JP3272178B2 - Method and apparatus for arranging small metal spheres - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えばICパッケージ
に使用するICチップをTABテープのバンプと接合す
る際、或いは所謂フリップチップの接合に際して、バン
プ自体を予めチップ上に配列固定するための微小金属球
の配列方法及び装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a micro chip for arranging bumps themselves on a chip in advance when bonding an IC chip used for an IC package to a bump of a TAB tape or a so-called flip chip. The present invention relates to a method and an apparatus for arranging metal balls.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体装置の製造工程において、ICチ
ップ等の電極部(電極パッド)をリード等と接続するた
めに、微小金属球で成るバンプを介して両者がバンプ接
合される。このバンプ接合の際、微小金属球を所定位置
に配列固定するために、その微小金属球は、個々に捕捉
されてICチップ上の目標位置に配列される。或いはま
た、かかる微小金属球を配列固定するための別の方法に
よれば、ICチップもしくはLSIチップの電極パッド
位置に対応する多数の穿孔を有する配列基板に微小金属
球を一旦吸着し、その後、微小金属球をその配列基板か
ら一括で各電極パッドに固定させるというものである。2. Description of the Related Art In the process of manufacturing a semiconductor device, in order to connect an electrode portion (electrode pad) of an IC chip or the like to a lead or the like, both are bump-bonded via a bump made of a minute metal ball. At the time of this bump bonding, in order to fix and arrange the minute metal spheres at predetermined positions, the minute metal spheres are individually captured and arranged at target positions on the IC chip. Alternatively, according to another method for arranging and fixing the minute metal spheres, the minute metal spheres are once attracted to an array substrate having a large number of holes corresponding to the electrode pad positions of the IC chip or the LSI chip, In this method, the minute metal spheres are collectively fixed from the array substrate to each electrode pad.
【0003】ところで、近年の半導体装置においては小
型化,高性能化の要請等により高密度化が進んでおり、
そのため電極パッドピッチが微小化し、更にはそのバン
プ接合に使用する微小金属球自体が微細化している。従
って、これらに対応して上述の例の配列用基板において
も、穿孔ピッチの微小化が進んでいる。In recent years, the density of recent semiconductor devices has been increasing due to demands for miniaturization and higher performance.
For this reason, the electrode pad pitch has been reduced, and the fine metal spheres themselves used for the bump bonding have also been reduced. Accordingly, in the arrangement substrate of the above-described example, the pitch of the perforations has been miniaturized.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
の製造工程もしくは装置において、バンプ、即ち微小金
属球が微細化するのに従って、一度に処理し得る微小金
属球の量は制限されざるを得ない。つまり、配列基板に
て一度に吸着し、更にその後、微小ピッチ化している電
極パッドに配列固定し得る数量には限界があり、従って
特に、量産性の点で問題となっていた。However, in this type of manufacturing process or apparatus, as bumps, that is, fine metal spheres are miniaturized, the amount of fine metal spheres that can be processed at one time must be limited. . In other words, there is a limit to the number of pieces that can be adsorbed on the array substrate at a time and then fixed to the electrode pads having a fine pitch, and therefore, there has been a problem particularly in terms of mass productivity.
【0005】本発明はかかる実情に鑑み、この種の微小
金属球の適切な配列固定を保証すると共に、量産性を大
幅に向上し得る微小金属球の配列方法及び装置を提供す
ることを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a method and an apparatus for arranging small metal spheres which can guarantee proper alignment of such small metal spheres and greatly improve mass productivity. I do.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の微小金属球の配
列方法は、所定の流路に沿って搬送流体の流れを形成す
る工程と、前記搬送流体に対して微小金属球を供給し、
この微小金属球を含んだ搬送流体の噴流を形成する工程
と、前記流路の所定位置にて前記搬送流体の前記噴流を
整流する工程と、整流された前記噴流を配列基板に対し
て直角に且つ均一に衝突させ、前記噴流の流速を減速す
る工程と、前記配列基板の配列孔を介して真空吸引し、
その配列孔に前記微小金属球を吸着させる工程と、を備
えたものである。According to the present invention, there is provided a method for arranging fine metal spheres, comprising the steps of: forming a flow of a carrier fluid along a predetermined flow path;
Forming a jet of the carrier fluid containing the fine metal spheres, rectifying the jet of the carrier fluid at a predetermined position in the flow path, and applying the rectified jet to the array substrate at right angles. And uniformly colliding, the step of reducing the flow velocity of the jet flow, and vacuum suction through the arrangement holes of the arrangement substrate,
Adsorbing the fine metal spheres on the arrangement holes.
【0007】本発明の微小金属球の配列装置は、所定の
流路に沿って搬送流体の流れを形成し、その流れ状態を
制御し得るようにした搬送流形成・制御手段と、前記搬
送流体に対して微小金属球を供給し、この微小金属球を
含んだ搬送流体の噴流を形成する微小金属球供給手段
と、前記流路の所定位置に配置され、前記搬送流体の前
記噴流を整流し得るように構成された整流手段と、前記
整流手段の下流側至近位置に配置され、前記流路内に開
口する多数の配列孔を有する配列基板と、前記配列基板
の前記配列孔を介して真空吸引するようにした真空吸引
手段と、を備え、前記整流手段を通過した前記搬送流体
の前記噴流を、前記配列基板に対して直角に且つ均一に
衝突させるものである。[0007] The arrangement apparatus for micro metal spheres according to the present invention comprises: a carrier flow forming / controlling means for forming a carrier fluid flow along a predetermined flow path and controlling the flow state; And a micro-metal sphere supply means for supplying a micro-metal sphere to form a jet of a carrier fluid containing the micro-metal sphere, and being arranged at a predetermined position in the flow path to rectify the jet of the carrier fluid. A rectifying means configured to obtain the rectifying means, an arrangement substrate disposed at a position close to the downstream side of the rectification means, and having a number of arrangement holes opened in the flow path, and a vacuum through the arrangement holes of the arrangement substrate. And a vacuum suction means adapted to suction, wherein the jet of the carrier fluid having passed through the rectification means collides with the array substrate at right angles and uniformly.
【0008】また、本発明の微小金属球の配列装置にお
いて、前記整流手段が、前記流路に対して直交方向に移
動可能に構成されている。或いはまた、本発明の微小金
属球の配列装置において、前記配列基板が、前記整流手
段に対して平行に移動可能に構成されている。Further, in the arrangement apparatus of the present invention, the rectifying means is configured to be movable in a direction perpendicular to the flow path. Alternatively, in the arrangement device for micro metal spheres according to the present invention, the arrangement substrate is configured to be movable in parallel with the rectification means.
【0009】更に、本発明の微小金属球の配列装置にお
いて、前記整流手段を複数備えている。更にまた、本発
明の微小金属球の配列装置において、前記配列基板を複
数備えている。Further, in the arrangement apparatus of the present invention, a plurality of the rectifying means are provided. Still further, in the arrangement apparatus of the present invention, a plurality of arrangement substrates are provided.
【0010】[0010]
【作用】本発明によれば、搬送流形成・制御手段により
所定の流路に沿った搬送流体の流れが形成され、その搬
送流体中に微小金属球供給手段によって微小金属球が供
給される。微小金属球を含んだ搬送流体の噴流は次に、
配列基板に対して直角に衝突し、その流速が急激に減速
する。この流速が減速した所謂、淀み点もしくは岐点に
て搬送流体中の微小金属球は、真空吸引手段の吸引によ
って配列基板の配列孔に吸着される。この場合、搬送流
体の噴流が配列基板に衝突する際、整流手段がその噴流
を整流することにより、微小金属球を含んだ搬送流体を
配列基板に対して直角に且つ均一に衝突させ、これによ
り淀み点付近において微小金属球を安定且つ的確に吸着
させることができる。According to the present invention, the flow of the carrier fluid along the predetermined flow path is formed by the carrier flow forming / controlling means, and the fine metal spheres are supplied into the carrier fluid by the fine metal sphere supply means. The jet of the carrier fluid containing the fine metal spheres
A collision is made at right angles to the array substrate, and the flow velocity is rapidly reduced. At the so-called stagnation point or branch point where the flow velocity is reduced, the fine metal spheres in the carrier fluid are sucked into the arrayed holes of the arrayed substrate by the suction of the vacuum suction means. In this case, when the jet of the carrier fluid collides with the array substrate, the rectifying means rectifies the jet to cause the carrier fluid including the fine metal spheres to collide with the array substrate at right angles and uniformly, thereby In the vicinity of the stagnation point, fine metal spheres can be stably and accurately adsorbed.
【0011】上記の場合、整流手段を搬送流体の流路に
対して直交方向に移動可能とすることにより、整流され
た搬送流体を配列基板に対する最適な位置で衝突させる
ことができる。また、配列基板を整流手段に対して平行
に移動可能とすることにより、この場合にも両者の最適
な位置関係を得ることができる。そして、いずれの場合
においても、微小金属球を安定且つ的確に吸着させるこ
とができる。In the above case, the rectifying means can be moved in the direction perpendicular to the flow path of the carrier fluid, so that the rectified carrier fluid can collide at an optimum position with respect to the arrayed substrates. In addition, by allowing the array substrate to move in parallel with the rectifying means, an optimum positional relationship between the two can be obtained in this case as well. In any case, the fine metal spheres can be stably and accurately adsorbed.
【0012】また、整流手段或いは配列基板はそれぞれ
複数設けてもよく、一括で処理できる微小金属球の量を
増やすことができ、これにより生産能率を高めることが
できる。In addition, a plurality of rectifying means or array substrates may be provided, respectively, so that the amount of fine metal spheres that can be processed collectively can be increased, thereby increasing production efficiency.
【0013】[0013]
【実施例】以下、図1〜図3に基づき、本発明による微
小金属球の配列方法及び装置の好適な実施例を説明す
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of a method and an apparatus for arranging fine metal spheres according to the present invention will be described below with reference to FIGS.
【0014】図1は、本実施例に係る配列装置の全体構
成例を示している。図1において、この微小金属球の配
列装置は、図示のような流路に沿って搬送流体の流れ
(矢印F)を形成し、その流れ状態を形成・制御し得る
ようにした搬送流形成・制御手段10と、搬送流体に対
して微小金属球1を供給し、この微小金属球1を含んだ
搬送流体の噴流を形成する微小金属球供給手段20と、
上記流路の所定位置に配置されており、搬送流体の噴流
を整流し得るように構成された整流手段30と、整流手
段30の下流側至近位置に配置され、上記流路内に開口
する多数の配列孔を有する配列基板40と、配列基板4
0の配列孔を介して真空吸引する真空吸引手段50と、
を備えている。また、配列基板40の下方には、この配
列基板40における微小金属球1の配列状態を確認する
ための配列確認手段60が配置されている。FIG. 1 shows an example of the overall configuration of the arrangement device according to the present embodiment. In FIG. 1, the arrangement apparatus for micro metal spheres forms a flow of a carrier fluid (arrow F) along a flow path as shown in the figure, and forms and controls a flow state of the carrier fluid. A control means 10; a micro-metal sphere supply means 20 for supplying the micro-metal sphere 1 to the carrier fluid and forming a jet of a carrier fluid including the micro-metal sphere 1;
Rectifying means 30 arranged at a predetermined position in the flow path and configured to rectify the jet of the carrier fluid; and a plurality of rectifying means 30 disposed at a position close to the downstream side of the rectifying means 30 and opening into the flow path. Array substrate 40 having an array of holes, and array substrate 4
Vacuum suction means 50 for performing vacuum suction through the array holes of 0,
It has. Below the arrangement substrate 40, an arrangement confirmation means 60 for confirming the arrangement state of the minute metal spheres 1 on the arrangement substrate 40 is arranged.
【0015】搬送流形成・制御手段10において、回転
ファン等によって搬送流体の流れを生成し、その搬送流
体を流路に沿って循環させると共に、所定の流量,圧力
等に設定・維持する。微小金属球1の媒体となる搬送流
体としては、気体或いは液体を用いることができるが、
本実施例では、好適には空気もしくはアルゴン等の不活
性気体が選ばれる。The transport flow forming / controlling means 10 generates a flow of the transport fluid by a rotating fan or the like, circulates the transport fluid along the flow path, and sets / maintains a predetermined flow rate and pressure. A gas or a liquid can be used as a carrier fluid serving as a medium of the minute metal spheres 1,
In this embodiment, an inert gas such as air or argon is preferably selected.
【0016】微小金属球供給手段20は、搬送流体の流
路に設定したベンチュリー部21に設けられ、このベン
チュリー部21に発生する負圧を利用して微小金属球1
を流路内に供給するようになっている。微小金属球供給
手段20の固体分離装置22の収容部22aに収容され
た多数の微小金属球1は、その収容部22aを超音波振
動させることにより、相互に分離した状態で浮遊する。
ベンチュリー部21と収容部22aの間は、ベローズ2
3によって封緘されている。また、ベンチュリー部21
への供給口には、取り出す微小金属球の寸法に応じた開
口部を有する網状体(メッシュ)24が装着され、この
網状体24を介して個々に分離された微小金属球1を供
給する。なお、収容部22aは、通気孔22bを介して
外部(大気圧)と連通する。The minute metal sphere supply means 20 is provided in a venturi section 21 set in the flow path of the carrier fluid, and utilizes the negative pressure generated in the venturi section 21 to make the minute metal sphere 1
Is supplied into the flow path. The large number of minute metal spheres 1 accommodated in the accommodating portion 22a of the solid separation device 22 of the minute metal sphere supply means 20 float in a state of being separated from each other by ultrasonically vibrating the accommodating portion 22a.
The bellows 2 is provided between the venturi section 21 and the accommodation section 22a.
3 sealed. In addition, the venturi section 21
A mesh (mesh) 24 having an opening corresponding to the size of the small metal sphere to be taken out is attached to the supply port for supplying the small metal spheres 1 individually separated through the mesh 24. The accommodation section 22a communicates with the outside (atmospheric pressure) via the ventilation hole 22b.
【0017】微小金属球供給手段20によって微小金属
球1を供給された搬送流体の噴流は次に、整流手段30
に流入する。整流手段30は、搬送流体の流れ状態を整
えてこれを配列基板40に対して流出させるが、本実施
例では、例えば図2に示したように断面格子状の多数の
平行通路31を備え、各通路31にて搬送流体を流通さ
せるようになっている。1又は複数の平行通路31が設
けられるが、その大きさ(断面積)等は配列基板40と
の関係で適宜設定されるものとする。整流手段30は、
駆動機構32,33とそれぞれ連結されている。駆動機
構32は、整流手段30を流れの方向に垂直(矢印H)
に自在に平行移動させ、また、駆動機構33は、整流手
段30を垂直方向(矢印V)に移動させ得るように構成
されている。The jet of the carrier fluid supplied with the fine metal spheres 1 by the fine metal sphere supply means 20 is then rectified by the rectifying means 30.
Flows into. The rectifying means 30 regulates the flow state of the carrier fluid and causes it to flow out to the array substrate 40. In the present embodiment, for example, as shown in FIG. The carrier fluid is circulated in each passage 31. One or a plurality of parallel passages 31 are provided, and the size (cross-sectional area) and the like are appropriately set in relation to the array substrate 40. The rectification means 30
The driving mechanisms 32 and 33 are connected to each other. The drive mechanism 32 moves the rectifying means 30 perpendicularly to the flow direction (arrow H).
The driving mechanism 33 is configured to move the rectifying means 30 in the vertical direction (arrow V).
【0018】配列基板40は、搬送流体の噴流と直交す
るように架台41上に固定・支持される。架台41は、
図3に示されるように真空吸引孔もしくは管42を有し
ており、支持した配列基板40の配列孔40aと真空吸
引孔42が連通するようになっている。架台41、従っ
て配列基板40は、図示されていない駆動機構によって
噴流に直角の方向に自在に平行移動し得るように構成さ
れている。The array substrate 40 is fixed and supported on a gantry 41 so as to be orthogonal to the jet of the carrier fluid. The gantry 41 is
As shown in FIG. 3, a vacuum suction hole or tube 42 is provided, and the arrangement holes 40a of the supported arrangement substrate 40 and the vacuum suction holes 42 communicate with each other. The gantry 41, and thus the array substrate 40, is configured to be freely movable in a direction perpendicular to the jet by a driving mechanism (not shown).
【0019】真空吸引手段50において、バキューム装
置51を備えている。このバキューム装置51は、架台
41を支持する隔板52の下側に画成された閉空間53
と接続している。そして、バキューム装置51のバキュ
ームによって閉空間53内を真空状態に保持する。隔板
52は、架台41にほぼ対応するかたちで開口53aを
有している。The vacuum suction means 50 includes a vacuum device 51. The vacuum device 51 includes a closed space 53 defined below a partition plate 52 that supports the gantry 41.
Is connected to Then, the inside of the closed space 53 is maintained in a vacuum state by the vacuum of the vacuum device 51. The partition plate 52 has an opening 53 a substantially corresponding to the gantry 41.
【0020】配列確認手段60は、配列基板40の下方
に配置された光学系61と、この光学系61で得られた
画像情報を表示するためのディスプレイ装置62を有し
ている。光学系61は、CCDカメラ等の撮影手段によ
って配列基板40における微小金属球1の配列状態を撮
像するが、そのため配列基板40及び架台41等の部材
は透明もしくは半透明の材料により形成されている。The arrangement confirmation means 60 has an optical system 61 disposed below the arrangement substrate 40, and a display device 62 for displaying image information obtained by the optical system 61. The optical system 61 images the arrangement state of the minute metal spheres 1 on the arrangement substrate 40 by photographing means such as a CCD camera. Therefore, members such as the arrangement substrate 40 and the gantry 41 are formed of a transparent or translucent material. .
【0021】次に、上記のように構成された本発明装置
を使用した微小金属球の配列方法を説明する。搬送流形
成・制御手段10は、図1に示したように所定の流路に
沿った搬送流体の流れを形成する。この場合、搬送流体
の特に流量,圧力等は、最適な状態に安定的に維持され
る。次に、固体分離装置22の収容部22aに収容され
た多数の微小金属球1に超音波振動を付与すると、収容
部22aにて相互に分離した状態で浮遊する微小金属球
1は、ベンチュリー部21の負圧によって吸引され、流
路内に供給される。微小金属球1は超音波振動によって
相互に分離するが、本実施例では更に、重力に逆らうよ
うに上方へ吸い上げられる際に網状体24を通過するこ
とにより、完全に分離されると共に、所望の寸法と異な
る微小金属球をも除去することができる。Next, a description will be given of a method of arranging minute metal spheres using the apparatus of the present invention configured as described above. The transport flow forming / control means 10 forms the flow of the transport fluid along a predetermined flow path as shown in FIG. In this case, especially the flow rate, pressure, etc. of the carrier fluid are stably maintained in the optimum state. Next, when ultrasonic vibration is applied to a large number of small metal spheres 1 accommodated in the accommodation section 22a of the solid separation device 22, the minute metal spheres 1 floating in a state of being separated from each other in the accommodation section 22a become It is sucked by the negative pressure of 21 and supplied into the flow path. The minute metal spheres 1 are separated from each other by ultrasonic vibration. In the present embodiment, further, the fine metal spheres 1 are completely separated by passing through the mesh body 24 when being sucked upward against the gravity, and at the same time as desired. Small metal spheres having different dimensions can also be removed.
【0022】微小金属球供給手段20によって供給され
た微小金属球1を含んだ搬送流体の噴流は次に、整流手
段30に流入する。整流手段30は前述のように、搬送
流体の流れ状態を整えてこれを配列基板40に対して流
出させる。搬送流体は、整流手段30内を流通すること
により、配列基板40に対して直角に且つ均一に衝突す
る。そして、この衝突により搬送流体の流速が急激に減
速し、図3に示したように淀み点Pが生じる。Next, the jet of the carrier fluid containing the fine metal spheres 1 supplied by the fine metal sphere supply means 20 flows into the straightening means 30. As described above, the rectifying means 30 regulates the flow state of the carrier fluid and causes it to flow out to the array substrate 40. The carrier fluid collides with the array substrate 40 at right angles and uniformly by flowing through the rectification means 30. Then, due to this collision, the flow velocity of the carrier fluid is rapidly reduced, and a stagnation point P is generated as shown in FIG.
【0023】一方、真空吸引手段50によって配列基板
40の配列孔40aから真空吸引が行われている。淀み
点Pに到達した微小金属球1は、その速度がほぼゼロと
なっており、これにより配列孔40aに容易且つ確実に
吸着される。この場合、整流手段30が複数の平行通路
31を有していれば、各平行通路31に対応して淀み点
Pが設定されるため、これにより極めて高い効率で多数
の微小金属球1を吸着させることができる。しかも、各
平行通路31ごとに搬送流体を配列基板40に対して直
角に且つ均一に衝突させるものであるから、微小金属球
1を安定且つ的確に吸着させることができる。On the other hand, vacuum suction is performed from the array holes 40a of the array substrate 40 by the vacuum suction means 50. The velocity of the minute metal sphere 1 that has reached the stagnation point P is almost zero, so that it is easily and reliably adsorbed to the arrangement holes 40a. In this case, if the rectification means 30 has a plurality of parallel passages 31, the stagnation point P is set corresponding to each of the parallel passages 31, so that a large number of the minute metal spheres 1 are adsorbed with extremely high efficiency. Can be done. In addition, since the carrier fluid is caused to collide with the array substrate 40 at right angles and uniformly for each of the parallel passages 31, the fine metal spheres 1 can be stably and accurately adsorbed.
【0024】また、整流手段30を通過した搬送流体を
配列基板40に衝突させる際、その整流手段30を搬送
流体の流路に対して直交方向、即ち水平方向に適宜移動
することにより、整流された搬送流体を配列基板40に
対する最適な位置で衝突させることができる。配列基板
40の広い範囲に亘って淀み点Pを設定し、確実且つ能
率的に微小金属球1を吸着させることができる。この場
合、配列基板40を適宜、平行移動させてもよく、これ
により整流手段30及び配列基板40の最適な位置関係
を確保することができる。Further, when the carrier fluid that has passed through the rectifying means 30 collides with the array substrate 40, the rectifying means 30 is appropriately moved in a direction perpendicular to the flow path of the carrier fluid, that is, in a horizontal direction, so that the fluid is rectified. The transported fluid can collide with the arrangement substrate 40 at an optimal position. By setting the stagnation point P over a wide range of the array substrate 40, the fine metal spheres 1 can be reliably and efficiently adsorbed. In this case, the arrangement substrate 40 may be appropriately moved in parallel, so that an optimal positional relationship between the rectifying means 30 and the arrangement substrate 40 can be secured.
【0025】配列基板40における微小金属球1の吸着
状態は、配列確認手段60による画像表示によって確認
され、吸着状態の適否を容易且つ確実に判断することが
できる。また、その画像情報に基づく検査結果を整流手
段30の駆動機構32,33もしくは配列基板40の駆
動機構にフィードバックをかけ、微小金属球1の吸着プ
ロセスの能率化を図ることができる。The adsorption state of the minute metal spheres 1 on the arrangement substrate 40 is confirmed by image display by the arrangement confirmation means 60, and it is possible to easily and surely judge whether or not the adsorption state is appropriate. In addition, the inspection result based on the image information is fed back to the driving mechanisms 32 and 33 of the rectifying means 30 or the driving mechanism of the array substrate 40, so that the process of attracting the minute metal spheres 1 can be made more efficient.
【0026】ここで、微小金属球1の媒体となる搬送流
体として、液体を用いることができる。図4〜図6は、
この場合の装置の構成例を示している。この液体には、
粘性が比較的小さいものが選ばれ、また揮発性を有して
いてもよい。例えば、アセトン等の液体を用いることが
できる。なお、揮発性の液体とすれば、吸着後の乾燥工
程にて有利である。Here, a liquid can be used as a carrier fluid serving as a medium for the fine metal spheres 1. FIG. 4 to FIG.
An example of the configuration of the device in this case is shown. This liquid contains
A material having a relatively small viscosity is selected and may have volatility. For example, a liquid such as acetone can be used. Note that the use of a volatile liquid is advantageous in the drying step after adsorption.
【0027】図4において、100は液体101を満た
した液槽、102は液槽100内で液体101を攪拌し
て一定の対流を起こさせるための攪拌器である。液体1
01には多数の微小金属球1が混入されている。液体1
01の対流の流路における攪拌器102の至近位置に
は、メッシュ(格子網状体)103を設けてもよい。ま
た、104は配列基板、105は複数の配列基板104
を固定・支持する基台、106は配列基板104の配列
孔104a(図5及び図6参照)と連通する吸引管であ
り、この吸引管106は、液体101のドレン装置10
7を経由して吸引ポンプ108と接続している。ドレン
装置107は、配列孔104aから吸引した液体101
を貯留しておくことができる。In FIG. 4, reference numeral 100 denotes a liquid tank filled with a liquid 101, and reference numeral 102 denotes a stirrer for stirring the liquid 101 in the liquid tank 100 to generate a constant convection. Liquid 1
A number of minute metal spheres 1 are mixed in 01. Liquid 1
A mesh (lattice-like body) 103 may be provided at a position near the stirrer 102 in the convection flow path 01. Reference numeral 104 denotes an array substrate, and 105 denotes a plurality of array substrates 104.
Is a suction tube that communicates with the arrangement holes 104a (see FIGS. 5 and 6) of the arrangement substrate 104, and the suction tube 106 is a drain device 10 for the liquid 101.
7 and connected to the suction pump 108. The drain device 107 is provided with the liquid 101 sucked from the array hole 104a.
Can be stored.
【0028】液槽100内で対流する微小金属球1は、
配列基板104の近くを通過、もしくは近づいたとき、
吸引ポンプ108のバキュームによって吸引管106を
介して配列孔104aにて吸着される(図6)。この場
合、上記のようにメッシュ103を設けておくことによ
り、これを通過する微小金属球1を個々に完全に分離
し、これにより配列孔104aにおいて微小金属球1を
適正に吸着させることができる。この例のように搬送流
体として液体101を用いた場合においても、複数の配
列基板104により多数の微小金属球1を効率良く吸着
し、高い生産能率を確保することができる。The minute metal spheres 1 convection in the liquid tank 100 are:
When passing or approaching near the array substrate 104,
Vacuum of the suction pump 108 causes suction at the array hole 104a via the suction tube 106 (FIG. 6). In this case, by providing the mesh 103 as described above, the minute metal spheres 1 passing therethrough can be completely separated individually, whereby the minute metal spheres 1 can be appropriately adsorbed in the arrangement holes 104a. . Even when the liquid 101 is used as the carrier fluid as in this example, a large number of minute metal spheres 1 can be efficiently adsorbed by the plurality of arrayed substrates 104, and high production efficiency can be secured.
【0029】[0029]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、こ
の種の微小金属球を一括で多量に且つ的確に吸着し、そ
れらを基板上の所望位置に配列することができ、生産能
率を格段に向上させることができる。また、微細化が進
んだ場合においても、これに有効に対応することがで
き、高い精度を保証した上で、優れた量産効果を奏する
等の利点を有している。As described above, according to the present invention, it is possible to adsorb a large amount of such fine metal spheres collectively and accurately at a time and arrange them at desired positions on the substrate, thereby improving production efficiency. It can be significantly improved. Further, even when the miniaturization is advanced, it is possible to effectively cope with this, and it has advantages such as achieving an excellent mass production effect while guaranteeing high accuracy.
【図1】本発明による微小金属球の配列装置の実施例に
おける全体構成例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of the overall configuration of an embodiment of a device for arranging small metal spheres according to the present invention.
【図2】本発明による微小金属球の配列装置に係る整流
手段の部分斜視図である。FIG. 2 is a partial perspective view of a rectifying unit according to the arrangement device for micro metal spheres according to the present invention.
【図3】本発明による微小金属球の配列装置における整
流手段まわりの構造及びその作用を示す部分断面図であ
る。FIG. 3 is a partial cross-sectional view showing a structure around a rectifying means and an operation thereof in the arrangement apparatus for micro metal spheres according to the present invention.
【図4】本発明による微小金属球の配列装置の変形例を
示す図である。FIG. 4 is a view showing a modified example of the arrangement device for fine metal spheres according to the present invention.
【図5】本発明による微小金属球の配列装置の上記変形
例に係る配列基板を示す図である。FIG. 5 is a view showing an arrangement substrate according to the modification of the arrangement device for micro metal spheres according to the present invention.
【図6】本発明による微小金属球の配列装置の上記変形
例における微小金属球の吸着状態を示す部分断面図であ
る。FIG. 6 is a partial cross-sectional view showing a state of adsorbing minute metal spheres in the above modified example of the arrangement apparatus for minute metal spheres according to the present invention.
1 微小金属球 10 搬送流形成・制御手段 20 微小金属球供給手段 21 ベンチュリー部 22 固体分離装置 22a 収容部 23 ベローズ 24 網状体 30 整流手段 31 平行通路 40 配列基板 41 架台 42 真空吸引孔 50 真空吸引手段 51 バキューム装置 52 隔板 53 閉空間 60 配列確認手段 61 光学系 62 ディスプレイ装置 100 液槽 101 液体 102 攪拌器 103 メッシュ 104 配列基板 106 吸引管 107 ドレン装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Micro metal sphere 10 Conveyance flow formation and control means 20 Micro metal sphere supply means 21 Venturi part 22 Solid separation device 22a Housing part 23 Bellows 24 Net-like body 30 Rectification means 31 Parallel passage 40 Array substrate 41 Mount 42 Vacuum suction hole 50 Vacuum suction Means 51 Vacuum device 52 Separator plate 53 Closed space 60 Array checking means 61 Optical system 62 Display device 100 Liquid tank 101 Liquid 102 Stirrer 103 Mesh 104 Array substrate 106 Suction tube 107 Drain device
Claims (6)
成する工程と、 前記搬送流体に対して微小金属球を供給し、この微小金
属球を含んだ搬送流体の噴流を形成する工程と、 前記流路の所定位置にて前記搬送流体の前記噴流を整流
する工程と、 整流された前記噴流を配列基板に対して直角に且つ均一
に衝突させ、前記噴流の流速を減速する工程と、 前記配列基板の配列孔を介して真空吸引し、その配列孔
に前記微小金属球を吸着させる工程と、を備えたことを
特徴とする微小金属球の配列方法。1. A step of forming a flow of a carrier fluid along a predetermined flow path, and a step of supplying fine metal spheres to the carrier fluid and forming a jet of the carrier fluid containing the fine metal spheres Rectifying the jet of the carrier fluid at a predetermined position in the flow path; and causing the rectified jet to collide with the array substrate at right angles and uniformly to reduce the flow velocity of the jet. Vacuum-suctioning through the arrangement holes of the arrangement substrate, and adsorbing the minute metal spheres in the arrangement holes.
成し、その流れ状態を制御し得るようにした搬送流形成
・制御手段と、 前記搬送流体に対して微小金属球を供給し、この微小金
属球を含んだ搬送流体の噴流を形成する微小金属球供給
手段と、 前記流路の所定位置に配置され、前記搬送流体の前記噴
流を整流し得るように構成された整流手段と、 前記整流手段の下流側至近位置に配置され、前記流路内
に開口する多数の配列孔を有する配列基板と、 前記配列基板の前記配列孔を介して真空吸引するように
した真空吸引手段と、を備え、 前記整流手段を通過した前記搬送流体の前記噴流を、前
記配列基板に対して直角に且つ均一に衝突させることを
特徴とする微小金属球の配列装置。2. A transport flow forming / controlling means for forming a flow of a transport fluid along a predetermined flow path and controlling a flow state thereof, and supplying fine metal spheres to the transport fluid. Micro metal sphere supply means for forming a jet of a carrier fluid containing the micro metal spheres; rectifying means arranged at a predetermined position in the flow path and configured to rectify the jet of the carrier fluid; An array substrate having a number of array holes that are arranged at a position close to the downstream side of the rectifying unit and open in the flow path; and a vacuum suction unit configured to perform vacuum suction through the array holes of the array substrate. Wherein the jet of the carrier fluid having passed through the flow straightening means is made to collide with the array substrate at right angles and uniformly.
において、 前記整流手段が、前記流路に対して直交方向に移動可能
に構成されていることを特徴とする微小金属球の配列装
置。3. The arrangement of minute metal spheres according to claim 2, wherein the rectifying means is configured to be movable in a direction orthogonal to the flow path. apparatus.
において、 前記配列基板が、前記整流手段に対して平行に移動可能
に構成されていることを特徴とする微小金属球の配列装
置。4. The arrangement device for micro metal spheres according to claim 2, wherein the arrangement substrate is configured to be movable in parallel with the rectification means. .
列装置において、 前記整流手段を複数備えていることを特徴とする微小金
属球の配列装置。5. The arrangement device for micro metal spheres according to claim 2, wherein a plurality of said rectification means are provided.
列装置において、 前記配列基板を複数備えていることを特徴とする微小金
属球の配列装置。6. The arrangement apparatus for micro metal spheres according to claim 2, wherein the arrangement apparatus includes a plurality of arrangement substrates.
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|---|---|---|---|
| JP33182894A JP3272178B2 (en) | 1994-12-09 | 1994-12-09 | Method and apparatus for arranging small metal spheres |
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| JPH08167610A (en) | 1996-06-25 |
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