film First, as shown in FIG. 9A, a photocurable resin film 30 is formed by drying and molding a photocurable resin into a film having a thickness of 2 mm. This film is the same as that described in the above sandblasting method, but a thicker film is applied according to the height of the emboss to be formed. As shown in FIG. 9A, the photocurable resin film 30 before the exposure is wetted on the lower surface with water and then adhered to a substrate 31 such as a glass or aluminum plate.
Dry at about 70 ° C. for 5 to 10 minutes to integrate them.
Thereafter, as shown in FIGS. 9B and 9C, a mask 32 having an embossed pattern on a shoe sole is adhered to the photocurable resin film 30 before exposure, and for example, an ultrahigh pressure mercury lamp broad hand (365 nm, 5. After exposure at 7 mW / cm 2 ) for 10 to 15 minutes, the mask 32 is removed, and the unexposed portion 33 is removed in a warm water shower using a brush or the like.

【0023】次に未露光部33が取り除かれた光硬化樹
脂フィルム30を70℃前後で約30分程乾燥し、フィ
ルムを基板31から剥がした後、磁性体金属26を溶射
して図9(c)に示すように未露光部33に孔部18を
形成した孔版19を作成する。尚、孔版19に磁性を帯
びさせる場合には、前記同様磁性粉を適用してもよく、
また光硬化樹脂はフィルムの他、液体状のものを塗布乾
燥して用いてもよい。また尚、光硬化樹脂の光硬化特性
は、その透明度に大きく依存するため、透明度の許す範
囲内で磁力吸引力との兼ね合いをみて磁性粉の添加量を
調整する他、よりエネルギーレベルの高い電子線を用い
て硬化させる必要がある。
Next, the photocurable resin film 30 from which the unexposed portions 33 have been removed is dried at about 70 ° C. for about 30 minutes, the film is peeled off from the substrate 31, and the magnetic metal 26 is thermally sprayed as shown in FIG. As shown in c), a stencil 19 having the hole 18 formed in the unexposed portion 33 is prepared. When the stencil 19 is magnetized, magnetic powder may be applied as described above.
In addition to the film, the photo-curable resin may be used by applying and drying a liquid material. In addition, since the photocuring properties of the photocurable resin greatly depend on its transparency, the addition amount of the magnetic powder is adjusted in consideration of the magnetic attraction force within the range allowed by the transparency, and the electron energy of a higher energy level is adjusted. It must be cured with wire.

【0024】また水現像が可能な光硬化樹脂は、硬化前
水溶性であり硬化後も親水性に富むため、油性系の原料
が用いられがちな靴底のエンボス(具体的にはウレタン
エラストマー)に対する離型性、即ち数mm厚もある孔
版19の孔部18からの脱版性を考慮した場合には、好
適なタイプであるといえる。また水現像における水と
は、中性は勿論のことアルカリ性、酸性でも構わない。
Since the water-developable photocurable resin is water-soluble before curing and has high hydrophilicity even after curing, embossing of a shoe sole (specifically, urethane elastomer), which is likely to use an oil-based material, In consideration of the releasability of the stencil 19 from the hole 18 of the stencil 19 having a thickness of several mm, it can be said that the stencil 19 is a suitable type. The water in the water development may be neutral or alkaline or acidic.

【0025】ニ)その他の方法 以上の方法の他、金属板、樹脂板などにエッチング、ワ
イヤカット、レーザー、パンチング、プレス等による方
法で孔部を形成して孔版を作成してもよい。今日ではエ
ッチング手法によれば、金属板に段差を付けた孔部を形
成することも比較的低コストで行うことができる。
D) Other methods In addition to the above methods, a stencil may be formed by forming a hole in a metal plate, a resin plate or the like by etching, wire cutting, laser, punching, pressing or the like. Nowadays, according to the etching method, it is possible to form a stepped hole in a metal plate at a relatively low cost.

【0026】(2) 孔版と素地シートとのセット 次に図10のように素地シート34の上に孔版19を密
着させる。尚、素地シート34と孔版19との密着が悪
いと液が浸み出してエンボスの回りに柄として出てしま
うため、接着、貼着、磁力吸着あるいは素地シート34
の下にクッション材を敷き孔版の上から押圧させるなど
の適宜の手段で確実に密着させる。
(2) Setting the stencil and the base sheet Next, the stencil 19 is brought into close contact with the base sheet 34 as shown in FIG. If the adhesion between the base sheet 34 and the stencil sheet 19 is poor, the liquid oozes out and comes out as a pattern around the embossment.
A cushion material is laid under the stencil and pressed down from above the stencil to ensure close contact.

【0027】因みに素地シート34と孔版19との密着
方法には、バキュームを利用したり、粘着による方法も
考えられるが、バキュームによるとマスクされていない
孔部分ばかりから吸引され、この状態でエラストマーを
流し込むとそれを不織布内に吸引してしまう。そのため
結局、版全体を均一に吸引するのは困難である。また粘
着による方法では、その都度粘着剤を塗布し直す必要が
生じる。これに対し例えば、上記磁力による方法では、
吸引作用の断通が確実に制御でき、全面にほぼ均一に吸
引作用を及ぼすことができるとともに、素地シート34
と孔版19との密着を維持したまま加熱を行うことがで
きる。
As a method of bringing the base sheet 34 and the stencil sheet 19 into close contact with each other, a method of using a vacuum or a method of sticking may be considered. However, according to the vacuum, the elastomer is sucked only from the unmasked hole, and the elastomer is removed in this state. When poured, it is sucked into the nonwoven fabric. Therefore, it is difficult to uniformly suction the entire plate. In the method using adhesion, it is necessary to apply the adhesive again each time. On the other hand, for example, in the method using the magnetic force,
The disconnection of the suction action can be reliably controlled, and the suction action can be exerted almost uniformly on the entire surface.
The heating can be performed while maintaining the close contact between the stencil and the stencil 19.

【0028】尚、上記孔版の作成において孔版19に磁
性体を具えていないものはクッション材を敷き、孔版の
適宜数カ所を上から押圧させるなどの方法で密着させる
のが好ましく、また孔版19に磁性体を具えている場合
は、図11に示すように強力な永久磁石板35を用意
し、その上に素地シート34を敷き、更にその上に孔版
19を乗せることで、孔版19の磁性体金属26が永久
磁石板35に磁力で吸引される作用によって、素地シー
ト34は孔版19と密着状態となる。
When the stencil sheet is not provided with a magnetic material, it is preferable that the stencil sheet 19 is not provided with a magnetic material, and that the stencil sheet 19 be closely adhered to the stencil sheet 19 by pressing several places on the stencil sheet from above. When the body is provided, a strong permanent magnet plate 35 is prepared as shown in FIG. 11, a base sheet 34 is laid thereon, and the stencil 19 is further placed thereon, whereby the magnetic metal of the stencil 19 is provided. The base sheet 34 comes into close contact with the stencil 19 by the action of the magnetic sheet 26 being attracted to the permanent magnet plate 35 by magnetic force.

【0029】この場合、永久磁石板35の替わりに電磁
石を適用してもよく、また孔版19をすべて鉄等の磁性
体で構成したり、孔版19に永久磁石あるいは他の磁性
体を埋め込むなどの構成を採ることもできる。また磁石
板は、平面研削盤の工作物保持装置として広く利用され
ている永磁チャック、電磁チャックのような形態を採れ
ば便利であり、このようなものを永久磁石板の代わりに
セットするのがよい。
In this case, an electromagnet may be used instead of the permanent magnet plate 35, and the stencil 19 may be entirely made of a magnetic material such as iron, or a permanent magnet or another magnetic material may be embedded in the stencil 19. A configuration can also be adopted. Also, it is convenient if the magnet plate takes a form such as a permanent magnetic chuck or an electromagnetic chuck which is widely used as a workpiece holding device of a surface grinding machine. Is good.

【0030】また素地シート34は、例えば合成樹脂、
ゴム、不織布など従来使用されている素材が適用でき
る。素地シート34として不織布を適用する場合には、
熱可塑性繊維、熱硬化性繊維のいずれによるものでもよ
く、その一例としてバックスキン状人工皮革である東レ
株式会社製のエクセーヌ(登録商標)などを適用するこ
とができる。因みにこのエクセーヌ(登録商標)には、
黄色、オレンジ色など種々の色があるので、エンボスを
黒色系とすることで色彩的なコントラストによる意匠を
靴底に施すことができる。
The base sheet 34 is made of, for example, synthetic resin,
Conventionally used materials such as rubber and nonwoven fabric can be applied. When a nonwoven fabric is applied as the base sheet 34,
Either thermoplastic fiber or thermosetting fiber may be used, and as an example, Esseine (registered trademark) manufactured by Toray Industries, Inc., which is a backskin-like artificial leather, can be used. By the way, this Exeine (registered trademark)
Since there are various colors such as yellow and orange, a design based on color contrast can be applied to the shoe sole by making the emboss black.

【0031】この他、引裂強度、引張強度、耐磨耗性の
ある通常の不織布シートをはじめ、厚手のフィルムシー
ト等も適用できるし、接着性を具えるものや樹脂皮膜コ
ートによる防水性を具えるものでもよい。通常の不織布
シートとしては、ウレタン等の弾性長繊維を自己接着さ
せたものが好適である。この場合、例えば厚さ1cm程
度の厚手の不織布シートを適用すれば、緩衝性に優れた
靴底を提供することができる。尚、フィルムシートを素
地シート34として用いるときは、人工皮革や不織布に
比較すると素材の対比を意匠的に表現しにくいが、色彩
的なコントラストにより意匠性を高めることができる。
In addition to the above, a normal nonwoven fabric sheet having tear strength, tensile strength and abrasion resistance, a thick film sheet, etc. can be applied, and a material having an adhesive property and a waterproof property by a resin film coat can be used. It may be something that can be obtained. As a normal nonwoven fabric sheet, a self-adhesive elastic long fiber such as urethane is preferable. In this case, for example, if a thick nonwoven fabric sheet having a thickness of about 1 cm is applied, a shoe sole having excellent cushioning properties can be provided. When a film sheet is used as the base sheet 34, it is difficult to express the contrast of the material in terms of design as compared with artificial leather or nonwoven fabric, but the design can be enhanced by color contrast.

【0032】(3) エンボス液体原料の流し込み 孔版19を素地シート34と密着状態でセットしたら、
図12(a)に示すように孔版19における孔部18に
エンボス液体原料の一例としてポリウレタンエラストマ
ー36を流し込む。尚、ポリウレタンエラストマー36
の流し込み方法は、図12(a)のように容器内で原料
の二液を混合し脱泡して注ぐ方法の他、図示しないがノ
ズル内で二液が混合される方法や、図12(a')のよう
にノズル先端で原料の二液を混合しながら吹き付けるよ
うにしてもよい。
(3) Pouring of embossed liquid raw material When the stencil 19 is set in close contact with the base sheet 34,
As shown in FIG. 12A, a polyurethane elastomer 36 is poured into the hole 18 of the stencil 19 as an example of an embossed liquid material. The polyurethane elastomer 36
As shown in FIG. 12 (a), the method of pouring is to mix the two components of the raw material in a container and degas and pour the mixture. As in a '), the two liquids of the raw material may be sprayed while being mixed at the tip of the nozzle.

【0033】このポリウレタンエラストマー36は、プ
レポリマーとポリイソシアネートとの混合液から成り、
これを加熱することによって硬化するものであり、本実
施例ではプレポリマーである日本ポリウレタン工業株式
会社のニッポラン(登録商標)に、ポリイソシアネート
である大日本インキ株式会社のパンデックス(登録商
標)を混合して用いた。尚、プレポリマーとポリイソシ
アネートとの混合液は真空脱泡したものを孔部18に流
し込む。またノズルから吹き付けて供給するポリウレタ
ンエラストマーとして好適なものに、日本合成化学工業
株式会社の無溶剤即硬ウレタン樹脂などがある。
The polyurethane elastomer 36 comprises a mixture of a prepolymer and a polyisocyanate,
This is cured by heating. In this example, Nipporan (registered trademark) of Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., which is a prepolymer, and Pandex (registered trademark) of Dai Nippon Ink Co., Ltd., which is a polyisocyanate, are used. Used as a mixture. The mixed solution of the prepolymer and the polyisocyanate is subjected to vacuum defoaming and then poured into the hole 18. Suitable polyurethane elastomers supplied by spraying from a nozzle include solvent-free immediate-curing urethane resins manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.

【0034】上記ニッポラン、パンデックスのような硬
化までに比較的時間を要する二液注型熱硬化性のポリウ
レタンは、加熱硬化させるときに図16に示すように一
旦粘度が減少した後に粘度が上昇するので、粘度減少点
(図中P点)において、孔版からの流出や不織布へのに
じみを防止する必要がある。そこでこれら原料には、増
粘剤を混入することが好ましい。
The two-part cast thermosetting polyurethane, such as Nipporan or Pandex, which requires a relatively long time to cure, has a viscosity that decreases temporarily after heating and then increases as shown in FIG. Therefore, it is necessary to prevent outflow from the stencil and bleeding into the nonwoven fabric at the viscosity reduction point (point P in the figure). Therefore, it is preferable to add a thickener to these raw materials.

【0035】尚、増粘剤の具体例として、日本アエロジ
ル株式会社製造販売のAEROSIL(登録商標)があ
る。このものは工業的に得られる最高純度のシリカ(S
iO2 99.8%)であり、7mμ〜50mμの超微粒
子から成り、高表面積、高分散性を有する無害の物質で
ある。このAEROSIL(登録商標)は、表面に有す
るシラノール基の水素架橋結合の働きにより、少量の添
加でポリエステルやエポキシ樹脂等の液状物質の加工に
必要なレオロジー特性を与えることができるため増粘剤
としての機能を有する。
A specific example of the thickener is AEROSIL (registered trademark) manufactured and sold by Nippon Aerosil Co., Ltd. This is the highest purity silica (S
iO 2 99.8%), which is a harmless substance composed of ultrafine particles of 7 μm to 50 μm, having a high surface area and a high dispersibility. This AEROSIL (registered trademark) can be used as a thickener because it can give the rheological properties required for processing liquid materials such as polyesters and epoxy resins with a small amount of addition by the action of hydrogen crosslinking of silanol groups on the surface. It has the function of

【0036】因みに増粘剤を加えることと、孔版19を
磁力により素地シート34に密着させることで、ポリウ
レタンエラストマー36が孔版19と素地シート34と
の間ににじみ込むことが一層防止されるため、エンボス
と不織布との色の境目がはっきりしてコントラストが明
瞭となり、靴底の意匠的効果を高めることができる。
By adding the thickener and bringing the stencil 19 into close contact with the base sheet 34 by magnetic force, the polyurethane elastomer 36 is further prevented from seeping between the stencil 19 and the base sheet 34. The boundary between the color of the embossed material and the color of the nonwoven fabric is clear, the contrast becomes clear, and the design effect of the shoe sole can be enhanced.

【0037】またエンボス部分の色を他の不織布部分の
色と変える他の手段として、エンボスを形成する不織布
部分にあらかじめ対比色で印刷しておき、その部分に透
明な樹脂を用いてエンボスを形成するようにしてもよ
い。この場合には、対比色のインクで印刷したエンボス
パターン上に、エンボスパターンに対応した位置に孔部
が形成された孔版を密着させ、孔部に透明なポリウレタ
ン樹脂を流し込んだのち加熱硬化させ、孔版を離版する
ようにすればよい。
As another means for changing the color of the embossed portion from the color of the other nonwoven fabric portion, the nonwoven fabric portion to be embossed is printed in advance with a contrasting color, and the embossed portion is formed using a transparent resin. You may make it. In this case, on the embossed pattern printed with the ink of the contrasting color, a stencil having a hole formed at a position corresponding to the embossed pattern is brought into close contact, and after pouring a transparent polyurethane resin into the hole, heat curing is performed. The stencil may be released.

【0038】また他のエンボス液体原料として光硬化樹
脂を適用することもできる。ここで用いる光硬化樹脂も
上記と同意義のものである、ここでは光硬化樹脂のう
ち、紫外線の照射により短時間で硬化する紫外線硬化樹
脂39を例にとって以下説明する。尚このものは、光重
合性プレポリマーと光重合性モノマーと光開始剤とを主
成分とする。
A photo-curing resin can be used as another embossing liquid material. The photocurable resin used here has the same meaning as described above. Here, among the photocurable resins, an ultraviolet curable resin 39 that cures in a short time by irradiation with ultraviolet light will be described as an example. It contains a photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer and a photoinitiator as main components.

【0039】紫外線硬化樹脂39の選択にあたっては、
紫外線が孔部18の深くまで届くように、あるいは素地
シート34に印刷されたパターンの色が透けて見えるよ
うに、硬化前および硬化後において透明ないし半透明の
ものを適用する。しかも本発明ではエンボスは靴底とし
て用いられるから、硬化したものが適度な弾力を有し、
引張強度、引き裂き強度、耐磨耗性、その他の要求され
るべき物性面で靴底のエンボスとして耐えられるような
紫外線硬化樹脂39を適用する。この場合、引き裂き強
度を向上させるため、硬化を阻害しない程度に短繊維等
のフィラーを紫外線硬化樹脂39に混入しておいてもよ
い。
In selecting the ultraviolet curing resin 39,
Before or after curing, a transparent or translucent material is applied so that the ultraviolet rays reach deep into the holes 18 or the color of the pattern printed on the base sheet 34 can be seen through. Moreover, in the present invention, since the emboss is used as a shoe sole, the cured one has an appropriate elasticity,
An ultraviolet curable resin 39 is used that can withstand the embossing of the shoe sole in terms of tensile strength, tear strength, abrasion resistance, and other required physical properties. In this case, in order to improve the tear strength, a filler such as a short fiber may be mixed into the ultraviolet curable resin 39 so as not to hinder the curing.

【0040】尚、素地シート34と孔版19との密着性
を高めても、紫外線硬化樹脂39の浸み出しを生じた場
合には、これによって素地シート34とエンボスとの色
の境目が不明瞭になることがある。この場合には、溶剤
的役割を担う光重合性モノマーの混合割合を低くした紫
外線硬化樹脂39や、粘度の高い光重合性プレポリマー
の混合割合を高くした紫外線硬化樹脂39を適用すれ
ば、紫外線硬化樹脂39の浸み出しを防止することがで
きる。尚、エンボス液体原料としてポリウレタンエラス
トマー36を用いたときのエンボス作成過程は図12と
図13に示し、エンボス液体原料として紫外線硬化樹脂
39を用いたときのエンボス作成過程は図14と図15
に示す。
Even if the adhesion between the base sheet 34 and the stencil 19 is enhanced, if the UV-curable resin 39 oozes out, the boundary between the base sheet 34 and the embossed color is unclear. It may be. In this case, if a UV curable resin 39 having a low mixing ratio of a photopolymerizable monomer that plays a role of a solvent or a UV curable resin 39 having a high mixing ratio of a photopolymerizable prepolymer having a high viscosity is applied, ultraviolet rays may be applied. The seepage of the cured resin 39 can be prevented. FIGS. 12 and 13 show an embossing process when the polyurethane elastomer 36 is used as the embossing liquid material, and FIGS. 14 and 15 show an embossing process when the ultraviolet curable resin 39 is used as the embossing liquid material.
Shown in

【0041】(4) スキージ処理 ポリウレタンエラストマー36あるいは紫外線硬化樹脂
39を孔版19の孔部18に流し込んだら、図12
(b)あるいは図14(c)に示すようにスキージ具3
7を用いて、孔部18の上面からはみ出て存在するポリ
ウレタンエラストマー36あるいは紫外線硬化樹脂39
を除去する。このとき各孔部18中のポリウレタンエラ
ストマー36あるいは紫外線硬化樹脂39のうち、孔部
上面直下付近に存在するものの一部を、これらエンボス
液体原料と孔版19の孔部18並びにスキージ具37の
先端との表面張力、接触角、濡れなどの関係から、スキ
ージ具37先端で引きずるようにして一緒に取り去るよ
うにする。即ちこのようなスキージ処理により、各孔部
18中のエンボス液体原料の上部が、全体にわたり凹陥
状に窪んで形成されるようになる。
(4) Squeegee treatment When the polyurethane elastomer 36 or the ultraviolet curing resin 39 is poured into the hole 18 of the stencil 19,
(B) or squeegee device 3 as shown in FIG.
7, the polyurethane elastomer 36 or the ultraviolet curing resin 39 which protrudes from the upper surface of the hole 18.
Is removed. At this time, of the polyurethane elastomer 36 or the ultraviolet curing resin 39 in each hole 18, a part of the polyurethane elastomer 36 or the ultraviolet curable resin 39 which is present immediately below the upper surface of the hole is replaced with the embossed liquid raw material, the hole 18 of the stencil 19 and the tip of the squeegee device 37. Due to the surface tension, contact angle, wetting, etc. of the squeegee device 37, the tip of the squeegee device 37 should be removed together. That is, by such a squeegee process, the upper portion of the embossed liquid material in each of the holes 18 is formed so as to be entirely recessed.

【0042】尚、このようにエンボス液体原料の上部を
凹陥状にするスキージ処理は、格別なスキージ具やスキ
ージ手法を用いなくても、実施例例示のエンボス液体原
料や普通の材質のスキージ具を用いて、通常のスキージ
作業を丁寧に行えば達成できるものである。また凹陥状
態の程度は、スキージの技法よりもむしろ、エンボス液
体原料と孔版19の孔部18並びにスキージ具37の先
端との表面張力、接触角、濡れなどの因子が関係し、こ
れらの因子の決定によりそのほとんどが定まるのであ
る。因みにこのようにスキージ処理を施した面は、エン
ボス2の接地面3を規定することになる。
Incidentally, the squeegee treatment for making the upper portion of the embossed liquid material concave as described above does not require the use of a special squeegee tool or a squeegee technique. It can be achieved by carefully performing ordinary squeegee work. Further, the degree of the depression state is related not to the squeegee technique but to factors such as surface tension, contact angle, and wetting between the embossed liquid material and the hole 18 of the stencil 19 and the tip of the squeegee device 37. Most of them are decided by the decision. Incidentally, the surface subjected to the squeegee processing in this manner defines the ground surface 3 of the emboss 2.

【0043】(5) エンボスの硬化及び脱版 スキージ作業が終了したら、エンボス液体原料がポリウ
レタンエラストマー36である場合には、図12(c)
に示すように孔版19と素地シート34の密着状態のま
まオーブン38に入れ、120℃で45分間加熱してポ
リウレタンエラストマー36を硬化させ、この状態で図
13(a)に示すように脱版した後、更にエラストマー
を安定させる目的で図13(b)に示すように90℃で
600分間オーブン加熱し、これを冷却し脱版すること
で、図13(c)に示すように接地面3が全体にわたり
凹陥状に形成され、接地面3の周端部5がエンボスの側
面4に対して鋭角的に形成されるようなエンボス2が完
成する。
(5) Curing of Emboss and Deprinting After the squeegee work is completed, if the embossing liquid material is polyurethane elastomer 36, as shown in FIG.
As shown in FIG. 13, the stencil sheet 19 and the base sheet 34 were kept in close contact with each other in an oven 38, and heated at 120 ° C. for 45 minutes to cure the polyurethane elastomer 36. In this state, the plate was released as shown in FIG. Thereafter, for the purpose of further stabilizing the elastomer, as shown in FIG. 13 (b), oven heating is performed at 90 ° C. for 600 minutes, and this is cooled and depressurized, so that the ground plane 3 is formed as shown in FIG. 13 (c). The embossment 2 is formed so as to be entirely concave and the peripheral end 5 of the ground contact surface 3 is formed at an acute angle with respect to the side surface 4 of the embossment.

【0044】またエンボス液体原料が紫外線硬化樹脂3
9の場合には、図15(a)に示すように紫外線照射器
40により紫外線を照射して、比較的短時間のうちに紫
外線硬化樹脂39を硬化させて図15(b)のようにエ
ンボス2が完成する。
The embossing liquid material is an ultraviolet curable resin 3
In the case of No. 9, as shown in FIG. 15 (a), ultraviolet rays are irradiated by an ultraviolet irradiator 40 to cure the ultraviolet curing resin 39 in a relatively short time, thereby embossing as shown in FIG. 15 (b). 2 is completed.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明によって形成される特殊形状エン
ボスは、エンボスの接地面が凹陥状であり、接地面の周
端部はエンボスの側面に対して鋭角的に形成されるか
ら、エンボスの地面把持力が向上し、また走行時のスリ
ップの可能性も減少し、これにより陸上競技での好記録
達成が期待できる。
According to the specially-shaped emboss formed by the present invention, the ground surface of the emboss is concave, and the peripheral end of the ground surface is formed at an acute angle with respect to the side surface of the emboss. The gripping force is improved, and the possibility of slipping during running is reduced, which can be expected to achieve a good record in athletics.

【0046】また本発明の特殊形状エンボスの製造方法
では、スキージ処理を行うことでエンボス液体原料の液
面を孔版の面から凹状態に窪ませ、そのまま硬化脱版し
てエンボス接地面を凹陥状態に形成するから、極めて容
易に地面把持力の大きいエンボスが製造できる。
In the method for producing a specially shaped emboss of the present invention, the liquid surface of the embossed liquid raw material is depressed from the surface of the stencil to a concave state by performing squeegee treatment, and the embossed ground surface is depressed as it is. Therefore, an emboss having a large ground gripping force can be manufactured very easily.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明によって形成される特殊形状エンボスを
運動靴の靴底に適用した実施例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment in which a specially shaped emboss formed by the present invention is applied to a shoe sole of athletic shoes.

【図2】本発明によって形成される特殊形状エンボスの
種々の実施例を示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing various embodiments of a specially shaped emboss formed by the present invention.

【図3】サンドブラストによる孔版作成の過程を段階的
に示す説明図であって、このうち被転写体からリスフィ
ルムが作成されるまでの過程を示す斜視図である。
FIG. 3 is an explanatory view showing step by step the process of making a stencil by sandblasting, and is a perspective view showing a process until a squirrel film is made from an object to be transferred.

【図4】同上このリスフィルムを用いてマスクを作成
し、更にこのマスクを用いて、サンドブラスト加工によ
り孔版が作成されるまでの過程を示す骨格的縦断面図で
ある。
FIG. 4 is a skeletal longitudinal sectional view showing a process in which a mask is created using the squirrel film and a stencil is created by sandblasting using the mask.

【図5】サンドブラスト加工により作成された孔版の一
部を拡大して示す斜視図である。
FIG. 5 is an enlarged perspective view showing a part of a stencil created by sandblasting.

【図6】同上孔部にテーパを設けた実施例を示す斜視図
である。
FIG. 6 is a perspective view showing an embodiment in which the upper hole portion is tapered.

【図7】同上段差付きの孔部を有する孔版の一部を拡
大、破断して示す斜視図並びに当該孔版により作成され
る段差付きのエンボスを破断して示す斜視図である。
FIG. 7 is a partially enlarged perspective view of a stencil having a stepped hole, and a cutaway embossed step created by the stencil;

【図8】マスター型を利用しての孔版作成の過程を段階
的に示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory view showing step by step the process of making a stencil using a master mold.

【図9】光硬化樹脂フィルムを利用した場合の孔版作成
の過程を段階的に示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory view showing step by step the process of making a stencil when a photocurable resin film is used.

【図10】上記各手法により作成された孔版を素地シー
トにセットする状態を示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing a state in which a stencil created by each of the above methods is set on a base sheet.

【図11】同上孔版が磁性体を具えている場合の永久磁
石板との磁力作用による素地シートとの密着状態を示す
縦断面図である。
FIG. 11 is a longitudinal sectional view showing a state of close contact with a base sheet by a magnetic action with a permanent magnet plate when the stencil includes a magnetic material.

【図12】ポリウレタンエラストマーを用いて本発明の
特殊形状エンボスを作成するまでの過程を段階的に示す
説明図であって、このうち原料液の注入、スキージ、加
熱硬化の各状態を示す斜視図である。
FIG. 12 is an explanatory view showing a step-by-step process of preparing a special shape emboss of the present invention using a polyurethane elastomer, and is a perspective view showing each state of injection of a raw material liquid, squeegee, and heat curing. It is.

【図13】同上脱版、再加熱の各状態及びこれらにより
作成された本発明の特殊形状エンボスを具えた靴底を示
す斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view showing a state of deprinting and reheating, and a shoe sole provided with the specially-shaped emboss of the present invention produced by the same.

【図14】紫外線硬化樹脂を用いて本発明の特殊形状エ
ンボスの形成過程を段階的に示す説明図であって、この
うちパターン印刷された素地シートに孔版をセットし、
原料液を注入後、スキージ処理をするまでの過程を示す
斜視図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram showing step by step the formation process of the special shape emboss of the present invention using an ultraviolet curable resin, among which a stencil is set on a pattern-printed base sheet;
FIG. 4 is a perspective view showing a process from injecting a raw material liquid to performing squeegee processing.

【図15】同上紫外線を照射し、孔版を脱版し、エンボ
スが形成されるまでの過程を示す縦断面図並びに斜視図
である。
FIG. 15 is a longitudinal sectional view and a perspective view showing a process from irradiating ultraviolet rays, removing the stencil, and forming an emboss;

【図16】二液注型熱硬化性のポリウレタンを加熱硬化
した場合の粘度の変化を示すグラフである。
FIG. 16 is a graph showing a change in viscosity when a two-part cast thermosetting polyurethane is heat-cured.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 運動靴 2 エンボス 3 接地面 4 側面 5 周端部 10 リスフィルム 12 光硬化樹脂フィルム 13 マスク 14 硬質板 18 孔部 19 孔版 25 マスター型 26 磁性体金属 27 凸部 28 型用樹脂 30 光硬化樹脂フィルム 31 基板 32 マスク 33 未露光部 34 素地シート 35 永久磁石板 36 ポリウレタンエラストマー 37 スキージ具 38 オーブン 39 紫外線硬化樹脂 40 紫外線照射器 A 被写体 B ブラシ a1 範囲 a2 範囲DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Athletic shoes 2 Embossed 3 Grounding surface 4 Side surface 5 Peripheral end 10 Lith film 12 Photocurable resin film 13 Mask 14 Hard plate 18 Hole portion 19 Perforated plate 25 Master type 26 Magnetic metal 27 Convex portion 28 Resin for mold 30 Photocurable resin film 31 substrate 32 a mask 33 unexposed portion 34 matrix sheet 35 permanent magnet plate 36 polyurethane elastomer 37 squeegee tool 38 oven 39 ultraviolet curing resin 40 UV irradiator A subject B brushes a 1 range a 2 range

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) A43B 1/00 - 23/30 B29C 39/10 B29C 39/28 B41F 15/08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) A43B 1/00-23/30 B29C 39/10 B29C 39/28 B41F 15/08

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 磁性を有する孔版と、磁石板とによって
素地シートを挟持することにより、前記孔版の一面に素
地シートを密着し、前記孔版の他面から孔版の孔部にエ
ンボス液体原料を流し込んだ後、前記孔版の他面側にお
ける孔部中のエンボス液体原料液面をスキージ処理によ
り凹状態にして、その後エンボス液体原料を硬化させ脱
版することを特徴とする特殊形状エンボスの製造方法。
1. A magnetic stencil and a magnet plate
By sandwiching the base sheet, the base sheet is brought into close contact with one surface of the stencil, and after pouring the embossing liquid raw material from the other surface of the stencil into the hole of the stencil, the embossing in the hole on the other surface side of the stencil is performed. A method for producing a specially-shaped emboss, wherein the liquid surface of a liquid material is made concave by a squeegee treatment, and thereafter the embossed liquid material is cured and the plate is released.
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