JP3349815B2 - 真空アークデスケール方法 - Google Patents
真空アークデスケール方法Info
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- JP3349815B2 JP3349815B2 JP02066394A JP2066394A JP3349815B2 JP 3349815 B2 JP3349815 B2 JP 3349815B2 JP 02066394 A JP02066394 A JP 02066394A JP 2066394 A JP2066394 A JP 2066394A JP 3349815 B2 JP3349815 B2 JP 3349815B2
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- arc
- cathode
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- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
表面のスケールを除去する真空アークデスケール方法に
関する。
を除去する真空アークデスケール方法においては、被処
理材を陰極とし、被処理材と向かい合う真空アーク電極
を陽極とし、被処理材と真空アーク電極間で真空アーク
を点弧する。この際、陰極となる被処理材上の陰極点が
スケールを求めて動き回り、スケールが優先的に蒸発除
去される。例えば特開平４−１１００８４号公報では真
空度、電極形状、給電方法を制御することにより、デス
ケール処理を行う方法が述べられているが、真空アーク
を点弧した後デスケール処理の終了を検知する手段はな
かった。
スケール処理の終了を検知して、消費電力を節約する真
空アークデスケール方法を提供する。
アークを放電して、金属の表面を処理する真空アークデ
スケール方法において、正極に接続された陽極電極と被
処理材からなる陰極電極との間にアーク電位測定回路を
形成し、アーク電圧の上昇によりデスケール処理の終了
を検知することを特徴とする真空アークデスケール方法
である。
の電流を供給する電流回路があり、電流は直流電源から
供給され、電極を経て真空アークに供給される。さらに
電流は真空アークから陰極（被処理材）上の陰極点によ
り回収され、直流電源に帰る。又真空アーク放電での陰
極点の移動機構は、陰極点から蒸発する蒸気が陰極点か
ら放出される電子によりイオン化される。このイオンが
陰極表面に入射することにより陰極表面を加熱し溶融池
を形成し新たな陰極点を形成する。新たな陰極点は加熱
により溶融池を拡大し成長する。成長した陰極点では電
流密度が低下し加熱が不十分になり最終的には消滅す
る。このプロセスにより個々の陰極点は発生・成長・消
滅を繰り返す。
められるが、デスケール処理を終わって、求めるスケー
ルがなくなると陰極点は被処理材の母材メタル上を動き
回ることとなる。そこでスケール上の陰極点と母材メタ
ル上の陰極点のそれぞれのアーク電位ではデスケール終
了時に電位（Ｖ）上昇による臨界点を示すことが認識さ
れた。従ってデスケール処理の終了を検知して作業基準
とすることができる。
いて１０：陽極電極（アノード）、１１：陰極電極（被
処理材）、１２：スケール、１３：直流電源、１４：電
圧計である。ステンレス銅ＳＵＳ４３０熱延鋼板の真空
アークデスケール処理を行った時のダイヤグラムを図２
に示す。この時の真空アーク放電は次の通りである。 電極距離：１０mm 電流 ：１００Ａ 圧力 ：２×１０-2Torr 温度 ：室温 図２に明らかなようにデスケール処理の終了時にアーク
電圧上昇の臨界点がみられる。
ール処理に用いて、ステンレス鋼ＳＵＳ４３０熱延板の
真空アークデスケーリングを行った時のダイヤグラムを
図３に示す。
る。
圧上昇の臨界点がみられる。
述べたが、被処理材の幅方向に複数の分割陽極電極を配
設し、搬送方向に多段に分割電極を設けるときも、各電
極のアーク電圧を検知することによって、本発明の臨界
点を知ることができる。
圧でアークデスケール処理の終了を検知できるので、オ
ーバーデスケールを防止し、品質向上、高効率化、停止
の自動化を図れる。
Claims (1)
- 【請求項１】 被処理材に真空アークを放電して、金属
の表面を処理する真空アークデスケール方法において、
正極に接続された陽極電極と被処理材からなる陰極電極
との間にアーク電位測定回路を形成し、アーク電圧の上
昇によりデスケール処理の終了を検知することを特徴と
する真空アークデスケール方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02066394A JP3349815B2 (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | 真空アークデスケール方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02066394A JP3349815B2 (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | 真空アークデスケール方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07227615A JPH07227615A (ja) | 1995-08-29 |
| JP3349815B2 true JP3349815B2 (ja) | 2002-11-25 |
Family
ID=12033448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02066394A Expired - Lifetime JP3349815B2 (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | 真空アークデスケール方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3349815B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2509824C1 (ru) * | 2012-07-24 | 2014-03-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина)" | Способ обработки поверхности изделий дуговым разрядом в вакууме |
| CN103116177B (zh) * | 2013-02-06 | 2015-11-18 | 北京邦鑫伟业技术开发有限公司 | 正比计数器清洗装置及清洗方法 |
| RU2724106C1 (ru) * | 2019-03-22 | 2020-06-22 | Федеральное государственное бюджетное учреждение наук Институт проблем машиноведения Российской академии наук (ИПМаш РАН) | Способ дезактивации металлических поверхностей |
-
1994
- 1994-02-17 JP JP02066394A patent/JP3349815B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH07227615A (ja) | 1995-08-29 |
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