Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP3314818B2 - Semiconductor nonvolatile memory device and erase / write method thereof - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP3314818B2 - Semiconductor nonvolatile memory device and erase / write method thereof - Google Patents

Semiconductor nonvolatile memory device and erase / write method thereof

Info

Publication number
JP3314818B2
JP3314818B2 JP16164292A JP16164292A JP3314818B2 JP 3314818 B2 JP3314818 B2 JP 3314818B2 JP 16164292 A JP16164292 A JP 16164292A JP 16164292 A JP16164292 A JP 16164292A JP 3314818 B2 JP3314818 B2 JP 3314818B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
channel transistor
zener diode
erasing
voltage
negative high
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP16164292A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH05334887A (en
Inventor
利明 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Citizen Watch Co Ltd
Original Assignee
Citizen Watch Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Citizen Watch Co Ltd filed Critical Citizen Watch Co Ltd
Priority to JP16164292A priority Critical patent/JP3314818B2/en
Publication of JPH05334887A publication Critical patent/JPH05334887A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP3314818B2 publication Critical patent/JP3314818B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体不揮発性記憶
装置の構成に関し、とくに、半導体不揮発性メモリ素子
の消去時と書き込み時に必要な負の高電圧を切り換える
回路の構成と、この回路構成を用いた消去と書き込み方
法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor nonvolatile memory device, and more particularly to a semiconductor nonvolatile memory device.
The required negative high voltage for erasing and writing
Circuit configuration and how to erase and write using this circuit configuration
About the law.

【0002】[0002]

【従来の技術】図3を用いて、不揮発性メモリ素子を、
消去、および書き込みを行う方法を説明する。以下の説
明においては、不揮発性メモリ素子としてNチャネル型
を用いたときの消去、および書き込み方法の説明を行
う。
2. Description of the Related Art Referring to FIG.
A method for erasing and writing will be described. In the following description, a method of erasing and writing when an N-channel nonvolatile memory element is used will be described.

【0003】不揮発性メモリ素子の消去を行うときに
は、図3(a)に示すように、メモリ素子71のゲート
73に負の高電圧(以下−VPPと記載する)を印加
し、ドレイン75と、ソース77と、バルク79とには
0V(基準電圧)を印加し、メモリ素子71のしきい値
電圧(以下Vthと記載する)をデプレッションにする
ことにより行う。
When erasing a nonvolatile memory element, as shown in FIG. 3A, a negative high voltage (hereinafter referred to as -VPP) is applied to a gate 73 of a memory element 71, and a drain 75, This is performed by applying 0 V (reference voltage) to the source 77 and the bulk 79 and depleting the threshold voltage (hereinafter referred to as Vth) of the memory element 71.

【0004】また、不揮発性メモリ素子の書き込みを行
うときには、図3(b)に示すように、メモリ素子81
のゲート83に基準電圧の0Vを印加し、ドレイン85
と、ソース87と、バルク89とに−VPPを印加し、
メモリ素子81のVthをエンハンスメントにすること
により行う。
When writing data to a nonvolatile memory device, as shown in FIG.
A reference voltage of 0 V is applied to the gate 83 of the
-VPP is applied to the source 87 and the bulk 89,
This is performed by enhancing Vth of the memory element 81.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】このように半導体不揮
発性記憶素子の消去、および書き込みを行うときには、
負の高電圧である−VPPが必要でる。
As described above, when erasing and writing to a semiconductor nonvolatile memory element,
A negative high voltage -VPP is required.

【0006】従来は図4に示すように、一方の端子を電
源電圧ライン95に接続する一個のツェナーダイオード
97を、負の高電圧発生回路91の出力である−VPP
ライン93に接続して、不揮発性メモリの消去、書き込
みの−VPP電圧値を制御している。
Conventionally, as shown in FIG. 4, one Zener diode 97 having one terminal connected to a power supply voltage line 95 is connected to -VPP which is the output of a negative high voltage generation circuit 91.
The line 93 is connected to control the -VPP voltage value for erasing and writing of the nonvolatile memory.

【0007】したがって、従来はツェナーダイオード9
7が1個しか無いために、消去時の−VPP電圧値と、
書き込み時の−VPP電圧値とは、同一の電圧値であ
る。
Therefore, the conventional Zener diode 9
Since there is only one 7, the -VPP voltage value at the time of erasing and
The -VPP voltage value at the time of writing is the same voltage value.

【0008】このように従来は、不揮発性メモリの、消
去、および書き込みを行うときに使用する−VPP電圧
値は、消去時と書き込み時とが同じであるため、以下に
記載する問題点がある。この問題点を図5のグラフを用
いて説明する。
As described above, conventionally, the -VPP voltage value used for erasing and writing in a nonvolatile memory is the same at the time of erasing and at the time of writing, and therefore has the following problems. . This problem will be described with reference to the graph of FIG.

【0009】図5のグラフは、横軸が書き換え回数を示
し、縦軸がVthを示す。図5のグラフに示すように、
メモリ素子の書換え回数が増すと、消去Vthの値を示
す曲線103と、書き込みVthの値を示す曲線101
との幅109が狭くなる。この結果、消去Vthの値
と、書き込みVthの値との識別がつかなくなり、メモ
リ素子の書換え回数が少なくなってしまうという問題点
がある。
In the graph of FIG. 5, the horizontal axis indicates the number of times of rewriting, and the vertical axis indicates Vth. As shown in the graph of FIG.
As the number of times of rewriting of the memory element increases, a curve 103 indicating the value of the erase Vth and a curve 101 indicating the value of the write Vth
And the width 109 becomes narrow. As a result, the value of the erase Vth cannot be distinguished from the value of the write Vth, and the number of times of rewriting of the memory element is reduced.

【0010】本発明の目的は、上記課題を解決して、書
換え回数の多い半導体不揮発性記憶装置の消去時および
書き込み時に異なる負の高電圧を切り換える回路構成
と、および消去および書き込み方法を提供することであ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to erase a semiconductor nonvolatile memory device having a large number of rewrites,
Circuit configuration for switching between different negative high voltages during writing
And an erase and write method .

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の半導体不揮発性メモリは下記記載の構成を採
用する。
In order to achieve the above object, a semiconductor nonvolatile memory according to the present invention employs the following configuration.

【0012】本発明の不揮発性記憶装置は、消去用ツェ
ナーダイオードと、書き込み用ツェナーダイオードと、
消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブロックと、書
き込み用ツェナーダイオード切り替え回路ブロックと、
負の高電圧発生回路を備える半導体不揮発性記憶装置で
あって、消去動作開始時は、消去用プログラム信号にて
前記消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブロックの
入力電圧を変化させてから前記負の高電圧発生回路より
負の高電圧を発生し、消去動作終了時は、前記負の高電
圧発生回路より負の高電圧の発生を終了してから前記消
去用プログラム信号にて前記消去用ツェナーダイオード
切り替え回路ブロックの入力電圧を元の電圧に戻し、書
き込み動作開始時は、書き込み用プログラム信号にて前
記書き込み用ツェナーダイオード切り替え回路ブロック
の入力電圧を変化させてから前記負の高電圧発生回路よ
り負の高電圧を発生し、書き込み動作終了時は、前記負
の高電圧発生回路より負の高電圧の発生を終了してから
前記書き込み用プログラム信号にて前記書き込み用ツェ
ナーダイオード切り替え回路ブロックの入力電位を元の
電圧に戻すことを特徴とする。さらに本発明の半導体不
揮発性記憶装置の消去書き込み方法は、消去用ツェナー
ダイオードと、書き込み用ツェナーダイオードと、消去
用ツェナーダイオード切り替え回路ブロックと、書き込
み用ツェナーダイオード切り替え回路ブロックと、負の
高電圧発生回路と有する半導体不揮発性記憶装置の消去
書き込み方法であって、消去動作開始時は、消去用プロ
グラム信号にて前記消去用ツェナーダイオード切り替え
回路ブロックの入力電圧を変化させてから前記負の高電
圧発生回路より負の高電圧を発生し、消去動作終了時
は、前記負の高電圧発生回路より負の高電圧の発生を終
了してから前記消去用プログラム信号にて前記消去用ツ
ェナーダイオード切り替え回路ブロックの入力電圧を元
の電圧に戻し、書き込み動作開始時は、書き込み用プロ
グラム信号にて前記書き込み用ツェナーダイオード切り
替え回路ブロックの入力電圧を変化させてから前記負の
高電圧発生回路より負の高電圧を発生し、書き込み動作
終了時は、前記負の高電圧発生回路より負の高電圧の発
生を終了してから前記書き込み用プログラム信号にて前
記書き込み用ツェナーダイオード切り替え回路ブロック
の入力電位を元の電圧に戻すことを特徴とする。
The nonvolatile memory device according to the present invention comprises an erasing Zener diode, a writing Zener diode,
A zener diode switching circuit block for erasing, a zener diode switching circuit block for writing,
A semiconductor nonvolatile memory device having a negative high voltage generation circuit, wherein at the start of an erase operation, an erase program signal is used.
Of the erasing zener diode switching circuit block
After changing the input voltage, the negative high voltage
A negative high voltage is generated, and at the end of the erase operation,
After the generation of the negative high voltage from the
The erasing Zener diode according to the erase program signal
Return the input voltage of the switching circuit block to the original voltage, and
At the start of the write operation,
Zener diode switching circuit block for writing
After changing the input voltage of the negative high voltage generating circuit.
Generates a negative high voltage, and at the end of the write operation,
After the generation of negative high voltage from the high voltage generation circuit of
The write program signal is used to
The input potential of the
It is characterized by returning to voltage . Further, the erasing and writing method of the semiconductor non-volatile memory device according to the present invention comprises: an erasing zener diode; a writing zener diode; an erasing zener diode switching circuit block; a writing zener diode switching circuit block; An erasing and writing method for a semiconductor nonvolatile memory device having a circuit, wherein at the start of an erasing operation, an input voltage of said erasing Zener diode switching circuit block is changed by an erasing program signal, and then said negative high voltage is generated. A negative high voltage is generated from the circuit, and at the end of the erasing operation, the generation of the negative high voltage is terminated by the negative high voltage generating circuit, and then the erasing zener diode switching circuit block is generated by the erasing program signal. Input voltage is returned to the original voltage. A negative high voltage is generated from the negative high voltage generating circuit after changing the input voltage of the write zener diode switching circuit block with a program signal, and at the end of the writing operation, the negative high voltage generating circuit generates a negative high voltage. After the generation of the negative high voltage ends, the input potential of the write zener diode switching circuit block is returned to the original voltage by the write program signal.

【0013】(作用) 不揮発性メモリ素子の書換え回数は、消去時の−VPP
電圧値と、書き込み時の−VPP電圧値とを、それぞれ
異なる最適化した−VPP電圧値とすることにより、メ
モリの書換え回数を従来のよりも増やすことができる。
(Operation) The number of times of rewriting of the nonvolatile memory element is -VPP at the time of erasing.
By setting the voltage value and the −VPP voltage value at the time of writing to different optimized −VPP voltage values, the number of times of rewriting of the memory can be increased as compared with the conventional case.

【0014】消去時の―VPP電圧値と、書き込み時の
−VPP電圧値とを変えて、消去、および書き込みを行
なった場合のメモリ素子のVthの値を、図5のグラフ
に示す。図5のグラフに示すように、書き込みVthの
値を示す曲線105と、消去Vthの値を示す曲線10
7とは、いずれも書換え回数が増加しても、Vthの値
には変化がない。
FIG. 5 is a graph showing the Vth value of the memory element when erasing and writing are performed while changing the -VPP voltage value during erasing and the -VPP voltage value during writing. As shown in the graph of FIG. 5, a curve 105 indicating the value of the write Vth and a curve 10 indicating the value of the erase Vth.
7 does not change the value of Vth even if the number of rewrites increases.

【0015】従来の消去時の−VPP電圧値と、書き込
み時の−VPP電圧値とが同じ値の場合に比べ、本発明
の消去時の―VPP電圧値と、書き込み時の―VPP電
圧値とを最適化した異なる電圧値にすることにより、メ
モリ素子の書換え回数を増やすことができる。
Compared with the conventional case where the −VPP voltage value at the time of erasing and the −VPP voltage value at the time of writing are the same value, the −VPP voltage value at the time of erasing and the −VPP voltage value at the time of writing according to the present invention are different from each other. Can be increased so that the number of times of rewriting of the memory element can be increased.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下図面を用いて本発明の実施例
を説明する。本発明の半導体不揮発性メモリ素子の消
去、および書き込みにおける−VPP電圧切り替え回路
の構成とこの−VPP電圧切り替え回路を用いた消去、
書き込み方法を図1の回路図を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. The configuration of the -VPP voltage switching circuit in erasing and writing of the semiconductor non-volatile memory element of the present invention, and erasing using the -VPP voltage switching circuit,
The writing method will be described with reference to the circuit diagram of FIG.

【0017】図1に示す−VPP電圧切り替え回路は、
消去用ツェナーダイオードを切り替える回路と、書き込
み用ツェナーダイオードを切り替える回路とから構成し
ており、消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブロッ
クはPG1なる消去用プログラム信号により制御し、書
き込み用ツェナーダイオード切り替え回路ブロックはP
G2なる書き込み用プログラム信号により制御してい
る。
The -VPP voltage switching circuit shown in FIG.
The erasing zener diode switching circuit block includes a circuit for switching the erasing zener diode and a circuit for switching the writing zener diode. The erasing zener diode switching circuit block is controlled by an erasing program signal PG1.
It is controlled by a write program signal G2.

【0018】まずはじめにツェナーダイオードの切り替
え回路構成を、図1を参照しながら説明する。
First, the configuration of the switching circuit of the Zener diode will be described with reference to FIG.

【0019】図1に示すように、消去、書き込み電圧用
の切り替え回路は、消去用ツェナーダイオード25と消
去用ツェナーダイオード切り替え回路ブロック21と、
書き込み用ツェナーダイオード27と書き込み用ツェナ
ーダイオード切り替え回路ブロック23と、−VPP電
圧発生回路15とから構成している。
As shown in FIG. 1, an erasing and writing voltage switching circuit includes an erasing zener diode 25 and an erasing zener diode switching circuit block 21.
It comprises a write zener diode 27, a write zener diode switching circuit block 23, and a -VPP voltage generation circuit 15.

【0020】消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブ
ロック21は、第1のPチャネルトランジスタ29と、
第2のPチャネルトランジスタ31と、第1のNチャネ
ルトランジスタ33と、第2のNチャネルトランジスタ
35と、第3のNチャネルトランジスタ37とから構成
している。
The erasing zener diode switching circuit block 21 includes a first P-channel transistor 29,
It comprises a second P-channel transistor 31, a first N-channel transistor 33, a second N-channel transistor 35, and a third N-channel transistor 37.

【0021】第1のPチャネルトランジスタ29のドレ
イン17には、消去用プログラム信号PG1が入力し、
第1のPチャネルトランジスタ29のゲートは0Vの基
準電位ライン43に接続し、バルクは5Vの電源電圧ラ
イン11に接続し、ソースは第2のPチャネルトランジ
スタ31のゲートと、第1のNチャネルトランジスタ3
3のゲートと、第2のNチャネルトランジスタ35のド
レインとに接続している。
An erase program signal PG1 is input to the drain 17 of the first P-channel transistor 29,
The gate of the first P-channel transistor 29 is connected to the reference potential line 43 of 0V, the bulk is connected to the power supply voltage line 11 of 5V, and the source is connected to the gate of the second P-channel transistor 31 and the first N-channel transistor. Transistor 3
3 and the drain of the second N-channel transistor 35.

【0022】第1のPチャネルトランジスタ29のソー
スと、第2のPチャネルトランジスタ31のゲートと、
第1のNチャネルトランジスタ33のゲートと、第2の
Nチャネルトランジスタ35のドレインとの接続点を、
第1のノード39とする。
The source of the first P-channel transistor 29, the gate of the second P-channel transistor 31,
The connection point between the gate of the first N-channel transistor 33 and the drain of the second N-channel transistor 35 is
Let it be the first node 39.

【0023】第2のPチャネルトランジスタ31のソー
スとバルクとは、5Vの電源電圧ライン11に接続し、
ドレインは、第1のNチャネルトランジスタ33のドレ
インと、第3のNチャネルトランジスタ37のゲート
と、第2のNチャネルトランジスタ35のゲートとに接
続している。
The source and bulk of the second P-channel transistor 31 are connected to the 5 V power supply voltage line 11,
The drain is connected to the drain of the first N-channel transistor 33, the gate of the third N-channel transistor 37, and the gate of the second N-channel transistor 35.

【0024】この第2のPチャネルトランジスタ31の
ドレインと、第1のNチャネルトランジスタ33のドレ
インと、第2のNチャネルトランジスタ35のゲート
と、第3のNチャネルトランジスタ37のゲートとの接
続点を、第2のノード41とする。
A connection point between the drain of the second P-channel transistor 31, the drain of the first N-channel transistor 33, the gate of the second N-channel transistor 35, and the gate of the third N-channel transistor 37 Is the second node 41.

【0025】3つの第1のNチャネルトランジスタ33
と、第2のNチャネルトランジスタ35と、第3のNチ
ャネルトランジスタ37との、それぞれのソースとバル
クとは、いずれも−VPP電圧発生回路15の出力であ
る−VPPライン13に接続している。
Three first N-channel transistors 33
And the source and bulk of each of the second N-channel transistor 35 and the third N-channel transistor 37 are connected to the -VPP line 13, which is the output of the -VPP voltage generation circuit 15. .

【0026】第3のNチャネルトランジスタ37のドレ
インは、消去用ツェナーダイオード25のアノードに接
続している。
The drain of the third N-channel transistor 37 is connected to the anode of the zener diode 25 for erasing.

【0027】消去用ツェナーダイオード25のカソード
は、5Vの電源電圧ライン11に接続している。
The cathode of the erasing zener diode 25 is connected to the 5 V power supply voltage line 11.

【0028】ここで第2のNチャネルトランジスタ35
は、他の2つの第1のNチャネルトランジスタ33と、
第3のNチャネルトランジスタ37よりもチャネル長と
チャネル幅との大きさは、小さく構成する。
Here, the second N-channel transistor 35
Are the other two first N-channel transistors 33,
The channel length and the channel width are smaller than those of the third N-channel transistor 37.

【0029】書き込み用ツェナーダイオード切り替え回
路ブロック23は、第3のPチャネルトランジスタ45
と、第4のPチャネルトランジスタ47と、第4のNチ
ャネルトランジスタ49と、第5のNチャネルトランジ
スタ51と、第6のNチャネルトランジスタ53とから
構成している。
The write zener diode switching circuit block 23 includes a third P-channel transistor 45.
, A fourth P-channel transistor 47, a fourth N-channel transistor 49, a fifth N-channel transistor 51, and a sixth N-channel transistor 53.

【0030】第3のPチャネルトランジスタ45のドレ
イン19には、書き込み用プログラム信号PG2が入力
し、第3のPチャネルトランジスタ45のゲートは0V
の基準電位ライン43に接続し、バルクは5Vの電源電
圧ライン11に接続し、ソースは第4のPチャネルトラ
ンジスタ47のゲートと、第4のNチャネルトランジス
タ49のゲートと、第5のNチャネルトランジスタ51
のドレインとに接続している。
The write program signal PG2 is input to the drain 19 of the third P-channel transistor 45, and the gate of the third P-channel transistor 45 is set to 0V.
, The bulk is connected to the 5 V power supply voltage line 11, the sources are the gate of the fourth P-channel transistor 47, the gate of the fourth N-channel transistor 49, and the fifth N-channel transistor. Transistor 51
Connected to the drain.

【0031】第3のPチャネルトランジスタ45のソー
スと、第4のPチャネルトランジスタ47のゲートと、
第4のNチャネルトランジスタ49のゲートと、第5の
Nチャネルトランジスタ51のドレインとの接続点を、
第3のノード55とする。
The source of the third P-channel transistor 45, the gate of the fourth P-channel transistor 47,
The connection point between the gate of the fourth N-channel transistor 49 and the drain of the fifth N-channel transistor 51 is
Let it be the third node 55.

【0032】第4のPチャネルトランジスタ47のソー
スとバルクとは、5Vの電源電圧ライン11に接続し、
ドレインは、第4のNチャネルトランジスタ49のドレ
インと、第6のNチャネルトランジスタ53のゲート
と、第5のNチャネルトランジスタ51のゲートに接続
している。
The source and the bulk of the fourth P-channel transistor 47 are connected to the 5 V power supply voltage line 11,
The drain is connected to the drain of the fourth N-channel transistor 49, the gate of the sixth N-channel transistor 53, and the gate of the fifth N-channel transistor 51.

【0033】この第4のPチャネルトランジスタ47の
ドレインと、第4のNチャネルトランジスタ49のドレ
インと、第5のNチャネルトランジスタ51のゲート
と、第6のNチャネルトランジスタ53のゲートとの接
続点を、第4のノード57とする。
A connection point between the drain of the fourth P-channel transistor 47, the drain of the fourth N-channel transistor 49, the gate of the fifth N-channel transistor 51, and the gate of the sixth N-channel transistor 53 Is the fourth node 57.

【0034】3つの第4のNチャネルトランジスタ49
と、第5のNチャネルトランジスタ51と、第6のNチ
ャネルトランジスタ53との、それぞれのソースとバル
クとは、いずれも−VPP電圧発生回路15の出力であ
る−VPPライン13に接続している。
Three fourth N-channel transistors 49
And the source and bulk of each of the fifth N-channel transistor 51 and the sixth N-channel transistor 53 are connected to the -VPP line 13, which is the output of the -VPP voltage generation circuit 15. .

【0035】第6のNチャネルトランジスタ53のドレ
インは、書き込み用ツェナーダイオード27のアノード
に接続している。
The drain of the sixth N-channel transistor 53 is connected to the anode of the write Zener diode 27.

【0036】書き込み用ツェナーダイオードのカソード
は、5Vの電源電圧ライン11に接続している。
The cathode of the writing zener diode is connected to a 5 V power supply voltage line 11.

【0037】ここで第5のNチャネルトランジスタ51
は、他の2つの第4のNチャネルトランジスタ49と、
第6のNチャネルトランジスタ53よりも、チャネル長
とチャンネル幅との大きさは、小さく構成する。
Here, the fifth N-channel transistor 51
Are the other two fourth N-channel transistors 49,
The channel length and channel width are smaller than those of the sixth N-channel transistor 53.

【0038】つぎにメモリ素子を消去、書き込みを行う
ときの消去用プログラム信号PG1と、書き込み用プロ
グラム信号PG2と、負の高電圧である―VPPとの関
係を図2を用いて説明する。
Next, the relationship between the erase program signal PG1, the write program signal PG2, and the negative high voltage -VPP when erasing and writing the memory element will be described with reference to FIG.

【0039】図2の信号のタイミングを表す波形図に示
すように、メモリ素子を消去する場合には、まず消去用
プログラム信号PG161を、電源電圧の5Vから基準
電位の0Vにしてから、−VPPライン65を基準電位
の0Vから−VPP電圧に下げる。−VPPラインは、
図1に示す消去用ツェナーダイオード25のツェナー電
位の−3.5Vになる。
As shown in the waveform diagram showing the signal timing in FIG. 2, when erasing the memory element, first, the erasing program signal PG 161 is changed from the power supply voltage of 5 V to the reference potential of 0 V, and then is applied to -VPP. The line 65 is lowered from the reference potential of 0 V to the voltage of -VPP. -The VPP line is
The Zener potential of the erasing Zener diode 25 shown in FIG.

【0040】消去が終了したら、−VPPライン65を
0Vに戻してから、消去用プログラム信号PG161を
5Vに戻す。
When the erasing is completed, the -VPP line 65 is returned to 0V, and then the erasing program signal PG161 is returned to 5V.

【0041】以上の消去サイクル67の間、書き込み用
プログラム信号PG263は、5Vの電源電位のままで
ある。
During the above-described erase cycle 67, the program signal PG263 for writing remains at the power supply potential of 5V.

【0042】メモリ素子の書き込みを行う場合には、ま
ず書き込み用プログラム信号PG263を電源電圧の5
Vから基準電位の0Vにしてから、−VPPライン65
を基準電位の0Vから−VPP電圧に下げる。−VPP
ライン65は、図1に示す書き込み用ツェナーダイオー
ド27のツェナー電位の−4.0Vになる。
When writing to a memory element, first, a write program signal PG 263 is set to a power supply voltage of 5.
V to the reference potential of 0 V, and then the -VPP line 65
From the reference potential of 0 V to the -VPP voltage. -VPP
The line 65 has a Zener potential of -4.0 V of the Zener diode 27 for writing shown in FIG.

【0043】書き込みが終了したら、−VPPライン6
5を0Vに戻してから、書き込み用プログラム信号PG
263を5Vに戻す。
When the writing is completed, the -VPP line 6
5 is returned to 0 V, and then the write program signal PG
263 is returned to 5V.

【0044】以上の書き込みサイクル69の間、消去用
プログラム信号PG161は、5Vの電源電位のままで
ある。
During the above-described write cycle 69, the erase program signal PG161 remains at the power supply potential of 5V.

【0045】つぎに以上の構成に基く回路の動作を、図
1を用いて説明する。
Next, the operation of the circuit based on the above configuration will be described with reference to FIG.

【0046】メモリ素子を消去するときには、消去用プ
ログラム信号PG1を接続する第1のPチャネルトラン
ジスタ29のドレイン17には基準電位レベルの0Vを
印加し、さらに書き込み用プログラム信号PG2を接続
する第3のPチャネルトランジスタ45のドレイン19
には5Vの電源電圧を印加する。このとき、−VPP電
圧発生回路15はまだ動作していないので、−VPPラ
イン13の電圧は0Vである。
When erasing the memory element, a reference potential level of 0 V is applied to the drain 17 of the first P-channel transistor 29 to which the erasing program signal PG1 is connected, and the third to which the writing program signal PG2 is connected. Drain 19 of P-channel transistor 45
Is applied with a power supply voltage of 5V. At this time, since the -VPP voltage generation circuit 15 has not been operated yet, the voltage of the -VPP line 13 is 0V.

【0047】消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブ
ロック21は、第1のPチャネルトランジスタ29のド
レイン17にはPG1端子より0Vの電位を印加し、ゲ
ートには基準電位ライン43の0Vが印加されているの
で、第1のPチャンネルトランジスタ29のソースの第
1のノード39は0Vとなる。
In the erasing zener diode switching circuit block 21, a potential of 0 V is applied to the drain 17 of the first P-channel transistor 29 from the PG1 terminal, and 0 V of the reference potential line 43 is applied to the gate. , The first node 39 of the source of the first P-channel transistor 29 becomes 0V.

【0048】この第1のノード39に接続している第2
のPチャネルトランジスタ31のゲートと、第1のNチ
ャネルトランジスタ33のゲートと、第2のNチャネル
トランジスタ35のドレインとが0Vとなり、第2のP
チャネルトランジスタ31がオン、第1のNチャネルト
ランジスタ33がオフとなり、第2のPチャネルトラン
ジスタ31のドレイン、および、第1のNチャネルトラ
ンジスタ33のドレインの第2のノード41は5Vとな
る。
The second node connected to the first node 39
Of the P-channel transistor 31, the gate of the first N-channel transistor 33, and the drain of the second N-channel transistor 35 become 0V.
The channel transistor 31 is turned on, the first N-channel transistor 33 is turned off, and the drain of the second P-channel transistor 31 and the second node 41 of the drain of the first N-channel transistor 33 become 5V.

【0049】この結果、第2のNチャネルトランジスタ
ト35は、ゲートは5V、ソース電位は0Vなので、第
2のNチャネルトランジスタ35はオン状態となり、第
1のノード39は0Vとなり、さらに第3のNチャネル
トランジスタ37のゲートには5V、ソースには0Vが
印加されているので、第3のNチャネルトランジスタ3
7はオン状態となり、−VPPライン13と消去用ツェ
ナーダイオード25とが接続する。
As a result, since the gate of the second N-channel transistor 35 is 5 V and the source potential is 0 V, the second N-channel transistor 35 is turned on, the first node 39 becomes 0 V, and the third N-channel transistor 35 becomes third. Since 5 V is applied to the gate and 0 V is applied to the source of the third N-channel transistor 37,
7 is turned on, and the -VPP line 13 and the erasing Zener diode 25 are connected.

【0050】書き込み用ツェナーダイオード切り替え回
路ブロック23は、第3のPチャネルトランジスタ45
のドレイン19にPG2端子より5Vの電位を印加し、
ゲートには基準電位ライン43の0Vが印加されてい
る。したがって、第3のPチャネルトランジスタ45の
ソースの第3のノード55の電位は、5Vとなる。
The write zener diode switching circuit block 23 includes a third P-channel transistor 45.
A potential of 5 V from the PG2 terminal to the drain 19 of
0 V of the reference potential line 43 is applied to the gate. Therefore, the potential of the third node 55 of the source of the third P-channel transistor 45 becomes 5V.

【0051】この第3のノード55に接続している第4
のPチャネルトランジスタ47のゲートと、第4のNチ
ャネルトランジスタ49のゲートと、第5のNチャネル
トランジスタ51のドレインとが5Vとなり、第4のP
チャネルトランジスタ47がオフとなり、第4のNチャ
ネルトランジスタ49がオン状態となり、第4のPチャ
ネルトランジスタ47のドレイン、および第4のNチャ
ネルトランジスタ49のドレインの第4のノード57は
0Vとなる。
The fourth node connected to the third node 55
Of the P-channel transistor 47, the gate of the fourth N-channel transistor 49, and the drain of the fifth N-channel transistor 51 become 5V,
The channel transistor 47 is turned off, the fourth N-channel transistor 49 is turned on, and the drain of the fourth P-channel transistor 47 and the fourth node 57 of the drain of the fourth N-channel transistor 49 become 0V.

【0052】この結果、第5のNチャネルトランジスタ
51は、ゲートの電位が0V、ソース電位が0Vなの
で、第5のNチャネルトランジスタ51はオフ状態とな
り、第4のノード55は5Vとなり、第6のNチャネル
トランジスタ53のゲートにはソース電圧と同電位の0
Vが印加される。
As a result, the fifth N-channel transistor 51 has a gate potential of 0 V and a source potential of 0 V, so that the fifth N-channel transistor 51 is turned off, the fourth node 55 becomes 5 V, and the sixth Of the N-channel transistor 53 at the same potential as the source voltage
V is applied.

【0053】これにより第6のNチャネルトランジスタ
53はオフ状態となり、−VPPライン13と書き込み
用ツェナーダイオード27とは切断される。
As a result, the sixth N-channel transistor 53 is turned off, and the -VPP line 13 and the write zener diode 27 are disconnected.

【0054】消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブ
ロック21と、書き込みツェナーダイオード切り替え回
路ブロック23との各ノードが安定してから、−VPP
電圧発生回路15を動作させ、−VPPライン13を負
の高電位にする。
After the respective nodes of the erasing zener diode switching circuit block 21 and the writing zener diode switching circuit block 23 are stabilized, -VPP
The voltage generation circuit 15 is operated to set the -VPP line 13 to a negative high potential.

【0055】このとき、消去用ツェナーダイオード切り
替え回路ブロック21と、書き込みツェナーダイオード
切り替え回路ブロック23との動作は、下記記載のよう
になる。
At this time, the operations of the erasing zener diode switching circuit block 21 and the writing zener diode switching circuit block 23 are as described below.

【0056】消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブ
ロック21は、−VPPライン13が負の高電位、たと
えば、−6Vになると、この―VPPライン13に接続
している第2のNチャネルトランジスタ35のソース電
位が−6Vになるが、この第2のNチャネルトランジス
タ35のゲートの第2のノード41は5Vなので、この
第2のNチャネルトランジスタ35はオンの状態を維持
し続け、第1のノード39は−6Vになる。
When the -VPP line 13 becomes a negative high potential, for example, -6 V, the source potential of the second N-channel transistor 35 connected to the -VPP line 13 is determined by the erasing Zener diode switching circuit block 21. Becomes −6 V, but since the second node 41 of the gate of the second N-channel transistor 35 is 5 V, the second N-channel transistor 35 keeps on and the first node 39 becomes It becomes -6V.

【0057】この第1のノード39の電位が−6Vにな
ると、第1のPチャネルトランジスタ29はオフ状態と
なり、負の高電圧である−VPPとドレイン17とがシ
ョートするのを防ぐ。
When the potential of the first node 39 becomes -6 V, the first P-channel transistor 29 is turned off, thereby preventing the negative high voltage -VPP and the drain 17 from being short-circuited.

【0058】第1のノード39が−6Vになっても、第
2のPチャネルトランジスタ31はオン状態のままを維
持し、第1のNチャネルトランジスタ33はオフ状態の
ままを維持するので、第2のノード41の電位は5Vを
維持する。
Even if the first node 39 becomes -6V, the second P-channel transistor 31 remains on and the first N-channel transistor 33 remains off, so that the second The potential of the second node 41 maintains 5V.

【0059】第2のノード41に接続している第2のN
チャネルトランジスタ35のゲート電位は5Vのまま
で、ソース電位が−6Vなので、この第2のNチャネル
トランジスタ35はオン状態を維持し、第2のノード4
1の電位も5Vを維持し、第3のNチャネルトランジス
タ37はオン状態を維持するので、消去用ツェナーダイ
オード25は―VPPライン13に接続されたままにな
る。
The second N connected to the second node 41
Since the gate potential of the channel transistor 35 remains at 5 V and the source potential is −6 V, the second N-channel transistor 35 maintains the ON state and the second node 4
Since the potential of 1 also maintains 5 V, and the third N-channel transistor 37 maintains the ON state, the erasing Zener diode 25 remains connected to the -VPP line 13.

【0060】一方、書き込み用ツェナーダイオード切り
替え回路ブロック23は、−VPPライン13の電位が
−6Vになると、この―VPPライン13に接続されて
いる第5のNチャネルトランジスタ51のソース電位と
第6のNチャネルトランジスタ53のソース電位とは、
−6Vになる。
On the other hand, when the potential of the -VPP line 13 becomes -6 V, the write zener diode switching circuit block 23 outputs the source potential of the fifth N-channel transistor 51 connected to the -VPP line 13 and the sixth potential. Is the source potential of the N-channel transistor 53
It becomes -6V.

【0061】第5のNチャネルトランジスタ51と第6
のNチャネルトランジスタ53とでは、第6のNチャネ
ルトランジスタ53の方がチャネル長とチャネル幅との
おおきさが大きいため、第5のNチャネルトランジスタ
51のゲートの第4のノード57が0Vで、第5のNチ
ャネルトランジスタ51がオフ状態からオン状態に変化
する前に、第4のNチャネルトランジスタ49のドレイ
ンの第4のノード57の電位が0Vから−6Vになる。
このためこの第4のノード57に接続している第6のN
チャネルトランジスタ53のゲート電位が−6Vにな
り、第6のNチャネルトランジスタ53はオフ状態を維
持する。
The fifth N-channel transistor 51 and the sixth
Of the N-channel transistor 53, the sixth N-channel transistor 53 has a larger channel length and channel width, so the fourth node 57 of the gate of the fifth N-channel transistor 51 has 0V, Before the fifth N-channel transistor 51 changes from the off-state to the on-state, the potential of the fourth node 57 at the drain of the fourth N-channel transistor 49 is changed from 0V to −6V.
Therefore, the sixth N connected to the fourth node 57
The gate potential of the channel transistor 53 becomes -6 V, and the sixth N-channel transistor 53 maintains the off state.

【0062】第5のNチャネルトランジスタ51のゲー
トを接続している第4のノード57の電位は0Vから−
6Vになり、この第5のNチャネルトランジスタ51の
ソース電位も−6Vになる。このため、この第5のNチ
ャネルトランジスタ51は、オフ状態を維持するので、
書き込み用ツェナーダイオード27は、−VPPライン
13から切り放されたままになる。
The potential of the fourth node 57 connecting the gate of the fifth N-channel transistor 51 is changed from 0 V to-
6V, and the source potential of the fifth N-channel transistor 51 also becomes -6V. Therefore, the fifth N-channel transistor 51 maintains the off state,
The write zener diode 27 remains disconnected from the -VPP line 13.

【0063】上述したように、消去用ツェナーダイオー
ド25が−VPPライン13に接続され、書き込み用ツ
ェナーダイオード27は、−VPPライン13から切り
放されているため、−VPPライン13の電位は、−6
Vから消去用ツェナーダイオード25のツェナー電位に
設定される。
As described above, since the erasing Zener diode 25 is connected to the -VPP line 13 and the writing Zener diode 27 is cut off from the -VPP line 13, the potential of the -VPP line 13 becomes- 6
V is set to the Zener potential of the erasing Zener diode 25.

【0064】メモリ素子を書き込みする場合には、消去
用プログラム信号PG1を接続する第1のPチャネルト
ランジスタ29のドレイン17に電源電圧の5Vを印加
し、書き込み用プログラム信号PG2を接続する第3の
Pチャネルトランジスタ45のドレイン19に0Vの基
準電圧を印加する。
When writing to the memory element, a power supply voltage of 5 V is applied to the drain 17 of the first P-channel transistor 29 to which the erase program signal PG1 is connected, and the third program to which the write program signal PG2 is connected. A reference voltage of 0 V is applied to the drain 19 of the P-channel transistor 45.

【0065】このとき、−VPP電圧発生回路15は、
まだ動作していないので、−VPPライン13の電圧は
0Vである。
At this time, the -VPP voltage generation circuit 15
Since it has not been operated yet, the voltage of the -VPP line 13 is 0V.

【0066】消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブ
ロック21は、第1のPチャネルトランジスタ29のド
レイン17にPG1端子より5Vの電位を印加し、ゲー
トには基準電位ライン43の0Vが印加されている。し
たがって、第1のPチャンネルトランジスタ29のソー
スの第1のノード39の電位は5Vとなる。
The erasing zener diode switching circuit block 21 applies a potential of 5 V from the PG1 terminal to the drain 17 of the first P-channel transistor 29, and 0 V of the reference potential line 43 is applied to the gate. Therefore, the potential of the first node 39 at the source of the first P-channel transistor 29 becomes 5V.

【0067】この第1のノード39に接続している第2
のPチャネルトランジスタ31のゲートと、第1のNチ
ャネルトランジスタ33のゲートと、第2のNチャネル
トランジスタ35のドレインとの電位が5Vとなり、第
2のPチャネルトランジスタ31がオフとなり、第1の
Nチャネルトランジスタ33がオン状態となり、第2の
Pチャネルトランジスタ31のドレイン、および、第1
のNチャネルトランジスタ33のドレインの第2のノー
ド41の電位は0Vとなる。
The second node connected to the first node 39
Of the P-channel transistor 31, the gate of the first N-channel transistor 33, and the drain of the second N-channel transistor 35 become 5 V, the second P-channel transistor 31 is turned off, and the first The N-channel transistor 33 is turned on, and the drain of the second P-channel transistor 31 and the first
The potential of the second node 41 of the drain of the N-channel transistor 33 becomes 0V.

【0068】この結果、第2のNチャネルトランジスタ
ト35は、ゲートの電位は0V、ソース電位は0Vなの
で、第2のNチャネルトランジスタ35はオフ状態とな
り、第1のノード39は5Vとなり、第3のNチャネル
トランジスタ37のゲートには0V、ソースには0Vが
印加されているので、第3のNチャネルトランジスタ3
7はオフ状態となり、−VPPライン13と消去用ツェ
ナーダイオード25とは切断される。
As a result, the second N-channel transistor 35 has a gate potential of 0 V and a source potential of 0 V, so that the second N-channel transistor 35 is turned off, the first node 39 becomes 5 V, and the second N-channel transistor 35 becomes 5 V. Since 0 V is applied to the gate and 0 V to the source of the third N-channel transistor 37, the third N-channel transistor 3
7 is turned off, and the -VPP line 13 and the erasing zener diode 25 are disconnected.

【0069】書き込み用ツェナーダイオード切り替え回
路ブロック23は、第3のPチャネルトランジスタ45
のドレイン19にPG2端子より0Vの電位を印加し、
ゲートには基準電位ライン43の0Vが印加されている
ので、第3のPチャネルトランジスタ45のソースの第
3のノード55は0Vとなる。
The write zener diode switching circuit block 23 includes a third P-channel transistor 45.
0V potential is applied from the PG2 terminal to the drain 19 of
Since 0 V of the reference potential line 43 is applied to the gate, the third node 55 of the source of the third P-channel transistor 45 has 0 V.

【0070】この第3のノード55に接続している第4
のPチャネルトランジスタ47のゲートと、第4のNチ
ャネルトランジスタ49のゲートと、第5のNチャネル
トランジスタ51のドレインとが0Vとなり、第4のP
チャネルトランジスタ47がオン状態となり、第4のN
チャネルトランジスタ49がオフとなり、第4のPチャ
ネルトランジスタ47のドレイン、およびN型トランジ
スタ49のドレインの第4のノード57の電位は5Vと
なる。
The fourth node connected to the third node 55
Of the P-channel transistor 47, the gate of the fourth N-channel transistor 49, and the drain of the fifth N-channel transistor 51 become 0V,
The channel transistor 47 is turned on, and the fourth N
The channel transistor 49 is turned off, and the potentials of the drain of the fourth P-channel transistor 47 and the fourth node 57 of the drain of the N-type transistor 49 become 5V.

【0071】この結果、第5のNチャネルトランジスタ
51は、ゲートの電位が5V、ソース電位は0Vなの
で、第5のNチャネルトランジスタ51はオンとなり、
第3のノード55は0Vとなり、第6のNチャネルトラ
ンジスタ53のゲートには電源電圧の5Vの電位が印加
される。
As a result, the fifth N-channel transistor 51 has a gate potential of 5 V and a source potential of 0 V, so that the fifth N-channel transistor 51 is turned on.
The voltage of the third node 55 becomes 0 V, and a potential of 5 V of the power supply voltage is applied to the gate of the sixth N-channel transistor 53.

【0072】これにより第6のNチャネルトランジスタ
53はオンとなり、−VPPライン13と書き込み用ツ
ェナーダイオード27とは接続される。
As a result, the sixth N-channel transistor 53 is turned on, and the -VPP line 13 is connected to the write zener diode 27.

【0073】消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブ
ロック21と、書き込み用ツェナーダイオード切り替え
回路ブロック23との各ノードが安定してから、−VP
P電圧発生回路15を動作させ、−VPPライン13を
負の高電位にする。
After each node of the erasing zener diode switching circuit block 21 and the writing zener diode switching circuit block 23 is stabilized, -VP
The P voltage generating circuit 15 is operated to set the -VPP line 13 to a negative high potential.

【0074】このとき、消去用ツェナーダイオード切り
替え回路ブロック21と、書き込み用ツェナーダイオー
ド切り替え回路ブロック23との動作は、下記記載のよ
うになる。
At this time, the operations of the erasing zener diode switching circuit block 21 and the writing zener diode switching circuit block 23 are as described below.

【0075】書き込み用ツェナーダイオード切り替え回
路ブロック23は、−VPPライン13が負の高電位、
たとえば−6Vになると、この―VPPライン13に接
続している第5のNチャネルトランジスタ51のソース
電位が−6Vになるが、この第5のNチャネルトランジ
スタ51のゲートの第4のノード57は5Vなので、こ
の第5のNチャネルトランジスタ51はオンの状態を維
持し続け、第3のノード55の電位は−6Vになる。
The zener diode switching circuit block 23 for writing is configured such that the -VPP line 13 has a negative high potential,
For example, when the voltage becomes −6 V, the source potential of the fifth N-channel transistor 51 connected to the −VPP line 13 becomes −6 V. The fourth node 57 of the gate of the fifth N-channel transistor 51 is Since the voltage is 5V, the fifth N-channel transistor 51 keeps on, and the potential of the third node 55 becomes -6V.

【0076】この第3のノード55の電位が−6Vにな
ると、第3のPチャネルトランジスタ45はオフ状態と
なり、負の高電圧である−VPPとドレイン19とがシ
ョートするのを防ぐ。
When the potential of the third node 55 becomes -6 V, the third P-channel transistor 45 is turned off to prevent the negative high voltage -VPP and the drain 19 from being short-circuited.

【0077】第3のノード55が−6Vになっても、第
4のPチャネルトランジスタ47はオン状態のままを維
持し、さらに第4のNチャネルトランジスタ49はオフ
状態のままを維持するので、第4のノード57の電位は
5Vを維持する。
Even if the third node 55 becomes -6V, the fourth P-channel transistor 47 maintains the ON state, and the fourth N-channel transistor 49 maintains the OFF state. The potential of the fourth node 57 maintains 5V.

【0078】第4のノード57に接続している第5のN
チャネルトランジスタ51のゲート電位は、5Vのまま
でソース電位が−6Vなので、この第5のNチャネルト
ランジスタはオン状態を維持し、第4のノード57の電
位も5Vを維持し、第6のNチャネルトランジスタ53
はオン状態を維持するので、書き込み用ツェナーダイオ
ード27は、―VPPライン13に接続されたままにな
る。
The fifth N connected to the fourth node 57
Since the gate potential of the channel transistor 51 remains at 5 V and the source potential is −6 V, the fifth N-channel transistor maintains the ON state, the potential of the fourth node 57 also maintains 5 V, and the sixth N-channel transistor maintains the ON state. Channel transistor 53
Maintains the ON state, the write zener diode 27 remains connected to the −VPP line 13.

【0079】一方、消去用ツェナーダイオード切り替え
回路ブロック21は、−VPPライン13の電位が−6
Vになると、この―VPPライン13に接続している第
2のNチャネルトランジスタ35のソース電位と第3の
Nチャネルトランジスタ37のソース電位とは−6Vに
なる。
On the other hand, the erasing zener diode switching circuit block 21 has the potential of the -VPP line 13 of -6.
When the voltage becomes V, the source potential of the second N-channel transistor 35 and the source potential of the third N-channel transistor 37 connected to the -VPP line 13 become -6V.

【0080】第2のNチャネルトランジスタ35と第3
のNチャネルトランジスタ37とでは、第3のNチャネ
ルトランジスタ37の方が、チャネル長とチャネル幅と
の大きさが大きいため、第2のNチャネルトランジスタ
35のゲートの第2のノード41が0Vで、第2のNチ
ャネルトランジスタ35がオフ状態からオン状態に変化
する前に、第1のNチャネルトランジスタ33のドレイ
ンの第2のノード41の電位が0Vから−6Vになる。
このためこの第2のノードに接続している第3のNチャ
ネルトランジスタ37のゲート電位が−6Vになり、第
3のNチャネルトランジスタ37はオフ状態を維持す
る。
The second N-channel transistor 35 and the third
Since the third N-channel transistor 37 has a larger channel length and a larger channel width than the N-channel transistor 37, the second node 41 of the gate of the second N-channel transistor 35 is at 0V. Before the second N-channel transistor 35 changes from the off-state to the on-state, the potential of the second node 41 at the drain of the first N-channel transistor 33 goes from 0V to -6V.
Therefore, the gate potential of the third N-channel transistor 37 connected to this second node becomes -6 V, and the third N-channel transistor 37 maintains the off state.

【0081】第2のNチャネルトランジスタ35のゲー
トを接続している第2のノード41の電位は0Vから−
6Vになり、この第2のNチャネルトランジスタ35の
ソース電位も−6Vになる。このため、この第2のNチ
ャネルトランジスタ35は、オフ状態を維持するので、
消去用ツェナーダイオード25は−VPPライン13か
ら切り放されたままになる。
The potential of the second node 41 connecting the gate of the second N-channel transistor 35 is changed from 0 V to-
6V, and the source potential of the second N-channel transistor 35 also becomes -6V. Therefore, the second N-channel transistor 35 maintains the off state,
The erasing Zener diode 25 remains disconnected from the -VPP line 13.

【0082】上述したように、書き込み用ツェナーダイ
オード27が−VPPライン13に接続され、消去用ツ
ェナーダイオード25は−VPPライン13から切り放
されているため、−VPPライン13の電位は、−6V
から書き込み用ツェナーダイオード27のツェナー電位
に設定される。
As described above, since the write zener diode 27 is connected to the -VPP line 13 and the erase zener diode 25 is cut off from the -VPP line 13, the potential of the -VPP line 13 becomes -6V
Is set to the Zener potential of the Zener diode 27 for writing.

【0083】[0083]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、メ
モリの消去電圧の−VPP電圧値と、メモリの書き込み
電圧の−VPP電圧値とを、それぞれ異なる電圧の最適
値に設定でき、書換え回数の多い半導体不揮発性記憶装
置を提供することができる。
As described above, according to the present invention, the -VPP voltage value of the erasing voltage of the memory and the -VPP voltage value of the writing voltage of the memory can be set to different optimal values, respectively. A semiconductor nonvolatile memory device that is frequently used can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の半導体不揮発性記憶装置の切り替え回
路を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a switching circuit of a semiconductor nonvolatile memory device according to the present invention.

【図2】本発明の半導体不揮発性記憶装置の切り替え回
路の動作タイミングを表す波形図である。
FIG. 2 is a waveform chart showing operation timing of a switching circuit of the semiconductor nonvolatile memory device of the present invention.

【図3】半導体不揮発性記憶装置を構成するメモリ素子
の消去、書き込み方法を示す回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a method of erasing and writing a memory element constituting a semiconductor nonvolatile memory device.

【図4】従来の半導体不揮発性記憶装置における消去、
書き込み電圧設定回路を示す回路図である。
FIG. 4 shows an erasing operation in a conventional semiconductor nonvolatile memory device;
FIG. 3 is a circuit diagram illustrating a write voltage setting circuit.

【図5】本発明と従来例におけるメモリ素子の消去Vt
h、書き込みVthと、書換え回数との関係を示すグラ
フである。
FIG. 5 shows an erase Vt of a memory element according to the present invention and a conventional example.
7 is a graph showing the relationship between h, write Vth, and the number of rewrites.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 電源電圧ライン 13 −VPPライン 15 負の高電圧発生回路 17 ドレイン 19 ドレイン 21 消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブロック 23 書き込み用ツェナーダイオード切り替え回路ブロ
ック 25 消去用ツェナーダイオード 27 書き込み用ツェナーダイオード
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Power supply voltage line 13 -VPP line 15 Negative high voltage generating circuit 17 Drain 19 Drain 21 Zener diode switching circuit block for erasing 23 Zener diode switching circuit block for writing 25 Zener diode for erasing 27 Zener diode for writing

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 消去用ツェナーダイオードと、書き込み
用ツェナーダイオードと、消去用ツェナーダイオード切
り替え回路ブロックと、書き込み用ツェナーダイオード
切り替え回路ブロックと、負の高電圧発生回路を備える
半導体不揮発性記憶装置であって、消去動作開始時は、消去用プログラム信号にて前記消去
用ツェナーダイオード切り替え回路ブロックの入力電圧
を変化させてから前記負の高電圧発生回路より負の高電
圧を発生し、 消去動作終了時は、前記負の高電圧発生回路より負の高
電圧の発生を終了してから前記消去用プログラム信号に
て前記消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブロック
の入力電圧を元の電圧に戻し、 書き込み動作開始時は、書き込み用プログラム信号にて
前記書き込み用ツェナーダイオード切り替え回路ブロッ
クの入力電圧を変化させてから前記負の高電圧発生回路
より負の高電圧を発生し、 書き込み動作終了時は、前記負の高電圧発生回路より負
の高電圧の発生を終了してから前記書き込み用プログラ
ム信号にて前記書き込み用ツェナーダイオード切り替え
回路ブロックの入力電位を元の電圧に戻す ことを特徴と
する半導体不揮発性記憶装置。
1. A nonvolatile semiconductor memory device comprising an erasing Zener diode, a writing Zener diode, an erasing Zener diode switching circuit block, a writing Zener diode switching circuit block, and a negative high voltage generating circuit. At the start of the erase operation , the erase
Voltage of Zener diode switching circuit block for
From the negative high voltage generating circuit,
At the end of the erasing operation, the negative high voltage is generated by the negative high voltage generating circuit.
After the generation of the voltage is completed, the
Erasing zener diode switching circuit block
Input voltage is returned to the original voltage .
The write zener diode switching circuit block
The negative high-voltage generating circuit after changing the input voltage of the
When a write operation is completed , a negative high voltage is generated by the negative high voltage generation circuit.
After the generation of the high voltage is terminated,
Switch the Zener diode for writing with a system signal
A semiconductor nonvolatile memory device, wherein an input potential of a circuit block is returned to an original voltage .
【請求項2】 消去用ツェナーダイオードと、書き込み
用ツェナーダイオードと、消去用ツェナーダイオード切
り替え回路ブロックと、書き込み用ツェナーダイオード
切り替え回路ブロックと、負の高電圧発生回路と有する
半導体不揮発性記憶装置の消去書き込み方法であって、 消去動作開始時は、消去用プログラム信号にて前記消去
用ツェナーダイオード切り替え回路ブロックの入力電圧
を変化させてから前記負の高電圧発生回路より負の高電
圧を発生し、 消去動作終了時は、前記負の高電圧発生回路より負の高
電圧の発生を終了してから前記消去用プログラム信号に
て前記消去用ツェナーダイオード切り替え回路ブロック
の入力電圧を元の電圧に戻し、 書き込み動作開始時は、書き込み用プログラム信号にて
前記書き込み用ツェナーダイオード切り替え回路ブロッ
クの入力電圧を変化させてから前記負の高電圧発生回路
より負の高電圧を発生し、 書き込み動作終了時は、前記負の高電圧発生回路より負
の高電圧の発生を終了してから前記書き込み用プログラ
ム信号にて前記書き込み用ツェナーダイオード切り替え
回路ブロックの入力電位を元の電圧に戻すことを特徴と
する半導体不揮発性記憶装置の消去書き込み方法。
2. A method for erasing a semiconductor nonvolatile memory device having an erasing Zener diode, a writing Zener diode, an erasing Zener diode switching circuit block, a writing Zener diode switching circuit block, and a negative high voltage generating circuit. In the writing method, at the start of the erasing operation, a negative high voltage is generated from the negative high voltage generating circuit after changing the input voltage of the erasing zener diode switching circuit block with an erasing program signal, At the end of the erasing operation, after the generation of the negative high voltage from the negative high voltage generating circuit is completed, the input voltage of the erasing zener diode switching circuit block is returned to the original voltage by the erasing program signal, At the start of the write operation, the write zener die is A negative high voltage is generated from the negative high voltage generation circuit after changing the input voltage of the ode switching circuit block, and when the write operation is completed, the generation of the negative high voltage is terminated by the negative high voltage generation circuit. And then returning the input potential of the write zener diode switching circuit block to the original voltage by the write program signal.
JP16164292A 1992-05-29 1992-05-29 Semiconductor nonvolatile memory device and erase / write method thereof Expired - Lifetime JP3314818B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16164292A JP3314818B2 (en) 1992-05-29 1992-05-29 Semiconductor nonvolatile memory device and erase / write method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16164292A JP3314818B2 (en) 1992-05-29 1992-05-29 Semiconductor nonvolatile memory device and erase / write method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05334887A JPH05334887A (en) 1993-12-17
JP3314818B2 true JP3314818B2 (en) 2002-08-19

Family

ID=15739068

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16164292A Expired - Lifetime JP3314818B2 (en) 1992-05-29 1992-05-29 Semiconductor nonvolatile memory device and erase / write method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3314818B2 (en)

Also Published As

Publication number Publication date
JPH05334887A (en) 1993-12-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6370063B2 (en) Word line driver having a divided bias line in a non-volatile memory device and method for driving word lines
US4667312A (en) Charge pump method and apparatus
KR0128512B1 (en) Booster circuit
TWI696999B (en) Level shifters and semi-conductor devices
KR100336254B1 (en) Booster circuit
US5105384A (en) Low current semiconductor memory device
JP2658916B2 (en) Power supply switching circuit for semiconductor device
US6535019B2 (en) Switching control method of a level shifter and corresponding improved self-controlled level shifter
JPH02172099A (en) Semiconductor memory integrated circuit
US6903595B2 (en) High voltage transfer circuit
KR900005460A (en) Semiconductor memory
JP3314818B2 (en) Semiconductor nonvolatile memory device and erase / write method thereof
JP3176339B2 (en) Level shift circuit and nonvolatile memory including the same
CN107430889B (en) Rewriting method of semiconductor memory device and semiconductor memory device
KR19980050807A (en) Semiconductor circuit for generating high output voltage
US5416737A (en) MOS memory unit for serial information processing
KR100323981B1 (en) Internal voltage generating circuit of semiconductor memory device
US6195293B1 (en) Method and circuit of erasing a flash memory
JPH097381A (en) Semiconductor device
JP4739619B2 (en) Semiconductor nonvolatile memory device
JPS6321998B2 (en)
JP3323539B2 (en) Semiconductor device
US7372308B2 (en) High-voltage generation circuits and nonvolatile semiconductor memory device with improved high-voltage efficiency and methods of operating
JPH0447400B2 (en)
JP2000082949A (en) Negative voltage level shift circuit

Legal Events

Date Code Title Description
S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090607

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110607

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120607

Year of fee payment: 10

EXPY Cancellation because of completion of term