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JP3366513B2 - Substrate transfer device and method of correcting positional deviation in substrate transfer device - Google Patents
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JP3366513B2 - Substrate transfer device and method of correcting positional deviation in substrate transfer device - Google Patents

Substrate transfer device and method of correcting positional deviation in substrate transfer device

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JP3366513B2
JP3366513B2 JP30914195A JP30914195A JP3366513B2 JP 3366513 B2 JP3366513 B2 JP 3366513B2 JP 30914195 A JP30914195 A JP 30914195A JP 30914195 A JP30914195 A JP 30914195A JP 3366513 B2 JP3366513 B2 JP 3366513B2
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positional deviation
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶用ガラス角
型基板、半導体ウエハなどの基板(以下「基板」とい
う)に対してアクセスした際に基板の保持位置を自動的
に位置補正して当該基板を基準保持位置で保持する位置
補正部を有し、所定の基板受渡し位置に対して個別に進
退する第1および第2搬送アームを備え、第1搬送アー
ムが基板を基板受渡し位置に渡した後に、第2搬送アー
ムが基板受渡し位置に位置する基板を受け取り、第1搬
送アームから第2搬送アームへの基板受渡しを行う基板
搬送装置および、その基板搬送装置において発生する第
1搬送アームと第2搬送アームとの相対位置ずれを修正
する位置ずれ修正方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention automatically corrects the holding position of a substrate when a substrate such as a glass rectangular substrate for liquid crystal or a semiconductor wafer (hereinafter referred to as "substrate") is accessed. It has a position correction unit that holds the substrate at the reference holding position, and includes first and second transfer arms that individually advance and retract with respect to a predetermined substrate transfer position, and the first transfer arm transfers the substrate to the substrate transfer position. After that, the second transfer arm receives the substrate located at the substrate transfer position and transfers the substrate from the first transfer arm to the second transfer arm, and the first transfer arm and the first transfer arm generated in the substrate transfer device. The present invention relates to a positional deviation correcting method for correcting relative positional deviation with a transport arm.

【0002】[0002]

【従来の技術】図11は従来の基板搬送装置における搬
送アームの位置ずれ修正方法を示す説明図である。
2. Description of the Related Art FIG. 11 is an explanatory view showing a method for correcting a displacement of a transfer arm in a conventional substrate transfer apparatus.

【0003】この基板搬送装置には基板受渡し部103
を挟んで対向するように搬送アーム101および搬送ア
ーム102が設けられている。搬送アーム101は矢符
AAのように、また搬送アーム102は矢符ABのよう
にそれぞれ基板受渡し部103に対して進退可能に構成
されている。そして搬送アーム101が保持していた基
板を基板受渡し部103に載置して後退した後に、搬送
アーム102が基板受渡し部103に進入して、その基
板を受取り、後退する。これにより搬送アーム101か
ら搬送アーム102に基板が受け渡される。
The substrate transfer device includes a substrate transfer section 103.
A transfer arm 101 and a transfer arm 102 are provided so as to be opposed to each other with sandwiching therebetween. The transfer arm 101 is configured to move forward and backward with respect to the substrate transfer part 103 as indicated by arrow AA, and the transfer arm 102 is moved forward and backward with respect to arrow AB. Then, after the substrate held by the transfer arm 101 is placed on the substrate transfer part 103 and retracted, the transfer arm 102 enters the substrate transfer part 103 to receive the substrate and retreat. As a result, the substrate is transferred from the transfer arm 101 to the transfer arm 102.

【0004】このような基板搬送装置において搬送アー
ム101によって基板受渡し部103に載置された基板
の位置と、その基板を受け取るために基板受渡し部10
3に進入した搬送アーム102の位置がずれていること
がある。これは基板受渡し部103への進入時における
搬送アーム101と搬送アーム102との相対位置ずれ
があるためである。このような両搬送アーム間に相対的
な位置ずれがあると、基板受渡し部103に載置された
基板を搬送アーム102が受け取る際に基板をうまく保
持できず、基板を受渡し損なうことがある。
In such a substrate transfer apparatus, the position of the substrate placed on the substrate transfer unit 103 by the transfer arm 101 and the substrate transfer unit 10 for receiving the substrate.
The position of the transfer arm 102 that has entered 3 may be displaced. This is because there is a relative positional deviation between the transfer arm 101 and the transfer arm 102 when entering the substrate transfer section 103. If there is a relative positional deviation between the two transfer arms, the substrate cannot be properly held when the transfer arm 102 receives the substrate placed on the substrate transfer unit 103, and the transfer of the substrate may fail.

【0005】そのため、製品出荷時や、メンテナンス時
等に基板受渡し部103における搬送アーム101と搬
送アーム102との相対位置ずれを捉えて、これを修正
しなければならない。
Therefore, at the time of product shipment, maintenance, etc., the relative positional deviation between the transfer arm 101 and the transfer arm 102 in the substrate transfer section 103 must be grasped and corrected.

【0006】そのため、図11に示したように従来の装
置では搬送アーム101および搬送アーム102のそれ
ぞれによって、中心に十字の印が付された透明基板11
0,111を保持するとともに、基板受渡し部103の
中心にも同様の十字が付されている。そして、搬送アー
ム101を基板受渡し部103に進入させ、透明基板1
10の十字と基板受渡し部103の十字のずれを真上か
ら視認することにより捉え、それを補うように搬送アー
ム101の基板受渡し部103に対する位置をそれぞれ
修正していき、最終的に搬送アーム101に保持された
透明基板110と基板受渡し部103の十字が一致する
ように調整する。同様に、搬送アーム102に保持され
た透明基板111と基板受渡し部103の十字も一致す
るように調整する。このようにして基板受渡し部103
への進入時の搬送アーム101および搬送アーム102
のそれぞれと基板受渡し部103との位置をそれぞれ揃
えることにより、最終的に搬送アーム101と搬送アー
ム102の基板受渡し部103における相対的な位置ず
れを修正していた。
Therefore, as shown in FIG. 11, in the conventional apparatus, the transparent substrate 11 having a cross mark at its center is formed by each of the transfer arm 101 and the transfer arm 102.
While holding 0 and 111, a similar cross is attached to the center of the substrate transfer part 103. Then, the transfer arm 101 is moved into the substrate transfer section 103, and the transparent substrate 1
The misalignment of the cross 10 and the cross of the substrate transfer unit 103 is visually recognized from directly above, and the position of the transfer arm 101 with respect to the substrate transfer unit 103 is corrected so as to make up for it, and finally the transfer arm 101 is moved. The transparent substrate 110 held by and the crosses of the substrate transfer section 103 are adjusted so as to match each other. Similarly, the crosses of the transparent substrate 111 held by the transfer arm 102 and the substrate transfer section 103 are adjusted so as to match each other. In this way, the substrate transfer section 103
Transfer arm 101 and transfer arm 102 when entering
By aligning the position of each of the substrate transfer unit 103 and the position of each of the substrate transfer units 103, the relative positional deviation between the transfer arm 101 and the transfer arm 102 in the substrate transfer unit 103 is finally corrected.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記したよ
うな両搬送アームの相対的な位置ずれの修正は、基板受
渡し部103がベークユニット等の場合には、その上部
が覆われている。そのため、そのような場合には基板受
渡し部103を真上から視認することが困難であり、上
記したような両搬送アーム101,102間での相対的
な位置ずれの修正は不可能であった。
By the way, in the correction of the relative displacement between the two transfer arms as described above, when the substrate transfer section 103 is a bake unit or the like, the upper part thereof is covered. Therefore, in such a case, it is difficult to visually recognize the substrate transfer section 103 from directly above, and it is impossible to correct the relative positional deviation between the two transfer arms 101 and 102 as described above. .

【0008】この発明は、従来技術における上述の問題
の克服を意図しており、基板受渡し位置が視認できるか
否かに関わらず第1および第2搬送アーム間での相対位
置ずれを容易に捉えることができ、さらにその位置ずれ
を修正することが可能な基板搬送装置を提供することを
第1の目的とする。
The present invention is intended to overcome the above-mentioned problems in the prior art, and easily captures the relative positional deviation between the first and second transfer arms regardless of whether the substrate transfer position is visible or not. A first object of the present invention is to provide a substrate transfer device capable of correcting the positional deviation.

【0009】さらに、基板受渡し位置が視認困難な場合
であっても、第1および第2搬送アーム間での相対位置
ずれを容易に捉えることができ、さらにその位置ずれを
修正することが可能な基板搬送装置における位置ずれ修
正方法を提供することを第2の目的とする。
Further, even when the substrate transfer position is difficult to visually recognize, the relative positional deviation between the first and second transfer arms can be easily grasped and the positional deviation can be corrected. A second object is to provide a method for correcting the positional deviation in the substrate transfer device.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、基板
に対してアクセスした際に基板の保持位置を自動的に位
置補正して当該基板を基準保持位置で保持する位置補正
部を有し、所定の基板受渡し位置に対して個別に進退す
る第1および第2搬送アームを備え、前記第1搬送アー
ムが基板を前記基板受渡し位置に渡した後に、前記第2
搬送アームが前記基板受渡し位置に位置する基板を受け
取り、前記第1搬送アームから前記第2搬送アームへの
基板受渡しを行う基板搬送装置であって、上記第1の目
的を達成するため、前記第2搬送アームの前記位置補正
部に着脱自在で、前記第2搬送アームの前記位置補正部
に載置され、当該位置補正部の位置補正機能を打ち消す
とともに、当該位置補正部に代わって基板を水平保持し
て、前記第1搬送アームと前記第2搬送アームとの相対
位置ずれを示す治具を備えている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a position correction section for automatically correcting the holding position of the substrate when the substrate is accessed and holding the substrate at the reference holding position. And a first and a second transfer arm that individually advance and retract with respect to a predetermined substrate transfer position, and the first transfer arm transfers the substrate to the substrate transfer position, and then the second transfer arm.
A substrate transfer device that receives a substrate located at the substrate transfer position by a transfer arm and transfers the substrate from the first transfer arm to the second transfer arm. 2 is attachable to and detachable from the position correction unit of the transfer arm, is placed on the position correction unit of the second transfer arm, cancels the position correction function of the position correction unit, and horizontally shifts the substrate in place of the position correction unit. A jig for holding and showing a relative positional deviation between the first transfer arm and the second transfer arm is provided.

【0011】請求項2の発明は、基板に対してアクセス
した際に基板の保持位置を自動的に位置補正して当該基
板を基準保持位置で保持する位置補正部を有し、所定の
基板受渡し位置に対して個別に進退する第1および第2
搬送アームを備え、前記基板受渡し位置を介して前記第
1搬送アームから前記第2搬送アームへの基板受渡しを
行う基板搬送装置における前記第1搬送アームと前記第
2搬送アームとの相対位置ずれを修正する位置ずれ修正
方法であって、上記第2の目的を達成するため、前記第
2搬送アームの位置補正部に、当該位置補正部の位置補
正機能を打ち消すとともに、当該位置補正部に代わって
基板を水平保持して、前記第1搬送アームと前記第2搬
送アームとの相対位置ずれを示す治具を載置する工程
と、前記基準保持位置で基板を保持した状態で前記第1
搬送アームを前記基板受渡し位置に送り込み、当該基板
を前記基板受渡し位置に渡す工程と、前記治具が載置さ
れたままの状態で前記第2搬送アームを前記基板受渡し
位置に送り込み、前記基板受渡し位置に位置する基板を
前記治具上に受け取る工程と、前記基板を保持したまま
前記第2搬送アームを視認可能な位置に移動させる工程
と、前記基板のずれ量を前記第1搬送アームと前記第2
搬送アームとの相対位置ずれ量として前記治具から読取
る工程と、前記相対位置ずれ量を補うように前記第1搬
送アームと前記第2搬送アームの相対的な位置を修正す
る工程と、を備えている。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a position correction unit for automatically correcting the holding position of the substrate when the substrate is accessed and holding the substrate at the reference holding position. 1st and 2nd moving forward / backward independently of position
A relative position shift between the first transfer arm and the second transfer arm in a substrate transfer device that includes a transfer arm and transfers the substrate from the first transfer arm to the second transfer arm via the substrate transfer position is performed. A method of correcting a position deviation, wherein the position correction unit of the second transport arm cancels the position correction function of the position correction unit, and the position correction unit is replaced with the position correction unit. A step of horizontally holding the substrate and placing a jig showing a relative positional deviation between the first transfer arm and the second transfer arm; and a step of holding the substrate at the reference holding position.
A step of sending a transfer arm to the substrate delivery position and transferring the substrate to the substrate delivery position; and a step of sending the second transfer arm to the substrate delivery position while the jig is still placed, and the substrate delivery A step of receiving the substrate positioned at the position on the jig, a step of moving the second transfer arm to a visible position while holding the substrate, and a shift amount of the substrate between the first transfer arm and the first transfer arm. Second
A step of reading from the jig as an amount of relative positional deviation with respect to the transfer arm; and a step of correcting the relative position of the first transfer arm and the second transfer arm so as to compensate for the amount of relative position deviation. ing.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0013】[0013]

【1.第1の実施の形態】図1は、第1の実施の形態に
かかる基板搬送装置の主要部を示す図である。この基板
搬送装置は、基板受渡し部3を挟んで対向するように、
基板10をその上面に載置しながら搬送する搬送アーム
1,2を備えている。基板受渡し部3はその上面が水平
に形成されており、その上面に基板10を載置すること
ができるように形成されており、両搬送アーム1,2間
で基板10を受渡す際に基板10を一時的に保持する基
板受渡し位置として機能する。さらに、基板受渡し部3
は搬送アーム1,2に面したそれぞれの側面に基板10
を搬入したり、搬出したりする開口部が設けられた筐体
4に覆われており、基板受渡し部3は直接真上から視認
することは不可能になっている。
[1. First Embodiment FIG. 1 is a diagram showing a main part of a substrate transfer apparatus according to a first embodiment. This substrate transfer device is arranged so as to face each other with the substrate transfer section 3 interposed therebetween.
It is provided with transfer arms 1 and 2 for transferring the substrate 10 while placing it on its upper surface. The upper surface of the substrate transfer unit 3 is formed horizontally, and the substrate 10 can be placed on the upper surface of the substrate transfer unit 3. The substrate transfer unit 3 transfers the substrate 10 between the transfer arms 1 and 2 when transferring the substrate 10. It functions as a substrate transfer position for temporarily holding 10. Further, the substrate transfer section 3
Is a substrate 10 on each side facing the transfer arms 1 and 2.
It is covered with a housing 4 provided with an opening for loading and unloading, and it is impossible to directly see the substrate transfer section 3 from directly above.

【0014】また、搬送アーム1,2はそれぞれ図示の
位置(以下「待機位置」という)と基板受渡し部3を中
心とした位置(以下「基板受渡し位置」という)との間
を図示しない駆動機構によって進退自在に駆動される。
そしてこの駆動機構は図示しない制御部に制御され、搬
送アーム1,2のそれぞれを所定の順序で駆動する。な
お、搬送アーム1,2の動作については後で詳説する。
Further, the transfer arms 1 and 2 each have a drive mechanism (not shown) between a position shown in the figure (hereinafter referred to as a "standby position") and a position around the substrate transfer section 3 (hereinafter referred to as a "substrate transfer position"). Driven freely by reciprocation.
The drive mechanism is controlled by a control unit (not shown) to drive each of the transfer arms 1 and 2 in a predetermined order. The operation of the transfer arms 1 and 2 will be described in detail later.

【0015】さらに、この装置には図示しないディスプ
レーやキーボード等からなる表示・入力部が設けられて
おり、制御部に接続されている。これを用いてオペレー
タが搬送アーム1,2の基板受渡し位置での相対位置ず
れを修正するデータを入力し、これによって搬送アーム
2の位置調整を行う。
Further, this device is provided with a display / input unit, which is composed of a display, a keyboard, etc., not shown, and is connected to the control unit. Using this, the operator inputs data for correcting the relative positional deviation of the transfer arms 1 and 2 at the substrate transfer position, and the position of the transfer arm 2 is adjusted by this.

【0016】さらに要部についてより詳細に説明する。
搬送アーム1,2にはそれぞれ開口部1h,2hが設け
られており、搬送アーム1,2が基板受渡し部3と干渉
しないようになっている。
Further, the main part will be described in more detail.
The transfer arms 1 and 2 are provided with openings 1h and 2h, respectively, so that the transfer arms 1 and 2 do not interfere with the substrate transfer section 3.

【0017】また、図2は、搬送アーム1の断面を示す
説明図である。搬送アーム1には図1および図2に示し
たようにテーパ部T1が設けられている。このテーパ部
T1は基板を搬送アーム1上面に載置する際に、基板1
0の基板受渡し部3において載置されている位置が多少
ずれていても、基板10を搬送アーム1上に受け渡す際
に搬送アーム中央の理想的な位置である基準保持位置C
Pに自動的に位置させる位置補正機能を持っている。ま
た、テーパ部T1につづいて水平部H1が形成されてお
り、上記のように基準保持位置CPに位置補正された基
板10を水平保持する。このようにこの実施形態では、
テーパ部T1と水平部H1とで位置補正部が構成されて
いる。なお、搬送アーム2も同様にテーパ部T2および
水平部H2を備えている。
FIG. 2 is an explanatory view showing a cross section of the transfer arm 1. The transfer arm 1 is provided with a taper portion T1 as shown in FIGS. This taper portion T1 is used when the substrate is placed on the upper surface of the transfer arm 1.
The reference holding position C, which is an ideal position in the center of the transfer arm when the substrate 10 is transferred onto the transfer arm 1, even if the position of the substrate transfer unit 3 of 0 is slightly displaced.
It has a position correction function to automatically position it on P. Further, the horizontal portion H1 is formed following the tapered portion T1, and horizontally holds the position-corrected substrate 10 at the reference holding position CP as described above. Thus, in this embodiment,
The taper portion T1 and the horizontal portion H1 form a position correction portion. The transport arm 2 also includes a tapered portion T2 and a horizontal portion H2.

【0018】また、図3は第1の実施の形態の装置に備
わっている治具5の斜視図である。この治具5は製品出
荷時やメンテナンス時等の両搬送アーム1,2の位置ず
れ修正を行う際に搬送アーム2のテーパ部T2上に載置
され、基板10の位置ずれを補正するテーパ部T2の位
置補正機能を打ち消すものである。
FIG. 3 is a perspective view of the jig 5 provided in the apparatus according to the first embodiment. The jig 5 is placed on the taper portion T2 of the transfer arm 2 when the positional deviation of the transfer arms 1 and 2 is corrected at the time of product shipment or maintenance, and the taper portion for correcting the positional deviation of the substrate 10 is provided. This is to cancel the position correction function of T2.

【0019】図4は搬送アーム2の水平部H2に治具5
を載置し、さらにその治具5上に基板10を載置した状
況を示す説明図であり、さらに図5は図4の搬送アーム
2,治具5および基板10を平面的に見た説明図であ
る。図4に示すように、この治具5は搬送アーム2のテ
ーパ部T2の深さと同じ厚みに形成され、さらに図5に
示すように、治具5の外周は搬送アーム2上の基準保持
位置CPの外周とほぼ一致しており、搬送アーム1と搬
送アーム2の相対位置ずれの修正を行う際に、搬送アー
ム2の水平部H2に載置される。それによって、搬送ア
ーム2が基板10にアクセスした際に基板10の位置ず
れを自動的に補正するテーパ部T2の位置補正機能を打
ち消す。これにより、図4に示したように搬送アーム2
の上面と治具5の上面が同一平面内に位置するようにな
る。このため搬送アーム2が基板受渡し位置において基
板10を受け取り、待機位置に後退した後にも、基板1
0は基準保持位置CPからずれたままの状態となってい
る。
FIG. 4 shows a jig 5 on the horizontal portion H2 of the transfer arm 2.
6 is an explanatory view showing a situation in which the substrate 10 is placed on the jig 5, and the substrate 10 is further placed on the jig 5. FIG. 5 is a plan view of the transfer arm 2, jig 5 and substrate 10 of FIG. It is a figure. As shown in FIG. 4, this jig 5 is formed to have the same thickness as the depth of the taper portion T2 of the transfer arm 2. Further, as shown in FIG. 5, the outer periphery of the jig 5 is the reference holding position on the transfer arm 2. It is substantially coincident with the outer periphery of CP and is placed on the horizontal portion H2 of the transfer arm 2 when the relative displacement between the transfer arm 1 and the transfer arm 2 is corrected. This cancels the position correction function of the taper portion T2 that automatically corrects the positional deviation of the substrate 10 when the transfer arm 2 accesses the substrate 10. As a result, as shown in FIG.
And the upper surface of the jig 5 are located on the same plane. Therefore, even after the transfer arm 2 receives the substrate 10 at the substrate delivery position and retracts to the standby position, the substrate 1
0 is still in a state of being displaced from the reference holding position CP.

【0020】さらに、治具5の上面には図3および図5
に示すように、基準保持位置CPからのずれ量を計測す
るために同心円状に目盛りが記されるとともに直交軸X
1,X2,Y1が記されている。そして図5に示すよう
にX−Y軸が設定されており、オペレータがこのX軸方
向のずれ量とY軸方向のずれ量を読み取り、後に詳述す
る方法により搬送アーム1,2間での相対位置ずれの修
正を行う。
Further, the upper surface of the jig 5 is shown in FIGS.
As shown in, the scale is concentrically marked to measure the amount of deviation from the reference holding position CP and the orthogonal axis X
1, X2, Y1 are marked. The XY axes are set as shown in FIG. 5, and the operator reads the amount of deviation in the X-axis direction and the amount of deviation in the Y-axis direction, and a method described later will be used to transfer between the transfer arms 1 and 2. Correct the relative displacement.

【0021】以下において、第1の実施の形態の装置に
おける相対位置ずれの修正手順および特徴について説明
していく。
In the following, a procedure and a characteristic of correcting the relative positional deviation in the apparatus of the first embodiment will be described.

【0022】一般に対向する2つの搬送アームにより基
板を受け渡すような基板搬送装置では、通常の基板搬送
の処理ではなく、製品として出荷する際やメンテナンス
時などには、搬送アーム1,2のそれぞれが基板受渡し
位置に進入した状態での搬送アーム1,2の相対的な位
置のずれを解消するように搬送アーム1,2の相対位置
ずれの修正を行う。
Generally, in a substrate transfer apparatus which transfers a substrate by two opposing transfer arms, each of the transfer arms 1 and 2 is not subjected to a normal substrate transfer process but is shipped as a product or during maintenance. The relative displacement of the transfer arms 1 and 2 is corrected so as to eliminate the relative displacement of the transfer arms 1 and 2 in the state where the transfer arms 1 and 2 have entered the substrate transfer position.

【0023】この第1の実施の形態の基板搬送装置でも
搬送アーム2の位置調整を行うことで上記相対位置ずれ
の修正を行っており、以下において図1並びに図6,図
7および図8を用いて上記の説明のように構成された第
1の実施の形態の基板搬送装置における搬送アーム1,
2の相対位置ずれの修正手順を説明する。なお、図6,
図7,図8では筐体4の図示を省略している。
The substrate transfer apparatus of the first embodiment also corrects the relative positional deviation by adjusting the position of the transfer arm 2 and will be described below with reference to FIGS. 1, 6, 7 and 8. The transfer arm 1 in the substrate transfer apparatus of the first embodiment configured as described above using
The correction procedure of the relative positional deviation of No. 2 will be described. Note that FIG.
The housing 4 is not shown in FIGS. 7 and 8.

【0024】まず、図1において搬送アーム1の水平部
H1により基準保持位置CPで基板10を保持するとと
もに、搬送アーム2の水平部H2には治具5を載置す
る。
First, in FIG. 1, the substrate 10 is held at the reference holding position CP by the horizontal portion H1 of the transfer arm 1, and the jig 5 is placed on the horizontal portion H2 of the transfer arm 2.

【0025】つぎに、この状態から搬送アーム1が矢符
A1のように前進し、基板受渡し位置に進入する。そし
て搬送アーム1をわずかに下方に移動させることにより
基板受渡し部3に基板を渡す。
Next, from this state, the transfer arm 1 advances as indicated by an arrow A1 to enter the substrate transfer position. Then, the substrate is transferred to the substrate transfer section 3 by moving the transfer arm 1 slightly downward.

【0026】つぎに、図6に示すように搬送アーム1が
矢符A2のように後退し、図1に示した待機位置に戻
る。
Next, as shown in FIG. 6, the transfer arm 1 retracts as indicated by arrow A2, and returns to the standby position shown in FIG.

【0027】つぎに、搬送アーム2が矢符A3のように
基板受渡し部3に向けて前進し、図7のように基板受渡
し位置に進入する。このとき、搬送アーム2は基板受渡
し部3に載置された基板10の下方に進入している。そ
して、その後搬送アーム2がわずかに上昇することによ
り基板10を受け取る。
Next, the transfer arm 2 advances toward the substrate delivery section 3 as indicated by arrow A3, and enters the substrate delivery position as shown in FIG. At this time, the transfer arm 2 has entered below the substrate 10 placed on the substrate transfer section 3. Then, after that, the transfer arm 2 slightly moves up to receive the substrate 10.

【0028】この際に基板受渡し部3に進入した状態で
の搬送アーム1の位置と搬送アーム2の位置が相対的に
ずれている場合には、搬送アーム2の水平部H2に治具
5が載置されていなければテーパ部T2によって基板1
0の搬送アーム2上の位置が修正され、正確に基準保持
位置CPに収まるところであるが、搬送アーム2の上面
に治具5が載置されているために基板受渡し位置におけ
る搬送アーム2の搬送アーム1に対する相対位置ずれの
分だけ治具5の上面において基板10が基準保持位置C
Pからずれて載置されることになる。
At this time, when the position of the transfer arm 1 and the position of the transfer arm 2 in the state where they have entered the substrate transfer section 3 are relatively deviated, the jig 5 is mounted on the horizontal portion H2 of the transfer arm 2. If not mounted, the substrate 1 is formed by the taper portion T2.
Although the position of 0 on the transfer arm 2 is corrected and accurately fits in the reference holding position CP, since the jig 5 is placed on the upper surface of the transfer arm 2, the transfer arm 2 transfers the substrate at the substrate transfer position. The substrate 10 is held at the reference holding position C on the upper surface of the jig 5 by the amount of the relative displacement with respect to the arm 1.
It will be placed off P.

【0029】つぎに、搬送アーム2は矢符A4のように
後退し、図8に示したように搬送アーム2の待機位置に
戻る。この搬送アーム2の待機位置はその上方に覆い等
の障害物がないため真上から視認することができるよう
になっている。
Next, the transfer arm 2 retracts as indicated by arrow A4 and returns to the standby position of the transfer arm 2 as shown in FIG. The standby position of the transfer arm 2 is visible from directly above because there is no cover or other obstacle above it.

【0030】そして、この状態で搬送アーム2上での基
板10の相対位置ずれ量を測定する。すなわち、図5に
点線で示したように基板10がずれていた場合には、基
板10の図中に一点鎖線で示された基準保持位置CPに
対するずれ量は治具5の上面に記された目盛りから分か
るようにX方向に1、Y方向に2であることが分かる。
これは、基板受渡し位置における搬送アーム2の位置が
搬送アーム1の位置に対してX方向に「−1」、Y方向
に「−2」だけずれていたことを示している。そこでオ
ペレータは前述の図示しない表示・入力部に搬送アーム
2の位置を調整するデータ(X,Y)として(1,2)
を入力する。
Then, in this state, the relative displacement of the substrate 10 on the transfer arm 2 is measured. That is, when the substrate 10 is displaced as indicated by the dotted line in FIG. 5, the amount of displacement of the substrate 10 from the reference holding position CP indicated by the alternate long and short dash line in the figure is written on the upper surface of the jig 5. As can be seen from the scale, it can be seen that it is 1 in the X direction and 2 in the Y direction.
This indicates that the position of the transfer arm 2 at the substrate transfer position is deviated from the position of the transfer arm 1 by "-1" in the X direction and "-2" in the Y direction. Therefore, the operator uses (1, 2) as the data (X, Y) for adjusting the position of the transfer arm 2 on the display / input unit (not shown).
Enter.

【0031】その後、再度上記の相対位置ずれ量の入力
の前までの動作を行わせると、その結果として搬送アー
ム2の位置がX方向に1、Y方向に2ずれた状態で動作
する。これにより、搬送アーム2上の基板10の位置は
基準保持位置CPに位置することになり、目的とする搬
送アーム1,2の相対位置ずれの修正は達成されたこと
になる。もし、これでも相対位置ずれが解消されない場
合には再度オペレータが相対位置ずれ量を入力し上記の
一連の動作をさせ、こういった修正作業を搬送アーム2
上の基板10のずれが解消されるまで繰返す。
After that, when the operation up to the input of the relative positional deviation amount is performed again, as a result, the position of the transfer arm 2 is deviated by 1 in the X direction and by 2 in the Y direction. As a result, the position of the substrate 10 on the transfer arm 2 is located at the reference holding position CP, and the target correction of the relative displacement between the transfer arms 1 and 2 is achieved. If the relative positional deviation cannot be eliminated even by this, the operator again inputs the relative positional deviation amount to perform the series of operations described above, and the correction operation is performed by the transport arm 2
Repeat until the displacement of the upper substrate 10 is eliminated.

【0032】以上がこの実施形態による位置ずれ修正手
順である。
The above is the positional deviation correction procedure according to this embodiment.

【0033】以上のように、第1の実施の形態の基板搬
送装置は、搬送アーム1,2の相対的な位置ずれを修正
する際には、治具5を搬送アーム2の水平部H2に載置
することにより、テーパ部T2の位置補正機能が働かな
くなり、基板10を受け取った搬送アーム2が待機位置
に戻った後にも基板受渡し部3における搬送アーム2上
での基板10の位置が保持されることになる。このた
め、基板受渡し位置が視認できない状況下にある場合に
も搬送アーム1および搬送アーム2の相対的な位置ずれ
を容易に捉えることができ、さらにその相対位置ずれを
容易に修正することができる。
As described above, in the substrate transfer apparatus according to the first embodiment, the jig 5 is mounted on the horizontal portion H2 of the transfer arm 2 when the relative displacement between the transfer arms 1 and 2 is corrected. By mounting, the position correction function of the taper portion T2 does not work, and the position of the substrate 10 on the transfer arm 2 in the substrate transfer part 3 is held even after the transfer arm 2 that receives the substrate 10 returns to the standby position. Will be done. Therefore, even when the substrate transfer position is invisible, the relative displacement between the transfer arm 1 and the transfer arm 2 can be easily grasped, and the relative displacement can be easily corrected. .

【0034】なお、上記のようにして基板受渡し位置に
おける搬送アーム1,2の相対的な位置が調整された状
態で、この第1の実施の形態の装置は実際の基板搬送を
行うが、実際の基板搬送を行う際には搬送アーム2上に
治具5を載置しない状態で図1、図6、図7および図8
で説明したのと同様の動作を同じ順序で行うことにより
基板10を搬送アーム1から搬送アーム2に順次受渡
す。
Although the relative position of the transfer arms 1 and 2 at the substrate transfer position is adjusted as described above, the apparatus of the first embodiment actually transfers the substrate. 1, FIG. 7, FIG. 7 and FIG. 8 in a state where the jig 5 is not placed on the transfer arm 2 when the substrate is transferred.
The substrate 10 is sequentially transferred from the transfer arm 1 to the transfer arm 2 by performing the same operation as described above in the same order.

【0035】[0035]

【2.その他の実施の形態】図9はこの発明にかかる第
2の実施の形態の基板搬送装置における治具5を搬送ア
ーム2の水平部H2に載置した状況を示す図である。上
述のように第1の実施の形態の装置では治具5の上面に
同心円状の目盛りが記されていたが、第2の実施の形態
の装置では治具5の上面に同心円状の目盛りを記さない
で直交軸X1,X2,Y1上に目盛りを記すのみにして
いる。その他の構成は第1の実施の形態と同様である。
実際に搬送アーム1,2の相対位置ずれ修正においては
基板10の治具5の直交軸X1,X2,Y1上での位置
ずれ量のデータ値のみが必要となるだけであるのでこの
ような構成でも第1の実施の形態の装置と同様の位置ず
れ修正が可能である。
[2. Other Embodiments FIG. 9 is a view showing a situation in which the jig 5 in the substrate transfer apparatus according to the second embodiment of the present invention is placed on the horizontal portion H2 of the transfer arm 2. As described above, in the device of the first embodiment, the concentric circle scales are marked on the upper surface of the jig 5, but in the device of the second embodiment, the concentric circle scales are formed on the upper surface of the jig 5. Only the scale is marked on the orthogonal axes X1, X2, Y1 without marking. Other configurations are similar to those of the first embodiment.
Actually, in correcting the relative displacement of the transfer arms 1 and 2, only the data value of the displacement amount on the orthogonal axes X1, X2, Y1 of the jig 5 of the substrate 10 is required, and thus such a configuration is adopted. However, it is possible to correct the positional deviation as in the device of the first embodiment.

【0036】図10はこの発明にかかる第3の実施の形
態にかかる基板搬送装置における治具5の断面を示す図
である。前述のように第1の実施の形態の装置では治具
5の外周を基板10とほぼ同一となるように構成した
が、第3の実施の形態の装置では、治具5の外周を基板
10より大きくしてテーパ部T2を埋め尽くすような形
状にして、実施の形態の装置の治具5と同様の目盛りや
直交軸X1,X2,Y1以外に、基準保持位置CPの輪
郭を記すことにより基板10の基準保持位置CPからの
ずれを測定できるようにしている。その他の構成は第1
の実施の形態と同様である。これにより第1の実施の形
態の装置では治具5とテーパ部T2との間にある隙間を
なくすことができる。
FIG. 10 is a view showing a cross section of the jig 5 in the substrate transfer apparatus according to the third embodiment of the present invention. As described above, in the apparatus of the first embodiment, the outer periphery of the jig 5 is configured to be substantially the same as the substrate 10, but in the apparatus of the third embodiment, the outer periphery of the jig 5 is set to the substrate 10. By making the shape larger so as to fill the taper portion T2, and by marking the contour of the reference holding position CP in addition to the scale and the orthogonal axes X1, X2, Y1 similar to the jig 5 of the apparatus of the embodiment. The displacement of the substrate 10 from the reference holding position CP can be measured. Other configurations are first
This is the same as the embodiment. This makes it possible to eliminate the gap between the jig 5 and the tapered portion T2 in the device according to the first embodiment.

【0037】[0037]

【3.変形例】本発明の各実施の形態の装置では治具5
の上面のみに目盛りや直交軸等を記す構成としたが、搬
送アーム2の上面で治具5上に記された直交軸Y1の延
長線上にもY1軸と目盛りを記して、基板10が直交軸
Y1方向の搬送アーム2上にまでずれても、基板10の
位置ずれ量が測定できるようにすることもできる。
[3. Modified Example In the apparatus of each of the embodiments of the present invention, the jig 5 is used.
Although the scale, the orthogonal axis, etc. are marked only on the upper surface of the substrate 10, the Y1 axis and the scale are marked on the extension line of the orthogonal axis Y1 marked on the jig 5 on the upper surface of the transfer arm 2 so that the substrate 10 is orthogonal. Even if the transfer arm 2 is displaced in the direction of the axis Y1, the positional displacement amount of the substrate 10 can be measured.

【0038】また、本発明の各実施の形態の装置では搬
送アーム1,2の水平部H1,H2の形状をC字状と
し、それにより治具5をC字状としたが、搬送アームお
よび治具の形状はこれに限定されるものではなく、中央
に開口部を設けたコ字状等であってもよい。
Further, in the apparatus according to each of the embodiments of the present invention, the horizontal portions H1 and H2 of the transfer arms 1 and 2 are C-shaped, and thus the jig 5 is C-shaped. The shape of the jig is not limited to this, and may be a U-shape having an opening in the center.

【0039】また、本発明の各実施の形態の装置では全
搬送アームの数は2つとしたが、搬送アームを3つ以上
設けて、そのうちの2つのみが同時期に動作するものと
してもよい。
Further, although the number of all transfer arms is two in the apparatus of each embodiment of the present invention, three or more transfer arms may be provided and only two of them may operate at the same time. .

【0040】また、本発明の各実施の形態では搬送アー
ム1,2を直線的に対向して設けていたが、本発明はこ
れに限定されるものではなく直角的に設けたり、上下に
重なった位置に設けてもよい。
In each of the embodiments of the present invention, the transfer arms 1 and 2 are linearly opposed to each other. However, the present invention is not limited to this, and the transfer arms 1 and 2 are provided at a right angle or vertically stacked. It may be provided at a different position.

【0041】また、本発明の各実施の形態では位置ずれ
修正において、オペレータの入力に基づいて基板搬送装
置の搬送アーム2の位置を修正する構成としたが、搬送
アーム1の位置を修正する構成としてもよい。
Further, in each of the embodiments of the present invention, the position of the transfer arm 2 of the substrate transfer device is corrected on the basis of the operator's input in the position shift correction, but the position of the transfer arm 1 is corrected. May be

【0042】また、本発明の各実施の形態では位置ずれ
修正において、オペレータが搬送アーム2上の基板10
のずれ量の測定および搬送アーム2の位置の修正データ
の入力に基づいて基板搬送装置の搬送アーム2の位置を
修正する構成としたが、搬送アーム2上の基板10のず
れ量をセンサ等で検出し、自動制御で搬送アーム2の位
置を修正する構成としてもよい。
In addition, in each of the embodiments of the present invention, the operator moves the substrate 10 on the transfer arm 2 when correcting the positional deviation.
The position of the transfer arm 2 of the substrate transfer device is corrected based on the measurement of the shift amount of the transfer arm and the input of the correction data of the position of the transfer arm 2. However, the shift amount of the substrate 10 on the transfer arm 2 is detected by a sensor or the like. It may be configured to detect and correct the position of the transfer arm 2 by automatic control.

【0043】さらに、本発明の各実施の形態では位置ず
れ修正において、搬送アーム2の位置の修正を、制御部
によるソフトウエア的な修正により行うか、ハードウエ
ア的な修正により行うかを特定していないが、どちらの
修正を行う構成とすることも可能である。
Further, in each of the embodiments of the present invention, it is specified whether the position of the transfer arm 2 is corrected by the software correction by the control unit or the hardware correction in the positional deviation correction. Although it is not, it is possible to adopt a configuration in which either correction is performed.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、第2
搬送アームの位置補正部に治具を載置することで、当該
位置補正部の位置補正機能を打ち消すとともに、当該位
置補正部に代わって基板を水平保持し、その状態のまま
第2搬送アームを視認可能な位置に移動させることがで
きるように構成されているので、基板受渡し位置が視認
可能か否かに関わらず第1および第2搬送アーム間の相
対位置ずれを容易に求めることができ、その相対位置ず
れ量に基づき第1および第2搬送アームの相対的な位置
ずれを修正することができる。
As described above, according to the present invention, the second
By mounting the jig on the position correction unit of the transfer arm, the position correction function of the position correction unit is canceled, the substrate is horizontally held in place of the position correction unit, and the second transfer arm is kept in that state. Since it can be moved to a visible position, the relative positional deviation between the first and second transfer arms can be easily obtained regardless of whether or not the substrate transfer position is visible. The relative positional deviation between the first and second transfer arms can be corrected based on the relative positional deviation amount.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1の実施の形態の基板搬送装置の主要部を示
す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a main part of a substrate transfer device according to a first embodiment.

【図2】第1の実施の形態の基板搬送装置の搬送アーム
の断面を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a cross section of a transfer arm of the substrate transfer device according to the first embodiment.

【図3】第1の実施の形態の基板搬送装置に備わってい
る治具の斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view of a jig provided in the substrate transfer device according to the first embodiment.

【図4】搬送アームに対する治具と基板との位置関係を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a positional relationship between a jig and a substrate with respect to a transfer arm.

【図5】図4の搬送アーム,治具および基板を上方より
見た図である。
5 is a view of the transfer arm, jig, and substrate of FIG. 4 as viewed from above.

【図6】第1の実施の形態にかかる基板搬送装置におけ
る位置ずれ修正方法を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a positional deviation correcting method in the substrate transfer apparatus according to the first embodiment.

【図7】第1の実施の形態にかかる基板搬送装置におけ
る位置ずれ修正方法を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a positional deviation correcting method in the substrate transfer apparatus according to the first embodiment.

【図8】第1の実施の形態にかかる基板搬送装置におけ
る位置ずれ修正方法を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a positional deviation correcting method in the substrate transfer apparatus according to the first embodiment.

【図9】第2の実施の形態にかかる基板搬送装置を示す
図である。
FIG. 9 is a diagram showing a substrate transfer device according to a second embodiment.

【図10】第3の実施の形態にかかる基板搬送装置を示
す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a substrate transfer device according to a third embodiment.

【図11】従来装置における搬送アームの位置ずれ修正
方法を示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a method for correcting the displacement of the transfer arm in the conventional apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,2 搬送アーム 3 基板受渡し部(基板受渡し位置) 5 治具 10 基板 CP 基準保持位置 H1,H2 水平部 T1,T2 テーパ部 1, 2 transfer arm 3 Board transfer part (board transfer position) 5 jigs 10 substrates CP reference holding position H1, H2 horizontal part T1, T2 taper part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/68 B25J 9/10 B65G 49/07 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/68 B25J 9/10 B65G 49/07

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 基板に対してアクセスした際に基板の保
持位置を自動的に位置補正して当該基板を基準保持位置
で保持する位置補正部を有し、所定の基板受渡し位置に
対して個別に進退する第1および第2搬送アームを備
え、前記第1搬送アームが基板を前記基板受渡し位置に
渡した後に、前記第2搬送アームが前記基板受渡し位置
に位置する基板を受け取り、前記第1搬送アームから前
記第2搬送アームへの基板受渡しを行う基板搬送装置に
おいて、 前記第2搬送アームの前記位置補正部に着脱自在で、前
記第2搬送アームの前記位置補正部に載置され、当該位
置補正部の位置補正機能を打ち消すとともに、当該位置
補正部に代わって基板を水平保持して、前記第1搬送ア
ームと前記第2搬送アームとの相対位置ずれを示す治具
を備えることを特徴とする基板搬送装置。
1. A position correction unit that automatically corrects a holding position of a substrate when the substrate is accessed and holds the substrate at a reference holding position, and the position correcting unit is provided individually for a predetermined substrate transfer position. First and second transfer arms that move back and forth to the first transfer arm, and the second transfer arm receives the substrate located at the substrate transfer position after the first transfer arm transfers the substrate to the substrate transfer position. In a substrate transfer device for transferring a substrate from a transfer arm to the second transfer arm, the substrate transfer device is detachably attached to the position correction unit of the second transfer arm, and is placed on the position correction unit of the second transfer arm. A jig that cancels the position correction function of the position correction unit, horizontally holds the substrate instead of the position correction unit, and shows a relative positional deviation between the first transfer arm and the second transfer arm is provided. Substrate transfer apparatus according to claim.
【請求項2】 基板に対してアクセスした際に基板の保
持位置を自動的に位置補正して当該基板を基準保持位置
で保持する位置補正部を有し、所定の基板受渡し位置に
対して個別に進退する第1および第2搬送アームを備
え、前記基板受渡し位置を介して前記第1搬送アームか
ら前記第2搬送アームへの基板受渡しを行う基板搬送装
置における前記第1搬送アームと前記第2搬送アームと
の相対位置ずれを修正する位置ずれ修正方法において、 前記第2搬送アームの位置補正部に、当該位置補正部の
位置補正機能を打ち消すとともに、当該位置補正部に代
わって基板を水平保持して、前記第1搬送アームと前記
第2搬送アームとの相対位置ずれを示す治具を載置する
工程と、 前記基準保持位置で基板を保持した状態で前記第1搬送
アームを前記基板受渡し位置に送り込み、当該基板を前
記基板受渡し位置に渡す工程と、 前記治具が載置されたままの状態で前記第2搬送アーム
を前記基板受渡し位置に送り込み、前記基板受渡し位置
に位置する基板を前記治具上に受け取る工程と、 前記基板を保持したまま前記第2搬送アームを視認可能
な位置に移動させる工程と、 前記基板のずれ量を前記第1搬送アームと前記第2搬送
アームとの相対位置ずれ量として前記治具から読取る工
程と、 前記相対位置ずれ量を補うように前記第1搬送アームと
前記第2搬送アームの相対的な位置を修正する工程と、
を備える基板搬送装置における位置ずれ修正方法。
2. A position correction unit that automatically corrects the holding position of the substrate when the substrate is accessed and holds the substrate at the reference holding position, and separates the predetermined substrate transfer position. The first and second transfer arms that move forward and backward to and from the first transfer arm to the second transfer arm via the substrate transfer position. In a position shift correction method for correcting a relative position shift with respect to a transfer arm, the position correction unit of the second transfer arm cancels the position correction function of the position correction unit, and the substrate is horizontally held in place of the position correction unit. Then, a step of placing a jig indicating a relative positional deviation between the first transfer arm and the second transfer arm, and the front of the first transfer arm with the substrate being held at the reference holding position. Sending the substrate to a substrate delivery position and delivering the substrate to the substrate delivery position; and sending the second transfer arm to the substrate delivery position while the jig is still placed, and then located at the substrate delivery position. A step of receiving the substrate on the jig; a step of moving the second transfer arm to a visible position while holding the substrate; and a shift amount of the substrate for the first transfer arm and the second transfer arm. A step of reading from the jig as a relative positional deviation amount with respect to, and a step of correcting the relative positions of the first transfer arm and the second transfer arm so as to supplement the relative positional deviation amount,
A method for correcting a positional deviation in a substrate transfer device including:
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