JP3249755B2 - 気相成長方法及びこれに用いられるウエハー搬送装置 - Google Patents
気相成長方法及びこれに用いられるウエハー搬送装置Info
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、気相成長装置にま
でウエハーを搬送するウエハー搬送方法及びこれに用い
られる搬送装置に関する。
でウエハーを搬送するウエハー搬送方法及びこれに用い
られる搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体の製造工程においては様々な気相
成長装置が使用されている。その気相成長装置への搬送
方法としては、アームによってウエハーを搬送するもの
や、真空チャックによってウエハーを真空吸着した状態
で搬送するもの等がある。通常、ウエハーの搬送は、真
空中もしくは高純度ガス雰囲気中で行われ、気相成長の
ための材料となる反応ガスは、搬送終了後に流し始めら
れる。
成長装置が使用されている。その気相成長装置への搬送
方法としては、アームによってウエハーを搬送するもの
や、真空チャックによってウエハーを真空吸着した状態
で搬送するもの等がある。通常、ウエハーの搬送は、真
空中もしくは高純度ガス雰囲気中で行われ、気相成長の
ための材料となる反応ガスは、搬送終了後に流し始めら
れる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、気相成長装
置では、上記のように反応性材料ガスを使用するため、
生成物の発生は避けられず、生成物が気相成長装置のチ
ャンバーの内壁等に付着し、処理を重ねるごとに生成物
の付着は増加していく。
置では、上記のように反応性材料ガスを使用するため、
生成物の発生は避けられず、生成物が気相成長装置のチ
ャンバーの内壁等に付着し、処理を重ねるごとに生成物
の付着は増加していく。
【０００４】そして、このようなチャンバーの内壁等へ
の生成物の付着が増加してくると、次のような問題が生
じる。即ち、ウエハーの搬送後に、気相成長のための材
料ガスを流し始めると、この生成物が反応ガスの流れ始
めで起こるガス流の乱れによって、剥がれ落ち微粒子と
してチャンバー内を舞うことになる。そして、この微粒
子が微細なダストとしてウエハー表面に付着し、結果と
して得ようとするウエハーの特性を劣化させることにな
り、これが歩留り低下の一因となっていた。
の生成物の付着が増加してくると、次のような問題が生
じる。即ち、ウエハーの搬送後に、気相成長のための材
料ガスを流し始めると、この生成物が反応ガスの流れ始
めで起こるガス流の乱れによって、剥がれ落ち微粒子と
してチャンバー内を舞うことになる。そして、この微粒
子が微細なダストとしてウエハー表面に付着し、結果と
して得ようとするウエハーの特性を劣化させることにな
り、これが歩留り低下の一因となっていた。
【０００５】従来は、このようなチャンバー内壁に付着
した生成物によるダストの問題については、定期的なチ
ャンバー内の洗浄によって行っていた。しかしながら、
定期的なチャンバー内洗浄のメンテナンスは、装置の稼
働率を低下させることになり、ウエハーのコストアップ
にもつながっていた。
した生成物によるダストの問題については、定期的なチ
ャンバー内の洗浄によって行っていた。しかしながら、
定期的なチャンバー内洗浄のメンテナンスは、装置の稼
働率を低下させることになり、ウエハーのコストアップ
にもつながっていた。
【０００６】また、チャンバー内の洗浄を行っても、次
の洗浄までの間は、徐々に生成物が付着していくことに
なるのであり、確実にダストの問題を回避するのは困難
であった。
の洗浄までの間は、徐々に生成物が付着していくことに
なるのであり、確実にダストの問題を回避するのは困難
であった。
【０００７】そこで、本発明の目的は、チャンバー内壁
に付着する生成物を原因とするダストの問題を簡単なウ
エハー搬送構造で解決することにある。
に付着する生成物を原因とするダストの問題を簡単なウ
エハー搬送構造で解決することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明による気相成長方法は、気相成長用チャンバー
と該気相成長用チャンバーに付設された搬送室とを備
え、前記搬送室からウエハーまたはウエハー保持体を前
記気相成長用チャンバー内に搬送する工程を有する気相
成長方法において、気相成長工程前に予め、前記気相成
長用チャンバーに設けられたガス管から前記気相成長用
チャンバー内に気相成長時と同量の無反応ガスを流入さ
せる第１の工程と、該第１の工程後、前記搬送室からウ
エハーまたはウエハー保持体を前記気相成長用チャンバ
ー内に搬送する第２の工程と、該第２の工程後、ガス気
流の乱れが生じずガス流量が前記搬送前から略一定とな
るように前記無反応ガスを反応ガスに切り替えて、気相
成長を行うことを特徴とする。
に本発明による気相成長方法は、気相成長用チャンバー
と該気相成長用チャンバーに付設された搬送室とを備
え、前記搬送室からウエハーまたはウエハー保持体を前
記気相成長用チャンバー内に搬送する工程を有する気相
成長方法において、気相成長工程前に予め、前記気相成
長用チャンバーに設けられたガス管から前記気相成長用
チャンバー内に気相成長時と同量の無反応ガスを流入さ
せる第１の工程と、該第１の工程後、前記搬送室からウ
エハーまたはウエハー保持体を前記気相成長用チャンバ
ー内に搬送する第２の工程と、該第２の工程後、ガス気
流の乱れが生じずガス流量が前記搬送前から略一定とな
るように前記無反応ガスを反応ガスに切り替えて、気相
成長を行うことを特徴とする。
【０００９】このように、気相成長工程前に予め気相成
長用チャンバーに設けられたガス管から気相成長用チャ
ンバー内に気相成長時と同量の無反応ガスを流入させる
ようにしているので、従来であれば反応ガスを流し始め
た時に生じる気流の乱れによって、チャンバーの内壁か
ら容易にはがれ落ちる付着物は、この気相成長前に行う
ガスの流入、排気によって予め除去されることになる。
また、気相成長のためのガスを流入する際にも、ガス気
流の乱れが生じずガス流量が搬送前から略一定となるよ
うに無反応ガスを反応ガスに切り替えるので、気流の乱
れによってさらにチャンバー内壁から付着物がはがれ落
ちることもない。
長用チャンバーに設けられたガス管から気相成長用チャ
ンバー内に気相成長時と同量の無反応ガスを流入させる
ようにしているので、従来であれば反応ガスを流し始め
た時に生じる気流の乱れによって、チャンバーの内壁か
ら容易にはがれ落ちる付着物は、この気相成長前に行う
ガスの流入、排気によって予め除去されることになる。
また、気相成長のためのガスを流入する際にも、ガス気
流の乱れが生じずガス流量が搬送前から略一定となるよ
うに無反応ガスを反応ガスに切り替えるので、気流の乱
れによってさらにチャンバー内壁から付着物がはがれ落
ちることもない。
【００１０】また、上記気相成長方法に使用されるウエ
ハー搬送装置として、ウエハーまたはウエハー保持体に
接触するためのアームと、該アームに固定され前記搬送
室側から前記ウエハーまたはウエハー保持体の搬送を行
行い搬送後に前記気相成長用チャンバーから引き出され
る搬送棒とを備え、前記アームの上部にウエハー表面を
カバーするダストカバーを設けてなることを特徴とす
る。
ハー搬送装置として、ウエハーまたはウエハー保持体に
接触するためのアームと、該アームに固定され前記搬送
室側から前記ウエハーまたはウエハー保持体の搬送を行
行い搬送後に前記気相成長用チャンバーから引き出され
る搬送棒とを備え、前記アームの上部にウエハー表面を
カバーするダストカバーを設けてなることを特徴とす
る。
【００１１】このため、仮にウエハーまたはウエハー保
持体の搬送の際に、チャンバーあるいは搬送室に浮遊す
るダストがあったとしても、ウエハーの上に付着するこ
とを防止できる。
持体の搬送の際に、チャンバーあるいは搬送室に浮遊す
るダストがあったとしても、ウエハーの上に付着するこ
とを防止できる。
【００１２】また、このダストカバーの上面を前記搬送
棒の向きに低くなるような傾斜させたことを特徴とす
る。これにより、ダストカバーの上にダストが付着し
て、さらにこのダストがこぼれ落ちる場合があったとし
ても、そのダストが落ちる方向を搬送棒の引出し方向に
限定することができ、ウエハーの上に落ちることを回避
できる。 また、ダストカバーと、前記ウエハーまたはウ
エハー保持体との間に無反応ガスを導入させる導入管を
有することを特徴とする。 これによりダストカバーの上
にダストが付着して、さらにこのダストがこぼれ落ちる
場合があったとしても、ウエハー上から掃き出すことが
できる。 また、気相成長用チャンバーと該気相成長用チ
ャンバーに付設された搬送室とを備え、前記搬送室から
ウエハーまたはウエハー保持体を前記気相成長用チャン
バー内に搬送する工程を有する気相成長方法において、
気相成長工程前に予め、前記気相成長用チャンバー内に
気相成長時と同量の無反応ガスを流入させる第１の工程
と、該第１の工程後、前記搬送室からウエハーまたはウ
エハー保持体を前記気相成長用チャンバー内に搬送する
第２の工程と、該第２の工程後、前記無反応ガスを反応
ガスに切り替えて、気相成長を行う気相成長方法に使用
されるウエハ搬送装置として、ウエハーまたはウエハー
保持体に接触するためのアームと、該アームに固定され
前記搬送室側から前記ウエハーまたはウエハー保持体の
搬送を行うための搬送棒とを備え、前記アームの上部に
ウエハー表面をカバーするダストカバーを設けて、該ダ
ストカバーの上面を前記搬送棒の向きに低くなるような
傾斜させ、前記ダストカバーの上面に、前記気相成長用
チャンバーに流入される気流を前記搬送棒の方向に流れ
るように、前記ダストカバーの上面に略垂直で且つ前記
搬送棒の長手方向と略平行な気流調整板を設けたことを
特徴とする。
棒の向きに低くなるような傾斜させたことを特徴とす
る。これにより、ダストカバーの上にダストが付着し
て、さらにこのダストがこぼれ落ちる場合があったとし
ても、そのダストが落ちる方向を搬送棒の引出し方向に
限定することができ、ウエハーの上に落ちることを回避
できる。 また、ダストカバーと、前記ウエハーまたはウ
エハー保持体との間に無反応ガスを導入させる導入管を
有することを特徴とする。 これによりダストカバーの上
にダストが付着して、さらにこのダストがこぼれ落ちる
場合があったとしても、ウエハー上から掃き出すことが
できる。 また、気相成長用チャンバーと該気相成長用チ
ャンバーに付設された搬送室とを備え、前記搬送室から
ウエハーまたはウエハー保持体を前記気相成長用チャン
バー内に搬送する工程を有する気相成長方法において、
気相成長工程前に予め、前記気相成長用チャンバー内に
気相成長時と同量の無反応ガスを流入させる第１の工程
と、該第１の工程後、前記搬送室からウエハーまたはウ
エハー保持体を前記気相成長用チャンバー内に搬送する
第２の工程と、該第２の工程後、前記無反応ガスを反応
ガスに切り替えて、気相成長を行う気相成長方法に使用
されるウエハ搬送装置として、ウエハーまたはウエハー
保持体に接触するためのアームと、該アームに固定され
前記搬送室側から前記ウエハーまたはウエハー保持体の
搬送を行うための搬送棒とを備え、前記アームの上部に
ウエハー表面をカバーするダストカバーを設けて、該ダ
ストカバーの上面を前記搬送棒の向きに低くなるような
傾斜させ、前記ダストカバーの上面に、前記気相成長用
チャンバーに流入される気流を前記搬送棒の方向に流れ
るように、前記ダストカバーの上面に略垂直で且つ前記
搬送棒の長手方向と略平行な気流調整板を設けたことを
特徴とする。
【００１３】このため、仮にウエハーまたはウエハー保
持体の搬送の際に、チャンバーあるいは搬送室に浮遊す
るダストがあったとしても、ウエハーの上に付着するこ
とを防止できる。 さらに、ダストカバーの上にダストが
付着して、さらにこのダストがこぼれ落ちる場合があっ
たとしても、そのダストが落ちる方向を搬送棒の引出し
方向に限定することができ、ウエハーの上に落ちること
を回避できる。
持体の搬送の際に、チャンバーあるいは搬送室に浮遊す
るダストがあったとしても、ウエハーの上に付着するこ
とを防止できる。 さらに、ダストカバーの上にダストが
付着して、さらにこのダストがこぼれ落ちる場合があっ
たとしても、そのダストが落ちる方向を搬送棒の引出し
方向に限定することができ、ウエハーの上に落ちること
を回避できる。
【００１４】
【００１５】
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の一実施例について、図１
及び図２を参照して説明する。図１は本実施例によるウ
エハー搬送装置の斜視図、図２は図１の装置に使用され
るウエハー搬送部の拡大図である。
及び図２を参照して説明する。図１は本実施例によるウ
エハー搬送装置の斜視図、図２は図１の装置に使用され
るウエハー搬送部の拡大図である。
【００１７】本実施例のウエハー搬送装置は、図１に示
すように、大きくは気相成長による成膜処理を行うため
のチャンバー１と、ウエハー２をチャンバー１内に搬送
させるためのロード室３とから構成されている。チャン
バー１の上部にはガスを流入させるための流入ガス管４
が、また、その下部には排気ガス管５が設けられてい
る。チャンバー１の内部には、ウエハーを載せるための
ウエハー搭載部６が設けられている。また、７はチャン
バー１とロード室３との挿通を自在に仕切るためのゲー
トバルブ、８はウエハーをチャンバー１内部に搬送する
ための搬送棒である。
すように、大きくは気相成長による成膜処理を行うため
のチャンバー１と、ウエハー２をチャンバー１内に搬送
させるためのロード室３とから構成されている。チャン
バー１の上部にはガスを流入させるための流入ガス管４
が、また、その下部には排気ガス管５が設けられてい
る。チャンバー１の内部には、ウエハーを載せるための
ウエハー搭載部６が設けられている。また、７はチャン
バー１とロード室３との挿通を自在に仕切るためのゲー
トバルブ、８はウエハーをチャンバー１内部に搬送する
ための搬送棒である。
【００１８】この搬送棒８の先端部には、図２に示すよ
うに、搬送アーム９が設けられ、その上部にウエハー２
の上部を覆うようなダストカバー１０が設けられてい
る。このダストカバー１０は手動搬送時の操作性やトラ
ブル処理を容易にするため透明な材料から構成してい
る。また、１１はウエハー２を搭載するトレーである。
うに、搬送アーム９が設けられ、その上部にウエハー２
の上部を覆うようなダストカバー１０が設けられてい
る。このダストカバー１０は手動搬送時の操作性やトラ
ブル処理を容易にするため透明な材料から構成してい
る。また、１１はウエハー２を搭載するトレーである。
【００１９】次に、上記装置を使用した本発明の搬送方
法について説明する。まず、複数枚のウエハー２を搭載
したトレー１１（以下、トレー１１で代表する）がロー
ド室３内に搬入される。この時、チャンバー１内に、流
入ガス管４から後の成膜工程で流入するのと同じ量の無
反応ガス、例えば、精製された水素ガスや窒素ガスある
いは不活性ガスを流入する一方、排気ガス管５から上記
無反応ガスを排気させる。
法について説明する。まず、複数枚のウエハー２を搭載
したトレー１１（以下、トレー１１で代表する）がロー
ド室３内に搬入される。この時、チャンバー１内に、流
入ガス管４から後の成膜工程で流入するのと同じ量の無
反応ガス、例えば、精製された水素ガスや窒素ガスある
いは不活性ガスを流入する一方、排気ガス管５から上記
無反応ガスを排気させる。
【００２０】これにより、従来であれば気相成長をさせ
るための反応ガスを流し始めた時に生じる気流の乱れに
よって、チャンバー１内壁から容易にはがれ落ちていた
付着物は、この気相成長前に行う無反応ガスの流入、排
気によって予め除去されることになる。
るための反応ガスを流し始めた時に生じる気流の乱れに
よって、チャンバー１内壁から容易にはがれ落ちていた
付着物は、この気相成長前に行う無反応ガスの流入、排
気によって予め除去されることになる。
【００２１】次に、トレー１１をチャンバー１内に搬入
した後、搬送棒８のみを引出しゲートバルブ７を閉じ
る。そして、次に上記無反応ガスを反応ガスに切り替え
て気相成長の成膜処理を開始する。ここで、チャンバー
１内のガス流量は、搬送前から略一定のためガス気流の
乱れは生じず、ここでも、従来のようなガス気流の乱れ
による生成物の剥離といった問題は生じない。
した後、搬送棒８のみを引出しゲートバルブ７を閉じ
る。そして、次に上記無反応ガスを反応ガスに切り替え
て気相成長の成膜処理を開始する。ここで、チャンバー
１内のガス流量は、搬送前から略一定のためガス気流の
乱れは生じず、ここでも、従来のようなガス気流の乱れ
による生成物の剥離といった問題は生じない。
【００２２】また、若干のガス気流の乱れが生じ、微細
なダストが発生したとしても、本実施例においては、ウ
エハー２の上部に配置されるダストカバー１０を設けて
いるので、ダストがウエハー２の表面に付着することは
ない。
なダストが発生したとしても、本実施例においては、ウ
エハー２の上部に配置されるダストカバー１０を設けて
いるので、ダストがウエハー２の表面に付着することは
ない。
【００２３】従って、チャンバー１内壁に付着する生成
物を原因とするダストの影響を減少できる。また、チャ
ンバー洗浄等のメンテナンスの負担も軽減でき、装置の
稼働率を向上できる。
物を原因とするダストの影響を減少できる。また、チャ
ンバー洗浄等のメンテナンスの負担も軽減でき、装置の
稼働率を向上できる。
【００２４】図３及び図４は本発明の他の実施例による
ウエハー搬送部の斜視図および縦断面図である。この実
施例の構造は図２の構造に対して、無反応ガスをガス導
入管１２によってダストカバー１０とトレー１１との間
に流し込む構造としている点が異なっている。その他の
構造及びこの装置を使用した製造方法については図１及
び図２と同じである。
ウエハー搬送部の斜視図および縦断面図である。この実
施例の構造は図２の構造に対して、無反応ガスをガス導
入管１２によってダストカバー１０とトレー１１との間
に流し込む構造としている点が異なっている。その他の
構造及びこの装置を使用した製造方法については図１及
び図２と同じである。
【００２５】この構造によれば、仮に若干のガス気流の
乱れによってダストが生じ、そのダストがダストカバー
１０の上部だけでなく、その下部にまで回り込んだとし
ても、そのダストを無反応ガス１３によって掃き出すこ
とができる。
乱れによってダストが生じ、そのダストがダストカバー
１０の上部だけでなく、その下部にまで回り込んだとし
ても、そのダストを無反応ガス１３によって掃き出すこ
とができる。
【００２６】図５及び図６は本発明のさらに他の実施例
によるウエハー搬送部の斜視図及びその機能を説明する
ための図である。本実施例は、図５に示すようにダスト
カバー１０を搬送棒８の方向に向かって低くなるように
傾けている。その他の構造及びこの装置を使用した製造
方法については図１及び図２と同じである。
によるウエハー搬送部の斜視図及びその機能を説明する
ための図である。本実施例は、図５に示すようにダスト
カバー１０を搬送棒８の方向に向かって低くなるように
傾けている。その他の構造及びこの装置を使用した製造
方法については図１及び図２と同じである。
【００２７】この構造は、図１及び図２の構造において
生じ得る問題点を考慮し、それに対する対応を施したも
のである。即ち、図１及び図２の搬送方法によれば、ダ
ストの発生を抑制でき、しかも、仮にダストが発生した
としてもそのダストはダストカバー１０によっての上に
積もることを回避できる。しかしながら、トレー１１を
チャンバー１内のウエハー搭載部６に搭載した後、搬送
棒８（及び搬送アーム９）のみをロード室の方向へ引き
戻すが、この際、ダストカバー１０の上に積もったダス
トがトレー１１の上にこぼれ落ちる場合も考えられる。
生じ得る問題点を考慮し、それに対する対応を施したも
のである。即ち、図１及び図２の搬送方法によれば、ダ
ストの発生を抑制でき、しかも、仮にダストが発生した
としてもそのダストはダストカバー１０によっての上に
積もることを回避できる。しかしながら、トレー１１を
チャンバー１内のウエハー搭載部６に搭載した後、搬送
棒８（及び搬送アーム９）のみをロード室の方向へ引き
戻すが、この際、ダストカバー１０の上に積もったダス
トがトレー１１の上にこぼれ落ちる場合も考えられる。
【００２８】そこで、本実施例においては、仮にダスト
がダストカバー１０からこぼれ落ちる場合があったとし
ても、少なくともトレー１１の上に落ちることはないよ
うな構造を提供するものである。つまり、上記のよう
に、ダストカバー１０に傾斜を設け、搬送棒８の側を低
くすることによって、ダストカバー１０の上を通った無
反応ガス１３の流れが搬送棒８を引く方向に流れるよう
にしている。この構造によれば、仮にダストがダストカ
バー１０からこぼれたとしても、トレー１１の上に積も
ることはない。従って、図１及び図２の構造よりさら
に、歩留り向上を確実なものとすることができる。
がダストカバー１０からこぼれ落ちる場合があったとし
ても、少なくともトレー１１の上に落ちることはないよ
うな構造を提供するものである。つまり、上記のよう
に、ダストカバー１０に傾斜を設け、搬送棒８の側を低
くすることによって、ダストカバー１０の上を通った無
反応ガス１３の流れが搬送棒８を引く方向に流れるよう
にしている。この構造によれば、仮にダストがダストカ
バー１０からこぼれたとしても、トレー１１の上に積も
ることはない。従って、図１及び図２の構造よりさら
に、歩留り向上を確実なものとすることができる。
【００２９】図７及び図８は、図５及び図６に示した搬
送部の構造をさらに改良したものである。即ち、図７及
び図８に示すように、搬送棒８の方向に低くなるように
傾斜したダストカバー１０の上にさらに搬送棒８の長手
方向と略平行のガス流調整部１４を設け、無反応ガス１
３の流れを確実に搬送棒８の方向に向かうように構成し
たものである。
送部の構造をさらに改良したものである。即ち、図７及
び図８に示すように、搬送棒８の方向に低くなるように
傾斜したダストカバー１０の上にさらに搬送棒８の長手
方向と略平行のガス流調整部１４を設け、無反応ガス１
３の流れを確実に搬送棒８の方向に向かうように構成し
たものである。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の気相成長
方法によれば、チャンバーの内壁から容易にはがれ落ち
る付着物を、気相成長前に行う気相成長用チャンバーに
設けられたガス管からの無反応ガスの流入、排気によっ
て予め除去するので、ウエハーにダストが付着すること
を回避できる。また、ガス気流の乱れが生じずガス流量
が略一定となるように無反応ガスに切り替えて気相成長
のためのガスを流入するので、この切り替えの際にもチ
ャンバー内壁からさらに付着物がはがれ落ちるというこ
ともない。
方法によれば、チャンバーの内壁から容易にはがれ落ち
る付着物を、気相成長前に行う気相成長用チャンバーに
設けられたガス管からの無反応ガスの流入、排気によっ
て予め除去するので、ウエハーにダストが付着すること
を回避できる。また、ガス気流の乱れが生じずガス流量
が略一定となるように無反応ガスに切り替えて気相成長
のためのガスを流入するので、この切り替えの際にもチ
ャンバー内壁からさらに付着物がはがれ落ちるというこ
ともない。
【００３１】また、上記気相成長方法に使用されるウエ
ハー搬送装置として、ウエハー表面をカバーするダスト
カバーを設けてなるので、仮にウエハーの搬送の際に、
チャンバーあるいは搬送室に浮遊するダストがあったと
しても、ウエハーの上に付着することを防止できる。ま
た、ダストカバーの上面を搬送棒の向きに低くなるよう
な傾斜させ、その上面に、ダストカバーの上面に略垂直
で且つ搬送棒の長手方向と略平行な気流調整板を設けた
ので、さらに、ダストカバーの上にダストが付着して、
さらにこのダストがこぼれ落ちる場合があったとして
も、そのダストが落ちる方向を搬送棒の引出し方向に限
定することができ、ウエハーの上に落ちることを回避で
きる。
ハー搬送装置として、ウエハー表面をカバーするダスト
カバーを設けてなるので、仮にウエハーの搬送の際に、
チャンバーあるいは搬送室に浮遊するダストがあったと
しても、ウエハーの上に付着することを防止できる。ま
た、ダストカバーの上面を搬送棒の向きに低くなるよう
な傾斜させ、その上面に、ダストカバーの上面に略垂直
で且つ搬送棒の長手方向と略平行な気流調整板を設けた
ので、さらに、ダストカバーの上にダストが付着して、
さらにこのダストがこぼれ落ちる場合があったとして
も、そのダストが落ちる方向を搬送棒の引出し方向に限
定することができ、ウエハーの上に落ちることを回避で
きる。
【図１】本発明の一実施例による気相成長方法を説明す
るための斜視図。
るための斜視図。
【図２】図１の気相成長方法に使用されるウエハー搬送
装置の斜視図。
装置の斜視図。
【図３】本発明の他の実施例によるウエハー搬送装置の
斜視図。
斜視図。
【図４】図３の搬送装置の縦断面図。
【図５】本発明のさらに他の実施例によるウエハー搬送
装置の斜視図。
装置の斜視図。
【図６】図５の搬送装置の効果を説明するための斜視
図。
図。
【図７】本発明のさらに他の実施例によるウエハー搬送
装置の斜視図。
装置の斜視図。
【図８】図７の搬送装置の効果を説明するための斜視
図。
図。
１ チャンバー ２ ウエハー ３ 搬送室（ロード室） ８ 搬送棒 ９ アーム １０ ダストカバー １１ ウエハー保持体（トレー） １３ 無反応ガス １４ 気流調整板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/205 B65G 49/07 C23C 14/56 C23C 16/44 C30B 35/00 H01L 21/68
Claims (5)
- 【請求項１】 気相成長用チャンバーと該気相成長用チ
ャンバーに付設された搬送室とを備え、前記搬送室から
ウエハーまたはウエハー保持体を前記気相成長用チャン
バー内に搬送する工程を有する気相成長方法において、 気相成長工程前に予め、前記気相成長用チャンバーに設
けられたガス管から前記気相成長用チャンバー内に気相
成長時と同量の無反応ガスを流入させる第１の工程と、 該第１の工程後、前記搬送室からウエハーまたはウエハ
ー保持体を前記気相成長用チャンバー内に搬送する第２
の工程と、 該第２の工程後、ガス気流の乱れが生じずガス流量が前
記搬送前から略一定となるように前記無反応ガスを反応
ガスに切り替えて、気相成長を行うことを特徴とする気
相成長方法。 - 【請求項２】 請求項１の気相成長方法に使用されるウ
エハー搬送装置であって、ウエハーまたはウエハー保持
体に接触するためのアームと、該アームに固定され前記
搬送室側から前記ウエハーまたはウエハー保持体の搬送
を行い搬送後に前記気相成長用チャンバーから引き出さ
れる搬送棒とを備え、前記アームの上部にウエハー表面
をカバーするダストカバーを設けてなることを特徴とす
るウエハー搬送装置。 - 【請求項３】 前記ダストカバーの上面を前記搬送棒の
向きに低くなるような傾斜させたことを特徴とする請求
項２に記載のウエハー搬送装置。 - 【請求項４】 前記ダストカバーと、前記ウエハーまた
はウエハー保持体との間に無反応ガスを導入させる導入
管を有することを特徴とする請求項２に記載のウエハー
搬送装置。 - 【請求項５】 気相成長用チャンバーと該気相成長用チ
ャンバーに付設された搬送室とを備え、前記搬送室から
ウエハーまたはウエハー保持体を前記気相成長用チャン
バー内に搬送する工程を有する気相成長方法において、
気相成長工程前に予め、前記気相成長用チャンバー内に
気相成長時と同量の無反応ガスを流入させる第１の工程
と、該第１の工程後、前記搬送室からウエハーまたはウ
エハー保持体を前記気相成長用チャンバー内に搬送する
第２の工程と、該第２の工程後 、前記無反応ガスを反応
ガスに切り替えて、気相成長を行う気相成長方法に使用
されるウエハ搬送装置であって、 ウエハーまたはウエハー保持体に接触するためのアーム
と、該アームに固定され前記搬送室側から前記ウエハー
またはウエハー保持体の搬送を行うための搬送棒とを備
え、前記アームの上部にウエハー表面をカバーするダス
トカバーを設けて、該ダストカバーの上面を前記搬送棒
の向きに低くなるような傾斜させ、 前記ダストカバーの
上面に、前記気相成長用チャンバーに流入される気流を
前記搬送棒の方向に流れるように、前記ダストカバーの
上面に略垂直で且つ前記搬送棒の長手方向と略平行な気
流調整板を設けたことを特徴とするウエハー搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34320396A JP3249755B2 (ja) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | 気相成長方法及びこれに用いられるウエハー搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34320396A JP3249755B2 (ja) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | 気相成長方法及びこれに用いられるウエハー搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10189457A JPH10189457A (ja) | 1998-07-21 |
| JP3249755B2 true JP3249755B2 (ja) | 2002-01-21 |
Family
ID=18359719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34320396A Expired - Fee Related JP3249755B2 (ja) | 1996-12-24 | 1996-12-24 | 気相成長方法及びこれに用いられるウエハー搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3249755B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1996
- 1996-12-24 JP JP34320396A patent/JP3249755B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH10189457A (ja) | 1998-07-21 |
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