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JP3319792B2 - Soldering equipment - Google Patents
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JP3319792B2 - Soldering equipment - Google Patents

Soldering equipment

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JP3319792B2
JP3319792B2 JP34891692A JP34891692A JP3319792B2 JP 3319792 B2 JP3319792 B2 JP 3319792B2 JP 34891692 A JP34891692 A JP 34891692A JP 34891692 A JP34891692 A JP 34891692A JP 3319792 B2 JP3319792 B2 JP 3319792B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、はんだ槽の上面開口に
チャンバが被着されたはんだ付け装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a soldering apparatus in which a chamber is attached to a top opening of a solder bath.

【0002】[0002]

【従来の技術】図4に示されるように、はんだ付け装置
は、はんだ槽11の内部にヒータ12により溶解された溶融
はんだ13が収納され、ポンプ14およびノズル15により噴
流された溶融はんだ面13a に対し、コンベヤ16により搬
送されるプリント配線基板Pが接触される。この種の溶
融はんだ面には酸化物が発生しやすいので、それを防ぐ
ために、はんだ槽11の上面開口にチャンバ17が被着さ
れ、このチャンバ17内に注入された窒素ガス等により不
活性雰囲気が保たれるようにしている。
2. Description of the Related Art As shown in FIG. 4, a soldering apparatus includes a solder bath 11 in which a molten solder 13 melted by a heater 12 is stored, and a molten solder surface 13a jetted by a pump 14 and a nozzle 15. The printed wiring board P conveyed by the conveyor 16 comes into contact therewith. Since oxides are likely to be generated on the surface of this type of molten solder, a chamber 17 is attached to the upper opening of the solder bath 11 to prevent such an oxide, and an inert atmosphere is introduced by nitrogen gas or the like injected into the chamber 17. Is maintained.

【0003】この種の不活性雰囲気を使用するはんだ付
け装置にあっては、チャンバ17内で発生した可燃性ガ
ス、例えば基板Pに塗布されたフラックスから発生した
アルコール等をチャンバ内残存酸素と反応(酸化処理)
させてチャンバ内残存酸素を消費させるために触媒18を
使用する。
In a soldering apparatus using an inert atmosphere of this kind, a combustible gas generated in the chamber 17, such as alcohol generated from a flux applied to the substrate P, reacts with oxygen remaining in the chamber. (Oxidation treatment)
Then, the catalyst 18 is used to consume the remaining oxygen in the chamber.

【0004】従来は、このような触媒18にチャンバ17
の雰囲気ガスを導入する場合、あらかじめ専用ヒータ19
またはプリント基板予備加熱用プリヒータの一部によ
り、その雰囲気ガスを加熱して触媒18に供給することに
より、触媒18がその機能を十分に発揮できるようにして
いる。
Conventionally, when the atmospheric gas in the chamber 17 is introduced into such a catalyst 18, a dedicated heater 19 is required in advance.
Alternatively, the atmosphere gas is heated and supplied to the catalyst 18 by a part of the preheater for pre-heating the printed circuit board, so that the catalyst 18 can sufficiently exhibit its function.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従来の専用ヒータ19を
使用して触媒18へ導入されるチャンバ内雰囲気ガスを加
熱する技術は、温度制御の必要があるためコストアップ
が否めない。また、予備加熱ヒータは、処理する基板の
種類によって設定温度を変更するため、触媒18へ導入さ
れるチャンバ内雰囲気ガスの温度が変化してしまい、触
18へ導入されるガス温度として必要な200〜250
℃が保てなくなる場合がある。
The conventional technique of heating the atmospheric gas in the chamber introduced into the catalyst 18 by using the dedicated heater 19 requires the temperature control, so that the cost cannot be denied. Also, pre-heater, in order to change the set temperature depending on the type of substrate to be processed, the temperature of the chamber atmosphere gas introduced into the catalyst 18 ends up changing, it is introduced into the catalyst <br/> medium 18 gas 200-250 required as temperature
℃ may not be maintained.

【0006】本発明は、このような点に鑑みなされたも
ので、はんだ槽が持つ熱エネルギを有効に利用して、チ
ャンバ内雰囲気ガスを処理する触媒の活性化を図ること
を目的とするものである。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to activate a catalyst for treating an atmospheric gas in a chamber by effectively utilizing thermal energy of a solder bath. It is.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、はんだ槽の内部にヒータにより溶解された溶融はん
だが収納され、はんだ槽の上面開口にチャンバが被着さ
れ、このチャンバ内の雰囲気ガスが触媒により処理され
るはんだ付け装置において、はんだ槽に触媒収納部が密
着され、この触媒収納部の内部に触媒が充填されたはん
だ付け装置である。
According to the first aspect of the present invention, a molten solder melted by a heater is accommodated in a solder bath, and a chamber is attached to an upper opening of the solder bath. In a soldering machine in which atmospheric gas is treated with a catalyst, the catalyst housing
This is a soldering device which is attached and a catalyst is filled in the inside of the catalyst accommodating portion .

【0008】請求項2に記載の発明は、はんだ槽の内部
にヒータにより溶解された溶融はんだが収納され、はん
だ槽の上面開口にチャンバが被着され、このチャンバ内
の雰囲気ガスが触媒により処理されるはんだ付け装置に
おいて、チャンバの下部が溶融はんだ中に没入され、こ
のチャンバに触媒が密着されたはんだ付け装置である。
According to a second aspect of the present invention, the inside of a solder bath is provided.
The molten solder melted by the heater is stored in the
A chamber is attached to the top opening of the fermenter tank, and inside this chamber
Atmosphere gas is treated with a catalyst by soldering equipment
The lower part of the chamber is immersed in the molten solder
Is a soldering apparatus in which a catalyst is closely attached to a chamber.

【0009】請求項に記載の発明は、はんだ槽の内部
にヒータにより溶解された溶融はんだが収納され、はん
だ槽の上面開口にチャンバが被着され、このチャンバ内
の雰囲気ガスが触媒により処理されるはんだ付け装置に
おいて、前記はんだ槽中に、前記チャンバ内の雰囲気ガ
スを前記触媒に導入する熱交換用配管が挿入された構成
のはんだ付け装置である。
According to a third aspect of the present invention, molten solder melted by a heater is housed in a solder bath, a chamber is attached to an upper opening of the solder bath, and an atmosphere gas in the chamber is treated by a catalyst. A heat exchange pipe for introducing an atmospheric gas in the chamber to the catalyst is inserted into the solder bath.

【0010】[0010]

【作用】請求項1に記載の発明は、はんだ槽に密着され
た触媒収納部を経て、はんだ槽の溶融はんだ温度により
触媒を適合温度に制御することで、触媒の機能を活性化
させる。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device which is in close contact with a solder bath.
After passing through the catalyst storage section,
By controlling the catalyst to a suitable temperature, the function of the catalyst is activated.

【0011】請求項2に記載の発明は、溶融はんだ中に
没入されたチャンバを経て、はんだ槽の溶融はんだ温度
により触媒を適合温度に制御することで、触媒の機能を
活性化させる。
The invention according to claim 2 is characterized in that the molten solder contains
Through the immersed chamber, the molten solder temperature in the solder bath
By controlling the catalyst to an appropriate temperature, the function of the catalyst can be improved.
Activate.

【0012】請求項に記載の発明は、はんだ槽内の溶
融はんだが持つ熱エネルギにより、触媒に導入されるチ
ャンバ内雰囲気ガスを加熱して触媒機能を活性化させ
る。
According to a third aspect of the present invention, the catalytic function is activated by heating the atmospheric gas in the chamber introduced into the catalyst by the thermal energy of the molten solder in the solder bath.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明を図1に示される第1実施例、
図2に示される第2実施例および図3に示される第3実
施例を参照して詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described with reference to a first embodiment shown in FIG.
This will be described in detail with reference to the second embodiment shown in FIG. 2 and the third embodiment shown in FIG.

【0014】図1に示される本発明の第1実施例は、は
んだ槽11の内部にヒータ12により溶解された溶融はんだ
13が収納され、ポンプ14およびノズル15により噴流され
た溶融はんだ面13a に対し、コンベヤ16により搬送され
るプリント配線基板Pが接触される。この種の溶融はん
だ面には酸化物が発生しやすいので、それを防ぐため
に、はんだ槽11の上面開口にチャンバ17が被着され、こ
のチャンバ17内に窒素ガス等の不活性ガスが注入され、
不活性雰囲気が保たれる。
FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention in which a molten solder melted by a heater 12 is placed inside a solder bath 11.
The printed wiring board P conveyed by the conveyor 16 contacts the molten solder surface 13a jetted by the pump 14 and the nozzle 15. Oxides are easily generated on the surface of this type of molten solder.To prevent this, a chamber 17 is attached to the upper opening of the solder bath 11 and an inert gas such as nitrogen gas is injected into the chamber 17. ,
An inert atmosphere is maintained.

【0015】前記はんだ槽11の一側から他側にわたっ
て、はんだ槽11の壁面に触媒収納部21が密着された状態
で設置され、この触媒収納部21の内部に触媒22が充填さ
れている。触媒収納部21は熱伝導性を有し、はんだ槽内
の溶融はんだ13の熱を触媒22へ伝える。
From one side of the solder bath 11 to the other side, a catalyst housing 21 is installed in close contact with the wall surface of the solder bath 11, and a catalyst 22 is filled in the catalyst housing 21. The catalyst accommodating portion 21 has thermal conductivity and transmits heat of the molten solder 13 in the solder bath to the catalyst 22.

【0016】前記触媒収納部21の一端部にはガス入口23
が設けられ、チャンバ17の基板搬出側に設けられたガス
取出口24と連通されている。また、触媒収納部21の他端
部にはガス出口25が設けられ、エジェクタ26の吸込口に
連通されている。
A gas inlet 23 is provided at one end of the catalyst housing 21.
Are provided and communicate with a gas outlet 24 provided on the substrate unloading side of the chamber 17. Further, a gas outlet 25 is provided at the other end of the catalyst storage section 21, and communicates with a suction port of the ejector 26.

【0017】このエジェクタ26は、窒素タンク等の不活
性ガス供給源27から加圧された不活性ガスを供給される
と、この不活性ガス流の周囲に発生する負圧により前記
触媒内通過ガスを吸引するもので、このエジェクタ26の
吐出口は前記チャンバ17の基板搬入側に設けられたガス
戻し口28に連通されている。
When the pressurized inert gas is supplied from an inert gas supply source 27 such as a nitrogen tank, the ejector 26 receives the gas passing through the catalyst by a negative pressure generated around the inert gas flow. The discharge port of the ejector 26 is communicated with a gas return port 28 provided on the substrate loading side of the chamber 17.

【0018】このような図1の構成において、前記エジ
ェクタ26の吸引作用により、チャンバ17から吸出された
チャンバ内雰囲気ガスは、200〜250℃のはんだ槽
11と同様の温度となっている触媒22に導かれ、この高温
により機能の活性化された触媒22により酸化処理され
る。
In the structure of FIG. 1, the atmospheric gas sucked out of the chamber 17 by the suction action of the ejector 26 is supplied to the solder bath at 200 to 250 ° C.
The catalyst 22 is led to the catalyst 22 having the same temperature as that of 11, and is oxidized by the catalyst 22 whose function is activated by this high temperature.

【0019】例えば、チャンバ内雰囲気ガスは主として
窒素ガス等の不活性ガスであるが、基板Pに塗布された
フラックスより発生したアルコール成分等の可燃性ガス
もあるので、このアルコールが触媒22によりチャンバ内
残留酸素と反応して二酸化炭素と水蒸気とに分解され
る。
For example, the atmosphere gas in the chamber is mainly an inert gas such as nitrogen gas, but there is also a flammable gas such as an alcohol component generated from the flux applied to the substrate P. It reacts with the residual oxygen inside and is decomposed into carbon dioxide and water vapor.

【0020】このようにして触媒22により酸化処理され
た雰囲気は、エジェクタ26で不活性ガス供給源27から圧
送された窒素ガス中に混入され、前記チャンバ17内へ循
環される。
The atmosphere oxidized by the catalyst 22 in this manner is mixed into the nitrogen gas fed from the inert gas supply source 27 by the ejector 26 and circulated into the chamber 17.

【0021】次に、図2に示される本発明の第2実施例
、はんだ槽内の溶融はんだ13が持つ熱エネルギにより
触媒22a ,22b 自体を加熱して、触媒22a ,22b の機能
を活性化させる例であって、前記チャンバ17の下部が溶
融はんだ13中に没入する部分17a ,17b の近辺に触媒22
a ,22b を密着させて取付けたものである。
[0021] Next, a second embodiment of the present invention, the catalyst 22a by the thermal energy possessed by the molten solder 13 in the I vessel, heating the 22b itself, the catalyst 22a, 22b function as indicated in FIG. 2 In this example, the lower part of the chamber 17 is immersed in the molten solder 13 in the vicinity of the portions 17a and 17b.
a and 22b are attached in close contact.

【0022】この触媒22a ,22b は、200〜250℃
に加熱された溶融はんだ13から没入部分17a ,17b を経
て熱を与えられ、溶融はんだとほぼ等しい温度に加熱さ
れた状態となり、チャンバ17内で自然対流される雰囲気
ガスと接触してこれを直接的に酸化処理する。
The catalysts 22a and 22b are maintained at 200 to 250 ° C.
Immersive portion 17a from the molten solder 13 heated to, given the heat through 17b, a state of being heated to a temperature approximately equal with molten solder, this directly in contact with the ambient gas to be natural convection in the chamber 17 Oxidation treatment.

【0023】次に、図3に示される本発明の第3実施例
は、触媒22がはんだ槽11の外部に設けられ、この触媒22
にチャンバ内雰囲気ガスを導入する熱交換用配管31が前
記はんだ槽11中に挿入されたものであり、この熱交換用
配管31を経て触媒22にチャンバ17内の雰囲気ガスを供給
する。なお、図1の実施例と同様の部分には同一符号を
付してその説明を省略する。
Next, in a third embodiment of the present invention shown in FIG. 3, a catalyst 22 is provided outside the solder bath 11,
A heat exchange pipe 31 for introducing an atmosphere gas in the chamber into the solder bath 11 is inserted into the solder bath 11, and the atmosphere gas in the chamber 17 is supplied to the catalyst 22 via the heat exchange pipe 31. The same parts as those in the embodiment of FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0024】そして、チャンバ17内の雰囲気ガスは、エ
ジェクタ26の吸引作用により触媒22に導入される前に、
200〜250℃に加熱されたはんだ槽内溶融はんだ13
中の熱交換用配管31を通過するので、その際に溶融はん
だ13が持つ熱エネルギにより加熱されて、高温のチャン
バ内雰囲気ガスが触媒22に供給され、触媒22の反応が活
性化される。
Then, before the atmospheric gas in the chamber 17 is introduced into the catalyst 22 by the suction action of the ejector 26,
Molten solder 13 in a solder bath heated to 200-250 ° C
Since it passes through the heat exchange pipe 31 inside, it is heated by the thermal energy of the molten solder 13 at that time, and the high-temperature atmosphere gas in the chamber is supplied to the catalyst 22, and the reaction of the catalyst 22 is activated.

【0025】[0025]

【発明の効果】請求項1に記載の発明によれば、はんだ
槽に密着された触媒収納部を経て触媒を加熱するので、
特別な触媒加熱手段を設けなくとも、はんだ槽の溶融は
んだ温度により触媒を活性化させる適合温度に自動的に
制御できる。
According to the first aspect of the present invention, the solder
Because the catalyst is heated through the catalyst storage unit that is in close contact with the tank,
Even without special catalyst heating means, the melting of the solder bath
The temperature can be automatically controlled to the appropriate temperature to activate the catalyst.

【0026】請求項2に記載の発明によれば、溶融はん
だ中に没入されたチャンバを経て触媒を加熱するので、
特別な触媒加熱手段を設けなくとも、はんだ槽の溶融は
んだ温度により触媒を活性化させる適合温度に自動的に
制御できる。
According to the second aspect of the invention, the molten solder
Heats the catalyst through the chamber immersed in the
Even without special catalyst heating means, the melting of the solder bath
Temperature automatically activates the catalyst at the appropriate temperature
Can control.

【0027】請求項に記載の発明によれば、特別な加
熱手段を設けなくとも、温度制御された溶融はんだが持
つ熱エネルギを有効に利用して触媒に導入されるチャン
バ内雰囲気ガスを予め触媒機能適合温度に自動的に制御
できる。
According to the third aspect of the present invention, even if no special heating means is provided, the atmosphere gas in the chamber to be introduced into the catalyst in advance by effectively utilizing the thermal energy of the molten solder whose temperature is controlled is effectively used. It can be automatically controlled to the temperature suitable for the catalyst function.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のはんだ付け装置の第1実施例を示す断
面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of a soldering apparatus of the present invention.

【図2】同上はんだ付け装置の第2実施例を示す断面図
である。
FIG. 2 is a sectional view showing a second embodiment of the same soldering apparatus.

【図3】同上はんだ付け装置の第3実施例を示す断面図
である。
FIG. 3 is a sectional view showing a third embodiment of the soldering apparatus.

【図4】従来のはんだ付け装置を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing a conventional soldering apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 はんだ槽 12 ヒータ 13 溶融はんだ 17 チャンバ21 触媒収納部 22 触媒 31 熱交換用配管11 Solder bath 12 Heater 13 Molten solder 17 Chamber 21 Catalyst storage 22 Catalyst 31 Heat exchange piping

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−107091(JP,A) 実開 平3−34271(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B23K 1/08 H05K 3/34 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-61-107091 (JP, A) JP-A-3-34271 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) B23K 1/08 H05K 3/34

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 はんだ槽の内部にヒータにより溶解され
た溶融はんだが収納され、はんだ槽の上面開口にチャン
バが被着され、このチャンバ内の雰囲気ガスが触媒によ
り処理されるはんだ付け装置において、はんだ槽に触媒収納部が密着され、 この触媒収納部の内部に触媒が充填された ことを特徴と
するはんだ付け装置。
1. A soldering apparatus in which molten solder melted by a heater is housed in a solder bath, a chamber is attached to an upper opening of the solder bath, and an atmosphere gas in the chamber is treated by a catalyst. A soldering device, wherein a catalyst housing is closely attached to a solder bath, and a catalyst is filled in the catalyst housing .
【請求項2】 はんだ槽の内部にヒータにより溶解され
た溶融はんだが収納され、はんだ槽の上面開口にチャン
バが被着され、このチャンバ内の雰囲気ガスが触媒によ
り処理されるはんだ付け装置において、 チャンバの下部が溶融はんだ中に没入され、 このチャンバに触媒が密着された ことを特徴とするはん
だ付け装置。
2. The solder bath is melted by a heater inside the solder bath.
Molten solder is stored in the top opening of the solder bath.
Gas is deposited by the catalyst
Solder to the soldering apparatus to be processed Ri, the lower portion of the chamber is submerged in molten solder, wherein the catalyst is adhered to the chamber
Mounting device.
【請求項3】 はんだ槽の内部にヒータにより溶解され
た溶融はんだが収納され、はんだ槽の上面開口にチャン
バが被着され、このチャンバ内の雰囲気ガスが触媒によ
り処理されるはんだ付け装置において、 前記はんだ槽中に、前記チャンバ内の雰囲気ガスを前記
触媒に導入する熱交換用配管が挿入されたことを特徴と
するはんだ付け装置。
3. A soldering apparatus in which molten solder melted by a heater is accommodated in a solder bath, a chamber is attached to an upper opening of the solder bath, and an atmosphere gas in the chamber is treated by a catalyst. A soldering apparatus, wherein a heat exchange pipe for introducing an atmospheric gas in the chamber to the catalyst is inserted into the solder bath.
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