JP3314702B2

JP3314702B2 - 電子写真感光体、および画像形成装置

Info

Publication number: JP3314702B2
Application number: JP34985397A
Authority: JP
Inventors: 友純上坂; 一浩小関; 文夫小島
Original assignee: Fuji Xerox Co Ltd; Fujifilm Business Innovation Corp
Current assignee: Fujifilm Business Innovation Corp
Priority date: 1997-12-18
Filing date: 1997-12-18
Publication date: 2002-08-12
Anticipated expiration: 2017-12-18
Also published as: JPH11184106A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複写機、プリンタ
ー、ファクシミリなど、広い分野に適用される電子写真
感光体、その製造方法、およびそれを用いた電子写真画
像形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子写真装置例えば普通紙複写機
（ＰＰＣ）、レーザープリンター、ＬＥＤプリンター、
液晶プリンター等は、回転ドラム型等の感光体に帯電、
露光、現像の作像プロセスを適用して像形成し、転写材
に転写後定着して複写物を得る。これらに用いられる感
光体としてはセレニウム、ヒ素−セレニウム、硫化カド
ミウム、酸化亜鉛、ａ−Ｓｉ等の無機系感光体が用いら
れているが、安価で製造性および廃棄性の点で優れた有
機感光体（ＯＰＣ）の研究開発も活発化しており、中で
も電荷発生層と電荷輸送層を積層した、いわゆる機能分
離型積層感光体が、感度、帯電性およびその繰り返し安
定性等の電子写真特性の点で優れており種々の提案がな
され、実用化されている。

【０００３】しかしながら、電子写真感光体に要求され
る耐久性は年々厳しいものとなっており、繰り返し使用
による表面層の摩耗および傷、特に接触帯電下の使用で
著しく増長される表面層の摩耗および傷、コロナ帯電器
から発生するオゾンなどの酸化性ガスによる表面層の酸
化劣化、等の問題に対して、耐久性向上に必要な技術の
検討が続けられている。

【０００４】最近になり、酸化性ガスの発生が少なくな
る、および電源コストが抑えられるなどの理由から、接
触帯電方式を用いた複写機やプリンタが増えている。し
かし、感光体の帯電電位を安定させるために交流成分を
有する印加電圧を用いた場合、感光体表面の摩耗が大き
くなってしまうという問題があった。この原因として
は、感光体表面と接触帯電器の間に発生する放電によ
り、感光体表面の結着樹脂の結合が切断されて低分子量
化すること、などが考えられている。感光体表面の結着
樹脂が低分子量化すると、クリーニングブレードなどの
機械的クリーニングを行っている場合、摩耗が著しく増
大してしまうことがわかっている。

【０００５】感光体の摩耗を低減させる方法として、感
光体表面に機械的強度の高い表面保護層を施すというも
のがある。機械的強度の面からは架橋硬化性樹脂が優れ
ているが、架橋性樹脂のみで構成すると表面保護層は絶
縁層となってしまうため、感光体としての光電特性が犠
牲になっていた。具体的には、露光時の明部電位が上昇
することにより、現像電位マージンが狭くなる問題、お
よび除電後の残留電位が上昇することにより、特に長期
の繰り返し印刷を行なった場合に画像濃度が低下する問
題、などがあった。

【０００６】光電特性を付与する手法として、導電性の
金属酸化物微粉末を抵抗制御材として表面保護層中に分
散する方法が報告されている（特開昭５７−１２８３４
４号公報）。この方法による感光体光電特性の低下は小
さく、上記にあげた問題は顕著に改善される。しかし、
一般に導電性微粉末として用いる金属酸化物の抵抗値
は、環境の湿度に大きく依存するという問題がある。そ
のため、特に高温高湿下において感光体表面抵抗が低下
し、静電潜像がぼやけることによって画像品位が大きく
低下してしまうという本質的な問題があった。

【０００７】光電特性を改良する他の手法として、結着
樹脂中に電荷輸送物質を分散し、その後結着樹脂を硬化
させて表面保護層を形成するという方法が報告されてい
る（特開平４−１５６５９号公報）。この方法では感光
体表面抵抗が湿度依存を示すことも無く、画像品位上の
問題はなかった。しかし、電荷輸送物質という低分子量
成分の添加は硬化反応を阻害し、表面保護層の機械的強
度を低下させる。よって、単独では機械的強度の高い架
橋硬化性樹脂を用いたとしても、光電特性の改良に必須
の電荷輸送物質という低分子成分を添加することで表面
保護層の機械強度は大きく低下してしまうという問題点
があった。

【０００８】このような観点から、官能基を有する電荷
輸送物質を用いて、これを熱可塑性の結着樹脂と反応さ
せることにより表面層の機械的強度の向上を計るという
報告がされている（特開平６−２０２３５４号公報、
特開平５−３２３６３０号公報）。この方法によれば、
感光体の光電特性を低下させずに、十分な機械的強度を
初期的には得ることができる。しかし、これらの表面層
構成では、接触帯電下で長期間使用された場合、機械的
強度の急激な低下が起こるという問題点があった。この
原因はやはり、接触帯電における交流電圧印加による熱
可塑性結着樹脂の結合の切断、といった強い外的ストレ
スによるものであると考えられており、クリーニングブ
レードなどの機械的クリーニングを用いていると摩耗が
非常に増大してしまう。

【０００９】感光体の磨耗の問題に加え、酸化性ガスに
対する耐性も要求される。すなわち、接触帯電方式を用
いるとスコロトロン放電に比べて発生するオゾンやＮＯ
_xの量ははるかに少ないとはいえ、交流成分を有する印
加電圧を用いる場合には必ずこれらの酸化性ガスが発生
する。感光体表面の機械的強度を向上させることで寿命
を延ばそうとすると、発生した酸化性ガスが長い時間感
光体に影響を及ぼすことになるため、従来以上の酸化性
ガスに対する耐性が求められる。

【００１０】さらに、これらの問題点に加えて、単に表
面保護層の機械的強度のみを高めようとすると、感光体
表面に紙粉やトナーが付着しやすくなり、その結果画像
品質を低下させてしまうという問題も起こる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、環境
依存性がなく、光電特性、機械的強度、酸化性ガスに対
する耐性、および紙粉などの付着物に対する耐性等が高
く、かつ高品質の画像を長期にわたり得ることができる
耐刷性に優れた電子写真感光体、ならびにそれを用いた
画像形成装置を提供することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、感光層中
に下記一般式（Ｉ）で表される化合物、フッ素原子含有
化合物および酸化防止剤を含有させることにより、上記
問題が解決できることを見出した。特に、この感光体を
接触帯電方式と機械的クリーニング手段を有する電子写
真画像形成装置に用いた場合、耐刷性を飛躍的に向上さ
せることができる。

【００１３】

【化６】

【００１４】（式中、Ｇは無機ガラス質ネットワークサ
ブグループを表し、Ｄは−Ｃ _x Ｈ _2x −（ｘは１〜１５の
整数）、−Ｃ _x' Ｈ _2x'-2 −（ｘ’は２〜１５の整数）、
−Ｃ _x" Ｈ _2x"-4 −（ｘ”は２〜１５の整数）、置換ある
いは未置換の２価のアリール基、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｏ
−、−ＣＯＯ−からなる群より選ばれる少なくとも１種
以上（ただし、−Ｃ _x Ｈ _2x −（ｘは１〜１５の整数）が
１種、置換あるいは未置換の２価のアリール基が１種、
および−Ｃ _x Ｈ _2x −（ｘは１〜１５の整数）と置換ある
いは未置換の２価のアリール基との組み合わせの場合を
除く）を有し、かつ、ヘテロ原子に直接結合した水素原
子を含まない、２価の基を表し、Ｆは光電特性サブユニ
ットである）

【００１５】一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一
般式（ＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。

【００１６】

【化７】

【００１７】一般式（ＩＩ）中、Ａｒ¹〜Ａｒ⁴は、そ
れぞれ独立に置換あるいは未置換のアリール基を表し、
Ａｒ⁵は、置換あるいは未置換のアリール基あるいはア
リーレン基を表し、かつＡｒ¹〜Ａｒ⁵のうち１〜４個
は、Ｇ−Ｄ−で表される置換基を有し、ｋは０または１
を表す。

【００１８】また、好ましい形態として、前記一般式
（Ｉ）の化合物が感光層中で架橋構造を形成しているこ
とが好適であり、また、前記フッ素含有化合物が一般式
（Ｉ）の化合物とＧで表される無機ガラス質ネットワー
クサブグループを介して結合可能なものであり、一般式
（Ｉ）で表される化合物とフッ素含有化合物とが感光層
中で架橋構造を形成していることが好ましい。

【００１９】さらに、前記一般式（Ｉ）で表される化合
物、フッ素原子含有化合物および酸化防止剤を含有する
層が、感光層の最表面にある層であることが好ましく、
前記酸化防止剤が、一般式（Ｉ）で表さられる化合物を
含有しない層にも含有されることが好ましい。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の電子写真感光体に
ついて詳細に説明する。本発明の電子写真感光体は、導
電性支持体上に少なくとも感光層を有し、必要に応じ
て、下引き層、保護層等のその他の層を有する。

【００２１】（導電性支持体）本発明に用いうる導電性
支持体としては、一般に電子写真感光体の導電性支持体
として用いられているものであれば特に制限はなく、例
えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼
等の金属類、アルミニウム、チタニウム、ニッケル、ク
ロム、ステンレス、金、バナジウム、酸化錫、酸化イン
ジウム、ＩＴＯ等の薄膜を設けたプラスチックフィル
ム、導電性付与剤を塗布乃至は含浸させた紙及びプラス
チックフィルムなどが挙げられる。

【００２２】前記導電性支持体には、画質に影響のない
範囲で必要に応じて各種の処理等を行うことができる。
このような処理としては、例えば、前記導電性支持体の
表面の陽極酸化被膜処理、熱水酸化処理、薬品処理、着
色処理、砂目立てなどの乱反射処理などが挙げられる。
前記導電性支持体の形状としては、特に制限はなく、目
的に応じて適宜選択することができ、例えば、ドラム
状、シート状、プレート状等が挙げられる。

【００２３】（下引き層）前記導電性支持体の一方の表
面には感光層が設けられるが、本発明においては、該導
電性支持体と該感光層との間に下引き層を好適に設ける
ことができる。電子写真感光体に前記下引き層が設けら
れていると、該下引層が、前記感光層の帯電時におい
て、前記導電性支持体から前記感光層への電荷の注入を
阻止すると伴に、該感光層を該導電性支持体に対して一
体的に接着させ、保持させる接着層としての作用乃至
は、場合によっては該導電性支持体の光の反射光防止作
用等を示すことができる点で有利である。

【００２４】前記下引層としては、一般に電子写真感光
体の下引き層に用いられている材質で形成することがで
き、例えば、少なくとも結着樹脂を含んでなり、更に必
要に応じて微粒子等を含んでなる。前記結着樹脂として
は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することが
できるが、例えば、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、
酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、
メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリイミド樹
脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビ
ニリデン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール樹脂、水
溶性ポリエステル樹脂、ニトロセルロース、カゼイン、
ゼラチン、ポリグルタミン酸、澱粉、スターチアセテー
ト、アミノ澱粉、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ジルコニウムキレート化合物、チタニルキレート化
合物、チタニルアルコキシド化合物、有機チタニル化合
物、シランカップリング剤などが挙げられる。これら
は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用して
もよい。前記微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸
化アルミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニウム、チタン
酸バリウム、シリコーン樹脂などが挙げられる。これら
は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用して
もよい。

【００２５】前記下引層を形成する際の塗布方法として
は、特に制限はないが、例えば、ブレードコーティング
法、マイヤーバーコティング法、スプレーコーティング
法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エア
ーナイフコーティング法、カーテンコーティング法など
の通常の塗布方法が挙げられる。前記下引層の厚みとし
ては、通常、０．０１〜１０μｍであり、０．０５〜２
μｍが好ましい。

【００２６】（感光層）本発明の電子写真感光体は、導
電性支持体上に感光層を設けてなり、該感光層が、下記
一般式（Ｉ）で表される化合物、フッ素原子含有化合物
及び酸化防止剤を含有している。該感光層は単層型で
あってもよいし、電荷発生層と電荷輸送層等とに機能分
離された積層型であってもよい。

【００２７】

【化８】

【００２８】一般式（Ｉ）中、Ｇは無機ガラス質ネット
ワークサブグループを表す。無機ガラス質ネットワーク
サブグループとは、金属酸化物の結合を有するものであ
り、末端の反応基によって、他の無機ガラス質ネットワ
ークサブグループと結合を繰り返し、無機ガラス質ネッ
トワークを形成しうるものである。具体的には、アルコ
キシド、酸、塩化物のように加水分解および縮合を受け
得る任意の無機物質から得ることができが、好ましく
は、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ａｓ、Ｓｅ、Ｔｅ
などの原子に炭素数１〜２０程度のアルコキシドまたは
アリールオキシド基を有する化合物を用いることで導入
することができる。また、一般式（Ｉ）で表される化合
物中のＧで表される無機ガラス質ネットワークサブグル
ープを介して結合しうる化合物は、別の、結合する化合
物と同じでも異なっていてもよい一般式（Ｉ）で表され
る化合物から選択されたものであってもよいし、単に、
一般式（Ｉ）で表される化合物中のＧで表される無機ガ
ラス質ネットワークサブグループと結合しうる、他の化
合物であってもよい。ここで結合しうる他の化合物とし
ては、公知の有機金属化合物を用いることができ、ジル
コニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化
合物、ジルコニウムカップリング剤、等の有機ジルコニ
ウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシ
ド化合物、チタネートカップリング剤、等の有機チタン
化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカ
ップリング剤、等の有機アルミニウム化合物、アルミニ
ウムシリコンアルコキシド、アルミニウムチタンアルコ
キシド、等が挙げられる。また、ビニルトリクロロシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリス−２−メ
トキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、
γ−グリシドシキプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノ
プロピルトリエトキシシラン、等のシランカップリング
剤も好ましく使用でき、これらは所望の感光層の特性を
得るために適宜選択しうる。

【００２９】一般式（Ｉ）で表される化合物同士がＧで
表される無機ガラス質ネットワークサブグループを介し
て感光層中で架橋構造の少なくとも一部を形成している
ことにより、単位体積中の結合エネルギーが大きくな
り、放電や機械的接触などの強いストレスに対する耐性
が高くなる。さらに、万一これらのストレスにより結合
の一部が切断されたとしても、架橋構造を形成している
ため直ちに低分子量化することはなく、よって機械的強
度がすぐに失われることもなくなる。

【００３０】一般式（Ｉ）中、Ｄは可とう性有機サブユ
ニットを表す。可とう性有機サブユニットとは、架橋構
造を形成するＧで表される無機ガラス質ネットワークサ
ブグループとＦで表される光電特性サブユニットとを結
合させるための連結部であり、具体的には、−Ｃ_x Ｈ _2x
−（ｘは１〜１５の整数）、−Ｃ_x'Ｈ_2x'-2−（ｘ’は
２〜１５の整数）、−Ｃ_x"Ｈ_2x"-4−（ｘ”は２〜１５
の整数）、−ＣＯＯ−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＨ₂−Ｃ
₆Ｈ₄−、−ＣＨ＝Ｎ−、−（Ｃ₆Ｈ₄）−（Ｃ
₆Ｈ₄）−、又はこれらの組合せや置換基を導入したも
の等を表す（ただし、−Ｃ _x Ｈ _2x −（ｘは１〜１５の整
数）が１種、置換あるいは未置換の２価のアリール基が
１種、および−Ｃ _x Ｈ _2x −（ｘは１〜１５の整数）と置
換あるいは未置換の２価のアリール基との組み合わせの
場合を除く）。

【００３１】一般式（Ｉ）中、Ｆは光電特性サブユニッ
トを表す。光電特性サブユニットとは、前述のように光
キャリア輸送特性を有するユニットであり、従来、電荷
輸送物質として知られている構造をそのまま用いること
ができる。具体的には、トリアリールアミン系化合物、
ベンジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリー
ル置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アント
ラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物、等の正孔輸送性
を有する化合物の骨格、及びキノン系化合物、フルオレ
ノン系化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系
化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物、等
の電子輸送性を有する化合物の骨格を用いることができ
る。本発明の感光体においては、一般式（Ｉ）で表され
る化合物がＦで表される光電特性サブユニットを有して
おり、且つ、好ましくはこれがＧで表される無機ガラス
質ネットワークサブグループを介して、架橋構造の少な
くとも１部に直接結合しているため、架橋構造の機械的
強度特性を失うことなく、光電特性を付与することが可
能となる。つまり、一般式（Ｉ）で表される化合物を含
む層は、その機械的特性から感光体表面の表面保護層と
して使用可能なだけでなく、積層型感光体の電荷輸送層
としても機能することができる。

【００３２】本発明は、上記一般式（Ｉ）で表される化
合物の特性に加えて、酸化防止剤を添加することによ
り、酸化防止剤の酸化防止効果で耐酸化性を向上させる
ことができる。また、フッ素含有化合物の添加により、
フッ素含有化合物の持つ潤滑性、低付着性等により、感
光体の耐付着性を向上させることができる。

【００３３】本発明において、無機ガラス質ネットワー
クサブグループ、可とう性有機サブユニットおよび光電
特性サブユニットの「サブ」とは、一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物を構成するグループもしくはユニット、と言
う意味で用いる。

【００３４】本発明において、感光層に用いられる一般
式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（ＩＩ）で表
される化合物であることが好ましい。

【００３５】

【化９】

【００３６】一般式（ＩＩ）中、Ａｒ¹〜Ａｒ⁵は、そ
れぞれ独立に置換あるいは無置換のアリール基を表し、
Ａｒ⁵は、置換あるいは未置換のアリール基あるいはア
リーレン基を表し、且つ、Ａｒ¹〜Ａｒ⁵のうち１〜４
個は、Ｇ−Ｄ−で表される置換基を有しており、ｋは、
０または１を表す。

【００３７】一般式（ＩＩ）中、Ａｒ¹〜Ａｒ
⁴は、それぞれ独立に置換または未置換のアリール基を
示し、具体的には、下記構造群１に示す基が挙げられ
る。

【００３８】

【化１０】

【００３９】構造群１の構造式中、Ｒ³は、水素、炭素
数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基もし
くは炭素数１〜４のアルコキシ基で置換されたフェニル
基、または未置換のフェニル基、炭素数７〜１０のアラ
ルキル基を表し、Ｒ⁴は、水素、炭素数１〜４のアルキ
ル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、またはハロゲンを
表し、ｍおよびｓは０または１を表し、ｔは１から３の
整数を表す。Ｚ’は、下記構造群２に示す基から選択さ
れる。

【００４０】

【化１１】

【００４１】構造群１の構造式中、Ｘは、Ｇ−Ｄ−で表
される置換基であり、下記一般式（ＩＩＩ）で表される
置換基が好ましい。

【００４２】

【化１２】

【００４３】一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ¹は水素、アルキ
ル基、置換あるいは未置換のアリール基を表し、Ｒ²は
水素、アルキル基、トリアルキルシリル基を表し、ａは
１〜３の整数を表し、Ｙはヘテロ原子に直接結合した水
素原子を含まない２価の基を表す。Ｙの具体例として
は、下記構造群３に示す基が挙げられる（ただし、−Ｃ
_x Ｈ _2x −（ｘは１〜１５の整数）が１種、置換あるいは
未置換の２価のアリール基が１種、および−Ｃ _x Ｈ _2x −
（ｘは１〜１５の整数）と置換あるいは未置換の２価の
アリール基との組み合わせの場合を除く）。

【００４４】

【化１３】

【００４５】構造群３の構造式中、ｘは１〜１０の整
数、ｘ’およびｘ”はそれぞれ２〜１５の整数、ｙおよ
びｚはそれぞれ１〜５の整数を表す。この中でも特に、
下記構造式４に示す基が好ましい。

【００４６】

【化１４】

【００４７】一般式（ＩＩ）中、Ａｒ⁵は、置換もしく
は未置換のアリール基または、アリーレン基を表し、ｋ
＝０のときの具体的には、下記構造式５に示す基が挙げ
られる。

【００４８】

【化１５】

【００４９】また、一般式（ＩＩ）中、ｋ＝１のとき
のＡｒ⁵の具体的には、下記構造群６に示す基が挙げら
れる。

【００５０】

【化１６】

【００５１】構造群５及び６の構造式中、Ａｒは下記構
造式７に示す基から選択される。

【００５２】

【化１７】

【００５３】また、Ｚは下記構造群８に示す基から選択
される。

【００５４】

【化１８】

【００５５】構造群８の構造式中、Ｒ⁵は、水素、炭素
数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、
ハロゲンから選択される。またｑおよびｒはそれぞれ１
〜１０の整数、ｔ’は１または２の整数を示し、Ｗは下
記構造群９に示す基から選択される。

【００５６】

【化１９】

【００５７】構造群９の構造式中、ｓ’は０〜３の整数
を表す。

【００５８】以下の表１〜２５に、一般式（Ｉ）の例示
化合物、「化合物１〜化合物２５６」を一般式（Ｉ）に
おける具体的な官能基を示すことにより挙げるが、しか
し、本発明は、これらに限られるものではない。なお、
化合物例５９〜６８、７９〜８３、８９〜９８、１４３
〜１５２、１９４〜２０３、２２４〜２２９は、参考化
合物例である。）

【００５９】

【表１】

【００６０】

【表２】

【００６１】

【表３】

【００６２】

【表４】

【００６３】

【表５】

【００６４】

【表６】

【００６５】

【表７】

【００６６】

【表８】

【００６７】

【表９】

【００６８】

【表１０】

【００６９】

【表１１】

【００７０】

【表１２】

【００７１】

【表１３】

【００７２】

【表１４】

【００７３】

【表１５】

【００７４】

【表１６】

【００７５】

【表１７】

【００７６】

【表１８】

【００７７】

【表１９】

【００７８】

【表２０】

【００７９】

【表２１】

【００８０】

【表２２】

【００８１】

【表２３】

【００８２】

【表２４】

【００８３】

【表２５】

【００８４】本発明の感光層に用いられる一般式（Ｉ）
表される化合物の含有量は１〜１００重量％の範囲で使
用できるが、好ましくは１０〜９０重量％、さらに好ま
しくは４０〜６０重量％とするのが好ましい。

【００８５】本発明において、感光層に用いられるフッ
素含有化合物は、感光体表面に対するトナーや紙粉など
の付着を防止する効果を有するものであり、トリフルオ
ロエチレン、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニル、
フッ化ブニリデン等のフッ素含有樹脂またはその微粒子
を用いることができる。

【００８６】本発明の感光層に用いられるフッ素含有化
合物のなかでも特に好適なのは、アルコキシシラン基や
シラノール基等を有する、一般式（Ｉ）で表される化合
物におけるＧで表される無機ガラス質ネットワークサブ
グループを介して架橋反応可能な化合物であるり、これ
らを用いることで、フッ素含有化合物と一般式（Ｉ）で
表される化合物とが感光層中で架橋構造の少なくとも一
部を形成し、フッ素含有化合物を含有させることによる
機械的強度の低下が少なくなるため好適である。アルコ
キシシラン基やシラノール基等を有するフッ素含有化合
物としては、（トリデカフルオロ −１，１，２，２−
テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，
３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、
３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエ
トキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロ
アルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ
−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１
Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシ
ラン、等が挙げられる。

【００８７】本発明の感光層に用いられるフッ素含有化
合物の添加量は、添加する層において１５重量％以下と
することが望ましいが、一般式（Ｉ）で表される化合物
と架橋可能なものである場合、４０重量％程度添加する
ことも可能である。

【００８８】本発明において、感光層に用いられる酸化
防止剤は、帯電器で発生するオゾン等の酸化性ガスによ
る劣化を防止する目的で添加される。感光体表面の機械
的強度を高めると感光体が酸化性ガスにより長い間接触
することになるため、従来より強い耐性が要求される。
そこで、本発明の電子写真感光体では、一般式（Ｉ）で
表される化合物におけるＦで表される光電特性サブユニ
ットの構造として耐酸化性のあるものを用いることに加
えて、酸化防止剤を添加することによって高い耐酸化性
を持つものとなる。酸化防止剤としては、ヒンダードフ
ェノール系あるいはヒンダードアミン系が好ましいが、
有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止
剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系
酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの
公知の酸化防止剤を用いてもよい。ヒンダードフェノー
ル系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４
−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキ
ノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ
−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフ
ォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチ
ルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−
ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビ
ス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，
２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェ
ノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６
−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒ
ドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−
ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニ
ルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチ
ル−６−ｔ−ブチルフェノール）、などが挙げられる。

【００８９】本発明に感光層に用いられる酸化防止剤
は、一般式（Ｉ）で表される化合物およびフッ素含有化
合物を含有する表面保護層に、同時に含有するのが、最
も好ましい形態である。しかし、帯電部材で発生するオ
ゾンやＮＯ_xガスは、感光体の表面のみだけではなく、
量は少ないものの、下層の電荷発生層や電荷輸送層とい
った感光層まで浸透して、酸化劣化を引き起こす。よっ
て、感光体全体の耐酸化性を向上させるため、一般式
（Ｉ）で表される化合物を含有しない層にも酸化防止剤
を添加することが好ましい。

【００９０】本発明の感光層に用いられる酸化防止剤の
添加量としては、いずれの層に添加する場合でも、各層
の１５重量％以下が好ましく、１０重量％以下がさらに
好ましい。１５重量％を超えると、機械的強度の低下、
光電特性の低下等の弊害が生じてしまう。

【００９１】一般式（Ｉ）表される化合物、フッ素含有
化合物及び酸化防止剤を含有する架橋膜を形成する場
合、一般式（Ｉ）表される化合物は単独で架橋反応可能
であり、架橋硬化膜を形成することができる。しかし、
表面性や強度などの膜特性を良好にするためには、一般
式（Ｉ）表される化合物におけるＧで表される無機ガラ
ス質ネットワークサブグループを介して結合しうる他の
硬化性化合物を同時に用いることが望ましい。

【００９２】一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例と
して、一般式（ＩＩ）で表される化合物を選んだ場合
に、膜形成のために併用する硬化性化合物としては、シ
リコンハードコートなどとして公知の硬化性シロキサン
樹脂を用いることができる。具体的には、複数のシラノ
ール基を有する有機系シロキサン樹脂、アルコキシシラ
ン、シランカップリング剤、およびそれらの混合物、な
どを用いることができる。

【００９３】本発明においては、必要に応じてこの感光
層中に、所望の特性を得るために、前記必須成分の他、
公知の添加剤、例えば、シリコンオイル等のレベリング
剤等を感光層に含有させてもよい。

【００９４】本発明において、感光層に用いられる一般
式（Ｉ）表される化合物、フッ素含有化合物及び酸化防
止剤は、感光体表面の傷や摩耗による劣化の防止、感光
体表面に対するトナーや紙粉の付着を防止、および感光
体表面の帯電プロセスで発生するオゾン等の酸化性ガス
による劣化の防止する観点から、感光層の最表面にある
層に含有されるのが好ましい。例えば、感光層の最表面
に表面保護層を有する構造の場合、その表面保護層にこ
れらの化合物を含有させるのが好ましく、その下地とな
る感光層としては従来から公知のものを用いることがで
きる。この感光層を有する感光体の層構造は任意であ
り、電荷発生層と電荷輸送層を積層した積層型でもよい
し、電荷発生材料を含有する単層型でもよい。また、感
光層が積層型である場合で、電荷輸送層が最表面層であ
るときには電荷輸送層に、電荷発生層が最表面層である
時には電荷発生層に、一般式（Ｉ）で表される化合物、
フッ素含有化合物及び酸化防止剤を含有させるのが好ま
しい。さらにまた、感光層が単層型の場合、その中に電
荷発生材料等と共に、一般式（Ｉ）で表される化合物、
フッ素含有化合物及び酸化防止剤を含有させて用いるこ
とができる。

【００９５】本発明において、感光層に表面保護層を設
ける場合、一般式（Ｉ）で表される化合物、フッ素含有
化合物及び酸化防止剤は表面保護層に含有するのが好ま
しいのは前述の通りであるが、表面保護層を形成するに
は、一般式（Ｉ）で表される化合物、フッ素含有化合物
及び酸化防止剤と共に、必用に応じて、前記記載の硬化
性化合物である硬化性シロキサン樹脂等に、溶剤等を必
要に応じて混合した塗液を調製し、感光層上に塗布した
後、加熱することにより架橋硬化させるのが、表面強度
の観点から好ましい。

【００９６】本発明において表面保護層の形成に用いら
れる溶剤は、液粘度調整等のために添加されるものであ
り、用いうる溶剤としては、メタノール、エタノール、
ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコー
ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、
メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、
酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メ
チレンクロライド、クロロホルム等の通常の有機溶剤が
挙げられ、これらを単独あるいは２種以上混合して用い
ることができる。

【００９７】本発明の表面保護層の形成において、架橋
硬化反応を行う際には、無触媒で行なってもよいが、適
切な触媒を用いてもよい。触媒としては、塩酸、硫酸、
蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、等の酸触媒、アンモニ
ア、トリエチルアミン等の塩基、ジブチル錫ジアセテー
ト、ジブチル錫ジオクトエート、オクエ酸第一錫等の有
機錫化合物、テトラ−ｎ−ブチルチタネート、テトライ
ソプロピルチタネート等の有機チタン化合物、有機カル
ボン酸の鉄塩、マンガン塩、コバルト塩、亜鉛塩、ジル
コニウム塩等が挙げられる。また、硬化反応の際の温度
は特に制限はないが、好ましくは、室温〜１５０度に設
定する。

【００９８】本発明において、一般式（Ｉ）で表される
化合物、フッ素含有化合物及び酸化防止剤を含有する表
面保護層の塗布方法としては、ブレードコーティング
法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティン
グ法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エ
アーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等
の通常の方法を用いることができる。表面保護層の膜厚
は、１〜１０μｍ程度とするのが好ましい。

【００９９】本発明において、積層型感光層を採用する
場合、それを構成する電荷発生層は、電荷発生材料およ
び結着樹脂を含有し、電荷発生層には、必用に応じて、
レベリング剤（表面の平滑化）、カップリング剤（密着
性向上）、等公知の添加剤を添加してもよい。

【０１００】本発明の電荷発生層に用いられる電荷発生
材料としては、非晶質セレン、結晶性セレン−テルル合
金、セレン−ヒ素合金、その他セレン化合物およびセレ
ン合金、酸化亜鉛、酸化チタン等の無機系光導電性材
料、フタロシアニン系、スクアリリウム系、アントアン
トロン系、ペリレン系、アゾ系、アントラキノン系、ピ
レン系、ピリリウム塩、チアピリリウム塩等の有機顔料
および染料が用いられる。その中でもフタロシアニン系
化合物は光感度が高いので特に適しており、無金属フタ
ロシアニン、オキシチタニウムフタロシアニン、ハロゲ
ン化ガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタ
ロシアニン、ハロゲン化錫フタロシアニンが好ましい。
特に、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ
±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５
°、２８．３°に強い回折ピークを持つ特定の結晶形を
有するクロロガリウムフタロシアニン、あるいはＸ線回
折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）
が、７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、
１８．６°、２５．１°、２８．３°に強い回折ピーク
を持つ特定の結晶形を有するヒドロキシガリウムフタロ
シアニンは、可視光から近赤外光の広い領域の光に対し
て高い電荷発生効率を有しており、特に好ましいもので
ある。

【０１０１】本発明の電荷発生層に用いられる結着樹脂
としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホル
マール樹脂、部分変性ポリビニルアセタール樹脂、ポリ
カーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、
ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルア
セテート樹脂、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、シリ
コン樹脂、フェノール樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾ
ール樹脂等であるがこららに限定されるものではない。
これらの結着樹脂は、単独あるいは２種以上混合して用
いることができる。本発明の電荷発生層に用いられる電
荷発生材料と結着樹脂との配合比（重量比）は、１０：
１〜１：１０の範囲が好ましい。

【０１０２】本発明の電荷発生層を塗布するのに用いる
溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノ
ール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセ
ロソルブ、エチルセロソルブ、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチ
ル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロラ
イド、クロロホルム等の通常の有機溶剤が挙げられ、こ
れらを単独あるいは２種以上混合して用いることができ
る。本発明において、電荷発生層の膜厚は、一般的に
は、０．１〜５μｍ、好ましくは０．２〜２．０μｍが
適当である。

【０１０３】本発明において、電荷発生層の塗布方法と
しては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーテ
ィング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング
法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング
法、カーテンコーティング法等の通常の方法を用いるこ
とができる。

【０１０４】本発明において、積層型感光層における電
荷輸送層は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有し、あるい
は高分子電荷輸送材料を含有する。

【０１０５】本発明の電荷輸送層に用いられる電荷輸送
材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマ
ニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシア
ノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフル
オレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合
物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、
エチレン系化合物等の電子吸引性物質、トリアリールア
ミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン
系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン
系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物
などがあげられる。これらの電荷輸送材料は単独または
２種以上混合して用いることができる。特に、下記一般
式（ＩＶ）で表されるベンジジン系化合物、および下記
一般式（Ｖ）で表されるトリアリールアミン系化合物
は、高い電荷（ホール）輸送能と優れた安定性を有して
いるため、特に好ましく用いることができる。それぞれ
の化合物例を表に示す。これらは、単独または２種以上
混合して用いることができる。

【０１０６】

【化２０】

【０１０７】一般式（ＩＶ）中、Ｒ⁶およびＲ^6'は、水
素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキル基、ま
たは炭素数が１〜５のアルコキシ基を表し、同一であっ
てもよく、異なっていてもよい。Ｒ⁷、Ｒ^7'、Ｒ⁸およ
びＲ^8'は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜５のア
ルキル基、炭素数が１〜５のアルコキシ基、または炭素
数１〜２のアルキル基で置換された置換アミノ基を表
し、同一であってもよく、異なっていてもよい。ｍおよ
びｎは０〜２の整数を表す。

【０１０８】

【化２１】

【０１０９】一般式（Ｖ）中、Ｒ⁹は、水素原子または
メチル基を表し、ｎは１または２を表す。Ａｒ⁶および
Ａｒ⁷は、置換あるいは無置換のアリール基を表し、該
置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１〜５のアルキ
ル基または炭素数１〜５のアルコキシ基、または炭素数
１〜２のアルキル基で置換された置換アミノ基を表す。

【０１１０】下記表２６に、一般式（ＩＶ）で表される
ベンジジン系化合物の例示化合物「ＩＶ−１〜ＩＶ−５
４」を、一般式（ＩＶ）における具体的な官能基を示す
ことにより挙げるが、本発明は、これらに限られるもの
ではない。

【０１１１】

【表２６】

【０１１２】下記表２７〜３１に、一般式（Ｖ）で表さ
れるトリアリールアミン系化合物の例示化合物「Ｖ−１
〜Ｖ−６２」を、一般式（Ｖ）における具体的な官能基
を示すことにより挙げるが、本発明は、これらに限られ
るものではない。

【０１１３】

【表２７】

【０１１４】

【表２８】

【０１１５】

【表２９】

【０１１６】

【表３０】

【０１１７】

【表３１】

【０１１８】本発明の電荷輸送層に用いられる結着樹脂
としては、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、
メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、
ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニ
ルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩
化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水
マレイン酸共重合体、シリコン樹脂、シリコン−アルキ
ッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレ
ン−アクリル樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの公知の樹脂
を用いることができる。

【０１１９】本発明の電荷輸送層に用いられる高分子電
荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、
ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用い
ることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報
や特開平８−２０８８２０号公報に示されているポリエ
ステル系高分子電荷輸送材料は、高い電荷輸送性を有し
ており、とくに好ましいものである。

【０１２０】本発明の電荷輸送層を塗布するのに用いら
れる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
ロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブ
タノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩
化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒ
ドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等の環状もし
くは直鎖状のエーテル類、等の通常の有機溶剤が挙げら
れ、単独あるいは２種以上混合して用いることができ
る。

【０１２１】本発明の電荷輸送層の塗布方法は、表面保
護層や電荷発生層であげたものと同じ公知の方法を用い
ることができる。電荷輸送層の膜厚は５〜５０μｍであ
り、好ましくは１０〜４０μｍである。

【０１２２】本発明において、電荷発生層および／また
は電荷輸送層には、帯電器で発生するオゾン等の酸化性
ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止剤を添加し
てもよい。たとえ前記表面保護層があったとしても、酸
化性ガスが表面保護層を透過して電荷発生層および／ま
たは電荷輸送層まで浸入するこがあり、これによる酸化
劣化を防止するためのものである。酸化防止剤として
は、前記に挙げたものと同様のものを用いることができ
る。酸化防止剤の添加量としては電荷発生層および／ま
たは電荷輸送層の１５重量％以下が望ましく、１０重量
％以下がさらに望ましい。

【０１２３】本発明において、単層型感光層は、電荷発
生材料と結着樹脂とを含有し、必用に応じて、電荷輸送
材料も含有させて形成される。電荷発生材料としては、
前記電荷発生層に用いられる電荷発生材料と同様のもの
を用いることができる。結着樹脂としては、前記電荷発
生層および電荷輸送層に用いられる結着樹脂と同様のも
のを用いることができる。また、溶剤としては、電荷発
生層および電荷輸送層に用いられる溶剤と同様のものを
用いることができる。

【０１２４】本発明の単層型感光層中の電荷発生材料の
含有量は、１０〜８５重量％程度、好ましくは２０〜５
０重量％とする。

【０１２５】本発明において、単層型感光層には、必要
に応じて電荷輸送材料を添加してもよい。電荷輸送材料
としては、電荷輸送層に用いられる電荷輸送材料と同様
のものを用いることができが、その添加量は５〜５０重
量％とすることが好ましい。さらに単層型感光層には、
必要に応じて電荷輸送層の場合と同様の理由から酸化防
止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、前記に挙
げたものと同様なもの用いることができるが、その添加
量は１５重量％以下、好ましくは１０重量％以下が良
い。

【０１２６】本発明の単層型感光層の塗布方法は、電荷
発生層や電荷輸送層のところで述べたものと同様のもの
を用いることができる。膜厚は５〜５０μｍ程度であ
り、１０〜４０μｍとするのがさらに好ましい。

【０１２７】本発明において、感光層に表面保護層をも
うけない場合、一般式（Ｉ）で表される化合物、フッ素
含有化合物及び酸化防止剤は、前記積層型および単層型
の最表面にある層に含有させるのが好ましい。具体的に
は、積層型の場合、電荷輸送層が表面であれば電荷輸送
層に、電荷発生層が表面であれば電荷発生層に一般式
（Ｉ）表される化合物、フッ素含有化合物及び酸化防止
剤を含有させるのが好ましい。また、単層型の場合に
は、その中に電荷発生材料等と共に、一般式（Ｉ）で表
される化合物、フッ素含有化合物及び酸化防止剤を含有
させることができる。一般式（Ｉ）で表される化合物、
フッ素含有化合物及び酸化防止剤を含有させた各々の層
の塗布方法は、前記の各々の層の塗布方法と同様であ
る。また、いずれの場合にも架橋硬化させるのが好まし
く、架橋硬化反応は、前記保護層の場合と同様にして行
なうことができる。

【０１２８】（画像形成装置）本発明において、画像形
成装置は、少なくとも、前述した電子写真感光体、およ
びその帯電手段ならびに機械的なクリーニング手段を有
する電子写真方式の画像形成装置であり、かつ帯電手段
が接触帯電方式であることを特徴とするものである。レ
ーザー光学系やＬＥＤアレイなどの露光手段、トナーな
どを用いて像を形成する現像手段、トナー像を紙などの
媒体に写し取る転写手段、トナー像を紙などの媒体に定
着させる定着手段、感光体表面に残留している静電潜像
を除去する除電手段、機械的なクリーニング手段なども
必要に応じて公知の方法で有してよい。機械的なクリー
ニング手段とは、感光体表面に直接接触し、表面に付着
しているトナー、紙粉、ゴミなどを除去するものであ
り、ブレード、ブラシ、ロールなど公知のものを用いる
ことができる。

【０１２９】図１は本発明の画像形成装置の一例を示す
概略構成図である。本発明の画像形成装置は、感光体１
０、帯電ロール１２による接触帯電器、レーザー露光光
学系１４、粉体トナーを用いた現像器１６、転写用ロー
ル１８、クリーニングブレード２０、定着ロール２２を
有している。また、「転写用ロール１８とクリーニング
ブレード２０との間には、除電用の光源１９が配置され
ている。

【０１３０】本発明の画像形成装置において、接触帯電
方式は、感光体表面に接触させた導電性部材に電圧を印
加することにより感光体表面を帯電させるものである。
導電性部材の形状はブラシ状、ブレード状、ピン電極
状、あるいはローラー状等何れでもよいが、特にローラ
ー状部材が好ましい。通常、ローラー状部材は外側から
抵抗層とそれらを支持する弾性層と芯材から構成され
る。さらに必要に応じて抵抗層の外側に保護層を設ける
ことができる。

【０１３１】本発明の導電性部材において、芯材の材質
としては、導電性を有するもので、一般には鉄、銅、真
鍮、ステンレス、アルミニウム、ニッケル等が用いられ
る。またその他導電性粒子等を分散した樹脂成形品等を
用いることができる。

【０１３２】本発明の導電性部材において、弾性層の材
質としては、導電性あるいは半導電性を有するもので、
一般にはゴム材に導電性粒子あるいは半導電性粒子を分
散したものである。ゴム材としてはＥＰＤＭ、ポリブタ
ジエン、天然ゴム、ポリイソブチレン、ＳＢＲ、ＣＲ、
ＮＢＲ、シリコンゴム、ウレタンゴム、エピクロルヒド
リンゴム、ＳＢＳ、熱可塑性エラストマー、ノルボーネ
ンゴム、フロロシリコーンゴム、エチレンオキシドゴム
等が用いられる。

【０１３３】本発明の導電性部材において、導電性粒子
あるいは半導電性粒子としては、カーボンブラック、亜
鉛、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、クロム、チタニ
ウム等の金属、ＺｎＯ−Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｎＯ₂−Ｓｂ₂
Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃−ＳｎＯ₂、ＺｎＯ−ＴｉＯ₂、Ｍｇ
Ｏ−Ａｌ₂Ｏ₃、ＦｅＯ−ＴｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ
₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の金属
酸化物が用いることができ、これらの材料は単独あるい
は２種以上混合して用いても良い。

【０１３４】本発明の導電性部材において、抵抗層およ
び保護層の材質としては結着樹脂に導電性粒子あるいは
半導電性粒子を分散し、その抵抗を制御したもので、抵
抗率としては１０³〜１０¹⁴Ωｃｍ、好ましくは１０⁵
〜１０¹²Ωｃｍ、さらに好ましくは１０⁷〜１０¹²Ωｃ
ｍがよい。また膜厚としては０．０１〜１０００μｍ、
好ましくは０．１〜５００μｍ、さらに好ましくは０．
５〜１００μｍがよい。結着樹脂としてはアクリル樹
脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、メトキシメチル
化ナイロン、エトキシメチル化ナイロン、ポリウレタン
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
エチレン樹脂、ポリビニル樹脂、ポリアリレート樹脂、
ポリチオフェン樹脂、ＰＦＡ、ＦＥＰ、ＰＥＴ等のポリ
オレフィン樹脂、スチレンブタジエン樹脂等が用いら
れる。導電性粒子あるいは半導電性粒子としては弾性層
と同様のカーボンブラック、金属、金属酸化物が用いら
れる。また必要に応じてヒンダードフェノール、ヒンダ
ードアミン等の酸化防止剤、クレー、カオリン等の充填
剤や、シリコーンオイル等の潤滑剤を添加することがで
きる。

【０１３５】本発明の導電性部材において、これらの層
を形成する手段としてはブレードコーティング法、マイ
ヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸
漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイ
フコーティング法、カーテンコーティング法等を用いる
ことができる。

【０１３６】これらの導電性部材を用いて感光体を帯電
させる方法としては、導電性部材に電圧を印加するが、
印加電圧は直流電圧、あるいは直流電圧に交流電圧を重
畳したものが好ましい。電圧の範囲としては、直流電圧
は要求される感光体帯電電位に応じて正または負の５０
〜２０００Ｖが好ましく、特に１００〜１５００Ｖが好
ましい。交流電圧を重畳する場合は、ピーク間電圧が４
００〜１８００Ｖ、好ましくは８００〜１６００Ｖ、さ
らに好ましくは１２００〜１６００Ｖが好ましい。交流
電圧の周波数は５０〜２０，０００Ｈｚ、好ましくは
１００〜５，０００Ｈｚである。

【０１３７】

【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、以
下の実施例及び比較例における「部」は、重量部を意味
する。

【０１３８】（実施例１） −下引層の形成− ホーニング処理を施したアルミニウムパイプ（外径３０
ｍｍ）基体上に、ジルコニウム化合物（商品名：「オル
ガノチックスＺＣ５４０」、マツモト製薬社製）１０部
およびシラン化合物（商品名：「Ａ１１１０」、日本ユ
ニカー社製）１部とイソプロパノール４０部およびブタ
ノール２０部からなる溶液を浸漬コーティング法で塗布
し、１５０℃において１０分間加熱乾燥し膜厚０．１μ
ｍの下引層を形成した。

【０１３９】−電荷発生層の形成− Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２
°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３
°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニ
ンの１部をポリビニルブチラール（商品名：「エスレッ
クＢＭ−Ｓ」、積水化学社製）１部、および酢酸ｎ−ブ
チル１００部と混合し、ガラスビーズとともにペイント
シェーカーで１時間処理して分散した後、得られた塗布
液を前記下引き層上にディップコートし、１００℃で１
０分間加熱乾燥して膜厚約０．１５μｍの電荷発生層を
形成した。

【０１４０】−電荷輸送層の形成− 例示化合物（ＩＶ−２７）のベンジジン化合物２部、下
記基本単位（ＶＩ）で示される高分子化合物（粘度平均
分子量３９，０００）３部をクロロベンゼン２０部に
溶解させた塗布液を前記電荷発生層上に浸漬コーティン
グ法で塗布し、１１０℃、４０分の加熱を行なって膜厚
２０μｍの電荷輸送層を形成した。

【０１４１】

【化２２】

【０１４２】−表面保護層の形成− 例示化合物（化合物１４５）１０部、硬化性シロキサン
樹脂（信越シリコン、Ｘ−４０−２２３９）２０部、フ
ェニルトリエトキシシラン３部、フッ素含有シランカッ
プリング剤（商品名：「ＫＢＭ−７８０３」、信越シリ
コン社製）２部、ヒンダードフェノール系酸化防止剤
（商品名：「ＭＤＰ−Ｓ」、スミライザー社製）１部、
酢酸１部、を混合して得られた塗布液を、前記電荷輸送
層上にスプレー塗布し、３０分の指触乾燥の後、１２０
℃、６０分の加熱処理を行ない、膜厚５μｍの表面保護
層を形成した。以上のようにして、実施例１の電子写真
感光体を作製した。

【０１４３】（実施例２〜７）実施例１の表面保護層に
おいて、例示化合物（化合物１４５）の代わりに、それ
ぞれ、（化合物３）、（化合物１３）、（化合物３
１）、（化合物１５５）、（化合物１７８）、（化合物
２５５）、を用いた他は実施例１と全く同様にして電子
写真感光体を作製し、それぞれ実施例２、３、４、５、
６、及び７とした。

【０１４４】（実施例８） −下引層の形成− 実施例１と同様にしてアルミパイプ（３０ｍｍ）上
に下引層を形成した。

【０１４５】−電荷発生層の形成− 実施例１におけるクロロガリウムフタロシアニンのかわ
りに、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ
±０．２°）が７．５°、９．９°、１２．５°、１
６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強い
回折ピークを持つ特定の結晶形を有するヒドロキシガリ
ウムフタロシアニンを用いた以外は同様にして電荷発生
層を形成した。

【０１４６】−電荷輸送層の形成− 例示化合物（ＩＶ−２７）２部、例示化合物（Ｖ−２
８）１部、前記基本単位（ＶＩ）で示される高分子化合
物（粘度平均分子量３９，０００）３部をクロロベンゼ
ン２４部に溶解させた塗布液を前記電荷発生層上に浸漬
コーティング法で塗布し、１１０℃、４０分の加熱を行
なって膜厚２０μｍの電荷輸送層を形成した。

【０１４７】−表面保護層の形成− 実施例１と同様にして表面保護層を形成した。以上のよ
うに実施例８の電子写真感光体を作製した。

【０１４８】（実施例９〜１２）実施例８の表面保護層
において、例示化合物（化合物１４５）の代わりに、
（化合物９）、（化合物１０）、（化合物１４９）、
（化合物１５０）を用いた以外は実施例８と同様にして
電子写真感光体を作製し、それぞれ実施例９〜１２とし
た

【０１４９】（実施例１３） −下引層の形成− 実施例１と同様にしてアルミパイプ（３０ｍｍ）上に下
引層を形成した。 −電荷発生層の形成− 実施例１におけるクロロガリウムフタロシアニンのかわ
りに、Ｘ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ
±０．２°）が７．５°、９．９°、１２．５°、１
６．３°、１８．６°、２５．１°、２８．３°に強い
回折ピークを持つ特定の結晶形を有するヒドロキシガリ
ウムフタロシアニンを用いた以外は同様にして電荷発生
層を形成した。

【０１５０】−電荷輸送層の形成− ビンダードフェノール系酸化防止剤（商品名：「ＭＤＰ
−Ｓ」、スミライザー社製）０．３部、例示化合物（Ｉ
Ｖ−２７）２部、例示化合物（Ｖ−２８）１部、前記基
本単位（ＶＩ）で示される高分子化合物（粘度平均分子
量３９，０００）３部をクロロベンゼン２４部に溶解さ
せた塗布液を前記電荷発生層上に浸漬コーティング法で
塗布し、１１０℃、４０分の加熱を行なって膜厚２０μ
ｍの電荷輸送層を形成した。

【０１５１】−表面保護層の形成− 実施例１と同様にして表面保護層を形成した。以上のよ
うに実施例１３の電子写真感光体を作製した。

【０１５２】（実施例１４）実施例１３の表面保護層に
おいて、例示化合物（化合物１４５）の代わりに、（化
合物２２５）を用いた以外は、実施例１３と同様にし
て、電子写真感光体を作製した。

【０１５３】（比較例１）実施例１の電子写真感光体の
表面保護層の形成において、酸化防止剤を添加しないこ
と以外は同様にして電子写真感光体を作製した。

【０１５４】（比較例２）実施例１の電子写真感光体の
表面保護層の形成において、フッ素含有シランカップリ
ング剤を添加しないこと以外は同様にして電子写真感光
体を作製した。

【０１５５】（比較例３）実施例１と同様にして、アル
ミパイプ上に下引層、電荷発生層、電荷輸送層、を順次
形成し、表面保護層は形成せずに電子写真感光体を作製
した。

【０１５６】こうして得られた実施例１〜１４及び比較
例１〜３の電子写真感光体を、富士ゼロックス製「Ｌａ
ｓｅｒＰｒｅｓｓ４１６０の改造機」に装着し、耐刷
性テストを行なった。この「ＬａｓｅｒＰｒｅｓｓ４
１６０改造機」は、接触帯電用の帯電ロール、レーザー
露光光学系、トナー現像器、転写ロール、クリーニング
ブレード、定着ロールを有している。

【０１５７】耐刷性の評価は、５万枚の印刷前後におけ
る画質評価、および摩耗による感光体の膜厚減少量の評
価を行なった。なお、連続印刷の用紙としては酸性紙を
用い、常温常湿（約２０℃、４０％ＲＨ）環境で行なっ
た。さらに、画質評価は常温常湿に加え、高温高湿（約
２８℃、８５％ＲＨ）でも行なった。これらは、感光体
表面への紙粉の付着による画質劣化を検出しやすくする
ための加速評価方法である。結果を表３２に示す。

【０１５８】

【表３２】

【０１５９】表３２より、実施例１〜１４の電子写真感
光体を用いた場合は、全ての試験で良好な印字品質（解
像度、階調性）を有していた。比較例１の電子写真感光
体は、試験後の高温高湿の画質評価において画像濃度ム
ラが発生していた。これは、帯電により発生するわずか
なオゾンなどによって表面保護層が劣化を受けているこ
とが原因であると予想される。比較例２の電子写真感光
体を用いた場合、試験後の高温高湿の画質評価において
画像濃度ムラおよび画像ながれ、画像ボケなどの画像欠
陥が見られた。これは、タルクなどの紙粉が感光体表面
に付着することにより表面抵抗が部分的に低下し、静電
潜像に欠陥が生じたことによると考えられる。また、保
護層を有しない比較例３は常温常湿の試験後においても
画像欠陥が発生し、耐刷性におとることがわかった。

【０１６０】

【発明の効果】以上のように、本発明は、環境依存性が
なく、および光電特性、機械的強度、酸化性ガスに対す
る耐性、および紙粉などの付着物に対する耐性等が高
く、かつ高品質の画像を長期に渡り得ることができる耐
刷性に優れた電子写真感光体、ならびにそれを用いた画
像形成装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の感光体を組み込んだ画像形成装置
の一態様を示す概略構成図である。

【符号の説明】

１０感光体１２帯電ロール１４レーザー露光光学系１６現像器１８転写用ロール２０クリーニングブレード２２定着用ロール

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩＧ０３Ｇ 15/02 １０１Ｇ０３Ｇ 15/02 １０１ (56)参考文献特開平９−190004（ＪＰ，Ａ) 特開平３−191358（ＪＰ，Ａ) 特開平10−301318（ＪＰ，Ａ) 特開平10−301305（ＪＰ，Ａ) 特開平10−301302（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03G 5/00 101

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】導電性支持体上に感光層を有する電子
写真感光体において、感光層が下記一般式（Ｉ）で表さ
れる化合物、フッ素原子含有化合物および酸化防止剤を
含有していることを特徴とする電子写真感光体。【化１】（式中、Ｇは無機ガラス質ネットワークサブグループを
表し、Ｄは−Ｃ _x Ｈ _2x −（ｘは１〜１５の整数）、−Ｃ
_x' Ｈ _2x'-2 −（ｘ’は２〜１５の整数）、−Ｃ _x" Ｈ _2x"-4
−（ｘ”は２〜１５の整数）、置換あるいは未置換の２
価のアリール基、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−か
らなる群より選ばれる少なくとも１種以上（ただし、−
Ｃ _x Ｈ _2x −（ｘは１〜１５の整数）が１種、置換あるい
は未置換の２価のアリール基が１種、および−Ｃ _x Ｈ _2x
−（ｘは１〜１５の整数）と置換あるいは未置換の２価
のアリール基との組み合わせの場合を除く）を有し、か
つ、ヘテロ原子に直接結合した水素原子を含まない、２
価の基を表し、Ｆは光電特性サブユニットを示す）
【請求項２】前記一般式（Ｉ）の化合物が感光層中で
架橋構造を形成していることを特徴とする請求項１に記
載の電子写真感光体。
【請求項３】前記フッ素含有化合物が一般式（Ｉ）の
化合物とＧで表される無機ガラス質ネットワークサブグ
ループを介して結合可能なものであり、一般式（Ｉ）で
表される化合物とフッ素含有化合物とが感光層中で架橋
構造を形成していることを特徴とする請求項１または２
に記載の電子写真感光体。
【請求項４】前記一般式（Ｉ）で表される化合物、フ
ッ素原子含有化合物および酸化防止剤を含有する層が、
感光層の最表面にあることを特徴とする請求項１乃至３
のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】前記酸化防止剤が、一般式（Ｉ）で表さ
られる化合物を含有しない層にも含まれることを特徴と
する、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の電子写真
感光体。
【請求項６】前記一般式（Ｉ）で表される化合物が下
記一般式（ＩＩ）で表される化合物であることを特徴と
する請求項１乃至５のいずれか１項に記載の電子写真感
光体。【化２】（式中、Ａｒ¹〜Ａｒ⁴は、それぞれ独立に置換あるいは
未置換のアリール基を表し、Ａｒ⁵は、置換あるいは未
置換のアリール基あるいはアリーレン基を表し、かつＡ
ｒ¹〜Ａｒ⁵のうち１〜４個は、Ｇ−Ｄ−で表される置換
基を有し、ｋは０または１を表す。）
【請求項７】前記一般式（Ｉ）で表される化合物中の
Ｇ−Ｄ−が、下記一般式（ＩＩＩ）で表されることを特
徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の電子写
真感光体。【化３】（式中、Ｒ¹は、水素、アルキル基、置換あるいは未置
換のアリール基を表し、Ｒ²は、水素、アルキル基、ト
リアルキルシリル基を表し、ａは１〜３の整数を表し、
Ｙは、−Ｃ _x Ｈ _2x −（ｘは１〜１５の整数）、−Ｃ _x' Ｈ
_2x'-2 −（ｘ’は２〜１５の整数）、−Ｃ _x" Ｈ _2x"-4 −
（ｘ”は２〜１５の整数）、置換あるいは未置換の２価
のアリール基、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｏ−、−ＣＯＯ−から
なる群より選ばれる少なくとも１種以上（ただし、−Ｃ
_x Ｈ _2x −（ｘは１〜１５の整数）が１種、置換あるいは
未置換の２価のアリール基が１種、および−Ｃ _x Ｈ _2x −
（ｘは１〜１５の整数）と置換あるいは未置換の２価の
アリール基との組み合わせの場合を除く）を有し、か
つ、ヘテロ原子に直接結合した水素原子を含まない２価
の基を示す。）
【請求項８】前記感光層が、ハロゲン化ガリウムフタ
ロシアニン、あるいはヒドロキシガリウムフタロシアニ
ン、オキシチタニウムフタロシアニン、およびハロゲン
化錫フタロシアニン、から選ばれる群の中の少なくとも
１種以上含有することを特徴とする請求項１乃至７のい
ずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項９】前記感光層が、下記一般式（ＩＶ）で表
されるベンジジン系化合物および下記一般式（Ｖ）で表
されるトリアリ−ルアミン系化合物から選ばれる１種以
上を含有することを特徴とする請求項１乃至８のいずれ
か１項に記載の電子写真感光体。【化４】（式中、Ｒ⁶およびＲ^6'は、水素原子、ハロゲン原子、
炭素数１〜５のアルキル基、炭素数が１〜５のアルコキ
シ基を表し、同一であってもよく、異なっていてもよ
い。Ｒ⁷、Ｒ^7'、Ｒ⁸およびＲ^8'は、水素原子、ハロゲン
原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアル
コキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換された置換
アミノ基を表し、同一であってもよく、異なっていても
よい。ｍおよびｎは０〜２の整数を表す。）【化５】（式中、Ｒ⁹は、水素原子またはメチル基を表し、ｎは
１または２を表す。Ａｒ⁶およびＡｒ⁷は、置換あるいは
無置換のアリール基を表し、該置換基としては、ハロゲ
ン原子、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数が１〜５の
アルコキシ基、炭素数１〜２のアルキル基で置換された
置換アミノ基を表す。）
【請求項１０】少なくとも電子写真感光体、およびそ
の帯電手段ならびに機械的なクリーニング手段を有する
電子写真画像形成装置において、該電子写真感光体が請
求項１乃至９のいずれか１項に記載の電子写真感光体で
あり、かつ帯電手段が接触帯電方式であることを特徴と
する電子写真画像形成装置。
【請求項１１】前記接触帯電方式に用いる帯電電圧が
交流成分を有することを特徴とする請求項１０に記載の
電子写真画像形成装置。