JP3361114B2 - X-ray generator - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、通電によりフィラメン
トを加熱して熱電子を発生し、その熱電子をターゲット
に衝突させて該ターゲットからX線を放射するX線発生
装置に関する。特に、EXAFS装置等のように試料に
入射するX線の波長を変化させながらX線測定を行なう
X線装置に好適なX線発生装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an X-ray generator for heating a filament by energization to generate thermoelectrons, colliding the thermoelectrons with a target and radiating X-rays from the target. In particular, the present invention relates to an X-ray generator suitable for an X-ray apparatus such as an EXAFS apparatus that performs X-ray measurement while changing the wavelength of X-rays incident on a sample.
【0002】[0002]
【従来の技術】一般にX線発生装置は、フィラメントと
そのフィラメントに対向して配置されるターゲットとを
有している。フィラメントには電流供給回路が接続さ
れ、その電流供給回路によってフィラメントに通電する
ことによりフィラメントが加熱される。この加熱により
フィラメントが発熱して熱電子が発生する。フィラメン
トとターゲットとの間には高電圧、例えば20〜60K
Vが印加され、フィラメントに発生した上記の熱電子が
その印加電圧によって加速されてターゲットに衝突す
る。この衝突によりターゲットからX線が放射される。2. Description of the Related Art Generally, an X-ray generator has a filament and a target arranged to face the filament. A current supply circuit is connected to the filament, and the current is supplied to the filament to heat the filament. This heating causes the filament to generate heat and generate thermoelectrons. High voltage between filament and target, eg 20-60K
V is applied, and the thermoelectrons generated in the filament are accelerated by the applied voltage and collide with the target. Due to this collision, X-rays are emitted from the target.
【0003】ところで、X線吸収スペクトルに現れるス
ペクトル振動構造、いわゆるイグザフス(EXAFS:
Extended X−Ray Absorption
Fine Structure)に基づいて試料の微細
構造等の解析を行なう装置として、EXAFS測定装置
があることは既に知られている。従来より、このEXA
FS測定装置においては、フィラメントの材質としてタ
ングステン(W)を使用した場合の測定例が多数報告さ
れている。X線の放射を行なっている間、すなわちフィ
ラメントから電子を発生させている間、そのタングステ
ンフィラメントからはタングステンが蒸発する。この蒸
発したタングステンは、ターゲットの表面に付着し、そ
の結果、ターゲットからタングステンの特性X線、主に
L線が多数発生する。By the way, a spectral vibrational structure appearing in an X-ray absorption spectrum, so-called EXAFS:
Extended X-Ray Absorption
It is already known that there is an EXAFS measurement device as a device for analyzing the fine structure of a sample based on Fine Structure). Conventionally, this EXA
In the FS measurement device, many measurement examples in which tungsten (W) is used as the material of the filament have been reported. During the emission of X-rays, that is, during the generation of electrons from the filament, tungsten evaporates from the tungsten filament. The evaporated tungsten adheres to the surface of the target, and as a result, a large number of characteristic X-rays of tungsten, mainly L-rays, are generated from the target.
【0004】EXAFS測定では、試料の吸収端近傍の
連続X線を波長を変化させながら試料に照射して試料の
X線吸収スペクトル、すなわち、入射X線と透過X線と
の強度比I0/I (I0 :試料に入射するX線の強度、
I:試料を透過するX線の強度)を測定する。また、試
料に入射するX線の強度をモニタし、そのモニタ結果に
基づいてフィラメントへの通電量を制御して、入射X線
の強度が常に一定になるようにしている。フィラメント
の材質としてタングステンを用いた場合にターゲットか
らタングステンの特性X線が多数発生することは上述の
通りであるが、この特性X線の波長が測定対象である試
料のX線吸収端に近いとすると、EXAFS測定におい
て入射X線の波長を変化させる際に、その入射X線の波
長がタングステンの特性X線の波長に合致することがあ
る。こうなると特性X線の波長の所で入射X線の強度が
著しく増大し、そのため、フィラメントへの通電量の制
御、すなわち入射X線の強度の制御ができなくなる。そ
のため、特性X線の近傍でのEXAFS測定の精度が悪
くなっていた。In the EXAFS measurement, continuous X-rays near the absorption edge of the sample are irradiated onto the sample while changing the wavelength, and the X-ray absorption spectrum of the sample, that is, the intensity ratio I 0 / transmission X-ray intensity ratio I 0 / I (I 0 : intensity of X-ray incident on the sample,
(I: intensity of X-ray transmitted through the sample) is measured. Further, the intensity of the X-ray incident on the sample is monitored, and the amount of electricity supplied to the filament is controlled based on the monitoring result so that the intensity of the incident X-ray is always constant. As described above, when tungsten is used as the material of the filament, many characteristic X-rays of tungsten are generated from the target. However, if the wavelength of the characteristic X-ray is close to the X-ray absorption edge of the sample to be measured. Then, when the wavelength of the incident X-ray is changed in the EXAFS measurement, the wavelength of the incident X-ray may match the wavelength of the characteristic X-ray of tungsten. In such a case, the intensity of the incident X-ray is significantly increased at the wavelength of the characteristic X-ray, which makes it impossible to control the amount of electricity supplied to the filament, that is, the intensity of the incident X-ray. Therefore, the accuracy of EXAFS measurement in the vicinity of the characteristic X-ray has deteriorated.
【0005】フィラメント材料の蒸発物がターゲットへ
付着することによって発生する特性X線がEXAFS測
定における精密測定を阻害することを回避するために
は、測定対象として供される試料に応じて、使用するフ
ィラメントの材質を変えれば良い。例えば、フィラメン
トの材質としてタングステン及び六ほう化ランタン(L
aB6 )の2種類を用意し、測定対象として供される試
料に応じてそれらを使い分ければ良い。In order to avoid the characteristic X-rays generated by the evaporation of the filament material adhering to the target from interfering with the precise measurement in the EXAFS measurement, it is used depending on the sample to be measured. Change the material of the filament. For example, tungsten and lanthanum hexaboride (L
It is only necessary to prepare two kinds of aB 6 ) and use them properly according to the sample to be used as the measurement target.
【0006】しかしながら、フィラメントを使い分ける
場合には、以下のような問題がある。すなわち、X線発
生装置においてX線を発生させるためには、通電により
フィラメントを加熱する必要がある。この場合、所定量
の熱電子を得るためのフィラメントの発熱温度はフィラ
メント材質によって異なり、また、フィラメントへの通
電容量もフィラメント材質によって異なる。例えば、タ
ングステンフィラメントでは、それを2500〜260
0゜C程度に発熱させる必要があり、そのために12
V,12A程度の通電容量で通電する必要がある。一
方、LaB6 フィラメントの場合は、それを1500〜
1600゜C程度に発熱させる必要があり、そのために
3V,30A程度の通電容量で通電する必要がある。こ
のように各フィラメントに関しては通電容量が異なって
いるので、それらに電流を供給するための電流供給系を
共通にすることができない。However, when the filaments are used properly, there are the following problems. That is, in order to generate X-rays in the X-ray generator, it is necessary to heat the filament by energizing. In this case, the exothermic temperature of the filament for obtaining a predetermined amount of thermoelectrons varies depending on the filament material, and the current-carrying capacity to the filament also varies depending on the filament material. For example, for a tungsten filament, it is 2500-260.
It is necessary to generate heat to about 0 ° C, and for that reason, 12
It is necessary to energize with an energizing capacity of about V, 12A. On the other hand, in the case of LaB 6 filament,
It is necessary to generate heat at about 1600 ° C, and for that reason, it is necessary to conduct electricity with a conducting capacity of about 3V, 30A. Since the current-carrying capacities of the respective filaments are different in this way, it is not possible to use a common current supply system for supplying current to them.
【0007】各フィラメントに異なる通電容量で通電を
しようとする場合、従来の技術に基づいてそれを行なう
ならば、種類の異なる個々のフィラメントを装着したX
線発生装置を複数個用意しておき、試料に応じてそれら
のX線発生装置を使い分けるという方法が考えられる。
しかしながらこの方法では、フィラメントごとにX線発
生装置を用意しておかなければならず、きわめて不経済
であり、設置のための場所を広く用意する必要もあると
いう問題があった。When it is attempted to energize each filament with different energizing capacities, if it is done based on the conventional technique, X in which individual filaments of different types are mounted
A method in which a plurality of X-ray generators are prepared and these X-ray generators are selectively used according to the sample can be considered.
However, in this method, an X-ray generator must be prepared for each filament, which is extremely uneconomical, and there is a problem that it is necessary to prepare a wide space for installation.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解消するためになされたものであって、異種材料の
フィラメントを搭載することができ、また、簡単な操作
のみによってそれらのフィラメントを適正な通電容量で
動作させることができ、しかも設置のためにそれほど広
い場所を必要としないX線発生装置を提供することを目
的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in order to solve the above problems, and filaments made of different materials can be mounted on the filaments, and those filaments can be mounted by a simple operation. It is an object of the present invention to provide an X-ray generator that can be operated with an appropriate current-carrying capacity and does not require a large space for installation.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明に係るX線発生装
置は、フィラメントとターゲットとの間に電圧を印加す
る管電圧印加手段と、フィラメントに電流を流す管電流
供給手段とを有しており、管電流供給手段によってフィ
ラメントに通電することによって該フィラメントを加熱
して該フィラメントから電子を発生させ、管電圧印加手
段によってフィラメントとターゲットとの間に印加され
る電圧によって電子を加速して該ターゲットに衝突させ
ることによってターゲットからX線を放射するX線発生
装置である。そして、上記フィラメントは所定位置に交
換可能に配置されており、上記管電流供給手段は次の構
成要素、すなわち、フィラメントへの給電路中に配置さ
れていて、フィラメントの種類に対応した個々の通電容
量を持った複数のフィラメントトランスと、それら複数
のフィラメントトランスのうちの1つを選択してそれを
フィラメントに電気的に接続するスイッチとを有するこ
とを特徴としている。An X-ray generator according to the present invention comprises a tube voltage applying means for applying a voltage between a filament and a target, and a tube current supplying means for supplying a current to the filament. The filament is heated by the tube current supply means to heat the filament to generate electrons from the filament, and the voltage is applied between the filament and the target by the tube voltage applying means to accelerate the electrons. It is an X-ray generator that emits X-rays from the target by colliding with the target. The filament is replaceably arranged at a predetermined position, and the tube current supply means is arranged in the following constituent element, that is, in the power feeding path to the filament, and the individual energization corresponding to the type of filament is performed. It is characterized by having a plurality of filament transformers having a capacity and a switch for selecting one of the plurality of filament transformers and electrically connecting it to the filament.
【0010】[0010]
【作用】フィラメントが交換可能になっていて、測定対
象として供される試料に適合したフィラメントがX線発
生装置内の所定位置に設置される。そして、スイッチを
操作して、あるいはフィラメントの交換作業に連動して
自動的にスイッチを切り換えて、設置されたフィラメン
トの通電容量に適合したフィラメントトランスを選択
し、それをフィラメントに接続させる。これにより、個
々のフィラメントは常に適正な通電容量で通電され、所
定量の熱電子を放出する。X線発生装置内には、交換さ
れるべきフィラメントに対応した複数のフィラメントト
ランス及びそれらを切り換えるためのスイッチが設置さ
れるだけなので、個々のフィラメントを備えたX線発生
装置を複数個用意する場合に比べて、X線発生装置の設
置空間を狭くできる。The filament is replaceable, and the filament suitable for the sample to be measured is installed at a predetermined position in the X-ray generator. Then, the switch is operated, or the switch is automatically switched in association with the filament replacement work to select a filament transformer suitable for the energizing capacity of the installed filament and connect it to the filament. As a result, each filament is always energized with an appropriate energizing capacity and emits a predetermined amount of thermoelectrons. In the X-ray generator, a plurality of filament transformers corresponding to the filaments to be replaced and a switch for switching between them are simply installed. Therefore, when preparing a plurality of X-ray generators with individual filaments. The installation space of the X-ray generator can be made narrower than that of.
【0011】[0011]
【実施例】図1は本発明に係るX線発生装置の一実施例
を示している。このX線発生装置はX線管17を有して
おり、そのX線管17内に、フィラメント1と、それに
対向して配置されたターゲット2とが設けられている。
フィラメント1は、X線管17内における所定位置に交
換可能に設置されていて、異なる材質からなるものを交
換して設置できるようになっている。その交換は任意の
方法によって行なうことができ、例えばカセット型式の
フィラメントユニットを複数個用意しておいてユニット
ごと交換する方法、ねじ等の締結手段によってフィラメ
ントごとに交換する方法等が考えられる。実施例の場合
は、フィラメント1としてLaB6 フィラメント及びタ
ングステンフィラメントの2種類を使用するものとす
る。ターゲット2は、例えば銅(Cu)によって形成さ
れている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an embodiment of the X-ray generator according to the present invention. This X-ray generator has an X-ray tube 17, and inside the X-ray tube 17, a filament 1 and a target 2 arranged opposite thereto are provided.
The filament 1 is replaceably installed at a predetermined position in the X-ray tube 17, and the filaments 1 made of different materials can be replaced and installed. The replacement can be performed by any method. For example, a method of preparing a plurality of cassette type filament units and exchanging each unit, a method of exchanging each filament by fastening means such as a screw, and the like can be considered. In the case of the example, two types of filaments, that is, a LaB 6 filament and a tungsten filament, are used. The target 2 is made of, for example, copper (Cu).
【0012】フィラメント1とターゲット2との間には
管電圧印加回路3が電気的に接続されている。この管電
圧印加回路3は、定電圧を出力する管電圧制御回路5
と、その出力電圧を昇圧する高圧トランス6と、トラン
ス6の出力電圧を直流電圧に整流する整流回路7とを有
している。この管電圧印加回路3によってフィラメント
1とターゲット2との間に直流の高電圧、例えば20〜
60KVが印加される。A tube voltage applying circuit 3 is electrically connected between the filament 1 and the target 2. The tube voltage application circuit 3 includes a tube voltage control circuit 5 that outputs a constant voltage.
And a high-voltage transformer 6 that boosts the output voltage thereof, and a rectifier circuit 7 that rectifies the output voltage of the transformer 6 into a DC voltage. With this tube voltage application circuit 3, a high DC voltage between the filament 1 and the target 2, for example, 20 to
60 KV is applied.
【0013】フィラメント1には、管電流供給回路4が
電気的に接続されている。この管電流供給回路4は、定
電流を出力する管電流制御回路8と、タングステン用フ
ィラメントトランス9Wと、LaB6 用フィラメントト
ランス9Lと、接点A及びBを備えたスイッチ10とを
有している。タングステン用フィラメントトランス9W
は、タングステンフィラメントを発熱させるのに適した
通電容量、例えば12V,12Aを有しており、LaB
6 用フィラメントトランス9Lは、LaB6 フィラメン
トを発熱させるのに適した通電容量、例えば3V,30
Aの通電容量を有している。スイッチ10は、作業者の
手動により、またはフィラメント1の交換作業に連動し
て自動的に動作して接点A,Bの接続端子を切り換え
る。図示の状態は、タングステン用フィラメントトラン
ス9W側の端子が、管電流制御回路8からフィラメント
1に至る給電路に接続されている。A tube current supply circuit 4 is electrically connected to the filament 1. The tube current supply circuit 4 includes a tube current control circuit 8 that outputs a constant current, a tungsten filament transformer 9W, a LaB 6 filament transformer 9L, and a switch 10 having contacts A and B. . Tungsten filament transformer 9W
Has a current-carrying capacity suitable for causing the tungsten filament to generate heat, for example, 12V, 12A, and LaB
The filament transformer 9L for 6 has a current-carrying capacity suitable for heating the LaB 6 filament, for example, 3V, 30
It has a current carrying capacity of A. The switch 10 is operated manually by an operator or automatically in association with the replacement work of the filament 1 to switch the connection terminals of the contacts A and B. In the illustrated state, the terminal on the tungsten filament transformer 9W side is connected to the power feeding path from the tube current control circuit 8 to the filament 1.
【0014】X線管17内において、フィラメント1と
ターゲット2との間にはウエネルト11が配置されてい
る。このウエネルト1には、バイアス制御回路12、バ
イアストランス13、そして整流回路14によって構成
されたバイアス電圧印加回路が接続されており、このバ
イアス電圧印加回路によりウエネルト11にバイアス電
圧が印加されるようになっている。In the X-ray tube 17, a Wehnelt 11 is arranged between the filament 1 and the target 2. A bias voltage application circuit composed of a bias control circuit 12, a bias transformer 13, and a rectifier circuit 14 is connected to the Wehnelt 1. The bias voltage application circuit applies a bias voltage to the Wehnelt 11. Has become.
【0015】なお、図示のように、管電圧印加回路3を
構成する高圧トランス6及び整流回路7、バイアス電圧
印加回路を構成するバイアストランス13及び整流回路
14、そして管電流供給回路4を構成するタングステン
用フィラメントトランス9Wの各要素は、高電圧トラン
スユニット15内に納められて1つのユニットとなって
いる。また、管電流供給回路4を構成するLaB6 用フ
ィラメントトランス9L及びスイッチ10の接点Aは、
高圧トランスユニット15と別体であるサブトランスユ
ニット16内に納められて1つのユニットとなってい
る。As shown in the figure, a high voltage transformer 6 and a rectifying circuit 7 which constitute the tube voltage applying circuit 3, a bias transformer 13 and a rectifying circuit 14 which constitute a bias voltage applying circuit, and a tube current supplying circuit 4 are constituted. Each element of the tungsten filament transformer 9W is housed in the high voltage transformer unit 15 to form one unit. Further, the contact A of the filament transformer 9L for LaB 6 and the switch 10 which constitute the tube current supply circuit 4 is
It is housed in a sub-transformer unit 16 which is a separate body from the high-voltage transformer unit 15 to form one unit.
【0016】以下、上記構成よりなるX線発生装置の動
作について説明する。まず、フィラメント1としてタン
グステンフィラメントが選択されてそれがX線管17内
の所定位置に設置されているものとする。このとき、ス
イッチ10において接点A,Bは図示のようにタングス
テン用フィラメントトランス9W側にセットされる。こ
の状態で管電流制御回路8から出力され、タングステン
用フィラメントトランス9Wによって12V,12Aに
容量制御された電流がフィラメント1に供給される。こ
の電流供給によりタングステンフィラメントが所定温
度、例えば2600゜Cに発熱して所定量の熱電子が放
出される。The operation of the X-ray generator having the above structure will be described below. First, it is assumed that a tungsten filament is selected as the filament 1 and is installed at a predetermined position in the X-ray tube 17. At this time, the contacts A and B in the switch 10 are set to the tungsten filament transformer 9W side as shown in the figure. In this state, the current output from the tube current control circuit 8 and having a capacity controlled to 12V and 12A by the tungsten filament transformer 9W is supplied to the filament 1. By this current supply, the tungsten filament generates heat at a predetermined temperature, for example, 2600 ° C., and a predetermined amount of thermoelectrons is emitted.
【0017】フィラメント1とターゲット2との間に
は、管電圧印加回路3によって高電圧、例えば20〜6
0KVが印加されており、タングステンフィラメント1
から放出された上記の熱電子は、その印加電圧によって
加速されてターゲット2に衝突する。この場合、フィラ
メント1から放出された電子は、ウエネルト11に印加
された電圧の影響でその進行方向が制御され、ターゲッ
ト2上の所定領域に衝突する。この衝突によりターゲッ
ト2からX線が放射される。このX線は、例えばEXA
FS測定において、タングステンの特性X線の波長から
大きく離れた波長をX線吸収端とるする物質を試料とす
る場合のX線源として用いられる。A high voltage, for example, 20 to 6 is applied between the filament 1 and the target 2 by the tube voltage applying circuit 3.
0KV is applied and tungsten filament 1
The above-mentioned thermoelectrons emitted from are accelerated by the applied voltage and collide with the target 2. In this case, the direction of travel of the electrons emitted from the filament 1 is controlled by the influence of the voltage applied to the Wehnelt 11, and the electrons collide with a predetermined region on the target 2. Due to this collision, X-rays are emitted from the target 2. This X-ray is, for example, EXA
In FS measurement, it is used as an X-ray source in the case where a material having an X-ray absorption edge at a wavelength largely separated from the characteristic X-ray wavelength of tungsten is used as a sample.
【0018】X線吸収端がタングステンの特性X線の波
長の近傍にあるような試料についてEXAFS測定を行
なう場合は、フィラメント1をタングステンフィラメン
トからLaB6 フィラメントに交換する。そして、スイ
ッチ10の接点A,BをLaB6 用フィラメントトラン
ス9L側に切り換える。スイッチ10がフィラメント1
の交換と連動して切り換わるようになっている場合は、
フィラメントの交換と共に自動的に切り換わる。When the EXAFS measurement is performed on a sample whose X-ray absorption edge is in the vicinity of the characteristic X-ray wavelength of tungsten, the filament 1 is replaced with a LaB 6 filament. Then, the contacts A and B of the switch 10 are switched to the LaB 6 filament transformer 9L side. Switch 10 is filament 1
If it is switched in conjunction with the replacement of,
It switches automatically when the filament is replaced.
【0019】スイッチ10の切り換えにより、管電流制
御回路8からフィラメント1に至る給電路にはLaB6
用フィラメントトランス9Lが接続される。従って、L
aB 6 フィラメント1には、LaB6 用フィラメントト
ランス9Lの通電容量、例えば3V,30Aで通電が行
なわれる。これにより、LaB6 フィラメント1が所定
温度、例えば1500゜Cに発熱して所定量の熱電子が
放出され、そしてターゲット2からX線が放射される。By switching the switch 10, the tube current is controlled.
LaB is provided in the power supply path from the control circuit 8 to the filament 1.6
The filament transformer 9L is connected. Therefore, L
aB 6 For filament 1, LaB6 For filament
Energization is performed with the current-carrying capacity of the lance 9L, for example, 3V, 30A.
Be played. As a result, LaB6 Filament 1 is predetermined
Generates a certain amount of thermoelectrons by generating heat at a temperature of 1500 ° C, for example.
The target 2 emits X-rays.
【0020】LaB6 フィラメント1からはランタン
(La)が蒸発してそれがターゲット2に付着し、その
結果、ターゲット2からはランタンの特性X線が多数発
生するようになる。しかしながら、この特性X線の波長
はタングステンの特性X線の波長と大きく異なってお
り、従って、今現在測定に供されている試料に関して
は、ランタンの特性X線がEXAFS測定に悪影響を与
えることはなく、精度の高いEXAFS測定が行なわれ
る。Lanthanum (La) evaporates from the LaB 6 filament 1 and adheres to the target 2. As a result, many lanthanum characteristic X-rays are generated from the target 2. However, the wavelength of the characteristic X-ray is significantly different from the wavelength of the characteristic X-ray of tungsten, and therefore, regarding the sample currently subjected to the measurement, the characteristic X-ray of lanthanum does not adversely affect the EXAFS measurement. Therefore, EXAFS measurement with high accuracy is performed.
【0021】以上のように、図1に示したX線発生装置
においては、2つのフィラメントトランス9W,9Lを
設けたので、異なる材質のフィラメント1を交換して用
いることが可能となった。また、スイッチ10の切り換
えによって2つのトランス9W,9Lを選択して使用す
るようにしたので、トランス9W,9L以外の部品は全
て共通に使用できる。従って、経済的であり、しかもX
線発生装置の全体形状を小さくできる。As described above, in the X-ray generator shown in FIG. 1, since the two filament transformers 9W and 9L are provided, the filaments 1 made of different materials can be exchanged and used. Further, since the two transformers 9W and 9L are selected and used by switching the switch 10, all components other than the transformers 9W and 9L can be commonly used. Therefore, it is economical and X
The overall shape of the line generator can be reduced.
【0022】また、大電流が流れるLaB6 用フィラメ
ントトランス9Lは、小電流が流れるタングステン用フ
ィラメントトランス9Wに比べて、よりフィラメント1
に近い位置に接続されている。これは、大電流が流れる
通電路をできるだけ短くして、安全性を向上させるため
である。Further, the filament transformer 9L for LaB 6 through which a large current flows has more filaments 1 than the filament transformer 9W for tungsten through which a small current flows.
It is connected to a position close to. This is to shorten the conducting path through which a large current flows as much as possible to improve safety.
【0023】また、フィラメント1の交換を予定してい
ない通常の従来型式のX線発生装置の場合、フィラメン
ト1、ターゲット2及びウエネルト11には、図1の高
電圧トランスユニット15が接続されている。この従来
型式のX線発生装置に、サブトランス16及びスイッチ
10を付設すれば、その従来型式のX線発生装置を簡単
に本発明のようなフィラメントを交換できる型式のX線
発生装置に改造することができる。In the case of an ordinary conventional X-ray generator in which the filament 1 is not scheduled to be replaced, the high voltage transformer unit 15 shown in FIG. 1 is connected to the filament 1, the target 2 and the Wehnelt 11. . If the sub-transformer 16 and the switch 10 are attached to this conventional type X-ray generator, the conventional type X-ray generator can be easily converted into the type of X-ray generator of the present invention in which the filament can be replaced. be able to.
【0024】以上、1つの実施例を用いて本発明を説明
したが、本発明はその実施例に限定されるものではな
い。例えば、本発明に係るX線発生装置を用いることが
できるX線装置は、EXAFS測定装置に限られず、X
線の波長を変化させる必要のある任意のX線装置に用い
ることができる。Although the present invention has been described with reference to one embodiment, the present invention is not limited to that embodiment. For example, the X-ray apparatus that can use the X-ray generator according to the present invention is not limited to the EXAFS measurement apparatus,
It can be used in any X-ray device that needs to change the wavelength of the line.
【0025】また、フィラメントトランスの数は2個に
限られず、より多くすることもできる。Further, the number of filament transformers is not limited to two, and can be increased.
【0026】[0026]
【発明の効果】本発明によれば、1つのX線発生装置内
に通電容量の異なる複数のフィラメントトランスを設け
たので、1つのX線発生装置において異なる材質のフィ
ラメントを交換して使用することができる。フィラメン
トの交換を可能にさせるための構成は、通電容量の異な
る予備のフィラメントトランスとスイッチだけであるの
で、X線発生装置の全体形状はそれほど大型にならな
い。According to the present invention, since a plurality of filament transformers having different energizing capacities are provided in one X-ray generator, it is possible to replace and use filaments of different materials in one X-ray generator. You can Since the configuration for enabling the exchange of the filaments is only the spare filament transformers and switches having different current carrying capacities, the overall shape of the X-ray generator does not become so large.
【図1】本発明に係るX線発生装置の一実施例の回路図
である。FIG. 1 is a circuit diagram of an embodiment of an X-ray generator according to the present invention.
1 フィラメント 2 ターゲット 3 管電圧印加回路 4 管電流供給回路 9W タングステン用フィラメントトランス 9L LaB6 用フィラメントトランス 10 スイッチ A,B スイッチ接点1 Filament 2 Target 3 Tube voltage application circuit 4 Tube current supply circuit 9W Tungsten filament transformer 9L LaB 6 filament transformer 10 Switch A, B switch contact
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 35/06 H05G 1/00 G21K 5/02 Front page continuation (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01J 35/06 H05G 1/00 G21K 5/02
Claims (4)
を印加する管電圧印加手段と、フィラメントに電流を流
す管電流供給手段とを有しており、管電流供給手段によ
ってフィラメントに通電することによって該フィラメン
トを加熱して該フィラメントから電子を発生させ、管電
圧印加手段によってフィラメントとターゲットとの間に
印加される電圧によって電子を加速して該ターゲットに
衝突させることによってターゲットからX線を放射する
X線発生装置において、 上記フィラメントは所定位置に交換可能に配置されてお
り、 上記管電流供給手段は、 フィラメントへの給電路中に配置されていて、フィラメ
ントの種類に対応した個々の通電容量を持った複数のフ
ィラメントトランスと、 それら複数のフィラメントトランスのうちの1つを選択
してそれをフィラメントに電気的に接続するスイッチと
を有することを特徴とするX線発生装置。1. A tube voltage applying means for applying a voltage between the filament and the target, and a tube current supplying means for supplying an electric current to the filament, wherein the tube current supplying means energizes the filament to generate the voltage. The filament is heated to generate electrons from the filament, and the voltage applied between the filament and the target by the tube voltage applying means accelerates the electrons to collide with the target to emit X-rays from the target. In the wire generator, the filament is arranged in a replaceable manner at a predetermined position, and the tube current supply means is arranged in a power feeding path to the filament and has an individual current-carrying capacity corresponding to the type of filament. A plurality of filament transformers and one of the plurality of filament transformers X-ray generator characterized by having it into filaments by selecting a switch for electrically connecting.
フィラメントとを結ぶ通電路が、電流量の小さいフィラ
メントトランスとフィラメントとを結ぶ通電路よりも短
いことを特徴とする請求項1記載のX線発生装置。2. The X-ray generator according to claim 1, wherein a current path connecting the filament transformer with a large current amount and the filament is shorter than a current path connecting the filament transformer with a small current amount and the filament. .
に別体に設けられることを特徴とする請求項1又は請求It is provided as a separate body in
項2記載のX線発生装置。Item 2. The X-ray generator according to item 2.
いに分離された複数のユニットの中に納められることをBe housed in multiple separate units
特徴とする請求項3記載のX線発生装置。The X-ray generator according to claim 3, which is characterized in that.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35615991A JP3361114B2 (en) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | X-ray generator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35615991A JP3361114B2 (en) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | X-ray generator |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05174748A JPH05174748A (en) | 1993-07-13 |
| JP3361114B2 true JP3361114B2 (en) | 2003-01-07 |
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ID=18447629
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35615991A Expired - Fee Related JP3361114B2 (en) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | X-ray generator |
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|---|---|
| JP (1) | JP3361114B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5237002B2 (en) * | 2008-06-13 | 2013-07-17 | 浜松ホトニクス株式会社 | X-ray generator and filament determination method |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3110755U (en) | 2005-04-01 | 2005-06-30 | 株式会社石束土木設計事務所 | Golf club |
-
1991
- 1991-12-24 JP JP35615991A patent/JP3361114B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3110755U (en) | 2005-04-01 | 2005-06-30 | 株式会社石束土木設計事務所 | Golf club |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05174748A (en) | 1993-07-13 |
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