JP3350643B2 - Crystalline polypropylene - Google Patents
Crystalline polypropyleneInfo
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- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Blow-Moulding Or Thermoforming Of Plastics Or The Like (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、溶融張力が高く、
成形加工性に優れた結晶性ポリプロピレンに関し、更に
詳しくは、ブロー成形、シート成形に適する結晶性ポリ
プロピレンに関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a high melt tension,
The present invention relates to a crystalline polypropylene having excellent moldability, and more particularly, to a crystalline polypropylene suitable for blow molding and sheet molding.
【0002】[0002]
【従来の技術】シート、ブロー成形等に使用するポリマ
ーは溶融張力の高いことが必要とされ、その為には分子
量分布が広いことが必要とされてきた。そこで従来、溶
融張力の高いポリマーを製造するにはTiCl3 系触媒
を使用してきた。しかしながらTiCl3 系触媒の使用
には一般に活性が低く、また立体規則性が劣ることから
製品の剛性が十分高くないといった問題点がある。そこ
でこれらの問題を解決するため、高活性で、高立体規則
性を持つポリプロピレンを製造できるMgCl2担持型
触媒に関して種々検討が行われてきた。しかし分子量分
布に関してはTiCl3 系触媒と比べ狭く、溶融張力も
十分高くないため成形加工性がよくないという問題点が
ある。したがってブロー、シートといった高い溶融張力
が必要とされる成形方法に対しては、MgCl2 担持型
触媒により製造されるポリマーは最適なポリマー設計の
なされたものではなかった。2. Description of the Related Art Polymers used for sheet, blow molding and the like are required to have a high melt tension, and for that purpose, a wide molecular weight distribution has been required. Therefore, conventionally, a TiCl 3 -based catalyst has been used to produce a polymer having a high melt tension. However, the use of TiCl 3 -based catalysts has problems that the activity is generally low and the rigidity of the product is not sufficiently high due to poor stereoregularity. Therefore, in order to solve these problems, various studies have been made on MgCl 2 -supported catalysts capable of producing polypropylene having high activity and high stereoregularity. However, the molecular weight distribution is narrower than that of the TiCl 3 -based catalyst, and the melt tension is not sufficiently high. Therefore, for a molding method requiring a high melt tension such as blow or sheet, the polymer produced by the MgCl 2 -supported catalyst has not been an optimal polymer design.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は前述の問題点を解決することにあり、高い溶
融張力を示す特定の物性値を有するブロー、シート用に
最適なポリプロピレンを提供するものである。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide an optimum polypropylene for blow and sheet having specific physical properties showing high melt tension. Is what you do.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は高い溶融張力を
持たせるために特定の物性値を有するポリプロピレンを
提供することにより前述の問題点を解決できることを見
い出し、本発明に至った。すなわち、本発明のポリプロ
ピレンは、下記の範囲の物性値を有することを特徴とす
る結晶性ポリプロピレンを提供するものである。The present invention has been found to be able to solve the above-mentioned problems by providing a polypropylene having specific physical properties so as to have a high melt tension. That is, the polypropylene of the present invention provides a crystalline polypropylene characterized by having the following physical property values.
【0005】(1)230℃、2.16kg荷重で測定
したメルトフローレイト(MFR)が、0.1〜100
0g/10min. (2)23℃におけるキシレンへの溶解量(CXS)
が、5.0重量%以下 (3)示差走査型熱量計(DSC)により測定した融解
曲線の主吸熱ピーク温度(Tmp)が、163℃以上 (4)13C−NMRで測定したアイソタクチックペンタ
ッド分率(mmmm)が、96.0以上 (5)GPCで測定したMz/Mnが、20.0以上(1) The melt flow rate (MFR) measured at 230 ° C. under a load of 2.16 kg is 0.1 to 100.
0 g / 10 min. (2) Amount dissolved in xylene at 23 ° C (CXS)
(3) The main endothermic peak temperature (Tmp) of the melting curve measured by a differential scanning calorimeter (DSC) is 163 ° C. or more. (4) Isotacticity measured by 13 C-NMR Pentad fraction (mmmm) is 96.0 or more. (5) Mz / Mn measured by GPC is 20.0 or more.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】本発明結晶性ポリプロピレンのM
FR(メルトフローレイト)は、一般的には0.1〜1
000(g/10min.)の範囲が好ましく、シー
ト、ブロー成形においては0.5〜50(g/10mi
n.)の範囲が好ましく使用できる。MFRが0.1
(g/10min.)未満のときは、一般的に成形時溶
融粘度が高くなり成形機の背圧が高くなり好ましくな
い。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FR (melt flow rate) is generally 0.1 to 1
000 (g / 10 min.), Preferably 0.5 to 50 (g / 10 mi) in sheet and blow molding.
n. ) Can be preferably used. MFR is 0.1
If it is less than (g / 10 min.), The melt viscosity during molding generally increases, and the back pressure of the molding machine increases, which is not preferable.
【0007】また、1000(g/10min)を越え
ると溶融張力が低下し、成形が困難になる。キシレン溶
解量(CXS)は5.0重量%以下の範囲内であるが、
好ましくは2.0重量%以下である。CXSが5重量%
を越えると、成形表面がべたつき商品価値が損われる。On the other hand, if it exceeds 1000 (g / 10 min), the melt tension is reduced, and molding becomes difficult. Although the xylene dissolution amount (CXS) is within a range of 5.0% by weight or less,
Preferably it is 2.0% by weight or less. 5% by weight of CXS
If it exceeds, the molding surface becomes sticky and the commercial value is impaired.
【0008】示差走査型熱量計(DSC)の融解曲線の
主吸熱ピーク温度(Tmp)は163℃以上、好ましく
は164℃以上の範囲である。163℃を下廻るとポリ
プロピレンの特徴である耐熱性が低下して好ましくな
い。また13C−NMRで測定されるアイソタクチックペ
ンタッド分率(mmmm)は96.0wt%以上、好ま
しくは96.5wt%以上の範囲である。アイソタクチ
ックペンタッド分率が96.0未満であると製品の結晶
性が低下し剛性が低下するので好ましくない。The main endothermic peak temperature (Tmp) of the melting curve of the differential scanning calorimeter (DSC) is in the range of 163 ° C. or more, preferably 164 ° C. or more. If the temperature is lower than 163 ° C., heat resistance, which is a characteristic of polypropylene, is undesirably reduced. The isotactic pentad fraction (mmmm) measured by 13 C-NMR is in the range of 96.0 wt% or more, preferably 96.5 wt% or more. If the isotactic pentad fraction is less than 96.0, the crystallinity of the product is lowered and the rigidity is lowered, which is not preferable.
【0009】また、GPCで測定したZ平均分子量とn
平均分子量の比(Mz/Mn)が、20以上が好まし
い。このように規定する根拠は以下のとおりである。従
来、成形加工性をよくするためには分子量分布が広いこ
とが必要といわれており、その指標としてGPCで測定
したQ値(Mw/Mn)を使用している。しかしながら
Q値で表示した場合、必らずしもQ値と成形性が相関し
ない問題があった。The Z-average molecular weight measured by GPC and n
The average molecular weight ratio (Mz / Mn) is preferably 20 or more. The grounds for such a definition are as follows. Conventionally, it is said that a wide molecular weight distribution is required to improve the moldability, and a Q value (Mw / Mn) measured by GPC is used as an index for the distribution. However, there is a problem that the Q value does not necessarily correlate with the moldability when the Q value is displayed.
【0010】本発明は、溶融張力、成形性について検討
した結果、高い溶融張力を持たせるためには高分子量側
への分子量分布の広がりが重要であり、特定のMz/M
n値を有する結晶性ポリプロピレンを使用することによ
り溶融張力が高く成形加工性に優れることが見出され
た。In the present invention, as a result of examining the melt tension and the moldability, it is important that the molecular weight distribution spread to the high molecular weight side in order to give a high melt tension.
It has been found that by using a crystalline polypropylene having an n value, the melt tension is high and the moldability is excellent.
【0011】このMz/Mnが20以下であると相対的
に高分子量成分が足りず、シート、ブロー成形を行った
場合十分な溶融張力が得られず成形加工性が悪くなる。
また本発明の結晶性ポリプロピレンの製造は、本発明が
目的とするポリプロピレンが得られる限りにおいて任意
のものでありうるが、次のような方法が挙げられる。When Mz / Mn is 20 or less, a relatively high molecular weight component is insufficient, and when a sheet or blow molding is performed, a sufficient melt tension cannot be obtained, resulting in poor moldability.
The crystalline polypropylene of the present invention can be produced by any method as long as the desired polypropylene of the present invention can be obtained.
【0012】<オレフィン重合用触媒>本発明に用いる
ことのできる触媒は、成分(A)、成分(B)および成
分(C)を組み合わせてなるものである。ここで「組み
合わせてなる」ということは、成分が挙示のもの(すな
わち、成分(A)、成分(B)および成分(C)のみで
あるということを意味するものではなく、本発明の効果
を損なわない範囲で他の成分が共存することを排除しな
い。<Catalyst for Olefin Polymerization> The catalyst which can be used in the present invention is a combination of the components (A), (B) and (C). Here, “combined” does not mean that the components are only those listed (ie, only the components (A), (B) and (C)), but does not mean that the effects of the present invention can be obtained. Does not exclude coexistence of other components within a range not to impair the above.
【0013】(1)固体触媒成分 成分(A)は、特定の固体成分(成分(A1))および
特定のケイ素化合物(成分(A2))との接触生成物で
ある。このような本発明の成分(A)は、上記必須二成
分以外の合目的的な他の成分共存を排除しない。(1) Solid catalyst component The component (A) is a contact product of a specific solid component (component (A1)) and a specific silicon compound (component (A2)). Such a component (A) of the present invention does not exclude the purposeful coexistence of other components other than the above essential two components.
【0014】成分(A1) 本発明で用いられる固体成分は、チタン、マグネシウム
およびハロゲンを必須成分として含有してなるプロピレ
ンの立体規則性重合用固体成分である。ここで「必須成
分として含有し」ということは、挙示の三成分以外に合
目的的な他元素を含んでいてもよいこと、これらの元素
はそれぞれが合目的的な任意の化合物として存在しても
よいこと、ならびにこれら元素は相互に結合したものと
して存在してもよいことを示すものである。Component (A1) The solid component used in the present invention is a solid component for stereoregular polymerization of propylene containing titanium, magnesium and halogen as essential components. Here, "containing as an essential component" means that besides the three components listed, it may contain other purposeful elements, and each of these elements exists as a purposeful arbitrary compound And that these elements may be present as bonded to each other.
【0015】本発明において使用されるマグネシウム源
となるマグネシウム化合物としては、マグネシウムジハ
ライド、ジアルコキシマグネシウム、アルコキシマグネ
シウムハライド、マグネシウムオキシハライド、ジアル
キルマグネシウム、酸化マグネシウム、水酸化マグネシ
ウム、マグネシウムのカルボン酸塩等が挙げられる。こ
れらの中でもマグネシウムジハライド、ジアルコキシマ
グネシウム等のMg(OR6 )z−pXp(ここで、R
6 は炭化水素基、好ましくは炭素数1〜10程度のもの
であり、Xはハロゲンを示し、pは0≦p≦2であ
る。)で表されるマグネシウム化合物が好ましい。The magnesium compound used as a magnesium source in the present invention includes magnesium dihalide, dialkoxymagnesium, alkoxymagnesium halide, magnesium oxyhalide, dialkylmagnesium, magnesium oxide, magnesium hydroxide, magnesium carboxylate and the like. Is mentioned. Among them, Mg (OR 6 ) z-pXp (here, R
6 is a hydrocarbon group, preferably having about 1 to 10 carbon atoms, X represents a halogen, and p is 0 ≦ p ≦ 2. ) Is preferred.
【0016】またチタン源となるチタン化合物として
は、一般式Ti(OR7 )4 −qXq(ここで、R7 は
炭化水素基、好ましくは炭素数1〜10程度のものであ
り、Xはハロゲンを示し、qは0≦q≦4である。)で
表される化合物が挙げられる。The titanium compound serving as a titanium source is represented by the general formula Ti (OR 7 ) 4 -qXq (where R 7 is a hydrocarbon group, preferably about 1 to 10 carbon atoms, and X is a halogen atom. And q is 0 ≦ q ≦ 4).
【0017】具体例としては、TiCl4 、TiB
r4 、Ti(OC2 H5 )Cl3 、Ti(OC2 H5 )
2 Cl2 、Ti(OC2 H5 )3 Cl、Ti(O−is
o−C3H7 )Cl3 、Ti(O−n−C4 H9 )Cl
3 、Ti(O−n−C4 H9 )2Cl2 、Ti(OC2
H5 )Br3 、Ti(OC2 H5 )(O−n−C
4 H9 ) 2 Cl、Ti(O−n−C4 H9 )3 Cl、T
i(OC6 H5 )Cl3 、Ti(O−iso−C
4 H9 )2 Cl2 、Ti(O−n−C5 H11)Cl3 、
Ti(O−n−C6 H3 )Cl3 、Ti(OC2 H5 )
4 、Ti(O−n−C3 H7 )4、Ti(O−n−C4
H9 )4 、Ti(O−iso−C4 H9 )4 、Ti(O
−n−C6 H13 )4 、Ti(O−n−C8 H17)4 、
Ti(OCH2 CH(C2H5 )C4 H9 )4 等が挙げ
られる。As a specific example, TiClFour, TiB
rFour, Ti (OCTwoHFive) ClThree, Ti (OCTwoHFive)
TwoClTwo, Ti (OCTwoHFive)ThreeCl, Ti (O-is
o-CThreeH7) ClThree, Ti (On-CFourH9) Cl
Three, Ti (On-CFourH9)TwoClTwo, Ti (OCTwo
HFive) BrThree, Ti (OCTwoHFive) (On-C)
FourH9) TwoCl, Ti (On-CFourH9)ThreeCl, T
i (OC6HFive) ClThree, Ti (O-iso-C
FourH9)TwoClTwo, Ti (On-CFiveH11) ClThree,
Ti (On-C6HThree) ClThree, Ti (OCTwoHFive)
Four, Ti (On-CThreeH7)Four, Ti (On-CFour
H9)Four, Ti (O-iso-CFourH9)Four, Ti (O
-N-C6H13)Four, Ti (On-C8H17)Four,
Ti (OCHTwoCH (CTwoHFive) CFourH9)FourEtc.
Can be
【0018】また、TiX′4 (ここで、X′はハロゲ
ンである。)に後述する電子供与体を反応させた分子化
合物をチタン源として用いることもできる。そのような
分子化合物の具体例としては、TiCl4 ・CH3 CO
C2 H5 、TiCl4 ・CH 3 CO2 C2 H5 、TiC
l4 ・C6 H5 NO2 、TiCl4 ・CH3 COCl、
TiCl4 ・C6 H5 COCl、TiCl4 ・C6 H5
CO2 C2 H5 、TiCl4 ・ClCOC2 H5 、Ti
Cl4 ・C4 H4 O等が挙げられる。Further, TiX 'Four(Where X 'is a halogen
It is. ) By reacting with an electron donor described later
The compound can also be used as a titanium source. like that
Specific examples of the molecular compound include TiClFour・ CHThreeCO
CTwoHFive, TiClFour・ CH ThreeCOTwoCTwoHFive, TiC
lFour・ C6HFiveNOTwo, TiClFour・ CHThreeCOCl,
TiClFour・ C6HFiveCOCl, TiClFour・ C6HFive
COTwoCTwoHFive, TiClFour・ ClCOCTwoHFive, Ti
ClFour・ CFourHFourO and the like.
【0019】また、TiCl3 (TiCl4 を水素で還
元したもの、アルミニウム金属で還元したもの、あるい
は有機金属化合物で還元したもの等を含む)、TiBr
3 、Ti(OC2 H5 )Cl2 、TiCl2 、ジシクロ
ペンタジエニルチタニウムジクロライド、シクロペンタ
ジエニルチタニウムトリクロライド等のチタン化合物の
使用も可能である。これらのチタン化合物の中でもTi
Cl4 、Ti(O−n−C4 H9 )4 、Ti(OC2 H
5 )Cl3 が好ましい。TiCl 3 (including those obtained by reducing TiCl 4 with hydrogen, those reduced with aluminum metal, or those reduced with an organometallic compound), TiBr
3, Ti (OC 2 H 5 ) Cl 2, TiCl 2, the use of dicyclopentadienyl titanium dichloride, cyclopentadienyl titanium trichloride titanium compounds such as chloride are also possible. Among these titanium compounds, Ti
Cl 4 , Ti (On-C 4 H 9 ) 4 , Ti (OC 2 H)
5 ) Cl 3 is preferred.
【0020】ハロゲンは、上述のマグネシウムおよび
(または)チタンのハロゲン化合物から供給されるのが
普通であるが、他のハロゲン源、例えばAlCl3 等の
アルミニウムのハロゲン化物やSiCl4 等のケイ素の
ハロゲン化物、PCl3 、PCl5 等のリンのハロゲン
化物、WCl6 等のタングステンのハロゲン化物、MO
Cl5 等のモリブデンのハロゲン化物といった公知のハ
ロゲン化剤から供給することもできる。触媒成分中に含
まれるハロゲンは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素または
これらの混合物であってもよく、特に塩素が好ましい。The halogen is usually supplied from the above-mentioned halides of magnesium and / or titanium, but may be other halogen sources, for example aluminum halides such as AlCl 3 or silicon halides such as SiCl 4. Halide, phosphorus halide such as PCl 3 , PCl 5 , tungsten halide such as WCl 6 , MO
It can be supplied from a known halogenating agent such as a halide of molybdenum such as Cl 5 . The halogen contained in the catalyst component may be fluorine, chlorine, bromine, iodine or a mixture thereof, with chlorine being particularly preferred.
【0021】本発明に用いる固体成分は、上記必須成分
の他にAl(OC2 H5 )3 、Al(O−iso−C3
H7 )3 、Al(OCH3 )2 Cl等のアルミニウム化
合物およびB(OCH3 )3 、B(OC2 H5 )3 、B
(OC6 H5 )3 等のホウ素化合物等や他成分を使用す
ることも可能であり、これらがアルミニウムおよびホウ
素等の成分として固体成分中に残存することは差し支え
ない。The solid components used in the present invention include Al (OC 2 H 5 ) 3 and Al (O-iso-C 3 ) in addition to the above essential components.
H 7 ) 3 , aluminum compounds such as Al (OCH 3 ) 2 Cl, and B (OCH 3 ) 3 , B (OC 2 H 5 ) 3 , B
It is also possible to use a boron compound such as (OC 6 H 5 ) 3 and other components, and these may remain in the solid component as components such as aluminum and boron.
【0022】さらに、この固体成分を製造する場合に、
電子供与体を内部ドナーとして使用して製造することも
できる。この固体成分の製造に利用できる電子供与体
(内部ドナー)としては、アルコール類、フェノール
類、ケトン類、アルデヒド類、カルボン酸類、有機酸ま
たは無機酸類のエステル類、エーテル類、酸アミド類、
酸無水物類のような含酸素電子供与体、アンモニア、ア
ミン、ニトリル、イソシアネートのような含窒素電子供
与体などを例示することができる。Further, when producing this solid component,
It can also be prepared using an electron donor as an internal donor. Electron donors (internal donors) that can be used in the production of this solid component include alcohols, phenols, ketones, aldehydes, carboxylic acids, esters of organic or inorganic acids, ethers, acid amides,
Examples thereof include oxygen-containing electron donors such as acid anhydrides, and nitrogen-containing electron donors such as ammonia, amine, nitrile, and isocyanate.
【0023】より具体的には、(イ)メタノール、エタ
ノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘ
キサノール、オクタノール、ドデカノール、オクタデシ
ルアルコール、ベンジルアルコール、フェニルエチルア
ルコール、イソプロピルベンジルアルコールなどの炭素
数1〜18のアルコール類、(ロ)フェノール、クレゾ
ール、キシレノール、エチルフェノール、プロピルフェ
ノール、イソプロピルフェノール、ノニルフェノール、
ナフトールなどのアルキル基を有してよい炭素数6〜2
5のフェノール類、(ハ)アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾ
フェノンなどの炭素数3〜15のケトン類、(ニ)アセ
トアルデヒド、プロピオンアルデヒド、オクチルアルデ
ヒド、ベンズアルデヒド、トルアルデヒドナーフトアル
デヒドナーどの炭素数2〜15のアルデヒド類、(ホ)
ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ビニル、酢
酸プロピル、酢酸オクチル、酢酸シクロヘキシル、酢酸
セロソルブ、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、吉草酸
エチル、ステアリン酸エチル、クロル酢酸メチル、ジク
ロル酢酸エチル、メタクリル酸メチル、クロトン酸エチ
ル、シクロヘキサンカルボン酸エチル、安息香酸メチ
ル、安息香酸エチル、安息香酸プロピル、安息香酸ブチ
ル、安息香酸オクチル、安息香酸シクロヘキシル、安息
香酸フェニル、安息香酸ベンジル、安息香酸セロソル
ブ、トルイル酸メチル、トルイル酸エチル、トルイル酸
アミル、エチル安息香酸エチル、アニス酸メチル、アニ
ス酸エチル、エトキシ安息香酸エチル、γ−ブチロラク
トン、α−バレロラクトン、クマリン、フタリドナーど
の有機酸モノエステル、または、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジへプチル、コハク酸ジエチ
ル、マレイン酸ジブチル、1,2−シクロヘキサンカル
ボン酸ジエチル、炭酸エチレン、ノルボルナンジエニル
−1,2−ジメチルカルボキシラ−ト、シクロプロパン
−1,2−ジカルボン酸−n−ヘキシル、1,1−シク
ロブタンジカルボン酸ジエチルなどの有機酸多価エステ
ルの炭素数2〜20の有機酸エステル類、(ヘ)ケイ酸
エチル、ケイ酸ブチル、フェニルトリエトキシシランな
どのケイ酸エステルのような無機酸エステル類、(ト)
アセチルクロリド、ベンゾイルクロリド、トルイル酸ク
ロリド、アニス酸クロリド、塩化フタロイル、イソ塩化
フタロイルなどの炭素数2〜15の酸ハライド類、
(チ)メチルエーテル、エチルエーテル、イソプロピル
エーテル、ブチルエーテル、アミルエーテル、テトラヒ
ドロフラン、アニソール、ジフェニルエーテルなどの炭
素数2〜20のエーテル類、(リ)酢酸アミド、安息香
酸アミド、トルイル酸アミドナーどの酸アミド類、
(ヌ)メチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、
トリブチルアミン、ピペリジン、トリベンジルアミン、
アニリン、ピリジン、ピコリン、テトラメチルエチレン
ジアミンなどのアミン類、(ル)アセトニトリル、ベン
ゾニトリル、トルニトリルなどのニトリル類、(ヲ)2
−(エトキシメチル)−安息香酸エチル、2−(t−ブ
トキシメチル)−安息香酸エチル、3−エトキシ−2−
フェニルプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン
酸エチル、3−エトキシ−2−S−ブチルプロピオン酸
エチル、3−エトキシ−2−t−ブチルプロピオン酸エ
チルなどのアルコキシエステル化合物類、(ワ)2−ベ
ンゾイル安息香酸エチル、2−(4′−メチルベンゾイ
ル)安息香酸エチル、2−ベンゾイル−4,5−ジメチ
ル安息香酸エチルなどのケトエステル化合物類等を挙げ
ることができる。これらの電子供与体は、二種類以上用
いることができる。これらの中で好ましいのは有機酸エ
ステル化合物および酸ハライド化合物であり、特に好ま
しいのはフタル酸ジエステル化合物、酢酸セロソルブエ
ステル化合物およびフタル酸ジハライド化合物である。More specifically, (a) a compound having 1 to 18 carbon atoms such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, octanol, dodecanol, octadecyl alcohol, benzyl alcohol, phenylethyl alcohol and isopropylbenzyl alcohol; Alcohols, (b) phenol, cresol, xylenol, ethylphenol, propylphenol, isopropylphenol, nonylphenol,
C6 to C2 which may have an alkyl group such as naphthol
5 phenols, (c) ketones having 3 to 15 carbon atoms such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetophenone, benzophenone, etc. Aldehydes having 2 to 15 carbon atoms, (e)
Methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, vinyl acetate, propyl acetate, octyl acetate, cyclohexyl acetate, cellosolve acetate, ethyl propionate, methyl butyrate, ethyl valerate, ethyl stearate, methyl chloroacetate, ethyl dichloroacetate, methyl methacrylate Ethyl crotonate, ethyl cyclohexanecarboxylate, methyl benzoate, ethyl benzoate, propyl benzoate, butyl benzoate, octyl benzoate, cyclohexyl benzoate, phenyl benzoate, benzyl benzoate, cellosolve benzoate, methyl toluate, Ethyl toluate, amyl toluate, ethyl ethyl benzoate, methyl anisate, ethyl anisate, ethyl ethoxy benzoate, γ-butyrolactone, α-valerolactone, coumarin, phthalidone organic acid monoester, Or diethyl phthalate, dibutyl phthalate, diheptyl phthalate, diethyl succinate, dibutyl maleate, diethyl 1,2-cyclohexanecarboxylate, ethylene carbonate, norbornanedienyl-1,2-dimethylcarboxylate, Organic acid esters having 2 to 20 carbon atoms, such as organic acid polyvalent esters such as cyclopropane-1,2-dicarboxylic acid-n-hexyl and diethyl 1,1-cyclobutanedicarboxylate, (f) ethyl silicate, silicic acid Inorganic acid esters such as silicate esters such as butyl and phenyltriethoxysilane;
Acid halides having 2 to 15 carbon atoms such as acetyl chloride, benzoyl chloride, toluic acid chloride, anisic acid chloride, phthaloyl chloride, and phthaloyl isochloride;
(H) ethers having 2 to 20 carbon atoms such as methyl ether, ethyl ether, isopropyl ether, butyl ether, amyl ether, tetrahydrofuran, anisole, diphenyl ether; ,
(Nu) methylamine, ethylamine, diethylamine,
Tributylamine, piperidine, tribenzylamine,
Amines such as aniline, pyridine, picoline, tetramethylethylenediamine, nitriles such as (ル) acetonitrile, benzonitrile, tolunitrile, (ヲ) 2
-(Ethoxymethyl) -ethyl benzoate, 2- (t-butoxymethyl) -ethyl benzoate, 3-ethoxy-2-
Alkoxy ester compounds such as ethyl phenylpropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxy-2-S-butylpropionate and ethyl 3-ethoxy-2-t-butylpropionate; (W) 2-benzoyl Examples thereof include ketoester compounds such as ethyl benzoate, ethyl 2- (4'-methylbenzoyl) benzoate and ethyl 2-benzoyl-4,5-dimethylbenzoate. Two or more of these electron donors can be used. Among these, organic acid ester compounds and acid halide compounds are preferred, and phthalic acid diester compounds, cellosolve acetate compounds and phthalic acid dihalide compounds are particularly preferred.
【0024】成分(A2) 本発明で用いられるケイ素化合物は、一般式R1 R2 S
i(OC2 H5 )2 (ここで、R1 は分岐脂肪族炭化水
素基または環状脂肪族炭化水素基であり、R2はR1 と
同一もしくは異なる炭化水素基またはヘテロ原子含有炭
化水素基である。)で表されるものである。ここで、R
1 が分岐脂肪族炭化水素基である場合は、ケイ素原子に
隣接する炭素原子から分岐しているものが好ましい。そ
の場合の分岐基は、アルキル基、シクロアルキル基また
はアリール基(例えば、フェニル基またはメチル置換フ
ェニル基)であることが好ましい。さらに好ましいR1
は、ケイ素原子に隣接する炭素原子、すなわちα−位炭
素原子が2級または3級の炭素原子であるものである。
とりわけ、ケイ素原子に結合している炭素原子が3級の
ものが好ましい。R1 が分岐炭化水素基である場合の炭
素数は通常3〜20、好ましくは4〜10である。ま
た、R1 が環状脂肪族炭化水素基である場合の炭素数は
通常4〜20、好ましくは5〜10である。R2 はR1
と同一もしくは異なる炭化水素基またはヘテロ原子含有
炭化水素基が好ましく、炭素数が1〜20、好ましくは
1〜10の炭化水素基あるいはヘテロ原子含有炭化水素
基である。本発明で使用できるケイ素化合物の具体例
は、下記の通りである。Component (A2) The silicon compound used in the present invention has the general formula R 1 R 2 S
i (OC 2 H 5 ) 2 (where R 1 is a branched aliphatic hydrocarbon group or a cycloaliphatic hydrocarbon group, and R 2 is the same or different hydrocarbon group or hetero atom-containing hydrocarbon group as R 1) .). Where R
When 1 is a branched aliphatic hydrocarbon group, those branched from a carbon atom adjacent to a silicon atom are preferred. In this case, the branching group is preferably an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group (for example, a phenyl group or a methyl-substituted phenyl group). More preferred R 1
Is a carbon atom adjacent to a silicon atom, that is, the carbon atom at the α-position is a secondary or tertiary carbon atom.
In particular, those having a tertiary carbon atom bonded to a silicon atom are preferred. When R 1 is a branched hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 3 to 20, preferably 4 to 10. When R 1 is a cycloaliphatic hydrocarbon group, the number of carbon atoms is usually 4 to 20, preferably 5 to 10. R 2 is R 1
And the same or different hydrocarbon group or hetero atom-containing hydrocarbon group is preferable, and is a hydrocarbon group having 1 to 20, preferably 1 to 10 carbon atoms or a hetero atom-containing hydrocarbon group. Specific examples of the silicon compound that can be used in the present invention are as follows.
【0025】(tert−C4 H9 )Si(CH3 )
(OC2 H5 )2 、(tert−C4H9 )Si(C2
H5 )(OC2 H5 )2 、(tert−C4 H9 )Si
(n−C3 H7 )(OC2 H5 )2 、(tert−C4
H9 )Si(iso−C3 H7)(OC2 H5 )2 、
(tert−C4 H9 )Si(n−C4 H9 )(OC2
H 5 )2 、(tert−C4 H9 )Si(iso−C4
H9 )(OC2 H5 )2 、(tert−C4 H9 )Si
(sec−C4 H9 )(OC2 H5 )2 、(tert−
C4 H9 )Si(tert−C4 H9 )(OC2 H5 )
2 、(tert−C 4 H9 )Si(n−C5 H11)(O
C2 H5 )2 、(tert−C4 H9 )Si(cycl
o−C5 H9 )(OC2 H5 )2 、(tert−C4 H
9 )Si(n−C6 H13)(OC2 H5 )2 、(ter
t−C4 H9 )Si(cyclo−C 6 H11)(OC2
H5 )2 、(tert−C4 H9 )Si(O−n−C3
H7 )(OC2 H5 )2 、(tert−C4 H9 )Si
(O−iso−C3 H7 )(OC2 H5 )2 、(ter
t−C4 H9 )Si(O−n−C4 H9 )(OC
2 H5)2 、(tert−C4 H9 )Si(O−iso
−C4 H9 )(OC2 H5 )2、(tert−C
4 H9 )Si(O−sec−C4 H9 )(OC2 H5 )
2 、(tert−C4 H9 )Si(O−tert−C4
H9 )(OC2 H5 )2 、(tert−C4 H9 )Si
(O−n−C5 H11)(OC2 H5 )2 、(tert−
C4 H9 )Si(O−cyclo−C5 H9 )(OC2
H5 )2 、(tert−C4 H9 )Si(O−n−C6
H13)(OC2 H5 )2 、(tert−C4 H9)Si
(O−cyclo−C6 H11)(OC2 H5 )2 、(i
so−C3 H7 ) 2 Si(OC2 H5 )2 、(iso−
C4 H9 )2 Si(OC2 H5 )2 、(sec−C4 H
9 )2 Si(OC2 H5 )2 、(neo−C5 H11)2
Si(OC 2 H5 )2 、(cyclo−C5 H9 )2 S
i(OC2 H5 )2 、(cyclo−C6 H11)Si
(CH3 )(OC2 H5 )2 、(cyclo−C
6 H11)Si(C2 H5 )(OC2 H5 )2 、(cyc
lo−C6 H11)Si(n−C4 H9)(OC2 H5 )
2 、(cyclo−C6 H11)Si(cyclo−C5
H9 )(OC2 H5 )2 、(C2 H5 )3 CSi(CH
3 )(OC2 H5 )2 、(C2H5 )3 CSi(C2 H
5 )(OC2 H5 )2 、(C2 H5 )3 CSi(n−C
3 H7 )(OC2 H5 )2 、(C2 H5 )3 CSi(i
so−C3 H7 )(OC 2 H5 )2 、(C2 H5 )3 C
Si(n−C4 H9 )(OC2 H5 )2 、(C2H5 )
3 CSi(iso−C4 H9 )(OC2 H5 )2 、(C
2 H5 )3 CSi(sec−C4 H9 )(OC2 H5 )
2 、(C2 H5 )3 CSi(tert−C 4 H9 )(O
C2 H5 )2 、(C2 H5 )3 CSi(n−C5 H11)
(OC2 H 5 )2 、(C2 H5 )3 CSi(cyclo
−C5 H9 )(OC2 H5 )2 、(C2 H5 )3 CSi
(n−C6 H13)(OC2 H5 )2 、(C2 H5 )3 C
Si(cyclo−C6 H11)(OC2 H5 )2 、H
(CH3 )2 C(CH3 )2 CSi(CH3 )(OC2
H5 )2 、H(CH3 )2 C(CH3 )2 CSi(C2
H5 )(OC2 H5 )2 、H(CH3 )2 C(CH3 )
2 CSi(n−C3 H7)(OC2 H5 )2 、H(CH
3 )2 C(CH3 )2 CSi(iso−C3 H7)(O
C2 H5 )2 、H(CH3 )2 C(CH3 )2 CSi
(n−C4 H9 )(OC2 H5 )2 、(CH3 )2 (C
2 H5 )CSi(CH3 )(OC2 H5 )2、(ter
t−C4 H9 )Si(OC2 H5 )3 (CH3 )2 (C
2 H5 )CSi(OC2 H5 )3 、(CH3 )(C2 H
5 )2 CSi(OC2 H5 )3 、H(CH3 )2 C(C
H3 )2 CSi(OC2 H5 )3 、(ノルボルニル)S
i(CH3 )(OC2 H5 )2 、(ノルボルニル)Si
(OC2 H5 )3 、(アダマンチル)Si(OC
2 H5 )3 、(アダマンチル)Si(CH3 )(OC2
H5 ) 2等を挙げることができる。(Tert-CFourH9) Si (CHThree)
(OCTwoHFive)Two, (Tert-CFourH9) Si (CTwo
HFive) (OCTwoHFive)Two, (Tert-CFourH9) Si
(N-CThreeH7) (OCTwoHFive)Two, (Tert-CFour
H9) Si (iso-C)ThreeH7) (OCTwoHFive)Two,
(Tert-CFourH9) Si (n-CFourH9) (OCTwo
H Five)Two, (Tert-CFourH9) Si (iso-C)Four
H9) (OCTwoHFive)Two, (Tert-CFourH9) Si
(Sec-CFourH9) (OCTwoHFive)Two, (Tert-
CFourH9) Si (tert-CFourH9) (OCTwoHFive)
Two, (Tert-C FourH9) Si (n-CFiveH11) (O
CTwoHFive)Two, (Tert-CFourH9) Si (cycl)
o-CFiveH9) (OCTwoHFive)Two, (Tert-CFourH
9) Si (n-C6H13) (OCTwoHFive)Two, (Ter
t-CFourH9) Si (cyclo-C) 6H11) (OCTwo
HFive)Two, (Tert-CFourH9) Si (On-CThree
H7) (OCTwoHFive)Two, (Tert-CFourH9) Si
(O-iso-CThreeH7) (OCTwoHFive)Two, (Ter
t-CFourH9) Si (On-CFourH9) (OC
TwoHFive)Two, (Tert-CFourH9) Si (O-iso
-CFourH9) (OCTwoHFive)Two, (Tert-C
FourH9) Si (O-sec-CFourH9) (OCTwoHFive)
Two, (Tert-CFourH9) Si (O-tert-CFour
H9) (OCTwoHFive)Two, (Tert-CFourH9) Si
(On-CFiveH11) (OCTwoHFive)Two, (Tert-
CFourH9) Si (O-cyclo-C)FiveH9) (OCTwo
HFive)Two, (Tert-CFourH9) Si (On-C6
H13) (OCTwoHFive)Two, (Tert-CFourH9) Si
(O-cyclo-C6H11) (OCTwoHFive)Two, (I
so-CThreeH7) TwoSi (OCTwoHFive)Two, (Iso-
CFourH9)TwoSi (OCTwoHFive)Two, (Sec-CFourH
9)TwoSi (OCTwoHFive)Two, (Neo-CFiveH11)Two
Si (OC TwoHFive)Two, (Cyclo-CFiveH9)TwoS
i (OCTwoHFive)Two, (Cyclo-C6H11) Si
(CHThree) (OCTwoHFive)Two, (Cyclo-C
6H11) Si (CTwoHFive) (OCTwoHFive)Two, (Cyc
lo-C6H11) Si (n-CFourH9) (OCTwoHFive)
Two, (Cyclo-C6H11) Si (cyclo-C)Five
H9) (OCTwoHFive)Two, (CTwoHFive)ThreeCSi (CH
Three) (OCTwoHFive)Two, (CTwoHFive)ThreeCSi (CTwoH
Five) (OCTwoHFive)Two, (CTwoHFive)ThreeCSi (n-C
ThreeH7) (OCTwoHFive)Two, (CTwoHFive)ThreeCSi (i
so-CThreeH7) (OC TwoHFive)Two, (CTwoHFive)ThreeC
Si (n-CFourH9) (OCTwoHFive)Two, (CTwoHFive)
ThreeCSi (iso-CFourH9) (OCTwoHFive)Two, (C
TwoHFive)ThreeCSi (sec-CFourH9) (OCTwoHFive)
Two, (CTwoHFive)ThreeCSi (tert-C FourH9) (O
CTwoHFive)Two, (CTwoHFive)ThreeCSi (n-CFiveH11)
(OCTwoH Five)Two, (CTwoHFive)ThreeCSi (cyclo
-CFiveH9) (OCTwoHFive)Two, (CTwoHFive)ThreeCSi
(N-C6H13) (OCTwoHFive)Two, (CTwoHFive)ThreeC
Si (cyclo-C6H11) (OCTwoHFive)Two, H
(CHThree)TwoC (CHThree)TwoCSi (CHThree) (OCTwo
HFive)Two, H (CHThree)TwoC (CHThree)TwoCSi (CTwo
HFive) (OCTwoHFive)Two, H (CHThree)TwoC (CHThree)
TwoCSi (n-CThreeH7) (OCTwoHFive)Two, H (CH
Three)TwoC (CHThree)TwoCSi (iso-CThreeH7) (O
CTwoHFive)Two, H (CHThree)TwoC (CHThree)TwoCSi
(N-CFourH9) (OCTwoHFive)Two, (CHThree)Two(C
TwoHFive) CSi (CHThree) (OCTwoHFive)Two, (Ter
t-CFourH9) Si (OCTwoHFive)Three(CHThree)Two(C
TwoHFive) CSi (OCTwoHFive)Three, (CHThree) (CTwoH
Five)TwoCSi (OCTwoHFive)Three, H (CHThree)TwoC (C
HThree)TwoCSi (OCTwoHFive)Three, (Norbornyl) S
i (CHThree) (OCTwoHFive)Two, (Norbornyl) Si
(OCTwoHFive)Three, (Adamantyl) Si (OC
TwoHFive)Three, (Adamantyl) Si (CHThree) (OCTwo
HFive) TwoAnd the like.
【0026】さらに、本発明の成分(A)の製造におい
ては、上記の必須成分の他に必要に応じて任意成分を含
んでなりうることは前記の通りであるが、そのような任
意成分として適当なものとしては以下の化合物を挙げる
ことができる。Further, as described above, in the production of the component (A) of the present invention, an optional component may be contained as necessary in addition to the above-mentioned essential component. Suitable compounds include the following compounds.
【0027】(イ)ビニルシラン化合物 ビニルシラン化合物としては、モノシラン(SiH4 )
中の少なくとも1つの水素原子がビニル基(CH2 =C
H−)に置き換えられ、そして残りの水素原子のいくつ
かが、ハロゲン(好ましくはCl)、アルキル基(好ま
しくは炭素数1〜12の炭化水素基)、アリール基(好
ましくはフェニル)、アルコキシ基(好ましくは炭素数
1〜12のアルコキシ基)、その他で置き換えられた構
造を示すものである。(A) Vinyl silane compound As the vinyl silane compound, monosilane (SiH 4 )
At least one hydrogen atom is a vinyl group (CH 2 CC
H-), and some of the remaining hydrogen atoms are halogen (preferably Cl), alkyl groups (preferably hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms), aryl groups (preferably phenyl), alkoxy groups (Preferably an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms) and a structure substituted with others.
【0028】より具体的には、CH2 =CH−Si
H3 、CH2 =CH−SiH2 (CH3)、CH2 =C
H−SiH(CH3 )2 、CH2 =CH−Si(C2 H
5 )3 、CH2 =CH−Si(CH3 )2 (C
2 H5 )、CH2 =CH−Si(CH3 )(C2 H5 )
2 、CH2 =CH−Si(n−C4 H9 )、CH2 =C
H−Si(C6 H5 )3 、CH2 =CH−Si(C
H3 )(C6 H5 )2 、CH2 =CH−Si(CH3 )
2 (C6 H5 )、CH2 =CH−Si(CH3 )2 (C
6 H4 CH3 )、(CH2 =CH)(CH3 )2 Si−
O−Si(CH3 )2 (CH=CH2 )、(CH2 =C
H)2 SiH2 、(CH2 =CH)2 Si(C
H3 )2 、(CH2 =CH)2 Si(C6 H5 )2 等を
例示することができる。More specifically, CH 2 CHCH—Si
H 3, CH 2 = CH- SiH 2 (CH 3), CH 2 = C
H-SiH (CH 3) 2 , CH 2 = CH-Si (C 2 H
5 ) 3 , CH 2 CHCH—Si (CH 3 ) 2 (C
2 H 5), CH 2 = CH-Si (CH 3) (C 2 H 5)
2, CH 2 = CH-Si (n-C 4 H 9), CH 2 = C
H-Si (C 6 H 5 ) 3, CH 2 = CH-Si (C
H 3) (C 6 H 5 ) 2, CH 2 = CH-Si (CH 3)
2 (C 6 H 5 ), CH 2 CHCH—Si (CH 3 ) 2 (C
6 H 4 CH 3), ( CH 2 = CH) (CH 3) 2 Si-
O-Si (CH 3) 2 (CH = CH 2), (CH 2 = C
H) 2 SiH 2 , (CH 2 CHCH) 2 Si (C
H 3) 2, can be exemplified (CH 2 = CH) 2 Si (C 6 H 5) 2 and the like.
【0029】(ロ)周期律表第I〜III 族金属の有機金
属化合物 周期律表第I族〜第III 族金属の有機金属化合物を使用
することも可能である。本発明で使用する周期律表第I
族〜第III 族金属の有機金属化合物は、少なくとも一つ
の有機基−金属結合を持つ。その場合の有機基として
は、炭素数1〜20程度、好ましくは1〜6程度のヒド
ロカルビル基が代表的である。原子価の少なくとも一つ
が有機基で充足されている有機金属化合物中金属の残り
の原子価(もしそれがあれば)は、水素原子、ハロゲン
原子、ヒドロカルビルオキシ基(ヒドロカルビル基は、
炭素数1〜20程度、好ましくは1〜6程度)、あるい
は酸素原子を介した当該金属(具体的には、メチルアル
モキサンの場合の−O−Al(CH3 )−)その他で充
足される。(B) Organometallic compounds of metals of groups I to III of the periodic table It is also possible to use organometallic compounds of metals of groups I to III of the periodic table. Periodic Table I used in the present invention
The organometallic compounds of Group III-III metals have at least one organic group-metal bond. As the organic group in that case, a hydrocarbyl group having about 1 to 20 carbon atoms, preferably about 1 to 6 carbon atoms is representative. In an organometallic compound where at least one of the valences is filled with an organic group, the remaining valences of the metal (if any) are hydrogen, halogen, hydrocarbyloxy (hydrocarbyl is
Is satisfied by) other - C20 about atoms, preferably (specifically, -O-Al (CH 3 in the case of methyl alumoxane) the metal through the 1-6 degree), or oxygen atom .
【0030】このような有機金属化合物の具体例を挙げ
れば、(イ)メチルリチウム、n−ブチルリチウム、第
三ブチルリチウム等の有機リチウム化合物、(ロ)ブチ
ルエチルマグネシウム、ジブチルマグネシウム、ヘキシ
ルエチルマグネシウム、ブチルマグネシウムクロライ
ド、第三ブチルマグネシウムブローマイド等の有機マグ
ネシウム化合物、(ハ)ジエチル亜鉛、ジブチル亜鉛等
の有機亜鉛化合物、(ニ)トリメチルアルミニウム、ト
リエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、
トリn−ヘキシルアルミニウム、ジエチルアルミニウム
クロライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジエ
チルアルミニウムエトキシド、エチルアルミニウムセス
キクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、メチ
ルアルモキサン等の有機アルミニウム化合物がある。こ
のうちでは、特に有機アルミニウム化合物が好ましい。Specific examples of such organometallic compounds include (a) organolithium compounds such as methyllithium, n-butyllithium, and tert-butyllithium, (b) butylethylmagnesium, dibutylmagnesium, and hexylethylmagnesium. , Butylmagnesium chloride, organic magnesium compounds such as tert-butylmagnesium bromide, (c) organic zinc compounds such as diethyl zinc and dibutyl zinc, (d) trimethylaluminum, triethylaluminum, triisobutylaluminum,
There are organic aluminum compounds such as tri-n-hexylaluminum, diethylaluminum chloride, diethylaluminum hydride, diethylaluminum ethoxide, ethylaluminum sesquichloride, ethylaluminum dichloride and methylalumoxane. Of these, organoaluminum compounds are particularly preferred.
【0031】上記任意成分(イ)および(ロ)は、1種
または2種以上を組み合わせて使用することができる。
これらの任意成分を使用すると、本発明の効果はより大
きくなる。The above optional components (a) and (b) can be used alone or in combination of two or more.
When these optional components are used, the effect of the present invention is further increased.
【0032】成分(A)の製造 成分(A)は、成分(A)を構成する各成分を、または
必要により前記任意成分を段階的にあるいは一時的に相
互に接触させて、その中間および/または最後に有機溶
媒、例えば炭化水素溶媒またはハロゲン化炭化水素溶媒
で洗浄することによって製造することができる。Production of Component (A) Component (A) is prepared by bringing the components constituting component (A) or, if necessary, the above-mentioned optional components into contact with each other in a stepwise or temporary manner to form an intermediate and / or intermediate component. Alternatively, it can be produced by finally washing with an organic solvent such as a hydrocarbon solvent or a halogenated hydrocarbon solvent.
【0033】その場合に、チタン、マグネシウムおよび
ハロゲンを必須成分とする固体生成物を先ず製造し、そ
れを前記一般式のケイ素化合物と接触させる方式(いわ
ば二段法)によることもできるし、チタン、マグネシウ
ムおよびハロゲンを必須成分とする固体生成物をつくる
過程で既にこのケイ素化合物を存在させることによって
一挙に成分(A)を製造する方式(いわば一段法)によ
ることも可能である。好ましい方式は前者である。In this case, a solid product containing titanium, magnesium and halogen as essential components is first produced, and the solid product is brought into contact with a silicon compound of the above general formula (a two-step method). In the process of producing a solid product containing magnesium, halogen and halogen as essential components, it is also possible to employ a method of producing the component (A) at a stroke (in other words, a one-step method) by making the silicon compound already exist. The preferred scheme is the former.
【0034】前記の成分(A)を構成する各成分の接触
条件は、本発明の効果が認められるかぎり任意のもので
ありうるが、一般的には、次の条件が好ましい。接触温
度は、−50〜200℃程度、好ましくは0〜100℃
である。接触方法としては、回転ボールミル、振動ミ
ル、ジェットミル、媒体攪拌粉砕機などによる機械的な
方法、不活性希釈剤の存在下に攪拌により接触させる方
法などがある。このとき使用する不活性希釈剤として
は、脂肪族または芳香族の炭化水素およびハロ炭化水
素、ポリシロキサン等が挙げられる。The conditions for contacting the components constituting the component (A) may be any conditions as long as the effects of the present invention are recognized, but the following conditions are generally preferred. The contact temperature is about −50 to 200 ° C., preferably 0 to 100 ° C.
It is. Examples of the contacting method include a mechanical method using a rotary ball mill, a vibration mill, a jet mill, a medium stirring / pulverizing machine, and a method of bringing into contact by stirring in the presence of an inert diluent. Examples of the inert diluent used at this time include aliphatic or aromatic hydrocarbons and halohydrocarbons, and polysiloxanes.
【0035】成分(A)を構成する各成分使用量の量比
は本発明の効果が認められるかぎり任意のものでありう
るが、一般的には、次の範囲内が好ましい。チタン化合
物の使用量は、使用するマグネシウム化合物の使用量に
対してmol比で0.0001〜1000の範囲内がよ
く、好ましくは0.01〜10の範囲内である。ハロゲ
ン源としてそのための化合物を使用する場合は、その使
用量はチタン化合物および(または)マグネシウム化合
物がハロゲンを含む、含まないにかかわらず、使用する
マグネシウムの使用量に対してmol比で0.01〜1
000の範囲内がよく、好ましくは0.1〜100の範
囲内である。成分(A2)のケイ素化合物の使用量は、
成分(A)を構成するチタン成分に対するケイ素の原子
比(Si/Ti)で0.01〜1000、好ましくは
0.1〜100の範囲内である。The ratio of the amounts of the respective components constituting the component (A) can be arbitrary as long as the effects of the present invention are recognized, but generally, the following ranges are preferable. The amount of the titanium compound used is preferably in the range of 0.0001 to 1000, and more preferably in the range of 0.01 to 10 as a molar ratio to the amount of the magnesium compound used. When a compound for that purpose is used as a halogen source, the amount of the compound used may be 0.01 mol ratio to the amount of magnesium used, regardless of whether the titanium compound and / or the magnesium compound contains halogen or not. ~ 1
000, preferably 0.1 to 100. The amount of the silicon compound used as the component (A2) is
The atomic ratio (Si / Ti) of silicon to the titanium component constituting the component (A) is in the range of 0.01 to 1000, preferably 0.1 to 100.
【0036】ビニルシラン化合物を使用するときのその
使用量は、成分(A)を構成するチタン成分に対するm
ol比で0.001〜1000の範囲内がよく、好まし
くは0.01〜100の範囲内である。アルミニウムお
よびホウ素化合物を使用するときのその使用量は、前記
のマグネシウム化合物の使用量に対してmol比で0.
001〜100の範囲内がよく、好ましくは0.01〜
1の範囲内である。電子供与体を使用するときのその使
用量は、前記のマグネシウム化合物の使用量に対してm
ol比で0.001〜10の範囲内がよく、好ましくは
0.01〜5の範囲内である。When the vinylsilane compound is used, the amount of the vinylsilane compound to be used is m with respect to the titanium component constituting the component (A).
The ol ratio is preferably in the range of 0.001 to 1000, and more preferably 0.01 to 100. When the aluminum and boron compounds are used, the amount of the aluminum compound and the boron compound is 0.1 mol per mol of the above-mentioned magnesium compound.
It is preferably in the range of 001 to 100, preferably 0.01 to 100.
Within the range of 1. When the electron donor is used, the amount used is m with respect to the amount of the magnesium compound.
The ol ratio is preferably in the range of 0.001 to 10, and more preferably in the range of 0.01 to 5.
【0037】成分(A)は、成分(A1)および成分
(A2)の接触により、必要により電子供与体等の他成
分を用いて、例えば以下のような製造方法により製造さ
れる。 (イ)ハロゲン化マグネシウムと必要に応じて電子供与
体、チタン含有化合物、ケイ素化合物およびスルホン酸
エステル化合物を接触させる方法。The component (A) is produced by contacting the component (A1) with the component (A2) and optionally using other components such as an electron donor, for example, by the following production method. (A) A method in which a magnesium halide is brought into contact with an electron donor, a titanium-containing compound, a silicon compound and a sulfonate compound as required.
【0038】(ロ)アルミナまたはマグネシアをハロゲ
ン化リン化合物で処理し、それにハロゲン化マグネシウ
ム、電子供与体、ケイ素化合物、チタンハロゲン含有化
合物およびスルホン酸エステル化合物を接触させる方
法。(B) A method in which alumina or magnesia is treated with a phosphorus halide compound and brought into contact with a magnesium halide, an electron donor, a silicon compound, a titanium halide-containing compound and a sulfonic acid ester compound.
【0039】(ハ)ハロゲン化マグネシウムとチタンテ
トラアルコキシドおよび特定のポリマーケイ素化合物を
接触させて得られる固体成分に、チタンハロゲン化合物
および(または)ケイ素のハロゲン化合物を接触させた
反応生成物を不活性有機溶媒で洗浄後、ケイ素化合物と
スルホン酸エステル化合物を接触させるかまたは、各々
別に接触させる方法。 このポリマーケイ素化合物としては、下式で示されるも
のが適当である。(C) A reaction product obtained by contacting a titanium halide compound and / or a silicon halide compound with a solid component obtained by contacting a magnesium halide with a titanium tetraalkoxide and a specific polymer silicon compound is inert. After washing with an organic solvent, a method of contacting a silicon compound with a sulfonic acid ester compound or separately contacting each other. As the polymer silicon compound, a compound represented by the following formula is suitable.
【0040】[0040]
【化1】 Embedded image
【0041】(ここで、R8 は炭素数1〜10程度の炭
化水素基であり、rはこのポリマーケイ素化合物の粘度
が1〜100cSt程度となるような重合度を示す。)
具体的には、メチルハイドロジェンポリシロキサン、エ
チルハイドロジェンポリシロキサン、フェニルハイドロ
ジェンポリシロキサン、シクロヘキシルハイドロジェン
ポリシロキサン、1,3,5,7−テトラメチルシクロ
テトラシロキサン、1,3,5,7,9−ペンタメチル
シクロペンタシロキサン等が好ましい。(Here, R 8 is a hydrocarbon group having about 1 to 10 carbon atoms, and r represents a degree of polymerization such that the viscosity of the polymer silicon compound is about 1 to 100 cSt.)
Specifically, methyl hydrogen polysiloxane, ethyl hydrogen polysiloxane, phenyl hydrogen polysiloxane, cyclohexyl hydrogen polysiloxane, 1,3,5,7-tetramethylcyclotetrasiloxane, 1,3,5,7 And 9-pentamethylcyclopentasiloxane are preferred.
【0042】(ニ)マグネシウム化合物をチタンテトラ
アルコキシドおよび(または)電子供与体で溶解させ
て、ハロゲン化剤またはチタンハロゲン化合物で析出さ
せた固体成分に、ケイ素化合物、チタン化合物およびス
ルホン酸エステル化合物を接触させるかまたは、各々別
に接触させる方法。(D) A magnesium compound is dissolved with a titanium tetraalkoxide and / or an electron donor, and a silicon compound, a titanium compound and a sulfonic acid ester compound are added to a solid component precipitated with a halogenating agent or a titanium halide compound. A method of contacting or contacting each separately.
【0043】(ホ)グリニャール試薬等の有機マグネシ
ウム化合物をハロゲン化剤、還元剤等と作用させた後、
これに必要に応じて電子供与体を接触させ、次いでケイ
素化合物、チタン化合物およびスルホン酸エステル化合
物を接触させるかまたは、各々別に接触させる方法。(E) After reacting an organomagnesium compound such as a Grignard reagent with a halogenating agent, a reducing agent and the like,
A method in which an electron donor is brought into contact with this, if necessary, and then a silicon compound, a titanium compound and a sulfonic acid ester compound are brought into contact with each other, or they are separately brought into contact with each other.
【0044】(ヘ)アルコキシマグネシウム化合物にハ
ロゲン化剤および(または)チタン化合物、ケイ素化合
物およびスルホン酸エステル化合物を電子供与体の存在
下もしくは不存在下に接触させるかまたは、各々別に接
触させる方法。(F) A method in which a halogenating agent and / or a titanium compound, a silicon compound and a sulfonic acid ester compound are brought into contact with an alkoxymagnesium compound in the presence or absence of an electron donor or separately.
【0045】これらの製造方法の中でも(イ)(ハ)、
(ニ)および(ヘ)が好ましい。成分(A)は、その製
造の中間および(または)最後に不活性有機溶媒、例え
ば脂肪族または芳香族炭化水素溶媒(例えば、ヘキサ
ン、ヘプタン、トルエン、シクロヘキサン等)、あるい
はハロゲン化炭化水素溶媒(例えば、塩化n−ブチル、
1,2−ジクロロエチレン、四塩化炭素クロルベンゼン
等)で洗浄することができる。Among these production methods, (a) and (c)
(D) and (f) are preferred. Component (A) is used during and / or at the end of its preparation in an inert organic solvent, such as an aliphatic or aromatic hydrocarbon solvent (eg hexane, heptane, toluene, cyclohexane, etc.), or a halogenated hydrocarbon solvent ( For example, n-butyl chloride,
(1,2-dichloroethylene, carbon tetrachloride chlorobenzene, etc.).
【0046】成分(A)は、ビニル基含有化合物、例え
ばオレフィン類、ジエン化合物、スチレン類等を接触さ
せて重合させることからなる予備重合工程を経たものと
して使用することもできる。予備重合を行う際に用いら
れるオレフィン類の具体例としては、例えば炭素数2〜
20程度のもの、具体的にはエチレン、プロピレン、1
−ブテン、3−メチルブテン−1、1−ペンテン、1−
ヘキセン、4−メチルペンテン−1、1−オクテン、1
−デセン、1−ウンデセン、1−エイコセン等があり、
ジエン化合物の具体例としては、1,3−ブタジエン、
イソプレン、1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘキサジ
エン、1,3−ペンタジエン、1,4−ペンタジエン、
2,4−ペンタジエン、2,6−オクタジエン、cis
−2,trans−4−ヘキサジエン、trans−
2,trans−4−ヘキサジエン、1,3−ヘプタジ
エン、1,4−ヘプタジエン、1,5−ヘプタジエン、
1,6−ヘプタジエン、2,4−ヘプタジエン、ジシク
ロペンタジエン、1,3−シクロヘキサジエン、1,4
−シクロヘキサジエン、シクロペンタジエン、1,3−
シクロヘプタジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエ
ン、5−メチル−1,4−ヘキサジエン、1,9−デカ
ジエン、1,13−テトラデカジエン、p−ジビニルベ
ンゼン、m−ジビニルベンゼン、O−ジビニルベンゼ
ン、ジシクロペンタジエン等がある。また、スチレン類
の具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ア
リルベンゼン、クロルスチレン等がある。Component (A) can also be used after a prepolymerization step comprising contacting and polymerizing a vinyl group-containing compound such as an olefin, a diene compound, or styrene. Specific examples of the olefins used in performing the prepolymerization include, for example, those having 2 to 2 carbon atoms.
About 20; specifically, ethylene, propylene,
-Butene, 3-methylbutene-1, 1-pentene, 1-
Hexene, 4-methylpentene-1, 1-octene, 1
-Decene, 1-undecene, 1-eicosene and the like,
Specific examples of the diene compound include 1,3-butadiene,
Isoprene, 1,4-hexadiene, 1,5-hexadiene, 1,3-pentadiene, 1,4-pentadiene,
2,4-pentadiene, 2,6-octadiene, cis
-2, trans-4-hexadiene, trans-
2, trans-4-hexadiene, 1,3-heptadiene, 1,4-heptadiene, 1,5-heptadiene,
1,6-heptadiene, 2,4-heptadiene, dicyclopentadiene, 1,3-cyclohexadiene, 1,4
-Cyclohexadiene, cyclopentadiene, 1,3-
Cycloheptadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, 1,9-decadiene, 1,13-tetradecadiene, p-divinylbenzene, m-divinylbenzene, O- Examples include divinylbenzene and dicyclopentadiene. Specific examples of styrenes include styrene, α-methylstyrene, allylbenzene, chlorostyrene, and the like.
【0047】チタン成分と上記のビニル基含有化合物の
反応条件は、任意のものでありうるが、一般的には次の
範囲内が好ましい。ビニル基含有化合物の予備重合量
は、チタン固体成分1gあたり0.001〜100g、
好ましくは0.1〜50g、さらに好ましくは0.5〜
10gの範囲内である。予備重合時の反応温度は−15
0〜150℃、好ましくは0〜100℃である。そし
て、「本重合」、すなわちα−オレフィンを重合すると
きの重合温度よりも低い重合温度が好ましい。反応は、
一般的に攪拌下に行うことが好ましく、そのときn−ヘ
キサン、n−ヘプタン等の不活性溶媒を存在させること
もできる。The reaction conditions of the titanium component and the vinyl group-containing compound may be any conditions, but generally, the following ranges are preferable. The prepolymerization amount of the vinyl group-containing compound is 0.001 to 100 g per 1 g of titanium solid component,
Preferably 0.1 to 50 g, more preferably 0.5 to
It is in the range of 10 g. The reaction temperature during prepolymerization is -15
The temperature is 0 to 150 ° C, preferably 0 to 100 ° C. A polymerization temperature that is lower than the “main polymerization”, that is, the polymerization temperature when the α-olefin is polymerized, is preferable. The reaction is
Generally, it is preferable to perform the reaction with stirring, and at that time, an inert solvent such as n-hexane or n-heptane may be present.
【0048】(2)有機アルミニウム化合物成分 有機アルミニウム化合物成分(成分(B))の具体例と
しては、R9 3 −sAlXsまたはR10 3 −tAl(OR
11)t (ここで、R9 およびR10は炭素数1〜20の炭
化水素基または水素原子であり、R11は炭化水素基であ
り、Xはハロゲンであり、sおよびtはそれぞれ0≦s
<3、0<t<3である。)で表されるものがある。具
体例には、(イ)トリメチルアルミニウム、トリエチル
アルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリ−n
−ヘキシルアルミニウム、トリ−n−オクチルアルミニ
ウム、トリ−n−デシルアルミニウムなどのトリアルキ
ルアルミニウム、(ロ)ジエチルアルミニウムモノクロ
ライド、ジイソブチルアルミニウムモノクロライド、エ
チルアルミニウムセスキクロライド、エチルアルミニウ
ムジクロライドナーどのアルキルアルミニウムハライ
ド、(ハ)ジエチルアルミニウムハイドライド、ジイソ
ブチルアルミニウムハイドライドナーどのアルキルアル
ミニウムハイドライド、(ニ)ジエチルアルミニウムエ
トキシド、ジエチルアルミニウムフェノキシドナーどの
アルキルアルミニウムアルコキシド等が挙げられる。[0048] (2) Specific examples of the organoaluminum compound component an organoaluminum compound component (Component (B)), R 9 3 - s AlX s or R 10 3 - t Al (OR
11 ) t (where R 9 and R 10 are a hydrocarbon group or a hydrogen atom having 1 to 20 carbon atoms, R 11 is a hydrocarbon group, X is a halogen, and s and t are each 0 ≦ s
<3, 0 <t <3. ). Specific examples include (a) trimethylaluminum, triethylaluminum, triisobutylaluminum, tri-n
-Alkyl aluminum halides such as trialkylaluminum such as hexylaluminum, tri-n-octylaluminum, tri-n-decylaluminum, (b) diethylaluminum monochloride, diisobutylaluminum monochloride, ethylaluminum sesquichloride, ethylaluminum dichloride; (C) Alkyl aluminum hydride such as diethyl aluminum hydride, diisobutyl aluminum hydride donor, and (d) alkyl aluminum alkoxide such as diethyl aluminum ethoxide and diethyl aluminum phenoxy donor.
【0049】これら(イ)〜(ニ)の有機アルミニウム
化合物に他の有機金属化合物、例えばR12 3 −uAl
(OR13)u(ここで、R12およびR13は同一または異
なってもよい炭素数1〜20の炭化水素基であり、uは
0<u≦3である。)で表されるアルキルアルミニウム
アルコキシドを併用することもできる。例えば、トリエ
チルアルミニウムとジエチルアルミニウムエトキシドの
併用、ジエチルアルミニウムモノクロライドとジエチル
アルミニウムエトキシドとの併用、エチルアルミニウム
ジクロライドとエチルアルミニウムジエトキシドとの併
用、トリエチルアルミニウムとジエチルアルミニウムエ
トキシドとジエチルアルミニウムモノクロライドとの併
用等が挙げられる。成分(B)の有機アルミニウム化合
物成分と成分(A)の固体触媒成分中のチタン成分との
割合は、Al/Ti=1〜1000mol/molが一
般的であり、好ましくは、Al/Ti=10〜500m
ol/molの割合で使用される。[0049] These (a) to other organometallic compound with an organoaluminum compound (d), for example R 12 3 - u Al
(OR 13 ) u (where R 12 and R 13 are the same or different and are a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and u is 0 <u ≦ 3). Alkoxides can also be used in combination. For example, a combination of triethylaluminum and diethylaluminum ethoxide, a combination of diethylaluminum monochloride and diethylaluminum ethoxide, a combination of ethylaluminum dichloride and ethylaluminum diethoxide, triethylaluminum and diethylaluminum ethoxide and diethylaluminum monochloride And the like. The ratio of the organoaluminum compound component (B) to the titanium component in the solid catalyst component (A) is generally Al / Ti = 1 to 1000 mol / mol, preferably Al / Ti = 10 ~ 500m
ol / mol.
【0050】(3)ケイ素化合物成分 ケイ素化合物成分(C)は、下記の一般式で表されるケ
イ素(3) Silicon compound component The silicon compound component (C) is a silicon compound represented by the following general formula:
【0051】[0051]
【化2】 Embedded image
【0052】化合物が好ましく用いられる。Compounds are preferably used.
【0053】(ここで、R3 は炭素数3〜10でSi原
子に隣接する炭素原子が2級もしくは3級の脂環式又は
分岐鎖状の炭化水素基、R4 は炭素数1〜10、R5 は
炭素数2〜15の脂肪族炭化水素基で、R4 はR5 より
も炭素数が1以上多い。)(Where R 3 is an alicyclic or branched hydrocarbon group having 3 to 10 carbon atoms and a secondary or tertiary carbon atom adjacent to the Si atom, and R 4 is a C 1 to C 10 carbon atom) , R 5 is an aliphatic hydrocarbon group having 2 to 15 carbon atoms, and R 4 has 1 or more carbon atoms than R 5. )
【0054】本発明で使用できるケイ素化合物の具体例
は、下記の通りである。(tert−C4 H9 )(se
c−C4 H9 )Si(OCH3 )2 、(tert−C4
H9 )(2−C5 H11)Si(OCH3 )2 、(ter
t−C4 H9 )(3−C6 H13)Si(OCH3 )2 、
(cyclo−C5 H9 )(sec−C 4 H9 )Si
(OCH3 )2 、(cyclo−C5 H9 )(2−C5
H11)Si(OCH3 )2 、(cyclo−C5 H9 )
(3−C6 H13)Si(OCH3 ) 2 、(CH3 −cy
clo−C5 H9 )(sec−C4 H9 )Si(OCH
3 ) 2 、(CH3 −cyclo−C5 H9 )(2−C5
H11)Si(OCH3 )2 、(CH3 −cyclo−C
5 H9 )(3−C6 H13)Si(OCH3 )2 、(cy
clo−C6 H11)(sec−C4 H9 )Si(OCH
3 )2 、(cyclo−C6 H11)(2−C5 H11)S
i(OCH3 )2 、(cyclo−C6 H11)(3−C
6 H13)Si(OCH3 )2 、(CH3 −cyclo−
C6 H11)(sec−C4 H9 )Si(OCH3 )2 、
(CH3 −cyclo−C6 H11)(2−C5 H11)S
i(OCH3 )2 、(CH3 −cyclo−C6 H11)
(3−C 6 H13)Si(OCH3 )2 、等を挙げること
ができる。Specific examples of the silicon compound usable in the present invention
Is as follows. (Tert-CFourH9) (Se
c-CFourH9) Si (OCHThree)Two, (Tert-CFour
H9) (2-CFiveH11) Si (OCHThree)Two, (Ter
t-CFourH9) (3-C6H13) Si (OCHThree)Two,
(Cyclo-CFiveH9) (Sec-C FourH9) Si
(OCHThree)Two, (Cyclo-CFiveH9) (2-CFive
H11) Si (OCHThree)Two, (Cyclo-CFiveH9)
(3-C6H13) Si (OCHThree) Two, (CHThree-Cy
clo-CFiveH9) (Sec-CFourH9) Si (OCH
Three) Two, (CHThree-Cyclo-CFiveH9) (2-CFive
H11) Si (OCHThree)Two, (CHThree-Cyclo-C
FiveH9) (3-C6H13) Si (OCHThree)Two, (Cy
clo-C6H11) (Sec-CFourH9) Si (OCH
Three)Two, (Cyclo-C6H11) (2-CFiveH11) S
i (OCHThree)Two, (Cyclo-C6H11) (3-C
6H13) Si (OCHThree)Two, (CHThree-Cyclo-
C6H11) (Sec-CFourH9) Si (OCHThree)Two,
(CHThree-Cyclo-C6H11) (2-CFiveH11) S
i (OCHThree)Two, (CHThree-Cyclo-C6H11)
(3-C 6H13) Si (OCHThree)Two, Etc.
Can be.
【0055】これらの中で好ましいのは、(tert−
C4 H9 )(sec−C4 H9 )Si(OCH3 )2 、
(tert−C4 H9 )(2−C5 H11)Si(OCH
3 )2 、(tert−C4 H9 )(3−C6 H13)Si
(OCH3 )2 、(cyclo−C5 H9 )(sec−
C 4 H9 )Si(OCH3 )2 、(cyclo−C5 H
9 )(2−C5 H11)Si(OCH3 )2 、(cycl
o−C5 H9 )(3−C6 H13)Si(OCH3 ) 2 、
等である。Of these, preferred is (tert-
CFourH9) (Sec-CFourH9) Si (OCHThree)Two,
(Tert-CFourH9) (2-CFiveH11) Si (OCH
Three)Two, (Tert-CFourH9) (3-C6H13) Si
(OCHThree)Two, (Cyclo-CFiveH9) (Sec-
C FourH9) Si (OCHThree)Two, (Cyclo-CFiveH
9) (2-CFiveH11) Si (OCHThree)Two, (Cycl
o-CFiveH9) (3-C6H13) Si (OCHThree) Two,
And so on.
【0056】<プロピレンの重合>プロピレンの重合工
程は、成分(A)、成分(B)及び成分(C)を重合系
に供給して重合を行うが、この時加える成分(B)と触
媒中のチタン成分との比は任意でありうるが、好ましく
はSi/Ti=0.1〜100の範囲、更に好ましくは
Si/Ti=1〜10である。<Polymerization of Propylene> In the polymerization step of propylene, the components (A), (B) and (C) are fed to a polymerization system for polymerization. The ratio with respect to the titanium component may be arbitrary, but is preferably in the range of Si / Ti = 0.1 to 100, more preferably Si / Ti = 1 to 10.
【0057】本発明の結晶性ポリプロピレンを製造する
ための重合方法としては、本発明の目標とするポリプロ
ピレンが得られる限り任意のものでありうるが、下記に
例示する方法が挙げられる。炭化水素溶媒を用いるスラ
リー重合、実質的に溶媒を用いない液相無溶媒重合(バ
ルク重合)、溶液重合または気相重合等が挙げられる。
スラリー重合の場合の重合溶媒としては、ペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン等の飽和脂肪族または芳香族炭化水素溶媒が単独また
は混合物として用いられる。採用される重合方法は、連
続式重合、回分式重合、多段式重合または予備重合を行
なう方式等が挙げられる。重合温度は、通常20〜20
0℃程度、好ましくは50〜150℃であり、重合圧力
は、大気圧〜300kg/cm2 程度、好ましくは大気
圧〜100kg/cm2 であり、そのとき分子量調節剤
として補助的に水素を用いることができる。The polymerization method for producing the crystalline polypropylene of the present invention may be any method as long as the target polypropylene of the present invention can be obtained, and examples thereof include the following methods. Examples thereof include slurry polymerization using a hydrocarbon solvent, liquid-phase solventless polymerization (bulk polymerization) substantially using no solvent, solution polymerization, and gas-phase polymerization.
As a polymerization solvent in the case of slurry polymerization, a saturated aliphatic or aromatic hydrocarbon solvent such as pentane, hexane, heptane, cyclohexane, benzene, and toluene is used alone or as a mixture. Examples of the polymerization method employed include a method of performing continuous polymerization, batch polymerization, multistage polymerization, or prepolymerization. The polymerization temperature is usually 20 to 20
The polymerization pressure is about 0 ° C., preferably about 50 to 150 ° C., and the polymerization pressure is about atmospheric pressure to about 300 kg / cm 2 , preferably about atmospheric pressure to 100 kg / cm 2 , in which case hydrogen is used as a molecular weight regulator in an auxiliary manner. be able to.
【0058】本発明の触媒系での重合は、プロピレンの
単独重合の他に、プロピレンと共重合可能なモノマー
(例えば、エチレン、α−オレフィン、ジエン類、スチ
レン類等)との共重合も行うことができる。これらの共
重合性モノマーはランダム共重合においては15wt%
まで、ブロック共重合においては50wt%まで使用す
ることができる。In the polymerization using the catalyst system of the present invention, in addition to homopolymerization of propylene, copolymerization with a monomer copolymerizable with propylene (eg, ethylene, α-olefin, diene, styrene, etc.) is also performed. be able to. 15% by weight of these copolymerizable monomers in random copolymerization
Up to 50 wt% in block copolymerization.
【0059】[0059]
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明する。本発明における各物性値の測定方法および装置
を以下に示す。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. The method and apparatus for measuring each physical property value in the present invention are described below.
【0060】[MFR] 装置:タカラ社製 メルトインデクサー 測定方法:JIS−K6758に準拠した。[MFR] Apparatus: Melt indexer manufactured by Takara Measuring method: JIS-K6758.
【0061】[CXS] 測定方法:試料(約5g)を140℃のキシレン(30
0ml)中に一度完全に溶解させてから、23℃に冷却
し12時間放置した後にろ過し、そのろ液を除去して溶
けていた固形物を回収して、回収した固形物の重量割合
を求めた。[CXS] Measurement method: A sample (about 5 g) was treated with xylene (30 g) at 140 ° C.
0 ml), cooled to 23 ° C. and allowed to stand for 12 hours, and then filtered. The filtrate was removed to recover the dissolved solid, and the weight ratio of the recovered solid was determined. I asked.
【0062】[示差走査熱量計(DSC)] 装置:PERKIN−ELCH3R社製 DSC−2 測定方法:試料(約5mg)を200℃で3分間融解
後、10℃/min.の速度で30℃まで降温した後
に、10℃/min.で200℃まで昇温することによ
り融解曲線を得て、主吸熱ピーク温度(Tmp)を求め
た。[Differential Scanning Calorimeter (DSC)] Apparatus: DSC-2 manufactured by PERKIN-ELCH3R Measurement method: A sample (about 5 mg) was melted at 200 ° C. for 3 minutes, and then melted at 10 ° C./min. After cooling to 30 ° C. at a rate of 10 ° C./min. The temperature was raised to 200 ° C. to obtain a melting curve, and a main endothermic peak temperature (Tmp) was determined.
【0063】[13C−NMR] 装置:日本電子社製 GSX−270 測定方法:溶媒にo−ジクロロベンゼン/重ベンゼン溶
媒を使用し、測定温度130℃で、プロトンデカップリ
ング法により行い、全ポリマー成分中のmmmm成分の
重量割合を求めた。[ 13 C-NMR] Apparatus: GSX-270 manufactured by JEOL Co., Ltd. Measurement method: Using o-dichlorobenzene / deuterated benzene solvent as a solvent at a measurement temperature of 130 ° C. by a proton decoupling method to obtain a total polymer The weight ratio of the mmmm component in the components was determined.
【0064】[溶融張力(MT)] 装置:東洋精機製作所(株)製 キャピログラフ 1B 測定方法:190℃に加熱された内径9.55mmのバ
レル中を10mm/min.の速度で溶融ポリマーを押
し出し、内径2.16mm長さ8mmのオリフィスから
でるストランドを4mm/minの速度で引き取る際の
溶融張力を測定した。[Melt tension (MT)] Apparatus: Capillograph 1B manufactured by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd. Measurement method: 10 mm / min. In a barrel heated to 190 ° C. and having an inner diameter of 9.55 mm. The melt tension was measured when extruding the molten polymer at a speed of 2.16 mm and pulling a strand coming out of an orifice having an inner diameter of 2.16 mm and a length of 8 mm at a speed of 4 mm / min.
【0065】実施例−1 [成分(A)の製造]充分に窒素置換したフラスコに、
脱水および脱酸素したn−ヘプタン200mlを導入
し、次いでMgCl2 を0.4mol、Ti(O−n−
O4 H9 )4 を0.8mol導入し、95℃で2時間反
応させた。反応終了後、40℃に温度を下げ、次いでメ
チルヒドロポリシロキサン(20cStのもの)を48
ml導入し、3時間反応させた。生成した固体成分をn
−ヘプタンで洗浄した。Example 1 [Production of Component (A)] In a flask sufficiently purged with nitrogen,
200 ml of dehydrated and deoxygenated n-heptane were introduced, and then 0.4 mol of MgCl 2 and Ti (On-
0.8 mol of O 4 H 9 ) 4 was introduced and reacted at 95 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, the temperature was lowered to 40 ° C., and then methylhydropolysiloxane (of 20 cSt) was added for 48 hours.
ml, and reacted for 3 hours. The generated solid component is represented by n
-Washed with heptane.
【0066】次いで、充分に窒素置換したフラスコに、
上記と同様に精製したn−ヘプタンを50ml導入し、
上記で合成した固体成分をMg原子換算で0.24mo
l導入した。次いでn−ヘプタン25mlにSiCl4
0.4molを混合して30℃、30分間でフラスコへ
導入し、70℃で3時間反応させた。反応終了後、n−
ヘプタンで洗浄した。次いでn−ヘプタン25mlにフ
タル酸クロライド0.024molを混合して、70
℃、30分間でフラスコへ導入し、90℃で1時間反応
させた。反応終了後、n−ヘプタンで洗浄した。次い
で、SiCl4 0.4molを導入して80℃で6時間
反応させた。反応終了後、n−ヘプタンで充分に洗浄し
て成分(A)を製造するための固体成分とした。Next, into a flask sufficiently purged with nitrogen,
50 ml of n-heptane purified in the same manner as above was introduced,
The solid component synthesized above was converted to 0.24 mo in terms of Mg atom.
1 was introduced. Then, SiCl 4 was added to 25 ml of n-heptane.
0.4 mol was mixed, introduced into the flask at 30 ° C. for 30 minutes, and reacted at 70 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, n-
Washed with heptane. Then, 0.024 mol of phthalic acid chloride was mixed with 25 ml of n-heptane,
The mixture was introduced into the flask at 30 ° C for 30 minutes and reacted at 90 ° C for 1 hour. After the completion of the reaction, the resultant was washed with n-heptane. Then, 0.4 mol of SiCl 4 was introduced and reacted at 80 ° C. for 6 hours. After the completion of the reaction, the resultant was sufficiently washed with n-heptane to obtain a solid component for producing the component (A).
【0067】次いで、充分に窒素置換したフラスコに、
上記と同様に精製したn−ヘプタンを50ml導入し、
上記で合成した固体成分を5g導入し、(tert−C
4 H9)Si(CH3 )(OC2 H5 ) 2 1.0ml、
Al(C2H5)31.7gを30℃で2時間接触させ
た。接触終了後、n−ヘプタンで充分に洗浄し、塩化マ
グネシウムを主体とする成分(A)を得た。このものの
チタン含量は、1.4wt%であった。Next, into a flask sufficiently purged with nitrogen,
50 ml of n-heptane purified in the same manner as above was introduced,
5 g of the solid component synthesized above was introduced, and (tert-C
4 H 9 ) Si (CH 3 ) (OC 2 H 5 ) 2 1.0 ml,
31.7 g of Al (C 2 H 5 ) was contacted at 30 ° C. for 2 hours. After the completion of the contact, the resultant was sufficiently washed with n-heptane to obtain a component (A) mainly composed of magnesium chloride. This had a titanium content of 1.4 wt%.
【0068】[プロピレンの重合]攪拌および温度制御
装置を有する内容積1.51のステンレス鋼製オートク
レーブに、充分に脱水および脱酸素したn−ヘプタンを
500ml、成分(B)としてトリエチルアルミニウム
125mg、成分(C)として(tert−C4 H 9 )
(sec−C4 H9 )Si(OCH3 )2 0.72mg
および上記で製造した成分(A)を15mg、次いで水
素を150ml導入し、昇温昇圧し、重合圧力=5kg
/cm2 G、重合温度=75℃、重合時間=2時間の条
件でプロピレンを重合させた。重合終了後、得られたポ
リマースラリーをろ過により分離し、ポリマーを乾燥さ
せた。その結果、155.6gのポリマーが得られた。
ろ過液からは、0.63gのポリマーが得られた。また
得られたポリマーは、MFR=3.43(g/10mi
n.)、23℃のキシレン溶解量(CXS)=1.42
(wt%)、DSCによる溶解曲線のピーク温度(Tm
p)=164.7(℃)、NMRによるアイソタクチッ
クペンタッド分率(mmmm)=96.7(%)、MT
=4.3g、GPCで測定したMz/Mn=25.8で
あった。[Polymerization of Propylene] Stirring and Temperature Control
1.51 stainless steel oak with internal volume
In the reave, fully dehydrated and deoxygenated n-heptane
500 ml, triethyl aluminum as component (B)
125 mg, as component (C) (tert-CFourH 9)
(Sec-CFourH9) Si (OCHThree)Two0.72mg
And 15 mg of the component (A) prepared above, and then water
Introduce 150 ml of nitrogen, raise the temperature and raise the pressure, polymerization pressure = 5 kg
/ CmTwoG, polymerization temperature = 75 ° C., polymerization time = 2 hours
Propylene was polymerized. After the polymerization is completed, the
The limer slurry is separated by filtration and the polymer is dried.
I let you. As a result, 155.6 g of a polymer was obtained.
From the filtrate, 0.63 g of polymer was obtained. Also
The obtained polymer had an MFR of 3.43 (g / 10 mi).
n. ), Xylene dissolved amount at 23 ° C. (CXS) = 1.42
(Wt%), peak temperature of melting curve by DSC (Tm
p) = 164.7 (° C.), isotacticity by NMR
Kupentad fraction (mmmm) = 96.7 (%), MT
= 4.3 g, Mz / Mn measured by GPC = 25.8
there were.
【0069】実施例−2 成分(C)として(tert−C4 H9 )(sec−C
4 H9 )Si(OCH 3 )2 3.6mgを使用し、水素
を345ml導入する以外は実施例1と同様の重合を行
った。その結果、176.1gのポリマーが得られた。
ろ過液からは、0.61gのポリマーが得られた。また
得られたポリマーは、MFR=5.85(g/10mi
n.)、23℃のキシレン溶解量(CXS)=0.83
(wt%)、DSCによる溶解曲線のピーク温度(Tm
p)=164.7(℃)、NMRによるアイソタクチッ
クペンタッド分率(mmmm)=96.7(%)、MT
=4.1g、GPCで測定したMz/Mn=20.6で
あった。Example 2 As the component (C), (tert-CFourH9) (Sec-C
FourH9) Si (OCH Three)TwoUsing 3.6mg, hydrogen
Was carried out in the same manner as in Example 1 except that 345 ml of
Was. As a result, 176.1 g of a polymer was obtained.
0.61 g of polymer was obtained from the filtrate. Also
The obtained polymer had an MFR of 5.85 (g / 10 mi).
n. ), Xylene dissolved amount at 23 ° C. (CXS) = 0.83
(Wt%), peak temperature of melting curve by DSC (Tm
p) = 164.7 (° C.), isotacticity by NMR
Kupentad fraction (mmmm) = 96.7 (%), MT
= 4.1 g, Mz / Mn = 20.6 measured by GPC
there were.
【0070】実施例−3 成分(A2)として(cyclo−C6 H11)(C
H3 )Si(OC2 H5 )2を使用し、水素を150m
l導入する以外は実施例2と同様の重合を行った。その
結果、178.0gのポリマーが得られた。ろ過液から
は、0.331gのポリマーが得られた。また得られた
ポリマーは、MFR=2.48(g/10min.)、
23℃のキシレン溶解量(CXS)=1.20(wt
%)、DSCによる溶解曲線のピーク温度(Tmp)=
164.2(℃)、NMRによるアイソタクチックペン
タッド分率(mmmm)=96.5(%)、MT=4.
8g、GPCで測定したMz/Mn=20.2であっ
た。Example 3 As a component ( A2 ), (cyclo-C 6 H 11 ) (C
H 3) using Si (OC 2 H 5) 2 , 150m hydrogen
Polymerization was carried out in the same manner as in Example 2 except that l was introduced. As a result, 178.0 g of a polymer was obtained. 0.331 g of polymer was obtained from the filtrate. The obtained polymer had an MFR of 2.48 (g / 10 min.),
Dissolved amount of xylene at 23 ° C (CXS) = 1.20 (wt
%), Peak temperature of melting curve by DSC (Tmp) =
164.2 (° C.), isotactic pentad fraction (mmmm) by NMR = 96.5 (%), MT = 4.
8 g, Mz / Mn measured by GPC = 20.2.
【0071】実施例−4 成分(A2)として(cyclo−C6 H11)2 Si
(OC2 H5 )2 を使用し、水素を150ml導入する
以外は実施例2と同様の重合を行った。その結果、17
3.1gのポリマーが得られた。ろ過液からは、0.5
2gのポリマーが得られた。 Example 4 As the component ( A2 ), (cyclo-C 6 H 11 ) 2 Si
Polymerization was carried out in the same manner as in Example 2 except that (OC 2 H 5 ) 2 was used and 150 ml of hydrogen was introduced. As a result, 17
3.1 g of polymer were obtained. From the filtrate, 0.5
2 g of polymer were obtained .
【0072】また得られたポリマーは、MFR=1.6
7(g/10min.)、23℃のキシレン溶解量(C
XS)=1.40(wt%)、DSCによる溶解曲線の
ピーク温度(Tmp)=164.0(℃)、NMRによ
るアイソタクチックペンタッド分率(mmmm)=9
6.6(%)、MT=6.1g、GPCで測定したMz
/Mn=21.0であった。 The obtained polymer had an MFR of 1.6.
7 (g / 10 min.), Xylene dissolved amount at 23 ° C. (C
XS) = 1.40 (wt%), dissolution curve by DSC
Peak temperature (Tmp) = 164.0 (° C), by NMR
Isotactic pentad fraction (mmmm) = 9
6.6 (%), MT = 6.1 g, Mz measured by GPC
/Mn=21.0.
【0073】比較例−1 成分(C)を使用せず、水素を75ml導入する以外は
実施例1と同様の重合を行った。その結果、128.7
gのポリマーが得られた。ろ過液からは、1.00gの
ポリマーが得られた。また得られたポリマーは、MFR
=2.47(g/10min.)、23℃のキシレン溶
解量(CXS)=2.99(wt%)、DSCによる溶
解曲線のピーク温度(Tmp)=162.2(℃)、N
MRによるアイソタクチックペンタッド分率(mmm
m)=93.7(%)、MT=2.8g、GPCで測定
したMz/Mn=16.3であった。Comparative Example 1 Polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 except that 75 ml of hydrogen was introduced without using the component (C). As a result, 128.7
g of polymer were obtained. 1.00 g of polymer was obtained from the filtrate. The obtained polymer is MFR
= 2.47 (g / 10 min.), Xylene dissolved amount (CXS) at 23 ° C. = 2.99 (wt%), peak temperature of melting curve by DSC (Tmp) = 162.2 (° C.), N
Isotactic pentad fraction by MR (mmm
m) = 93.7 (%), MT = 2.8 g, Mz / Mn = 16.3 as measured by GPC.
【0074】比較例−2 成分(C)として(tert−C4 H9 )(CH3 )S
i(OCH3 )2 0.72mgを使用する以外は実施例
1と同様の重合を行った。その結果、151.4gのポ
リマーが得られた。ろ過液からは、0.74gのポリマ
ーが得られた。また得られたポリマーは、MFR=9.
61(g/10min.)、23℃のキシレン溶解量
(CXS)=1.99(wt%)、DSCによる溶解曲
線のピーク温度(Tmp)=164.0(℃)、NMR
によるアイソタクチックペンタッド分率(mmmm)=
96.3(%)、MT=3.7g、GPCで測定したM
z/Mn=18.4であった。Comparative Example 2 (tert-C 4 H 9 ) (CH 3 ) S as Component (C)
The same polymerization as in Example 1 was carried out except that 0.72 mg of i (OCH 3 ) 2 was used. As a result, 151.4 g of a polymer was obtained. 0.74 g of polymer was obtained from the filtrate. The obtained polymer had MFR = 9.
61 (g / 10 min.), Xylene dissolution amount (CXS) at 23 ° C. = 1.99 (wt%), peak temperature (Tmp) of dissolution curve by DSC = 164.0 (° C.), NMR
Pentad fraction (mmmm) =
96.3 (%), MT = 3.7 g, M measured by GPC
z / Mn = 18.4.
【0075】比較例−3 成分(A)の製造において(tert−C4 H9 )(C
H3 )Si(OC2 H 5 )2 のかわりに(tert−C
4 H9 )(CH3 )Si(OCH3 )2 を使用する以外
は、比較例1と同様の重合を行った。その結果、17
8.2gのポリマーが得られた。ろ過液からは、0.3
6gのポリマーが得られた。また得られたポリマーは、
MFR=4.78(g/10min.)、23℃のキシ
レン溶解量(CXS)=0.35(wt%)、DSCに
よる溶解曲線のピーク温度(Tmp)=165.0
(℃)、NMRによるアイソタクチックペンタッド分率
(mmmm)=97.2(%)、MT=1.9g、GP
Cで測定したMz/Mn=15.9であった。Comparative Example 3 In the production of component (A), (tert-CFourH9) (C
HThree) Si (OCTwoH Five)TwoInstead of (tert-C
FourH9) (CHThree) Si (OCHThree)TwoOther than using
Performed the same polymerization as in Comparative Example 1. As a result, 17
8.2 g of polymer were obtained. From the filtrate, 0.3
6 g of polymer were obtained. The obtained polymer is
MFR = 4.78 (g / 10 min.), 23 ° C.
Len dissolved amount (CXS) = 0.35 (wt%), DSC
Melting curve peak temperature (Tmp) = 165.0
(° C), isotactic pentad fraction by NMR
(Mmmm) = 97.2 (%), MT = 1.9 g, GP
Mz / Mn measured at C was 15.9.
【0076】[0076]
【発明の効果】本発明により、溶融張力の高い結晶性ポ
リプロピレンを規定できる。またこれを用いることによ
り、成形加工性に優れることから、ブロー、シート成形
に最適に使用しうる効果がある。According to the present invention, a crystalline polypropylene having a high melt tension can be defined. In addition, since it is excellent in molding workability by using this, there is an effect that it can be optimally used for blow and sheet molding.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C08F 4/00 - 4/82 C08F 10/00 - 10/14 C08F 110/00 - 110/14 C08F 210/00 - 210/18 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of front page (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C08F 4/00-4/82 C08F 10/00-10/14 C08F 110/00-110/14 C08F 210 / 00-210/18
Claims (3)
晶性ポリプロピレン。 (1)230℃、2.16kg荷重で測定したメルトフ
ローレイト(MFR)が、0.1〜1000g/10m
in. (2)23℃におけるキシレンへの溶解量(CXS)
が、0.83重量%以上、5.0重量%以下 (3)示差走査型熱量計(DSC)により測定した融解
曲線の主吸熱ピーク温度(Tmp)が、163℃以上、
164.7℃以下 (4)13C−NMRで測定したアイソタクチックペンタ
ッド分率(mmmm)が、96.0重量%以上、96.
7重量%以下 (5)GPCで測定したMz/Mnが、20.0以上、
25.8以下 1. A crystalline polypropylene having the following physical properties. (1) The melt flow rate (MFR) measured at 230 ° C. under a load of 2.16 kg is 0.1 to 1000 g / 10 m
in. (2) Amount dissolved in xylene at 23 ° C (CXS)
0.83% by weight or more and 5.0% by weight or less (3) The main endothermic peak temperature (Tmp) of the melting curve measured by a differential scanning calorimeter (DSC) is 163 ° C. or more ,
164.7 ° C. or less (4) The isotactic pentad fraction (mmmm) measured by 13 C-NMR is 96.0 % by weight or more and 96.
7 wt% or less (5) Mz / Mn, measured by GPC, 20.0 or more,
25.8 or less
た融解曲線の主吸熱ピーク温度(Tmp)が、164℃
以上である、請求項1記載の結晶性ポリプロピレン。2. A main endothermic peak temperature (Tmp) of a melting curve measured by a differential scanning calorimeter (DSC) is 164 ° C.
The crystalline polypropylene according to claim 1, which is the above.
ペンタッド分率(mmmm)が、96.5重量%以上で
ある、請求項1記載の結晶性ポリプロピレン。3. The crystalline polypropylene according to claim 1, wherein the isotactic pentad fraction (mmmm) measured by 13 C-NMR is 96.5% by weight or more.
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|---|---|---|---|
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