JP3358693B2 - CCD solid-state imaging device package and sealing method therefor - Google Patents
CCD solid-state imaging device package and sealing method thereforInfo
- Publication number
- JP3358693B2 JP3358693B2 JP24659495A JP24659495A JP3358693B2 JP 3358693 B2 JP3358693 B2 JP 3358693B2 JP 24659495 A JP24659495 A JP 24659495A JP 24659495 A JP24659495 A JP 24659495A JP 3358693 B2 JP3358693 B2 JP 3358693B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- lead
- insulating plate
- transparent insulating
- imaging device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W72/00—Interconnections or connectors in packages
- H10W72/701—Tape-automated bond [TAB] connectors
Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、CCD固体撮像素
子パッケージ及び封止方法に関し、更に詳細には、CC
D固体撮像素子が形成されているチップとチップ電極の
外部接続用リードとの間で生じやすいエッジ短絡を防止
するようにしたCCD固体撮像素子パッケージ及びその
封止方法に関するものである。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a CCD solid-state imaging device package and a sealing method, and more particularly, to a CCD solid-state imaging device.
The present invention relates to a CCD solid-state imaging device package that prevents edge short-circuiting that easily occurs between a chip on which a D solid-state imaging device is formed and a lead for external connection of a chip electrode, and a method of sealing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】図7を参照して、従来のCCD固体撮像
素子パッケージの構成を説明する。従来のCCD固体撮
像素子パッケージ10(以下、簡単にCCDパッケージ
10と言う)は、図7に示すように、CCD固体撮像素
子が形成されているチップ12(以下、簡単にチップ1
2と言う)と、チップ12の電極パッドにAuバンプ1
4により接続され、外方水平方向に真っ直ぐに伸びてい
るCu製のリード16と、チップ12と同じ寸法を有し
てチップ12に対面し、かつチップ12と間でリード1
6を挟んでいる板状のガラスリッド18とを備えてい
る。ガラスリッド18は、チップ12の平面外形寸法と
同じ平面外形寸法を有し、チップ12の表面を保護し信
頼性を確保するために設けてある。更に、CCDパッケ
ージ10は、チップ12の有効領域を中空部20にする
ためにチップ12とガラスリッド18の周辺部同士がリ
ード貫通部分を含めて相互にシール剤22により封止さ
れていて、中空部の高さはリード16の厚さにより維持
されている。更に、ガラスリッド18の中央部を除いて
CCDパッケージ10の全体が、樹脂で封止されている
場合もある。2. Description of the Related Art The configuration of a conventional CCD solid-state imaging device package will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 7, a conventional CCD solid-state imaging device package 10 (hereinafter simply referred to as a CCD package 10) has a chip 12 (hereinafter simply referred to as a chip 1) on which a CCD solid-state imaging device is formed.
2), the Au bumps 1 on the electrode pads of the chip 12.
4 and a lead 16 made of Cu extending straight in the outer horizontal direction and facing the chip 12 having the same dimensions as the chip 12 and connecting the lead 1 with the chip 12.
And a plate-like glass lid 18 sandwiching the same. The glass lid 18 has the same plane outer dimensions as the chip 12 and is provided for protecting the surface of the chip 12 and ensuring reliability. Further, in the CCD package 10, the peripheral portions of the chip 12 and the glass lid 18 are sealed with each other, including the lead penetrating portion, with a sealant 22 so that the effective area of the chip 12 becomes a hollow portion 20. The height of the portion is maintained by the thickness of the lead 16. Further, the entire CCD package 10 except for the central portion of the glass lid 18 may be sealed with resin.
【0003】従来のCCDパッケージ10の製造方法で
は、先ず、図8に示すように、チップ12の電極パッド
に形成されたAuバンプ14にリードフレーム(図示せ
ず)のリード16をボンディングする。ボンディング
は、通常、テープボンディング(TAB、Tape Automat
ed Bonding)により行われている。次いで、ガラスリッ
ド18の周辺部にシール剤22をディスペンサ等により
塗布し、リード16をボンディングしたチップ12の周
辺部上にシール剤22が来るようにチップ12とガラス
リッド18とを位置合わせする。続いて、ガラスリッド
18をチップ12上に載せてガラスリッド18を加圧
し、圧着した状態にする。シール剤22が熱硬化性樹脂
の場合には、チップ12とガラスリッド18との組合体
に熱キュアを施してシール剤22を硬化させ、またシー
ル剤22がUV硬化性樹脂の場合にはチップ12とガラ
スリッド18との組合体にUV露光を施してシール剤2
2を硬化させる。これにより、図7に示したCCDパッ
ケージ10を得ることができる。In the conventional method of manufacturing a CCD package 10, first, as shown in FIG. 8, leads 16 of a lead frame (not shown) are bonded to Au bumps 14 formed on electrode pads of a chip 12. Bonding is usually done by tape bonding (TAB, Tape Automat
ed Bonding). Next, a sealing agent 22 is applied to the peripheral portion of the glass lid 18 by a dispenser or the like, and the chip 12 and the glass lid 18 are aligned so that the sealing agent 22 comes on the peripheral portion of the chip 12 to which the leads 16 are bonded. Subsequently, the glass lid 18 is placed on the chip 12, and the glass lid 18 is pressurized and brought into a state of being pressed. When the sealant 22 is a thermosetting resin, the combined body of the chip 12 and the glass lid 18 is subjected to heat curing to cure the sealant 22, and when the sealant 22 is a UV curable resin, UV exposure is performed on the combination of the glass lid 18 and the
2 is cured. Thereby, the CCD package 10 shown in FIG. 7 can be obtained.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のCCD
パッケージ10では、ガラスリッド18をチップ12に
圧着したとき、図9に示すように、ガラスリッド18を
押圧する力のためにガラスリッド18の周辺部がリード
16に接触し、リード16がチップ12側に折れ曲がる
ように変形し、その結果、リード16とチップ12の外
縁部(エッジ)とがしばしば接触する。このため、チッ
プが電気的に短絡したり、CCD固体撮像素子の特性が
低下すると言う問題を招き、チップの製品歩留りが低下
すると言う結果になる。この問題は、CCDパッケージ
が小型化し、薄型化すると共に益々高い頻度で発生して
おり、早急に解決することが望まれている。However, conventional CCDs
In the package 10, when the glass lid 18 is pressed against the chip 12, as shown in FIG. 9, the periphery of the glass lid 18 comes into contact with the lead 16 due to the force for pressing the glass lid 18, and the lead 16 As a result, the lead 16 and the outer edge of the chip 12 often come into contact with each other. For this reason, there is a problem that the chip is electrically short-circuited or the characteristics of the CCD solid-state imaging device are deteriorated, resulting in a reduction in the product yield of the chip. This problem occurs more and more frequently as the CCD package becomes smaller and thinner, and it is desired to solve it as soon as possible.
【0005】以上の状況に照らして、本発明の目的は、
チップと透明絶縁板との封止の際に、チップとリードと
の短絡的な接触が生じないような構造を有するCCD固
体撮像素子パッケージ及びその封止方法を提供すること
である。[0005] In light of the above circumstances, an object of the present invention is to:
An object of the present invention is to provide a CCD solid-state imaging device package having a structure in which short-circuiting between a chip and a lead does not occur when the chip and the transparent insulating plate are sealed, and a method for sealing the same.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係るCCD固体撮像素子パッケージ(以
下、第1発明と言う)は、CCD固体撮像素子が形成さ
れているチップと、チップの電極パッドに接続されたリ
ードと、チップに対面し、かつチップとの間にリードを
介在させている透明絶縁板とを備え、チップと透明絶縁
板の周辺部同士がリード貫通部分を含めて相互に封止さ
れているCCD固体撮像素子パッケージにおいて、リー
ドは、リードの電極パッド接合端から外方に向かうに従
ってチップとの間隙が大きくなるような形状を有し、透
明絶縁板は、その外縁寸法がチップの外縁寸法より僅か
に小さく、透明絶縁板の外縁がチップの電極パッドの外
縁と同じか、僅かに外方に位置していることを特徴とし
ている。In order to achieve the above object, a CCD solid-state imaging device package (hereinafter referred to as a first invention) according to the present invention comprises a chip on which a CCD solid-state imaging device is formed, and a chip. And a transparent insulating plate facing the chip and interposing the lead between the chip and the peripheral portion of the chip and the transparent insulating plate including the lead penetrating portion. In a CCD solid-state imaging device package sealed to each other, the lead has a shape such that the gap from the chip increases outward from the electrode pad bonding end of the lead, and the transparent insulating plate has an outer edge. The dimension is slightly smaller than the outer edge dimension of the chip, and the outer edge of the transparent insulating plate is located at the same or slightly outer side as the outer edge of the electrode pad of the chip.
【0007】リードが上述のような形状を有することに
よりリードとチップのエッジとの間隔が大きくなるの
で、また上述のように透明絶縁板の外縁寸法をチップよ
り小さくし、かつ透明絶縁板の外縁が電極パッドの外縁
か、僅かに外方に位置するように透明絶縁板がチップ上
に位置合わせされているので、透明絶縁板をチップに圧
着した時、透明絶縁板が電極パッド接続部より外方のリ
ード部分に接触しない。よって、本発明に係るCCD固
体撮像素子パッケージでは、従来のように透明絶縁板の
外縁がリードに接触してリードを押圧し、チップ側に変
形させるようなことが生じないので、本発明は、リード
とチップとが短絡的接触を行うと言う従来の問題を解決
することがでる。Since the lead has the above-mentioned shape, the distance between the lead and the edge of the chip becomes large. Also, as described above, the outer edge of the transparent insulating plate is made smaller than the chip, and the outer edge of the transparent insulating plate is made smaller. The transparent insulating plate is positioned on the chip so that the transparent insulating plate is located on the outer edge of the electrode pad or slightly outside. Do not touch the other lead. Therefore, in the CCD solid-state imaging device package according to the present invention, since the outer edge of the transparent insulating plate contacts the lead and presses the lead as in the related art, and does not deform the chip, the present invention provides: The conventional problem that the lead and the chip make short-circuit contact can be solved.
【0008】また、本発明に係る別のCCD固体撮像素
子パッケージ(以下、第2発明と言う)では、リード
は、リードの電極パッド接合端から外方に向かうに従っ
てチップとの間隙が大きくなるような形状を有し、透明
絶縁板は、その周辺部のチップに対向する面がリードの
形状に合致するように面取り加工されていることを特徴
としている。In another CCD solid-state image pickup device package according to the present invention (hereinafter referred to as a second invention), the gap between the lead and the chip increases from the end of the lead to the electrode pad junction. The transparent insulating plate is characterized in that it is chamfered so that the surface of the transparent insulating plate facing the chip conforms to the shape of the lead.
【0009】第2発明の場合、透明絶縁板の平面外形寸
法は、チップの平面外形寸法とほぼ同じで良い。リード
が上述のような形状を有することによりリードとチップ
のエッジとの間隔が大きくので、また上述のように透明
絶縁板の周辺部の下面が面取りされているので、チップ
上に透明絶縁板を位置合わせして圧着した時、透明絶縁
板は、電極パッド接続部よりリードの外方の部分に接触
しない。よって、本発明に係るCCD固体撮像素子パッ
ケージでは、従来のように透明絶縁板の外縁がリードに
接触してリードを押圧し、チップ側に変形させるような
ことが生じないので、本発明は、リードとチップとが短
絡的接触を行うと言う従来の問題を解決することがで
る。In the case of the second invention, the planar outer dimensions of the transparent insulating plate may be substantially the same as the planar outer dimensions of the chip. Since the lead has a shape as described above, the distance between the lead and the edge of the chip is large, and since the lower surface of the peripheral portion of the transparent insulating plate is chamfered as described above, the transparent insulating plate is placed on the chip. The transparent insulating plate does not come into contact with the portion outside the lead from the electrode pad connection portion when the positioning and pressure bonding are performed. Therefore, in the CCD solid-state imaging device package according to the present invention, since the outer edge of the transparent insulating plate contacts the lead and presses the lead as in the related art, and does not deform the chip, the present invention provides: The conventional problem that the lead and the chip make short-circuit contact can be solved.
【0010】また、本発明に係る別のCCD固体撮像素
子パッケージ(以下、第3発明と言う)は、チップと透
明絶縁板との間に挟まれているリード部分とチップとの
間に絶縁性材料からなるスペーサが介在していることを
特徴としている。本発明に係るCCD固体撮像素子パッ
ケージでは、チップ上に透明絶縁板を位置合わせして圧
着した時、透明絶縁板の外縁が電極パッド接続部よりリ
ードの外方の部分に接触したとしても、リード部分とチ
ップとの間に介在しているスペーサによってリードが支
えられるので、リードがチップ側に変形するようなこと
が生じない。よって、本発明は、リードとチップとが短
絡的接触を行うと言う従来の問題を解決することがで
る。Further, another CCD solid-state imaging device package according to the present invention (hereinafter referred to as a third invention) has an insulating property between the chip and a lead portion sandwiched between the chip and the transparent insulating plate. It is characterized in that a spacer made of a material is interposed. In the CCD solid-state imaging device package according to the present invention, when the transparent insulating plate is aligned and pressed on the chip, even if the outer edge of the transparent insulating plate comes into contact with the portion outside the lead from the electrode pad connection portion, the lead Since the lead is supported by the spacer interposed between the portion and the chip, the lead does not deform to the chip side. Therefore, the present invention can solve the conventional problem that the lead and the chip make short-circuit contact.
【0011】第1発明のCCD固体撮像素子パッケージ
の封止方法は、リードをテープボンディングしたチップ
に透明絶縁板を重ね、チップと透明絶縁板の周辺部同士
をリード貫通部分を含めて相互にシール剤で封止する際
に、チップの外縁寸法より僅かに小さい外縁寸法を有す
る透明絶縁板の周辺部の下面に封止用のシール剤を塗布
し、透明絶縁板の外縁がチップの電極パッドの外縁と同
じか、僅かに外方に位置するように透明絶縁板を位置決
めしてチップ上に載せ、かつリードフレームの下面がリ
ードの上面より高い位置になるようにチップとリードフ
レームを保持した状態で透明絶縁板をチップに押圧しつ
つシール剤を硬化させることを特徴としている。According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of sealing a CCD solid-state imaging device package, wherein a transparent insulating plate is superimposed on a chip having leads tape-bonded, and peripheral portions of the chip and the transparent insulating plate are mutually sealed including a lead penetrating portion. When sealing with an agent, a sealing agent for sealing is applied to the lower surface of the peripheral portion of the transparent insulating plate having an outer edge size slightly smaller than the outer edge size of the chip, and the outer edge of the transparent insulating plate is A state in which the transparent insulating plate is positioned on the chip so as to be the same as or slightly outside the outer edge, and the chip and the lead frame are held so that the lower surface of the lead frame is higher than the upper surface of the lead. In this method, the sealant is cured while pressing the transparent insulating plate against the chip.
【0012】本発明で使用する透明絶縁板は、チップの
平面外形寸法(幅)が3〜5mm角の時、その平面外形寸
法がチップの平面外形寸法より片側約0.2mmから約
0.4mm程度小さい。本発明で使用するリードは、リー
ドの電極パッド接合端から外方に向かうに従ってチップ
との間隙が大きくなるような形状に予め成形されていて
も良く、また平坦なリードフレームを使用し、チップと
リードフレームを保持する高さを変えて透明絶縁板を押
圧することにより、このような形状に成形しても良い。
本発明方法では、チップとリードフレームを保持する
際、通常、リードフレームの下面の高さがリードの上面
より約0.1mmから0.3mm程度高くする。この際、リ
ードの電極接合端部とリードフレームの保持点との距離
は、約5〜10mmである。シール剤が熱硬化性樹脂の場
合には熱キュアを施すことにより、シール剤がUV硬化
性樹脂の場合にはUV露光を施すことにより、それぞれ
シール剤を硬化させることができる。In the transparent insulating plate used in the present invention, when the external dimension (width) of the chip is 3 to 5 mm square, the external dimension of the plane is about 0.2 mm to about 0.4 mm on one side of the external dimension of the chip. About small. The lead used in the present invention may be formed in advance in such a shape that the gap between the lead and the chip becomes larger outward from the electrode pad joint end of the lead, or a flat lead frame may be used. Such a shape may be formed by changing the height at which the lead frame is held and pressing the transparent insulating plate.
In the method of the present invention, when holding the chip and the lead frame, the height of the lower surface of the lead frame is generally higher than the upper surface of the lead by about 0.1 mm to 0.3 mm. At this time, the distance between the electrode joint end of the lead and the holding point of the lead frame is about 5 to 10 mm. When the sealant is a thermosetting resin, the sealant can be cured by applying heat curing, and when the sealant is a UV-curable resin, the sealant can be cured by applying UV exposure.
【0013】第2発明のCCD固体撮像素子パッケージ
の封止方法は、透明絶縁板の周辺部の下面に面取り加工
を施し、透明絶縁板の下面の面取り加工領域の内側に封
止用のシール剤を塗布し、透明絶縁板に塗布したシール
剤がチップの電極パッドの外側領域に位置するように透
明絶縁板を位置決めしてチップ上に載せ、かつリードフ
レームの下面がリードの上面より高い位置になるように
チップとリードフレームを保持した状態で透明絶縁板を
チップに押圧しつつシール剤を硬化させることを特徴と
している。According to a second aspect of the present invention, there is provided a method for sealing a CCD solid-state imaging device package, wherein a lower surface of a peripheral portion of a transparent insulating plate is chamfered, and a sealing agent for sealing is provided inside a chamfered region on a lower surface of the transparent insulating plate. And place the transparent insulating plate on the chip so that the sealant applied to the transparent insulating plate is located outside the electrode pad of the chip, and place the lower surface of the lead frame higher than the upper surface of the lead. The sealant is cured while pressing the transparent insulating plate against the chip while holding the chip and the lead frame.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下に、添付図面を参照し、実施
例を挙げて本発明の実施の形態を具体的かつ詳細に説明
する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.
【0015】[0015]
【実施例】実施例1 図1は、第1発明に係るCCD固体撮像素子パッケージ
(以下、簡単にCCD固体撮像素子パッケージをCCD
パッケージと言う)の実施例1の構成を示す模式的断面
図である。尚、図1から図6の符号は、図7から図9と
同じ部品、材料には同じ符号を付し、その説明を省略す
る。本実施例のCCDパッケージ30は、チップ12
と、Cu製のリード32と、ガラスリッド34とを備え
ている。Embodiment 1 FIG. 1 shows a CCD solid-state imaging device package according to the first invention (hereinafter simply referred to as a CCD solid-state imaging device package).
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of a first embodiment (referred to as a package). 1 to 6 are given the same reference numerals for the same parts and materials as those shown in FIGS. 7 to 9, and the description thereof is omitted. The CCD package 30 of the present embodiment includes the chip 12
And a lead 32 made of Cu and a glass lid 34.
【0016】リード32は、チップ12のAuバンプ1
4を有する面に直交する方向に見て、リード32のAu
バンプ接合端36が他端(アウターリード)38に比べ
てチップ12側に近い位置になるように折曲された形状
を有している。換言すれば、リード32は、リード32
のAuバンプ接合端14から外方に向かうに従ってチッ
プ12との間隙が大きくなるような形状を有している。
他端38がTABテープから切り離されている状態で、
チップ12を水平面に置いたときのリード32のAuバ
ンプ接合端36上面と他端38下面との高低差Hは、約
0.1mmから0.3mm位である。ガラスリッド34の平
面外形寸法(幅)は、チップ12の平面外形寸法が3〜
5mmとして、チップ12の平面外形寸法より片側約0.
2mmから0.4mm程度小さく、これにより、ガラスリッ
ド34をチップ12上に載せた際、ガラスリッド34の
外縁部が、チップ12のAuバンプ14の外縁を結ぶ線
とほぼ同じ位置に来るか、又は多少外方に位置する。チ
ップ12とガラスリッド34の周辺部同士は、シール剤
22により封止され、中央部は中空部20として構成さ
れている。The leads 32 are made of Au bumps 1 of the chip 12.
4 as viewed in a direction perpendicular to the plane having
The bump bonding end 36 is bent so that it is closer to the chip 12 side than the other end (outer lead) 38. In other words, the lead 32 is the lead 32
The shape is such that the gap from the chip 12 increases from the Au bump bonding end 14 toward the outside.
With the other end 38 separated from the TAB tape,
The height difference H between the upper surface of the Au bump bonding end 36 of the lead 32 and the lower surface of the other end 38 of the lead 32 when the chip 12 is placed on a horizontal plane is about 0.1 mm to 0.3 mm. The planar outer dimension (width) of the glass lid 34 is 3 to 3 mm.
5 mm, and approximately 0.2 mm on one side from the planar outer dimensions of the chip 12.
When the glass lid 34 is mounted on the chip 12, the outer edge of the glass lid 34 is located at substantially the same position as the line connecting the outer edges of the Au bumps 14 of the chip 12, Or located slightly outside. The peripheral portions of the chip 12 and the glass lid 34 are sealed with a sealant 22, and the central portion is configured as a hollow portion 20.
【0017】次に、図2及び図3を参照して、CCDパ
ッケージ30の製造におけるチップ12とガラスリッド
34との圧着工程を説明する。図2に示すように、上述
した形状に成形されたリード32をチップ12のAuバ
ンプ14上にテープボンディングする。一方、チップ1
2と対面するガラスリッド34の周辺部下面にシール剤
22をディスペンサ等により塗布する。次いで、図3に
示すように、チップ12を載置台A上に載せ、更にリー
ド32のTABテープ(図示せず)を支持台Bに載せ
る。続いて、チップ12の周辺部上にシール剤22が来
るようにチップ12とガラスリッド34とを位置合わせ
した後、ガラスリッド34をチップ12上に圧着する。Next, with reference to FIGS. 2 and 3, illustrating a bonding step between the chip 12 and the glass lid 34 that you only to the production of the CCD package 30. As shown in FIG. 2, the leads 32 formed in the above-described shape are tape-bonded on the Au bumps 14 of the chip 12. On the other hand, chip 1
The sealant 22 is applied by a dispenser or the like to the lower surface of the peripheral portion of the glass lid 34 facing the surface 2. Next, as shown in FIG. 3, the chip 12 is mounted on the mounting table A, and a TAB tape (not shown) of the lead 32 is mounted on the supporting table B. Then, after positioning the chip 12 and the glass lid 34 so that the sealing agent 22 comes on the periphery of the chip 12, the glass lid 34 is pressed on the chip 12.
【0018】この際、図3に示すように、TABテープ
の保持高さがガラスリッド34の下面高さより高く、T
ABテープの下面とガラスリッド34の下面との高低差
hが約0.1mm〜約0.3mm程度になるようにTABテ
ープ及びチップ12を保持する。尚、TABテープの保
持点38とリードのAuバンプ接合端36の水平距離
は、約5〜10mmである。リード34は、このような高
低差が生じるように予め成形された形状を有するものを
使用しても良く、また通常の平坦な形状のリードを有す
るTABテープを使用し、ガラスリッド34の圧着時に
上述の高低差がでるようにチップ12及びTABテープ
を支持しても良い。次いで、シール剤22が熱硬化性か
UV硬化性かによって異なる必要な硬化処理を施すと、
チップ12とガラスリッド34の間の周辺部がシール剤
22により封止され、図1に示すような本発明に係るC
CDパッケージ30を得ることができる。At this time, as shown in FIG. 3, the holding height of the TAB tape is higher than the lower surface height of the glass lid 34, and
The TAB tape and the chip 12 are held so that the height difference h between the lower surface of the AB tape and the lower surface of the glass lid 34 is about 0.1 mm to about 0.3 mm. The horizontal distance between the holding point 38 of the TAB tape and the Au bump bonding end 36 of the lead is about 5 to 10 mm. The lead 34 may have a shape preformed so that such a height difference occurs.Also, a TAB tape having a normal flat shape lead is used, and when the glass lid 34 is crimped, The chip 12 and the TAB tape may be supported so that the above-mentioned height difference is obtained. Next, when a necessary curing process that differs depending on whether the sealant 22 is thermosetting or UV-curing is performed,
A peripheral portion between the chip 12 and the glass lid 34 is sealed by the sealant 22, and a C according to the present invention as shown in FIG.
A CD package 30 can be obtained.
【0019】実施例1のCCDパッケージ30では、リ
ード32が上述のような形状に折曲されているので、リ
ード32とチップ30の外縁部との間隙が外方に向かっ
て大きくなり、かつガラスリッド34の外縁部がチップ
12のAuバンプ14の外縁にほぼ位置している。よっ
て、ガラスリッド34をチップ12に圧着した際にも、
リード32がチップ12の外縁部に接触して短絡現象を
引き起こしたり、CCD固体撮像素子の特性の低下を招
くようなことはない。In the CCD package 30 according to the first embodiment, since the leads 32 are bent in the above-described shape, the gap between the leads 32 and the outer edge of the chip 30 increases outward, and The outer edge of the lid 34 is located substantially at the outer edge of the Au bump 14 of the chip 12. Therefore, even when the glass lid 34 is pressed against the chip 12,
There is no possibility that the lead 32 contacts the outer edge of the chip 12 to cause a short-circuit phenomenon or to cause deterioration of the characteristics of the CCD solid-state imaging device.
【0020】実施例2 図4は第2発明に係るCCDパッケージの実施例2で使
用したガラスリッド42を示す模式的断面図であり、図
5は実施例2のCCDパッケージ40の構成を示す模式
的断面図である。本実施例のCCDパッケージ40は、
実施例1のガラスリッド34に代えて、図4に示すガラ
スリッド42を使用している。ガラスリッド42は、そ
の平面外形寸法がチップ12の平面外形寸法とほぼ同じ
あって、かつその周辺部のチップ12に対面する面44
で面取り(M)加工が施されている。その際、図3に示
すh寸法を維持しつつ図3に示すようにCCDパッケー
ジ40のチップ12とTABテープとを保持した場合
に、ガラスリッド42の周辺部下面がリード32の形状
に合わせた形状になるように面取り加工が施されてい
る。 Embodiment 2 FIG. 4 is a schematic sectional view showing a glass lid 42 used in Embodiment 2 of the CCD package according to the second invention, and FIG. 5 is a schematic diagram showing the configuration of a CCD package 40 of Embodiment 2. FIG. The CCD package 40 of the present embodiment includes:
A glass lid 42 shown in FIG. 4 is used instead of the glass lid 34 of the first embodiment. The glass lid 42 has a plane outer dimension substantially equal to the planar outer dimension of the chip 12 and a surface 44 facing the chip 12 in the peripheral portion thereof.
And chamfering (M) processing. At this time, when the chip 12 and the TAB tape of the CCD package 40 are held as shown in FIG. 3 while maintaining the dimension h shown in FIG. 3, the lower surface of the peripheral portion of the glass lid 42 is adjusted to the shape of the lead 32. Chamfering has been applied to make it into a shape.
【0021】以上の構成により、CCDパッケージ40
では、ガラスリッド34をチップ12に圧着した際に
も、リード32とチップ30の外縁部との間隙が大きく
なり、リード32がチップ12の外縁部に接触して短絡
現象を引き起こしたり、CCD固体撮像素子の特性の低
下を招くようなことはない。With the above configuration, the CCD package 40
In this case, even when the glass lid 34 is pressed against the chip 12, the gap between the lead 32 and the outer edge of the chip 30 increases, and the lead 32 contacts the outer edge of the chip 12 to cause a short circuit phenomenon, There is no possibility that the characteristics of the image sensor are deteriorated.
【0022】実施例3 本実施例は第3発明のCCDパッケージの実施例であっ
て、図6(a)は実施例3のCCDパッケージ50のリ
ードを含む断面での模式的断面図、図6(b)はCCD
パッケージ50のリードを含まない断面での模式的断面
図である。本実施例のCCDパッケージ50は、図7に
示す従来のCCDパッケージ10の構成に加えて、図6
(a)に示すように、リード16とチップ12との間に
絶縁性材料で形成された、例えば石英製のスペーサ52
を備えている。スペーサ52の高さは、Auバンプ14
とほぼ同じ高さを有している。Auバンプ14とスペー
サ52との間は、シール剤22により封止されている。
また、リード16を含まない断面では、チップ12とガ
ラスリッド18との間の周辺部は、図6(b)に示すよ
うに、シール剤22により封止されている。 Embodiment 3 This embodiment is an embodiment of the CCD package of the third invention. FIG. 6A is a schematic cross-sectional view of the CCD package 50 of Embodiment 3 in a section including leads. (B) CCD
FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a cross section not including a lead of a package 50. The CCD package 50 of this embodiment is different from the conventional CCD package 10 shown in FIG.
As shown in FIG. 3A, a spacer 52 made of an insulating material, for example, made of quartz, is provided between the lead 16 and the chip 12.
It has. The height of the spacer 52 is the same as that of the Au bump 14.
Has almost the same height as. The space between the Au bump 14 and the spacer 52 is sealed by the sealant 22.
In a cross section not including the leads 16, the peripheral portion between the chip 12 and the glass lid 18 is sealed with a sealant 22, as shown in FIG. 6B.
【0023】以上の構成により、CCDパッケージ50
では、ガラスリッド18をチップ12に圧着した際に仮
にリード16に押圧力が作用しても、スペーサ52によ
り支えれているので、リード16が変形してチップ12
の外縁部に接触すること防止される。よって、リード1
6がチップ12の外縁部に接触して短絡現象を引き起こ
したり、CCD固体撮像素子の特性の低下を招くような
ことはない。With the above configuration, the CCD package 50
In this case, even if a pressing force acts on the lead 16 when the glass lid 18 is pressed against the chip 12, the lead 16 is deformed because the lead 16 is deformed because the lead 16 is supported by the spacer 52.
Is prevented from coming into contact with the outer edge portion. Therefore, lead 1
6 does not contact the outer edge of the chip 12 to cause a short circuit phenomenon or to cause a decrease in the characteristics of the CCD solid-state imaging device.
【0024】[0024]
【発明の効果】請求項1の発明によれば、リードの電極
パッド接合端から外方に向かうに従ってチップとの間隙
が大きくなるような形状を有するリードと、外縁寸法が
チップの外縁寸法より僅かに小さい透明絶縁板とを備
え、透明絶縁板の外縁をチップの電極パッドの外縁と同
じか、僅かに外方に位置させることにより、本発明に係
るCCD固体撮像素子パッケージは、透明絶縁板をチッ
プに圧着した際にも、リードがチップの外縁部に接触し
て短絡現象を引き起こしたり、チップの特性の低下を招
くようなことはない。According to the first aspect of the present invention, a lead having such a shape that the gap between the lead and the chip increases outward from the electrode pad bonding end, and the outer edge dimension is smaller than the outer edge dimension of the chip. The CCD solid-state imaging device package according to the present invention includes a transparent insulating plate having a small transparent insulating plate, the outer edge of the transparent insulating plate being the same as or slightly outside the outer edge of the electrode pad of the chip. Even when crimped to the chip, the lead does not come into contact with the outer edge of the chip to cause a short circuit phenomenon or to reduce the characteristics of the chip.
【0025】請求項2の発明によれば、リードの電極パ
ッド接合端から外方に向かうに従ってチップとの間隙が
大きくなるような形状を有するリードと、チップに対向
する面が面取り加工されている透明絶縁板とを備えるこ
とにより、本発明に係るCCD固体撮像素子パッケージ
は、透明絶縁板をチップに圧着した際にも、リードがチ
ップの外縁部に接触して短絡現象を引き起こしたり、チ
ップの特性の低下を招くようなことはない。According to the second aspect of the present invention, the lead having such a shape that the gap between the lead and the chip increases outward from the electrode pad bonding end, and the surface facing the chip is chamfered. With the provision of the transparent insulating plate, the CCD solid-state imaging device package according to the present invention allows the leads to contact the outer edge of the chip to cause a short circuit phenomenon even when the transparent insulating plate is pressed against the chip, There is no possibility that the characteristics are deteriorated.
【0026】本発明に係るCCD固体撮像素子パッケー
ジを適用すれば、パッケージが小型化、薄型化されて
も、従来のCCD固体撮像素子パッケージで生じていた
エッジ短絡現象が起き難い。よって、製品歩留りが向上
し、安定した生産性を確保することができる。If the CCD solid-state imaging device package according to the present invention is applied, the edge short-circuit phenomenon that occurs in the conventional CCD solid-state imaging device package does not easily occur even if the package is reduced in size and thickness. Therefore, the product yield is improved, and stable productivity can be secured.
【図1】本発明に係るCCD固体撮像素子パッケージの
実施例1の構成を示す模式的断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view showing a configuration of a first embodiment of a CCD solid-state imaging device package according to the present invention.
【図2】図1のCCDパッケージにおけるガラスリッド
とチップとの封止工程を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a sealing step of sealing a glass lid and a chip in the CCD package of FIG. 1;
【図3】図2に引き続く封止工程を説明する図である。FIG. 3 is a view for explaining a sealing step following FIG. 2;
【図4】本発明に係るCCD固体撮像素子パッケージの
実施例2のガラスリッドの断面を示す模式的断面図であ
る。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing a cross section of a glass lid of Embodiment 2 of the CCD solid-state imaging device package according to the present invention.
【図5】本発明に係るCCD固体撮像素子パッケージの
実施例2の構成を示す模式的断面図である。FIG. 5 is a schematic sectional view showing a configuration of a CCD solid-state imaging device package according to a second embodiment of the present invention.
【図6】図6(a)及び(b)は、それぞれ本発明に係
るCCD固体撮像素子パッケージの実施例3の要部構成
を示す模式的断面図である。FIGS. 6A and 6B are schematic cross-sectional views each showing a main configuration of a third embodiment of a CCD solid-state imaging device package according to the present invention.
【図7】従来のCCD固体撮像素子パッケージの構成を
示す模式的断面図である。FIG. 7 is a schematic sectional view showing a configuration of a conventional CCD solid-state imaging device package.
【図8】従来のCCD固体撮像素子パッケージにおける
ガラスリッドとチップとの封止工程を説明する図であ
る。FIG. 8 is a diagram illustrating a sealing process of a glass lid and a chip in a conventional CCD solid-state imaging device package.
【図9】従来のCCD固体撮像素子パッケージにおける
問題点を説明するCCD固体撮像素子パッケージの断面
図である。FIG. 9 is a cross-sectional view of a CCD solid-state imaging device package for explaining a problem in a conventional CCD solid-state imaging device package.
10 従来のCCD固体撮像素子パッケージ 12 チップ 14 Auバンプ 16、32 リード 18、34、42 ガラスリッド 20 中空部 22 シール剤 30 実施例1のCCD固体撮像素子パッケージ 36 リードのAuバンプ接合端部 38 リードフレームの支持点 40 実施例2のCCD固体撮像素子パッケージ 44 ガラスリッドのチップに対向する面 50 実施例3のCCD固体撮像素子パッケージ 52 スペーサ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Conventional CCD solid-state image sensor package 12 Chip 14 Au bump 16, 32 lead 18, 34, 42 Glass lid 20 Hollow part 22 Sealant 30 CCD solid-state image sensor package of Example 1 36 Au bump joint end part of lead 38 Lead Frame support point 40 CCD solid-state imaging device package of the second embodiment 44 Surface facing glass chip chip 50 CCD solid-state imaging device package of the third embodiment 52 Spacer
Claims (6)
ップと、チップの電極パッドに接続されたリードと、チ
ップに対面し、かつチップとの間にリードを介在させて
いる透明絶縁板とを備え、チップと透明絶縁板の周辺部
同士がリード貫通部分を含めて相互に封止されているC
CD固体撮像素子パッケージにおいて、 リードは、リードの電極パッド接合端から外方に向かう
に従ってチップとの間隙が大きくなるような形状を有
し、 透明絶縁板は、その外縁寸法がチップの外縁寸法より小
さく、透明絶縁板の外縁がチップの電極パッドの外縁と
同じか、外方に位置していることを特徴とするCCD固
体撮像素子パッケージ。1. A chip on which a CCD solid-state imaging device is formed, a lead connected to an electrode pad of the chip, and a transparent insulating plate facing the chip and having a lead interposed between the chip and the chip. C in which the peripheral portions of the chip and the transparent insulating plate are mutually sealed including the lead penetrating portion.
In the CD solid-state imaging device package, the lead has a shape such that the gap from the chip becomes larger outward from the electrode pad bonding end of the lead, and the outer edge of the transparent insulating plate is smaller than the outer edge of the chip. small <br/> fence, transparent outer edge of the insulating plate is equal to or outer edge of the electrode pads of the chip, CCD solid-state image pickup element package and being located outwardly Ri.
ップと、チップの電極パッドに接続されたリードと、チ
ップに対面し、かつチップとの間にリードを介在させて
いる透明絶縁板とを備え、チップと透明絶縁板の周辺部
同士がリード貫通部分を含めて相互に封止されているC
CD固体撮像素子パッケージにおいて、 リードは、リードの電極パッド接合端から外方に向かう
に従ってチップとの間隙が大きくなるような形状を有
し、 透明絶縁板は、その周辺部のチップに対向する面がリー
ドの形状に合致するように面取り加工されていることを
特徴とするCCD固体撮像素子パッケージ。2. A chip on which a CCD solid-state imaging device is formed, a lead connected to an electrode pad of the chip, and a transparent insulating plate facing the chip and having a lead interposed between the chip and the chip. C in which the peripheral portions of the chip and the transparent insulating plate are mutually sealed including the lead penetrating portion.
In the CD solid-state imaging device package, the lead has a shape such that the gap from the chip increases outward from the electrode pad bonding end of the lead, and the transparent insulating plate has a peripheral surface facing the chip. Characterized by being chamfered so as to conform to the shape of the lead.
ップと、チップの電極パッドに接続されたリードと、チ
ップに対面し、かつチップとの間にリードを介在させて
いる透明絶縁板とを備え、チップと透明絶縁板の周辺部
同士がリード貫通部分を含めて相互に封止されているC
CD固体撮像素子パッケージであって、チップと透明絶
縁板との間に挟まれているリード部分とチップとの間に
介在し、絶縁性材料からなるスペーサを有し、該スペー
サは前記チップ上の前記パッドより外側に位置すること
を特徴とするCCD固体撮像素子パッケージ。3. A chip on which a CCD solid-state imaging device is formed, a lead connected to an electrode pad of the chip, and a transparent insulating plate facing the chip and interposing the lead between the chip. C in which the peripheral portions of the chip and the transparent insulating plate are mutually sealed including the lead penetrating portion.
A CD solid-state image sensor package , in which a lead portion sandwiched between a chip and a transparent insulating plate and the chip
Interposed, having a spacer made of an insulating material, the space
A CCD solid-state imaging device package, wherein the semiconductor device is located outside the pad on the chip .
Cu製リードであることを特徴とする請求項3記載のC
CD固体撮像素子パッケージ。4. The C according to claim 3, wherein the transparent insulating plate is a glass plate and the lead is a Cu lead.
CD solid-state imaging device package.
ップを封止してなるCCD固体撮像素子パッケージの封
止方法であって、リードをテープボンディングしたチッ
プに透明絶縁板を重ね、チップと透明絶縁板の周辺部同
士をリード貫通部分を含めて相互にシール剤で封止する
際に、 チップの外縁寸法より小さい外縁寸法を有する透明絶縁
板の周辺部の下面に封止用のシール剤を塗布し、 透明絶縁板の外縁がチップの電極パッドの外縁と同じ
か、外方に位置するように透明絶縁板を位置決めしてチ
ップ上に載せ、かつリードフレームの下面がリードの上
面より高い位置になるようにチップとリードフレームを
保持した状態で透明絶縁板をチップに押圧しつつシール
剤を硬化させることを特徴とするCCD固体撮像素子パ
ッケージの封止方法。5. A method for encapsulating a CCD solid-state image sensing device package in which a chip on which a CCD solid-state image sensing device is formed is sealed, wherein a transparent insulating plate is superimposed on a chip to which leads are tape-bonded, and the chip and the transparent when sealing with the sealing agent to each other the peripheral portions including the lead through part of the insulating plate, a seal for sealing the lower surface of the peripheral portion of the transparent insulation panel having a small again outer dimensions Ri by outer dimensions of the chip Apply the agent, position the transparent insulating plate so that the outer edge of the transparent insulating plate is the same as or the outer edge of the electrode pad of the chip, place it on the chip, and make sure that the lower surface of the lead frame is lower than the upper surface of the lead. A method of sealing a CCD solid-state imaging device package, wherein a sealant is cured while pressing a transparent insulating plate against a chip while holding the chip and a lead frame at a high position.
ップを封止してなるCCD固体撮像素子パッケージの封
止方法であって、リードをテープボンディングしたチッ
プに透明絶縁板を重ね、チップと透明絶縁板の周辺部同
士をリード貫通部分を含めて相互にシール剤で封止する
際に、 透明絶縁板の周辺部の下面に面取り加工を施し、 透明絶縁板の下面の面取り加工領域の内側に封止用のシ
ール剤を塗布し、 透明絶縁板に塗布したシール剤がチップの電極パッドの
外側領域に位置するように透明絶縁板を位置決めしてチ
ップ上に載せ、かつリードフレームの下面がリードの上
面より高い位置になるようにチップとリードフレームを
保持した状態で透明絶縁板をチップに押圧しつつシール
剤を硬化させることを特徴とするCCD固体撮像素子パ
ッケージの封止方法。6. A method for encapsulating a CCD solid-state image sensing device package in which a chip on which a CCD solid-state image sensing device is formed is sealed. When sealing the peripheral parts of the insulating plate with each other, including the lead penetrating parts, with the sealant, chamfering the lower surface of the peripheral part of the transparent insulating plate, and inside the chamfering area of the lower surface of the transparent insulating plate Apply a sealing agent for sealing, position the transparent insulating plate so that the sealing agent applied to the transparent insulating plate is located outside the electrode pad of the chip, and place it on the chip. A solid-state image pickup device, wherein the sealant is cured while pressing the transparent insulating plate against the chip while holding the chip and the lead frame at a position higher than the upper surface of the CCD. Package sealing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24659495A JP3358693B2 (en) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | CCD solid-state imaging device package and sealing method therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24659495A JP3358693B2 (en) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | CCD solid-state imaging device package and sealing method therefor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0969618A JPH0969618A (en) | 1997-03-11 |
| JP3358693B2 true JP3358693B2 (en) | 2002-12-24 |
Family
ID=17150743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24659495A Expired - Fee Related JP3358693B2 (en) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | CCD solid-state imaging device package and sealing method therefor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3358693B2 (en) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4729825B2 (en) * | 2001-08-17 | 2011-07-20 | ソニー株式会社 | Image sensor |
| KR20040019650A (en) * | 2002-08-28 | 2004-03-06 | 삼성전기주식회사 | Interior type camera module |
| US7859586B2 (en) | 2003-12-18 | 2010-12-28 | Panasonic Corporation | Solid-state imaging device, its production method, camera with the solid-state imaging device, and light receiving chip |
| JP6070933B2 (en) * | 2012-12-20 | 2017-02-01 | セイコーインスツル株式会社 | Optical device and method for manufacturing optical device |
| CN106031150A (en) * | 2014-02-24 | 2016-10-12 | 奥林巴斯株式会社 | Imaging device, and method for manufacturing imaging device |
| CN113327916A (en) * | 2021-04-29 | 2021-08-31 | 通富微电子股份有限公司技术研发分公司 | Multi-chip packaging structure and packaging method |
-
1995
- 1995-08-31 JP JP24659495A patent/JP3358693B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0969618A (en) | 1997-03-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3007023B2 (en) | Semiconductor integrated circuit and method of manufacturing the same | |
| US5693984A (en) | Semiconductor device having a heat radiator | |
| US6965154B2 (en) | Semiconductor device | |
| JP3349058B2 (en) | Structure of a semiconductor device having a plurality of IC chips | |
| KR100397539B1 (en) | Resin molded type semiconductor device and a method of manufacturing the same | |
| JP2939614B2 (en) | Stacked semiconductor package | |
| JP2816239B2 (en) | Resin-sealed semiconductor device | |
| US20080079105A1 (en) | Sensor-type package and fabrication method thereof | |
| US20020109216A1 (en) | Integrated electronic device and integration method | |
| JP3355881B2 (en) | Solid-state imaging device and manufacturing method thereof | |
| US7838972B2 (en) | Lead frame and method of manufacturing the same, and semiconductor device | |
| CN100370606C (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| JP3358693B2 (en) | CCD solid-state imaging device package and sealing method therefor | |
| JP4239466B2 (en) | Semiconductor device and manufacturing method thereof | |
| JP3248853B2 (en) | Structure of sealed semiconductor device having a plurality of IC chips | |
| JP2769255B2 (en) | Imaging device and method of manufacturing the same | |
| US5142450A (en) | Non-contact lead design and package | |
| JP3286196B2 (en) | Structure of sealed semiconductor device having a plurality of IC chips | |
| JP4543605B2 (en) | Solid-state imaging device and manufacturing method thereof | |
| JP2518247Y2 (en) | Lead frame | |
| KR100373891B1 (en) | Semiconductor device and method of its fabrication | |
| JPH1098122A (en) | Semiconductor device | |
| JPH01289259A (en) | Manufacture of semiconductor device | |
| JP3248854B2 (en) | Structure of a semiconductor device having a plurality of IC chips | |
| JP3201063B2 (en) | Semiconductor device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091011 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091011 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101011 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101011 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111011 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111011 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121011 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121011 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131011 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |