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JP3299384B2 - 偏光ビームスプリッタ - Google Patents
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JP3299384B2 - 偏光ビームスプリッタ - Google Patents

偏光ビームスプリッタ

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JP3299384B2
JP3299384B2 JP10067094A JP10067094A JP3299384B2 JP 3299384 B2 JP3299384 B2 JP 3299384B2 JP 10067094 A JP10067094 A JP 10067094A JP 10067094 A JP10067094 A JP 10067094A JP 3299384 B2 JP3299384 B2 JP 3299384B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、偏光ビームスプリッタ
に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、例えば光磁気ディスク等の各種光
学装置にあっては、偏光方向によって回折効率を異なら
しめる偏光ビームスプリッタが備えられている。この偏
光ビームスプリッタに関しては種々の提案がなされてお
り、例えば特開昭63−26604号公報等に記載され
ている。
【0003】この特開昭63−26604号公報記載の
偏光ビームスプリッタは、複屈折媒体に形成した表面凹
凸格子の少なくとも凹部を、複屈折媒体の常光屈折率ま
たは異常光屈折率とほぼ等しい屈折率の物質で充填し、
常光または異常光を回折させるというものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記偏
光ビームスプリッタにあっては、以下の問題がある。す
なわち、充填物質の屈折率を、複屈折媒体の常光屈折率
または異常光屈折率とほぼ等しい屈折率としなければな
らないので、充填物質の選択の幅が狭くなり、設計の自
由度の向上が図れないといった問題がある。
【0005】そこで本発明は、充填物質を広く選択で
き、設計の自由度の向上が図られる偏光ビームスプリッ
タを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の偏光ビームス
プリッタは、上記目的を達成するために、複屈折材料よ
りなり、その表面に凹凸状の周期格子が形成された複屈
折基板を備え、該凹部に、光学的等方性物質を充填し
て、上記複屈折基板と光学的等方性物質とからなる表面
を平坦状とした偏光ビームスプリッタであって、該光学
的等方性物質の屈折率(nc)と、該複屈折材料の常光
屈折率(no)、異常光屈折率(ne)との間に、以下
の式に示す関係があることによって、前記屈折率(n
c)が前記常光屈折率(no)または異常光屈折率(n
e)と略等しい物質を除いた光学的等方性物質を選択し
て充填したことを特徴とする。 nc=no+m(no−ne);(m=±1,±2,±3…) =ne+l(no−ne);(l=±1,±2,±3…)
【0007】請求項2の偏光ビームスプリッタは、上記
目的を達成するために、請求項1に加えて、前記複屈折
基板をニオブ酸リチウムで、前記充填物質をソーダガラ
スで、それぞれ形成してなる。
【0008】
【作用】このような請求項1、2における偏光ビームス
プリッタによれば、複屈折基板の凹部に充填され上記式
を満足する充填物質及び複屈折基板は、常光または異常
光の何れか一方を回折させず、他方を回折させる。従っ
て、従来より充填物質の選択の幅が広げられる。
【0009】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。図1は本発明の一実施例を示す偏光ビームスプリ
ッタの縦断面図である。
【0010】同図において、符号1は、例えばニオブ酸
リチウムよりなる複屈折基板を示しており、この複屈折
基板1表面には、凹凸による周期的な格子が形成されて
いる。複屈折基板1の凹部1aには、ニオブ酸リチウム
の常光屈折率noと異常光屈折率neとの間に、後述の
7式または8式を満たす屈折率ncを有する充填物質
(但し、常光屈折率noまたは異常光屈折率neに略等
しい屈折率を有する物質を除く)として、例えば本実施
例においてはソーダガラス2が充填されている。
【0011】ここで、複屈折基板1の厚さをt、充填物
質2の厚さをd2、複屈折基板1の常光に対する屈折率
をno、複屈折基板1の異常光に対する屈折率をne、
充填物質2の屈折率をnc、光の波長をλ、k=2π/
λ、とすると、充填物質2の充填されていない領域(図
におけるAの領域)を通過する常光の位相は、 no・t・k …1式 充填物質2の充填されている領域(図1におけるBの領
域)を通過する常光の位相は、 {no(t−d2)+nc・d2}・k …2式 従って、常光のA、Bに対する位相差OPD(o)は、
1式−2式より、 OPD(o)=(no−nc)・d2・k …3式
【0012】一方、Aの領域を通過する異常光の位相
は、 ne・t・k …4式 Bの領域を通過する異常光の位相は、 {ne(t−d2)+nc・d2}・k …5式 従って、異常光のA、Bに対する位相差OPD(e)
は、4式−5式より、 OPD(e)=(ne−nc)・d2・k …6式
【0013】ここで、常光または異常光の何れか一方の
みを回折させるためには、3式または6式の何れか一方
のみがπの偶数倍となれば良い。すなわち、常光のみを
回折させるには、 OPD(e)=2pπ、(p=0,±1,±2…) また、異常光のみを回折させるには、 OPD(o)=2pπ、(p=0,±1,±2…)
【0014】ところが、上記条件のみでは、d2の設定
によっては、常光・異常光のうち回折させる光の中に
も、回折しない光量が存在する場合がある。本発明の偏
光ビームスプリッタは、例えば光ディスク装置のピック
アップの中に用いることができるが、このような用途に
あっては、常光・異常光のうち一方は全て回折させ、他
方は全く回折しないようにすることが望ましい。すなわ
ち、 OPD(o)=2pπ、 (p=0,±1,±2
…)、且つ OPD(e)=(2q+1)π、(q=0,±1,±2
…) 或は、 OPD(o)=(2q+1)π、(q=0,±1,±2
…)、且つ OPD(e)=2pπ、 (p=0,±1,±2
…)、であることが必要である。 すなわち、OPD(o)−OPD(e)=(2i+1)
π(i=0,±1,±2…)という条件である。
【0015】OPD(o)−OPD(e) ={(no−ne)−(ne−nc)}・d2・k =(no−ne)・d2・k =(2i+1)π、(i=0,±1,±2…) この式から判るように、d2はiのとり方によって無数
の値をとり得るが、最小のd2は、i=0或はi=−1
の時得られ、 d2=π/{k・|no−ne|} =λ/{2・|no−ne|}となる。
【0016】さらに、このd2において、前述のよう
に、OPD(o)或はOPD(e)の一方がπの偶数
倍、他方がπの奇数倍とならなくてはいけないが、ここ
で、本実施例の充填物質には、 nc=no+m(no−ne)、(但しm=±1,±2…) …7式 並びに、 nc=ne+l(no−ne)、(但しl=±1,±2…) …8式 なる材料が選択されている。
【0017】従って、 OPD(e)=(ne−nc)・d2・k ={(ne−nc)/(no−ne)}・π ={−l(no−ne)・π}/(no−ne) =−lπ よって、充填物質のnc=ne+l(no−ne)にお
けるlが偶数の時、異常光は全て回折せず、常光は全て
回折し、lが奇数の時、異常光は全て回折し、常光は全
て回折しないようにすることができる。
【0018】従って、本実施例においては、λ=0.6
33μmにおいて、ニオブ酸リチウムのno=2.28
6、ne=2.2であり、 nc=no+m(no−ne) =2.286−9×0.086 =1.512 nc=ne+l(no−ne) =2.2−8×0.086 =1.512 となり、ソーダガラスが利用されている。
【0019】このように、本実施例においては、複屈折
材料としてのニオブ酸リチウムよりなり、その表面に凹
凸状の周期格子が形成された複屈折基板1と、この複屈
折基板1の凹部1aに充填され、該複屈折基板1の複屈
折材料の常光屈折率noと異常光屈折率neとの間に上
記7式または8式を満たす屈折率ncを有する充填物質
(但し、常光屈折率または異常光屈折率に略等しい屈折
率を有する物質を除く)としてのソーダガラス2と、を
具備するようにしたので、上述のように、偏光ビームス
プリッタとして機能させることができるようになってい
る。
【0020】該充填物質2の屈折率ncは、上記7式ま
たは8式を満たせば良いことから、従来より充填物質の
選択の幅を広げることができるようになっており、設計
の自由度の向上を図ることが可能となっている。
【0021】本発明の第2実施例として、複屈折基板材
料に水晶を用いた例を述べる。水晶はno=1.52、
ne=1.48であり、前記m、lとして、m=−1
3、l=−12とすると、 nc=no+m(no−ne) =1.52−13×0.04 =1.0 nc=ne+l(no−ne) =1.48−12×0.04 =1.0 すなわち、 d2=π/{k・|no−ne|} =λ/{2・|no−ne|}の条件下で、充填物質を
空気とすることができる。
【0022】本発明の第3実施例として、複屈折基板材
料に方解石を用いた例を述べる。方解石はno=1.6
4、ne=1.48であり、前記m、lとして、m=−
4、l=−3とすると、 nc=no+m(no−ne) =1.64−4×0.16 =1.0 nc=ne+l(no−ne) =1.48−3×0.16 =1.0 すなわち、 d2=π/{k・|no−ne|} =λ/{2・|no−ne|}の条件下で、充填物質を
空気とすることができる。
【0023】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変形可能であるというのはいうまでもなく、例え
ば、上記実施例においては、複屈折基板1をニオブ酸リ
チウム、水晶、方解石により、充填物質2をソーダガラ
スより、それぞれ構成しているが、上記材料に限定され
るものではない。
【0024】
【発明の効果】以上述べたように、請求項1、2の偏光
ビームスプリッタによれば、複屈折材料よりなり、その
平坦状の表面に凹凸状の周期格子が形成された複屈折基
板を備え、該凹部に、光学的等方性物質を充填してなる
偏光ビームスプリッタであって、該光学的等方性物質の
屈折率(nc)と、該複屈折材料の常光屈折率(n
o)、異常光屈折率(ne)との間に、以下の式に示す
関係があることによって、前記屈折率(nc)が前記常
光屈折率(no)または異常光屈折率(ne)と略等し
い物質を除いた光学的等方性物質を選択して充填したこ
を特徴としたので、 nc=no+m(no−ne);(m=±1,±2,±3…) =ne+l(no−ne);(l=±1,±2,±3…) 該充填物質の屈折率ncは上記式を満たせば良く、従っ
て、従来より充填物質の選択の幅を広げることができ、
設計の自由度の向上を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す偏光ビームスプリッタ
の縦断面図である。
【符号の説明】
1 複屈折基板 1a 複屈折基板の凹部 2 充填物質

Claims (2)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複屈折材料よりなり、その表面に凹凸状
    の周期格子が形成された複屈折基板を備え、 該凹部に、光学的等方性物質を充填して、上記複屈折基
    板と光学的等方性物質とからなる表面を平坦状とした偏
    光ビームスプリッタであって、 該光学的等方性物質の屈折率(nc)と、該複屈折材料
    の常光屈折率(no)、異常光屈折率(ne)との間
    に、以下の式に示す関係があることによって、前記屈折
    率(nc)が前記常光屈折率(no)または異常光屈折
    率(ne)と略等しい物質を除いた光学的等方性物質を
    選択して充填したことを特徴とする偏光ビームスプリッ
    タ。 nc=no+m(no−ne);(m=±1,±2,±3…) =ne+l(no−ne);(l=±1,±2,±3…)
  2. 【請求項2】 請求項1記載の偏光ビームスプリッタに
    おいて、 前記複屈折基板をニオブ酸リチウムで、前記充填物質を
    ソーダガラスで、それぞれ形成してなる偏光ビームスプ
    リッタ。
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