Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP3257049B2 - Reflow device and reflow method - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP3257049B2 - Reflow device and reflow method - Google Patents

Reflow device and reflow method

Info

Publication number
JP3257049B2
JP3257049B2 JP19662492A JP19662492A JP3257049B2 JP 3257049 B2 JP3257049 B2 JP 3257049B2 JP 19662492 A JP19662492 A JP 19662492A JP 19662492 A JP19662492 A JP 19662492A JP 3257049 B2 JP3257049 B2 JP 3257049B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reflow
air
nitrogen gas
heating chamber
blower
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP19662492A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH0645745A (en
Inventor
雅文 井上
宏暢 高橋
聖史 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Corp
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Panasonic Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Panasonic Corp, Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Panasonic Corp
Priority to JP19662492A priority Critical patent/JP3257049B2/en
Publication of JPH0645745A publication Critical patent/JPH0645745A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3257049B2 publication Critical patent/JP3257049B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はリフロー装置に係り、詳
しくはチッソリフローとエアリフローを選択して行うこ
とができるリフロー装置およびリフロー方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflow apparatus, and more particularly, to a reflow apparatus and a reflow method capable of selectively performing nitrogen reflow and air reflow.

【0002】[0002]

【従来の技術】チップマウンタなどにより基板にチップ
を搭載した後、基板はリフロー装置の加熱室へ送られ、
半田を加熱して溶融させた後、冷却して固化させること
により、チップの電極は基板の電極に半田付けされる。
2. Description of the Related Art After a chip is mounted on a substrate by a chip mounter or the like, the substrate is sent to a heating chamber of a reflow device.
The electrodes of the chip are soldered to the electrodes of the substrate by heating and melting the solder and then cooling and solidifying the solder.

【0003】リフロー装置は加熱室内の空気をヒータで
加熱するエアリフロー装置と、基板の回路パターンなど
の金属部分が酸化されるのを防止するために加熱室に不
活性ガスとしてのチッソガスを供給し、チッソガスをヒ
ータで加熱するチッソリフロー装置に大別される。従
来、エアリフロー装置とチッソリフロー装置は別々の装
置であったが、近年、エアリフロー装置にチッソガス供
給手段などを付加することにより、エアリフローとチッ
ソリフローを兼用できるリフロー装置が提案されてい
る。次に、従来のリフロー装置を説明する。
[0003] The reflow device supplies air to the heating chamber as an inert gas in order to prevent oxidation of metal parts such as circuit patterns of the substrate, and an air reflow device for heating air in the heating chamber with a heater. And a nitrogen reflow device for heating a nitrogen gas with a heater. Conventionally, the air reflow device and the Chisso reflow device were separate devices. In recent years, however, a reflow device capable of performing both air reflow and Chisso reflow by adding a nitrogen gas supply means to the air reflow device has been proposed. Next, a conventional reflow apparatus will be described.

【0004】図3はリフロー装置の内部を示す側面図で
ある。加熱室100の内部には、チップ9が搭載された
基板10を入口101から出口102へ搬送するコンベ
ア103が設けられており、このコンベア103の上方
にはヒータ104とファン105が設けられている。1
06はコンベア103の駆動用モータ、107はファン
105の駆動用モータである。また入口101と出口1
02には、外部の空気が加熱室100内に流入するのを
防止するためのシャッタ110が設けられており、シリ
ンダ111を駆動してシャッタ110を上下動させるこ
とにより、入口101と出口102を開閉する。加熱室
100の内部は、入口101側の予熱ゾーンT1、中央
部の均熱ゾーンT2、出口3側のリフローゾーンT3に
仕切壁112により分割されており、各ゾーンT1,T
2,T3には、液体チッソが貯溜された液体チッソボン
ベや、空気中のチッソと酸素を分離してチッソガスを生
成するチッソガス発生器などのチッソガス供給部113
から、パイプ114を通してチッソガスが供給される。
115はバルブである。
FIG. 3 is a side view showing the inside of the reflow device. Inside the heating chamber 100, a conveyor 103 for transporting the substrate 10 on which the chip 9 is mounted from the inlet 101 to the outlet 102 is provided. Above the conveyor 103, a heater 104 and a fan 105 are provided. . 1
Reference numeral 06 denotes a driving motor for the conveyor 103, and reference numeral 107 denotes a driving motor for the fan 105. Inlet 101 and outlet 1
02 is provided with a shutter 110 for preventing external air from flowing into the heating chamber 100. By driving the cylinder 111 to move the shutter 110 up and down, the inlet 101 and the outlet 102 are connected. Open and close. The inside of the heating chamber 100 is divided by a partition wall 112 into a preheating zone T1 on the entrance 101 side, a soaking zone T2 in the center, and a reflow zone T3 on the exit 3 side.
2, T3, a nitrogen gas supply unit 113 such as a liquid nitrogen cylinder in which liquid nitrogen is stored, a nitrogen gas generator for separating nitrogen from oxygen in the air and generating nitrogen gas.
, A nitrogen gas is supplied through a pipe 114.
115 is a valve.

【0005】次に動作の説明を行う。チッソリフローを
行う場合は、入口101と出口102をシャッタ110
で閉じるとともに、バルブ115を開いて加熱室100
へチッソガスを供給し、加熱室100内をチッソガスで
充満する。さて、チップ9が搭載された基板10はコン
ベア103により右方へ搬送される。その間に、基板1
0にはヒータ104で加熱されたチッソガスがファン1
05により吹き付けられ、基板10は加熱される。図4
実線Aは、チッソリフロー時の加熱室100内での温度
プロファイルを示している。図示するように、一般に、
予熱ゾーンT1においては、基板10は常温から150
℃程度まで加熱され、次に均熱ゾーンT2においては1
70℃程度まで加熱され、次にリフローゾーンT3にお
いて220℃以上まで加熱される。半田14の溶融温度
は183℃程度であり、基板10が223℃程度まで急
速に加熱されることにより、半田14は溶融する。
Next, the operation will be described. When performing Chisso reflow, the inlet 101 and the outlet 102 are
And close the valve 115 to open the heating chamber 100.
A nitrogen gas is supplied, and the inside of the heating chamber 100 is filled with the nitrogen gas. Now, the substrate 10 on which the chip 9 is mounted is transported rightward by the conveyor 103. Meanwhile, substrate 1
At 0, the nitrogen gas heated by the heater 104 is the fan 1
05, and the substrate 10 is heated. FIG.
The solid line A indicates the temperature profile in the heating chamber 100 during the reflow of nitrogen. As shown, in general,
In the preheating zone T1, the substrate 10 is heated from normal temperature to 150 ° C.
° C, and then in the soaking zone T2,
It is heated to about 70 ° C., and then heated to 220 ° C. or more in the reflow zone T3. The melting temperature of the solder 14 is about 183 ° C., and when the substrate 10 is rapidly heated to about 223 ° C., the solder 14 is melted.

【0006】次にエアリフローを行う場合は、入口10
1と出口102のシャッタ110を開くとともに、バル
ブ115を閉じて加熱室100へのチッソガスの供給を
停止する。すると加熱室100内は空気で充満され、そ
の状態で、チッソリフローの場合と同様に基板10をコ
ンベア103で搬送しながら、半田付けを行う。
Next, when air reflow is performed, the inlet 10
1 and the shutter 110 of the outlet 102 are opened, and the valve 115 is closed to stop the supply of nitrogen gas to the heating chamber 100. Then, the inside of the heating chamber 100 is filled with air, and in this state, soldering is performed while the substrate 10 is conveyed by the conveyor 103 as in the case of the Chisso reflow.

【0007】図4鎖線Bは、エアリフロー時の加熱室1
00の温度プロファイルを示している。図示するように
エアリフローの温度プロファイルBは、チッソリフロー
の温度プロファイルよりも高くなる。その理由は次のと
おりである。チッソリフローにおいては、加熱室100
内へは常時もしくはほぼ常時かなりの量のチッソガスが
供給されるが、このチッソガスは低温(常温)であるた
め、このチッソガスを上記温度まで加熱するのに熱を奪
われる。これに対しエアリフローでは、入口101や出
口102から外部空気がわずかずつ流入するだけであ
る。すなわちチッソリフローにおける加熱室100への
チッソガスの供給量よりも、エアリフローにおける加熱
室1への空気の流入量はかなり少なく、その結果、エア
リフローの温度プロファイルBはチッソリフローの温度
プロファイルよりも高くなる訳である。
FIG. 4 shows a chain line B in the heating chamber 1 during air reflow.
00 shows a temperature profile of 00. As shown, the temperature profile B of air reflow is higher than the temperature profile of nitrogen reflow. The reason is as follows. In the Chisso reflow, the heating chamber 100
A considerable amount of nitrogen gas is supplied to the inside at all times or almost always. However, since this nitrogen gas has a low temperature (normal temperature), heat is lost to heat the nitrogen gas to the above-mentioned temperature. On the other hand, in the air reflow, external air only flows in little by little from the inlet 101 and the outlet 102. That is, the amount of air flowing into the heating chamber 1 during the air reflow is considerably smaller than the amount of the nitrogen gas supplied to the heating chamber 100 during the nitrogen reflow. As a result, the temperature profile B of the air reflow is higher than the temperature profile of the nitrogen reflow. That is.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】リフロー装置において
は、現実の温度プロファイルが理想の温度プロファイル
からずれると、半田の加熱不足や過剰加熱による半田の
品質悪化を生じる。したがって理想の温度プロファイル
に近づけるべく、ヒータなどの温度管理手段を厳密に制
御しなければならないが、上記従来のリフロー装置で
は、チッソリフローとエアリフローでは温度プロファイ
ルが変化するため、各々別々の温度管理を行なって理想
の温度プロファイルに近づけねばならず、装置の運転管
理がきわめて困難であるという問題点があり、このこと
が、エアリフローとチッソリフローを兼用できるリフロ
ー装置が普及しない主因の一つになっていた。
In the reflow apparatus, if the actual temperature profile deviates from the ideal temperature profile, the quality of the solder deteriorates due to insufficient heating or excessive heating of the solder. Therefore, temperature control means such as a heater must be strictly controlled in order to approach an ideal temperature profile. However, in the above-described conventional reflow apparatus, since the temperature profiles change in the Chisso reflow and the air reflow, each temperature control is performed separately. And it is very difficult to control the operation of the equipment.This is one of the main reasons that the reflow equipment that can use both air reflow and chisso reflow is not widely used. Had become.

【0009】そこで本発明は、エアリフローとチッソリ
フローの温度プロファイルを容易に一致させることがで
きるリフロー装置およびリフロー方法を提供することを
目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a reflow apparatus and a reflow method capable of easily matching the temperature profiles of air reflow and nitrogen reflow.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】このために本発明は、加
熱室に空気を積極的に供給するための送風機を設けた。
そしてチッソガス供給部及び送風機から前記加熱室へ通
じる送気管路にチッソガス供給部からのチッソガスの供
給と送風機からの空気の供給を切替える切替え手段を設
、エアリフロー時には送風機を駆動して空気を加熱室
へ送るようにしたものである。
To this end, the present invention provides a blower for positively supplying air to the heating chamber.
A switching means for switching between the supply of nitrogen gas from the nitrogen gas supply unit and the supply of air from the blower is provided in an air supply line communicating from the nitrogen gas supply unit and the blower to the heating chamber, and the air blower is driven by driving the blower during air reflow.
It is intended to be sent to .

【0011】[0011]

【作用】上記構成において、チッソリフロー時には加熱
室へチッソガスを供給しながらリフローを行う。また
アリフロー時には、送風機を駆動して空気を加熱室へ積
極的に供給して行うが、この場合、空気とチッソガスの
温度及び比熱はほぼ同じであり、したがってエアリフロ
ーとチッソリフローで同様の温度管理を行えば、同様の
温度プロファイルが得られることとなる。
[Action] Oite to the above structure, the heating at the time of nitrogen reflow
Reflow is performed while supplying nitrogen gas to the chamber. During et <br/> Arifuro Although performed by supplying actively drives the blower air to the heating chamber, in this case, the temperature and the specific heat of the air and Chissogasu is substantially the same, therefore the air reflow and nitrogen If similar temperature management is performed by reflow, a similar temperature profile will be obtained.

【0012】[0012]

【実施例】次に、図面を参照しながら本発明の実施例を
説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0013】図1はリフロー装置の内部を示す側面図で
ある。加熱室1の内部には、チップ9が搭載された基板
10を入口2から出口3へ搬送するコンベア4が設けら
れており、このコンベア4の上方にはヒータ5とファン
6が設けられている。8はコンベア4の駆動用モータ、
7はファン6の駆動用モータである。また入口2と出口
3には、外部の空気が加熱室1内に流入するのを防止す
るためのシャッタ18が設けられており、シリンダ19
を駆動してシャッタ18を上下動させることにより、入
口2と出口3を開閉する。
FIG. 1 is a side view showing the inside of the reflow device. Inside the heating chamber 1, there is provided a conveyor 4 for transporting a substrate 10 on which chips 9 are mounted from the inlet 2 to the outlet 3. Above the conveyor 4, a heater 5 and a fan 6 are provided. . 8 is a drive motor for the conveyor 4;
Reference numeral 7 denotes a motor for driving the fan 6. The inlet 2 and the outlet 3 are provided with a shutter 18 for preventing external air from flowing into the heating chamber 1.
To open and close the inlet 2 and the outlet 3 by moving the shutter 18 up and down.

【0014】加熱室1の内部は、入口2側の予熱ゾーン
T1、中央部の均熱ゾーンT2、出口3側のリフローゾ
ーンT3に仕切壁16により分割されている。11は液
体チッソボンベや、空気中のチッソと酸素を分離してチ
ッソガスを生成するチッソガス発生器などのチッソガス
供給部であって、送気管路14を通して加熱室1の各ゾ
ーンT1,T2,T3や、加熱室1の後部に設けられた
冷却室20にチッソガスを供給する。この送気管路14
には流量調整弁12や流量計13が設けられている。2
1は送風機であって、前記送気管路14に設けられた切
替えバルブ15に接続されており、その途中にも流量調
整弁22と流量計23が設けられている。切替えバルブ
15を操作することにより、加熱室1へのチッソガス供
給部11によるチッソガスの供給と、送風機21による
空気の供給が選択的に切替えられる。
The interior of the heating chamber 1 is divided by a partition wall 16 into a preheating zone T1 on the inlet 2 side, a soaking zone T2 in the center, and a reflow zone T3 on the outlet 3 side. Reference numeral 11 denotes a nitrogen gas supply unit such as a liquid nitrogen cylinder or a nitrogen gas generator that generates nitrogen gas by separating nitrogen and oxygen in the air. A nitrogen gas is supplied to a cooling chamber 20 provided at the rear of the heating chamber 1. This air supply line 14
Is provided with a flow control valve 12 and a flow meter 13. 2
Reference numeral 1 denotes a blower, which is connected to a switching valve 15 provided in the air supply line 14, and a flow regulating valve 22 and a flow meter 23 are provided in the middle thereof. By operating the switching valve 15, the supply of nitrogen gas to the heating chamber 1 by the nitrogen gas supply unit 11 and the supply of air by the blower 21 are selectively switched.

【0015】次に動作を説明する。チッソリフローを行
う場合は、入口2と出口3をシャッタ18で閉じるとと
もに、バルブ15を開いて加熱室1へチッソガスを供給
し、加熱室1内をチッソガスで充満する。さて、チップ
9が搭載された基板10はコンベア4により右方へ搬送
される。その間に、基板10にはヒータ5で加熱された
チッソガスがファン6により吹き付けられ、基板10は
加熱される。次にエアリフローを行う場合は、入口2と
出口3のシャッター18を開くとともに、バルブ15を
切替えて、加熱室1へのチッソガスの供給を停止し、送
風機21を駆動して、加熱室1に空気を供給しながら、
コンベア4により基板10を搬送して半田付けを行う。
Next, the operation will be described. When performing the nitrogen reflow, the inlet 2 and the outlet 3 are closed by the shutter 18 and the valve 15 is opened to supply the heating chamber 1 with the nitrogen gas, so that the heating chamber 1 is filled with the nitrogen gas. Now, the substrate 10 on which the chips 9 are mounted is transported rightward by the conveyor 4. In the meantime, the nitrogen gas heated by the heater 5 is blown to the substrate 10 by the fan 6, and the substrate 10 is heated. Next, when performing air reflow, the shutter 18 of the inlet 2 and the outlet 3 is opened, the valve 15 is switched, the supply of nitrogen gas to the heating chamber 1 is stopped, and the blower 21 is driven to drive the heating chamber 1. While supplying air
The substrate 10 is transported by the conveyor 4 and soldered.

【0016】この場合、チッソリフロー時のチッソガス
の供給量と空気の供給量が同量となるように、流量計2
3で流量を測定し、流量調整弁22で流量を調整する。
このようにしてチッソリフロー時のチッソガスの供給量
と、エアリフロー時の空気の供給量を同量にすれば、チ
ッソガスと空気の温度及び比熱はほぼ等しいので、エア
リフロー時の温度プロファイルはチッソリフロー時の温
度プロファイルと同じになる。したがってエアリフロー
とチッソリフローでは、ヒータ5やファン6などの温度
管理手段をまったくと同様に制御することによりまった
く同様の温度プロファイルが得られる。
In this case, the flow meter 2 is set so that the supply amount of the nitrogen gas and the supply amount of the air during the nitrogen reflow are the same.
The flow rate is measured in 3 and the flow rate is adjusted by the flow rate adjusting valve 22.
If the supply amount of nitrogen gas at the time of nitrogen reflow is made equal to the supply amount of air at the time of air reflow, the temperature and specific heat of the nitrogen gas and the air are almost equal, so the temperature profile at the time of air reflow is The temperature profile is the same as when Therefore, in air reflow and chisso reflow, exactly the same temperature profile can be obtained by controlling the temperature management means such as the heater 5 and the fan 6 in exactly the same manner.

【0017】図2は本発明の他の実施例を示している。
チッソガス供給部11と送風機21は、各々独立した送
気管路14A,14Bとバルブ15A,15Bを有して
いる。したがってバルブ15A,15Bを切替えること
により、加熱室1にチッソガスや空気を供給する。この
ように配管構造は様々考えられる。
FIG. 2 shows another embodiment of the present invention.
The nitrogen gas supply unit 11 and the blower 21 have independent air supply lines 14A and 14B and valves 15A and 15B, respectively. Therefore, nitrogen gas or air is supplied to the heating chamber 1 by switching the valves 15A and 15B. Thus, various piping structures are conceivable.

【0018】[0018]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、空
気とチッソガスは同温(常温)であり、且つ比熱もほぼ
等しいので、エアリフロー時には、送風機を駆動して空
気を加熱室へ積極的に供給することにより、チッソリフ
ローと同様の温度プロファイルを得ることができ、した
がってチッソリフローとエアリフローのいずれの場合
、ヒータやファンなどの温度管理手段を同様に制御す
ることにより、同様の温度プロファイルが得られるの
で、温度管理手段の制御を容易に行える。
As described above , according to the present invention , an empty space is provided.
Qi and nitrogen gas are at the same temperature (normal temperature), and the specific heat is almost
Equal because, when the air reflow, by positively supplying the air <br/> air to the heating chamber by driving the blower, can obtain the same temperature profile and nitrogen reflow, thus nitrogen reflow and air reflow In any case
Also be similarly controlled temperature control means such as a heater or a fan
This gives a similar temperature profile
Thus, the temperature control means can be easily controlled.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例に係るリフロー装置の側面図FIG. 1 is a side view of a reflow apparatus according to one embodiment of the present invention.

【図2】本発明の他の実施例に係る切替機構の側面図FIG. 2 is a side view of a switching mechanism according to another embodiment of the present invention.

【図3】従来のリフロー装置の側面図FIG. 3 is a side view of a conventional reflow device.

【図4】従来のリフロー装置の温度プロファイル図FIG. 4 is a temperature profile diagram of a conventional reflow device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 加熱室 2 入口 3 出口 4 コンベア 5 ヒータ(温度管理手段) 6 ファン(温度管理手段) 11 チッソガス供給部 14 送気管路 15 バルブ(切替手段) 21 送風機 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Heating chamber 2 Inlet 3 Outlet 4 Conveyor 5 Heater (Temperature management means) 6 Fan (Temperature management means) 11 Nitrogen gas supply part 14 Air supply line 15 Valve (Switching means) 21 Blower

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平4−13474(JP,A) 特開 平3−133198(JP,A) 実開 平2−87557(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/34 B23K 1/008 B23K 31/02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-4-13474 (JP, A) JP-A-3-133198 (JP, A) JP-A-2-87557 (JP, U) (58) Investigation Field (Int.Cl. 7 , DB name) H05K 3/34 B23K 1/008 B23K 31/02

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】チッソリフローとエアリフローを選択して
行うリフロー装置であって、加熱室と、この加熱室の入
口から出口へ基板を搬送するコンベアと、この加熱室内
に配設されてこのコンベアにより搬送される基板を加熱
するヒータと、基板に熱風を吹付けるファンと、この加
熱室へチッソガスを供給するチッソガス供給部と、この
加熱室に空気を供給する送風機と、このチッソガス供給
部及び送風機から前記加熱室へ通じる送気管路にあっ
て、このチッソガス供給部からのチッソガスの供給と送
風機からの空気の供給を切替える切替え手段とから成
り、エアリフロー時には送風機を駆動して空気を加熱室
へ送るようにしたことを特徴とするリフロー装置。
1. Select between Chisso reflow and air reflow
A heating chamber, a conveyor for transporting the substrate from an inlet to an outlet of the heating chamber, a heater disposed in the heating chamber for heating the substrate transported by the conveyor, and hot air flowing through the substrate. Fan, a nitrogen gas supply unit for supplying nitrogen gas to the heating chamber, a blower for supplying air to the heating chamber, and an air supply line from the nitrogen gas supply unit and the blower to the heating chamber. Switching means for switching between the supply of nitrogen gas from the nitrogen gas supply unit and the supply of air from the blower.
During air reflow, the air blower is driven to
A reflow device characterized in that it is sent to
【請求項2】コンベアにより基板を加熱室内を搬送しな2. A substrate is not transported in a heating chamber by a conveyor.
がら、ヒータにより基板を加熱してチップの半田付けをThen, heat the board with a heater to solder the chips.
行うようにしたリフロー方法であって、チッソリフローA reflow method adapted to perform
時にはチッソガス供給部から加熱室にチッソガスを供給Sometimes nitrogen gas is supplied to the heating chamber from the nitrogen gas supply unit
し、またエアリフロー時には、送風機を駆動して加熱室During air reflow, the blower is driven to
に空気を送るようにしたことを特徴とするリフロー方Reflow method characterized by sending air to
法。Law.
JP19662492A 1992-07-23 1992-07-23 Reflow device and reflow method Expired - Fee Related JP3257049B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19662492A JP3257049B2 (en) 1992-07-23 1992-07-23 Reflow device and reflow method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19662492A JP3257049B2 (en) 1992-07-23 1992-07-23 Reflow device and reflow method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0645745A JPH0645745A (en) 1994-02-18
JP3257049B2 true JP3257049B2 (en) 2002-02-18

Family

ID=16360860

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19662492A Expired - Fee Related JP3257049B2 (en) 1992-07-23 1992-07-23 Reflow device and reflow method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3257049B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6005224A (en) * 1997-10-30 1999-12-21 U.S. Philips Corporation Method of soldering components to at least one carrier

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0645745A (en) 1994-02-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6135344A (en) Reflow soldering method and a reflow soldering furnace
US20090206145A1 (en) Reflow system
WO2000022898A1 (en) Heating device and heating method
KR20050046654A (en) Convection furnace thermal profile enhancement
JP3250082B2 (en) Automatic soldering equipment
JPH06292964A (en) Automatic soldering device
WO2022239713A1 (en) Jet soldering device
JP3257049B2 (en) Reflow device and reflow method
JP3179833B2 (en) Reflow equipment
JP3114278B2 (en) Chisso reflow device
JP3495207B2 (en) Reflow soldering equipment
JP3356445B2 (en) Chisso reflow device
JP3186215B2 (en) Chisso reflow device
JP2847020B2 (en) Reflow soldering equipment
JP2771931B2 (en) Reflow soldering equipment
JPH0645748A (en) Reflow method
JP2006173471A (en) Reflow soldering apparatus
JP3070271B2 (en) Reflow equipment
JPH1117327A (en) Reflow soldering device
TWI871663B (en) Jet welding equipment
JPH07231160A (en) Reflow soldering equipment
JP3191415B2 (en) Chisso reflow device
JPH077260A (en) Automatically soldering apparatus
JP2502887B2 (en) Soldering equipment
JP2023144355A (en) Carrying heating apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071207

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081207

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081207

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091207

Year of fee payment: 8

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees