JP3244866B2 - すず−鉛合金めっき浴 - Google Patents
すず−鉛合金めっき浴Info
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Description
通可溶化性酸としてハロゲン化アルカンスルホン酸又は
ハロゲン化アルカノールスルホン酸を用いたすず−鉛合
金の電気めっき浴に関するものである。
はハンダ付け性向上用皮膜及びエッチングレジスト用皮
膜として、弱電工業及び電子工業用部品等に広く利用さ
れている。これらのすず−鉛合金めっき浴では、すず及
び鉛の可溶性化合物を添加溶解させる必要がある。例え
ば、硫酸浴では2価のすず塩は溶解するが、鉛塩は硫酸
鉛の沈澱を生じ、めっき浴中の鉛イオン濃度を著しく低
下させるので、すず−鉛合金めっき浴には不適当であ
る。また、トリフルオロ酢酸浴では、めっき浴中に溶存
する鉛イオン濃度は安定であるが、2価のすずイオンが
経時変化によって不溶解性の沈澱を生じ、2価のすずイ
オン濃度を低下させる問題がある。従来、かかるすず−
鉛合金めっきには、フェノールスルホン酸浴、アルカン
スルホン酸浴、アルカノールスルホン酸浴等が工業的に
用いられている。しかしながら、フェノールスルホン酸
浴では毒性の強いフェノール及び化学的生学的に分解処
理されにくいフェノール系化合物が排水中に含まれる。
また、低毒性のアルカンスルホン酸浴及びアルカノール
スルホン酸浴では、めっき皮膜の機能特性等が優れたも
のが得られる利点は大きいが、排水処理で問題となる化
学的酸素消費量(COD)が高いという問題がある。こ
れらは、高度の排水処理技術を用いれば、一応解決でき
るものであるが、排水処理設備及び処理作業等に多額の
出費を伴い経済的損失ばかりでなく、環境保全に繋がる
公害防止対策上の重要な問題である。
かる問題点を解決したもので、すず−鉛合金めっき浴中
に存在する可溶性の2価のすず化合物及び鉛化合物が、
長期間の経時変化において安全で、すず及び鉛沈澱物を
生成する事無く、めっき浴の構成物質となる2価のすず
化合物及び鉛化合物の共通可溶化性酸に化学的酸素消費
量(COD)の低い酸を用い、ある種の界面活性剤と、
光沢剤及び補助光沢剤、又は平滑剤等を選択併用添加す
ることによって、めっき外観の均質で緻密な無光沢、又
は半光沢、又は鏡面光沢を示すすず−鉛合金めっきが得
られるめっき浴を提供することを目的とするものであ
る。 1)本発明のめっき浴には、可溶性の2価のすず化合物
及び鉛化合物と共通可溶化性酸が添加配合されており、
2価のすずイオン及び鉛イオンの経時安定性に優れてい
る事を特徴とするものである。 2)本発明のめっき浴は、化学的酸素消費量(COD)
の低い酸を、主成分又は添加配合する事により、従来の
めっき浴よりもCODが低く、排水処理が容易になるこ
とを特徴とするものである。 3)本発明のめっき浴は、すずと鉛の合金比率が任意な
電着物組成で得られる事を特徴とするものである。 4)本発明のめっき浴からは、めっき浴に界面活性剤及
び(又は)、平滑添加剤又は(及び)、光沢剤及び(又
は)補助光沢剤等を選択併用添加する事によって、無光
沢、又は半光沢、又は鏡面光沢等の任意なめっき外観を
得る事を特徴とするものである。 5)本発明のめっき浴は、金属イオン濃度、遊離酸濃
度、添加剤濃度等の浴組成を選択する事によって、バレ
ルめっき、ラックめっき、高速度めっき、スルホールめ
っき等の幅広い陰極電流密度条件で使用できる事を特徴
とするものである。
点を解決すべく、鋭意検討した結果、ハロゲン化アルカ
ンスルホン酸又はハロゲン化アルカノールスルホン酸及
び可溶性の2価のすず及び鉛塩化合物を含有してなる主
めっき浴に界面活性剤及び、平滑添加剤又は(及び)、
光沢剤又は(及び)補助光沢剤を選択併用添加すること
により、目的とするめっき浴が得られることを見出し、
本発明を完成するに至った。
ホン酸及びハロゲン化アルカンスルホン酸とは、次の一
般式
C1 〜3 のアルキレン基を表し水酸基はアルキレン基の
任意の位置にあってよく、Xは塩素及びフッ素のハロゲ
ンを表し、アルキル基及びアルキレン基の水素と置換さ
れた塩素又はフッ素の置換数は1からアルキル基又はア
ルキレン基に配位したすべての水素が飽和置換されたも
のまでを表し、置換されたハロゲン種は1種類又は2種
類であり、塩素又はフッ素の置換基は任意の位置にあっ
てよい)のハロゲン化アルカンスルホン酸又はハロゲン
化アルカノールスルホン酸をいう。例えば、モノクロロ
メタンスルホン酸、パークロロエタンスルホン酸、トリ
クロロジフルオロプロパンスルホン酸、パーフルオロエ
タンスルホン酸、モノクロロジフルオロメタンスルホン
酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロエタ
ンスルホン酸、テトラクロロプロパンスルホン酸、トリ
クロロジフルオロエタンスルホン酸、モノクロロエタノ
ールスルホン酸、ジクロロプロパノールスルホン酸、モ
ノクロロジフルオロヒドロキシプロパンスルホン酸等が
挙げられる。
価のすず化合物及び鉛化合物とは、 1)ハロゲン化アルカンスルホン酸すず及びハロゲン化
アルカノールスルホン酸すず、ハロゲン化アルカンスル
ホン酸鉛及びハロゲン化アルカノールスルホン酸鉛、 2)次の一般式
C1 〜12のアルキレン基を表し、水酸基はアルキレン基
の任意の位置にあってよい)のアルカンスルホン酸又は
アルカノールスルホン酸、例えば、メタンスルホン酸、
エタンスルホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホ
ン酸、イセチオン酸、2−ヒドロキシプロパンスルホン
酸、2−ヒドロキシデカン−1−スルホン酸等の2価の
すず塩及び鉛塩、並びに 3)炭酸等の無機酸の第一すず及び鉛塩、酸化第一すず
及び酸化第一鉛、酢酸鉛等をいう。
は、混合して用いることができる。上記のすず又は鉛の
可溶性化合物は、金属濃度に換算して、0.3〜200
g/lの範囲、好ましくは、5〜60g/lの範囲で使
用される。
界面活性剤としては、C1 〜25アルカノール、フェノー
ル、ナフトール、ビスフェノール類、C1 〜25アルキル
フェノール、アリールアルキルフェノール、C1 〜25ア
ルキルナフトール、C1 〜25脂肪酸、C1 〜25アルコキ
シル化りん酸、スチレン化フェノール、ポリアルキレン
グリコール、C1 〜25脂肪族アミン、C1 〜25脂肪酸ア
ミド、C1 〜25アルキルスルホンアミド、多価アルコー
ルにエチレンオキサイドおよび/またはプロピレンオキ
サイドを2〜300モル付加縮合させたポリオキシアル
キレン付加物が好ましい。
1 〜20アルコールとしては、エチルアルコール、t−ブ
チルアルコール、アミルアルコール、オクタノール、デ
カノール、ラウリルアルコール、テトラデカノール、ヘ
キサデカノール、ステアリルアルコール、エイコサノー
ル、セチルアルコール、オレイルアルコール、ドコサノ
ール等が挙げられる。ビスフェノール類としては、ビス
フェノールA、ビスフェノールAP、テトラメチルビス
フェノールA、ビスフェノールC、ビスフェノールE、
ビスフェノールF、ビスフェノールF−D、ビスフェノ
ールS等が挙げられる。C1 〜25アルキルフェノールと
しては、モノ、ジ若しくはトリアルキル置換フェノー
ル、例えば、p−ブチルフェノール、p−イソオクチル
フェノール、p−ノニルフェノール、p−ヘキシルフェ
ノール、2,4−ジブチルフェノール、2,4,6−ト
リブチルフェノール、p−ドデシルフェノール、p−ラ
ウリルフェノール、p−ステアリルフェノール等が挙げ
られる。アリールアルキルフェノールとしては、2−フ
ェニルイソプロピルフェノール等が挙げられる。C1 〜
25アルキルナフトールのアルキル基としては、メチル、
エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、デシ
ル、ドデシル、オクタデシル等が挙げられ、ナフタレン
環の任意の位置にあってよい。C1 〜25脂肪酸として
は、プロピオン酸、酪酸、カプリル酸、カプリン酸、ラ
ウリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン
酸、オレイン酸、11−ドコセン酸等が挙げられる。C
1 〜25アルコキシル化りん酸は、次の一般式
方が水であってもよい)により表される。ポリアルキレ
ングリコールとしては、ポリエチレングリコール、ポリ
エチレンポリプロピレンブロックコポリマー等が挙げら
れる。C1 〜25脂肪族アミンとしては、プロピルアミ
ン、ブチルアミン、ヘキシルアミン、オクチルアミン、
デシルアミン、ラウリルアミン、ステアリルアミン、エ
チレンジアミン、プロピレンジアミン等の飽和および不
飽和脂肪族アミンが挙げられる。C1 〜25脂肪酸アミド
の脂肪酸としては前記の脂肪酸が挙げられる。C1 〜25
アルキルスルホンアミドのアルキルとしては前記のアル
キルが挙げられる。多価アルコールとしては、グリセリ
ン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ペンタ
エリスリトール脂肪酸エステル、しょ糖脂肪酸エステ
ル、ポリグリセリン脂肪酸エステル等が挙げられる。
1〜50g/l、好ましくは0.5〜20g/lの量で
使用される。
形で表わして、例えば、ラウリルトリメチルアンモニウ
ム塩、ステアリルトリメチルアンモニウム塩、ステアリ
ルジメチルアンモニウムベタイン、トリメチルベンジル
アンモニウム、トリエチルベンジルアンモニウム塩、オ
レイルイミダゾリニウム塩等が挙げられる。
1〜30g/l、好ましくは、0.1〜5g/lの量で
使用される。
ン系及びカチオン系の界面活性剤に拘らず、単独で又は
2種以上を混合して使用できる。
表面の平滑さを向上させる目的で前述の界面活性剤と併
用することによってさらに相乗的な効果を奏でる平滑添
加剤の例を以下に示す。
合物:
ル基を表わし、R6 は水素又は水酸基を表わし、BはC
1 〜4 アルキレン基、フェニレン基又はベンジル基を表
わし、R7 は水素又はC1 〜4 アルキル基)。例えば、
N−(3−ヒドロキシブチリデン)−p−スルファニル
酸、N−ブチリデンスルファニル酸、N−シンナモイリ
デンスルファニル酸等が挙げられる。これらスルファニ
ル化合物は、一般に、0.01〜5g/l、好ましくは
0.1〜1g/lの量で使用される。
す)。例えば、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチル
イミダゾリル(1’)]エチル−1,3,5−トリアジ
ン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4−メチ
ルイミダゾリル(1’)]エチル−1,3,5−トリア
ジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミ
ダゾリル(1’)]エチル−1,3,5−トリアジン等
が挙げられる。これらトリアジン化合物は、一般に、
0.001〜2g/l、好ましくは0.005〜0.5
g/lの量で使用される。
化合物:
れ同一又は異なっていてよく、水素、−SH、−OH、
−OR(Rは所望により−COOHにて置換されてもよ
いC1 〜6 アルキル)、ハロゲン、COOH、−COC
OOH、アリール、NH2 又はSR(Rは所望により−
COOHにて置換されてもよいC1 〜6 アルキル)を意
味する]。例えば、ベンゾチアゾール、2−メチルベン
ゾチアゾール、2−アミノ−4−クロロベンゾチアゾー
ル、2−アミノ−6−メトキシベンゾチアゾール、2−
ヒドロキシベンゾチアゾール、2−クロロベンゾチアゾ
ール、2−メチル−5−クロロベンゾチアゾール、2,
5−ジメチルベンゾチアゾール、5−ヒドロキシ−2−
メチルベンゾチアゾール6−クロロ−2−メチル−4−
メトキシベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾチア
ゾール、2−(n−ブチル)メルカプト−6−アミノベ
ンゾチアゾール、2−ベンゾチアゾールチオ酢酸、2−
ベンゾチアゾールオキシ酢酸等が挙げられる。これらベ
ンゾチアゾール化合物は、一般に、0.002〜2g/
l、好ましくは0.01〜0.5g/lの量で使用され
る。
対する電着物組成の安定化に効果を有する添加剤として
は、下記の一般式
く、水素、C1 〜18のアルキル基、C1 〜18のアルコキ
シ基又はC3 〜7 のシクロアルキル基を表わすか、或い
はR13とR14が結合して炭素環又はヘテロ環を形成し、
Aは低級アルキレンを意味する)の化合物を使用でき
る。例えば、β−N−ドデシルアミノプロピオグアナミ
ングアナミン、β−N−ヘキシルアミノプロピオグアナ
ミン、ピペラジンプロピオグアナミン、シクロヘキシル
アミノプロピオグアナミン、モルホリンプロピオグアナ
ミン、β−N(2−エチルヘキシル−オキシプロピルア
ミノ)−プロピオグアナミン、β−N−(ラウリルオキ
シプロピルアミノ)−プロピオグアナミン等のグアナミ
ン化合物が挙げられる。グアナミン化合物は、一般に、
0.01〜20g/l、好ましくは0.5〜5g/lの
量で使用される。
各種化合物等を単独で又は2種以上を併用して添加する
ことができる。
めっき外観を得る場合に用いられる光沢剤の例を以下に
示す。芳香族アルデヒド類では、例えば、ベンズアルデ
ヒド、p−クロルベンズアルデヒド、o−クロルベンズ
アルデヒド、シンナムアルデヒド、サリチルアルデヒ
ド、ベラトルアルデヒド、アニスアルデヒド、p−トル
アルデヒド等が挙げられる。ナフタレン環アルデヒド類
で、例えば、α−ナフトアルデヒド、β−ナフトアルデ
ヒド等が挙げられる。芳香族ケトン類では、ベンジリデ
ンアセトン、アニザルアセトン、ベンジリデンメチルイ
ソブチルケトン等が挙げられる。並びに、シッフ縮合化
合物類では、例えば、アセトアルデヒドとo−トルイジ
ンの反応生成物、アセトアルデヒドとアニリンの反応生
成物、アルドールとo−ニトロアニリンの反応生成物等
が挙げられる。これら光沢剤は、一般に、0.01〜2
g/l、好ましくは0.03〜1.0g/lの量で使用
される。
沢剤には、次のものが使用される。脂肪族アルデヒド類
では、例えば、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、
プロピオンアルデヒド、アクリルアルデヒド、グリオキ
ザール、カプロンアルデヒド等が挙げられる。脂肪族カ
ルボン酸類では、アクリル酸、メタアクリル酸等及びこ
れらのメチルエステル、エチルエステル等が挙げられ
る。以上の補助光沢剤は、一般に、0.01〜20g/
l、好ましくは0.05〜10g/lの量で使用され
る。
又は2種以上を併用して本発明のめっき浴に添加するこ
とができる。
面活性剤、平滑剤、光沢剤、補助光沢剤は、目的とする
めっき外観が無光沢、半光沢、又は光沢の得られるよう
に、各種任意に選択併用添加できる。本発明のめっき浴
は、めっき浴中のすずと鉛の合金比率を変化させること
によって、すずと鉛の合金比率が任意な電着物組成が得
られる。本発明のめっき浴には、さらに必要に応じてカ
テコール、ハイドロキノン等の酸化防止剤を本発明の効
果を損なわない範囲で添加することができる。
分濃度は、すずと鉛の金属濃度比、並びにバレルメッ
キ、ラックメッキ、高速連続メッキ、スルホールメッキ
等に対応して任意に選択することができる。
価のすず及び鉛イオンの経時安定性を示すと共に、メッ
キ液の組成及びメッキ作業条件を示すが、本発明はこれ
らの数例に限定されるものではなく、前述した目的の主
旨に添ってメッキ液の組成及びメッキ条件は任意に変更
することができる。
酸化第一すずを用い、トリフルオロエタンスルホン酸に
溶解させて、2価のすずイオン濃度を50g/l、遊離
酸濃度50g/lに調製した水溶液100mlを調製
し、これをガラス瓶内に密閉、25℃の温度条件下で静
置保管し、30日後に2価のすずイオンの経時安定性を
濃度分析と金属の沈澱生成による濁り状況から評価し
た。評価結果を表1に示す。 (比較例1)実施例1のトリフルオロエタンスルホン酸
の代わりに、硫酸、トリフルオロ酢酸、スルホメチルコ
ハク酸、キシレンスルホン酸、クメンスルホン酸をそれ
ぞれ用いて、実施例1と同条件の試験を行った。その評
価結果を表1に示す。
ロオロエタンスルホン酸に溶解させて、鉛イオン濃度5
0g/l、遊離酸濃度5g/lに調製した水溶液100
mlを、実施例1と同条件で経時試験した。評価結果を
表1に示す。 (比較例2)実施例2のトリフルオロエタンスルホン酸
の代わりに、硫酸、トリフルオロ酢酸、スルホメチルコ
ハク酸、キシレンスルホン酸、クメンスルホン酸をそれ
ぞれ用いて、実施例2と同条件で行った試験結果を表1
に示す。
すず及び鉛金属イオンを、アルカリ中和沈澱法で処理及
び濾過操作によって金属イオン除去した後、濾過廃液を
2リットルに希釈調製し、JIS K010217に準
拠した方法でCODを測定した。その結果を表2に示
す。 (比較例3) 2−ヒドロキシプロパンスルホン酸すず 6g/l (2価のすずイオンとして) メタンスルホン酸鉛(鉛イオンとして) 4g/l 遊離メタンスルホン酸 100g/l 添加剤組成は、実施例3と同様の濃度組成として、実施
例3と同様の処理及び分析条件にてCODを測定、結果
を表2に示した。
例3と同等の処理及び分析条件にてCODを測定、結果
を表2に示した。 (比較例4) フェノールスルホン酸すず(2価のすずイオンとして) 6g/l フェノールスルホン酸鉛(鉛イオンとして) 4g/l 遊離フェノールスルホン酸 100g/l 添加剤組成は、実施例3と同様の濃度組成として、実施
例3と同様の処理及び分析条件にてCODを測定、結果
を表2に示した。
電解脱脂を行った100×70×0.3mmのタフピッ
チ銅板を用いて、浴温度20℃,無攪拌条件下にて、1
A−5分の電解条件でハルセルテストを行った。めっき
外観の目視評価結果を表3に示した。 (比較例5)比較例3のめっき浴を用い、実施例5と同
等の方法にてハルセル試験を行い、その結果を表3に示
した。
果を表3に示した。 (比較例6) エタンスルホン酸すず(2価のすずイオンとして) 18g/l メタンスルホン酸鉛(鉛イオンとして) 2g/l 遊離イセチオン酸 120g/l 添加剤組成は、実施例6と同様の濃度組成として、実施
例3と同等の方法にてハルセル試験を行い、その結果を
表3に示した。
果を表3に示した。 (比較例7) 酸化第一すず(2価のすずイオンとして) 14g/l 2−ヒドロキシプロパンスルホン酸(鉛イオンとして) 6g/l 2−ヒドロキシエタンスルホン酸 100g/l 添加剤組成は、実施例7と同様の濃度組成として、実施
例3と同様の方法にてハルセル試験を行い、その結果を
表3に示した。
果を表3に示した。 (比較例8) 2−ヒドロキシプロパンスルホン酸すず 21g/l (2価のすずイオンとして) エタンスルホン酸鉛(鉛イオンとして) 9g/l プロパンスルホン酸 50g/l 添加剤組成は、実施例8と同様の組成濃度とし、実施例
3と同様の方法にてハルセル試験を行い、その結果を表
3に示した。
果を表3に示した。 (比較例9) 2−ヒドロキシプロパンスルホン酸すず 19g/l (2価のすずイオンとして) 酸化第一鉛(鉛イオンとして) 1g/l 2−ヒドロキシエタンスルホン酸 100g/l 添加剤組成は、実施例9と同様の組成濃度とし、実施例
3と同様の方法にてハルセル試験を行い、その結果を表
3に示した。
例3と同様の方法にてハルセル試験を行い、その結果を
表3に示した。
トルを用い、25×25×0.3mmのタフピッチ銅板
に、浴温20℃、陰極移動速度2m/min、陰極電流
密度0.25A/dm2 、0.5A/dm2 、1.0A
/dm2 、5.0A/dm2 の4つの条件下でめっきを
施し、得られためっき皮膜の電着物組成を測定し、表4
に示した。 (比較例11)比較例7のめっき浴1リットルを用い、
実施例11と同様の方法にて、得られためっき皮膜の電
着物組成を測定し、表4に示した。
Claims (7)
- 【請求項1】 2価のすず及び鉛化合物の共通可溶化性
の酸として下記の一般式で示されるハロゲン化アルカン
スルホン酸又はハロゲン化アルカノールスルホン酸を含
有することを特徴とするすず−鉛合金(すず及び鉛以外
の金属は含有しない)めっき浴: 【化1】 (ここで、R1はC1〜3のアルキル基を表し、R2は
C1〜3のアルキレン基を表し、水酸基はアルキレン基
の任意の位置にあってよく、Xは塩素及びフッ素のハロ
ゲンを表し、アルキル基及びアルキレン基の水素と置換
された塩素又はフッ素の置換数は1からアルキル基又は
アルキレン基に配位したすべての水素が飽和置換された
ものまでを表し、置換されたハロゲン種は1種類又は2
種類であり、塩素又はフッ素の置換基は任意の位置にあ
ってよい)。 - 【請求項2】 2価のすず及び鉛化合物がハロゲン化ア
ルカンスルホン酸又はハロゲン化アルカノールスルホン
酸の2価のすず塩及び鉛塩である請求項1記載のめっき
浴。 - 【請求項3】 すず及び鉛化合物が次の一般式 【化2】 (ここで、R3はC1〜12アルキル基を表し、R4は
C1〜12アルキレン基を表し、水酸基はアルキレン基
の任意の位置にあってよい) のアルカンスルホン酸又はアルカノールスルホン酸の2
価のすず塩及び鉛塩である請求項1記載のめっき浴。 - 【請求項4】 2価のすず及び鉛化合物が無機酸の2価
のすず塩及び鉛塩である請求項1記載のめっき浴。 - 【請求項5】 2価のすず及び鉛化合物が酸化第一すず
及び酸化第一鉛である請求項1記載のめっき浴。 - 【請求項6】 2価のすず及び鉛化合物が、金属濃度に
換算してめっき浴の液1リットルにつき0.5〜200
gの濃度で存在することを特徴とする特許請求の範囲第
1〜5項のいずれかに記載のめっき浴。 - 【請求項7】 非イオン界面活性剤及び(又は)、カチ
オン活性剤及び(又は)、平滑添加剤又は(及び)、光
沢剤等をめっき浴に選択併用添加する事によって、鏡面
光沢、又は半光沢、又は無光沢等の任意のめっき外観光
沢度を得ることができる特許請求の範囲第1〜6項のい
ずれかに記載のめっき浴。
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|---|---|---|---|
| JP14435593A JP3244866B2 (ja) | 1993-05-25 | 1993-05-25 | すず−鉛合金めっき浴 |
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|---|---|---|---|
| JP14435593A JP3244866B2 (ja) | 1993-05-25 | 1993-05-25 | すず−鉛合金めっき浴 |
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| JPH06330374A JPH06330374A (ja) | 1994-11-29 |
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|---|---|---|---|---|
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