JP3263509B2 - 液晶表示器の製造方法 - Google Patents
液晶表示器の製造方法Info
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はコレステリック液晶の波
長選択性を利用した液晶表示器の製造方法に関する。
長選択性を利用した液晶表示器の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より電界効果型の液晶表示器は消費
電力が小さく薄型の表示器が構成できるという長所をも
っていた。このような表示器の代表的なものは特公昭５
１−１３６６６号公報に示されるような９０度捩れのツ
イストネマティック液晶層を直交ニコルで挾持するもの
や、特開昭６０−１０７０２０号公報に示されるような
大きな捩れ角のカイラルネマティック液晶層を偏光軸選
択で表示に利用するものがある。しかしこれらは光の利
用効率が低くコントラストが低い。
電力が小さく薄型の表示器が構成できるという長所をも
っていた。このような表示器の代表的なものは特公昭５
１−１３６６６号公報に示されるような９０度捩れのツ
イストネマティック液晶層を直交ニコルで挾持するもの
や、特開昭６０−１０７０２０号公報に示されるような
大きな捩れ角のカイラルネマティック液晶層を偏光軸選
択で表示に利用するものがある。しかしこれらは光の利
用効率が低くコントラストが低い。
【０００３】これに対してカイラルネマティック液晶に
染料を添加する、いわゆるゲストホスト型若しくはホワ
イトテーラー型の液晶表示器がある。これは染料を液晶
に混入し、電気的には液晶が、光学的には染料がその役
割を分担するものである。さらに液晶の温度依存性によ
る着色現象を表示に利用する短ピッチのコレステリック
液晶表示器の提案もあり、コレステリック液晶のピッチ
の大きさが透過光の波長依存性をもつことを利用して表
示するものである。しかし染料や安定して色制御ができ
る液晶が未開発で実用になっていない。
染料を添加する、いわゆるゲストホスト型若しくはホワ
イトテーラー型の液晶表示器がある。これは染料を液晶
に混入し、電気的には液晶が、光学的には染料がその役
割を分担するものである。さらに液晶の温度依存性によ
る着色現象を表示に利用する短ピッチのコレステリック
液晶表示器の提案もあり、コレステリック液晶のピッチ
の大きさが透過光の波長依存性をもつことを利用して表
示するものである。しかし染料や安定して色制御ができ
る液晶が未開発で実用になっていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで我々は先に特願
平４−３２０７２０号において、表示中は電界を印加し
ない短ピッチのコレステリック液晶の特定波長の円偏光
反射性を利用した液晶表示器を提案した。これはコレス
テリック液晶を背景にし、その前面に複屈折性を持つ電
界効果型液晶層を配置するものである。然し乍らこのよ
うな表示に適したコレステリック液晶層を有する液晶表
示器を量産性よく製造する方法が確立できていなかっ
た。
平４−３２０７２０号において、表示中は電界を印加し
ない短ピッチのコレステリック液晶の特定波長の円偏光
反射性を利用した液晶表示器を提案した。これはコレス
テリック液晶を背景にし、その前面に複屈折性を持つ電
界効果型液晶層を配置するものである。然し乍らこのよ
うな表示に適したコレステリック液晶層を有する液晶表
示器を量産性よく製造する方法が確立できていなかっ
た。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明はこの様な点に鑑
みてなされたもので、基台に配向処理を施して高分子液
晶を塗布しその表面に保護膜を設け当該高分子液晶を硬
化させる工程と、その保護膜を外して硬化した高分子液
晶層の上方に電極膜と配向膜を積層して基板を構成する
工程と、その基板と少なくとも電極と配向膜を有する他
の基板を重ね合わせてその基板間隔に液晶を充填する工
程とを具備したものである。
みてなされたもので、基台に配向処理を施して高分子液
晶を塗布しその表面に保護膜を設け当該高分子液晶を硬
化させる工程と、その保護膜を外して硬化した高分子液
晶層の上方に電極膜と配向膜を積層して基板を構成する
工程と、その基板と少なくとも電極と配向膜を有する他
の基板を重ね合わせてその基板間隔に液晶を充填する工
程とを具備したものである。
【０００６】
【作用】これにより、反射液晶層は基台の配向処理と保
護膜により効率よく光学特性が調整され、保護膜は実際
の表示には影響を与えない。
護膜により効率よく光学特性が調整され、保護膜は実際
の表示には影響を与えない。
【０００７】
【実施例】まず本発明にかかる液晶表示器の構造と表示
原理について説明する。
原理について説明する。
【０００８】図１は本発明における液晶表示器の断面図
である。図に於て、１は板ガラス等からなる基台１１の
上に光学層を積層したものである。２は基台１１の表面
に設けられた高分子液晶層を硬化してなる反射液晶層
で、選択された波長の円偏光した光を反射するものであ
り、コレステリック液晶を主成分とし、必要に応じて下
地層１２の上に設けられる。この下地層１２は光吸収膜
を兼ねていればより好ましい。また反射液晶層２の表面
に被覆層１３を設けておいてもよい。３はその反射液晶
層２の上方に必要に応じて設けられた位相層で、ネマテ
ィック液晶等からなる。４はその位相層３の上方に設け
られた電極膜で、上基板の電極とマトリクスを組むため
にストライプ状の透明電極層（ＩＴＯ）が平行して複数
本設けられている。５はその電極膜４の上方に設けられ
た液晶分子の配向膜である。
である。図に於て、１は板ガラス等からなる基台１１の
上に光学層を積層したものである。２は基台１１の表面
に設けられた高分子液晶層を硬化してなる反射液晶層
で、選択された波長の円偏光した光を反射するものであ
り、コレステリック液晶を主成分とし、必要に応じて下
地層１２の上に設けられる。この下地層１２は光吸収膜
を兼ねていればより好ましい。また反射液晶層２の表面
に被覆層１３を設けておいてもよい。３はその反射液晶
層２の上方に必要に応じて設けられた位相層で、ネマテ
ィック液晶等からなる。４はその位相層３の上方に設け
られた電極膜で、上基板の電極とマトリクスを組むため
にストライプ状の透明電極層（ＩＴＯ）が平行して複数
本設けられている。５はその電極膜４の上方に設けられ
た液晶分子の配向膜である。
【０００９】また、６は電極膜６４と配向膜６５とを有
する基板で、液晶層７を基板１、６の間に充填保持して
いる。液晶層７は、配向膜５、６５でその液晶分子が配
向され、電界によって液晶分子の配列が制御でき、それ
に伴って光学特性が変化するもので、例えば９０度捩れ
配向のネマティック液晶層（ＴＮ）や、２７０度等の大
きな捩れ配向をもつネマティック液晶層（ＳＴＮ）など
の電界効果型液晶、あるいは強誘電液晶層が利用でき
る。そして８は、その液晶層７の反射液晶層２とは反対
側に位置する基板６の外側に配置された偏光板であり、
検光子の役目をするので２色性染料等を用いれば不要と
なる。
する基板で、液晶層７を基板１、６の間に充填保持して
いる。液晶層７は、配向膜５、６５でその液晶分子が配
向され、電界によって液晶分子の配列が制御でき、それ
に伴って光学特性が変化するもので、例えば９０度捩れ
配向のネマティック液晶層（ＴＮ）や、２７０度等の大
きな捩れ配向をもつネマティック液晶層（ＳＴＮ）など
の電界効果型液晶、あるいは強誘電液晶層が利用でき
る。そして８は、その液晶層７の反射液晶層２とは反対
側に位置する基板６の外側に配置された偏光板であり、
検光子の役目をするので２色性染料等を用いれば不要と
なる。
【００１０】このような構成において、原理的には、反
射液晶層２は特定な波長に対する右旋（または左旋）円
偏光発生手段、位相層３はその光に対する１／４波長
板、液晶層７はその波長に対する１／２波長板、偏光板
は光の振動方向選択板と考えることができる。反射液晶
層２で円偏光した光、例えば右にπ／２進む光は、位相
層３でπ進む直線偏光の光に変換され、液晶層７により
２π進む光となってこれが偏光板８の偏光軸と一致して
いれば反射液晶層で選択された特定の色の光が観察され
ることになる。それに対して液晶層７に電界が印加され
１／２波長板の役目をしなくなれば、位相層３の出力で
あるπ進んだ光はそのまま液晶層７を透過し、その状態
では位相に変化がないので偏光板８の偏光軸と直交する
ため光が透過せず、黒色が観察されることとなる。従っ
て反射液晶層２として、選択する波長が各々赤、緑、青
に対応していれば、カラー表示が行えることとなり、位
相層３や液晶層７では光の進行速度に影響を与えるもの
の光吸収は殆どないので、明るくコントラストの高い表
示を行うことができる。なお、液晶層のレターデーショ
ンを透過・遮光するにふさわしい値に調整しておけば、
位相層３を用いなくてもよい。
射液晶層２は特定な波長に対する右旋（または左旋）円
偏光発生手段、位相層３はその光に対する１／４波長
板、液晶層７はその波長に対する１／２波長板、偏光板
は光の振動方向選択板と考えることができる。反射液晶
層２で円偏光した光、例えば右にπ／２進む光は、位相
層３でπ進む直線偏光の光に変換され、液晶層７により
２π進む光となってこれが偏光板８の偏光軸と一致して
いれば反射液晶層で選択された特定の色の光が観察され
ることになる。それに対して液晶層７に電界が印加され
１／２波長板の役目をしなくなれば、位相層３の出力で
あるπ進んだ光はそのまま液晶層７を透過し、その状態
では位相に変化がないので偏光板８の偏光軸と直交する
ため光が透過せず、黒色が観察されることとなる。従っ
て反射液晶層２として、選択する波長が各々赤、緑、青
に対応していれば、カラー表示が行えることとなり、位
相層３や液晶層７では光の進行速度に影響を与えるもの
の光吸収は殆どないので、明るくコントラストの高い表
示を行うことができる。なお、液晶層のレターデーショ
ンを透過・遮光するにふさわしい値に調整しておけば、
位相層３を用いなくてもよい。
【００１１】次いで本発明について、具体的に説明す
る。まず基台１１は板ガラス等を用いることとし、必要
に応じて光吸収性の被膜を設けておく。この基台１１に
コレステリック液晶層からなる反射液晶層２を形成する
前に配向処理を施すが、これはこのコレステリック液晶
には表示中に電界を印加しないといってもコレステリッ
クの螺旋方向が光軸に沿っていなければならないので、
配向処理することが好ましいからである。配向処理に当
っては、基台となっている板ガラス表面をこするより
も、ポリイミド樹脂等からなる厚さ１０ｎｍ〜２００μ
ｍの下地層１２を設け、これを綿布などでラビングする
のがよい。ついで配向処理の施された基台１１の下地層
１２に高分子液晶を塗布する。高分子液晶は主成分とし
てコレステリック液晶を用い、そのコレステリック液晶
は、例えば特開昭５７−１６５４８０号公報や特開昭６
１−１３７１３３号公報に示される様なシロキサンリン
グに、他のリングとの結合を行う例えばアクリル基とコ
レステリック液晶が交互に周囲に結合されたものが利用
できる。このようなコレステリック高分子液晶に必要に
応じて広い温度範囲で液晶相を呈する例えばネマティッ
ク液晶を添加し、さらにフェニルシクロヘキサン、トル
エン、ｍーキシレンなどの溶媒に溶解し、若しくは溶解
しないで８０〜１２０度Ｃに加温し、下地層１２の上に
塗布する。
る。まず基台１１は板ガラス等を用いることとし、必要
に応じて光吸収性の被膜を設けておく。この基台１１に
コレステリック液晶層からなる反射液晶層２を形成する
前に配向処理を施すが、これはこのコレステリック液晶
には表示中に電界を印加しないといってもコレステリッ
クの螺旋方向が光軸に沿っていなければならないので、
配向処理することが好ましいからである。配向処理に当
っては、基台となっている板ガラス表面をこするより
も、ポリイミド樹脂等からなる厚さ１０ｎｍ〜２００μ
ｍの下地層１２を設け、これを綿布などでラビングする
のがよい。ついで配向処理の施された基台１１の下地層
１２に高分子液晶を塗布する。高分子液晶は主成分とし
てコレステリック液晶を用い、そのコレステリック液晶
は、例えば特開昭５７−１６５４８０号公報や特開昭６
１−１３７１３３号公報に示される様なシロキサンリン
グに、他のリングとの結合を行う例えばアクリル基とコ
レステリック液晶が交互に周囲に結合されたものが利用
できる。このようなコレステリック高分子液晶に必要に
応じて広い温度範囲で液晶相を呈する例えばネマティッ
ク液晶を添加し、さらにフェニルシクロヘキサン、トル
エン、ｍーキシレンなどの溶媒に溶解し、若しくは溶解
しないで８０〜１２０度Ｃに加温し、下地層１２の上に
塗布する。
【００１２】このままの状態で表面を保護膜で被っても
よいが、好ましくは乾燥させてから保護膜で被う。乾燥
の意味は例えば塗布に用いた溶媒を除去する程度でよ
い。そして配向を安定させるには、保護膜で覆ってから
６０〜１５０度Ｃの熱処理を行い、その後若しくは加熱
とともに架橋させる。更に好ましくは保護膜を設けたそ
の上から配向処理を施したのち高分子液晶を硬化させる
か、若しくは配向処理の施された保護膜を用いる。保護
膜は高分子液晶の硬化に当って大気と遮断し、あるいは
高分子液晶に配向性を持たせるものである。このような
保護膜としては、例えば厚さ０．０１〜５ｍｍのポリビ
ニルアルコールとかポリエチレンテレフタレート等が用
いられ、このような保護膜材を塗布もしくはラミネート
する。そして８０〜１２０度Ｃの熱処理をするか、また
は所定の温度環境化で高分子液晶に紫外線を当ててＵＶ
硬化させる。コレステリック液晶層はその固有ピッチに
より選択された波長の特定の方向の光を反射するので、
この架橋硬化によりその固有ピッチが固定され、選択さ
れた波長の光に対する反射液晶層２が形成される。この
ような反射液晶層２は厚みが３〜３００μｍとなる。
よいが、好ましくは乾燥させてから保護膜で被う。乾燥
の意味は例えば塗布に用いた溶媒を除去する程度でよ
い。そして配向を安定させるには、保護膜で覆ってから
６０〜１５０度Ｃの熱処理を行い、その後若しくは加熱
とともに架橋させる。更に好ましくは保護膜を設けたそ
の上から配向処理を施したのち高分子液晶を硬化させる
か、若しくは配向処理の施された保護膜を用いる。保護
膜は高分子液晶の硬化に当って大気と遮断し、あるいは
高分子液晶に配向性を持たせるものである。このような
保護膜としては、例えば厚さ０．０１〜５ｍｍのポリビ
ニルアルコールとかポリエチレンテレフタレート等が用
いられ、このような保護膜材を塗布もしくはラミネート
する。そして８０〜１２０度Ｃの熱処理をするか、また
は所定の温度環境化で高分子液晶に紫外線を当ててＵＶ
硬化させる。コレステリック液晶層はその固有ピッチに
より選択された波長の特定の方向の光を反射するので、
この架橋硬化によりその固有ピッチが固定され、選択さ
れた波長の光に対する反射液晶層２が形成される。この
ような反射液晶層２は厚みが３〜３００μｍとなる。
【００１３】ついでその反射液晶層２の上方に少なくと
も位相層と電極膜と配向膜とを積層して基板を構成す
る。この時、反射液晶層２を被っていた保護膜は溶剤、
水洗、エアーナイフ等で除去する。保護膜を除去するの
は、ラビングされたり加熱処理されたりした被膜は光学
的に不安定であり、他方反射液晶層２の上には光学特性
が明確な層を積層する必要があること、更に保護膜とし
て高分子液晶の嫌気性、配向性の十分なものを利用する
ためにはその目的のみに使用する方が安定な反射液晶層
２が得られることによる。形成された反射液晶層２の表
面を保護したり平坦化したりする必要があれば別途被覆
層１３を設ければよい。
も位相層と電極膜と配向膜とを積層して基板を構成す
る。この時、反射液晶層２を被っていた保護膜は溶剤、
水洗、エアーナイフ等で除去する。保護膜を除去するの
は、ラビングされたり加熱処理されたりした被膜は光学
的に不安定であり、他方反射液晶層２の上には光学特性
が明確な層を積層する必要があること、更に保護膜とし
て高分子液晶の嫌気性、配向性の十分なものを利用する
ためにはその目的のみに使用する方が安定な反射液晶層
２が得られることによる。形成された反射液晶層２の表
面を保護したり平坦化したりする必要があれば別途被覆
層１３を設ければよい。
【００１４】反射液晶層２の上方に設ける位相層３は、
例えばポリシロキサンを主鎖とし側鎖にネマティック液
晶を有し、適宜紫外線によって架橋する活性基を有した
ネマティック高分子液晶を溶媒に希釈し、反射液晶層２
若しくはその上の被覆層１３の上に塗布し、紫外線を照
射して硬化させる。この様な位相層３は高分子樹脂とし
ての性格をもち、例えばネマティック液晶としてのΔｎ
が０．１５であれば厚みは１μｍでよい。また電極膜４
や配向膜５はＩＴＯ膜や、ＴＮ用の配向剤、ＳＴＮ用の
配向剤、若しくは強誘電液晶用の配向剤等が用いられ
る。他方の基板６における配向膜６５や電極膜６４も同
様である。そしてこのようにして構成された基板１と他
の基板６を重ね合わせて、シール材９で周辺をシールし
て液晶セルを構成し、滴下法、真空注入法などでその基
板１、６の間隔に液晶を充填し、注入口を封止する。液
晶層７は上述したように強誘電液晶や、液晶分子が螺旋
構造を取るＴＮ、ＳＴＮなどを用いることができる。
例えばポリシロキサンを主鎖とし側鎖にネマティック液
晶を有し、適宜紫外線によって架橋する活性基を有した
ネマティック高分子液晶を溶媒に希釈し、反射液晶層２
若しくはその上の被覆層１３の上に塗布し、紫外線を照
射して硬化させる。この様な位相層３は高分子樹脂とし
ての性格をもち、例えばネマティック液晶としてのΔｎ
が０．１５であれば厚みは１μｍでよい。また電極膜４
や配向膜５はＩＴＯ膜や、ＴＮ用の配向剤、ＳＴＮ用の
配向剤、若しくは強誘電液晶用の配向剤等が用いられ
る。他方の基板６における配向膜６５や電極膜６４も同
様である。そしてこのようにして構成された基板１と他
の基板６を重ね合わせて、シール材９で周辺をシールし
て液晶セルを構成し、滴下法、真空注入法などでその基
板１、６の間隔に液晶を充填し、注入口を封止する。液
晶層７は上述したように強誘電液晶や、液晶分子が螺旋
構造を取るＴＮ、ＳＴＮなどを用いることができる。
【００１５】上述した保護膜に配向特性をもたらす方法
としては、ラビングに限るものではない。例えば保護層
として、高分子液晶に全く溶解しないか、著しく溶解性
の低い溶媒に溶解するＰＶＡのようなポリマーを用い
て、スピンコートまたはロールコートなどの方法により
厚さ１〜１００μｍに形成する。その後基台１１を３０
〜９０度Ｃに加温し、保護膜１３上から剪断力を加え
る。せんだん力は、レーヨン布などのラビングパフ剤を
用いて、基台１１の加温状態に応じたラビング強度でラ
ビングする。ラビング強度は温度が高いほど弱い力でよ
い。このような剪断力を与え終わったら冷却し、配向を
形成することができる。
としては、ラビングに限るものではない。例えば保護層
として、高分子液晶に全く溶解しないか、著しく溶解性
の低い溶媒に溶解するＰＶＡのようなポリマーを用い
て、スピンコートまたはロールコートなどの方法により
厚さ１〜１００μｍに形成する。その後基台１１を３０
〜９０度Ｃに加温し、保護膜１３上から剪断力を加え
る。せんだん力は、レーヨン布などのラビングパフ剤を
用いて、基台１１の加温状態に応じたラビング強度でラ
ビングする。ラビング強度は温度が高いほど弱い力でよ
い。このような剪断力を与え終わったら冷却し、配向を
形成することができる。
【００１６】上述した説明において、反射液晶層２の厚
みを一定に保つことが望ましいことがある。このような
場合には反射液晶層の形成に当って間隔子となるスペー
サ剤を混入しておけばよい。保護膜１３を用いるときに
は特に好ましい。例えば上述したポリイミド系の配向膜
兼保護膜を用いる場合を例に取ると、高分子液晶層を塗
布形成した後所定寸法のスペーサを散布し、基台１１を
６０〜１５０度Ｃに加熱すると高分子液晶の粘度が下が
ってスペーサと親和性が増し高分子液晶層内にスペーサ
が浸漬する。その後前述の保護膜を被着させ、保護膜上
から基台を０．０５〜３．０Ｋｇ／ｃｍ2程度の圧力で
６０〜１５０度Ｃに加温し、配向を形成した後、冷却す
ればよい。
みを一定に保つことが望ましいことがある。このような
場合には反射液晶層の形成に当って間隔子となるスペー
サ剤を混入しておけばよい。保護膜１３を用いるときに
は特に好ましい。例えば上述したポリイミド系の配向膜
兼保護膜を用いる場合を例に取ると、高分子液晶層を塗
布形成した後所定寸法のスペーサを散布し、基台１１を
６０〜１５０度Ｃに加熱すると高分子液晶の粘度が下が
ってスペーサと親和性が増し高分子液晶層内にスペーサ
が浸漬する。その後前述の保護膜を被着させ、保護膜上
から基台を０．０５〜３．０Ｋｇ／ｃｍ2程度の圧力で
６０〜１５０度Ｃに加温し、配向を形成した後、冷却す
ればよい。
【００１７】
【発明の効果】以上の如く、本発明にあっては特定の波
長域の光に着目してその波長域の光を有効に利用し、し
かも各光学層は薄く互いに近接配置されるように、基板
の上に順次光学層を配置し、しかもその光学層の光学特
性を調整しながら積層することができるので、製造し易
く、光の利用率が高いばかりか表示品位も高い液晶表示
器が提供できた。
長域の光に着目してその波長域の光を有効に利用し、し
かも各光学層は薄く互いに近接配置されるように、基板
の上に順次光学層を配置し、しかもその光学層の光学特
性を調整しながら積層することができるので、製造し易
く、光の利用率が高いばかりか表示品位も高い液晶表示
器が提供できた。
【図１】本発明の実施例における液晶表示器の断面図で
ある。
ある。
１ 基板 ２ 反射液晶層 ３ 位相層 ４ 電極膜 ５ 配向膜 ６ 基板 ７ 液晶層 ８ 偏光板 ９ シール材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 須崎 剛 鳥取県鳥取市南吉方３丁目201番地 鳥 取三洋電機株式会社内 (72)発明者 鈴木 淑雄 鳥取県鳥取市南吉方３丁目201番地 鳥 取三洋電機株式会社内 (56)参考文献 特開 昭50−117394（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−7949（ＪＰ，Ａ) 特開 昭51−40947（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−9326（ＪＰ，Ａ) 特開 平４−12322（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−291631（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−274022（ＪＰ，Ａ) 実開 昭56−175816（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1335 520 G02F 1/13 101 G02F 1/13363
Claims (1)
- 【請求項１】 基台に配向処理を施して高分子液晶を塗
布しその表面に保護膜を設け当該高分子液晶を硬化させ
て反射液晶層を形成する工程と、その保護膜を外して硬
化した反射液晶層の上方に電極膜と配向膜を積層して基
板を構成する工程と、その基板と少なくとも電極と配向
膜を有する他の基板を重ね合わせてその基板間隔に液晶
を充填する工程とを具備したことを特徴とする液晶表示
器の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33231393A JP3263509B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 液晶表示器の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33231393A JP3263509B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 液晶表示器の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07191314A JPH07191314A (ja) | 1995-07-28 |
| JP3263509B2 true JP3263509B2 (ja) | 2002-03-04 |
Family
ID=18253570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33231393A Expired - Lifetime JP3263509B2 (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 液晶表示器の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3263509B2 (ja) |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP33231393A patent/JP3263509B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07191314A (ja) | 1995-07-28 |
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