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JP3313006B2 - Copper alloy lead frame for bare bond - Google Patents
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JP3313006B2 - Copper alloy lead frame for bare bond - Google Patents

Copper alloy lead frame for bare bond

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JP3313006B2
JP3313006B2 JP06208595A JP6208595A JP3313006B2 JP 3313006 B2 JP3313006 B2 JP 3313006B2 JP 06208595 A JP06208595 A JP 06208595A JP 6208595 A JP6208595 A JP 6208595A JP 3313006 B2 JP3313006 B2 JP 3313006B2
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solder
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C9/00Alloys based on copper

Landscapes

  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、めっきを施さない状
態で使用されるベアボンド用銅合金リードフレームにお
いて、半導体チップとのはんだダイボンディング性が優
れ、かつアルミニウム線によるワイヤボンディング性に
優れるとともに、加熱によるアルミニウム線接合部の接
合強度低下を抑制したベアボンド用銅合金リードフレー
ムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a copper alloy lead frame for bare bond used without plating, which has excellent solder die bonding with a semiconductor chip and excellent wire bonding with an aluminum wire. The present invention relates to a copper alloy lead frame for bare bond in which a decrease in the bonding strength of an aluminum wire bonding portion due to heating is suppressed.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば特公昭55ー2454号公報に記
載されたFe:0.02〜0.50質量%、P:0.0
2〜0.10質量%を含み残部が本質的にCuからなる
銅合金、あるいは特公昭58ー53057号公報に記載
されたFe:0.04〜0.15質量%、P:0.02
5〜0.04質量%を含み、かつ第3添加元素を含み残
部が本質的にCuからなる銅合金は、FePが微細析
出することによって強化された高強度な銅合金であり、
小型化、薄肉化が進行するIC用銅系リードフレームと
して広く用いられている。
2. Description of the Related Art For example, Fe: 0.02 to 0.50% by mass , P: 0.0 described in JP-B-55-2454.
Copper alloy containing 2 to 0.10% by mass and the balance essentially consisting of Cu, or Fe: 0.04 to 0.15% by mass , P: 0.02 described in JP-B-58-53057.
The copper alloy containing 5 to 0.04% by mass and containing the third additive element and the balance essentially consisting of Cu is a high-strength copper alloy strengthened by fine precipitation of Fe 2 P,
It is widely used as a copper-based lead frame for ICs that is becoming smaller and thinner.

【0003】これらの材料よりなるリードフレームは、
従来より、表面にニッケルめっきや貴金属めっき(銀め
っき)を施されたものがボンディングに供されている
が、ダイボンディング技術やワイヤボンディング技術の
発達によりリードフレームがボンディング工程中に受け
る熱量が減少して、銅合金表面においてダイレクトボン
ディング性を低下させる酸化膜の成長が抑制されるよう
になり、さらに生産性向上及びコストダウンの観点か
ら、ニッケルめっきや貴金属めっきを省略することが考
えられるようになった。そして、まず、信頼性確保のた
めに金線を用い、高温(200℃)の不活性雰囲気下で
超音波を印加しながらワイヤボンディングする技術が実
用化された。
[0003] Lead frames made of these materials are:
Conventionally, nickel-plated or noble metal-plated (silver-plated) surfaces have been used for bonding. However, due to the development of die bonding technology and wire bonding technology, the amount of heat received by the lead frame during the bonding process has been reduced. Therefore, the growth of an oxide film that lowers the direct bonding property on the surface of the copper alloy is suppressed, and nickel plating and noble metal plating can be omitted from the viewpoint of improving productivity and reducing costs. Was. Then, first, a technique of wire bonding using a gold wire while applying an ultrasonic wave in a high-temperature (200 ° C.) inert atmosphere to ensure reliability has been put to practical use.

【0004】ダイレクトボンディングに用いる金線は1
5〜35μmφ程度の細線が使用されており、ワイヤボ
ンド部の面積も小さいため、接合強度を安定させるため
にはリードフレームの表面が平滑な方がよいとされてい
る。例えば特公昭62−46071号公報には、銅合金
リードフレームの最大表面粗さ(Rmax)を0.5μ
m以下に調整することが記載され、特開昭64ー577
41号公報には、ダイレクトボンディング用ICリード
フレームとしてワイヤボンド部の面粗さ(Rmax)を
0.2μm以下に仕上げることが記載されている。
The gold wire used for direct bonding is 1
Since a thin wire of about 5 to 35 μmφ is used and the area of the wire bond portion is small, it is said that the surface of the lead frame should be smooth in order to stabilize the bonding strength. For example, Japanese Patent Publication No. Sho 62-46071 discloses that the maximum surface roughness (R max ) of a copper alloy lead frame is 0.5 μm.
m is described below.
No. 41 describes that the surface roughness (R max ) of a wire bond portion is finished to 0.2 μm or less as an IC lead frame for direct bonding.

【0005】そして、特開平2ー173227号公報に
は、ダイレクトボンディング性の良好な銅合金として、
Fe:0.05〜0.5質量%、P:0.01〜0.3
質量%と、強度と耐食性を向上させるため任意に第3添
加成分0.001〜2.0質量%を含み、残部が銅およ
び不可避不純物からなり、表面硬さがHv120以上、
表面粗さが中心線平均粗さ(R)で0.15μm以
下、最大高さ(Rmax)で0.8μm以下に調整した
銅合金が示されている。また、ここでは、銅細線を用い
て良好なワイヤボンディング性が得られたことが記載さ
れている。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 2-173227 discloses a copper alloy having good direct bonding properties.
Fe: 0.05 to 0.5% by mass , P: 0.01 to 0.3
% By mass , optionally containing 0.001 to 2.0% by mass of a third additive to improve strength and corrosion resistance, the balance being copper and unavoidable impurities, and having a surface hardness of Hv 120 or more;
A copper alloy whose surface roughness is adjusted to a center line average roughness (R a ) of 0.15 μm or less and a maximum height (R max ) of 0.8 μm or less is shown. It also describes that good wire bonding properties were obtained using a fine copper wire.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、コス
トダウンの観点より金線をアルミニウム線に変え、これ
を常温の大気中で、メッキを省略した銅合金リードフレ
ームに対しワイヤボンディングすることが考えられるよ
うになったが、銅合金リードフレームの表面粗さ等の表
面状態がワイヤボンディング性(接合強度)に影響する
ことを指摘したこれまでの文献は、いずれも細い金線や
銅線を用いることを想定したものであり、100〜50
0μm径と太いアルミニウム線のワイヤボンディング性
とリードフレームの表面状態との関係は未だ明確になっ
ていない。
In recent years, from the viewpoint of cost reduction, it has been considered that a gold wire is changed to an aluminum wire, and the wire is wire-bonded to a copper alloy lead frame without plating in an atmosphere at room temperature. However, the literatures which point out that the surface condition such as the surface roughness of the copper alloy lead frame affects the wire bonding property (bonding strength) all use a thin gold wire or a copper wire. It is assumed that 100 to 50
The relationship between the wire bonding property of a thick aluminum wire having a diameter of 0 μm and the surface state of the lead frame has not yet been clarified.

【0007】また、半導体チップは高温はんだで銅合金
リードフレームと接合されるが、近年、信頼性の向上の
ためにフラックスレス化が進んでおり、銀などの貴金属
をめっきしたものでははんだ濡れ性が良いためこれまで
問題にされていなかったところ、メッキを省略する場合
においては、フラックスの使用の抑制に伴うはんだと銅
合金リードフレームの濡れ広がり性低下が問題となって
きた。
A semiconductor chip is joined to a copper alloy lead frame by high-temperature solder. However, in recent years, fluxlessness has been promoted to improve reliability. However, when plating is omitted, there has been a problem that the spread of the solder and the copper alloy lead frame is reduced due to the suppression of the use of the flux.

【0008】例えば、上記特開平2−173227号公
報において必須の要件とされる表面硬さHv120以上
となるような高強度材料を得るには銅中への添加元素を
増やす必要があるが、添加元素の量が増えるとはんだの
濡れ広がり性、すなわちはんだダイボンディング性が悪
くなり、フラックスレス化の流れに沿わなくなる。併せ
て、添加元素を増やすことで導電率が低下し、また酸化
膜の密着性が低下してアセンブリ工程中に酸化膜が剥離
しやすくなるという問題が出てくる。
For example, in order to obtain a high-strength material having a surface hardness Hv of 120 or more, which is an essential requirement in the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-173227, it is necessary to increase the elements added to copper. When the amount of the element increases, the wettability and spreadability of the solder, that is, the solder die bonding property is deteriorated, and the solder does not follow the flow of fluxlessness. At the same time, increasing the number of added elements causes a problem that the conductivity is reduced, and the adhesion of the oxide film is reduced, so that the oxide film is easily peeled off during the assembly process.

【0009】さらに、最近アセンブリ後のリードフレー
ムの受ける熱量はさらに増加する傾向にあり、熱放散性
の観点からも導電率を高く保つ必要があるとともに、1
75℃〜200℃の温度に長期間さらされたときのアル
ミニウム線接合部の信頼性を向上させる技術が必要とな
ってきている。しかし、導電率が高い材料である錫入り
銅やりん脱酸銅、ジルコニウム入り銅などは、アルミニ
ウム線接合部の信頼性が低く、さらに酸化膜が剥離しや
すい、はんだ濡れ広がり性が悪いなどの問題を持ってい
る。なお、アルミニウム線接合部の信頼性を向上させる
意味で、組み立て工程中にアルミニウム線を少し溶か
し、アルミニウム線と銅の接合強度を向上させる技術も
報告されているが、この場合、組み立て工程を変更する
ことによる生産性の低下や新たな設備投資などの問題が
でてくる。
Furthermore, the amount of heat received by the lead frame after assembly recently tends to further increase, and it is necessary to keep the conductivity high from the viewpoint of heat dissipation, and
There is a need for a technique for improving the reliability of an aluminum wire joint when exposed to a temperature of 75 ° C to 200 ° C for a long time. However, materials with high conductivity, such as copper with tin, copper with phosphorous deoxidation, and copper with zirconium, have low reliability of the aluminum wire joint, furthermore, the oxide film is easily peeled off, and the solder wettability is poor. Have a problem. In addition, in order to improve the reliability of the aluminum wire joint, there has been reported a technology that slightly melts the aluminum wire during the assembly process to improve the bonding strength between the aluminum wire and copper. Problems such as reduced productivity and new capital investment.

【0010】本発明は、このような従来の問題点に鑑み
てなされたもので、FeとPを含みFeP金属間化合
物で析出強化された銅合金リードフレームにおいて、高
い導電率をもち、はんだダイボンディング性(はんだ濡
れ広がり性)、アルミニウム線によるワイヤボンディン
グ性(ワイヤ接合強度)、アルミニウム線接合部信頼性
(加熱後の接合強度保持)、及び酸化膜の密着性に優れ
たベアボンド用銅合金リードフレームを得ることを目的
とする。
The present invention has been made in view of such a conventional problem, and has a high conductivity in a copper alloy lead frame containing Fe and P and strengthened by precipitation with an Fe 2 P intermetallic compound. Bare bond copper excellent in solder die bonding (solder wet spreadability), wire bonding by aluminum wire (wire bonding strength), reliability of aluminum wire bonding (retention of bonding strength after heating), and adhesion of oxide film The purpose is to obtain an alloy lead frame.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、めっきを施さ
ない状態でアルミニウム線を用いてワイヤボンディング
されるFeとPを含む銅合金リードフレームにおいて、
Zn:0.005〜0.150質量%、Ni:0.00
5〜0.050質量%のうち少なくとも1種類を合計で
0.20質量%以下含有し、導電率を85%IACS以
上、表面硬さをビッカース硬度(Hv)120未満、ダ
イボンド部の鏡面反射率を30%以上、リードフレーム
表面の酸化皮膜厚みを80A(A=オングストローム、
以下同じ)以下としたことを特徴とするはんだダイボン
ディング性、ワイヤボンディング性、及び接合部信頼性
に優れるベアボンド用銅合金リードフレームに関する。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a copper alloy lead frame containing Fe and P which is wire-bonded using an aluminum wire without plating.
Zn: 0.005 to 0.150 mass %, Ni: 0.00
5 to 0.050 mass %, containing at least one kind in total of 0.20 mass % or less, having a conductivity of 85% IACS or more, a surface hardness of less than Vickers hardness (Hv) 120, and a specular reflectance of a die bond portion. 30% or more, and the thickness of the oxide film on the lead frame surface is 80A (A = angstrom,
The present invention also relates to a copper alloy lead frame for bare bond having excellent solder die bonding property, wire bonding property, and joint reliability.

【0012】[0012]

【作用】本発明においては、FeとPを含みFeP金
属間化合物で析出強化された銅合金リードフレームの、
微量添加元素、導電率、表面硬さ、鏡面反射率、酸化膜
厚みの5条件が相互に関係し、はんだダイボンディング
性(はんだ濡れ広がり性)、アルミニウム線によるワイ
ヤボンディング性(ワイヤ接合強度)、アルミニウム線
接合部信頼性(加熱後の接合強度保持)、及び酸化膜の
密着性というベアボンド用リードフレームとして最も必
要な4つの特性を向上させる。
According to the present invention, a copper alloy lead frame containing Fe and P and strengthened by precipitation with an Fe 2 P intermetallic compound is provided.
The five conditions of trace added elements, conductivity, surface hardness, specular reflectance, and oxide film thickness are interrelated, and solder die bonding (solder wet spread), aluminum wire bonding (wire bonding strength), The four most necessary characteristics for bare bond lead frames such as the reliability of the aluminum wire bonding portion (maintaining bonding strength after heating) and the adhesion of an oxide film are improved.

【0013】FeとPを含む本発明の銅合金リードフレ
ームにおいて、導電率を85%IACS以上、好ましく
は90%IACS以上とすることにより、上記特性の全
てが向上することが実験的に確認された。FeとPを含
み導電率85%IACS以上である本発明の銅合金リー
ドフレームを得るには、FeとPの質量%比(Fe/
P)を2〜4に制御するとともに、P含有量を0.05
質量%以下とするのが望ましい。そして、このような銅
合金素材を50%以上の断面積比率で冷間圧延し、その
後最終焼純処理として450〜550℃の温度で熱処理
することによりFePを均一且つ微細に析出させて得
ることができる。
It has been experimentally confirmed that all of the above characteristics can be improved by setting the conductivity of the copper alloy lead frame containing Fe and P to 85% IACS or more, preferably 90% IACS or more. Was. To obtain the copper alloy lead frame of the present invention containing Fe and P and having a conductivity of 85% IACS or more, the mass % ratio of Fe to P (Fe /
P) is controlled to 2 to 4, and the P content is 0.05
It is desirably set to not more than mass %. Then, such a copper alloy material is cold-rolled at a cross-sectional area ratio of 50% or more, and then heat-treated at a temperature of 450 to 550 ° C. as a final refining process to precipitate Fe 2 P uniformly and finely. Obtainable.

【0014】ここで、550℃を超える温度で熱処理す
るとFePの析出物が粗大化するとともに分布状態が
粗になり所望の特性が得られない。また、析出しないP
の量、他の添加元素や不純物の種類や量に応じて導電率
は急激に低下する。例えば、前記特開平2ー17322
7号公報に示されるようなFe:0.05〜0.5質量
%、P:0.01〜0.3質量%を含み残部が銅および
不可避不純物からなる銅合金でも、FeとPの質量%比
(Fe/P)や製造条件により、またFeやPの含有量
が多いと導電率が85%IACS未満となり、副成分と
してAs、Sbなどを0.001〜2.0質量%添加し
た場合、導電率がさらに低下する。
Here, when the heat treatment is performed at a temperature exceeding 550 ° C., the precipitate of Fe 2 P becomes coarse and the distribution state becomes coarse, so that desired characteristics cannot be obtained. In addition, P which does not precipitate
The conductivity sharply decreases according to the amount of, the type and amount of other additive elements and impurities. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
No. 7, even in a copper alloy containing 0.05 to 0.5% by mass of Fe and 0.01 to 0.3% by mass of P and the balance consisting of copper and inevitable impurities, the mass of Fe and P Depending on the% ratio (Fe / P) and the production conditions, and when the content of Fe or P is large, the conductivity becomes less than 85% IACS, and 0.001 to 2.0% by mass of As, Sb, or the like is added as an accessory component. In this case, the conductivity is further reduced.

【0015】FePとして析出しなかったPや、他の
添加元素や不純物(Snなど)が多く導電率が85%I
ACS未満となるようなとき上記特性が低下する理由
は、表面酸化膜にこれらの元素の濃縮層ができそこが酸
化物剥離の起点となったり、また、Snなどの不純物の
酸化物がダイボンディング前の還元加熱処理で十分還元
されず、これがはんだ濡れ広がり性やワイヤボンディン
グ性を阻害するとともに未接合部分を形成したりするた
めと考えられる。
P, which is not precipitated as Fe 2 P, or contains a large amount of other additional elements or impurities (such as Sn), has a conductivity of 85% I.
The reason why the above characteristics deteriorate when the value is less than ACS is that a concentrated layer of these elements is formed on the surface oxide film, which serves as a starting point of oxide exfoliation, and that oxides of impurities such as Sn are bonded by die bonding. It is considered that the reduction is not sufficiently reduced by the previous reduction heat treatment, which impairs the solder wettability and the wire bonding property and also forms an unbonded portion.

【0016】純アルミニウム線の表面硬さはビッカース
硬度(Hv)50程度であり、銅合金リードフレームの
硬さはアルミニウム線に近いほど接合性がよい。そのた
めリードフレームの表面硬さをビッカース硬度(Hv)
120より小さい硬度とする。この硬度において、アル
ミニウム線と大気中、常温の超音波ウエッジボンディン
グで良好なワイヤ接合強度が得られる。しかし、銅合金
リードフレーム自体が柔らかすぎるとハンドリング時の
曲がりなどの問題があるので、硬度(Hv)85以上と
するのが望ましい。
The surface hardness of the pure aluminum wire is about Vickers hardness (Hv) of about 50, and the closer the hardness of the copper alloy lead frame to the aluminum wire, the better the bondability. Therefore, the surface hardness of the lead frame is determined by Vickers hardness (Hv).
The hardness is set to be smaller than 120. At this hardness, good wire bonding strength can be obtained by ultrasonic wedge bonding at room temperature in an aluminum wire with air. However, if the copper alloy lead frame itself is too soft, there is a problem such as bending at the time of handling, so that the hardness (Hv) is desirably 85 or more.

【0017】なお、最近、耐食性や強度向上の目的でア
ルミニウムに微量のニッケルやマグネシウムを添加した
アルミニウム合金線が増えているが、このようなアルミ
ニウム合金線にも本発明の銅合金リードフレームは有効
である。また、銅合金リードフレームははんだダイボン
ディング前に還元雰囲気中で300℃以上の温度で加熱
され、表面の有機物や酸化膜が除かれるが、このアセン
ブリ工程中の加熱で表面硬さをビッカース硬度(Hv)
120より小さい硬度としてもよい。
Recently, aluminum alloy wires obtained by adding a small amount of nickel or magnesium to aluminum for the purpose of improving corrosion resistance and strength have been increasing, and the copper alloy lead frame of the present invention is also effective for such aluminum alloy wires. It is. In addition, the copper alloy lead frame is heated at a temperature of 300 ° C. or more in a reducing atmosphere before solder die bonding to remove organic substances and oxide films on the surface, but the surface hardness is reduced by Vickers hardness ( Hv)
The hardness may be smaller than 120.

【0018】次に、銅合金リードフレームの鏡面反射率
はダイボンディング性、すなわちはんだ濡れ広がり性に
関係し、ダイボンド部の鏡面反射率を30%以上とする
ことによりフラックスなしでのはんだ濡れ広がり性が向
上する。ダイボンド部の鏡面反射率はスタンピング時の
加工により、あるいは圧延仕上げ時の加工を強くするこ
とにより高めることができる。
Next, the specular reflectivity of the copper alloy lead frame is related to the die bonding property, that is, the solder wet spreading property. By setting the specular reflectivity of the die bond portion to 30% or more, the solder wet spreading property without flux is obtained. Is improved. The specular reflectance of the die bond portion can be increased by processing at the time of stamping or by strengthening the processing at the time of rolling.

【0019】なお、銅合金リードフレームの表面性状に
関しては、前記特開昭64−57741号公報や特開平
2ー173227号公報において表面粗さが規定されて
いるが、これまで、表面粗さとはんだ濡れ広がり性との
間に明確な関係は見い出されていない。これは、銅合金
の製造工程で圧延方向に存在する研磨目と最終仕上げ圧
延加工で圧延方向に垂直に発生するオイルピットではは
んだ濡れ広がり性に及ぼす影響が異なり、表面粗さが研
磨目とオイルピットのどちらを測定しているか明確にで
きないため、表面粗さを規定しても十分なはんだ濡れ広
がり性を保証できないからである。
With respect to the surface properties of the copper alloy lead frame, the surface roughness is specified in the above-mentioned JP-A-64-57741 and JP-A-2-173227. No clear relationship has been found with wet spreadability. This is because the effect on the wettability and spreadability of solder pits differs in the polishing pits existing in the rolling direction in the copper alloy manufacturing process and the oil pits generated perpendicular to the rolling direction in the final finish rolling process, and the surface roughness is different from the polishing pits and oil. This is because it is not possible to clarify which of the pits is being measured, so that sufficient solder wettability cannot be guaranteed even if the surface roughness is specified.

【0020】また、鏡面反射率はワイヤボンディング性
にも関係し、ワイヤボンド部に汚れ、防錆皮膜、酸化膜
などができるだけ少ない方が望ましい。なお、上記公報
では銅合金リードフレームの表面粗さが規定され、表面
が平滑なほどワイヤボンディング性がよいとされてき
た。これは、ワイヤボンド部の表面が粗くなるとワイヤ
ボンディング時の超音波は凸部のみに集中してワイヤと
リードフレームの接合面積が減少し、これが接合強度の
低下を招くため、ワイヤボンド部の接合強度を安定させ
るためにはリードフレーム表面を平滑にする必要がある
との認識に立つものであるが、これは15〜35μm径
の細い金線又は銅線を用いたワイヤボンディングにおい
て適用されるとしても、主として100〜500μm径
の太線が使用されているアルミニウム線のワイヤボンデ
ィングに直ちに適用されるものではない。
The specular reflectance also relates to the wire bonding property, and it is desirable that the wire bond portion has as little dirt, rust preventive film, oxide film, etc. as possible. In the above publication, the surface roughness of the copper alloy lead frame is specified, and it is considered that the smoother the surface, the better the wire bonding property. This is because, when the surface of the wire bond portion becomes rough, the ultrasonic wave during wire bonding concentrates only on the convex portion, and the bonding area between the wire and the lead frame decreases, which causes a decrease in bonding strength. In order to stabilize the strength, it has been recognized that it is necessary to smooth the lead frame surface, but this is applied to wire bonding using a thin gold wire or copper wire having a diameter of 15 to 35 μm. However, it is not immediately applied mainly to wire bonding of an aluminum wire mainly using a thick wire having a diameter of 100 to 500 μm.

【0021】逆に、アルミニウム線(太線)では高荷重
をかけることができるため、ワイヤボンド部のRmax
は0.8〜1.0μm程度に粗いほうがアンカー効果等
により接合性が良くなる場合がある。つまり、100〜
500μm径程度のアルミニウム線を用いる銅合金リー
ドフレームの場合、ワイヤボンド部の面積が大きくボン
ディング時の荷重も大きいため、Rmaxが0.2μm
より大きく1μm以下の通常生産されている銅製品表面
で十分な接合強度を得ることができるので、本発明にお
いてはあえて表面粗さを規定する必要がない。
Conversely, since a high load can be applied to an aluminum wire (thick wire), the R max of the wire bond portion is increased.
In some cases, a rougher one having a roughness of about 0.8 to 1.0 μm may improve the bonding property due to an anchor effect or the like. That is, 100 ~
In the case of a copper alloy lead frame using an aluminum wire having a diameter of about 500 μm, since the area of the wire bond portion is large and the load at the time of bonding is large, R max is 0.2 μm.
Since a sufficient bonding strength can be obtained on the surface of a normally produced copper product having a size of 1 μm or less, there is no need to specify the surface roughness in the present invention.

【0022】次に、酸化膜の厚みはワイヤボンド部の接
合強度に関係している。つまり、銅合金リードフレーム
の初期酸化が少ないほどアセンブリ工程の還元加熱処理
において還元されやすく、ワイヤボンディング時の酸化
膜が薄くなるためワイヤボンド部の接合強度が向上する
ものである。酸化膜の厚みを機器分析やカソード還元法
によって測定した結果、アセンブリ工程前の酸化膜の厚
みが80A以下であればワイヤボンド部の接合強度が良
好となり、逆に酸化膜の厚みが80Aを越えると還元に
時間がかかるだけでなく、ワイヤボンド部の接合強度が
低下する。
Next, the thickness of the oxide film is related to the bonding strength of the wire bond portion. In other words, the smaller the initial oxidation of the copper alloy lead frame, the easier it is to reduce in the reduction heating treatment in the assembly step, and the thinner the oxide film at the time of wire bonding, the higher the bonding strength of the wire bond portion. As a result of measuring the thickness of the oxide film by an instrumental analysis or a cathode reduction method, if the thickness of the oxide film before the assembly process is 80 A or less, the bonding strength of the wire bond portion becomes good, and conversely, the thickness of the oxide film exceeds 80 A Not only takes a long time for reduction, but also lowers the bonding strength of the wire bond portion.

【0023】また、酸化膜の厚みが大きくなると、はん
だの濡れ広がり性を低下させる原因となる。つまり、ベ
アボンディングにおいては、銅合金リードフレームは通
常、アセンブリ工程において水素を含む窒素中(水素含
有量:4〜15%、酸素:1000ppm以下)、300
〜380℃で15秒以上の還元加熱処理を受けるが、酸
化膜が厚く還元時間が長くなると銅合金リードフレーム
に含まれる不純物が表面へ拡散し、これがはんだ濡れ広
がり性を低下させる。従って、はんだの濡れ広がり性の
点からも、ベアボンド用銅合金リードフレームでは初期
酸化を少なくすることが不可欠である。そして、酸化膜
の厚みを80A以下とすることで良好なはんだ濡れ広が
り性を確保できる。さらに、酸化膜の厚みが大きくなる
と酸化膜の密着性が悪くなるが、本発明では銅合金リー
ドフレーム表面の初期酸化膜厚みを80A以下としてそ
の剥離を抑制する。なお、初期酸化を少なくする方法と
して研磨、酸洗浄、エッチング、還元処理などが考えら
れる。
In addition, an increase in the thickness of the oxide film causes a reduction in the spreadability of the solder. That is, in the bare bonding, the copper alloy lead frame is usually placed in nitrogen containing hydrogen (hydrogen content: 4 to 15%, oxygen: 1000 ppm or less) in the assembly process at 300.
The substrate is subjected to a reduction heating treatment at 380 ° C. for 15 seconds or more. However, when the oxide film is thick and the reduction time is long, impurities contained in the copper alloy lead frame diffuse to the surface, which lowers the solder wettability. Therefore, it is indispensable to reduce the initial oxidation in the copper alloy lead frame for bare bond from the viewpoint of the spreadability of the solder. By setting the thickness of the oxide film to 80 A or less, good solder wettability can be ensured. Further, as the thickness of the oxide film increases, the adhesion of the oxide film deteriorates. However, in the present invention, the initial oxide film thickness on the surface of the copper alloy lead frame is set to 80A or less to suppress the peeling. As a method for reducing the initial oxidation, polishing, acid cleaning, etching, reduction treatment and the like can be considered.

【0024】本発明の銅合金リードフレームは、Zn:
0.005〜0.150質量%、Ni:0.005〜
0.050質量%のうち少なくとも1種類を合計で0.
20質量%以下含有するが、これらの元素はアルミニウ
ム線接合部信頼性(加熱後の接合強度保持)を向上させ
る作用を持つ。
The copper alloy lead frame of the present invention has a Zn:
0.005 to 0.150 mass %, Ni: 0.005 to
At least one of 0.050% by mass is used in a total amount of 0.1%.
Although these elements are contained in an amount of 20% by mass or less, these elements have an effect of improving the reliability of the aluminum wire joint (retaining the joint strength after heating).

【0025】先に述べたように、アセンブリ後のリード
フレームの受ける熱量は近年増加する傾向にあり、アル
ミニウム線を使用する場合、ワイヤボンド部が175℃
〜200℃の温度に長期間さらされたときの接合強度低
下がこれまで問題となっていた。本発明者は、アルミニ
ウム線を使用したワイヤボンド部において、200℃で
加熱すると500時間加熱後で約1μm、2000時間
加熱後には2μm程度のアルミニウムー銅合金層が成長
し、この合金層がアルミニウム線より脆く接合強度を低
下させる原因となっていることを知り、この知見を元に
鋭意検討を加えた結果、FeとPを含む銅合金リードフ
レームに微量のニッケル及び/又は亜鉛を添加すること
により、アルミニウム線接合部の接合強度低下を抑制で
きることを見い出した。
As described above, the amount of heat received by the lead frame after assembly tends to increase in recent years. When an aluminum wire is used, the temperature of the wire bond portion is 175 ° C.
A decrease in bonding strength when exposed to temperatures of up to 200 ° C. for a long time has been a problem. The present inventor has found that in a wire bond portion using an aluminum wire, when heated at 200 ° C., an aluminum-copper alloy layer of about 1 μm after heating for 500 hours and about 2 μm after heating for 2000 hours, and this alloy layer is formed of aluminum. Knowing that it is more brittle than wire and cause a decrease in bonding strength, and as a result of intensive studies based on this knowledge, it was found that a small amount of nickel and / or zinc was added to a copper alloy lead frame containing Fe and P. Thus, it has been found that a decrease in the joining strength of the aluminum wire joint can be suppressed.

【0026】Zn添加量が0.005質量%以下ではア
ルミニウム線接合部信頼性向上効果が少なく、0.15
質量%を超えると導電率が85%IACSより小さく
なるとともにはんだ濡れ広がり性が低下し、さらに表面
硬度が高くなることから、Zn添加量は0.005〜
0.150質量%とした。また、Ni添加量が0.00
質量%以下ではアルミニウム線接合部信頼性向上効果
が少なく、0.05質量%を超えるとはんだ濡れ広がり
性が低下することから、Ni添加量は0.005〜0.
050質量%とした。NiとZnの双方を添加する場合
は合計で0.01〜0.20質量%とするが、その場合
も導電率85%IACS以上になるように調整する。な
お、これらの添加元素はアルミニウム線を用いないで金
線や銅線でワイヤボンディングする時には添加する必要
はないものである。
When the amount of Zn added is 0.005% by mass or less, the effect of improving the reliability of the aluminum wire joint is small, and 0.15% by mass or less.
When the content exceeds 0% by mass , the conductivity becomes smaller than 85% IACS, the solder wettability decreases, and the surface hardness increases.
0.150 mass %. In addition, the amount of Ni added is 0.00
5 wt% less aluminum wire joint reliability improvement effect in the following, since the solder wetting property is lowered when it exceeds 0.05 mass%, Ni addition amount from 0.005 to 0.
050 mass %. When both Ni and Zn are added, the total is 0.01 to 0.20% by mass , but also in this case, the conductivity is adjusted so as to be 85% IACS or more. These additional elements do not need to be added when performing wire bonding with a gold wire or a copper wire without using an aluminum wire.

【0027】また、本発明の銅合金リードフレームには
微量のPb、Ag、Cr、Mg、Zr、Ti、B、T
e、Co、Mnなどを添加してもよいが、添加量が多く
なると導電率が低下しはんだの濡れ広がり性が低下する
ため、その添加量は導電率85%IACS以上を満たす
範囲内としなくてはならない。Snはダイボンディング
時の加熱により酸化し、はんだが均一に濡れ広がらなく
なるとともに酸化膜が剥離しやすくなるため、0.02
質量%以下が望ましい。
Also, trace amounts of Pb, Ag, Cr, Mg, Zr, Ti, B, T
e, Co, Mn, etc. may be added, but if the addition amount increases, the conductivity decreases and the wettability of the solder decreases, so the addition amount must be within the range satisfying the conductivity of 85% IACS or more. must not. Since Sn is oxidized by heating at the time of die bonding, the solder is not uniformly wetted and spread, and the oxide film is easily peeled off.
% By mass or less is desirable.

【0028】上記のように、FeとPを含みFeP金
属間化合物で析出強化された銅合金リードフレームにお
いて、微量元素添加、高導電率、低表面硬さ、高鏡面反
射率、薄酸化膜厚みの5条件を満たすことによって、は
じめて、従来使われていたりん脱酸銅やSn入り銅、ジ
ルコン入り銅などより優れた特性を示すベアボンド用銅
合金リードフレームを得ることができ、今後進展すると
予想されるはんだダイボンディング時のフラックスレス
化やアルミニウム線によるワイヤボンディングに適し、
アルミニウム線接合部信頼性に優れるベアボンド用銅合
金リードフレームを供給できるものである。
As described above, in a copper alloy lead frame containing Fe and P and precipitation-strengthened with an Fe 2 P intermetallic compound, the addition of trace elements, high conductivity, low surface hardness, high specular reflectance, and thin oxidation By satisfying the five conditions of film thickness, it is possible to obtain a copper alloy lead frame for bare bond, which shows better properties than conventional phosphorus deoxidized copper, copper with Sn, copper with zircon, etc. Suitable for fluxless solder die bonding and wire bonding with aluminum wire,
The present invention can supply a copper alloy lead frame for bare bond having excellent reliability of an aluminum wire joint.

【0029】[0029]

【実施例】本実施例では、Fe:0.1質量%、P:
0.03質量%を含み、さらにNi又はZnのいずれか
一方又は双方を含む銅合金を、インゴットから熱間圧
延、冷間圧延、焼鈍等を経て洗浄・研磨、仕上げ圧延
し、洗浄後さらにスリッティング、スタンピングを施
し、高純度のマトリックス中にFeP金属間化合物を
微細に析出させたリードフレームを得て、その導電率、
表面硬度、鏡面反射率、酸化膜厚み、及び酸化膜密着性
を調べ、さらに、この銅合金リードフレームに対し還元
加熱処理を施した後、アルミニウム線ワイヤボンディン
グ性(接合強度、ワイヤ破断率)、はんだダイボンディ
ング性(はんだ広がり面積)、アルミニウム線接合部信
頼性(1000時間後の接合強度)を調べた。
EXAMPLE In this example, Fe: 0.1% by mass , P:
A copper alloy containing 0.03% by mass and further containing either or both of Ni and Zn is washed, polished, finish-rolled from the ingot through hot rolling, cold rolling, annealing, etc. To obtain a lead frame in which Fe 2 P intermetallic compound is finely deposited in a high-purity matrix.
After examining the surface hardness, specular reflectance, oxide film thickness, and oxide film adhesion, and further subjecting the copper alloy lead frame to a reduction heating treatment, the aluminum wire bondability (bonding strength, wire breaking rate), The solder die bonding property (solder spread area) and the reliability of the aluminum wire joint (joining strength after 1000 hours) were examined.

【0030】本実施例において、異なる導電率、表面硬
度、鏡面反射率、又は酸化膜厚みのリードフレームは、
焼鈍条件や仕上げ圧延条件、洗浄・研磨条件、あるいは
スタンピング条件(コイニング強さ)等を変えるといっ
た方法で作られた。また、還元加熱処理は、水素:10
%を含有した窒素雰囲気(酸素:50〜70ppm以下)
中において、350℃、30秒間行われた。なお、以下
の表における各特性の数値は後述する試験方法により測
定したものである。
In this embodiment, lead frames having different electrical conductivity, surface hardness, specular reflectance, or oxide film thickness are
It was made by changing annealing conditions, finish rolling conditions, cleaning / polishing conditions, stamping conditions (coining strength), and the like. Further, the reduction heat treatment is performed in a hydrogen: 10
% Nitrogen atmosphere (oxygen: 50 to 70 ppm or less)
In the inside, it was performed at 350 ° C. for 30 seconds. In addition, the numerical values of each characteristic in the following table are measured by a test method described later.

【0031】表1は、Fe:0.1質量%、P:0.0
質量%のほか、Ni:0.020%、及びSn:0.
010質量%を含む銅合金リードフレームの導電率、表
面硬度、及び鏡面反射率の各特性と、接合強度、ワイヤ
破断率、及びはんだ広がり面積の関係を示すもので、導
電率、表面硬度、及び鏡面反射率の全てが本発明で規定
する範囲内に入っているものを実施例1〜3、いずれか
の特性が本発明で規定する範囲外のものを比較例1〜3
として示している。ただし、いずれも酸化膜厚みは40
Aである。
Table 1 shows that Fe: 0.1% by mass , P: 0.0
3% by mass , Ni: 0.020%, and Sn: 0.
It shows the relationship between the electrical conductivity, surface hardness, and specular reflectance of the copper alloy lead frame containing 010% by mass and the bonding strength, wire breakage rate, and solder spread area. Examples 1 to 3 are those in which all of the specular reflectances fall within the range specified by the present invention, and Comparative Examples 1 to 3 are those in which any of the characteristics are out of the range specified by the present invention.
As shown. However, in each case, the oxide film thickness is 40
A.

【0032】[0032]

【表1】 [Table 1]

【0033】表1において、導電率85%IACS以
上、表面硬度(Hv)が120未満、鏡面反射率が30
%以上であるリードフレーム(実施例1〜3)は、接合
強度、ワイヤ破断率、はんだ広がり面積共に優れてい
る。また、粘着テープに酸化膜の付着はなく酸化膜密着
性は良好であった。一方、比較例1は導電率が低いた
め、接合強度、ワイヤ破断率、はんだ広がり面積がいず
れも劣り、酸化膜の密着性も悪かった。比較例2は表面
硬度がHv125と硬いため、接合強度、ワイヤ破断率
が低く、アルミニウム線ワイヤボンディング性の低下が
確認された。比較例3は鏡面反射率が低いためはんだ広
がり面積が小さく、はんだダイボンディング性の低下が
確認された。
In Table 1, the conductivity is 85% IACS or more, the surface hardness (Hv) is less than 120, and the specular reflectance is 30.
% Or more of the lead frames (Examples 1 to 3) are excellent in all of the bonding strength, the wire breaking ratio, and the solder spread area. In addition, there was no adhesion of the oxide film to the adhesive tape, and the adhesion to the oxide film was good. On the other hand, in Comparative Example 1, since the conductivity was low, the bonding strength, the wire breaking ratio, and the solder spread area were all inferior, and the adhesion of the oxide film was poor. In Comparative Example 2, since the surface hardness was as high as Hv125, the bonding strength and the wire breaking ratio were low, and a decrease in aluminum wire bondability was confirmed. In Comparative Example 3, the specular reflectivity was low, so the spread area of the solder was small, and a decrease in the solder die bonding property was confirmed.

【0034】表2は、Fe:0.1質量%、P:0.0
質量%を含むほか、Znを0.050〜0.250%
の範囲内で変化させた銅合金リードフレームの導電率、
Zn含有量、及び酸化膜厚みと、接合強度、ワイヤ破断
率、及びはんだ広がり面積の関係を示すもので、導電
率、Zn含有量、及び酸化膜厚みの全てが本発明で規定
する範囲内に入っているものを実施例4、5、いずれか
が本発明で規定する範囲外のものを比較例4、5として
示している。ただし、いずれも表面硬度はHv115、
鏡面反射率は35%である。
Table 2 shows that Fe: 0.1% by mass , P: 0.0
In addition to 3% by mass , 0.050 to 0.250% of Zn
The conductivity of the copper alloy lead frame changed within the range of
Zn content, and the thickness of the oxide film, and shows the relationship between the bonding strength, wire breakage, and solder spread area, conductivity, Zn content, and oxide film thickness are all within the range specified in the present invention Those included are shown in Examples 4 and 5, and those in any of which are out of the range specified in the present invention are shown as Comparative Examples 4 and 5. However, in each case, the surface hardness is Hv115,
The specular reflectance is 35%.

【0035】[0035]

【表2】 [Table 2]

【0036】表2において、導電率85%IACS以
上、Zn含有量が0.005〜0.150%の範囲内に
あり、酸化膜厚みが80A以下であるリードフレーム
(実施例4、5)は、接合強度、ワイヤ破断率、はんだ
広がり面積共に優れている。一方、比較例4は酸化膜が
厚く、接合強度、ワイヤ破断率、はんだ広がり面積が低
下する問題があった。比較例5は導電率85%IACS
以下で、亜鉛含有量が高く、はんだ広がり面積の低下が
確認された。
In Table 2, the lead frames having a conductivity of 85% IACS or more, a Zn content in the range of 0.005 to 0.150%, and an oxide film thickness of 80 A or less (Examples 4 and 5) are shown in FIG. Excellent in joint strength, wire breakage rate and solder spread area. On the other hand, Comparative Example 4 had a problem that the oxide film was thick and the bonding strength, the wire breaking ratio, and the solder spread area were reduced. Comparative Example 5 has a conductivity of 85% IACS.
Below, the zinc content was high, and a decrease in the solder spread area was confirmed.

【0037】表3は、Fe:0.1質量%、P:0.0
質量%を含むほか、Znを0.250%まで、Niを
0.065%までの範囲内で変化させた銅合金リードフ
レームの導電率、Zn及びNiの含有量と、接合強度、
1000時間後の接合強度、及びはんだ広がり面積の関
係を示すもので、導電率、Zn及びNiの含有量の全て
が本発明で規定する範囲内に入っているものを実施例6
〜8、いずれかが本発明で規定する範囲外のものを比較
例6〜8として示している。ただし、いずれも表面硬度
はHv115、酸化膜厚みは40A、鏡面反射率は35
%である。
Table 3 shows that Fe: 0.1% by mass , P: 0.0
In addition to 3% by mass, the conductivity of a copper alloy lead frame in which Zn is changed up to 0.250% and Ni is changed up to 0.065%, the contents of Zn and Ni, the bonding strength,
The relationship between the bonding strength after 1000 hours and the spread area of the solder is shown, and the conductivity and the contents of Zn and Ni are all within the ranges specified in the present invention.
8 to 8 are shown as Comparative Examples 6 to 8 when any one of them is out of the range defined in the present invention. However, in each case, the surface hardness was Hv115, the oxide film thickness was 40A, and the specular reflectance was 35.
%.

【0038】[0038]

【表3】 [Table 3]

【0039】表3において、導電率85%IACS以
上、Zn及びNiを規定範囲内含有するリードフレーム
(実施例6〜8)は、200℃で1000時間加熱後の
接合強度低下が少なく、はんだ広がり面積も優れてい
た。一方、比較例6は亜鉛やニッケルを適量含有してい
ないため、アルミニウム線と銅の界面で剥離が発生し、
1000時間加熱後の接合強度が低下した。比較例7、
8は亜鉛やニッケルを多く含有しているため、導電率が
低下するとともに、はんだ広がり面積が低下した。
In Table 3, the lead frames containing 85% IACS or more of electrical conductivity and containing Zn and Ni in the specified ranges (Examples 6 to 8) showed a small decrease in bonding strength after heating at 200 ° C. for 1000 hours, and the solder spread. The area was also excellent. On the other hand, since Comparative Example 6 did not contain zinc and nickel in appropriate amounts, peeling occurred at the interface between the aluminum wire and copper,
Bonding strength after heating for 1000 hours decreased. Comparative Example 7,
8 contains a large amount of zinc and nickel, so that the electrical conductivity is reduced and the solder spread area is reduced.

【0040】以上表1〜表3に示したように、本発明の
実施例の銅合金リードフレームは、還元雰囲気中で加熱
後、フラックスなしで良好なはんだ濡れ広がり性を示
し、アルミニウム線による常温、大気中でのワイヤボン
ディングでも高い接合強度を示した。また、200℃で
1000時間加熱後にも良好なアルミニウム線接合強度
を保持していた。なお、表1〜表3中の◎○△×は各数
値に対する評価であり、◎は優れていること、○は使用
可能であること、△及び×は使用不可能であることを表
す。
As shown in Tables 1 to 3, the copper alloy lead frames of the examples of the present invention show good solder wettability without flux after heating in a reducing atmosphere, Also, high bonding strength was exhibited in wire bonding in air. In addition, good aluminum wire bonding strength was maintained even after heating at 200 ° C. for 1000 hours. In Tables 1 to 3, △, △, and △ indicate evaluations for each numerical value, ◎ indicates that it is excellent, ○ indicates that it can be used, and △ and X indicate that it cannot be used.

【0041】以下に本実施例における試験方法について
述べる。接合強度は、次のようにして調べた。まず、5
mil(125μm)径のアルミニウム線(99.99
%、annealed)を用い、大気中25℃において超音波
(パルス60kHz)印加法によるワイヤボンディング
(ボンディング時間:100ms、荷重:250g、U
V出力:5.5W)を行い、続いて、接合されたアルミ
ニウム線を真中で切断し、アルミニウム線が銅合金リー
ドフレームと接合されている2ndボンド部の接合強度
を調査した(ツイザー強度)。また、破断箇所を調べ、
下記式によるワイヤ破断率を求めた。 ワイヤ破断率(%)=(ワイヤ破断した本数/全試験本数)×100
The test method in this embodiment will be described below. The joining strength was examined as follows. First, 5
mil (125 μm) diameter aluminum wire (99.99
%, Annealed, and wire bonding (bonding time: 100 ms, load: 250 g, U) at 25 ° C. in the atmosphere by ultrasonic waves (pulse 60 kHz).
(V output: 5.5 W), and then the joined aluminum wire was cut in the middle, and the joining strength of the 2nd bond portion where the aluminum wire was joined to the copper alloy lead frame was examined (twister strength). Also, check the break point,
The wire breaking ratio was determined by the following equation. Wire breakage rate (%) = (number of broken wires / total number of test pieces) × 100

【0042】はんだ広がり面積は、還元加熱処理(銅合
金リードフレームを10%水素を含む酸素濃度50〜7
0ppmの窒素雰囲気中にて350℃のプレート上で3
0秒加熱)後、直径1mmのはんだ(Sn:5質量%、
Ag:2.5質量%、鉛:残部)ボールを載せ、フラッ
クスなし、撹はんなしで、5秒後までにはんだボールが
広がった面積を測定した。
The spread area of the solder was determined by reducing heat treatment (the copper alloy lead frame was treated with an oxygen concentration of 50 to 7 containing 10% hydrogen).
3 on a plate at 350 ° C. in a nitrogen atmosphere of 0 ppm
After heating for 0 seconds), a solder having a diameter of 1 mm (Sn: 5% by mass ,
Ag: 2.5% by mass , lead: balance) A ball was placed, and the area where the solder ball had spread by 5 seconds was measured without flux and without stirring.

【0043】1000時間後の接合強度は、アルミニウ
ム線にてワイヤボンディングした上記試料を200℃の
炉内に保管し、1000時間経過後、ワイヤ接合強度を
測定した。酸化膜の密着性は、銅合金リードフレームを
大気中、ホットプレート上にて350℃で1分間加熱
し、その後粘着テープ(商品名、スリーエムNo.81
0)を張り付け、次いで剥離したとき、粘着テープに酸
化膜の付着があるかどうかで判定した。
The bonding strength after 1000 hours was measured by storing the sample wire-bonded with an aluminum wire in a furnace at 200 ° C., and after 1000 hours, measuring the wire bonding strength. The adhesion of the oxide film was determined by heating a copper alloy lead frame at 350 ° C. for 1 minute on a hot plate in the air, and then using an adhesive tape (trade name, 3M No. 81).
When 0) was attached and then peeled off, it was determined whether or not an oxide film was adhered to the adhesive tape.

【0044】[0044]

【発明の効果】本発明によれば、メッキを省略してもフ
ラックスなしで十分なはんだ濡れ広がり性を示し、アル
ミニウム線を用いても良好な接合強度が得られ、接合部
の耐熱信頼性にも優れ、また酸化膜の密着性にも優れた
ダイボンド用銅合金リードフレームを得ることができ
る。その結果、コストを低減し、生産性、作業性を向上
させることができる。
According to the present invention, even if plating is omitted, sufficient solder wettability is exhibited without flux, and good bonding strength is obtained even with the use of an aluminum wire. In addition, it is possible to obtain a copper alloy lead frame for die bonding which is excellent in the adhesiveness of the oxide film. As a result, costs can be reduced, and productivity and workability can be improved.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 23/50 C22C 9/00 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 23/50 C22C 9/00

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 めっきを施さない状態でアルミニウム線
を用いてワイヤボンディングされるFeとPを含む銅合
金リードフレームにおいて、Zn:0.005〜0.1
50質量%、Ni:0.005〜0.050質量%のう
ち少なくとも1種類を合計で0.20質量%以下含有
し、導電率を85%IACS以上、表面硬さをビッカー
ス硬度(Hv)120未満、ダイボンド部の鏡面反射率
を30%以上、リードフレーム表面の酸化皮膜厚みを8
0A(オングストローム)以下としたことを特徴とす
る、はんだダイボンディング性、ワイヤボンディング
性、及び接合部信頼性に優れるベアボンド用銅合金リー
ドフレーム。
1. A copper alloy lead frame containing Fe and P which is wire-bonded using an aluminum wire without plating, wherein Zn: 0.005 to 0.1
50 wt%, Ni: 0.005 to 0.050 contain mass% 0.20 mass% in total of at least one of the following, conductivity 85% IACS or more, the Vickers hardness of the surface hardness (Hv) 120 Less, the specular reflectance of the die bond portion is 30% or more, and the thickness of the oxide film on the lead frame surface is 8
A copper alloy lead frame for bare bond, which is excellent in solder die bonding property, wire bonding property, and joint reliability, characterized in that it is set to 0 A (angstrom) or less.
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