JP3330997B2 - Exposure equipment for circuit board formation - Google Patents
Exposure equipment for circuit board formationInfo
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、回路基板を製造する際
に用いられる露光装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus used for manufacturing a circuit board.
【0002】[0002]
【従来の技術】電子部品の一つである回路基板は、近
年、多様化が進むとともに、多くの分野で利用されてい
る。この回路基板は種々の工程を経て製造されるが、そ
れらの工程の一つである露光工程は、配線パターンを描
画した高分子フィルム製、またはガラス製のフォトマス
クを介して基板上に塗布したフォトレジスト(感光層)
に紫外線を照射する工程である。したがって、露光工程
はフォトマスクの配線パターンを忠実に回路基板に転写
させるための重要な工程である。2. Description of the Related Art In recent years, circuit boards, which are one of electronic components, have been diversified and used in many fields. This circuit board is manufactured through various processes, and one of those processes, an exposure process, is made of a polymer film on which a wiring pattern is drawn, or coated on a substrate through a glass photomask. Photoresist (photosensitive layer)
This is a step of irradiating the surface with ultraviolet rays. Therefore, the exposure step is an important step for faithfully transferring the wiring pattern of the photomask to the circuit board.
【0003】一般に、露光方式には、フォトマスクを基
板と離して光源側に配置してパターンを基板上に投影さ
せるプロジェクション方式と、フォトマスクとフォトレ
ジスト、すなわち基板とを密着させてパターンを基板上
に転写させるコンタクト方式の2種類の方式があるが、
回路基板の露光に際しては広範囲の紫外線照射が可能な
コンタクト方式を用いるのが普通である。そして、この
コンタクト露光方式の場合、フォトマスクのパターンを
基板に鮮明に転写するためには、フォトマスクと基板と
の密着の度合いが重要なポイントとなる。In general, an exposure method includes a projection method in which a photomask is arranged on a light source side away from a substrate and a pattern is projected onto the substrate, and a pattern in which a photomask and a photoresist, that is, a substrate are brought into close contact with each other to form a pattern on the substrate. There are two types of contact method to transfer on top,
When exposing a circuit board, it is common to use a contact method capable of irradiating a wide range of ultraviolet rays. In the case of this contact exposure method, the degree of close contact between the photomask and the substrate is an important point in order to clearly transfer the pattern of the photomask to the substrate.
【0004】ここで、回路基板の一つの品種である両面
パターンを有するフレキシブルプリント配線板の露光工
程の場合を例にとって、その手順について説明する。ま
ず、基板、およびフォトマスクを露光装置に装着する前
の準備として、回路基板形成ユニットを作成する。この
回路基板形成ユニット1は、図4に示したように、基板
2の両面に、高分子フィルム製のフォトマスク3a、3
b、およびフォトツールと称されるアクリル板製の透明
板4a、4bがこの順に重ね合せられたものであり、下
部透明板4bに設置された位置合わせピン5が前記基板
2、2枚のフォトマスク3a、3b、上部透明板4aに
形成された基準孔6、6…に挿通されて相互の位置合わ
せがなされている。Here, the procedure will be described by taking, as an example, the case of an exposure step of a flexible printed wiring board having a double-sided pattern, which is one type of circuit board. First, as a preparation before mounting a substrate and a photomask in an exposure apparatus, a circuit board forming unit is prepared. As shown in FIG. 4, the circuit board forming unit 1 has photomasks 3a, 3
b, and transparent plates 4a and 4b made of an acrylic plate called a photo tool are superimposed in this order, and the positioning pins 5 installed on the lower transparent plate 4b The masks 3a, 3b and the reference holes 6, 6,... Formed in the upper transparent plate 4a are inserted and aligned with each other.
【0005】つぎに、回路基板形成用露光装置について
図5および図6を用いて説明する。図5および図6は、
前記回路基板形成ユニット1を装着する部分、いわゆる
焼枠部Aの構造を示したものである。この焼枠部Aは、
フォトマスクと基板とを密着させるとともにこれらを支
持し、紫外線Sを照射させるための部分である。図5に
示したように、中央に露光用開口部7を有する2枚の額
縁状の金属製フレーム8a、8bの1辺がヒンジ(図示
せず)によって回動自在に連結されており、上部フレー
ム8aには可撓性を有する高分子フィルム9が、下部フ
レーム8bにはガラス板10が各フレーム8a、8bの
露光用開口部7、7を封止するように設置されている。
また、ガラス板10の上面には、その外周縁に沿ってゴ
ムチューブ製のパッキン11が配設されている。このパ
ッキン11の厚さは、回路基板形成ユニット1の厚さよ
りごくわずかだけ厚くなっている。さらに、前記露光用
開口部7にあたるガラス板10の角部の2箇所には排気
孔12、12が形成されており、これら排気孔12、1
2には真空排気ポンプ13が接続されている。Next, an exposure apparatus for forming a circuit board will be described with reference to FIGS. FIG. 5 and FIG.
FIG. 2 shows a structure of a portion where the circuit board forming unit 1 is mounted, that is, a so-called burning frame portion A. This grilled frame part A is
This is a portion for bringing the photomask and the substrate into close contact with each other, supporting them, and irradiating the ultraviolet rays S. As shown in FIG. 5, one side of two frame-shaped metal frames 8a and 8b having an exposure opening 7 at the center is rotatably connected by a hinge (not shown). A flexible polymer film 9 is provided on the frame 8a, and a glass plate 10 is provided on the lower frame 8b so as to seal the exposure openings 7, 7 of the frames 8a, 8b.
A packing 11 made of a rubber tube is provided on the upper surface of the glass plate 10 along the outer peripheral edge thereof. The thickness of the packing 11 is very slightly larger than the thickness of the circuit board forming unit 1. Further, exhaust holes 12, 12 are formed at two corners of the glass plate 10 corresponding to the exposure opening 7, and these exhaust holes 12, 1 are formed.
A vacuum pump 13 is connected to 2.
【0006】回路基板形成ユニット1を前記焼枠部Aに
設置するには、まず、回路基板形成ユニット1を前記ガ
ラス板10上に載置し、一対のフレーム8a、8bで挟
み込むようにする。図6は、回路基板形成ユニット1を
フレーム8a、8bの間に挟み込んだ状態を示すもので
あるが、このようにすると、上下を高分子フィルム9お
よびガラス板10に、周囲をパッキン11に囲まれて気
密状態になった空間部14が形成されるとともに、パッ
キン11の厚さは回路基板形成ユニット1の厚さよりご
くわずかに厚いだけなので、上部フレーム8aに設置さ
れた高分子フィルム9は回路基板形成ユニット1の上面
に非常に接近した状態になる。そして、前記空間部14
を真空排気ポンプ13によって排気する。空間部14が
負圧状態になると、空間部14の容積が小さくなる方向
に力が作用するので、可撓性を有する高分子フィルム9
が撓んで回路基板形成ユニット1に密着し、さらに真空
排気が進むと、高分子フィルム9が回路基板形成ユニッ
ト1を押圧するようになる。このようにして、回路基板
形成ユニット1内部のフォトマスク3a、3bと基板2
とが堅固に密着するのである。In order to install the circuit board forming unit 1 on the burning frame A, first, the circuit board forming unit 1 is placed on the glass plate 10 and sandwiched between a pair of frames 8a and 8b. FIG. 6 shows a state in which the circuit board forming unit 1 is sandwiched between the frames 8a and 8b. In this case, the upper and lower sides are surrounded by the polymer film 9 and the glass plate 10, and the periphery is surrounded by the packing 11. The airtight space 14 is formed, and the thickness of the packing 11 is only slightly larger than the thickness of the circuit board forming unit 1. Therefore, the polymer film 9 installed on the upper frame 8a is The state is very close to the upper surface of the substrate forming unit 1. And the space 14
Is evacuated by the evacuation pump 13. When the space 14 is in a negative pressure state, a force acts in a direction in which the volume of the space 14 is reduced, so that the flexible polymer film 9 is formed.
When the polymer film 9 is bent and comes into close contact with the circuit board forming unit 1 and further evacuation proceeds, the polymer film 9 presses the circuit board forming unit 1. Thus, the photomasks 3a and 3b inside the circuit board forming unit 1 and the substrate 2
And tightly adhere.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
回路基板形成用露光装置においては、基板とフォトマス
クとを支持する部分が前記の構成になっているので、基
板に紫外線を照射する際には、紫外線Sは、露光装置上
部フレーム8aの高分子フィルム9、回路基板形成ユニ
ット1の透明板4a、そしてフォトマスク3aと3層を
透過して基板に到達することになる。露光工程において
は、紫外線が透過する層に傷が付いたり、塵埃が付着す
ると、これらによって紫外線が乱反射したり、遮蔽され
たりして基板に不良パターンが形成されてしまうことに
なるので、なるべくこれらの欠陥が発生する要因を除い
ておくことが大切なことである。その意味で、紫外線の
透過層が3層もある従来の構成では、傷の発生や塵埃の
付着の要因が多いため、配線パターンの不良率が高くな
るという問題があった。特に、前記高分子フィルム9は
露光装置に固定されたものであるので、一度高分子フィ
ルム9に傷が付くとこれを交換しない限り、この露光装
置で製造される全ての回路基板にこの傷の影響が及んで
しまうという問題が懸念されていた。However, in the conventional exposure apparatus for forming a circuit board, the portion for supporting the substrate and the photomask has the above-described structure. The ultraviolet rays S pass through the polymer film 9 of the upper frame 8a of the exposure apparatus, the transparent plate 4a of the circuit board forming unit 1, and the photomask 3a and the three layers to reach the substrate. In the exposure step, if the layer through which the ultraviolet light is transmitted is scratched or dust adheres, the ultraviolet light will be irregularly reflected or shielded by these, and a defective pattern will be formed on the substrate. It is important to eliminate the factors that cause defects. In that sense, the conventional configuration having three ultraviolet transmission layers has a problem that the defect rate of the wiring pattern is increased because there are many factors of generation of scratches and adhesion of dust. In particular, since the polymer film 9 is fixed to the exposure device, once the polymer film 9 is scratched, all the circuit boards manufactured by the exposure device are not damaged unless the polymer film 9 is replaced. There was a concern that this would have an effect.
【0008】そのうえ、紫外線Sが高分子フィルム9や
透明板4a等を透過するときには、紫外線Sのエネルギ
ーの一部がこれら透過層によって吸収されてしまうの
で、3層を透過するうちに、露光に寄与する実効的な紫
外線のエネルギーが減衰してしまうという問題もあっ
た。In addition, when the ultraviolet rays S pass through the polymer film 9, the transparent plate 4a, etc., part of the energy of the ultraviolet rays S is absorbed by these transmission layers. There is also a problem that the energy of the effective ultraviolet light which contributes is attenuated.
【0009】また、フォトマスクと基板とを堅固に密着
させるためには、基板2の位置にあたる高分子フィルム
9が広範囲にわたって回路基板形成ユニット1を所定の
圧力で押圧しなければならないので、そのためには真空
度をある程度以上に高める必要がある。したがって、何
らかの原因で真空度が低下した場合には、高分子フィル
ム9が回路基板形成ユニット1を広範囲にわたって均一
に押圧することができないため、フォトマスク3aと基
板2との密着性が悪くフォトマスクの配線パターンが基
板に鮮明に転写されない箇所ができる恐れがあった。In order to firmly adhere the photomask and the substrate, the polymer film 9 corresponding to the position of the substrate 2 must press the circuit board forming unit 1 over a wide range with a predetermined pressure. It is necessary to raise the degree of vacuum to a certain degree or more. Therefore, when the degree of vacuum is reduced for some reason, the polymer film 9 cannot uniformly press the circuit board forming unit 1 over a wide range, so that the adhesion between the photomask 3a and the substrate 2 is poor and the photomask is poor. There is a possibility that a portion where the wiring pattern is not clearly transferred to the substrate may be formed.
【0010】本発明は、前記の課題を解決するためにな
されたものであって、紫外線透過層における傷や塵埃等
の不良パターンを発生させる要因を少なくすることがで
きるとともに、露光に寄与する実効的な紫外線のエネル
ギーを高めることができ、かつフォトマスクと基板とを
広範囲にわたって均一に密着させることのできる回路基
板形成用露光装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problem, and can reduce the factor of generating a defective pattern such as a scratch or dust in an ultraviolet light transmitting layer, and can effectively reduce exposure. It is an object of the present invention to provide an exposure apparatus for forming a circuit board, which can increase the energy of a specific ultraviolet ray and can uniformly contact a photomask and a substrate over a wide range.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、本発明の回路基板形成用露光装置は、基板の表裏
面に形成した感光層に、フォトマスク、透明板をこの順
に重ね合わせた回路基板形成ユニットを一対のフレーム
の間に挟んだ状態として前記感光層を露光する回路基板
形成用露光装置において、前記フレームには、前記回路
基板形成ユニットのフォトマスクの配された部分に対応
する位置に露光用開口部が形成されるとともに、前記回
路基板形成ユニットの周縁部両面に気密に当接する第
1、第2の基板用シール突条と、前記回路基板形成ユニ
ットの周縁部から外方に離間した位置で両フレーム間を
気密に密封するフレーム用シール突条とが設けられ、か
つこれらフレームの少なくとも一方には、前記各シール
突条の間に形成される空間部内を負圧排気する排気口が
形成されており、前記各透明板は、前記基板の外形より
も大型に形成され、これら透明板の少なくとも一方に
は、基板の外周縁に沿ってこの基板を囲む溝と、この溝
を前記空間部内に開口させる連通部とが形成されている
ことを特徴とする。To achieve the above object, a circuit board forming exposure apparatus according to the present invention comprises a photomask and a transparent plate superposed in this order on a photosensitive layer formed on the front and back surfaces of a substrate. In a circuit board forming exposure apparatus for exposing the photosensitive layer with the circuit board forming unit sandwiched between a pair of frames, the frame corresponds to a portion where a photomask of the circuit board forming unit is disposed. An opening for exposure is formed at a position where the first and second substrate seal ridges are in airtight contact with both sides of the peripheral portion of the circuit board forming unit, and the outer peripheral portion of the circuit board forming unit is outside. And a frame sealing ridge that hermetically seals between the two frames at a position spaced apart from each other, and at least one of these frames is formed between the sealing ridges. It is formed an exhaust port for the negative pressure release space portion, wherein the transparent plate is than the outer shape of the substrate
Are also large, and at least one of these transparent plates
A groove surrounding the substrate along the outer peripheral edge of the substrate;
And a communicating portion that opens the inside of the space portion .
【0012】[0012]
【作用】本発明の回路基板形成用露光装置によると、回
路基板形成ユニットを中に挟む一対のフレームに、回路
基板形成ユニットの周縁部に当接する第1、第2の基板
用シール突条と、フレーム間を密封するフレーム用シー
ル突条によって密閉状態の空間部が形成され、この空間
部内に前記回路基板形成ユニットの周縁部が突出するこ
とになる。そして、その空間部内を負圧排気すると、回
路基板形成ユニットの周縁部端面を通じて、回路基板形
成ユニットを構成する基板、フォトマスク、透明板の各
接合面間も負圧状態となる。 According to the circuit board exposure apparatus of the present invention,
The circuit board is mounted on a pair of frames sandwiching the circuit board forming unit.
First and second substrates in contact with the peripheral edge of the substrate forming unit
Seal ridge and frame seal to seal between the frames
The closed space is formed by the ridge and this space
The periphery of the circuit board forming unit projects into the
And When the interior of the space is exhausted under negative pressure,
Through the peripheral edge of the circuit board forming unit,
Substrate, photomask, and transparent plate
Negative pressure also exists between the joining surfaces.
【0013】一方、両フレームには露光用開口部が形成
されているので、回路基板形成ユニットの両方の外面は
大気に開放され、両方の外面共に大気圧を受けることに
なる。すなわち、回路基板形成ユニットを構成する基
板、フォトマスク、透明板の各接合面間は負圧状態に、
回路基板形成ユニットの両方の外面は大気圧状態になる
ので、回路基板形成ユニットの両方の外面が互いに内部
方向に押圧し合うことによって、回路基板形成ユニット
の内部に挟まれた基板とフォトマスクとが密着すること
になる。[0013] hand, since the both frames are formed exposure opening portion, the outer surface of both of the circuit board forming unit is open to the atmosphere, it will undergo atmospheric pressure on both the outer surface co. That is, a negative pressure is applied between the bonding surfaces of the substrate, the photomask, and the transparent plate that constitute the circuit board forming unit.
Since both outer surfaces of the circuit board forming unit are in an atmospheric pressure state, by pressing both outer surfaces of the circuit board forming unit inward each other, the substrate and the photomask sandwiched between the circuit board forming unit and Will adhere.
【0014】さらに、本発明の回路基板形成用露光装置
は、透明板によりフォトマスクの周縁部が覆われた状態
となるが、透明板に形成した溝、および連通部により前
記周縁部が各シール突条に囲まれた空間部に連通状態に
なるので、基板、フォトマスクの周縁部を確実に負圧状
態とすることができる。 Further, in the exposure apparatus for forming a circuit board according to the present invention, the peripheral portion of the photomask is covered with the transparent plate, and the peripheral portion is sealed by the groove formed in the transparent plate and the communicating portion. Since the space is communicated with the space surrounded by the ridge, the peripheral portions of the substrate and the photomask can be reliably brought into the negative pressure state.
【0015】[0015]
【実施例】つぎに、本発明の一実施例を図1〜図3を参
照して説明する。まず、露光を行なう際には、以下説明
する回路基板形成ユニットを最初に作成しておき、この
回路基板形成ユニットを露光装置に装着するようにす
る。図3は、回路基板形成ユニットの構成を示したもの
であり、この回路基板形成ユニット15は、基板16の
両面に、高分子フィルム製のフォトマスク17a、17
b、およびフォトツールと称されるアクリル板製の透明
板18a、18bがこの順に重ね合せられたものであ
る。なお、各透明板18a、18bは基板16およびフ
ォトマスク17a、17bの外形よりも大型に作成され
ており、各透明板18a、18bの板厚に比べて、フォ
トマスク17a、17bおよび基板16の板厚はかなり
薄いので、これらを重ね合わせた際には透明板18a、
18bが適度に撓んで透明板18a、18bの周縁部で
は上下の透明板18a、18bが当接した状態になって
いる。An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. First, when performing exposure, a circuit board forming unit described below is first prepared, and this circuit board forming unit is mounted on an exposure apparatus. FIG. 3 shows a configuration of a circuit board forming unit. The circuit board forming unit 15 includes photomasks 17 a and 17 made of a polymer film on both sides of a substrate 16.
b and a transparent plate 18a, 18b made of an acrylic plate called a photo tool are stacked in this order. The transparent plates 18a and 18b are made larger than the outer shapes of the substrate 16 and the photomasks 17a and 17b, and the thicknesses of the photomasks 17a and 17b and the substrate 16 are smaller than the thicknesses of the transparent plates 18a and 18b. Since the plate thickness is quite thin, when these are overlapped, the transparent plate 18a,
The upper and lower transparent plates 18a and 18b are in contact with each other at the periphery of the transparent plates 18a and 18b.
【0016】上部透明板18aはその上面および下面が
平面状の板材である。一方、下部透明板18bは、図3
に示したように、上面に基板16およびフォトマスク1
7a、17bを載置した状態でこれら基板16およびフ
ォトマスク17a、17bの外周縁に沿ってこれらを囲
むように溝19が形成されているとともに、一辺の中央
部に前記溝19から下部透明板18bの端面に向けて溝
より外方の壁部を貫通するように開口溝(連通部)20
が形成されている。The upper transparent plate 18a is a plate material whose upper and lower surfaces are flat. On the other hand, the lower transparent plate 18b is
As shown in FIG.
A groove 19 is formed along the outer peripheral edges of the substrate 16 and the photomasks 17a and 17b in a state where the lower transparent plate 7a and 17b are placed. An opening groove (communication portion) 20 penetrates a wall portion outside the groove toward the end face of 18b.
Are formed.
【0017】図1および図2は、前記回路基板形成ユニ
ットを装着する露光装置の焼枠部の構造を示したもので
ある。この焼枠部Bは、フォトマスクと基板とを密着さ
せるとともにこれらを支持し、紫外線Sを照射させるた
めの部分である。図1に示したように、焼枠部Bは、中
央に露光用開口部21を有する2枚の額縁状のアルミニ
ウム製フレーム22a、22bの1辺がヒンジ(図示せ
ず)によって回動自在に連結されたものである。FIG. 1 and FIG. 2 show the structure of a burning frame portion of an exposure apparatus to which the circuit board forming unit is mounted. The burning frame portion B is a portion for bringing the photomask and the substrate into close contact with each other, supporting them, and irradiating the ultraviolet rays S. As shown in FIG. 1, the burning frame portion B has two sides of two frame-shaped aluminum frames 22a and 22b having an exposure opening 21 at the center, and one side thereof is rotatable by a hinge (not shown). It is connected.
【0018】上部フレーム22aの下面側には、露光用
開口部21側の周縁と、外周側の周縁に沿ってそれぞれ
気密性に優れた天然ゴム製の内側パッキン23(第1の
基板用シール突条)、および外側パッキン24(フレー
ム用シール突条)が設置されている。また、下部フレー
ム22bの上面側には、前記上部フレーム22aの内側
パッキン23と回路基板形成ユニット15を挟んで対向
する位置に下側パッキン25(第2の基板用シール突
条)が配設されており、最外周部には突出壁26(フレ
ーム用シール突条)が形成されている。これらパッキン
23、24、25および突出壁26の設置位置は、回路
基板形成ユニット15を装着した状態において、内側パ
ッキン23と下側パッキン25は回路基板形成ユニット
15の周縁部に互いに対向して当接するように、外側パ
ッキン24と突出壁26は回路基板形成ユニット15の
外方で互いに当接するように配置されている。さらに、
下部フレーム22bの一辺の中央部にあたる下側パッキ
ン25と突出壁26の間には、フレームの厚さ方向に貫
通する1個の排気孔27が形成され、この排気孔27は
真空排気ポンプ28と接続されている。On the lower surface side of the upper frame 22a, an inner packing 23 (first substrate sealing projection) made of natural rubber having excellent airtightness is formed along the periphery of the exposure opening 21 and the outer periphery. Ridge) and an outer packing 24 (frame seal ridge). In addition, a lower packing 25 (second board seal ridge) is disposed on the upper surface side of the lower frame 22b at a position facing the inner packing 23 of the upper frame 22a with the circuit board forming unit 15 interposed therebetween. A projecting wall 26 (frame seal ridge) is formed on the outermost peripheral portion. When the circuit board forming unit 15 is mounted, the inner packing 23 and the lower packing 25 are opposed to the peripheral edge of the circuit board forming unit 15 when the packings 23, 24, 25 and the protruding wall 26 are installed. The outer packing 24 and the protruding wall 26 are arranged so as to be in contact with each other outside the circuit board forming unit 15 so as to be in contact with each other. further,
One exhaust hole 27 penetrating in the thickness direction of the frame is formed between the lower packing 25 corresponding to the center of one side of the lower frame 22b and the protruding wall 26, and the exhaust hole 27 is It is connected.
【0019】前記回路基板形成ユニット15を露光装置
に装着するには、回路基板形成ユニット15を、下部透
明板18bの開口溝20のある辺が下部フレーム22b
の排気孔27のある辺に位置するように下部フレーム2
2bの下側パッキン25上に載置し、上下のフレーム2
2a、22bで挟み込むようにする。図2は、回路基板
形成ユニット15をフレーム22a、22bの間に挟み
込んだ状態を示すものであるが、この状態において、上
下のフレーム22a、22bおよび各パッキン23、2
4、25、突出壁26によって密閉された空間部29が
形成されることになる。そして、この空間部29に開口
した排気孔27から真空排気を行なうと、この空間部2
9が10Torr以下の負圧状態になるとともに、回路
基板形成ユニット15の下部透明板18bに設けられた
開口溝20を通じて、フォトマスク17a、17bと基
板16とを囲む溝19、さらには上下の透明板18a、
18bの対向面間が負圧状態になるのである。In order to mount the circuit board forming unit 15 in the exposure apparatus, the circuit board forming unit 15 is mounted on the lower transparent plate 18b by the side of the lower frame 22b where the opening groove 20 is located.
So that the lower frame 2
2b placed on the lower packing 25 and the upper and lower frames 2
2a and 22b. FIG. 2 shows a state in which the circuit board forming unit 15 is sandwiched between the frames 22a and 22b. In this state, the upper and lower frames 22a and 22b and the packings 23 and 2
4, 25, and a space portion 29 sealed by the protruding wall 26 is formed. When vacuum evacuation is performed through the exhaust hole 27 opened in the space 29, the space 2
9 becomes a negative pressure state of 10 Torr or less, a groove 19 surrounding the photomasks 17a, 17b and the substrate 16 through an opening groove 20 provided in the lower transparent plate 18b of the circuit board forming unit 15, and furthermore, a transparent upper and lower part. Plate 18a,
The space between the opposing surfaces 18b is in a negative pressure state.
【0020】一方、上下のフレーム22a、22bは露
光用開口部21、21を有しているので、上下の透明板
18a、18bの各外面は大気に開放され、両方の外面
共に大気圧を受けている。すなわち、上下の透明板18
a、18bの対向面間が負圧状態に、上下の透明板18
a、18bの各外面が大気圧状態になるので、上下の透
明板18a、18bが互いに内部方向に押圧し合うよう
に作用して、上下の透明板18a、18bに挟まれた基
板16と各フォトマスク17a、17bとが密着するこ
とになるのである。On the other hand, since the upper and lower frames 22a, 22b have exposure openings 21, 21, the outer surfaces of the upper and lower transparent plates 18a, 18b are open to the atmosphere, and both outer surfaces receive atmospheric pressure. ing. That is, the upper and lower transparent plates 18
a and 18b are placed in a negative pressure state, and the upper and lower transparent plates 18
Since the outer surfaces of the upper and lower transparent plates 18a and 18b are in an atmospheric pressure state, the upper and lower transparent plates 18a and 18b act so as to press each other inward, and the substrate 16 sandwiched between the upper and lower transparent plates 18a and 18b and The photomasks 17a and 17b come into close contact with each other.
【0021】本実施例の露光装置によれば、回路基板形
成ユニット15の周縁部のみで上下の透明板18a、1
8bの対向面間を負圧状態にするための密閉された空間
部29が形成されるので、透明板18a、18bの中央
部は密閉される必要がなくなり、大気に開放されてもよ
いことになる。逆にいえば、対向面間が負圧状態となっ
た透明板18a、18b同士が密着するためには、上下
の透明板18a、18bの各外面を大気圧状態にしてお
く必要がある。したがって、上下のフレーム22a、2
2bの露光用開口部21、21に、従来の露光装置の場
合における高分子フィルムのような固定透過層を配する
必要はなくなり、紫外線Sの透過層を1層減らして透明
板18aとフォトマスク17aの2層にすることができ
る。According to the exposure apparatus of this embodiment, the upper and lower transparent plates 18a,
Since a sealed space 29 for forming a negative pressure state between the opposing surfaces of the transparent plates 8b is formed, the central portions of the transparent plates 18a and 18b do not need to be sealed and may be open to the atmosphere. Become. Conversely, in order for the transparent plates 18a, 18b having a negative pressure between the opposing surfaces to adhere to each other, it is necessary to keep the outer surfaces of the upper and lower transparent plates 18a, 18b at atmospheric pressure. Therefore, the upper and lower frames 22a, 2
It is no longer necessary to dispose a fixed transmission layer such as a polymer film in the case of a conventional exposure apparatus in the exposure openings 21 and 2b of the exposure device 2b. 17a.
【0022】この結果、紫外線の透過層における傷や塵
埃の発生要因が減るので、これらの要因による配線パタ
ーンの不良率を低減することができる。特に、露光装置
に設置したままとなる固定透過層を省略でき、紫外線の
透過層が各基板を露光する毎に随時交換できる透明板と
フォトマスクのみになるので、前記不良率低減の効果は
さらに大きくなる。As a result, the number of factors causing scratches and dust on the ultraviolet transmitting layer is reduced, so that the defective rate of the wiring pattern due to these factors can be reduced. In particular, the fixed transmission layer that is left installed in the exposure apparatus can be omitted, and the ultraviolet transmission layer is only a transparent plate and a photomask that can be replaced as needed each time each substrate is exposed. growing.
【0023】また、紫外線のエネルギーのうち、透過層
によって吸収される部分が1層分減るので、露光に寄与
する実効的なエネルギーを上げることができ、これによ
って、露光時間を短縮することができる。Further, since the portion of the ultraviolet energy absorbed by the transmissive layer is reduced by one layer, the effective energy contributing to exposure can be increased, thereby shortening the exposure time. .
【0024】また、本実施例の露光装置においては、回
路基板形成ユニット15の周縁部に沿って形成される空
間部29のみを真空排気する構成であり、従来の露光装
置のような上下のフレームとパッキンに囲まれた透明板
が配置される全空間を真空排気する場合に比べて、真空
排気すべき空間部が狭くなる。さらに、下部透明板18
bの開口溝20の位置と下部フレーム22bの排気孔2
7の位置が近いので、排気力が上下の透明板18a、1
8bの対向面間に容易に到達する。したがって、上下の
透明板18a、18bの対向面間を短い真空排気時間で
高い負圧状態とすることができる。すなわち、短い真空
排気時間で基板16とフォトマスク17a、17bとの
高い密着度を得ることができる。In the exposure apparatus of this embodiment, only the space 29 formed along the periphery of the circuit board forming unit 15 is evacuated. The space to be evacuated is smaller than in the case of evacuating the entire space where the transparent plate surrounded by the packing is disposed. Further, the lower transparent plate 18
b of the opening groove 20 and the exhaust hole 2 of the lower frame 22b
7 are close to each other, so that the exhaust power is reduced by the upper and lower transparent plates 18a, 1a.
8b easily reaches between the opposing surfaces. Therefore, a high negative pressure state can be established between the opposing surfaces of the upper and lower transparent plates 18a and 18b in a short evacuation time. That is, a high degree of adhesion between the substrate 16 and the photomasks 17a and 17b can be obtained in a short evacuation time.
【0025】また、下部透明板18bが、基板16およ
びフォトマスク17a、17bを置いた状態でこれらの
外周縁に沿ってこれらを囲む溝19、および開口溝20
が形成された構成となっているので、前記空間部29を
真空排気した時に、開口溝20、および溝19を通じて
上下の透明板18a、18bの対向面間が基板16およ
びフォトマスク17a、17bの全ての外周縁部から中
央部に向けて確実に負圧状態になっていく。したがっ
て、基板16とフォトマスク17a、17bを全面にわ
たって均一に密着することができる。The lower transparent plate 18b is provided with a groove 19 surrounding the substrate 16 and the photomasks 17a and 17b along the outer peripheral edge thereof, and an opening groove 20 with the photomasks 17a and 17b placed thereon.
When the space 29 is evacuated to vacuum, the gap between the opposing surfaces of the upper and lower transparent plates 18a and 18b through the opening groove 20 and the groove 19 is smaller than that of the substrate 16 and the photomasks 17a and 17b. A negative pressure state is ensured from all outer peripheral parts toward the central part. Therefore, the substrate 16 and the photomasks 17a and 17b can be uniformly adhered over the entire surface.
【0026】なお、本実施例においては、回路基板形成
ユニット15の周縁部で密閉された空間部29を形成す
る各シール突条を3個のゴム製パッキン23、24、2
5と1個の突出壁26で構成したが、気密状態で互いに
当接することができるものであれば、これ以外のものを
用いて種々の組合せによって構成してもよい。また、前
記空間部29を真空排気するために、下部フレーム22
bの一辺の中央部に1個の排気孔27を設けたが、排気
孔の数や位置はこれ以外であってもよい。さらに、上下
の透明板18a、18bの対向面間を真空排気するため
に、下部透明板18bに、基板16およびフォトマスク
17a、17bの外周縁に沿ってこれらを囲む溝19
と、開口溝20とを形成したが、前記空間部29に開口
して透明板18a、18bの対向面間を確実に真空排気
できるものであれば、これら溝の数や形状、位置につい
ては別の構成であってもよいし、もちろん上部透明板側
を利用してもよい。In this embodiment, each of the seal ridges forming the space 29 sealed at the peripheral edge of the circuit board forming unit 15 is formed by three rubber packings 23, 24, 2 and 3.
5 and one protruding wall 26, but any other members that can contact each other in an airtight state may be used in various combinations. In order to evacuate the space 29, the lower frame 22 is evacuated.
Although one exhaust hole 27 is provided at the center of one side of b, the number and position of the exhaust holes may be other. Further, in order to evacuate the space between the opposing surfaces of the upper and lower transparent plates 18a and 18b, a groove 19 surrounding the substrate 16 and the photomasks 17a and 17b is formed along the outer periphery of the lower transparent plate 18b.
And the opening groove 20 are formed, but the number, shape, and position of these grooves are different as long as they can be opened in the space 29 and the space between the opposing surfaces of the transparent plates 18a and 18b can be reliably evacuated. Or of course the upper transparent plate side may be used.
【0027】[0027]
【発明の効果】本発明の回路基板形成用露光装置は、各
シール突条によって密閉された空間部内に回路基板形成
ユニットの周縁部が突出するとともに、露光用開口部に
より回路基板形成ユニットの両方の外面には大気圧が作
用するので、回路基板形成ユニットの両方の外面が互い
に内部方向に押圧し合うことによって、回路基板形成ユ
ニットの内部に挟まれた基板とフォトマスクとを密着さ
せることができる。したがって、従来の露光装置の場合
における高分子フィルムのような層を配する必要はな
く、紫外線の透過層を1層減らすことができ、この結
果、紫外線の透過層における傷や塵埃の発生要因が減る
ので、これらの要因による配線パターンの不良率を低減
させることができる。According to the exposure apparatus for forming a circuit board of the present invention, the periphery of the circuit board forming unit protrudes into a space sealed by each sealing ridge, and both the circuit board forming unit are exposed by the opening for exposure. Atmospheric pressure acts on the outer surface of the circuit board forming unit, so that the two outer surfaces of the circuit board forming unit press inward each other, so that the substrate sandwiched inside the circuit board forming unit and the photomask can be brought into close contact with each other. it can. Therefore, it is not necessary to provide a layer such as a polymer film in the case of the conventional exposure apparatus, and it is possible to reduce the number of the ultraviolet light transmitting layer by one layer. As a result, the defect rate of the wiring pattern due to these factors can be reduced.
【0028】また、紫外線のエネルギーのうち、透過層
によって吸収される分が1層分減るので、露光に寄与す
る実効的なエネルギーを上げることができ、これによっ
て、露光時間を短縮することができる。Further, since the amount of ultraviolet energy absorbed by the transmission layer is reduced by one layer, the effective energy contributing to exposure can be increased, and the exposure time can be shortened. .
【0029】また、シール突条によって回路基板形成ユ
ニットの周縁部のみを囲むように密閉するので、真空排
気すべき空間部が狭くなるとともに、回路基板形成ユニ
ットに露光用開口部を介して直接大気圧を作用させてい
るので、従来のように密着力が高分子フィルムの特性に
係わるというようなことがなく、回路基板形成ユニッ
ト、すなわち基板とフォトマスクとを常時安定して密着
させることができる。Also, since the sealing ridge is used to seal the circuit board forming unit so as to surround only the peripheral edge, the space to be evacuated is reduced, and the circuit board forming unit is directly enlarged via the exposure opening. Since the atmospheric pressure is applied, the adhesion force does not depend on the characteristics of the polymer film as in the related art, and the circuit board forming unit, that is, the substrate and the photomask can always be stably adhered. .
【0030】さらに、透明板の基板を囲む溝、およびこ
の溝を前記空間部に開口させる連通部によって、基板の
外周縁部が確実に負圧状態となる。したがって、上下の
透明板の対向面間が基板の全ての外周縁部から中央部に
向けて確実に負圧状態になっていくので、この回路基板
形成用露光装置は、基板とフォトマスクを全面にわたっ
て均一に密着させて、フォトマスクの配線パターンを基
板に鮮明に転写させるという効果を奏することができ
る。Further, the outer peripheral edge of the substrate is reliably brought into a negative pressure state by the groove of the transparent plate surrounding the substrate and the communicating portion for opening the groove into the space. Therefore, the pressure between the opposing surfaces of the upper and lower transparent plates surely goes into a negative pressure state from all the outer peripheral edges of the substrate toward the center thereof. Thus, an effect of transferring the wiring pattern of the photomask to the substrate clearly can be achieved.
【図1】 本発明の回路基板形成用露光装置の一実施例
を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing one embodiment of an exposure apparatus for forming a circuit board of the present invention.
【図2】 同実施例の装置に回路基板形成ユニットを装
着した状態における図1のC−C線に沿う断面図であ
る。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line CC of FIG. 1 in a state where a circuit board forming unit is mounted on the apparatus of the embodiment.
【図3】 本発明の回路基板形成ユニットの一実施例を
示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing one embodiment of a circuit board forming unit of the present invention.
【図4】 回路基板形成ユニットの構成を示す側面図で
ある。FIG. 4 is a side view illustrating a configuration of a circuit board forming unit.
【図5】 従来の回路基板形成用露光装置の一例を示す
斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing an example of a conventional exposure apparatus for forming a circuit board.
【図6】 同例の装置に回路基板形成ユニットを装着し
た状態における図5のD−D線に沿う断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line DD of FIG. 5 in a state where the circuit board forming unit is mounted on the apparatus of the same example.
15…回路基板形成ユニット、16…基板、17a、1
7b…フォトマスク、18a…上部透明板、18b…下
部透明板、19…溝、20…開口溝(連通部)、21…
露光用開口部、22a…上部フレーム、22b…下部フ
レーム、23…内側パッキン(第1の基板用シール突
条)、24…外側パッキン(フレーム用シール突条)、
25…下側パッキン(第2の基板用シール突条)、26
…突出壁(フレーム用シール突条)、27…排気孔、2
9…空間部15: circuit board forming unit, 16: board, 17a, 1
7b: photomask, 18a: upper transparent plate, 18b: lower transparent plate, 19: groove, 20: open groove (communication part), 21:
Exposure opening, 22a: Upper frame, 22b: Lower frame, 23: Inner packing (first substrate seal ridge), 24: Outer packing (frame seal ridge),
25 ... lower packing (second substrate seal ridge), 26
... projecting wall (frame seal ridge), 27 ... exhaust hole, 2
9 ... space
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/20 - 7/24 G03F 9/00 - 9/02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G03F 7/ 20-7/24 G03F 9/00-9/02
Claims (1)
に、フォトマスク(17a、17b)、透明板(18
a、18b)をこの順に重ね合わせた回路基板形成ユニ
ット(15)を一対のフレーム(22a、22b)の間
に挟んだ状態として前記感光層を露光する回路基板形成
用露光装置において、前記フレームには、前記回路基板
形成ユニットのフォトマスクの配された部分に対応する
位置に露光用開口部(21)が形成されるとともに、前
記回路基板形成ユニットの周縁部両面に気密に当接する
第1、第2の基板用シール突条(23、25)と、前記
回路基板形成ユニットの周縁部から外方に離間した位置
で両フレーム間を気密に密封するフレーム用シール突条
(24、26)とが設けられ、かつこれらフレームの少
なくとも一方には、前記各シール突条の間に形成される
空間部(29)内を負圧排気する排気口(27)が形成
されており、前記各透明板(18a、18b)は、前記
基板(16)の外形より大型に形成され、これら透明板
の少なくとも一方には、基板の外周縁に沿ってこの基板
を囲む溝(19)と、この溝を前記空間部(29)内に
開口させる連通部(20)とが形成されていることを特
徴とする回路基板形成用露光装置。A photomask (17a, 17b) and a transparent plate (18) are provided on a photosensitive layer formed on the front and back surfaces of a substrate (16).
a, 18b) are superposed in this order, and a circuit board forming unit (15) is sandwiched between a pair of frames (22a, 22b). An exposure opening (21) is formed at a position corresponding to a portion where a photomask is disposed on the circuit board forming unit, and the first and second airtight contacts are made on both sides of a peripheral portion of the circuit board forming unit. A second board seal ridge (23, 25); and a frame seal ridge (24, 26) for hermetically sealing the two frames at a position outwardly separated from the peripheral edge of the circuit board forming unit. is provided, and at least one is of the frames, the being each sealed space formed between the ridges (29) in a negative pressure exhaust to the exhaust port (27) is formed, wherein Transparent plate (18a, 18b), the
These transparent plates are formed larger than the outer shape of the substrate (16).
At least one of these substrates along the outer edge of the substrate
And a groove (19) surrounding the space (29).
An exposure apparatus for forming a circuit board, wherein a communication part (20) for opening is formed .
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
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Publications (2)
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| JPH06282075A JPH06282075A (en) | 1994-10-07 |
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ID=13435579
Family Applications (1)
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Country Status (1)
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- 1993-03-29 JP JP07057893A patent/JP3330997B2/en not_active Expired - Fee Related
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