JP3332833B2 - Denture cleaning composition - Google Patents
Denture cleaning compositionInfo
- Publication number
- JP3332833B2 JP3332833B2 JP34474497A JP34474497A JP3332833B2 JP 3332833 B2 JP3332833 B2 JP 3332833B2 JP 34474497 A JP34474497 A JP 34474497A JP 34474497 A JP34474497 A JP 34474497A JP 3332833 B2 JP3332833 B2 JP 3332833B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- alkali metal
- represented
- cleaning composition
- weight
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Cosmetics (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、低温における洗浄
性能が優れており、洗浄の際に義歯材料を損傷すること
がない義歯洗浄剤組成物に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a denture cleaning composition which has excellent cleaning performance at low temperatures and does not damage denture materials during cleaning.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】義歯に
付着した食べ滓等をそのまま放置しておくと、悪臭発生
の要因になるだけでなく、床下粘膜の炎症を初めとする
口腔内疾患の要因ともなる。このため、日常的に義歯洗
浄剤により食べ滓等を洗浄除去する必要があるが、使用
者の便宜のためには、洗浄操作が簡便で、しかも短時間
で洗浄が完了できることが望ましい。よって、このよう
な要件を満たすためには、ぬるま湯を用いることなく、
水道水をそのまま用いた場合でも洗浄力が優れているこ
とが重要となり、さらに義歯を構成する材料を損傷しな
いこと等も必要となる。2. Description of the Related Art Leaving food residues and the like attached to a denture not only causes unpleasant odor, but also causes oral diseases such as inflammation of the subfloor mucous membrane. It is also a factor. For this reason, it is necessary to wash and remove food residue and the like on a daily basis with a denture cleaning agent. However, for the convenience of the user, it is desirable that the washing operation is simple and the washing can be completed in a short time. Therefore, in order to satisfy such requirements, without using lukewarm water,
Even when tap water is used as it is, it is important that the detergency is excellent, and it is also necessary that the material constituting the denture is not damaged.
【0003】従来より義歯洗浄剤としては、基剤として
過酸化物、次亜塩素酸塩、酸、消毒薬、酵素等を含む多
くのものが市販されている。また、義歯洗浄剤の先行技
術としては、特開昭59−205309号公報には発泡
性清浄剤組成物が開示されており、特開昭63−867
99号公報には漂白活性剤を含有する義歯清浄化及び/
又は洗浄組成物が開示されている。しかし、これらの従
来技術も含めて、従来の義歯洗浄剤には上記した要件を
充分に満足するものはない。[0003] Conventionally, many denture cleansing agents containing peroxide, hypochlorite, acid, disinfectant, enzyme and the like as a base are commercially available. As a prior art of denture cleaners, JP-A-59-205309 discloses an effervescent detergent composition and JP-A-63-867.
No. 99 discloses a denture cleaning and / or bleaching activator.
Or a cleaning composition is disclosed. However, none of the conventional denture cleaners including these conventional techniques sufficiently satisfy the above requirements.
【0004】本発明は、義歯に付着した食べ滓等を、常
温又はそれよりも低い温度で速やかに洗浄除去すること
ができ、さらに義歯材料を損傷することがない義歯洗浄
剤組成物を提供することを目的とする。[0004] The present invention provides a denture cleaning composition that can quickly remove food residues and the like adhering to a denture at room temperature or lower temperature and does not damage the denture material. The purpose is to:
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明者らは研究を重ね
た結果、フリーの酸型の特定の漂白活性化剤を他の有効
成分と併用することにより、上記目的を達成できること
を見出し、本発明を完成した。As a result of repeated studies, the present inventors have found that the above object can be achieved by using a free acid-type specific bleach activator together with other active ingredients. The present invention has been completed.
【0006】即ち本発明は、(a)水中において過酸化
水素と反応して有機過酸を発生する次の一般式(I):
R−C(=O)−L (I) [式中、Rは炭素数6〜13の直鎖アルキル基を示し、
Lは下記式(II)又は(III):That is, the present invention provides (a) the following general formula (I) which reacts with hydrogen peroxide in water to generate an organic peracid:
R—C (= O) -L (I) wherein R represents a straight-chain alkyl group having 6 to 13 carbon atoms;
L is the following formula (II) or (III):
【0007】[0007]
【化4】 Embedded image
【0008】で表されるリービング基を示す]で表され
る漂白活性化剤 0.1〜30重量%、(b)過炭酸ナ
トリウム 30〜98重量%及び(c)アルカリ金属ケ
イ酸塩 0.1〜30重量%を含有することを特徴とす
る義歯洗浄剤組成物を提供する。0.1 to 30% by weight of a bleaching activator represented by the formula (1), (b) 30 to 98% by weight of sodium percarbonate and (c) an alkali metal silicate. The present invention provides a denture cleaning composition containing 1 to 30% by weight.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】本発明で用いる(a)成分は、水
中において過酸化水素と反応して有機過酸を発生するも
ので、一般式(I)で表されるものである。一般式
(I)中のRとしては、充分な洗浄力を得るため、炭素
数が6〜13であり、好ましくは8〜12である。この
ような(a)成分としては、下記一般式(VI)又は(VII)
で表されるものが好ましい。The component (a) used in the present invention reacts with hydrogen peroxide in water to generate an organic peracid, and is represented by the general formula (I). R in the general formula (I) has 6 to 13 carbon atoms, preferably 8 to 12 in order to obtain sufficient detergency. As such a component (a), the following general formula (VI) or (VII)
Is preferably represented by
【0010】[0010]
【化5】 Embedded image
【0011】[0011]
【化6】 Embedded image
【0012】(a)成分の含有量は、義歯洗浄剤組成物
中において、充分な洗浄力を付与するとともに経済性を
考慮すると、0.1〜30重量%であり、好ましくは1
〜15重量%であり、特に好ましくは2〜10重量%で
ある。The content of the component (a) is 0.1 to 30% by weight, preferably 1 to 30% by weight, in consideration of economical efficiency and sufficient detergency in the denture cleaning composition.
To 15% by weight, particularly preferably 2 to 10% by weight.
【0013】本発明で用いる(b)成分の過炭酸ナトリ
ウムは、水中において過酸化水素を放出する成分であ
る。(b)成分の含有量は、義歯洗浄剤組成物中におい
て、充分な洗浄力を付与するとともに経済性を考慮する
と、30〜98重量%であり、好ましくは50〜90重
量%であり、特に好ましくは50〜80重量%である。The component (b) sodium percarbonate used in the present invention is a component that releases hydrogen peroxide in water. The content of the component (b) in the denture cleaning composition is 30 to 98% by weight, preferably 50 to 90% by weight, in consideration of imparting sufficient detergency and economical efficiency. Preferably it is 50 to 80% by weight.
【0014】本発明で用いる(c)成分のアルカリ金属
ケイ酸塩としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム
等のアルカリ金属塩ケイ酸塩、結晶性アルカリ金属ケイ
酸塩等を挙げることができ、これらは1種又は2種以上
を用いることができる。これらの中でも、洗浄性能と組
成物の保存安定性が優れていることから結晶性アルカリ
金属ケイ酸塩が好ましい。Examples of the alkali metal silicate of the component (c) used in the present invention include alkali metal silicates such as sodium silicate and potassium silicate, and crystalline alkali metal silicates. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, a crystalline alkali metal silicate is preferable because of its excellent cleaning performance and storage stability of the composition.
【0015】また、(c)成分は、イオン捕捉能により
洗浄力を向上させるため、イオン交換容量が好ましくは
100mgCaCO3/g 以上のものであり、特に好ましく
は200mgCaCO3/g以上のものであり、さらに好ま
しくは270mgCaCO3/g以上のものである。Moreover, (c) component, to improve the detergency by ion trapping ability, the ion exchange capacity preferably not less than 100mgCaCO 3 / g, particularly preferably not less than 200mgCaCO 3 / g And more preferably 270 mg CaCO 3 / g or more.
【0016】このような(c)成分の結晶性アルカリ金
属ケイ酸塩としては、下記の一般式(IV)又は一般式
(V)で表されるものを挙げることができる。The crystalline alkali metal silicate of the component (c) is represented by the following general formula (IV) or
And those represented by (V).
【0017】 x(M2O)・y(SiO2)・z(MemOn)・w(H2O) (IV) 〔式中、M は周期律表のIa族元素を示し、Meは周期律表
のIIa 、IIb 、IIIa、IVa はVIII族元素から選ばれる1
種又は2種以上の組み合わせを示し、 y/x =0.5〜
2.6、z/x =0.01〜1.0 、n/m=0.5〜
2.0、w=0〜20を示す〕。[0017] x (M 2 O) · y (SiO 2) · z (Me m O n) · w (H 2 O) (IV) wherein, M represents a Group Ia elements of the periodic table, Me Is IIa, IIb, IIIa, IVa of the periodic table is selected from Group VIII elements
Indicates a species or a combination of two or more species, and y / x = 0.5 to
2.6, z / x = 0.01-1.0, n / m = 0.5-
2.0, w = 0 to 20].
【0018】一般式(IV)において、Mは周期律表のIa
族元素から選ばれるもので、Na、K等を挙げることが
できる。これらは単独で又は例えばNa2OとK2Oとが
混合して、M2O成分を構成してもよい。In the general formula (IV), M is Ia in the periodic table.
Na, K, etc., which are selected from group elements. These may be used alone or, for example, a mixture of Na 2 O and K 2 O to constitute the M 2 O component.
【0019】一般式(IV)において、Meは周期律表のII
a 族元素、IIb 族元素、IIIa族元素、IVa 族元素又はVI
II族元素から選ばれ、例えばMg、Ca、Zn、Y、T
i、Zr、Fe等を挙げることができる。これらは特に
限定されるものではないが、資源及び安全上の点から、
好ましくはMg、Caである。また、これらは単独で又
は2種以上を混合して用いてもよく、例えばMgO、C
aO等が混合してMemOn 成分を構成していてもよ
い。In the general formula (IV), Me represents II in the periodic table.
Group a element, IIb element, IIIa element, IVa element or VI
Selected from Group II elements, for example, Mg, Ca, Zn, Y, T
i, Zr, Fe and the like. These are not particularly limited, but from a resource and security point of view,
Preferably, they are Mg and Ca. These may be used alone or in combination of two or more. For example, MgO, C
It may constitute the Me m O n component or the like is mixed aO-.
【0020】一般式(IV) において、y/x は、0.5〜
2.6であり、好ましくは1.5〜2.2である。y/x
が0.5未満では耐水溶性が不充分であり、ケーキング
性、溶解性、組成物の粉末物性に著しく悪影響を及ぼ
す。y/xが2.6を超えると、アルカリ能が低くなりア
ルカリ剤として不充分である。z/xは、0.01〜1.
0であり、好ましくは0.02〜0.9である。z/xが
0.01未満では耐水溶性が不充分であり、1.0を超
えると洗浄効果が低くなる。さらに、一般式(IV)のアル
カリ金属ケイ酸塩は水和物であってもよく、その場合に
はw=1〜20の範囲である。In the general formula (IV), y / x is 0.5 to
2.6, and preferably 1.5 to 2.2. y / x
If it is less than 0.5, the water resistance is insufficient and the caking property, the solubility, and the powder properties of the composition are significantly adversely affected. If y / x exceeds 2.6, the alkalinity becomes low and the alkalinity is insufficient. z / x is 0.01-1.
0, preferably 0.02 to 0.9. If z / x is less than 0.01, the water resistance is insufficient, and if it exceeds 1.0, the cleaning effect is reduced. Further, the alkali metal silicate of the general formula (IV) may be a hydrate, in which case w = 1 to 20.
【0021】x, y, z は、前記の y/x 比、 z/x 比に
示されるような関係であれば特に限定されるものではな
い。なお、前記のようにx(M2O)が例えばx'(Na2O)・x"(K
2O)となる場合は、x はx'+x"となる。このような関係
は、z(MemOn) 成分が2種以上のものからなる場合にお
けるzにおいても同様である。また、n/mは、当該元素
に配位する酸素イオン数を示し、実質的には 0.5、
1.0、1.5、2.0の値から選ばれる。X, y, and z are not particularly limited as long as they have the relationship shown in the y / x ratio and the z / x ratio described above. As described above, x (M 2 O) is, for example, x ′ (Na 2 O) · x ″ (K
If the 2 O), x is the x '+ x ". This relationship is the same in the z in the case where z (Me m O n) component consists of two or more. Further, n / m indicates the number of oxygen ions coordinated to the element, and is substantially 0.5,
It is selected from the values of 1.0, 1.5, and 2.0.
【0022】一般式(IV)の結晶性アルカリ金属ケイ酸塩
は、M2O、SiO2及びMemOnの三成分からなるもの
であるが、これらの各成分の原料としては特に限定され
るものではなく、公知の化合物を用いることができる。
例えば、M2O成分の原料としては、NaOH、KO
H、Na2CO3、K2CO3、Na2SO4等を挙げること
ができ、SiO2成分の原料としては、ケイ石、カオリ
ン、タルク、溶融シリカ、ケイ酸ソーダ等を挙げること
ができ、MemOn成分の原料としては、CaCO3、M
gCO3、Ca(OH)2、Mg(OH)2、MgO、Z
rO2、ドロマイト等を挙げることができる。The crystalline alkali metal silicates of the general formula (IV), M 2 O, but is made of three components of SiO 2 and Me m O n, is particularly limited, a raw material of each of these components Instead, known compounds can be used.
For example, raw materials for the M 2 O component include NaOH, KO
H, Na 2 CO 3 , K 2 CO 3 , Na 2 SO 4 and the like can be mentioned, and as a raw material of the SiO 2 component, silica stone, kaolin, talc, fused silica, sodium silicate and the like can be mentioned. as a raw material of Me m O n component, CaCO 3, M
gCO 3 , Ca (OH) 2 , Mg (OH) 2 , MgO, Z
rO 2 , dolomite and the like can be mentioned.
【0023】結晶性アルカリ金属ケイ酸塩の調製方法
は、目的とする結晶性アルカリ金属ケイ酸塩のx、y、
zの値となるように所定の量比で上記の原料成分を混合
し、通常300〜1500℃、好ましくは500〜10
00℃、特に好ましくは600〜900℃の範囲で焼成
して結晶化させる方法を挙げることができる。この場
合、加熱温度が300℃未満では結晶化が不充分で耐水
溶性に劣り、1500℃を超えると粗大粒子化し、イオ
ン交換能が低下する。加熱時間は、通常0.1〜24時
間である。このような焼成は、通常、電気炉、ガス炉等
を用いて行うことができる。The method for preparing the crystalline alkali metal silicate includes the steps of x, y,
The above-mentioned raw material components are mixed at a predetermined quantitative ratio so as to obtain a value of z, and usually 300 to 1500 ° C., preferably 500 to
A method of firing at a temperature of 00 ° C., particularly preferably in a range of 600 to 900 ° C. for crystallization can be mentioned. In this case, if the heating temperature is lower than 300 ° C., crystallization is insufficient and the water resistance is poor. If the heating temperature is higher than 1500 ° C., coarse particles are formed, and the ion exchange ability is reduced. The heating time is usually 0.1 to 24 hours. Such baking can be usually performed using an electric furnace, a gas furnace, or the like.
【0024】一般式(IV)の結晶性アルカリ金属ケイ酸塩
の粒径は特に限定されるものではないが、好ましくは
0.01〜100μmの範囲である。The particle size of the crystalline alkali metal silicate of the general formula (IV) is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 to 100 μm.
【0025】 M2O・y'(SiO2)・w'(H2O) (V) 〔式中、Mはアルカリ金属を示し、y’=1.5〜4.
0、w’=0〜20を示す〕。M 2 O · y ′ (SiO 2 ) · w ′ (H 2 O) (V) [wherein M represents an alkali metal and y ′ = 1.5 to 4.
0, w '= 0 to 20].
【0026】一般式(V)において、Mは一般式(IV)と同
じ意味を示す。y’及びw’は、y’が1.7〜2.2
で、w’が0のものが好ましい。また、イオン交換容量
が100〜400mgCaCO3/g のものが好ましい。In the general formula (V), M has the same meaning as in the general formula (IV). y ′ and w ′ are such that y ′ is 1.7 to 2.2.
Wherein w ′ is 0. Further, those having an ion exchange capacity of 100 to 400 mg CaCO 3 / g are preferred.
【0027】一般式(V)の結晶性アルカリ金属ケイ酸塩
は、一般的には無定形のガラス状ケイ酸ソーダを200
〜1000℃で焼成して結晶性とすることによって得ら
れる。合成方法の詳細は、例えばPhys.Chem.Glasses.7,
p127-p138(1966)、Z.Kristallogr., 129,p 396-p404(1
969)等に記載されている。また、一般式(V)の結晶性ア
ルカリ金属ケイ酸塩は、例えば、ヘキスト社より商品名
「Na-SKS-6」(δ−Na2Si2O5)として、粉末状、顆粒状
のものが入手できる。The crystalline alkali metal silicate of the general formula (V) is generally prepared by adding amorphous glassy sodium silicate to 200%.
It is obtained by firing at ~ 1000 ° C to make it crystalline. Details of the synthesis method, for example, Phys.Chem.Glasses.7,
p127-p138 (1966), Z.Kristallogr., 129, p 396-p404 (1
969). The crystalline alkali metal silicate of the general formula (V) may be in the form of powder or granules, for example, from Hoechst under the trade name “Na-SKS-6” (δ-Na 2 Si 2 O 5 ). Is available.
【0028】一般式(V)の結晶性アルカリ金属ケイ酸塩
の粒径は特に限定されるものではないが、好ましくは
0.01〜100μmの範囲である。The particle size of the crystalline alkali metal silicate of the general formula (V) is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.01 to 100 μm.
【0029】(c)成分の含有量は、義歯洗浄剤組成物
中において、処理対象を損傷させないこと及び経済性を
考慮すると、0.1〜30重量%であり、好ましくは1
〜15重量%であり、特に好ましくは2〜10重量%で
ある。The content of the component (c) is 0.1 to 30% by weight, preferably 1 to 30, in consideration of not damaging the object to be treated and economical efficiency in the denture cleaning composition.
To 15% by weight, particularly preferably 2 to 10% by weight.
【0030】本発明の義歯洗浄剤組成物には、さらに界
面活性剤を配合することができる。界面活性剤として
は、アルキルグリコシド、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチ
レンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂
肪酸エステル、オキシエチレンオキシプロピレンブロッ
クポリマー(商品名プルロニック;BASF社製)、脂
肪酸モノグリセリド、アミンオキシド等の非イオン界面
活性剤;石鹸、アルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
塩、スルホコハク酸ジエステル塩等の陰イオン界面活性
剤;モノ又はジアルキルアミン及びそのポリオキシエチ
レン付加物、モノ又はジ長鎖アルキル第4級アンモニウ
ム塩等の陽イオン界面活性剤;カルボベタイン、スルホ
ベタイン、ヒドロキシスルホベタイン等の両性界面活性
剤等を挙げることができる。これらの中でも洗浄力が優
れている点から、アルキル硫酸塩、アルキルベンゼンス
ルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸
塩、石鹸等の陰イオン界面活性剤が好ましい。界面活性
剤の配合量は、義歯洗浄剤組成物中において、好ましく
は0.01〜30重量%であり、特に好ましくは0.1
〜20重量%であり、さらに好ましくは1〜5重量%で
ある。[0030] The denture cleaning composition of the present invention may further contain a surfactant. Examples of surfactants include alkyl glycosides, polyoxyethylene alkyl ethers, sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene sorbitan fatty acid esters, polyoxyethylene fatty acid esters, oxyethylene oxypropylene block polymers (Pluronic, trade name, manufactured by BASF), fatty acid monoglycerides And non-ionic surfactants such as amine oxides; anionic surfactants such as soaps, alkyl sulfates, alkyl benzene sulfonates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, and sulfosuccinic acid diester salts; mono- or dialkylamines and their polyoxygens Cationic surfactants such as ethylene adducts and mono- or di-long-chain alkyl quaternary ammonium salts; amphoteric surfactants such as carbobetaine, sulfobetaine and hydroxysulfobetaine It can be mentioned. Of these, anionic surfactants such as alkyl sulfates, alkyl benzene sulfonates, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, and soaps are preferred because of their excellent detergency. The amount of the surfactant is preferably 0.01 to 30% by weight, particularly preferably 0.1 to 30% by weight in the denture cleaning composition.
-20% by weight, more preferably 1-5% by weight.
【0031】本発明の義歯洗浄剤組成物は、さらにpH
を調整するための緩衝剤を配合することができる。緩衝
剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のア
ルカリ金属の水酸化物、水酸化アンモニウム、モノ、ジ
又はトリエタノールアミン等のアミン誘導体、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩、炭酸
アンモニウム等の炭酸塩等を挙げることができる。緩衝
剤の配合量は、調整しようとするpHにより異なるもの
であるが、義歯洗浄剤組成物中において、好ましくは
0.01〜30重量%である。[0031] The denture cleaning composition of the present invention further comprises a pH
May be added to adjust the buffer. As the buffer, sodium hydroxide, hydroxides of alkali metals such as potassium hydroxide, ammonium hydroxide, amine derivatives such as mono, di or triethanolamine, sodium carbonate, carbonates of alkali metals such as potassium carbonate, Examples thereof include carbonates such as ammonium carbonate. The amount of the buffer varies depending on the pH to be adjusted, but is preferably 0.01 to 30% by weight in the denture cleaning composition.
【0032】本発明の義歯洗浄剤組成物には、さらにキ
レート剤を配合することができる。一般に酸素系の洗浄
剤は、微量の金属によって自己分解することが知られて
おり、キレート剤を配合することにより、洗浄性能の低
下を防止し、保存安定性を向上させることができる。キ
レート剤としては、トリポリリン酸、ピロリン酸、オル
ソリン酸、ヘキサメタリン酸等のアルカリ金属塩、エチ
レンジアミン4酢酸(EDTA)、ヒドロキシイミノ2酢
酸、ジヒドロキシエチルグリシン、ニトリロ3酢酸、ヒ
ドロキシエチレンジアミン3酢酸、ジエチレントリアミ
ン5酢酸、トリエチレンテトラミン6酢酸及びこれらの
アルカリ金属塩、アミノトリメチレンホスホン酸、1−
ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸、エチレ
ンジアミンテトラメチレンホスホン酸、ジエチレントリ
アミンペンタ−メチレンホスホン酸、アミノトリメチレ
ンホスホン酸のN−オキシド及びこれらのアルカリ金属
塩等を挙げることができる。キレート剤の配合量は、義
歯洗浄剤組成物中において、好ましくは0.0001〜
10重量%であり、特に好ましくは0.001〜3重量
%である。The denture cleaning composition of the present invention may further contain a chelating agent. It is generally known that an oxygen-based cleaning agent is self-decomposed by a trace amount of metal. By adding a chelating agent, it is possible to prevent a decrease in cleaning performance and improve storage stability. Examples of the chelating agent include alkali metal salts such as tripolyphosphoric acid, pyrophosphoric acid, orthophosphoric acid, and hexametaphosphoric acid, ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA), hydroxyiminodiacetic acid, dihydroxyethylglycine, nitrilotriacetic acid, hydroxyethylenediaminetriacetic acid, and diethylenetriaminepentaacetic acid. , Triethylenetetramine hexaacetic acid and their alkali metal salts, aminotrimethylene phosphonic acid, 1-
Examples include hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid, ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid, diethylenetriaminepenta-methylenephosphonic acid, N-oxides of aminotrimethylenephosphonic acid, and alkali metal salts thereof. The compounding amount of the chelating agent is preferably from 0.0001 to
It is 10% by weight, particularly preferably 0.001 to 3% by weight.
【0033】本発明の義歯洗浄剤組成物には、さらに必
要に応じて、p−トルエンスルホン酸ナトリウム、キシ
レンスルホン酸ナトリウム、アルケニルコハク酸ナトリ
ウム、尿素等の可溶化剤、プロテアーゼ、エステラー
ゼ、リバーゼ、セルラーゼ等の酵素、ケーキング防止
剤、過酸化物の安定化剤、浸透剤、粘土等の懸濁化剤、
研磨剤、顔料、染料、香料等を配合することができる。The denture cleansing composition of the present invention may further comprise, if necessary, a solubilizing agent such as sodium p-toluenesulfonate, sodium xylenesulfonate, sodium alkenylsuccinate, urea, protease, esterase, rivase, Enzymes such as cellulase, anti-caking agents, peroxide stabilizers, penetrants, clay and other suspending agents,
Abrasives, pigments, dyes, fragrances and the like can be blended.
【0034】本発明の義歯洗浄剤組成物は、(a)成分
と(b)成分の反応性を高めて有効成分である有機過酸
の生成率を向上させるとともに、前記有機過酸の安定性
を高めるため、pHが5〜13が好ましく、9〜11が
特に好ましい。The denture cleansing composition of the present invention enhances the reactivity of the components (a) and (b) to improve the production rate of the organic peracid, which is the active ingredient, and also improves the stability of the organic peracid. To increase the pH, the pH is preferably 5 to 13, and particularly preferably 9 to 11.
【0035】[0035]
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらにより限定されるものではな
い。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, but it should not be construed that the invention is limited thereto.
【0036】製造例1−1(漂白活性化剤Aの製造) 冷却管、メカニカルスターラー、温度計、滴下ロートを
備えた4つ口フラスコに、フェノール1.2molを入
れ、100℃に加熱した。滴下ロートによりラウリン酸
クロリド(和光純薬(株)製)1.2molを約2時間かけ
て滴下し、窒素ガスを吹き込み発生する塩酸を除去しな
がら約2時間熟成した。反応終了物を蒸留し、ラウリン
酸フェニルエステルを得た(収率96%、純度97
%)。Production Example 1-1 (Production of Bleaching Activator A) 1.2 mol of phenol was placed in a four-necked flask equipped with a cooling tube, a mechanical stirrer, a thermometer, and a dropping funnel, and heated to 100 ° C. 1.2 mol of lauric chloride (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was dropped by a dropping funnel over about 2 hours, and the mixture was aged for about 2 hours while blowing in nitrogen gas to remove generated hydrochloric acid. The reaction product was distilled to obtain phenyl laurate (96% yield, 97% purity).
%).
【0037】次に、ラウリン酸フェニルエステル0.8
molを、4つ口フラスコ内でジクロロメタン600gに
溶解させたのち、−10℃まで冷却した。その後、滴下
ロートより液体SO30.84molを発熱を抑制しながら
1時間かけて滴下し、室温に戻して1時間熟成した。そ
の後、エバポレーターでジクロロメタンを留去し、式(V
I)で表される漂白活性化剤Aを得た(収率75%)。Then, lauric acid phenyl ester 0.8
mol was dissolved in 600 g of dichloromethane in a four-necked flask, and then cooled to -10 ° C. Thereafter, 0.84 mol of liquid SO 3 was dropped from the dropping funnel over 1 hour while suppressing heat generation, and the mixture was returned to room temperature and aged for 1 hour. Thereafter, dichloromethane was distilled off using an evaporator, and the formula (V
A bleach activator A represented by I) was obtained (75% yield).
【0038】製造例1−2(漂白活性化剤Bの製造) あらかじめ脱水を行ったp−ヒドロキシ安息香酸1mol
をトルエン溶液300gに分散させ、メカニカルスター
ラーで攪拌しながらラウリン酸クロリド(和光純薬(株)
製)1molを50℃で30分かけて滴下し、滴下終了
後、約3時間反応させた。その後、溶媒を減圧下(0.
5〜1mmHg)、100℃で留去した。その後、ヘキサン
で洗浄したのち、トルエン中で再結晶を行って、式(VI
I)で表される漂白活性化剤Bを得た(収率85%)。Preparation Example 1-2 (Production of Bleaching Activator B) 1 mol of p-hydroxybenzoic acid which had been dehydrated in advance
Is dispersed in 300 g of a toluene solution, and lauric chloride (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) is stirred with a mechanical stirrer.
1 mol) was added dropwise at 50 ° C. over 30 minutes, and after the completion of the addition, the mixture was reacted for about 3 hours. Thereafter, the solvent was removed under reduced pressure (0.
(5-1 mmHg) at 100 ° C. Then, after washing with hexane, recrystallization is performed in toluene, and the formula (VI
A bleach activator B represented by I) was obtained (yield: 85%).
【0039】製造例2(結晶性アルカリ金属ケイ酸塩A
〜Dの製造) 2号ケイ酸ソーダ(SiO2/Na2O=2.5)100
0重量部に、水酸化ナトリウム55.9重量部及び水酸
化カリウム8.5重量部を溶解した。ここに、微分散し
た無水炭酸カルシウム5.23重量部及び硝酸マグネシ
ウム6水塩0.13重量部を加え、ホモミキサーを用い
て混合した。混合物をニッケル製るつぼに適量採り、7
00℃の温度で、空気中で1時間焼成した。急冷後、得
られた焼成体を粉砕して、結晶性アルカリ金属ケイ酸塩
Aを得た。同様の方法により、結晶性アルカリ金属ケイ
酸塩B、C、Dを得た。これらの組成を表1に示す。な
お、表1中、結晶性アルカリ金属ケイ酸塩A、B、Cは
一般式(IV)で表されるものに相当し、結晶性アルカリ金
属ケイ酸塩Dは一般式(V)で表されるものに相当する。Production Example 2 (Crystalline alkali metal silicate A)
-D) No. 2 sodium silicate (SiO 2 / Na 2 O = 2.5) 100
55.9 parts by weight of sodium hydroxide and 8.5 parts by weight of potassium hydroxide were dissolved in 0 parts by weight. 5.23 parts by weight of finely dispersed anhydrous calcium carbonate and 0.13 parts by weight of magnesium nitrate hexahydrate were added thereto, and mixed using a homomixer. Transfer appropriate amount of mixture to nickel crucible, 7
Calcination was performed in air at a temperature of 00 ° C. for 1 hour. After quenching, the obtained fired body was pulverized to obtain a crystalline alkali metal silicate A. In the same manner, crystalline alkali metal silicates B, C, and D were obtained. Table 1 shows their compositions. In Table 1, the crystalline alkali metal silicates A, B and C correspond to those represented by the general formula (IV), and the crystalline alkali metal silicate D is represented by the general formula (V). Equivalent to
【0040】また、これらの結晶性アルカリ金属ケイ酸
塩A、B、C、Dのイオン交換容量を下記の方法により
測定した。 <イオン交換容量の測定方法>試料0.1gを精秤し、
塩化カルシウム溶液(濃度はCaCO3として1%)5
0ml中に加えて、25℃で60分攪拌したのち、5種C
番の濾紙を用いて濾過した。その濾液10mlを採って濾
液中のCa量をEDTA滴定により測定し、その値より
試料のカルシウムイオン交換容量を求めた。The ion exchange capacities of these crystalline alkali metal silicates A, B, C and D were measured by the following method. <Method of measuring ion exchange capacity> 0.1 g of a sample was precisely weighed,
Calcium chloride solution (concentration is 1% as CaCO 3 ) 5
0 ml, and stirred at 25 ° C. for 60 minutes.
It filtered using No. filter paper. 10 ml of the filtrate was taken to measure the amount of Ca in the filtrate by EDTA titration, and the calcium ion exchange capacity of the sample was determined from the value.
【0041】[0041]
【表1】 [Table 1]
【0042】実施例1〜7、比較例1〜5 表2に示す組成の粉末状の義歯洗浄剤組成物を得た。こ
れらの義歯洗浄剤組成物について、下記の洗浄力試験に
より洗浄力を評価し、腐食試験によりクラスプに対する
腐食性を評価した。結果を表2に示す。表2中の各成分
の数値は重量%表示である。Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5 Powdered denture cleaning compositions having the compositions shown in Table 2 were obtained. The detergency of these denture cleaning compositions was evaluated by the following detergency test, and the corrosion test for clasps was evaluated by a corrosion test. Table 2 shows the results. The numerical value of each component in Table 2 is represented by% by weight.
【0043】<洗浄力試験> (1)汚れテストピース 紅茶、コーヒーの染みをつけた義歯用樹脂の成形体を汚
れテストピースとした。<Detergency Test> (1) Soil Test Piece A molded article of denture resin stained with tea or coffee was used as a stain test piece.
【0044】(2)洗浄及び評価方法 20℃又は10℃の水道水1リットルに義歯洗浄剤組成
物0.4gを溶解した洗浄液1リットルをビーカーに入
れ、汚れテストピースを15分間浸漬した。その後、よ
く水で濯ぎ、汚れの落ち具合を目視により観察し、下記
基準により評価した。 4:完全に汚れが落ちきっている 3:ほぼ汚れが落ちきっている 2:部分的に汚れが落ちきっている 1:ほとんど汚れが落ちていない 0:まったく汚れが落ちていない。(2) Washing and Evaluation Method One liter of a cleaning solution prepared by dissolving 0.4 g of the denture cleaning composition in 1 liter of tap water at 20 ° C. or 10 ° C. was placed in a beaker, and the stained test piece was immersed for 15 minutes. Thereafter, the well was rinsed with water, and the degree of stain removal was visually observed, and evaluated according to the following criteria. 4: Dirt is completely removed 3: Dirt is almost completely removed 2: Dirt is partially removed 1: Dirt is hardly removed 0: Dirt is not completely removed.
【0045】<クラスプに対する腐食試験>20℃の水
道水1リットルに義歯洗浄剤組成物0.5gを溶解して
試料溶液とした。この試料溶液50mlとクラスプ(5×
2cm)を、100mlの蓋付きガラスビンに入れ、蓋をし
て、40℃で2日間放置した場合のクラスプの腐食状態
を目視で観察し、下記の基準で評価した。 ○:腐食が認められない ×:腐食が認められる<Corrosion Test for Clasp> 0.5 g of the denture cleaning composition was dissolved in 1 liter of tap water at 20 ° C. to prepare a sample solution. 50 ml of this sample solution and a clasp (5 ×
2 cm) was placed in a 100-ml glass bottle with a lid, covered, and allowed to stand at 40 ° C. for 2 days. The state of corrosion of the clasp was visually observed and evaluated according to the following criteria. :: No corrosion observed ×: Corrosion observed
【0046】[0046]
【表2】 [Table 2]
【0047】実施例1〜7の組成物は、10〜20℃の
低温においても短時間で充分な洗浄力を示した。また、
腐食も認められなかった。なお、実施例7の組成物は、
(c)成分としてイオン交換能が0mg/gのケイ酸ソー
ダを用いたことによる洗浄力の低下を界面活性剤を併用
することで補い、他の実施例と同等の洗浄力が得られた
ものである。よって、(c)成分の結晶性アルカリ金属
ケイ酸塩としてイオン交換能の高いものを用いることに
よる洗浄力向上作用が確認されるとともに、実施例1〜
6の組成物においても、界面活性剤を併用することによ
り、さらに洗浄力を向上できることも確認された。The compositions of Examples 1 to 7 exhibited sufficient detergency in a short time even at a low temperature of 10 to 20 ° C. Also,
No corrosion was observed. The composition of Example 7 was
(C) The detergency reduced by using sodium silicate having an ion exchange capacity of 0 mg / g as a component was compensated for by using a surfactant in combination, and the detergency equivalent to that of the other examples was obtained. It is. Therefore, the effect of improving detergency by using a crystalline alkali metal silicate having a high ion exchange capacity as the component (c) was confirmed.
In the composition of No. 6, it was also confirmed that the detergency could be further improved by using a surfactant in combination.
【0048】[0048]
【発明の効果】本発明の義歯洗浄剤組成物は、常温又は
それよりも低温においても、ごく短時間で充分な洗浄力
を発揮するものであり、その際に義歯材料を損傷するこ
ともない。よって、本発明の義歯洗浄剤組成物を用いれ
ば、各家庭における義歯の洗浄処理が容易となり、利用
者の負担を軽減することができる。The denture cleansing composition of the present invention exerts sufficient detergency in a very short time even at normal temperature or lower temperature, and does not damage the denture material at that time. . Therefore, if the denture cleaning composition of the present invention is used, the denture cleaning process in each home becomes easy, and the burden on the user can be reduced.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−286996(JP,A) 特開 昭61−36216(JP,A) 特開 平3−215413(JP,A) 特開 平1−246215(JP,A) 米国特許4409118(US,A) 国際公開94/26246(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) A61K 7/00 - 7/50 C11D 1/00 - 19/00 CA(STN) REGISTRY(STN)──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (56) References JP-A-9-286996 (JP, A) JP-A-61-36216 (JP, A) JP-A-3-215413 (JP, A) JP-A-1- 246215 (JP, A) U.S. Pat. No. 4,409,118 (US, A) WO 94/26246 (WO, A1) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) A61K 7/ 00-7/50 C11D 1 / 00-19/00 CA (STN) REGISTRY (STN)
Claims (5)
て有機過酸を発生する次の一般式(I): R−C(=
O)−L (I) [式中、Rは炭素数6〜13の直鎖アルキル基を示し、
Lは下記式(III): 【化1】 で表されるリービング基を示す]で表される漂白活性化
剤 0.1〜30重量%、 (b)過炭酸ナトリウム 30〜98重量%及び (c)アルカリ金属ケイ酸塩 0.1〜10重量%を含
有することを特徴とする義歯洗浄剤組成物。(1) The following general formula (I) which reacts with hydrogen peroxide in water to generate an organic peracid: RC (=
O) -L (I) wherein R represents a straight-chain alkyl group having 6 to 13 carbon atoms;
L is the following formula (III) : A bleaching activator represented by the formula: 0.1 to 30% by weight, (b) 30 to 98% by weight of sodium percarbonate and (c) an alkali metal silicate 0.1 to 10 What is claimed is: 1. A denture cleaning composition comprising:
はその水和物であり、100mgCaCO3/g以上のイ
オン交換容量を有するものである請求項1記載の義歯洗
浄剤組成物。2. The denture cleaning composition according to claim 1, wherein the component (c) is a crystalline alkali metal salt or a hydrate thereof and has an ion exchange capacity of 100 mg CaCO 3 / g or more.
和物が、次の一般式(IV): x(M2O)・y(SiO2)・z(Me
mOn)・w(H2O) (IV) [式中、Mは周期律表のIa族元素、MeはIIa、II
b、IIIa、IVa又はVIII族元素から選ばれる1種以上
を示し、y/x=0.5〜2.6、z/x=0.01〜
1.0、n/m=0.5〜2.0、w=0〜20の数を
示す]で表されるものである請求項2記載の義歯洗浄剤
組成物。3. The crystalline alkali metal silicate or hydrate thereof is represented by the following general formula (IV): x (M 2 O) .y (SiO 2 ) .z (Me
m O n) · w (H 2 O) (IV) [ wherein, M is Group Ia elements of the periodic table, Me represents IIa, II
at least one element selected from the group consisting of b, IIIa, IVa and VIII, y / x = 0.5 to 2.6, z / x = 0.01 to
1.0, n / m = 0.5 to 2.0, w = 0 to 20].
和物が、次の一般式(V): M2O・y'(SiO2)・w'(H2O)
(V) [式中、Mはアルカリ金属を示し、y’=1.5〜4.
0、w’=0〜20の数を示す]で表されるものである
請求項2記載の義歯洗浄剤組成物。4. The crystalline alkali metal silicate or hydrate thereof is represented by the following general formula (V): M 2 O.y ′ (SiO 2 ) .w ′ (H 2 O)
(V) [wherein, M represents an alkali metal, and y '= 1.5 to 4.
0, w '= 0 to 20].
II): 【化2】 で表されるものである請求項1又は2記載の義歯洗浄剤
組成物。5. The bleaching activator of the component (a) is represented by the following formula (V)
II) : The denture cleaning composition according to claim 1 or 2, which is represented by the following formula:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34474497A JP3332833B2 (en) | 1997-12-15 | 1997-12-15 | Denture cleaning composition |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34474497A JP3332833B2 (en) | 1997-12-15 | 1997-12-15 | Denture cleaning composition |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11180842A JPH11180842A (en) | 1999-07-06 |
| JP3332833B2 true JP3332833B2 (en) | 2002-10-07 |
Family
ID=18371651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34474497A Expired - Fee Related JP3332833B2 (en) | 1997-12-15 | 1997-12-15 | Denture cleaning composition |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3332833B2 (en) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2680363A1 (en) * | 2007-03-23 | 2008-10-02 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Tooth-bleaching material and method of bleaching tooth |
| JPWO2017109889A1 (en) * | 2015-12-24 | 2018-10-25 | リジェンティス株式会社 | Teeth bleaching composition and tooth bleaching method |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4409118A (en) | 1981-04-03 | 1983-10-11 | Warner-Lambert Company | Tablet forming cleanser composition and method of preparation |
| WO1994026246A1 (en) | 1993-05-15 | 1994-11-24 | The Procter & Gamble Company | Denture cleansing tablet containing discrete agglomerated bleach precursor particles |
-
1997
- 1997-12-15 JP JP34474497A patent/JP3332833B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4409118A (en) | 1981-04-03 | 1983-10-11 | Warner-Lambert Company | Tablet forming cleanser composition and method of preparation |
| WO1994026246A1 (en) | 1993-05-15 | 1994-11-24 | The Procter & Gamble Company | Denture cleansing tablet containing discrete agglomerated bleach precursor particles |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11180842A (en) | 1999-07-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2021041894A1 (en) | A galactarate based metal sequestration composition | |
| JP3332833B2 (en) | Denture cleaning composition | |
| JP3297217B2 (en) | Bleach detergent composition | |
| JP3332752B2 (en) | Denture cleaning composition | |
| JP2813167B2 (en) | Bleach composition for hard surfaces | |
| JPH09118898A (en) | Bleaching composition for hard surfaces | |
| JP3342640B2 (en) | Bleach composition for hard surfaces | |
| JPH0892595A (en) | Bleach detergent composition | |
| JPH02132196A (en) | Bleaching agent and bleaching cleansing agent composition | |
| JPH10110192A (en) | Cleaning composition for washing machine tub | |
| JPH04363400A (en) | Nonionic powdery cleaner composition | |
| JP3005881B2 (en) | Detergent composition | |
| JP2771942B2 (en) | Bleach detergent composition | |
| JP2714523B2 (en) | Nonionic powder detergent composition | |
| JP2771941B2 (en) | Bleach detergent composition | |
| JPH07238298A (en) | Granular bleach activator composition and method for producing the same | |
| JP3174201B2 (en) | Detergent composition for automatic dishwashers | |
| JP3323063B2 (en) | Method for synthesizing crystalline silicate | |
| JP4694020B2 (en) | Bleach cleaning composition | |
| JP3347218B2 (en) | Method for producing nonionic powder detergent composition | |
| JP2963071B2 (en) | Bleach composition for hard surfaces | |
| JP2000026890A (en) | Detergent composition | |
| JP4907167B2 (en) | Manufacturing method of powder detergent | |
| JP4376405B2 (en) | Bleach cleaning composition | |
| JPH0892593A (en) | Bleach detergent composition |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080726 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080726 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090726 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090726 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100726 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110726 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110726 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120726 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120726 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130726 Year of fee payment: 11 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |