JP3258484B2 - Gas rate sensor - Google Patents
Gas rate sensorInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、基体に作用する角速度
を検出するガスレートセンサに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas rate sensor for detecting an angular velocity acting on a substrate.
【0002】[0002]
【従来の技術】この種のガスレートセンサとしては、特
公平3−29858号公報に記載のものが知られてい
る。かかるガスレートセンサの基本的作動原理を図4を
参照して説明すると、基体aに角速度が作用した時にガ
ス流路bを流れるガス流が曲がってヒートワイヤ対c,
dのいずれかが冷やされ、この時のヒートワイヤの感温
差に応じて抵抗値が変化し、該変化によってヒートワイ
ヤ対c,dの中点eの電位が変わり、その変化値と該ヒ
ートワイヤ対c,dと抵抗ブリッジ回路を構成する一対
のリファレンス抵抗f,gの中点hの電位との差に基づ
いて角速度に比例した出力信号を得るものである。2. Description of the Related Art A gas rate sensor of this type is known from Japanese Patent Publication No. 3-29858. The basic operation principle of such a gas rate sensor will be described with reference to FIG. 4. When the angular velocity acts on the substrate a, the gas flow flowing through the gas flow path b bends and the heat wire pair c,
d is cooled, the resistance value changes according to the temperature difference of the heat wire at this time, and the change changes the potential of the middle point e of the pair of heat wires c and d. An output signal proportional to the angular velocity is obtained based on the difference between the pair c and d and the potential of the middle point h of the pair of reference resistors f and g forming the resistance bridge circuit.
【0003】ところで、かかるガスレートセンサにおい
ては、一対のリファレンス抵抗f,gが固定抵抗とされ
てガス流路bの外部に配置されている。従って、角速度
の検出に際しては、ヒートワイヤの温度変化による抵抗
値の変化のみが関与する。ところが、このようなヒート
ワイヤの抵抗値の変化のみの関与では、基体aに作用す
る角速度が微小でヒートワイヤの抵抗値が僅かしか変化
しない場合等においては、角速度信号を良好に検出でき
ないものとなり、感度的に劣るものとなっていた。In such a gas rate sensor, a pair of reference resistors f and g are fixed resistors and are disposed outside the gas passage b. Therefore, when detecting the angular velocity, only the change in the resistance value due to the temperature change of the heat wire is involved. However, if only the change in the resistance value of the heat wire is involved, when the angular velocity acting on the base a is small and the resistance value of the heat wire changes only slightly, the angular velocity signal cannot be detected properly. , The sensitivity was inferior.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる不都合
を解消するためになされたものであり、基体に作用する
角速度が小さい場合等でも角速度信号を精度よく検出で
きる高感度のガスレートセンサを提供することを目的と
する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and provides a highly sensitive gas rate sensor capable of accurately detecting an angular velocity signal even when the angular velocity acting on a substrate is small. The purpose is to do.
【0005】さらに、本発明は、半導体基板を用いたI
C製造技術によるマイクロマシニング加工によって形成
された超小型で非常に精密な基体を備えたものにおいて
も、基体に作用する角速度が小さい場合等に角速度信号
を精度よく検出できる高感度のガスレートセンサを提供
することを目的とする。[0005] Further, the present invention relates to an I-type semiconductor device using a semiconductor substrate.
A highly sensitive gas rate sensor that can accurately detect an angular velocity signal even when the angular velocity acting on the substrate is small, even if it has a very small and extremely precise substrate formed by micromachining processing using C manufacturing technology. The purpose is to provide.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、かかる目的を
達成するために、一対のヒートワイヤが設けられたガス
流路と該ヒートワイヤ対に向けて該ガス流路にガスを噴
出するためのノズル孔とを有する基体と、前記ヒートワ
イヤ対と抵抗ブリッジ回路を形成する一対のリファレン
ス抵抗とを備え、前記基体に角速度が作用した時に生じ
るガス流の偏向に基づいて、各ヒートワイヤに生じた抵
抗温度特性の変化の差に応じた信号を前記抵抗ブリッジ
回路を用いて検出し、その検出信号に基づいて角速度に
比例した出力信号を得るようにしたガスレートセンサに
おいて、前記リファレンス抵抗対を、前記ヒートワイヤ
対より下流側のガス流路に設け、前記ヒートワイヤを通
過する際に加熱されたガスが前記リファレンス抵抗に接
触するようにしたことを特徴とするものである。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides a gas flow path provided with a pair of heat wires, and a method for injecting gas into the gas flow path toward the heat wire pair. A base having a nozzle hole, and a pair of reference resistors forming a pair of heat wires and a resistance bridge circuit. Each of the heat wires is formed based on a deflection of a gas flow generated when an angular velocity acts on the base. In the gas rate sensor, a signal corresponding to the difference in the change in the resistance temperature characteristic is detected using the resistance bridge circuit, and an output signal proportional to the angular velocity is obtained based on the detection signal. Provided in a gas flow path on the downstream side of the heat wire pair, so that heated gas comes into contact with the reference resistor when passing through the heat wire. And it is characterized in and.
【0007】この場合、ヒートワイヤに大きな電流を流
してヒートワイヤをより加熱させるために、リファレン
ス抵抗の抵抗値をヒートワイヤのそれより大きくするの
が好ましい。In this case, it is preferable to make the resistance value of the reference resistor larger than that of the heat wire so that a large current flows through the heat wire to heat the heat wire more.
【0008】また、本発明は、前記リファレンス抵抗対
は前記ヒートワイヤ対に近接して設けられていることを
特徴とするものである。Further, in the present invention, the reference resistor pair is provided close to the heat wire pair.
【0009】さらに、本発明は、半導体基板を用いたI
C製造技術によるマイクロマシニング加工により前記基
体を形成したことを特徴とするものである。Further, the present invention relates to an I-type semiconductor device using a semiconductor substrate.
The substrate is formed by micromachining using a C manufacturing technique.
【0010】さらに、本発明は、各ヒートワイヤ及び各
リファレンス抵抗は白金で形成されていることを特徴と
するものである。Further, the present invention is characterized in that each heat wire and each reference resistor are formed of platinum.
【0011】[0011]
【作用】本発明によれば、一対のリファレンス抵抗を、
ヒートワイヤ対より下流側のガス流路に設けて、ヒート
ワイヤを通過したガスがリファレンス抵抗に接触するよ
うにしているので、ヒートワイヤついてはガスの通過に
より冷やされて抵抗値が下がり、一方、リファレンス抵
抗についてはヒートワイヤで加熱されたガスによって温
められて抵抗値が上がる。従って、従来のようにリファ
レンス抵抗を固定抵抗とした場合に比べて、リファレン
ス抵抗値の変化分だけ大きな出力を得ることが可能とな
る。According to the present invention, a pair of reference resistors
Since the gas that has passed through the heat wire is provided in the gas flow path on the downstream side of the heat wire pair so that the gas is in contact with the reference resistor, the heat wire is cooled by the passage of the gas to reduce the resistance value. The resistance is warmed by the gas heated by the heat wire, and the resistance increases. Therefore, it is possible to obtain an output larger by the change in the reference resistance value than in the conventional case where the reference resistance is a fixed resistance.
【0012】また、一対のリファレンス抵抗をヒートワ
イヤ対に近接して設けた場合には、ヒートワイヤで加熱
されたガスでリファレンス抵抗を効率良く温めることが
できるので、リファレンス抵抗値の変化量をより大きく
することが可能となる。Further, when a pair of reference resistors are provided close to the pair of heat wires, the reference resistor can be efficiently heated by the gas heated by the heat wire, so that the amount of change in the reference resistance value can be reduced. It is possible to increase it.
【0013】さらに、各ヒートワイヤ及び各リファレン
ス抵抗を白金で形成した場合には、これらの感温特性が
向上する。Further, when each of the heat wires and each of the reference resistors are formed of platinum, their temperature sensing characteristics are improved.
【0014】[0014]
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1〜図3を参照
して説明する。図1は本発明の実施の一例であるガスレ
ートセンサの基体の分解斜視図、図2は図1のII−I
I線断面図、図3はガスレートセンサの作動を説明する
ための説明的概略図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is an exploded perspective view of a base of a gas rate sensor according to one embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a II-I of FIG.
FIG. 3 is an explanatory schematic view for explaining the operation of the gas rate sensor.
【0015】図1に従って全体構成を説明すると、ガス
レートセンサは、半導体基板を用いたマイクロマシニン
グ加工によって形成された超小型の基体1と、該基体1
のガス流路2に設けられて該基体1に角速度が作用した
時のガス流の偏向に基づいて角速度信号を検出する抵抗
ブリッジ回路3とを備える。The overall structure will be described with reference to FIG. 1. The gas rate sensor comprises an ultra-small base 1 formed by micromachining using a semiconductor substrate, and the base 1
And a resistance bridge circuit 3 that detects an angular velocity signal based on the deflection of the gas flow when the angular velocity acts on the substrate 1.
【0016】基体1は、図1及び図2に示すように、下
側半導体基板4と上側半導体基板5とを接着することに
よって形成され、内部にガス流路2と該ガス流路2にガ
スを噴出するためのノズル孔6を有している。ガス流路
2は、下側半導体基板4に形成された凹部7と上側半導
体基板5に形成された凹部8(図2参照)とを互いに突
き合わせることによって形成される。一方、ノズル孔6
は、下側半導体基板4の凹部7に連通して形成された溝
部9に上側半導体基板5の接合面を合わせることによっ
て形成される。ノズル孔6にはマイクロポンプ(図示せ
ず。)が接続されるようになっており、該マイクロポン
プの駆動によってノズル孔6からガス流路2にガスが噴
出される。As shown in FIGS. 1 and 2, the base 1 is formed by bonding a lower semiconductor substrate 4 and an upper semiconductor substrate 5, and has a gas passage 2 therein and a gas passage 2 provided therein. Has a nozzle hole 6 for jetting out. The gas flow path 2 is formed by abutting a concave portion 7 formed on the lower semiconductor substrate 4 and a concave portion 8 (see FIG. 2) formed on the upper semiconductor substrate 5 with each other. On the other hand, the nozzle hole 6
Is formed by aligning the bonding surface of the upper semiconductor substrate 5 with the groove 9 formed to communicate with the concave portion 7 of the lower semiconductor substrate 4. A micropump (not shown) is connected to the nozzle hole 6, and gas is ejected from the nozzle hole 6 to the gas flow channel 2 by driving the micropump.
【0017】抵抗ブリッジ回路3は、基体1に角速度が
作用した時のガス流の偏向に基づいて角速度信号を検出
するものであり、一対のヒートワイヤ10,11と一対
のリファレンス抵抗12,13とによって構成されるホ
イートストンブリッジ回路からなる。The resistance bridge circuit 3 detects the angular velocity signal based on the deflection of the gas flow when the angular velocity acts on the base 1, and comprises a pair of heat wires 10, 11 and a pair of reference resistors 12, 13. Composed of a Wheatstone bridge circuit.
【0018】ヒートワイヤ対10,11は、ガス流路2
の中心線を挟んで互いに対称配置されており、下側半導
体基板4の凹部7を跨がるように形成されたブリッジ部
14の上面に感熱抵抗材料を蒸着し、その後、エッチン
グすることによってパターン成形される。ここで、本実
施例では感熱抵抗材料として感熱特性に優れた白金を用
い、また、ヒートワイヤ対10,11の合成抵抗を15
0Ωとしている。ヒートワイヤ対10,11の両側に
は、該ヒートワイヤ対10,11につながる電極部15
がヒートワイヤ対10,11と同様にしてパターン成形
されている。The pair of heat wires 10 and 11 are connected to the gas flow path 2.
Are arranged symmetrically with respect to each other with the center line therebetween, and a heat-sensitive resistance material is deposited on the upper surface of the bridge portion 14 formed so as to straddle the recessed portion 7 of the lower semiconductor substrate 4, and thereafter, the pattern is formed by etching. Molded. Here, in this embodiment, platinum having excellent heat-sensitive characteristics is used as the heat-sensitive resistance material, and the combined resistance of the heat wire pairs 10 and 11 is reduced to 15%.
It is set to 0Ω. On both sides of the heat wire pairs 10 and 11, electrode portions 15 connected to the heat wire pairs 10 and 11 are provided.
Are pattern-formed in the same manner as the heat wire pairs 10 and 11.
【0019】リファレンス抵抗対12,13は、ブリッ
ジ部14のヒートワイヤ対10,11より下流側の上面
に各ヒートワイヤ10,11にそれぞれ近接して対称配
置されており、該上面に感熱抵抗材料を蒸着し、その
後、エッチングすることによってヒートワイヤ対10,
11と略同形状にパターン成形されている。ここで、感
熱抵抗材料としては、ヒートワイヤ対10,11と同様
に、感熱特性に優れた白金を用い、また、リファレンス
抵抗対12,13の合成抵抗を750Ωとしてヒートワ
イヤ対10,11のそれより大きくしている。リファレ
ンス抵抗対12,13の両側には、該リファレンス抵抗
対12,13につながる電極部16がパターン成形され
ている。The reference resistor pairs 12 and 13 are symmetrically arranged on the upper surface of the bridge portion 14 on the downstream side of the heat wire pairs 10 and 11 in close proximity to the heat wires 10 and 11, respectively. And then etching to form a heat wire pair 10,
11 is formed into a pattern having substantially the same shape. Here, as the heat-sensitive resistance material, similarly to the heat wire pairs 10 and 11, platinum excellent in heat sensitivity is used, and the combined resistance of the reference resistance pairs 12 and 13 is set to 750Ω and that of the heat wire pairs 10 and 11 is used. Is larger. On both sides of the pair of reference resistors 12 and 13, electrode portions 16 connected to the pair of reference resistors 12 and 13 are formed by patterning.
【0020】次に、かかるガスレートセンサの作動を図
3を参照して説明する。図3は、電極部15及び16に
接続された外部電源(定電流電源)17によってヒート
ワイヤ対10,11及びリファレンス抵抗対12,13
にバイアス電圧が印加されている状態を示す概略図であ
る。Next, the operation of the gas rate sensor will be described with reference to FIG. FIG. 3 shows a pair of heat wires 10 and 11 and a pair of reference resistors 12 and 13 by an external power source (constant current power source) 17 connected to the electrode portions 15 and 16.
FIG. 3 is a schematic diagram showing a state in which a bias voltage is applied to.
【0021】基体1に横方向の角速度が何ら作用しない
時は、マイクロポンプの駆動によりノズル孔6からガス
流路2に噴出されたガスがガス流路2の中心線に沿って
流れてヒートワイヤ対10,11を均等に冷し、基体1
に横方向の角速度が作用した時は、ガス流がガス流路2
の中心線からずれを生じてヒートワイヤ対10,11の
片側(本実施例ではヒートワイヤ11側)に偏向する。When the lateral angular velocity does not act on the substrate 1 at all, the gas ejected from the nozzle hole 6 into the gas flow path 2 by the driving of the micropump flows along the center line of the gas flow path 2 and the heat wire The pairs 10 and 11 are cooled uniformly, and the base 1 is cooled.
When the lateral angular velocity acts on the gas flow path 2
Is deviated from one of the heat wire pairs 10 and 11 (to the heat wire 11 side in this embodiment).
【0022】この時、ヒートワイヤ11はガス流によっ
て冷やされて抵抗値が下がり、該抵抗値の下降に応じて
ヒートワイヤ対10,11の中点Aの電位が変化する。
ヒートワイヤ11をガスが通過する際には、上述したよ
うに、ヒートワイヤ対10,11の合成抵抗(150
Ω)よりリファレンス抵抗対12,13の合成抵抗(7
50Ω)を大きくしているので、ヒートワイヤ11に大
きな電流が流れて該ヒートワイヤ11が高温度に加熱さ
れる。従って、ヒートワイヤ11を通過するガス流は、
該ヒートワイヤ11を冷やす際の熱交換によって高温に
加熱される。高温に加熱されたガス流は下流側へ流れて
リファレンス抵抗13に接触する。At this time, the heat wire 11 is cooled by the gas flow and its resistance value decreases, and the potential at the midpoint A of the heat wire pair 10, 11 changes in accordance with the decrease in the resistance value.
When the gas passes through the heat wire 11, as described above, the combined resistance of the heat wire pair 10, 11 (150
Ω), the combined resistance of the reference resistance pairs 12 and 13 (7
50 Ω), a large current flows through the heat wire 11 and the heat wire 11 is heated to a high temperature. Therefore, the gas flow passing through the heat wire 11 is
The heat wire 11 is heated to a high temperature by heat exchange during cooling. The gas flow heated to a high temperature flows downstream and contacts the reference resistor 13.
【0023】リファレンス抵抗13にガス流が接触する
と、該リファレンス抵抗13はガス流によって温められ
て抵抗値が上がり、該抵抗値の上昇に応じてリファレン
ス抵抗対12,13の中点Bの電位が変化する。この
時、リファレンス抵抗13は、ヒートワイヤ11に近接
して配置されているため、ヒートワイヤ11で高温度に
加熱されたガスによってリファレンス抵抗13が効率良
く温められてリファレンス抵抗13の抵抗値の上昇量が
増大し、中点Bにおける電位の変化を大きなものとする
ことができる。従って、中点A,Bにおける電位の差に
基づいて角速度に比例した出力信号を得るに際しては、
中点A,Bの電位が互いに逆方向に変化するので、従来
のようにリファレンス抵抗を固定抵抗とした場合に比べ
て、リファレンス抵抗13の抵抗値が大きく変化した分
だけ大きな出力信号を得ることができる。この結果、本
実施例のように半導体基板にマイクロマシニング加工を
施して形成された超小型で非常に精密な基体を備えたガ
スレートセンサにおいても、基体に作用する微小な角速
度に対して大きな出力信号を得ることができ、良好な感
度で高精度の検出が可能となり信頼性の高いものとする
ことができる。When the gas flow comes into contact with the reference resistor 13, the reference resistor 13 is heated by the gas flow to increase the resistance value. In response to the increase in the resistance value, the potential of the middle point B of the pair of reference resistors 12, 13 is increased. Change. At this time, since the reference resistor 13 is arranged close to the heat wire 11, the gas heated to a high temperature by the heat wire 11 efficiently heats the reference resistor 13 and increases the resistance value of the reference resistor 13. As a result, the potential change at the midpoint B can be increased. Therefore, when obtaining an output signal proportional to the angular velocity based on the potential difference between the middle points A and B,
Since the potentials at the midpoints A and B change in opposite directions, an output signal that is larger than that of the conventional case where the reference resistance is a fixed resistance is obtained by an amount corresponding to a large change in the resistance value of the reference resistance 13. Can be. As a result, even in a gas rate sensor having an ultra-small and extremely precise substrate formed by subjecting a semiconductor substrate to micromachining as in the present embodiment, a large output can be obtained for a minute angular velocity acting on the substrate. A signal can be obtained, high-precision detection can be performed with good sensitivity, and high reliability can be obtained.
【0024】本発明は、上記実施例に限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変
更可能である。例えば、上記実施例では、半導体基板を
用いたマイクロマシニング加工によって形成された超小
型の基体1を備えたガスレートセンサを例に採ったが、
必ずしもこれに限定されるものではなく、アルミニウム
等の金属に切削加工を施して形成された基体を備えた一
般のガスレートセンサに本発明を適用することも勿論可
能である。The present invention is not limited to the above embodiment, but can be appropriately modified without departing from the gist of the present invention. For example, in the above embodiment, a gas rate sensor provided with an ultra-small base 1 formed by micromachining using a semiconductor substrate is taken as an example.
The present invention is not necessarily limited to this, and the present invention can of course be applied to a general gas rate sensor having a base formed by cutting a metal such as aluminum.
【0025】[0025]
【発明の効果】上記の説明から明らかなように、本発明
によれば、従来のようにリファレンス抵抗を固定抵抗と
した場合に比べて、リファレンス抵抗値の変化分だけ大
きな出力を得ることができるので、基体に作用する角速
度が小さい場合等でも角速度信号を精度よく検出できる
高感度のガスレートセンサを提供することができる。As is apparent from the above description, according to the present invention, it is possible to obtain an output larger by the change in the reference resistance value than in the conventional case where the reference resistance is a fixed resistance. Therefore, it is possible to provide a highly sensitive gas rate sensor that can accurately detect an angular velocity signal even when the angular velocity acting on the base is small.
【0026】また、一対のリファレンス抵抗をヒートワ
イヤ対に近接して設けた場合には、リファレンス抵抗値
の変化量がさらに大きくなるので、より高感度のガスレ
ートセンサとすることができる。When a pair of reference resistors are provided close to the pair of heat wires, the amount of change in the reference resistance value is further increased, so that a gas rate sensor with higher sensitivity can be obtained.
【0027】さらに、半導体基板を用いたIC製造技術
によるマイクロマシニング加工により基体を形成した場
合には、超小型で非常に精密な基体を備えたガスレート
センサにおいても、基体に作用する角速度が小さい場合
等に角速度信号を高感度で精度よく検出することができ
る。Further, when the base is formed by micromachining by an IC manufacturing technique using a semiconductor substrate, even in a gas rate sensor having a very small and very precise base, the angular velocity acting on the base is small. In such cases, the angular velocity signal can be detected with high sensitivity and high accuracy.
【0028】さらに、各ヒートワイヤ及び各リファレン
ス抵抗を白金で形成した場合には、これらの感温特性を
優れたものとすることができるので、角速度を高精度で
検出することができ、より信頼性を高めることができ
る。Further, when each heat wire and each reference resistor are formed of platinum, their temperature-sensitive characteristics can be made excellent, so that the angular velocity can be detected with high accuracy, and more reliable. Can be enhanced.
【図1】本発明の実施の一例であるガスレートセンサの
基体の分解斜視図である。FIG. 1 is an exploded perspective view of a base of a gas rate sensor according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1のII−II線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG.
【図3】ガスレートセンサの作動を説明するための説明
的概略図である。FIG. 3 is an explanatory schematic diagram for explaining the operation of a gas rate sensor.
【図4】従来のガスレートセンサの基本的作動原理を説
明するための説明的概略図である。FIG. 4 is an explanatory schematic diagram for explaining a basic operation principle of a conventional gas rate sensor.
1…基体、2…ガス流路、3…抵抗ブリッジ回路、6…
ノズル孔、10,11…ヒートワイヤ対、12,13…
リファレンス抵抗対、DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base, 2 ... Gas flow path, 3 ... Resistance bridge circuit, 6 ...
Nozzle holes, 10, 11, ... heat wire pairs, 12, 13, ...
Reference resistor pair,
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−240573(JP,A) 特開 平3−48164(JP,A) 特開 平5−2026(JP,A) 実開 昭63−101865(JP,U) 実開 平5−4023(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01P 9/00 G01C 19/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (56) References JP-A-2-240573 (JP, A) JP-A-3-48164 (JP, A) JP-A-5-2026 (JP, A) 101865 (JP, U) JP 5-4023 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G01P 9/00 G01C 19/00
Claims (4)
と該ヒートワイヤ対に向けて該ガス流路にガスを噴出す
るためのノズル孔とを有する基体と、 前記ヒートワイヤ対と抵抗ブリッジ回路を形成する一対
のリファレンス抵抗とを備え、 前記基体に角速度が作用した時に生じるガス流の偏向に
基づいて、各ヒートワイヤに生じた抵抗温度特性の変化
の差に応じた信号を前記抵抗ブリッジ回路を用いて検出
し、その検出信号に基づいて角速度に比例した出力信号
を得るようにしたガスレートセンサにおいて、 前記リファレンス抵抗対を、前記ヒートワイヤ対より下
流側のガス流路に設け、前記ヒートワイヤを通過する際
に加熱されたガスが前記リファレンス抵抗に接触するよ
うにしたことを特徴とするガスレートセンサ。A substrate having a gas flow path provided with a pair of heat wires and a nozzle hole for ejecting gas into the gas flow path toward the heat wire pair; a heat wire pair and a resistance bridge; A pair of reference resistors forming a circuit, and based on a deflection of a gas flow generated when an angular velocity acts on the base, a signal corresponding to a difference in a change in resistance temperature characteristic generated in each heat wire is transmitted to the resistance bridge. In the gas rate sensor, which is detected using a circuit and obtains an output signal proportional to the angular velocity based on the detection signal, the reference resistance pair is provided in a gas flow path downstream of the heat wire pair. A gas rate sensor characterized in that heated gas passes through the heat wire and comes into contact with the reference resistor.
ヤ対に近接して設けられていることを特徴とする請求項
1記載のガスレートセンサ。2. The gas rate sensor according to claim 1, wherein said reference resistor pair is provided close to said heat wire pair.
イクロマシニング加工により前記基体を形成したことを
特徴とする請求項1又は2記載ガスレートセンサ。3. The gas rate sensor according to claim 1, wherein the base is formed by micromachining using an IC manufacturing technique using a semiconductor substrate.
白金で形成されていることを特徴とする請求項1〜3の
いずれかに記載のガスレートセンサ。4. The gas rate sensor according to claim 1, wherein each heat wire and each reference resistor are made of platinum.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2077294A JP3258484B2 (en) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | Gas rate sensor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2077294A JP3258484B2 (en) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | Gas rate sensor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07229916A JPH07229916A (en) | 1995-08-29 |
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