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JP3255376B2 - Epoxy resin composition - Google Patents
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JP3255376B2 - Epoxy resin composition - Google Patents

Epoxy resin composition

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JP3255376B2
JP3255376B2 JP33926392A JP33926392A JP3255376B2 JP 3255376 B2 JP3255376 B2 JP 3255376B2 JP 33926392 A JP33926392 A JP 33926392A JP 33926392 A JP33926392 A JP 33926392A JP 3255376 B2 JP3255376 B2 JP 3255376B2
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curing agent
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins

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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスの表面
実装化における耐半田ストレス性に優れた半導体封止用
エポキシ樹脂組成物に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition for semiconductor encapsulation which is excellent in soldering stress resistance in surface mounting of a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ダイオード、トランジスタ、集積
回路等の電子部品を熱硬化性樹脂で封止しているが、特
に集積回路では耐熱性、耐湿性に優れたオルソクレゾー
ルノボラックエポキシ樹脂をノボラック型フェノール樹
脂で硬化させたエポキシ樹脂組成物が用いられている。
ところが近年、集積回路の高集積化に伴いチップがだん
だん大型化し、かつパッケージは従来のDIPタイプか
ら表面実装化された小型、薄型のフラットパッケージ、
SOP,SOJ,PLCCに変わってきている。即ち大
型チップを小型で薄いパッケージに封入することにな
り、応力によりクラック発生、これらのクラックによる
耐湿性の低下等の問題が大きくクローズアップされてき
ている。特に半田付けの工程において急激に200℃以
上の高温にさらされることによりパッケージの割れや樹
脂とチップの剥離により耐湿性が劣化してしまうといっ
た問題点がでてきている。従ってこれらの大型チップを
封止するのに適した、信頼性の高い封止用樹脂組成物の
開発が望まれてきている。
2. Description of the Related Art Conventionally, electronic components such as diodes, transistors, and integrated circuits are sealed with a thermosetting resin. In particular, in an integrated circuit, ortho-cresol novolak epoxy resin having excellent heat resistance and moisture resistance is made of a novolak type. An epoxy resin composition cured with a phenol resin is used.
However, in recent years, chips have become larger and larger as integrated circuits have become more highly integrated, and packages have become smaller and thinner flat packages that are surface-mounted from conventional DIP types.
It is changing to SOP, SOJ, PLCC. That is, a large chip is sealed in a small and thin package, and cracks are generated due to stress, and problems such as a decrease in moisture resistance due to the cracks have been greatly highlighted. In particular, there has been a problem in that abrupt exposure to a high temperature of 200 ° C. or more in a soldering process causes a crack in a package and a peeling of a resin and a chip to deteriorate moisture resistance. Therefore, development of a highly reliable sealing resin composition suitable for sealing these large chips has been desired.

【0003】これらの問題を解決するためにエポキシ樹
脂として式(1)で示されるエポキシ樹脂の使用(特開
昭64−65116号公報)が
In order to solve these problems, use of an epoxy resin represented by the formula (1) as an epoxy resin (Japanese Patent Laid-Open Publication No. 64-65116) has been proposed.

【0004】[0004]

【化4】 (式中のR1〜R8は水素、ハロゲン、アルキル基の中か
ら選択される同一もしくは異なる原子または基)
Embedded image (Wherein R 1 to R 8 are the same or different atoms or groups selected from hydrogen, halogen, and alkyl groups)

【0005】検討されてきた。式(1)で示されるエポ
キシ樹脂の使用によりレジン系の低粘度化が図られ、従
って溶融シリカ粉末を更に多く配合することにより組成
物の成形後の低熱膨張化及び低吸水化により耐半田スト
レス性の向上が図られた。ただし、溶融シリカ粉末を多
く配合することによる弾性率の増加も一方の弊害であ
り、更なる耐半田ストレス性の向上が必要である。この
問題を解決するために近年、式(2)、式(3)で示さ
れる可撓性フェノール樹脂硬化剤の使用が検討されてき
ている。しかしながら、式(2)、式(3)で示される
フェノール樹脂硬化剤はエポキシ樹脂との反応性に劣
り、ゲルタイムが長い、バリが発生しやすい、熱時硬度
が低い、離型性が劣る、成形品表面に未反応成分による
白色斑点が存在する等の問題があり、改良の必要があっ
た。
[0005] It has been studied. The use of the epoxy resin represented by the formula (1) reduces the viscosity of the resin system. Therefore, by adding more fused silica powder, the composition has low thermal expansion and low water absorption after molding, and thus has a low solder stress resistance. The performance has been improved. However, an increase in the modulus of elasticity due to the incorporation of a large amount of the fused silica powder is another adverse effect, and it is necessary to further improve the solder stress resistance. In order to solve this problem, use of a flexible phenol resin curing agent represented by the formulas (2) and (3) has recently been studied. However, the phenolic resin curing agents represented by the formulas (2) and (3) are inferior in reactivity with the epoxy resin, have a long gel time, easily generate burrs, have a low heat hardness, and have a poor releasability. There were problems such as the presence of white spots due to unreacted components on the surface of the molded article, and thus there was a need for improvement.

【0006】これらの問題を解決する手段として、硬化
促進剤の添加量の増加があるが、一般に硬化促進剤の添
加量を増加させると、硬化性は促進され上記の問題は解
決されるが、それに伴いエポキシ樹脂組成物の耐湿性が
低下する。従って、硬化促進剤の添加量を可能な限り少
なくし、かつ硬化性を上げる手段の開発が必要となって
きた。この手段としてノボラック型フェノール樹脂と硬
化促進剤の溶融が提案されている(特開昭6−425
3号公報)。しかしながら、式(2)、式(3)の可撓
性フェノール樹脂硬化剤を併用したエポキシ樹脂組成物
では充分な硬化性の改良に至らず、更に改良が必要とな
ってきている。
As a means for solving these problems, there is an increase in the amount of a hardening accelerator. Generally, when the amount of a hardening accelerator is increased, the curability is accelerated and the above problems are solved. Accordingly, the moisture resistance of the epoxy resin composition decreases. Therefore, it has become necessary to develop a means for minimizing the amount of the curing accelerator added and improving the curability. Melting of the novolak type phenolic resin and curing accelerator has been proposed as the means (JP 6 1 -425
No. 3). However, the epoxy resin compositions using the flexible phenol resin curing agents of the formulas (2) and (3) have not been sufficiently improved in curability and need to be further improved.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は半田付け工程
における急激な温度変化による熱ストレスを受けたとき
の耐クラック性に非常に優れ、かつ耐湿性、成形時の反
応性の違いから生じるバリ、白色斑点、離型性等の諸問
題の改良されたエポキシ樹脂組成物を提供することにあ
る。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is excellent in crack resistance when subjected to thermal stress due to a rapid temperature change in a soldering process, and has a burr caused by differences in moisture resistance and reactivity during molding. An object of the present invention is to provide an epoxy resin composition having improved problems such as white spots, releasability and the like.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、(A)式
(1)で示されるエポキシ樹脂
The present invention relates to (A) an epoxy resin represented by the formula (1):

【0009】[0009]

【化5】 (式中のR1〜R8は水素、ハロゲン、アルキル基の中か
ら選択される同一もしくは異なる原子または基)
Embedded image (Wherein R 1 to R 8 are the same or different atoms or groups selected from hydrogen, halogen, and alkyl groups)

【0010】を総エポキシ樹脂量に対して50〜100
重量%含むエポキシ樹脂、 (B)式(2)及び/または式(3)で示される可撓性
フェノール樹脂硬化剤とトリフェニルホスフィンとを予
め加熱溶融されてなる溶融混合物及び
Is 50 to 100 with respect to the total amount of epoxy resin.
(B) a molten mixture obtained by previously heating and melting a flexible phenol resin curing agent represented by the formula (2) and / or formula (3) and triphenylphosphine;

【0011】[0011]

【化6】 (式中のRはパラキシリレン、nの値は1〜5)Embedded image (R in the formula is paraxylylene, and the value of n is 1 to 5)

【0012】[0012]

【化7】 (式中のRはジシクロペンタジエン、テルペン類、シク
ロペンタジエン、シクロヘキサノンの各々の水素の2個
を除いた残基の中から選択され、nの値は0〜4)
Embedded image (R in the formula is selected from residues of dicyclopentadiene, terpenes, cyclopentadiene, and cyclohexanone except for two hydrogen atoms, and the value of n is 0 to 4.)

【0013】(C)無機充填材を必須成分とする半導体
封止用エポキシ樹脂組成物である。
(C) An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation containing an inorganic filler as an essential component.

【0014】本発明に用いる式(1)の構造で示される
ビフェニル型エポキシ樹脂は1分子中に2個のエポキシ
基を有する2官能性エポキシ樹脂で、従来の多官能性エ
ポキシ樹脂に比べ溶融粘度が低く、トランスファー成形
時の流動性に優れる。従って組成物の溶融シリカ粉末を
多く配合することができ、低熱膨張化及び低吸水化が図
られ、耐半田ストレス性に優れるエポキシ樹脂組成物を
得ることができる。
The biphenyl type epoxy resin represented by the structure of the formula (1) used in the present invention is a bifunctional epoxy resin having two epoxy groups in one molecule, and has a higher melt viscosity than a conventional polyfunctional epoxy resin. And excellent fluidity during transfer molding. Therefore, a large amount of the fused silica powder of the composition can be blended, an epoxy resin composition having low thermal expansion and low water absorption, and having excellent solder stress resistance can be obtained.

【0015】このビフェニル型エポキシ樹脂の使用量
は、これを調節することにより耐半田ストレス性を最大
限に引き出すことができる。耐半田ストレス性の効果を
出すためには、式(1)で示されるビフェニル型エポキ
シ樹脂を総エポキシ樹脂量の50重量%以上、好ましく
は70重量%以上使用するのが望ましい。50重量%未
満だと低熱膨張化及び低吸水性が得られず、耐半田スト
レス性が不充分である。更に式中のR1〜R4はメチル
基、R5〜R8は水素原子が好ましい。
By adjusting the amount of the biphenyl type epoxy resin used, the solder stress resistance can be maximized. In order to obtain the effect of resistance to solder stress, it is desirable to use the biphenyl type epoxy resin represented by the formula (1) in an amount of 50% by weight or more, preferably 70% by weight or more of the total epoxy resin amount. If it is less than 50% by weight, low thermal expansion and low water absorption cannot be obtained, and the solder stress resistance is insufficient. Further, in the formula, R 1 to R 4 are preferably a methyl group, and R 5 to R 8 are preferably a hydrogen atom.

【0016】式(1)で示されるビフェニル型エポキシ
樹脂以外に他のエポキシ樹脂を併用する場合、用いるエ
ポキシ樹脂とはエポキシ基を有するポリマー全般をい
う。例えばビスフェノール型エポキシ樹脂、クレゾール
ノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エ
ポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂及び
アルキル変性トリフェノールメタン型エポキシ樹脂等の
3官能型エポキシ樹脂、トリアジン核含有エポキシ樹脂
等のことをいう。
When another epoxy resin is used in addition to the biphenyl type epoxy resin represented by the formula (1), the epoxy resin used generally refers to all polymers having an epoxy group. For example, trifunctional epoxy resins such as bisphenol type epoxy resin, cresol novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin and alkyl-modified triphenolmethane type epoxy resin, and triazine nucleus containing epoxy resin. Say.

【0017】本発明に用いる溶融混合物は式(2)及び
/または式(3)の可撓性フェノール樹脂硬化剤とトリ
フェニルホスフィンからなる。式(2)及び式(3)の
構造で示されるフェノール樹脂硬化剤は分子構造中に比
較的柔軟な構造を有する可撓性フェノール樹脂硬化剤で
あり、フェノールノボラック樹脂硬化剤に比べ半田処理
温度近辺での弾性率の低下とリードフレーム及び半導体
チップとの密着力を向上せしめことができる。従って半
田付け時の発生応力の低下と、それに伴なう半導体チッ
プ等との剥離不良の防止に有効である。
The molten mixture used in the present invention is a flexible phenolic resin curing agent of formula (2) and / or formula (3) tri
Consists of phenylphosphine . The phenolic resin curing agents represented by the structures of the formulas (2) and (3) are flexible phenolic resin curing agents having a relatively flexible structure in the molecular structure, and have a lower soldering temperature than the phenol novolak resin curing agent. It is possible to reduce the elastic modulus in the vicinity and improve the adhesion between the lead frame and the semiconductor chip. Therefore, it is effective in preventing a reduction in stress generated at the time of soldering and a resulting peeling defect from a semiconductor chip or the like.

【0018】更に式(2)中のRはパラキシリレンで、
nの値は1〜5である。nが5を越えるとトランスファ
ー成形時での流動性が低下し、成形性が劣る傾向があ
る。また式(3)中のRはジシクロペンタジエン、テル
ペン類、シクロペンタジエン、シクロヘキサノンの各々
の水素の2個を除いた残基で、これらの中ではテルペン
類の水素の2個を除いた残基が好ましい。nの値は0〜
4である。nが4を越えるとトランスファー成形時での
流動性が低下し、成形性が劣る傾向がある。
Further, R in the formula (2) is para-xylylene,
The value of n is 1-5. If n exceeds 5, the fluidity during transfer molding tends to decrease, resulting in poor moldability. R in the formula (3) is a residue of dicyclopentadiene, terpenes, cyclopentadiene, and cyclohexanone except for two hydrogen atoms, and among these, a residue of terpenes except for two hydrogen atoms. Is preferred. The value of n is 0
4. If n exceeds 4, the fluidity during transfer molding tends to decrease, and moldability tends to be poor.

【0019】本発明に用いるトリフェニルホスフィン
エポキシ基と水酸基との反応を促進するものである。ト
リフェニルホスフィンの添加量は、樹脂組成物中に0.
1〜0.5重量%であることが好ましい。
[0019] Triphenyl phosphine used in the present invention is Ru der those that promote the reaction of epoxy group and hydroxyl group. G
The addition amount of the triphenylphosphine is 0.1% in the resin composition.
It is preferably from 1 to 0.5% by weight.

【0020】本発明の特徴は、式(2)及び/または式
(3)で示される可撓性フェノール樹脂硬化剤にトリフ
ェニルホスフィンを予め溶融混合した溶融混合物を用い
ることである。可撓性フェノール樹脂硬化剤とトリフェ
ニルホスフィンの溶融混合手順は、例えば以下のような
ものであるが、これに限定されるものではない。予め加
熱溶融させた可撓性フェノール樹脂硬化剤を撹拌しなが
ら、徐々にトリフェニルホスフィンを添加し溶融混合物
を得る。この際溶融混合温度は可撓性フェノール樹脂硬
化剤の軟化点及びトリフェニルホスフィンの融点を越え
る温度で行うことが好ましい。溶融混合時間は、特に限
定するものではないが溶融混合系が透明になってから、
30分間程度であれば通常充分である。
[0020] Features of the present invention, triflumizole flexible phenolic resin curing agent represented by the formula (2) and / or formula (3)
That is, a molten mixture in which phenylphosphine is previously melt-mixed is used. Flexible phenolic resin curing agent and Triphe
The procedure for melt-mixing nilphosphine is, for example, as follows, but is not limited thereto. While stirring the flexible phenol resin curing agent that has been melted in advance by heating, triphenylphosphine is gradually added to obtain a molten mixture. At this time, it is preferable that the melting and mixing temperature be higher than the softening point of the flexible phenol resin curing agent and the melting point of triphenylphosphine . The melt mixing time is not particularly limited, but after the melt mixing system becomes transparent,
A time of about 30 minutes is usually sufficient.

【0021】この溶融混合物はフェノールノボラック樹
脂硬化剤と併用してもよい。併用するフェノールノボラ
ック樹脂硬化剤は、フェノール類とホルムアルデヒド等
のアルデヒド源との重縮合反応により合成される1分子
中に2個以上のフェノール性水酸基を有する通常の樹
脂、例えばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボ
ラック樹脂である。
This molten mixture may be used in combination with a phenol novolak resin curing agent. The phenol novolak resin curing agent to be used in combination is an ordinary resin having two or more phenolic hydroxyl groups in one molecule synthesized by a polycondensation reaction between a phenol and an aldehyde source such as formaldehyde, for example, a phenol novolak resin and a cresol novolak. Resin.

【0022】この溶融混合物の量を調節することによ
り、耐半田ストレス性を最大限に引き出すことができ
る。耐半田ストレス性の効果を引き出すためには、溶融
混合物中の式(2)及び/または式(3)で示される可
撓性フェノール樹脂硬化剤を総フェノール樹脂硬化剤量
に対して30重量%以上、更に好ましくは50重量%以
上使用するのが望ましい。使用量が30重量%未満だと
低弾性及びリードフレーム、半導体チップとの密着力が
不充分で耐半田ストレス性の向上が望めない。
By adjusting the amount of the molten mixture, the solder stress resistance can be maximized. In order to bring out the effect of resistance to soldering stress, the flexible phenol resin curing agent represented by the formula (2) and / or (3) in the molten mixture is added in an amount of 30% by weight based on the total amount of the phenol resin curing agent. More preferably, it is desirable to use 50% by weight or more. If the amount is less than 30% by weight, low elasticity and insufficient adhesion to the lead frame and semiconductor chip cannot be expected to improve solder stress resistance.

【0023】フェノールノボラック樹脂硬化剤に比べ
て、エポキシ樹脂との反応速度が遅い可撓性フェノール
樹脂硬化剤にトリフェニルホスフィンを溶融混合して得
られる溶融混合物を用いることにより、フェノールノボ
ラック樹脂硬化剤と同等の反応速度を得ることができ
る。これによりフェノールノボラック樹脂と併用して
も、反応速度の差による硬化後のエポキシ樹脂組成物中
の未反応の可撓性フェノール樹脂硬化剤の残留を防ぐこ
とができ、成形品表面に未反応成分による白色斑点の存
在、熱時硬度が低下等の諸問題を解決することができ
る。溶融混合物の使用として、別々に製造した2種以上
の溶融混合物をエポキシ樹脂組成物の製造時に用いても
よい。
By using a molten mixture obtained by melting and mixing triphenylphosphine with a flexible phenol resin curing agent having a lower reaction rate with an epoxy resin than a phenol novolak resin curing agent, A reaction rate equivalent to the above can be obtained. This can prevent the unreacted flexible phenolic resin curing agent from remaining in the epoxy resin composition after curing due to the difference in the reaction rate even when used in combination with the phenol novolak resin, and the unreacted components remain on the molded product surface. Can solve various problems such as the presence of white spots and a decrease in hardness when heated. As the use of the molten mixture, two or more separately prepared molten mixtures may be used at the time of producing the epoxy resin composition.

【0024】本発明で用いる無機充填材としては、溶融
シリカ粉末、球状シリカ粉末、結晶シリカ粉末、2次凝
集シリカ粉末、多孔質シリカ粉末、2次凝集シリカ粉末
または多孔質シリカ粉末を粉砕したシリカ粉末、アルミ
ナ等が挙げられ、特に溶融シリカ粉末、球状シリカ粉
末、及び溶融シリカ粉末と球状シリカ粉末との混合物が
好ましい。また無機充填材の配合量としては耐半田スト
レス性と成形性のバランスから組成物総量に対して70
〜90重量%が好ましい。
The inorganic filler used in the present invention includes fused silica powder, spherical silica powder, crystalline silica powder, secondary aggregated silica powder, porous silica powder, secondary aggregated silica powder or silica obtained by pulverizing porous silica powder. Powders, alumina and the like can be mentioned, and particularly preferred are fused silica powder, spherical silica powder, and a mixture of fused silica powder and spherical silica powder. The amount of the inorganic filler is preferably 70 to the total amount of the composition from the balance between solder stress resistance and moldability.
~ 90% by weight is preferred.

【0025】本発明の封止用エポキシ樹脂組成物はエポ
キシ樹脂、可撓性フェノール硬化剤とトリフェニルホス
フィンとの溶融混合物および無機充填材を必須成分とす
るが、これ以外に必要に応じて、シランカップリング
剤、ブロム化エポキシ樹脂、三酸化アンチモン、ヘキサ
ブロムベンゼン等の難燃剤、カーボンブラック、ベンガ
ラ等の着色剤、天然ワックス、合成ワックス等の離型剤
及びシリコーンオイル、ゴム等の低応力添加剤等の種々
の添加剤を適宜配合しても差し支えがない。
The epoxy resin composition for encapsulation of the present invention comprises an epoxy resin, a flexible phenol curing agent and triphenylphospho.
The molten mixture with the fins and the inorganic filler are essential components, but if necessary, a silane coupling agent, a brominated epoxy resin, an antimony trioxide, a flame retardant such as hexabromobenzene, carbon black, red iron oxide And various additives such as a release agent such as natural wax and synthetic wax, and a low stress additive such as silicone oil and rubber.

【0026】また、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物
を成形材料として製造するには、エポキシ樹脂、溶融混
合物、無機充填材、その他の添加剤をミキサー等によっ
て充分に均一に混合した後、さらに熱ロール又はニーダ
ー等で溶融混練し、冷却後粉砕して成形材料とすること
ができる。これらの成形材料は電子部品あるいは電気部
品の封止、被覆、絶縁等に適用することができる。
In order to produce the encapsulating epoxy resin composition of the present invention as a molding material, an epoxy resin, a molten mixture, an inorganic filler, and other additives are sufficiently mixed by a mixer or the like. Furthermore, it can be melt-kneaded with a hot roll or a kneader, cooled, and pulverized to obtain a molding material. These molding materials can be applied to sealing, coating, insulating and the like of electronic parts or electric parts.

【0027】溶融混合物の製造例 溶融混合物1 式(4)で示される可撓性フェノール樹脂硬化剤(軟化
点75℃、水酸基当量175g/eq、nが1から4の
混合物であり、重量割合でn=1が20、n=2が4
0、n=3が30、n=4が10)600重量部とトリ
フェニルホスフィン20重量部を120℃で5分間溶融
混合した(以下溶融混合Aとする)。
Production Example of Melt Mixture Melt Mixture 1 A flexible phenol resin curing agent represented by the formula (4) (a mixture having a softening point of 75 ° C., a hydroxyl equivalent of 175 g / eq, and n of 1 to 4; 20 for n = 1, 4 for n = 2
0, n = 3 = 30, n = 4 = 10) 600 parts by weight and 20 parts by weight of triphenylphosphine were melt-mixed at 120 ° C. for 5 minutes (hereinafter referred to as melt-mixing A).

【0028】[0028]

【化8】 Embedded image

【0029】溶融混合物2 式(5)で示される可撓性フェノール樹脂硬化剤(軟化
点120℃、水酸基当量17g/eq、nが0から3の
混合物であり、重量割合でn=0が10、n=1が4
0、n=2が30、n=3が20)600重量部とトリ
フェニルホスフィン20重量部を170℃で5分間溶融
混合した(以下溶融混合Bとする)。
Melt mixture 2 A flexible phenol resin curing agent represented by the formula (5) (a mixture having a softening point of 120 ° C., a hydroxyl equivalent of 17 g / eq, n of 0 to 3 and a weight ratio of n = 0 to 10). , N = 1 is 4
0, n = 2 = 30, n = 3 = 20) 600 parts by weight and 20 parts by weight of triphenylphosphine were melt-mixed at 170 ° C. for 5 minutes (hereinafter referred to as melt-mixing B).

【0030】[0030]

【化9】 Embedded image

【0031】溶融混合物3 フェノールノボラック樹脂硬化剤(軟化点105℃、水
酸基当量104g/eq)600重量部に、トリフェニ
ルホスフィン60重量部を120℃で5分間溶融混合し
た(以下溶融混合物Cとする)。
Melt Mixture 3 60 parts by weight of triphenylphosphine was melt-mixed with 600 parts by weight of a phenol novolak resin curing agent (softening point: 105 ° C., hydroxyl equivalent: 104 g / eq) at 120 ° C. for 5 minutes (hereinafter referred to as melt mixture C). ).

【0032】[0032]

【実施例】以下本発明を実施例で具体的に説明する。 実施例1 下記組成物 式(6)で示されるエポキシ樹脂(軟化点107℃、エポキシ当量190g/ eq) 12重量部The present invention will be specifically described below with reference to examples. Example 1 The following composition 12 parts by weight of an epoxy resin represented by the formula (6) (softening point: 107 ° C., epoxy equivalent: 190 g / eq)

【0033】[0033]

【化10】 Embedded image

【0034】 溶融混合物A 6.2重量部 フェノールノボラック樹脂硬化剤(軟化点105℃、水酸基当量104g/e q) 2重量部 溶融シリカ粉末 78.8重量部 カーボンブラック 0.5重量部 カルナバワックス 0.5重量部 を、ミキサーで常温で混合し、70〜100℃で2軸ロ
ールにより混練し、冷却後粉砕した成形材料とした。得
られた成形材料を、タブレット化し、低圧トランスファ
ー成形機にて175℃、70kg/cm2、120秒の
条件で半田クラック試験用として6×6mmのチップを
52pパッケージに封止し、また半田耐湿性試験用とし
て3×6mmのチップを16pSOPパッケージに封止
した。封止したテスト用素子について下記の半田クラッ
ク試験及び半田耐湿性試験を行った。評価結果を表1に
示す。
Melt Mixture A 6.2 parts by weight Phenol novolak resin curing agent (softening point 105 ° C., hydroxyl equivalent 104 g / eq) 2 parts by weight Fused silica powder 78.8 parts by weight Carbon black 0.5 parts by weight Carnauba wax 0 The mixture was mixed at room temperature with a mixer, kneaded with a biaxial roll at 70 to 100 ° C., cooled, and pulverized to obtain a molding material. The obtained molding material is tabletted, a 6 × 6 mm chip is sealed in a 52p package for a solder crack test at 175 ° C., 70 kg / cm 2 , and 120 seconds using a low-pressure transfer molding machine. A 3 × 6 mm chip was sealed in a 16 pSOP package for a sex test. The sealed test element was subjected to the following solder crack test and solder moisture resistance test. Table 1 shows the evaluation results.

【0035】評価試験 半田クラック試験:封止したテスト用素子を85℃、8
5%RHの環境下で48Hr及び72Hr処理し、その
後260℃の半田槽に10秒間浸漬後、顕微鏡で外部ク
ラックを観察した。 半田耐湿性試験:封止したテスト用素子を85℃、85
%RHの環境下で72Hr処理し、その後260℃の半
田槽に10秒間浸漬後、プレッシャークッカー試験(1
25℃、100%RH)を行い回路のオープン不良を測
定した。 成形性試験:175℃、70Kg/cm2でトランスフ
ァー成形機を用いて、16pDIPを成形し、離型10
秒後にバコール硬度を測定した。得られた成形品によ
り、ベンド、バリ、離型性、外観のチェックを行った。 ゲルタイム:175℃の熱板上で測定した。
Evaluation test Solder crack test: A sealed test element was heated at 85 ° C. for 8 hours.
48 hours and 72 hours of treatment were performed in an environment of 5% RH, and then immersed in a solder bath at 260 ° C. for 10 seconds, and external cracks were observed with a microscope. Solder moisture resistance test: Sealed test element at 85 ° C, 85
% RH environment, and then immersed in a solder bath at 260 ° C. for 10 seconds, and then subjected to a pressure cooker test (1
(25 ° C., 100% RH), and the open defect of the circuit was measured. Moldability test: using a transfer molding machine at 175 ° C. and 70 kg / cm 2 , molding 16pDIP,
After a second, the Bacol hardness was measured. The obtained molded product was checked for bends, burrs, releasability, and appearance. Gel time: Measured on a hot plate at 175 ° C.

【0036】実施例2、3 表1の処方に従って配合し、実施例1と同様にして成形
材料を得た。この成形材料で試験用の封止した成形品を
得、この成形品を用いて実施例1と同様に半田クラック
試験及び半田耐湿性試験を行った。試験結果を表1に示
す。
Examples 2 and 3 The components were blended according to the formulation shown in Table 1, and a molding material was obtained in the same manner as in Example 1. A sealed molded product for a test was obtained from this molding material, and a solder crack test and a solder moisture resistance test were performed using this molded product in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the test results.

【0037】比較例1〜4 表1の処方に従って配合し、実施例1と同様にして成形
材料を得た。比較例1、3、4に用いる可撓性フェノー
ル樹脂硬化剤は式(4)で示されるものである(軟化点
75℃、水酸基当量175g/eq、nが1から4の混
合物であり、重量割合でn=1が20、n=2が40、
n=3が30、n=4が10)。比較例1、3、4に用
いる可撓性フェノール樹脂硬化剤は式(5)で示される
ものである(軟化点120℃、水酸基当量17g/e
q、nが0から3の混合物であり、重量割合でn=0が
10、n=1が40、n=2が30、n=3が20)。
この成形材料で試験用の封止した成形品を得、この成形
品を用いて実施例1と同様に半田クラック試験及び半田
耐湿性試験を行った。試験結果を表1に示す。
Comparative Examples 1 to 4 Compounds were prepared according to the formulation shown in Table 1 and molding materials were obtained in the same manner as in Example 1. The flexible phenol resin curing agent used in Comparative Examples 1, 3, and 4 is a compound represented by the formula (4) (a mixture having a softening point of 75 ° C., a hydroxyl equivalent of 175 g / eq, n of 1 to 4, and a weight of 1 to 4). N = 1 = 20, n = 2 = 40,
n = 3 = 30, n = 4 = 10). The flexible phenol resin curing agent used in Comparative Examples 1, 3, and 4 is represented by the formula (5) (softening point: 120 ° C., hydroxyl equivalent: 17 g / e).
q, n is a mixture of 0 to 3, and n = 0 is 10, n = 1 is 40, n = 2 is 30, and n = 3 is 20 in weight ratio.
A sealed molded product for a test was obtained from this molding material, and a solder crack test and a solder moisture resistance test were performed using this molded product in the same manner as in Example 1. Table 1 shows the test results.

【0038】[0038]

【表1】 [Table 1]

【0039】[0039]

【発明の効果】本発明に従うと従来技術では得ることの
できなかった可撓性フェノール樹脂硬化剤及びエポキシ
樹脂よりなる組成物の成形性、硬化性の改良が達成で
き、半田付け工程における急激な温度変化による熱スト
レスを受けた時の耐クラック性に非常に優れ、更に耐湿
性が良好なことから電子、電気部品の封止用、被覆用、
絶縁用等に用いた場合、特に表面実装パッケージに搭載
された高集積大型チップICにおいて信頼性が非常に必
要とする製品について好適である。
According to the present invention, the moldability and curability of a composition comprising a flexible phenolic resin curing agent and an epoxy resin, which could not be obtained by the prior art, can be improved, and a rapid increase in the soldering process can be achieved. It has excellent crack resistance when subjected to thermal stress due to temperature change, and also has good moisture resistance.
When used for insulation or the like, it is particularly suitable for a product that requires extremely high reliability in a highly integrated large chip IC mounted on a surface mount package.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI H01L 23/31 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08G 59/62 C08G 59/40 C08K 3/00 C08L 63/02 H01L 23/29 ──────────────────────────────────────────────────の Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 identification code FI H01L 23/31 (58) Investigated field (Int.Cl. 7 , DB name) C08G 59/62 C08G 59/40 C08K 3/00 C08L 63/02 H01L 23/29

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 (A)式(1)で示されるエポキシ樹脂 【化1】 (式中のR1〜R8は水素、ハロゲン、アルキル基の中か
ら選択される同一もしくは異なる原子または基)を総エ
ポキシ樹脂量に対して50〜100重量%含むエポキシ
樹脂、 (B)式(2)及び/または式(3)で示される可撓性
フェノール樹脂硬化剤とトリフェニルホスフィンとを予
め加熱溶融されてなる溶融混合物及び 【化2】 (式中のRはパラキシリレン、nの値は1〜5) 【化3】 (式中のRはジシクロペンタジエン、テルペン類、シク
ロペンタジエン、シクロヘキサノンの各々の水素の2個
を除いた残基の中から選択され、nの値は0〜4)
(C)無機充填材を必須成分とすることを特徴とする半
導体封止用エポキシ樹脂組成物。
(A) an epoxy resin represented by the formula (1): An epoxy resin containing 50 to 100% by weight of the total epoxy resin (wherein R 1 to R 8 are the same or different atoms or groups selected from hydrogen, halogen, and alkyl groups); A molten mixture obtained by previously heating and melting a flexible phenol resin curing agent represented by (2) and / or formula (3) and triphenylphosphine; (R in the formula is paraxylylene, and the value of n is 1 to 5) (R in the formula is selected from residues of dicyclopentadiene, terpenes, cyclopentadiene, and cyclohexanone except for two hydrogen atoms, and the value of n is 0 to 4.)
(C) An epoxy resin composition for semiconductor encapsulation, comprising an inorganic filler as an essential component.
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