JP3266754B2

JP3266754B2 - 書き込み可能な光情報記録媒体とその製造方法

Info

Publication number: JP3266754B2
Application number: JP09026895A
Authority: JP
Inventors: 徹藤井; 吉和高岸; 恵美子浜田
Original assignee: Taiyo Yuden Co Ltd
Current assignee: Taiyo Yuden Co Ltd
Priority date: 1995-03-23
Filing date: 1995-03-23
Publication date: 2002-03-18
Anticipated expiration: 2017-03-18
Also published as: JPH08263877A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、有機色素を含有し、
情報を重畳させた記録用レーザ光を照射すると背景部分
との間に光学的な位相差を有するピットが形成される光
吸収層を備えた書き込み可能な光情報記録媒体とその製
造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】書き込み可能な光情報記録媒体として
は、種々のものが提案されている。本件特許出願人は、
従来の書き込み可能な光情報記録媒体を改良し、ＲＯＭ
型光情報記録媒体であるコンパクトディスク（ＣＤ）の
規格に適合させることができる書き込み可能な光情報記
録媒体として、特開平２−８７３４２号公報に開示され
ているものを提案している。

【０００３】この書き込み可能な光情報記録媒体は、光
吸収層と光反射層との間に再生用レーザ光の波長に対し
て透明（複素屈折率の虚数部ｋ_ｅｈｓ＝０）なエンハ
ンス(enhance) 層を所定の厚さで設けたことを特徴とす
るものである。

【０００４】そして、この書き込み可能な光情報記録媒
体は光吸収層と光反射層との間にこのようなエンハンス
層を設けたので、光反射層に貴金属のような反射率の特
に良い材料でなく、アルミニウム等のような反射率のや
や劣る卑金属材料を用いても、再生用レーザ光の反射率
が７０％以上と、ＣＤ規格に適合した反射率を得ること
ができる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、この書き込み
可能な光情報記録媒体は、光吸収層と光反射層との間に
エンハンス層を入れたことによって、記録時における光
吸収層の変形を抑制していた光反射層が光吸収層から離
れ、光吸収層の変形の自由度が上がり、わずかな条件の
違いで光吸収層の変形が過剰に進み、また、エンハンス
層自体が光吸収層の変形に伴い変形してしまい、光学的
に不均一なピットが形成され、ジッタが大きくなり、再
生安定性が悪化するという問題があった。

【０００６】この発明は、上記の問題を解決するために
なされたもので、できるだけジッタが小さく、再生安定
性の良好な書き込み可能な光情報記録媒体とその製造方
法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】この発明に係る書き込み
可能な光情報記録媒体は、有機色素を含有する光吸収層
の一方の面側に透光性基板を有し、該光吸収層の他方の
面側に光反射層を有し、該光吸収層と該光反射層との間
に再生用レーザ光の波長に対して透明なエンハンス層を
有し、該エンハンス層がオルガノポリシロキサンを主成
分とする物質で形成され、該オルガノポリシロキサンの
分子構造中にコロイダルシリカが３〜５０モル％の割合
で含まれ、該エンハンス層の硬度が鉛筆硬度でＢ〜２Ｈ
の範囲にあるものである。

【０００８】また、この発明に係る書き込み可能な光情
報記録媒体は、有機色素を含有する液を透光性基板の一
方の面に塗布して光吸収層を形成させる工程と、オルガ
ノポリシロキサンを主成分とし、３〜５０モル％のコロ
イダルシリカを含有する液を該光吸収層の上に被覆し、
架橋硬化させて鉛筆硬度Ｂ〜２Ｈのエンハンス層を形成
させる工程と、金属膜からなる光反射層を該エンハンス
層の上に形成させる工程とを備えた書き込み可能な光情
報記録媒体の製造方法により製造することができる。

【０００９】これら光情報記録媒体及びその製造方法に
おいて、オルガノポリシロキサンは、その分子構造中に
グリシドキシル基（エポキシ基）、メタクリロイル基又
はアミノ基を有しているものが好ましい。分子構造中に
これらグリシドキシル基等を有するオルガノポリシロキ
サンは、グリシドキシル基、メタクリロイル基又はアミ
ノ基を有するシラン化合物をオルガノポリシロキサンを
主成分とする液に含有させて一緒に架橋させれば得るこ
とができる。

【００１０】また、グリシドキシル基、メタクリロイル
基又はアミノ基を有するシラン化合物としては、例えば
γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ
−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができ
るが、これら以外のシラン化合物であっても上記感応基
を有するものであれば使用することができる。

【００１１】また、光反射層の材料としては、Ａｌ又は
Ａｌ合金を使用することができるが、従来のようにＡ
ｕ，Ａｇ，Ｃｕやそれらを含む合金等を用いてもよいこ
とはもちろんである。

【００１２】

【作用】この発明に係る書き込み可能な光情報記録媒体
においては、エンハンス層をオルガノポリシロキサンを
主成分とする物質で形成し、該オルガノポリシロキサン
の分子構造中にコロイダルシリカを３〜５０モル％の割
合で含ませ、該エンハンス層の硬度を鉛筆硬度でＢ〜２
Ｈの範囲とし、エンハンス層の硬度を高めたので、記録
時における光吸収層及び／又はエンハンス層の過剰な変
形がエンハンス層によって抑制され、ピットが所望サイ
ズになる。

【００１３】分子構造中にコロイダルシリカを含むオル
ガノポリシロキサンは、オルガノポリシロキサンを主成
分とする液にコロイダルシリカを添加し、これらを加熱
して架橋させることにより得ることができる。

【００１４】ここで、オルガノポリシロキサンのアルコ
キシル基とコロイダルシリカの水酸基は加熱により脱ア
ルコール反応を生じ、オルガノポリシロキサンはコロイ
ダルシリカを取り込んで架橋し、形成されたオルガノポ
リシロキサンはコロイダルシリカのところで三次元構造
になっていると考えられる。そして、分子構造中にコロ
イダルシリカを有するオルガノポリシロキサンが硬いの
はこの三次元構造に起因していると考えられる。

【００１５】オルガノポリシロキサンの分子構造中に含
まれるコロイダルシリカの好ましい割合は前述したよう
に３〜５０モル％であるが、これはコロイダルシリカが
３モル％未満ではエンハンス層の硬さが鉛筆硬度Ｂに足
りず、５０モル％を超えると硬くなり過ぎて、被覆が困
難になるからである。

【００１６】また、エンハンス層の硬度を鉛筆硬度でＢ
以上としたのは、Ｂ未満ではジッタが悪くなるからであ
る。また、エンハンス層の硬度を鉛筆硬度で２Ｈ以下と
したのは、２Ｈを越えた場合の実験データが無いからで
ある。

【００１７】オルガノポリシロキサンの分子構造中にグ
リシドキシル基、メタクリロイル基又はアミノ基を有し
ていると、エンハンス層と光反射層との結着性（接着
性）が良好になるが、エンハンス層と光反射層との結着
性はグリシドキシル基が特に良い。

【００１８】光反射層をＡｌ又はＡｌ合金によって形成
すると、この書き込み可能な光情報記録媒体の材料コス
トが低下する。

【００１９】

【実施例】図１はこの発明に係る書き込み可能な光情報
記録媒体の一例の一部切欠斜視図、図２は図１のＡ部拡
大図である。以下、これらの図を参照しながら、この書
き込み可能な光情報記録媒体の詳細について説明する。

【００２０】まず、これらの図に示すように、書き込み
可能な光情報記録媒体１０は、透光性基板１２の一方の
面に、光吸収層１４、エンハンス層１６、光反射層１８
及び保護層２０がこの順に積層形成されたものから構成
されている。

【００２１】ここで、透光性基板１２を形成する材料と
しては、例えばポリカーボネート、アクリル樹脂、エポ
キシ樹脂、ポリオレフィン又はガラス等を挙げることが
できるが、これら以外の材料であっても、透光性が良好
で、再生用レーザ光に対する屈折率が１．４〜１．６
で、且つ耐衝撃性に優れたものであれば使用することが
できる。

【００２２】透光性基板１２は、例えば射出成形、圧縮
成形、トランスファ成形、ブロー成形等の成形方法によ
り成形させることができるが、これら以外の成形方法を
採用して成形してもよい。

【００２３】透光性基板１２の一方の面、すなわち、光
吸収層１４を形成する側の面にはあらかじめプリグルー
ブをスパイラル状に形成しておいてもよい。プリグルー
ブは、通常考えられるものであればどのような条件のも
のでもよいが、深さが５０〜２５０ｎｍのものが好まし
い。プリグルーブは、透光性基板１２を形成させる際
に、その一方の面にスタンパを押し当てて形成するのが
一般的であるが、必ずしもこの方法に限られるものでは
ない。

【００２４】次に、光吸収層１４に含有される有機色素
としては、所定の波長の記録用レーザ光によって熱分解
し、この熱分解の影響を受けた部分が、所定の波長の再
生用レーザ光の下で、背景との間で光学的な位相差を有
するピットとなるものであれば使用することができる。

【００２５】このような有機色素としては、例えば、シ
アニン色素、トリアリールメタン色素、ピリリウム色
素、フェナンスレン色素、テトラデヒドロコリン色素、
トリアリールアミン色素、スクアリリウム色素、クロコ
ニックメチン色素、フタロシアニン色素、アズレニウム
系色素等を挙げることができるが、これら以外の有機色
素であっても上記のようなピットを形成させることがで
きるものであれば使用することができる。

【００２６】有機色素がシアニン系色素の場合は、特
に、インドジカーボシアニン、ベンゾインドジカーボシ
アニン、フタロシアニンを単独もしくは任意の割合で混
合したものが好ましい。

【００２７】有機色素にはその光安定性等を向上させる
ために、金属のジチオール錯体、アミニウム塩、イモニ
ウム塩、ニトロソ基を有するジフェニールアミン等を混
合もしくは化合させて使用してもよい。

【００２８】光吸収層１４は、他の有機色素、樹脂（例
えばニトロセルロース等の熱可塑性樹脂、熱可塑性エラ
ストマー）、液ゴム等を含んでいてもよい。

【００２９】光吸収層１４は、有機色素及び任意の添加
剤を有機溶剤（例えばアルコール、アセチルアセトン、
メチルセロソルブ、トルエン等）に溶解させたものを透
光性基板１２またはエンハンス層１６の上に直接または
他の層を介して被覆させることにより形成することがで
きる。

【００３０】この被覆方法としては、蒸着法、ＬＢ法、
スピンコート法等が挙げられるが、有機色素を溶解させ
た溶液の濃度、粘度、溶剤の乾燥速度を調節することに
より層厚を制御できる点で、スピンコート法が好まし
い。

【００３１】次に、エンハンス層１６は、まず再生用レ
ーザ光の波長に対して透明な材料により形成しなければ
ならない。再生用レーザ光の波長に対して透明であると
いうことは、その材料の複素屈折率の虚数部Ｋ_ｅｈｓ
≒０（０〜０．０２）ということである。

【００３２】そして、エンハンス層１６の膜厚ｄ_ｅｈｓ
と光吸収層１４の膜厚ｄ_ａｂｓは、光吸収層１４の複
素屈折率の実数部ｎ_ａｂｓ、光吸収層１４の膜厚ｄ
_ａｂｓ、エンハンス層１６の複素屈折率の実数部ｎ
_ｅｈｓ、エンハンス層１６の膜厚ｄ_ｅｈｓ及び再生用
レーザ光の波長λによって与えられる値ρ＝（ｎ_ａｂｓ
・ｄ_ａｂｓ＋ｎ_ｅｈｓ・ｄ_ｅｈｓ）÷λが、０．０
５≦ρ≦１．６になるように設定する。また、光吸収層
１４の複素屈折率の虚部ｋ_ａｂｓは０．３以下でなけ
ればならない。

【００３３】更に、エンハンス層１６の硬度は鉛筆硬度
Ｂ以上に硬くなければならない。

【００３４】このようなエンハンス層１６は、オルガノ
ポリシロキサンを主成分とするもの等により形成させる
ことができる。オルガノポリシロキサンを主成分とする
ものとしては、例えばシロキサンとシランカップリング
剤とを金属触媒下で反応させて架橋硬化させたものを使
用することができる。シランカップリング剤はシロキサ
ン１００部に対して１部〜５０部を反応させることが好
ましく、２部〜２０部が更に望ましい。

【００３５】エンハンス層１６をオルガノポリシロキサ
ンを主成分とするもので形成させる場合、オルガノポリ
シロキサンが分子構造中にコロイダルシリカを有するよ
うにすると、エンハンス層１６を硬くすることができ
る。

【００３６】分子構造中にコロイダルシリカを含むオル
ガノポリシロキサンは、オルガノポリシロキサンを主成
分とする液にコロイダルシリカを添加し、これらを加熱
して架橋させることにより得ることができる。

【００３７】オルガノポリシロキサンを主成分とする液
は光吸収層１４の上に直接または他の層を介してスピン
コ−トにより被覆させ、これを加熱硬化させてエンハン
ス層１６とする。

【００３８】オルガノポリシロキサンはスピンコート
後、加熱することにより、化１のように脱水縮合し、又
は化２のように脱アルコール縮合して架橋硬化し、ポリ
モノアルキルシロキサンとなる。従って、加熱架橋させ
るためにはオルガノポリシロキサンの分子の側鎖もしく
は分子末端がヒドロキシル基またはアルコキシル基で置
換されていることが必要となる。なお、化２中、ＯＲは
アルコキシル基である。

【００３９】

【化１】

【００４０】

【化２】

【００４１】エンハンス層１６は、一般には重合してポ
リマーとなり得る有機化合物のモノマー及びオリゴマー
を塗布後、架橋反応させることによりこれを得ることが
できる。

【００４２】架橋反応により有機ポリマーとしてこれを
得る場合には、作業性の面から分子中にひとつ以上の反
応性アクリロイル基（ＣＨ_２＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−）を
持つ有機化合物のモノマー及びオリゴマーの混合物に反
応開始剤、反応触媒を少量加え、液状のこれらの混合物
を塗布し、紫外線もしくは電子線を照射することにより
架橋させる方法が有利である。

【００４３】しかしながら、架橋の方法はこれらに限ら
れるわけではなく、エポキシ樹脂やウレタン樹脂のよう
に、熱によって架橋が進むものであってもよいし、ジア
ルコキシシランカップリング剤のように空気中の水分で
重合反応が進むものであってもよい。

【００４４】こうして得られた架橋物の主鎖及び側鎖
は、飽和もしくは不飽和系の直鎖炭化水素であってもよ
いし、メラミン、ビスフェノール系等の環状化合物を含
んでいてもよい。

【００４５】また、この架橋物の主鎖または側鎖の途中
に一個以上のエーテル結合を含むポリエーテル、エステ
ル結合を含むポリエステル、ウレタン結合を含むポリウ
レタン、イオン結合を含むアイオノマー、アミド結合を
含むポリアミド、イミド結合を含むポリイミド、スルホ
ン結合を含むポリスルホン、スルファイド結合を含むポ
リスルフィド等に例示されるその他の結合を含んでいて
もかまわない。これらの結合を二つ以上含む共重合化合
物であってもよい。ブロックポリマーであってもかまわ
ない。

【００４６】また、これらの架橋物の防湿性を向上させ
るために、側鎖にフルオロカーボン等を含んでいてもよ
いし、ハロゲン化水素による劣化を防止するためにエポ
キシ樹脂を含んでいてもよい。

【００４７】また、光反射層１８との結着性（接着性）
を向上させるために、側鎖にグリシドキシル基、メタク
リロイル基、アミノ基等を含んでいてもよいし、主鎖ま
たは側鎖に塩基、酸が含まれていてもよい。

【００４８】エンハンス層１６の形成の際には、塗布中
に樹脂とその反応剤、反応開始剤等のほかに、塗布性を
向上させるために、溶剤、希釈剤が含まれていてもよ
い。また、塗膜の安定化を図るために、レベリング剤
や、可塑剤、酸化防止剤、帯電防止剤等が含まれていて
もよい。また、必要に応じて、顔料や染料により着色し
てあってもかまわない。

【００４９】なお、樹脂の硬化は、架橋構造の架橋密度
ないし反応性アクリロイル濃度によりこれを変えること
ができ、主鎖となり得るオリゴマー自体の分子回転の自
由度によっても変わってくる。

【００５０】光反射層１８は、例えば、従来どおり金、
銀、銅またはそれらの合金をはじめ多くのものを用いる
ことができるが、コストや信頼性の点からアルミニウム
あるいはこれらを含む合金等の金属膜が好ましい。金属
膜は、蒸着法、スパッタリング等の手段により形成する
ことができる。なお、光反射層１８の上にはその酸化を
防止するために耐酸化層を被覆させてもよい。

【００５１】また、光反射層１８を保護するために、光
反射層１８の上に直接または他の層を介して保護層２０
を形成するのが好ましい。保護層２０は耐衝撃性の優れ
た合成樹脂によって形成されることが望ましい。例えば
紫外線硬化性樹脂をスピンコート法により塗布し、紫外
線を照射して硬化させることにより形成する。

【００５２】なお、保護層２０と透光性基板１２とはそ
の円周部においてこれらを一体化させることにより光情
報記録媒体１０全体の強度を向上させるとともに、内部
の光吸収層１４、エンハンス層１６及び光反射層１８を
より確実に保護することができる。

【００５３】実施例１まず、スパイラル状のプリグルーブが形成された円板状
の透光性基板１２を射出成形法により形成した。ここ
で、透光性基板１２の材料としてはポリカーボネートを
使用した。透光性基板１２のサイズは、厚さ１．２ｍ
ｍ、外径１２０ｍｍφ、内径１５ｍｍφとした。プリグ
ルーブは、幅０．５μｍ、深さ２３０ｎｍ、ピッチ１．
６μｍとし、透光性基板１２の直径４６〜１１７ｍｍφ
の範囲に形成した。

【００５４】次に、透光性基板１２の上に１，１’ジブ
チル３，３，３’，３’テトラメチル４，５，４’５’
ジベンゾインドジカ−ボシアニンパ−クロレ−ト（株式
会社日本感光色素研究所製：ＮＫ３２１９）のジアセト
ンアルコ−ル溶液をスピンコ−ト法により塗布し、膜厚
ｄ_ａｂｓ＝１３０ｎｍの光吸収層１４を形成した。

【００５５】ここで、このジアセトンアルコール溶液
は、０．６５ｇの１，１’ジブチル３，３，３’，３’
テトラメチル４，５，４’５’ジベンゾインドジカ−ボ
シアニンパ−クロレ−トを１０ｃｃのジアセトンアルコ
−ルに溶解させたものを使用した。また、この光吸収層
１４の複素屈折率の実数部ｎ_ａｂｓは２．５であっ
た。

【００５６】次に、オルガノポリシロキサンを主成分と
する液１．２ｇを１００ｍｌのシクロヘキサンに溶解し
たものを、光吸収層１４の上にスピンコート法により塗
布した後、８０℃で３０分間キュアリングしてエンハン
ス層１６を得た。

【００５７】なお、ここで用いたオルガノポリシロキサ
ンを主成分とする液は、メチルシルセオキサン（ＭｅＳ
ｉＯ_１．５）９０モル％、コロイダルシリカ（ＳｉＯ
_２）３モル％を含有するシロキサン１００部、トルエ
ン１００部、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン（信越化学工業株式会社製ＫＢＥ−４０２）５
部、アセト酢酸エチルジ−ｎ−ブトキシアルミニウム
０．０００２５部を２５℃で１２時間反応させた後、ト
ルエンを減圧蒸留して除去したものを使用した。

【００５８】一方、上記操作と平行して、上述したエン
ハンス層１６形成の条件と全く同じ条件でガラス板上に
エンハンス層１６と同質の被覆層を形成し、この被覆層
をＪＩＳＫ５４００に基づき、種々の硬度の鉛筆で
擦って傷が出来るか否かでエンハンス層１６の硬度を推
定したところ、鉛筆硬度はＨＢ〜Ｂであった。

【００５９】次に、エンハンス層１６の上にＡｌをスパ
ッタリング法により被覆し、膜厚１００ｎｍの光反射層
１８を形成した。

【００６０】次に、光反射層１８の上に紫外線硬化性樹
脂（大日本インキ株式会社製ＳＤ−１７）をスピンコー
ト法により塗布し、これに紫外線を照射して硬化させ、
膜厚１０μｍの保護層２０を形成した。

【００６１】次に、このようにして得られた光情報記録
媒体１０に、波長７８０ｎｍのレーザ光を線速１．２ｍ
／ｓｅｃ、記録パワー６．０ｍＷで照射し、ＥＦＭ信号
を記録した。そして、この光情報記録媒体１０を市販の
ＣＤプレーヤー（ＡｕｒｅｘＸＲ−Ｖ７３、再生光の波
長λ＝７８０ｎｍ）で再生したところ、次の通りとなっ
た。

【００６２】反射率：７４％ジッタ３Ｔ：３４．５ｎｓ、１１Ｔ：３４．８ｎｓ
（規格：＜３５ｎｓ）ビットの分布は、ほゞ正規分布となっており、ＣＤ規格
を満足していた。

【００６３】実施例２エンハンス層の材料に使用するコロイダルシリカ（Ｓｉ
Ｏ_２）の量を１０モル％とした他は、実施例１と全く
同様の条件で光情報記録媒体を作成し、鉛筆硬度、反射
率、ジッタ及びビットの分布を調べたところ、次の通り
となった。

【００６４】エンハンス層の鉛筆硬度：ＨＢ反射率：７４％ジッタ３Ｔ：２７．０ｎｓ、１１Ｔ：２４．０ｎｓ
（規格：＜３５ｎｓ）ビットの分布は、ほゞ正規分布となっており、ＣＤ規格
を満足していた。

【００６５】実施例３エンハンス層の材料に使用するコロイダルシリカ（Ｓｉ
Ｏ_２）の量を２０モル％とした他は、実施例１と全く
同様の条件で光情報記録媒体を作成し、鉛筆硬度、反射
率、ジッタ及びビットの分布を調べたところ、次の通り
となった。

【００６６】エンハンス層の鉛筆硬度：Ｈ反射率：７４％ジッタ３Ｔ：２６．０ｎｓ、１１Ｔ：２３．０ｎｓ
（規格：＜３５ｎｓ）ビットの分布は、ほゞ正規分布となっており、ＣＤ規格
を満足していた。

【００６７】実施例４エンハンス層の材料に使用するコロイダルシリカ（Ｓｉ
Ｏ_２）の量を５０モル％とした他は、実施例１と全く
同様の条件で光情報記録媒体を作成し、鉛筆硬度、反射
率、ジッタ及びビットの分布を調べたところ、次の通り
となった。

【００６８】エンハンス層の鉛筆硬度：２Ｈ反射率：７３．２％ジッタ３Ｔ：３３．８ｎｓ、１１Ｔ：２０．２ｎｓ
（規格：＜３５ｎｓ）ビットの分布は、ほゞ正規分布となっており、ＣＤ規格
を満足していた。

【００６９】比較例１エンハンス層の材料にコロイダルシリカ（ＳｉＯ_２）
を使用しなかった他は、実施例１と全く同様の条件で光
情報記録媒体を作成し、鉛筆硬度、反射率、ジッタ及び
ビットの分布を調べたところ、次の通りとなった。

【００７０】エンハンス層の鉛筆硬度：３Ｂ反射率：７３．１％ジッタ３Ｔ：３８．３ｎｓ、１１Ｔ：４５．２ｎｓ
（規格：＜３５ｎｓ）ビットの分布は正規分布から逸脱しており、ＣＤ規格を
満足できなかった。

【００７１】比較例２エンハンス層の材料に使用するコロイダルシリカ（Ｓｉ
Ｏ_２）の量を２モル％とした他は、実施例１と全く同
様の条件で光情報記録媒体を作成し、鉛筆硬度、反射
率、ジッタ及びビットの分布を調べたところ、次の通り
となった。

【００７２】エンハンス層の鉛筆硬度：２Ｂ反射率：７２．０％ジッタ３Ｔ：３２．２ｎｓ、１１Ｔ：３７．２ｎｓ
（規格：＜３５ｎｓ）ビットの分布は正規分布から逸脱しており、ＣＤ規格を
満足できなかった。

【００７３】比較例３エンハンス層の材料に使用するコロイダルシリカ（Ｓｉ
Ｏ_２）の量を５５モル％とした他は、実施例１と全く
同様の条件で光情報記録媒体を作成し、鉛筆硬度、反射
率、ジッタ及びビットの分布を調べたところ、次の通り
となった。

【００７４】エンハンス層の鉛筆硬度：２Ｈ反射率：７２．０％ジッタ３Ｔ：３９．２ｎｓ、１１Ｔ：４７．２ｎｓ
（規格：＜３５ｎｓ）ビットの分布は正規分布から逸脱しており、ＣＤ規格を
満足できなかった。

【００７５】比較例４エンハンス層の材料に使用するコロイダルシリカ（Ｓｉ
Ｏ_２）の量を６０モル％とした他は、実施例１と全く
同様の条件で光情報記録媒体の作成を試みたところ、エ
ンハンス層を形成する溶液の硬化時に膜の一部にクラッ
クを生じてしまい、光情報記録媒体を作成することがで
きなかった。

【００７６】比較例５エンハンス層の材料に使用するコロイダルシリカ（Ｓｉ
Ｏ_２）の量を８０モル％とした他は、実施例１と全く
同様の条件で光情報記録媒体の作成を試みたが、エンハ
ンス層を形成するための溶液の塗装安定性が悪く、ゲル
化が進んでしまい、スピンコートすることができなかっ
た。

【００７７】以上説明した実施例１〜４及び比較例１〜
５の結果をまとめると、表１に示すようになる。

【００７８】

【表１】

【００７９】実施例１〜４及び比較例１〜５の結果か
ら、コロイダルシリカの量が、２モル％以下になるとエ
ンハンス層１６の硬化が不十分になり、ピットの分布が
正規分布から逸脱し、５０モル％を超えると添加しただ
けでゲル化が進み、製法上の制約が生じるし、エンハン
ス層１６の硬度が高くなり過ぎて、硬化時に膜にクラッ
クを生じることがわかる。

【００８０】実施例５エンハンス層１６形成の原料としてモノエチルシロキサ
ンを使用し、コロイダルシリカの量を１０モル％とした
他は、実施例１と全く同様の条件で光情報記録媒体を作
成し、鉛筆硬度、反射率、ジッタ及びビットの分布を調
べたところ、次の通りとなった。

【００８１】エンハンス層の鉛筆硬度：ＨＢ反射率：７４．０％ジッタ３Ｔ：２６．０ｎｓ、１１Ｔ：２３．０ｎｓ
（規格：＜３５ｎｓ）ビットの分布はほゞ正規となっており、ＣＤ規格を満足
していた。

【００８２】実施例６エンハンス層１６形成の原料としてモノフェニルシロキ
サンを使用し、コロイダルシリカの量を１０モル％とし
た他は、実施例１と全く同様の条件で光情報記録媒体を
作成し、鉛筆硬度、反射率、ジッタ及びビットの分布を
調べたところ、次の通りとなった。

【００８３】エンハンス層の鉛筆硬度：ＨＢ反射率：７４．０％ジッタ３Ｔ：２６．０ｎｓ、１１Ｔ：２３．０ｎｓ
（規格：＜３５ｎｓ）ビットの分布はほゞ正規となっており、ＣＤ規格を満足
していた。

【００８４】実施例５，６の結果から明らかなように、
エンハンス層１６の材料としてモノメチルシロキサン以
外のシロキサンを使用してもモノメチルシロキサンの場
合と同様の結果が得られることがわかる。

【００８５】

【発明の効果】本願の請求項１〜６記載の書き込み可能
な光情報記録媒体によれば、記録時に光吸収層及び／又
はエンハンス層の変形が抑制され、均一な形状のピット
が所望の場所に形成されるので、ジッタが小さくなり、
再生安定性が向上し、更には、高速記録が可能になると
いう効果がある。

【００８６】また、本願の請求項１〜６記載の書き込み
可能な光情報記録媒体によれば、エンハンス層がオルガ
ノポリシロキサンを主成分とする物質からなり、該オル
ガノポリシロキサンの分子構造中にコロイダルシリカが
含まれているので、エンハンス層を硬くすることができ
るという効果がある。

【００８７】また、本願の請求項１〜６記載の書き込み
可能な光情報記録媒体によれば、オルガノポリシロキサ
ンの分子構造中に前記コロイダルシリカが３〜５０モル
％の割合で含まれているので、鉛筆硬度Ｂ以上の硬さの
エンハンス層を容易に得ることができるという効果があ
る。

【００８８】また、本願の請求項２又は５に記載の書き
込み可能な光情報記録媒体によれば、オルガノポリシロ
キサンがその分子構造中にグリシドキシル基、メタクリ
ロイル基又はアミノ基を有しているので、エンハンス層
と光反射層との結着性が良好になるという効果がある。

【００８９】また、本願の請求項３又は６に記載の書き
込み可能な光情報記録媒体によれば、光反射層がＡｌ又
はＡｌ合金からなるので、材料コストが低下するという
効果がある。

【００９０】更に、本願の請求項４〜６のいずれかに記
載の書き込み可能な光情報記録媒体の製造方法によれ
ば、上述した書き込み可能な光情報記録媒体を容易に製
造することができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は書き込み可能な光情報記録媒体の斜視図
である。

【図２】図２は図１のＡ部拡大図である。

【符号の説明】

１０光情報記録媒体１２透光性基板１４光吸収層１６エンハンス層１８光反射層２０保護層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者浜田恵美子東京都台東区上野６丁目16番20号太陽誘電株式会社内 (56)参考文献特開平４−26937（ＪＰ，Ａ) 特開平６−282870（ＪＰ，Ａ) 特開平６−282873（ＪＰ，Ａ) 特開平３−223188（ＪＰ，Ａ) 特開平４−111241（ＪＰ，Ａ) 特開平６−290488（ＪＰ，Ａ) 特開平７−201072（ＪＰ，Ａ) 特開昭60−135465（ＪＰ，Ａ)

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】有機色素を含有する光吸収層の一方の面
側に透光性基板を有し、該光吸収層の他方の面側に光反
射層を有し、該光吸収層と該光反射層との間に再生用レ
ーザ光の波長に対して透明なエンハンス層を有し、該エ
ンハンス層がオルガノポリシロキサンを主成分とする物
質で形成され、該オルガノポリシロキサンの分子構造中
にコロイダルシリカが３〜５０モル％の割合で含まれ、
該エンハンス層の硬度が鉛筆硬度でＢ〜２Ｈの範囲にあ
ることを特徴とする書き込み可能な光情報記録媒体。
【請求項２】前記オルガノポリシロキサンがグリシド
キシル基、メタクリロイル基又はアミノ基を有している
ことを特徴とする請求項１に記載の書き込み可能な光情
報記録媒体。
【請求項３】前記光反射層がＡｌ又はＡｌ合金からな
ることを特徴とする請求項１又は２に記載の書き込み可
能な光情報記録媒体。
【請求項４】有機色素を含有する溶液を透光性基板の
一方の面に塗布して光吸収層を形成させる工程と、オル
ガノポリシロキサンを主成分とし、３〜５０モル％のコ
ロイダルシリカを含有する液を該光吸収層の上に被覆
し、架橋硬化させて鉛筆硬度Ｂ〜２Ｈのエンハンス層を
形成させる工程と、金属膜からなる光反射層を該エンハ
ンス層の上に形成させる工程とを備えていることを特徴
とする書き込み可能な光情報記録媒体の製造方法。
【請求項５】前記オルガノポリシロキサンを主成分と
する液がグリシドキシル基、メタクリロイル基又はアミ
ノ基を有するシラン化合物を含有していることを特徴と
する請求項４に記載の書き込み可能な光情報記録媒体の
製造方法。
【請求項６】前記光反射層がＡｌ又はＡｌ合金からな
ることを特徴とする請求項４又は５に記載の書き込み可
能な光情報記録媒体の製造方法。