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JP3344396B2 - Lead terminal and semiconductor device - Google Patents
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JP3344396B2 - Lead terminal and semiconductor device - Google Patents

Lead terminal and semiconductor device

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JP3344396B2
JP3344396B2 JP2000009266A JP2000009266A JP3344396B2 JP 3344396 B2 JP3344396 B2 JP 3344396B2 JP 2000009266 A JP2000009266 A JP 2000009266A JP 2000009266 A JP2000009266 A JP 2000009266A JP 3344396 B2 JP3344396 B2 JP 3344396B2
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、リード端子及びこ
のリード端子を用いた半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead terminal and a semiconductor device using the lead terminal.

【0002】[0002]

【従来の技術】2つのリード端子の間に半導体素子を挟
持した半導体装置として、図5に示すようなパッケージ
構造が知られている。この種の従来の半導体装置は、第
1のリード端子101及び第2のリード端子103に凸
部121及び123が設けられており、この凸部121
及び123によって挟持する形で、半導体素子131を
半田133により接合している。このように凸部121
及び123を形成すれば、凸部121及び123の側面
にも半田133が付着するため、リード端子101及び
103と半導体素子131との間に供給出来る半田量を
増やすことができ、半田による接着強度を増大すること
ができる。
2. Description of the Related Art As a semiconductor device having a semiconductor element sandwiched between two lead terminals, a package structure as shown in FIG. 5 is known. In this type of conventional semiconductor device, the first lead terminal 101 and the second lead terminal 103 are provided with protrusions 121 and 123, and the protrusions 121 and 123 are provided.
The semiconductor element 131 is joined by the solder 133 in such a manner as to be sandwiched between the semiconductor element 131 and the solder 123. Thus, the convex portion 121
And 123, the solder 133 also adheres to the side surfaces of the protrusions 121 and 123, so that the amount of solder that can be supplied between the lead terminals 101 and 103 and the semiconductor element 131 can be increased, and the adhesive strength of the solder can be increased. Can be increased.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
にリード端子101及び103の先端部分に凸部121
及び123を形成した半導体装置では、パッケージの組
み立て工程(アセンブル工程)時に於いて供給する半田
量が最適な場合には半田接続強度を十分に高めることが
できる。しかしながら、供給する半田量が多すぎると半
導体素子131の側面に半田133が付着したり、余分
な半田133が飛散して半導体素子やその周辺に粒状に
付着することがある。このため、半導体装置内部で電気
的短絡が発生したり、特性低下や生産工程に不具合をも
たらす恐れがある。
By the way, as described above, the protrusions 121 are formed at the tips of the lead terminals 101 and 103.
And 123, the solder connection strength can be sufficiently increased when the amount of solder supplied in the package assembling step (assembly step) is optimal. However, if the supplied amount of solder is too large, the solder 133 may adhere to the side surface of the semiconductor element 131, or extra solder 133 may be scattered and adhere to the semiconductor element and its periphery in a granular manner. For this reason, there is a possibility that an electric short circuit may occur inside the semiconductor device, characteristics may be degraded, or a defect may be caused in a production process.

【0004】一方、アセンブル工程に於ける半田の供給
量が少ないと、半田付けによる接着強度を十分に得るこ
とができない。また、半田の供給量が少ないと電気的な
接触抵抗が大きくなり、半導体装置の導通抵抗(オン抵
抗)が増大し、高効率の動作が出来ないという問題が発
生する。
On the other hand, if the amount of supplied solder in the assembling step is small, it is not possible to obtain sufficient adhesive strength by soldering. In addition, when the amount of supplied solder is small, the electrical contact resistance increases, the conduction resistance (ON resistance) of the semiconductor device increases, and a problem arises in that high-efficiency operation cannot be performed.

【0005】このため、機械的な接着強度が十分に強
く、しかも電気的特性の良好なパッケージ構造を有した
半導体装置を得るためには、アセンブル工程に於ける半
田供給量のコントロールが非常に難しいという問題があ
った。
[0005] Therefore, in order to obtain a semiconductor device having a package structure with sufficiently high mechanical adhesive strength and good electrical characteristics, it is very difficult to control the amount of solder supplied in the assembling process. There was a problem.

【0006】本発明は、上記に鑑みてなされたもので、
その目的は、半田付けを行う際の半田供給量のコントロ
ールが容易なリード端子を提供することである。
[0006] The present invention has been made in view of the above,
An object of the present invention is to provide a lead terminal in which the amount of supplied solder at the time of soldering can be easily controlled.

【0007】また、本発明の他の目的は、半導体素子を
リード端子に接合する際の半田供給量のコントロールが
容易な半導体装置を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor device in which the amount of solder supplied when a semiconductor element is joined to a lead terminal can be easily controlled.

【0008】本発明の更に他の目的は、アセンブル工程
に於ける半田の供給量を比較的多くすることにより、電
気的な接触抵抗が低く、機械的な接着強度の高い半導体
装置を提供することである。
It is still another object of the present invention to provide a semiconductor device having a low electrical contact resistance and a high mechanical adhesive strength by increasing a supply amount of solder in an assembling process. It is.

【0009】本発明の更に他の目的は、オン抵抗(導通
抵抗)が低く、高効率で、しかも信頼性の高い半導体装
置を提供することである。
Still another object of the present invention is to provide a semiconductor device having low on-resistance (conduction resistance), high efficiency, and high reliability.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の第1の特徴は、半導体チップの第1の主表
面の全面に形成された第1の主電極、及び第2の主表面
の全面に形成された第2の主電極とを有する半導体素子
を搭載するパッケージに用いられるリード端子に関す
る。即ち、本発明の第1の特徴に係るリード端子は、第
1の主電極に対して、半田付けを行なう第1の幅広部分
の周辺部近傍において、チップ接続面からその裏面側へ
至る半田流通路を有するチップ接続部と、チップ接続部
に接続されたインナーリードと、インナーリードに連続
したアウターリードとを有する。ここで、「半導体素
子」としては、電力用ダイオード、電力用バイポーラト
ランジスタ(パワーBJT)、パワーMOSFET、絶
縁ゲート型バイポーラトランジスタ(IGBT)、電力
用静電誘導トランジスタ(パワーSIT)、静電誘導サ
イリスタ(SIサイリスタ)やGTOサイリスタ等の半
導体装置が好適である。従って、「第1の主電極」と
は、電力用ダイオード、SIサイリスタやGTOサイリ
スタにおいては、アノード電極又はカソード電極のいず
れか一方、パワーBJTやIGBTにおいてはエミッタ
電極又はコレクタ電極のいずれか一方、パワーMOSF
ETやパワーSITにおいてはソース電極又はドレイン
電極のいずれか一方を意味する。一方、「第2の主電
極」とは、電力用ダイオード、SIサイリスタやGTO
サイリスタにおいては、上記第1の主電極とはならない
アノード電極又はカソード電極のいずれか一方、パワー
BJTやIGBTにおいては上記第1の主電極とはなら
ないエミッタ電極又はコレクタ電極のいずれか一方、パ
ワーMOSFETやパワーSITにおいては上記第1の
主電極とはならないソース電極又はドレイン電極のいず
れか一方を意味する。即ち、電力用ダイオード、SIサ
イリスタやGTOサイリスタにおいては、第1の主電極
がアノード電極であれば、第2の主電極はカソード電極
であり、パワーBJTやIGBTにおいては、第1の主
電極がエミッタ電極であれば、第2の主電極はコレクタ
電極であり、パワーMOSFETやパワーSITにおい
ては第1の主電極がソース電極であれば、第2の主電極
はドレイン電極である。
In order to solve the above-mentioned problems, a first feature of the present invention is that a first main electrode formed on the entire surface of a first main surface of a semiconductor chip and a second main electrode are formed. The present invention relates to a lead terminal used for a package on which a semiconductor element having a second main electrode formed on the entire surface is mounted. That is, in the lead terminal according to the first aspect of the present invention, the flow of solder from the chip connection surface to the back surface of the first main electrode near the periphery of the first wide portion to be soldered is performed. A chip connecting portion having a path, an inner lead connected to the chip connecting portion, and an outer lead continuous with the inner lead. Here, the “semiconductor element” includes a power diode, a power bipolar transistor (power BJT), a power MOSFET, an insulated gate bipolar transistor (IGBT), a power static induction transistor (power SIT), and a static induction thyristor. Semiconductor devices such as (SI thyristors) and GTO thyristors are suitable. Therefore, the “first main electrode” is one of an anode electrode and a cathode electrode in a power diode, an SI thyristor and a GTO thyristor, and one of an emitter electrode and a collector electrode in a power BJT and an IGBT. Power MOSF
In ET and power SIT, it means either the source electrode or the drain electrode. On the other hand, the “second main electrode” is a power diode, SI thyristor, GTO, or the like.
In a thyristor, one of an anode electrode and a cathode electrode that does not become the first main electrode; in a power BJT or IGBT, one of an emitter electrode or a collector electrode that does not become the first main electrode; In the case of the power SIT, it means either the source electrode or the drain electrode which is not the first main electrode. That is, in power diodes, SI thyristors and GTO thyristors, if the first main electrode is an anode electrode, the second main electrode is a cathode electrode, and in power BJTs and IGBTs, the first main electrode is If it is an emitter electrode, the second main electrode is a collector electrode. In a power MOSFET or power SIT, if the first main electrode is a source electrode, the second main electrode is a drain electrode.

【0011】本発明の第1の特徴に係るリード端子によ
れば、リード端子に設けられた半田流通路が、アセンブ
ル工程に於ける余分な半田を、半田付けされる第1の幅
広部分の表面から裏面側へ逃がすことができる。このた
め、アセンブル工程に於ける半田の量を多めにしても、
半導体素子の側面に半田が付着したり、余分な半田が飛
散して半導体素子やその周辺に粒状に付着する不良が防
止出来る。この結果、半導体装置内部で電気的短絡の発
生が回避され、特性低下や生産工程に不具合をもたらす
欠陥の発生を防止出来る。また、余分な半田を第1の幅
広部分の裏面側へ逃がすことができるので、アセンブル
工程に於ける半田供給量のコントロールが容易になる。
According to the lead terminal according to the first aspect of the present invention, the solder flow passage provided in the lead terminal allows excess solder in the assembling process to be removed from the surface of the first wide portion to be soldered. To the back side. Therefore, even if the amount of solder in the assembling process is large,
It is possible to prevent the solder from adhering to the side surface of the semiconductor element, or to prevent the excess solder from being scattered and adhering to the semiconductor element and its periphery in a granular manner. As a result, the occurrence of an electrical short circuit inside the semiconductor device can be avoided, and the occurrence of a defect that causes deterioration in characteristics or a defect in the production process can be prevented. Further, since the excess solder can escape to the back side of the first wide portion, it is easy to control the amount of solder supplied in the assembling process.

【0012】本発明の第1の特徴に係るリード端子にお
いて、半田流通路は、例えば、チップ接続部の周辺部近
傍に設けられた貫通クラックで構成することが可能であ
る。半田流通路として貫通クラックを利用することで、
貫通クラックの微細な孔が、半田を毛細管現象により吸
い出し、余分な半田を第1の幅広部分の表面から裏面側
へ、効果的に逃がすことができる。
[0012] In the lead terminal according to the first aspect of the present invention, the solder flow passage may be constituted by, for example, a through crack provided in the vicinity of a peripheral portion of the chip connecting portion. By using through cracks as solder flow paths,
The fine holes in the through cracks suck out the solder by capillary action, and can effectively release excess solder from the front surface of the first wide portion to the back surface side.

【0013】また、本発明の第1の特徴に係るリード端
子において、チップ接続部のチップ接続面の中央部に
は、凸部を設け、対応する裏面側には凹部を設けるよう
にしても良い。半田付けが行われる面を突出させること
で、リード端子と半田との接触面積を多くとることがで
きるため、半田付けされる部材との接合強度を上げるこ
とができると共に、その裏面側の凹部に、余分な半田を
溜めて、更に他へ流れ出すのを防止することができるの
である。この場合、半田流通路は、凸部の周辺部に設け
ることが可能である。
In the lead terminal according to the first aspect of the present invention, a projection may be provided at the center of the chip connection surface of the chip connection portion, and a depression may be provided at the corresponding back surface. . By protruding the surface on which soldering is performed, the contact area between the lead terminal and the solder can be increased, so that the bonding strength with the member to be soldered can be increased and the concave portion on the back surface side can be formed. Therefore, it is possible to prevent excess solder from accumulating and flowing out to other parts. In this case, the solder flow passage can be provided in a peripheral portion of the convex portion.

【0014】更に、本発明の第1の特徴に係るリード端
子において、チップ接続部は、第1の幅広部分と、この
第1の幅広部分に連続した幅狭部分と、この幅狭部分に
連続した第2の幅広部分とからなり、第2の幅広部分に
おいて、インナーリードと半田により接続するようにし
ても良い。或いは、チップ接続部、インナーリード、及
びアウターリードは連続した一体で形成しても良い。一
体で形成する場合は、チップ接続部は、第1の幅広部分
と、第1の幅広部分に連続した第1の幅狭部分とからな
り、インナーリードは、第1の幅狭部分に連続した羽状
部分と、羽状部分に連続した第2の幅狭部分とからな
り、アウターリードは、第2の幅狭部分に連続した第3
の幅狭部分と、第3の幅狭部分に連続した第2の幅広部
分とからなるように構成することが可能である。
Further, in the lead terminal according to the first aspect of the present invention, the chip connecting portion has a first wide portion, a narrow portion continuous with the first wide portion, and a continuous portion with the narrow portion. The second wide portion may be connected to the inner lead by soldering. Alternatively, the chip connecting portion, the inner lead, and the outer lead may be formed continuously and integrally. When integrally formed, the chip connecting portion is composed of a first wide portion and a first narrow portion continuous with the first wide portion, and the inner lead is continuous with the first narrow portion. The outer lead is composed of a wing-shaped portion and a second narrow portion continuous with the wing-shaped portion.
And a second wide portion continuous with the third narrow portion.

【0015】本発明の第2の特徴は、半導体素子と、こ
の半導体素子を挟持する第1及び第2のリード端子とか
ら構成される半導体装置に関する。即ち、本発明の第2
の特徴に係る半導体装置において、第1のリード端子1
は、第1のチップ接続部と、第1のチップ接続部に接続
された第1のインナーリードと、第1のインナーリード
に連続した第1のアウターリードとを有する。第2のリ
ード端子は、半田流通路を有する第2のチップ接続部と
第2のチップ接続部に接続された第2のインナーリード
と第2のインナーリードに連続した第2のアウターリー
ドとを有する。第1の主電極と第1のチップ接続部との
間、第2の主電極と第2のチップ接続部との間、及び半
田流通路の内部には、半田が挿入されている。ここで、
「半導体素子」としては、電力用ダイオード、パワーB
JT、パワーMOSFET、IGBT、パワーSIT、
SIサイリスタやGTOサイリスタ等の半導体装置が好
適である。従って、「第1の主電極」とは、電力用ダイ
オード、SIサイリスタやGTOサイリスタにおいて
は、アノード電極又はカソード電極のいずれか一方、パ
ワーBJTやIGBTにおいてはエミッタ電極又はコレ
クタ電極のいずれか一方、パワーMOSFETやパワー
SITにおいてはソース電極又はドレイン電極のいずれ
か一方を意味する。一方、「第2の主電極」とは、電力
用ダイオード、SIサイリスタやGTOサイリスタにお
いては、上記第1の主電極とはならないアノード電極又
はカソード電極のいずれか一方、パワーBJTやIGB
Tにおいては上記第1の主電極とはならないエミッタ電
極又はコレクタ電極のいずれか一方、パワーMOSFE
TやパワーSITにおいては上記第1の主電極とはなら
ないソース電極又はドレイン電極のいずれか一方を意味
する。いずれを第1の主電極、いずれを第2の主電極と
呼ぶかは、単なる定義上の選択の問題であり、設計仕様
に応じて任意に選択可能である。
A second feature of the present invention relates to a semiconductor device comprising a semiconductor element and first and second lead terminals sandwiching the semiconductor element. That is, the second aspect of the present invention
In the semiconductor device according to the first aspect, the first lead terminal 1
Has a first chip connection part, a first inner lead connected to the first chip connection part, and a first outer lead continuous with the first inner lead. The second lead terminal includes a second chip connecting portion having a solder flow path, a second inner lead connected to the second chip connecting portion, and a second outer lead continuous with the second inner lead. Have. Solder is inserted between the first main electrode and the first chip connection portion, between the second main electrode and the second chip connection portion, and inside the solder flow passage. here,
"Semiconductor element" includes power diode, power B
JT, power MOSFET, IGBT, power SIT,
Semiconductor devices such as SI thyristors and GTO thyristors are suitable. Therefore, the “first main electrode” is one of an anode electrode and a cathode electrode in a power diode, an SI thyristor and a GTO thyristor, and one of an emitter electrode and a collector electrode in a power BJT and an IGBT. In a power MOSFET or a power SIT, it means either a source electrode or a drain electrode. On the other hand, the “second main electrode” is a power diode, an SI thyristor or a GTO thyristor, one of an anode electrode and a cathode electrode which is not the first main electrode, and a power BJT or IGB.
At T, one of the emitter electrode and the collector electrode which does not become the first main electrode, the power MOSFE
In T and power SIT, it means either the source electrode or the drain electrode which is not the first main electrode. Which one is referred to as the first main electrode and which is referred to as the second main electrode is merely a matter of definition and can be arbitrarily selected according to design specifications.

【0016】本発明の第2の特徴に係る半導体装置によ
れば、半田流通路が、半導体素子接合時の余分な半田を
第2のチップ接続部の接合面(表面)側から反対側へ逃
がすことができる。このため、パッケージ組み立て工程
時において、半田の量を多めにしても、半導体素子の側
面に半田が付着したり、余分な半田が飛散して半導体素
子やその周辺に粒状に付着する不良が防止出来る。この
結果、半導体装置内部で電気的短絡の発生が回避され、
特性低下や生産工程に不具合をもたらす欠陥の発生を防
止出来る。また、余分な半田を第2のチップ接続部の接
合面側から反対側へ逃がすことができるので、パッケー
ジの組み立て工程時に於ける半田供給量のコントロール
が容易になる。
According to the semiconductor device of the second aspect of the present invention, the solder flow path allows excess solder at the time of joining the semiconductor element to escape from the joining surface (front surface) of the second chip connecting portion to the opposite side. be able to. For this reason, in the package assembling process, even if the amount of solder is increased, it is possible to prevent a defect that the solder adheres to the side surface of the semiconductor element or that excess solder is scattered and adheres to the semiconductor element and its periphery in a granular manner. . As a result, the occurrence of an electrical short circuit inside the semiconductor device is avoided,
It is possible to prevent the occurrence of defects that cause deterioration in characteristics and defects in the production process. In addition, since excess solder can be released from the bonding surface side of the second chip connection portion to the opposite side, it is easy to control the amount of solder supplied during the package assembling process.

【0017】本発明の第2の特徴に係る半導体装置にお
いて、半田流通路は、それぞれ第2のチップ接続部の周
辺部近傍に設けられた貫通クラックで構成することが可
能である。半田流通路として、それぞれ貫通クラックを
利用することで、貫通クラックの微細な孔が、半田を毛
細管現象により吸い出し、余分な半田を、第2のチップ
接続部の接合面側から反対側へ、効果的に逃がすことが
できる。
In the semiconductor device according to the second aspect of the present invention, each of the solder flow paths can be formed by a through crack provided in the vicinity of a peripheral portion of the second chip connection portion. By using the through cracks as the solder flow passages, the fine holes of the through cracks suck out the solder by capillary action, and the excess solder is effectively removed from the joining surface side of the second chip connecting portion to the opposite side. You can escape.

【0018】更に、本発明の第2の特徴に係る半導体装
置において、第2のチップ接続部のチップ接続面の中央
部には、それぞれ凸部が設けられ、対応する裏面側には
それぞれ凹部を設けるようにしても良い。半田付けが行
われる面を突出させることで、第2のチップ接続部と半
田との接触面積を多くとることができるため、半田付け
される部材との接合強度を上げることができると共に、
第2のチップ接続部の裏面側の凹部に、余分な半田を溜
めて、更に他へ流れ出すのを防止することができるので
ある。この場合、第2のチップ接続部に設ける半田流通
路は、凸部の周辺部に設けることが可能である。
Further, in the semiconductor device according to the second feature of the present invention, a convex portion is provided at the center of the chip connecting surface of the second chip connecting portion, and a concave portion is provided at the corresponding back surface side. It may be provided. By protruding the surface to be soldered, it is possible to increase the contact area between the second chip connection portion and the solder, so that the bonding strength with the member to be soldered can be increased,
The excess solder can be stored in the concave portion on the back surface side of the second chip connection portion, and can be prevented from flowing out to another portion. In this case, the solder flow passage provided in the second chip connection portion can be provided in the periphery of the projection.

【0019】更に、本発明の第2の特徴に係る半導体装
置において、第2のチップ接続部は、第1の幅広部分
と、第1の幅広部分に連続した幅狭部分と、幅狭部分に
連続した第2の幅広部分とからなり、第2の幅広部分に
おいて、第2のインナーリードと半田により接続するよ
うにしても良い。或いは、第1のチップ接続部、第1の
インナーリード、及び第1のアウターリードは連続した
一体で形成しても良い。一体で形成する場合は、第1の
チップ接続部は、第1の幅広部分と、第1の幅広部分に
連続した第1の幅狭部分とからなり、第1のインナーリ
ードは、第1の幅狭部分に連続した羽状部分と、羽状部
分に連続した第2の幅狭部分とからなり、第1のアウタ
ーリードは、第2の幅狭部分に連続した第3の幅狭部分
と、第3の幅狭部分に連続した第2の幅広部分とからな
るように構成することが可能である。
Further, in the semiconductor device according to the second aspect of the present invention, the second chip connecting portion includes a first wide portion, a narrow portion continuous with the first wide portion, and a narrow portion connected to the first wide portion. A continuous second wide portion may be used, and the second wide portion may be connected to the second inner lead by soldering. Alternatively, the first chip connecting portion, the first inner lead, and the first outer lead may be formed continuously and integrally. When integrally formed, the first chip connecting portion includes a first wide portion and a first narrow portion continuous with the first wide portion, and the first inner lead is formed of the first inner lead. The first outer lead is composed of a wing portion continuous with the narrow portion and a second narrow portion continuous with the wing portion, and the first outer lead has a third narrow portion continuous with the second narrow portion. , And a second wide portion that is continuous with the third narrow portion.

【0020】更に、本発明の第2の特徴に係る半導体装
置において、第1のリード端子の第1のチップ接続部に
半田流通路(ここでは、「第1の半田流通路」と定義す
る。)を設けてもかまわない。即ち、第2のリード端子
の第2のチップ接続部に設けられた「第2の半田流通
路」との2つの半田流通路を有する構成にすれば、第1
及び第2の半田流通路より、上下対称で、効果的に半田
を毛細管現象により吸い出すことが可能となる。このた
め、余分な半田を第1及び第2のチップ接続部の接合面
側から反対側へ、均一且つ効果的にそれぞれ逃がすこと
ができる。
Further, in the semiconductor device according to the second aspect of the present invention, a solder flow path (here, "first solder flow path") is defined at the first chip connecting portion of the first lead terminal. ) May be provided. In other words, if the second lead terminal is configured to have two solder flow passages, the "second solder flow passage" provided at the second chip connection portion, the first
Further, the solder can be effectively sucked out by the capillary phenomenon in a vertically symmetric manner from the second solder flow passage. For this reason, excess solder can be uniformly and effectively released from the joining surface side of the first and second chip connecting portions to the opposite side.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】次に、図面を参照して、本発明の
実施の形態を説明する。以下の図面の記載において、同
一又は類似の部分には同一又は類似の符号を付してい
る。但し、図面は模式的なものであり、各部材の寸法の
関係や比率は現実のものとは異なることに留意すべきで
ある。従って、具体的な各部材の寸法は以下の説明を参
酌して判断すべきものである。また、図面相互間におい
ても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれてい
ることは勿論である。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following description of the drawings, the same or similar parts are denoted by the same or similar reference numerals. However, it should be noted that the drawings are schematic, and the dimensional relationships and ratios of the respective members are different from actual ones. Therefore, specific dimensions of each member should be determined in consideration of the following description. In addition, it is needless to say that dimensional relationships and ratios are different between drawings.

【0022】(第1の実施の形態)図1に示すように、
本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置(電力用ダ
イオード)は、半導体素子51を第1のリード端子1と
第2のリード端子3で挟持している。半導体素子として
のダイオードチップ51は、半導体チップの第1の主表
面の全面に形成された第1の主電極(アノード電極)5
2及び第2の主表面の全面に形成された第2の主電極
(カソード電極)53とを有するpn接合形のダイオー
ドチップである。
(First Embodiment) As shown in FIG.
In the semiconductor device (power diode) according to the first embodiment of the present invention, a semiconductor element 51 is sandwiched between a first lead terminal 1 and a second lead terminal 3. A diode chip 51 as a semiconductor element includes a first main electrode (anode electrode) 5 formed on the entire first main surface of the semiconductor chip.
It is a pn junction type diode chip having a second main electrode (cathode electrode) 53 formed on the entire surface of the second and second main surfaces.

【0023】第1のリード端子1は、第1の半田流通路
7aを有する第1のチップ接続部32aと、第1のチッ
プ接続部32aに接続された第1のインナーリード33
aと、第1のインナーリード33aに連続した第1のア
ウターリード35aとを有する。第2のリード端子3
は、第2の半田流通路7bを有する第2のチップ接続部
32bと第2のチップ接続部32bに接続された第2の
インナーリード33bと第2のインナーリード33bに
連続した第2のアウターリード35bとを有する。第1
の主電極52と第1のチップ接続部32aとの間、第2
の主電極53と第2のチップ接続部32bとの間、及び
第1の半田流通路7a及び第2の半田流通路7bの内部
には、半田41が挿入されている。 そして、半導体素
子51、第1のチップ接続部32a、第1のインナーリ
ード33a、第2のチップ接続部32b、及び第2のイ
ンナーリード33bは、周知のトランスファモールド方
法によって樹脂封止体55により封止されている。
The first lead terminal 1 includes a first chip connecting portion 32a having a first solder flow passage 7a and a first inner lead 33 connected to the first chip connecting portion 32a.
a and a first outer lead 35a continuous with the first inner lead 33a. Second lead terminal 3
Are a second chip connecting portion 32b having a second solder flow passage 7b, a second inner lead 33b connected to the second chip connecting portion 32b, and a second outer lead connected to the second inner lead 33b. And a lead 35b. First
Between the main electrode 52 and the first chip connecting portion 32a,
The solder 41 is inserted between the main electrode 53 and the second chip connection portion 32b, and inside the first solder flow passage 7a and the second solder flow passage 7b. Then, the semiconductor element 51, the first chip connecting portion 32a, the first inner lead 33a, the second chip connecting portion 32b, and the second inner lead 33b are connected to the resin sealing body 55 by a well-known transfer molding method. It is sealed.

【0024】第1のリード端子1と第2のリード端子3
は、いずれも打ち抜き成形やエッチング等で所定の形状
にパターニングされたされた金属板材、例えばアルミニ
ウム(Al)、銅(Cu)、Cu−Fe,Cu−Cr,
Cu−Ni−Si,Cu−Sn等の銅合金、Ni−F
e、Fe−Ni−Co等のニッケル・鉄合金、或いは銅
とステンレスの複合材料等を用いることが可能である。
さらに、これらの金属にニッケル(Ni)メッキや金
(Au)メッキ等を施したものなどから構成しても良
い。
First lead terminal 1 and second lead terminal 3
Are metal plate materials patterned into a predetermined shape by punching or etching, for example, aluminum (Al), copper (Cu), Cu-Fe, Cu-Cr,
Copper alloys such as Cu-Ni-Si, Cu-Sn, Ni-F
e, a nickel-iron alloy such as Fe-Ni-Co, or a composite material of copper and stainless steel can be used.
Further, these metals may be formed by plating nickel (Ni), gold (Au), or the like.

【0025】本発明の第1の実施の形態に係る半導体装
置に用いる第1のリード端子1と第2のリード端子3
は、組み立て工程開始時においては、図2(a)及び
(b)に示すように、共に同じ形状をなしている。即
ち、第1のリード端子1と第2のリード端子3のいずれ
も、チップ接続部32a,32b、インナーリード33
a,33b、及びアウターリード35a,35bとが連
続した一体で形成されている。詳細には、図2(a)に
示すように、第1のチップ接続部32aは、第1の幅広
部分11aと、第1の幅広部分11aに連続した第1の
幅狭部分20aからなる。第1のインナーリード33a
は、第1の幅狭部分20aに連続した羽状部分15a
と、羽状部分15aに連続した第2の幅狭部分21aと
からなる。そして、第1のアウターリード35aは、第
2の幅狭部分21aに連続した第3の幅狭部分23a
と、第3の幅狭部分23aに連続した第2の幅広部分2
5aとからなる。一方、図2(b)に示すように、第2
のチップ接続部32bは、第1の幅広部分11bと、第
1の幅広部分11bに連続した第1の幅狭部分20bか
らなる。第2のインナーリード33bは、第1の幅狭部
分20bに連続した羽状部分15bと、羽状部分15b
に連続した第2の幅狭部分21bとからなる。そして、
第2のアウターリード35bは、第2の幅狭部分21b
に連続した第3の幅狭部分23bと、第3の幅狭部分2
3bに連続した第2の幅広部分25bとからなる。
A first lead terminal 1 and a second lead terminal 3 used in the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention
At the start of the assembling process, both have the same shape as shown in FIGS. 2 (a) and 2 (b). That is, both the first lead terminal 1 and the second lead terminal 3 include the chip connecting portions 32 a and 32 b and the inner leads 33.
a, 33b and the outer leads 35a, 35b are formed integrally and continuously. More specifically, as shown in FIG. 2A, the first chip connecting portion 32a includes a first wide portion 11a and a first narrow portion 20a continuous with the first wide portion 11a. First inner lead 33a
Is a wing portion 15a continuous with the first narrow portion 20a.
And a second narrow portion 21a continuous with the wing portion 15a. Then, the first outer lead 35a is connected to the third narrow portion 23a continuous with the second narrow portion 21a.
And a second wide portion 2 continuous with the third narrow portion 23a.
5a. On the other hand, as shown in FIG.
The chip connecting portion 32b includes a first wide portion 11b and a first narrow portion 20b continuous with the first wide portion 11b. The second inner lead 33b includes a wing portion 15b continuous with the first narrow portion 20b and a wing portion 15b.
And a second narrow portion 21b that is continuous with the second narrow portion 21b. And
The second outer lead 35b is connected to the second narrow portion 21b.
A third narrow portion 23b continuous with the third narrow portion 2
3b and a second wide portion 25b continuous with 3b.

【0026】そして、組み立て工程完了時においては、
第1のリード端子1は、図1に示すように、樹脂封止体
55の内部に配置される第1のインナーリード33a、
樹脂封止体55の左側面から導出され、左側面に沿って
底面に導かれ、樹脂封止体55の底面の下方に折り曲げ
られた第1のアウターリード35aとから構成されてい
る。一方、第2のリード端子3は、樹脂封止体55の内
部に配置される第2のインナーリード33b、樹脂封止
体55の右側面から導出され、右側面に沿って底面に導
かれ、樹脂封止体55の底面の下方に折り曲げられた第
2のアウターリード35bとから構成されている。第1
及び第2のチップ接続部32a,32bの第1の幅広部
分11a,11bは、ダイオードチップ51の第1及び
第2の主電極52,53が半田41により接合される領
域として機能する。このため、図1に示すように、第1
の幅広部分11a,11bの中央部には、半田付けされ
る面が第1及び第2の主電極52,53側へ、それぞれ
突出した凸部13a,13bが形成され、対応する裏面
側には凹部43が形成されている。一方、図1に示すよ
うに、第1のアウターリード35a及び第2のアウター
リード35bの端部である第2の幅広部分25a,25
bは、樹脂封止体55の底面に配置されており、電力用
ダイオードをプリント基板の電極などに半田付けするた
めの半田付け用電極として機能する。
When the assembly process is completed,
As shown in FIG. 1, the first lead terminal 1 includes first inner leads 33 a arranged inside a resin sealing body 55,
The first outer leads 35 a are led out from the left side surface of the resin sealing body 55, guided to the bottom surface along the left side surface, and bent below the bottom surface of the resin sealing body 55. On the other hand, the second lead terminal 3 is led out of the second inner lead 33b disposed inside the resin sealing body 55, the right side of the resin sealing body 55, and guided to the bottom surface along the right side, And a second outer lead b bent below the bottom surface of the resin sealing body 55. First
The first wide portions 11a and 11b of the second chip connecting portions 32a and 32b function as regions where the first and second main electrodes 52 and 53 of the diode chip 51 are joined by the solder 41. For this reason, as shown in FIG.
In the central portions of the wide portions 11a and 11b, convex portions 13a and 13b are formed so that the surfaces to be soldered protrude toward the first and second main electrodes 52 and 53, respectively. A recess 43 is formed. On the other hand, as shown in FIG. 1, the second wide portions 25a, 25, which are ends of the first outer lead 35a and the second outer lead 35b,
“b” is disposed on the bottom surface of the resin sealing body 55 and functions as a soldering electrode for soldering the power diode to an electrode or the like of a printed circuit board.

【0027】第2の幅狭部分21a,21bは、第1の
インナーリード33a及び第2のインナーリード33b
に対して折り曲げ加工が良好に行えるように、第1の幅
広部分11a,11bよりも幅の狭い帯状部分として形
成されている。この第2の幅狭部分21a,21bに設
けられている羽状部分15a,15bは、第1のインナ
ーリード33a及び第2のインナーリード33bの樹脂
封止体55に対する接合力を向上する係止部として機能
する。第1のアウターリード35a及び第2のアウター
リード35bを構成する第3の幅狭部分23a,23b
は、樹脂封止体55の側面から垂直方向に導出された
後、樹脂封止体55の側面に沿うように直角に折り曲げ
られ、更に、樹脂封止体55の底面に沿うように直角に
折り曲げられている。
The second narrow portions 21a and 21b are formed by a first inner lead 33a and a second inner lead 33b.
Is formed as a band-shaped portion having a width smaller than that of the first wide portions 11a and 11b so that the bending process can be performed satisfactorily. The wing-shaped portions 15a, 15b provided on the second narrow portions 21a, 21b are engaged with the first inner leads 33a and the second inner leads 33b to improve the bonding force to the resin sealing body 55. Functions as a unit. Third narrow portions 23a and 23b constituting first outer lead 35a and second outer lead 35b
Is vertically drawn out from the side surface of the resin sealing body 55, is bent at a right angle along the side surface of the resin sealing body 55, and is further bent at a right angle along the bottom surface of the resin sealing body 55. Have been.

【0028】第1及び第2のチップ接続部32a,32
bの第1の幅広部分11a,11bの接合面(表面)に
設けられた凸部13a,13bは、対応する第1の幅広
部分11a,11bの裏面の中央領域に凹部43を設け
ることによって相対的に形成されたものである。即ち、
第1の幅広部分11a,11bの中央領域を一方の主面
(裏面)側から、他方の主面(表面)側へ押圧すること
によって、第1の幅広部分11a,11bの中央領域を
部分的に他方の主面へ突出させて形成している。第1及
び第2のチップ接続部32a,32bにおいて、第1の
幅広部分11a,11bの周辺領域と凸部13a,13
bとの連結部分(境界部分)5a,5bは、図1に示す
ように、肉厚が部分的に薄くなっている。この連結部分
5a,5bに一方の主面側から他方の主面側へ、微細な
貫通孔が設けられ半田流通路7a,7bを構成してい
る。半田流通路7a,7bは、連結部分5a,5bを厚
み方向に横切っている。このため、半導体装置の組み立
て工程(アセンブル工程)時には、毛細管現象によりダ
イオードチップ51を固着する半田41の吸い上げが可
能となっている。この結果、凹部43内側にはダイオー
ドチップ51を固着する半田41の一部が半田流通路7
a,7bを通じて侵入している。
First and second chip connecting portions 32a, 32
The protrusions 13a, 13b provided on the joint surfaces (front surfaces) of the first wide portions 11a, 11b of FIG. 2b are relatively positioned by providing a recess 43 in the center region of the back surface of the corresponding first wide portions 11a, 11b. It was formed in a typical way. That is,
By pressing the central regions of the first wide portions 11a, 11b from one main surface (back surface) side to the other main surface (front surface) side, the central regions of the first wide portions 11a, 11b are partially formed. At the other main surface. In the first and second chip connecting portions 32a and 32b, the peripheral regions of the first wide portions 11a and 11b and the protrusions 13a and 13
The connecting portions (boundary portions) 5a and 5b with the b are partially thinner as shown in FIG. Fine through holes are provided in the connecting portions 5a and 5b from one main surface side to the other main surface side to form solder flow passages 7a and 7b. The solder flow paths 7a, 7b cross the connecting portions 5a, 5b in the thickness direction. Therefore, at the time of assembling (assembling) the semiconductor device, it is possible to suck up the solder 41 for fixing the diode chip 51 by capillary action. As a result, a part of the solder 41 for fixing the diode chip 51 is located inside the recess 43.
a, 7b.

【0029】この微細な半田流通路7a,7bは、連結
部分5a,5bの微細な貫通クラックで構成することが
できる。この微細な貫通クラックは、例えば凸部13
a,13bを押し出し成形する時に、その押し出し強度
を若干強めに設定することによって連結部分5a,5b
に、意図的に生じさせることが可能である。貫通クラッ
クは、例えば、幅100nm〜1.5μm程度、長さ5
00nm〜5μm程度の、不定形且つ不規則な形状で連
結部分5a,5bに形成される。なお、半田流通路7
a,7bは、凸部13a,13bの縁部に沿って、チッ
プ接続部の周辺部近傍に環状に形成しても良い。また、
チップ接続部の周辺部近傍において、凸部13a,13
bの縁部に沿って間欠的に形成しても良い。
The fine solder flow paths 7a, 7b can be formed by fine through cracks in the connecting portions 5a, 5b. The fine through cracks are caused, for example, by the protrusions 13.
When the extrusion parts a and 13b are extruded, the connection parts 5a and 5b are set by setting the extrusion strength slightly higher.
Can be intentionally generated. For example, the through crack has a width of about 100 nm to 1.5 μm and a length of 5 μm.
The connection portions 5a and 5b are formed in an irregular and irregular shape of about 00 nm to 5 μm. The solder flow path 7
a and 7b may be formed in an annular shape near the periphery of the chip connection portion along the edges of the protrusions 13a and 13b. Also,
In the vicinity of the peripheral portion of the chip connection portion, the convex portions 13a, 13
It may be formed intermittently along the edge of b.

【0030】ダイオードチップ51の第1の主電極(ア
ノード電極)52及び第2の主電極(カソード電極)5
3は、それぞれ半田41を介して第1のリード端子1と
第2のリード端子3の凸部13a,13bに固着されて
いる。この結果、第1のリード端子1と第2のリード端
子3は、それぞれダイオードチップ51のアノード電極
端子とカソード電極端子として機能する。
The first main electrode (anode electrode) 52 and the second main electrode (cathode electrode) 5 of the diode chip 51
Numerals 3 are fixed to the projections 13a and 13b of the first lead terminal 1 and the second lead terminal 3 via solder 41, respectively. As a result, the first lead terminal 1 and the second lead terminal 3 function as an anode electrode terminal and a cathode electrode terminal of the diode chip 51, respectively.

【0031】以上のように、本発明の第1の実施の形態
に係る半導体装置では、第1及び第2のチップ接続部3
2a,32bにおいて、それぞれ連結部分5a,5bに
第1の半田流通路7a及び第2の半田流通路7bが設け
られているため、ダイオードチップ51と凸部13a,
13bとの間の余分な半田41はこの半田流通路7a,
7bを通じて第1及び第2のチップ接続部32a,32
bの裏面側の凹部43側へ流れ込む。
As described above, in the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, the first and second chip connecting portions 3 are provided.
In 2a and 32b, since the first solder flow path 7a and the second solder flow path 7b are provided in the connection portions 5a and 5b, respectively, the diode chip 51 and the protrusions 13a and
The excess solder 41 between the solder flow path 13a and the solder flow path 7a,
7b, the first and second chip connecting portions 32a, 32
b flows into the concave portion 43 on the back surface side.

【0032】このため、第1及び第2の主電極52,5
3と第1及び第2のチップ接続部32a,32bの凸部
13a,13bとの間に供給する半田量を比較的多くし
ても、半田41がダイオードチップ51の側面に周り込
んで付着したり、余分な半田41が飛散してチップやそ
の周辺に付着することがない。従って、余分な半田や飛
散した半田による短絡や半導体装置の特性低下、また生
産工程に不具合をもたらすことなどが防止される。ま
た、半田41の供給量を比較的多くすることができるの
で、半田付けの接着強度を十分に得ることができる。こ
れらのことは、半田供給量が多少多くてもまったく問題
が生じないことを意味しており、半田供給量のコントロ
ールが容易になる。
For this reason, the first and second main electrodes 52, 5
Even when the amount of solder supplied between the third and the first and second chip connecting portions 32a and 32b is relatively large, the solder 41 wraps around and adheres to the side surface of the diode chip 51. No extra solder 41 is scattered and attached to the chip and its surroundings. Therefore, a short circuit due to excess solder or scattered solder, a deterioration in the characteristics of the semiconductor device, and a problem in the production process are prevented. Further, since the supply amount of the solder 41 can be made relatively large, it is possible to sufficiently obtain the bonding strength of soldering. These facts indicate that no problem occurs at all even if the amount of supplied solder is somewhat large, and it becomes easy to control the amount of supplied solder.

【0033】上記説明においては、第1の主電極52を
アノード電極、第2の主電極53をカソード電極とし
て、説明したが、これは単なる定義上の選択にすぎず、
第1の主電極52をカソード電極、第2の主電極53を
アノード電極としても、本発明の技術的思想に何ら影響
を与えるものではない。
In the above description, the first main electrode 52 is described as an anode electrode and the second main electrode 53 is described as a cathode electrode. However, this is only a selection by definition.
Even if the first main electrode 52 is a cathode electrode and the second main electrode 53 is an anode electrode, the technical idea of the present invention is not affected at all.

【0034】(第2の実施の形態)図3に示すように、
本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置(電力用ダ
イオード)は、半導体素子51を第1のリード端子61
と第2のリード端子63とで挟持している。しかし、第
2のリード端子63の構造が、本発明の第1の実施の形
態とは異なる。半導体素子としてのダイオードチップ5
1は、本発明の第1の実施の形態と同様に、半導体チッ
プの第1の主表面の全面に形成された第1の主電極(ア
ノード電極)52及び第2の主表面の全面に形成された
第2の主電極(カソード電極)53とを有するpn接合
形のダイオードチップである。
(Second Embodiment) As shown in FIG.
In the semiconductor device (power diode) according to the second embodiment of the present invention, the semiconductor element 51 is connected to the first lead terminal 61.
And the second lead terminal 63. However, the structure of the second lead terminal 63 is different from that of the first embodiment of the present invention. Diode chip 5 as semiconductor element
Reference numeral 1 denotes a first main electrode (anode electrode) 52 formed on the entire surface of the first main surface of the semiconductor chip and an entire surface of the second main surface as in the first embodiment of the present invention. And a second main electrode (cathode electrode) 53.

【0035】第1のリード端子61は、第1のチップ接
続部85と、第1のチップ接続部85に接続された第1
のインナーリード86と、第1のインナーリード86に
連続した第1のアウターリード87とを有する。一方、
第2のリード端子63は、第2のチップ接続部としての
連結導体65と、この連結導体65に接続された第2の
インナーリード81と第2のインナーリード81に連続
した第2のアウターリード83とを有する。第1のチッ
プ接続部85は、第1の実施の形態とは異なり、平面形
状であり、半田流通路を有しない。一方、第2のチップ
接続部としての連結導体65は、半田流通路93を有す
る。第1の主電極52と第1のチップ接続部85との
間、第2の主電極53と連結導体65との間、及び半田
流通路93の内部には、それぞれ半田41が挿入されて
いる。
The first lead terminal 61 is connected to a first chip connecting portion 85 and a first chip connecting portion 85 connected to the first chip connecting portion 85.
, And a first outer lead 87 continuous with the first inner lead 86. on the other hand,
The second lead terminal 63 includes a connection conductor 65 as a second chip connection portion, a second inner lead 81 connected to the connection conductor 65, and a second outer lead connected to the second inner lead 81. 83. Unlike the first embodiment, the first chip connecting portion 85 has a planar shape and has no solder flow passage. On the other hand, the connection conductor 65 as the second chip connection portion has a solder flow passage 93. The solder 41 is inserted between the first main electrode 52 and the first chip connecting portion 85, between the second main electrode 53 and the connecting conductor 65, and inside the solder flow passage 93, respectively. .

【0036】そして、半導体素子51、第1のチップ接
続部85、第1のインナーリード86、連結導体65、
第2のインナーリード81、及び第2のインナーリード
81は、周知のトランスファモールド方法によって樹脂
封止体55により封止されている。
Then, the semiconductor element 51, the first chip connecting portion 85, the first inner lead 86, the connecting conductor 65,
The second inner lead 81 and the second inner lead 81 are sealed with the resin sealing body 55 by a known transfer molding method.

【0037】第1のリード端子61と第2のリード端子
63は、いずれも金属板材、例えばアルミニウム(A
l)、銅(Cu)、銅合金、ニッケル・鉄(Ni−F
e)合金等の金属、或いはこれらの金属にニッケル(N
i)メッキや金(Au)メッキ等を施したものなどから
構成されている。
Both the first lead terminal 61 and the second lead terminal 63 are made of a metal plate, for example, aluminum (A
l), copper (Cu), copper alloy, nickel / iron (Ni-F
e) Metals such as alloys, or nickel (N
i) It is made of a plated or gold (Au) plated material.

【0038】図4に示すように、連結導体(第2のチッ
プ接続部)65は、第1の幅広部分71、第1の幅広部
分71に連続した幅狭部分77、及び幅狭部分77に連
続した第2の幅広部分79とからなる。幅狭部分77
は、折り曲げ加工が良好に行えるように、第1の幅広部
分73よりも幅の狭い帯状部分として形成されている。
第2の幅広部分79は、第2のリード端子63に半田付
けされる部分として機能する。連結導体65は、アルミ
ニウム(Al)、銅(Cu)、銅合金、ニッケル・鉄合
金等の金属、或いはこれらの金属にニッケル(Ni)メ
ッキや金(Au)メッキ等を施したものなどから構成さ
れていることは勿論である。
As shown in FIG. 4, the connecting conductor (second chip connecting portion) 65 includes a first wide portion 71, a narrow portion 77 continuous with the first wide portion 71, and a narrow portion 77. It comprises a continuous second wide portion 79. Narrow part 77
Is formed as a band-shaped portion having a width smaller than that of the first wide portion 73 so that the bending process can be performed well.
The second wide portion 79 functions as a portion to be soldered to the second lead terminal 63. The connection conductor 65 is made of a metal such as aluminum (Al), copper (Cu), a copper alloy, a nickel / iron alloy, or a metal obtained by plating these metals with nickel (Ni) or gold (Au). Needless to say, this is done.

【0039】こうして、連結導体65の第2の幅広部分
79において、第2のインナーリード81の幅広部分
に、半田41で接続されている。第2のインナーリード
81のの幅広部分は、連結導体65の第2の幅広部分7
9とほぼ同じ形状である。そして、第2のインナーリー
ド81は、更に、この幅広部分に連続した幅狭部分を有
する。そして、第2のアウターリード83は、第2のイ
ンナーリード81の幅狭部分に連続した幅狭部分と、こ
の幅狭部分に連続した幅広部分とからなる。
In this manner, the solder 41 is connected to the wide portion of the second inner lead 81 at the second wide portion 79 of the connecting conductor 65. The wide portion of the second inner lead 81 is connected to the second wide portion 7 of the connecting conductor 65.
9 has almost the same shape. The second inner lead 81 further has a narrow portion continuous with the wide portion. The second outer lead 83 includes a narrow portion continuous with the narrow portion of the second inner lead 81, and a wide portion continuous with the narrow portion.

【0040】一方、第1のインナーリード86は、第1
のチップ接続部85の幅狭部分に連続した羽状部分と、
羽状部分に連続した幅狭部分とからなる。そして、第1
のアウターリード87は、第1のインナーリード86の
幅狭部分に連続した幅狭部分と、この幅狭部分に連続し
た幅広部分とからなる。
On the other hand, the first inner lead 86 is
A wing portion continuous with the narrow portion of the chip connecting portion 85 of
It consists of a narrow portion that is continuous with the wing portion. And the first
The outer lead 87 includes a narrow portion continuous with the narrow portion of the first inner lead 86, and a wide portion continuous with the narrow portion.

【0041】そして、組み立て工程完了時においては、
第1のリード端子61は、図3に示すように、樹脂封止
体55の内部に配置される第1のインナーリード86、
樹脂封止体55の左側面から導出され、左側面に沿って
底面に導かれ、樹脂封止体55の底面の下方に折り曲げ
られた第1のアウターリード87とから構成されてい
る。一方、第2のリード端子63は、樹脂封止体55の
内部に配置される連結導体65及び第2のインナーリー
ド81、樹脂封止体55の右側面から導出され、右側面
に沿って底面に導かれ、樹脂封止体55の底面の下方に
折り曲げられた第2のアウターリード83とから構成さ
れている。
When the assembly process is completed,
As shown in FIG. 3, the first lead terminal 61 includes a first inner lead 86 disposed inside the resin sealing body 55,
The first outer leads 87 are led out from the left side surface of the resin sealing body 55, guided to the bottom surface along the left side surface, and bent below the bottom surface of the resin sealing body 55. On the other hand, the second lead terminal 63 is led out from the connection conductor 65 and the second inner lead 81 disposed inside the resin sealing body 55 and the right side of the resin sealing body 55, and extends along the right side surface. And a second outer lead 83 bent downward below the bottom surface of the resin sealing body 55.

【0042】第2のチップ接続部(連結導体)65の第
1の幅広部分71は、ダイオードチップ51の第2の主
電極53が半田41により接合される領域として機能す
る。このため、図3に示すように、第1の幅広部分71
の中央部には、半田付けされる面がダイオードチップ5
1側へ突出した凸部71が形成され、対応する裏面側に
は凹部95が形成されている。一方、図3に示すよう
に、第1のアウターリード87及び第2のアウターリー
ド83の端部である第2の幅広部分は、樹脂封止体55
の底面に配置されており、電力用ダイオードをプリント
基板の電極などに半田付けするための半田付け用電極と
して機能する。
The first wide portion 71 of the second chip connecting portion (connection conductor) 65 functions as a region where the second main electrode 53 of the diode chip 51 is joined by the solder 41. For this reason, as shown in FIG.
The surface to be soldered is the diode chip 5
A convex portion 71 protruding toward one side is formed, and a concave portion 95 is formed on the corresponding rear surface side. On the other hand, as shown in FIG. 3, the second wide portions that are the ends of the first outer lead 87 and the second outer lead 83 are
And functions as a soldering electrode for soldering the power diode to an electrode or the like of a printed circuit board.

【0043】第1のインナーリード86及び第2のイン
ナーリード81は、それぞれ折り曲げ加工が良好に行え
るように、幅の狭い帯状部分として幅狭部分を有してい
る。第1のアウターリード87及び第2のアウターリー
ド83を構成する幅狭部分は、樹脂封止体55の側面か
ら垂直方向に導出された後、樹脂封止体55の側面に沿
うように直角に折り曲げられ、更に、樹脂封止体55の
底面に沿うように直角に折り曲げられている。
Each of the first inner lead 86 and the second inner lead 81 has a narrow portion as a narrow band portion so that bending can be performed well. The narrow portions forming the first outer lead 87 and the second outer lead 83 are vertically led out from the side surface of the resin sealing body 55, and then perpendicularly extend along the side surface of the resin sealing body 55. It is bent and further bent at a right angle along the bottom surface of the resin sealing body 55.

【0044】連結導体(第2のチップ接続部)65の第
1の幅広部分71の接合面(表面)に設けられた凸部7
1は、対応する第1の幅広部分71の裏面の中央領域に
凹部95を設けることによって相対的に形成されたもの
である。即ち、第1の幅広部分71の中央領域を一方の
主面(裏面)側から、他方の主面(表面)側へ押圧する
ことによって、第1の幅広部分71の中央領域を部分的
に他方の主面へ突出させて形成している。連結導体(第
2のチップ接続部)65において、第1の幅広部分71
の周辺領域と凸部71との連結部分(境界部分)91
は、図3に示すように、肉厚が部分的に薄くなってい
る。この連結部分91に一方の主面側から他方の主面側
へ、微細な貫通孔が設けられ半田流通路93を構成して
いる。半田流通路93は、連結部分91を厚み方向に横
切っている。このため、半導体装置の組み立て工程(ア
センブル工程)時には、毛細管現象によりダイオードチ
ップ51を固着する半田41の吸い上げが可能となって
いる。この結果、凹部95内側にはダイオードチップ5
1を固着する半田41の一部が半田流通路93を通じて
侵入している。
The convex portion 7 provided on the joint surface (front surface) of the first wide portion 71 of the connecting conductor (second chip connecting portion) 65
1 is relatively formed by providing a concave portion 95 in the central region on the back surface of the corresponding first wide portion 71. That is, by pressing the central region of the first wide portion 71 from one main surface (back surface) side to the other main surface (front surface) side, the central region of the first wide portion 71 is partially pressed to the other side. Are formed so as to protrude from the main surface. In the connecting conductor (second chip connecting portion) 65, the first wide portion 71
(Boundary portion) 91 between the peripheral region of the lens and the convex portion 71
Has a partially reduced thickness as shown in FIG. A fine through hole is provided in the connecting portion 91 from one main surface side to the other main surface side to form a solder flow passage 93. The solder flow passage 93 crosses the connecting portion 91 in the thickness direction. Therefore, at the time of assembling (assembling) the semiconductor device, it is possible to suck up the solder 41 for fixing the diode chip 51 by capillary action. As a result, the diode chip 5 is
A part of the solder 41 for fixing 1 is invading through the solder flow passage 93.

【0045】この微細な半田流通路93は、連結部分9
1の微細な貫通クラックで構成することができる。この
微細な貫通クラックは、例えば凸部71を押し出し成形
する時に、その押し出し強度を若干強めに設定すること
によって連結部分91に、意図的に生じさせることが可
能である。なお、半田流通路93は、凸部71の縁部に
沿って、チップ接続部の周辺部近傍に環状に形成しても
良い。また、チップ接続部の周辺部近傍において、凸部
71の縁部に沿って間欠的に形成しても良い。
The fine solder flow passage 93 is connected to the connecting portion 9.
It can be composed of one minute through crack. For example, when extruding the convex portion 71, the minute through crack can be intentionally generated in the connecting portion 91 by setting the extruding strength to be slightly higher. Note that the solder flow passage 93 may be formed in an annular shape in the vicinity of the peripheral portion of the chip connection portion along the edge of the projection 71. In addition, it may be formed intermittently in the vicinity of the periphery of the chip connection portion along the edge of the projection 71.

【0046】ダイオードチップ51の第1の主電極(ア
ノード電極)52及び第2の主電極(カソード電極)5
3は、それぞれ半田を介して第1のリード端子61と第
2のリード端子63に固着されている。この結果、第1
のリード端子61と第2のリード端子63は、それぞれ
ダイオードチップ51のアノード電極端子とカソード電
極端子として機能する。
The first main electrode (anode electrode) 52 and the second main electrode (cathode electrode) 5 of the diode chip 51
Reference numerals 3 are respectively fixed to the first lead terminal 61 and the second lead terminal 63 via solder. As a result, the first
Lead terminal 61 and second lead terminal 63 function as an anode electrode terminal and a cathode electrode terminal of diode chip 51, respectively.

【0047】以上のように、本発明の第2の実施の形態
に係る半導体装置においても、連結導体(第2のチップ
接続部)65において、第1の幅広部分71の連結部分
91に半田流通路93が設けられているため、ダイオー
ドチップ51と凸部71との間の余分な半田41はこの
半田流通路93を通じて連結導体(第2のチップ接続
部)65の裏面側の凹部95側へ流れ込む。
As described above, also in the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention, in the connection conductor (second chip connection portion) 65, the solder flows to the connection portion 91 of the first wide portion 71. Since the path 93 is provided, the excess solder 41 between the diode chip 51 and the convex part 71 passes through the solder flow path 93 to the concave part 95 side of the back surface side of the connecting conductor (second chip connecting part) 65. Flow in.

【0048】このため、ダイオードチップ51と連結導
体(第2のチップ接続部)65の凸部71との間に供給
する半田量を比較的多くしても、半田41がダイオード
チップ51の側面に周り込んで付着したり、余分な半田
41が飛散してチップやその周辺に付着することがな
い。従って、余分な半田や飛散した半田による短絡や半
導体装置の特性低下、また生産工程に不具合をもたらす
ことなどが防止される。また、半田41の供給量を比較
的多くすることができるので、半田付けの接着強度を十
分に得ることができる。これらのことは、半田供給量が
多少多くてもまったく問題が生じないことを意味してお
り、半田供給量のコントロールが容易になる。
For this reason, even if the amount of solder supplied between the diode chip 51 and the projection 71 of the connection conductor (second chip connecting portion) 65 is relatively large, the solder 41 remains on the side surface of the diode chip 51. It does not come around and adhere, or the extra solder 41 scatters and adheres to the chip and its periphery. Therefore, a short circuit due to excess solder or scattered solder, a deterioration in the characteristics of the semiconductor device, and a problem in the production process are prevented. Further, since the supply amount of the solder 41 can be made relatively large, it is possible to sufficiently obtain the bonding strength of soldering. These facts indicate that no problem occurs at all even if the amount of supplied solder is somewhat large, and it becomes easy to control the amount of supplied solder.

【0049】本発明の第2の実施の形態に係る半導体装
置においては、第1のリード端子61は、平面形状の第
1のチップ接続部85を有してした場合で説明した。し
かし、本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の第
1のリード端子と同様な、半導体素子接合側に突出した
凸部を設け、この凸部の周辺に、貫通孔からなる半田流
通路を設ければより好ましいことは明らかである。こう
すれば、余分な半田は、半導体素子接合面の反対の面に
半田流通路を通して流れるため、多少半田供給量が多少
多くても、確実に半導体素子を接合すると共に、不要な
半田の半導体素子への付着や飛散を防止することができ
る。
In the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention, the case where the first lead terminal 61 has the first chip connecting portion 85 having a planar shape has been described. However, similar to the first lead terminal of the semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, a protrusion protruding on the semiconductor element bonding side is provided, and around this protrusion, a solder flow formed by a through hole is provided. Obviously, it is more preferable to provide a road. In this way, since the excess solder flows through the solder flow path on the surface opposite to the semiconductor element bonding surface, even if the amount of supplied solder is somewhat large, the semiconductor element can be securely bonded and unnecessary solder semiconductor elements can be formed. It is possible to prevent adhesion and scattering to the object.

【0050】更に、上記の本発明の第2の実施の形態に
係る半導体装置の説明においては、第1の主電極52を
アノード電極、第2の主電極53をカソード電極として
説明したが、これは単なる定義上の選択にすぎない。従
って、第1の主電極52をカソード電極、第2の主電極
53をアノード電極としてもよい。また、第1の主電極
52と第1のチップ接続部85との間、及び第2の主電
極53と連結導体65との間を半田で接続する構成を示
したが、これは例示である。即ち、第1のリード端子6
1と第2のリード端子63とを入れ替えて、第1の主電
極52と連結導体65との間、及び第2の主電極53と
第1のチップ接続部85との間を半田で接続する構成で
も良いことは勿論である。
Further, in the above description of the semiconductor device according to the second embodiment of the present invention, the first main electrode 52 is described as the anode electrode and the second main electrode 53 is described as the cathode electrode. Is just a definitional choice. Therefore, the first main electrode 52 may be a cathode electrode, and the second main electrode 53 may be an anode electrode. Further, the configuration in which the first main electrode 52 and the first chip connection portion 85 and the second main electrode 53 and the connection conductor 65 are connected by solder has been described, but this is an example. . That is, the first lead terminal 6
The first and second lead terminals 63 are interchanged, and the first main electrode 52 and the connection conductor 65 and the second main electrode 53 and the first chip connection portion 85 are connected by soldering. Of course, a configuration may be used.

【0051】(その他の実施の形態)以上本発明を適用
した実施の形態を説明したが、上記した実施の形態の開
示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するもの
であると理解すべきではない。以下に説明するその他の
実施の形態の開示から当業者には様々な代替実施の形
態、実施例及び運用形態が明らかとなろう。
(Other Embodiments) The embodiments to which the present invention is applied have been described above. However, it should be understood that the description and drawings constituting a part of the disclosure of the above-mentioned embodiments limit the present invention. should not do. From the disclosure of other embodiments described below, various alternative embodiments, examples, and operation modes will be apparent to those skilled in the art.

【0052】上述した各実施の形態では、リード端子の
少なくとも一方には、半導体素子接合側に突出した凸部
を設けていたが、これに限らず、第1及び第2のリード
端子が、共に例えば平面形状のチップ接続部を有する構
造でもかまわない。平面形状のチップ接続部を有する構
造において、半導体素子を半田付けする場合にも、チッ
プ接続部の少なくとも一方に、微細な貫通孔からなる半
田流通路を設けておけば、既に説明した第1及び第2の
実施の形態と同様に、余分な半田は半導体素子接合面の
反対の面に貫通孔である半田流通路を通して流れるた
め、多少半田供給量が多少多くても、確実に半導体素子
を接合すると共に、不要な半田の半導体素子への付着や
飛散を防止することができる。
In each of the above-described embodiments, at least one of the lead terminals is provided with the protrusion protruding toward the semiconductor element bonding side. However, the present invention is not limited to this. For example, a structure having a planar chip connection portion may be used. In the structure having the planar chip connection portion, even when the semiconductor element is soldered, if at least one of the chip connection portions is provided with a solder flow path composed of a fine through hole, the first and the second described above are provided. As in the second embodiment, the excess solder flows through the solder flow path, which is a through hole, on the surface opposite to the semiconductor element bonding surface, so that the semiconductor element can be securely bonded even if the amount of supplied solder is somewhat large. In addition, unnecessary adhesion and scattering of solder to the semiconductor element can be prevented.

【0053】また、上述した各実施の形態では、リード
端子に設けた半田流通路は、貫通クラックとして形成し
ているが、これに限らず、例えば、放電加工、レーザ加
工、或いはイオンミリング等によりピンホール状の貫通
孔を半田付けされる面から反対側まで開けたものなどで
あっても良い。
In each of the above-described embodiments, the solder flow passage provided in the lead terminal is formed as a through crack. However, the present invention is not limited to this. For example, the solder flow passage may be formed by electric discharge machining, laser machining, ion milling, or the like. A pinhole-shaped through hole may be formed from the surface to be soldered to the opposite side.

【0054】また、半導体素子としては、ダイオードチ
ップの他、パワーMOSFETチップ、パワーBJTチ
ップ、IGBTチップ、パワーSITチップ、GTOサ
イリスタチップ、SIサイリスタチップ等の種々のパワ
ーデバイスチップに適用可能である。これらの3端子デ
バイスにおいては、「制御電極」として、例えば、パワ
ーMOSFET、パワーSIT、IGBT等においては
ゲート電極が更に加わり、パワーBJTにおいてはベー
ス電極が更に加わるが、本発明の趣旨に影響を与えるも
のではない。
The semiconductor element can be applied to various power device chips such as a power MOS FET chip, a power BJT chip, an IGBT chip, a power SIT chip, a GTO thyristor chip, and an SI thyristor chip, in addition to a diode chip. In these three-terminal devices, as a “control electrode”, for example, a gate electrode is further added in a power MOSFET, a power SIT, an IGBT, and the like, and a base electrode is further added in a power BJT. It does not give.

【0055】更に、パワーIC等の集積回路や各種半導
体センサ等の様々な半導体素子であっても適用すること
ができる。
Further, the present invention can be applied to various semiconductor elements such as integrated circuits such as power ICs and various semiconductor sensors.

【0056】更に、樹脂封止の代わりに、例えば缶体に
より封止した半導体装置であっても良い。
Further, a semiconductor device sealed with a can, for example, may be used instead of the resin sealing.

【0057】[0057]

【発明の効果】本発明によれば、パッケージのアセンブ
ル工程において、半田付けを行う際の半田供給量のコン
トロールが容易なリード端子を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a lead terminal which can easily control the amount of supplied solder when soldering in a package assembling process.

【0058】また、本発明によれば、アセンブル工程に
おいて半導体素子をリード端子に接合する際の半田供給
量のコントロールが容易な半導体装置を提供することが
できる。
Further, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor device in which the amount of solder supplied when the semiconductor element is joined to the lead terminal in the assembling step can be easily controlled.

【0059】また、本発明によれば、アセンブル工程に
おいて半田の供給量を比較的多くすることにより、電気
的な接触抵抗が低く、機械的な接着強度の高い半導体装
置を提供することができる。
Further, according to the present invention, it is possible to provide a semiconductor device having low electric contact resistance and high mechanical adhesive strength by relatively increasing the supply amount of solder in the assembling step.

【0060】この結果、オン抵抗が低く、高効率で、し
かも信頼性の高い半導体装置を提供することができる。
As a result, it is possible to provide a semiconductor device having a low on-resistance, high efficiency, and high reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係る半導体装置の
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図2(a)及び(b)は、それぞれ、第1の実
施の形態に係る半導体装置に用いる第1及び第2のリー
ド端子の組み立て工程前の平面図である。
FIGS. 2A and 2B are plan views respectively before an assembling step of first and second lead terminals used in the semiconductor device according to the first embodiment; FIGS.

【図3】本発明の第2の実施の形態に係る半導体装置の
断面図である。
FIG. 3 is a sectional view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】第2の実施の形態に係る半導体装置に用いる連
結導体の組み立て工程前の平面図である。
FIG. 4 is a plan view before a step of assembling a connecting conductor used in a semiconductor device according to a second embodiment;

【図5】従来の半導体装置の断面図である。FIG. 5 is a sectional view of a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、61 第1のリード端子 3、63 第2のリード端子 5a,5b,91 連結部分 7a,7b,93 半田流通路 11a,11b,73 第1の幅広部分 13a,13b,71 凸部 15a,15b 羽状部分 21a,21b 第1の幅狭部分 23a,23b 第2の幅狭部分 25a,25b,77 第2の幅広部分 33a、85 第1のインナーリード 33b、81 第2のインナーリード 35a、87 第1のアウターリード 35b、83 第2のアウターリード 41 半田 43、95 凹部 51 ダイオードチップ 52 第1の主電極 53 第2の主電極 55 樹脂封止体 69 連結導体 77 幅狭部分 1, 61 First lead terminal 3, 63 Second lead terminal 5a, 5b, 91 Connecting portion 7a, 7b, 93 Solder passage 11a, 11b, 73 First wide portion 13a, 13b, 71 Convex portion 15a, 15b Wing portions 21a, 21b First narrow portion 23a, 23b Second narrow portion 25a, 25b, 77 Second wide portion 33a, 85 First inner lead 33b, 81 Second inner lead 35a, 87 First outer lead 35b, 83 Second outer lead 41 Solder 43, 95 Depression 51 Diode chip 52 First main electrode 53 Second main electrode 55 Resin sealing body 69 Connection conductor 77 Narrow portion

Claims (15)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 半導体チップの第1の主表面の全面に形
成された第1の主電極、及び第2の主表面の全面に形成
された第2の主電極とを有する半導体素子を搭載するパ
ッケージに用いられるリード端子であって、 前記第1の主電極に対して、半田付けを行なう第1の幅
広部分であって、該第1の幅広部分の中央部においてチ
ップ接続面を凸とする凸部と、該凸部の周辺となる周辺
領域とからなり、更に、前記凸部と前記周辺領域の連結
部分において、前記チップ接続面からその裏面側へ至
貫通クラックからなる半田流通路を有するチップ接続
部と、 前記チップ接続部に接続されたインナーリードと、 前記インナーリードに連続したアウターリードとを有す
ることを特徴とするリード端子。
1. A semiconductor element having a first main electrode formed over the entire first main surface of a semiconductor chip and a second main electrode formed over the entire second main surface. A lead terminal used for a package, a first wide portion to be soldered to the first main electrode, and a center portion at the center of the first wide portion.
A convex portion having a convex connection surface and a peripheral portion surrounding the convex portion
And a connection between the convex portion and the peripheral region.
In part, the chip connection having a solder flow passage consisting of a through crack extending from the chip bonding surface side to the back side, and the inner leads connected to the chip-connecting portion, and an outer lead which is continuous to said inner leads A lead terminal, comprising:
【請求項2】 前記連結部分は肉厚が他より部分的に薄
くなっていることを特徴とする請求項1記載のリード端
子。
2. The connecting part has a partly thinner wall thickness than others.
Claim 1, wherein the lead terminals, characterized in that are Kuna'.
【請求項3】 前記貫通クラックは、幅100nm〜
1.5μm、長さ500nm〜6μmの不定形且つ不規
則形状であることを特徴とする請求項1又は2記載のリ
ード端子。
3. The through crack has a width of 100 nm or more.
1.5 μm, 500 nm to 6 μm in length, irregular and irregular
The lead terminal according to claim 1, wherein the lead terminal has a regular shape .
【請求項4】 前記半田流通路は、前記連結部分に沿っ
て環状に形成されていることを特徴とする請求項1又は
記載のリード端子。
4. The solder flow passage extends along the connection portion.
Or being formed in a ring shape.
2. The lead terminal according to 2 .
【請求項5】 前記チップ接続部は、前記第1の幅広部
分と、 前記第1の幅広部分に連続した幅狭部分と、 前記幅狭部分に連続した第2の幅広部分とからなり、該
第2の幅広部分において、前記インナーリードと半田に
より接続されていることを特徴とする請求項1乃至4の
いずれか1項記載のリード端子。
5. The chip connecting portion includes the first wide portion, a narrow portion continuous with the first wide portion, and a second wide portion continuous with the narrow portion. The lead terminal according to any one of claims 1 to 4, wherein the second wide portion is connected to the inner lead by soldering.
【請求項6】 前記チップ接続部、前記インナーリー
ド、及び前記アウターリードは連続した一体で形成され
ていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項
記載のリード端子。
6. The lead terminal according to claim 1, wherein the chip connecting portion, the inner lead, and the outer lead are formed continuously and integrally.
【請求項7】 前記チップ接続部は、前記第1の幅広部
分と、該第1の幅広部分に連続した第1の幅狭部分とか
らなり、 前記インナーリードは、前記第1の幅狭部分に連続した
羽状部分と、該羽状部分に連続した第2の幅狭部分とか
らなり、 前記アウターリードは、前記第2の幅狭部分に連続した
第3の幅狭部分と、該第3の幅狭部分に連続した第2の
幅広部分とからなることを特徴とする請求項6記載のリ
ード端子。
7. The chip connecting portion includes the first wide portion and a first narrow portion continuous with the first wide portion, and the inner lead includes the first narrow portion. And a second narrow portion continuous with the wing portion. The outer lead has a third narrow portion continuous with the second narrow portion, and a third narrow portion continuous with the second narrow portion. 7. The lead terminal according to claim 6, comprising a second wide portion which is continuous with the narrow portion of No. 3.
【請求項8】 半導体チップの第1の主表面の全面に形
成された第1の主電極、及び第2の主表面の全面に形成
された第2の主電極とを有する半導体素子と、半田付けを行なう第1の幅広部分を備える 第1のチップ
接続部と、該第1のチップ接続部に連続した第1のイン
ナーリードと、該第1のインナーリードに連続した第1
のアウターリードとを有する第1のリード端子と、半田付けを行なう第2の幅広部分であって、該第2の幅
広部分の中央部においてチップ接続面を凸とする凸部
と、該凸部の周辺となる周辺領域とからなり、更に、前
記凸部と前記周辺領域の連結部分において、前記チップ
接続面側からその裏面側へ至る貫通クラックからなる
田流通路を有する第2のチップ接続部と、該第2のチッ
プ接続部に接続された第2のインナーリードと、該第2
のインナーリードに連続した第2のアウターリードとを
有する第2のリード端子と、 前記第1の主電極と前記第1のチップ接続部との間、前
記第2の主電極と前記第2のチップ接続部との間、及び
前記半田流通路の内部に挿入された半田とを有すること
を特徴とする半導体装置。
8. A semiconductor element having a first main electrode formed on the entire surface of the first main surface of the semiconductor chip and a second main electrode formed on the entire surface of the second main surface, and a solder. A first chip connecting portion provided with a first wide portion for attaching, a first inner lead continuous with the first chip connecting portion, and a first inner lead continuous with the first inner lead.
A first lead terminal having an outer lead, and a second wide portion to be soldered, wherein the second width is
A convex part with a chip connection surface convex at the center of the wide part
And a peripheral area around the convex portion.
In the connecting portion between the convex portion and the peripheral region, the chip
A second chip connecting portion having a solder flow passage formed of a through crack extending from the connection surface side to the back surface side; a second inner lead connected to the second chip connecting portion;
A second lead terminal having a second outer lead continuous with the inner lead, between the first main electrode and the first chip connection portion, and between the second main electrode and the second A semiconductor device having a solder between the chip connecting portion and a solder inserted into the solder flow passage.
【請求項9】 前記連結部分は肉厚が他より部分的に薄
くなっていることを特徴とする請求項8記載の半導体装
置。
9. The connecting portion is partially thinner than the others.
9. The semiconductor device according to claim 8, wherein the thickness of the semiconductor device is reduced.
【請求項10】 前記貫通クラックは、幅100nm〜
1.5μm、長さ500nm〜6μmの不定形且つ不規
則形状であることを特徴とする請求項8又は9記載の半
導体装置。
10. The through crack has a width of 100 nm or more.
1.5 μm, 500 nm to 6 μm in length, irregular and irregular
The semiconductor device according to claim 8, wherein the semiconductor device has a regular shape .
【請求項11】 前記半田流通路は、前記連結部分に沿
って環状に形成されていることを特徴とする請求項8又
は9記載の半導体装置。
11. The solder flow passage extends along the connection portion.
8. Further, characterized in that it is formed annularly I
Is the semiconductor device according to 9 .
【請求項12】 前記第2のチップ接続部は、第1の幅
広部分と、該第1の幅広部分に連続した幅狭部分と、該
幅狭部分に連続した第2の幅広部分とからなり、該第2
の幅広部分において、前記第2のインナーリードと半田
により接続されていることを特徴とする請求項8乃至1
1のいずれか1項記載の半導体装置。
12. The second chip connecting portion includes a first wide portion, a narrow portion continuous with the first wide portion, and a second wide portion continuous with the narrow portion. , The second
2. The wide part of the first lead is connected to the second inner lead by soldering.
2. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項13】 前記第2のチップ接続部、前記第2の
インナーリード、及び前記第2のアウターリードは連続
した一体で形成されていることを特徴とする請求項8乃
至11のいずれか1項記載の半導体装置。
13. The semiconductor device according to claim 8, wherein the second chip connecting portion, the second inner lead, and the second outer lead are formed continuously and integrally. 13. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項14】 前記第2のチップ接続部は、第1の幅
広部分と、該第1の幅広部分に連続した第1の幅狭部分
とからなり、 前記第2のインナーリードは、前記第1の幅狭部分に連
続した羽状部分と、該羽状部分に連続した第2の幅狭部
分とからなり、 前記第2のアウターリードは、前記第2の幅狭部分に連
続した第3の幅狭部分と、該第3の幅狭部分に連続した
第2の幅広部分とからなることを特徴とする請求項13
記載の半導体装置。
14. The second chip connecting part includes a first wide part and a first narrow part continuous with the first wide part, and the second inner lead is formed by the second inner lead. The second outer lead is composed of a wing portion continuous with the narrow portion and a second narrow portion continuous with the wing portion. The second outer lead is a third portion continuous with the second narrow portion. And a second wide portion continuous with the third narrow portion.
13. The semiconductor device according to claim 1.
【請求項15】 前記第2のチップ接続部の裏面側の凹
部には、半田が配置されていることを特徴とする請求項
10乃至14のいずれか1項記載の半導体装置。
15. The semiconductor device according to claim 10, wherein a solder is disposed in a concave portion on the back surface side of said second chip connecting portion.
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