JP3386482B2 - 磁気治療器及びその製造方法 - Google Patents
磁気治療器及びその製造方法Info
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- Magnetic Treatment Devices (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は非磁性体基板内に磁石を
配設した磁気治療器およびその製造方法に関するもので
ある。
配設した磁気治療器およびその製造方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】従来より表面に厚膜磁石やプラスチツク
磁石を配設し、裏面に接着剤の塗布された非磁性体基板
（シート）を患部に張り付けて、肩凝りの治療や筋肉疲
労の回復等を図る磁気治療器が多く用いられている。こ
の厚膜磁石を効率よく基板上に形成するためには、熱硬
化性樹脂等を含んだ強磁性材料ペーストを、印刷等の手
法で基板上に印刷後加熱硬化させて着磁する方法が用い
られている。
磁石を配設し、裏面に接着剤の塗布された非磁性体基板
（シート）を患部に張り付けて、肩凝りの治療や筋肉疲
労の回復等を図る磁気治療器が多く用いられている。こ
の厚膜磁石を効率よく基板上に形成するためには、熱硬
化性樹脂等を含んだ強磁性材料ペーストを、印刷等の手
法で基板上に印刷後加熱硬化させて着磁する方法が用い
られている。
【０００３】かかる磁気治療器に用いられる磁石におい
ては、反磁界（Ｈｄ）は以下の式で表すことができる。
即ち、Ｈｄ＝Ｎ（Ｉ／μ0 ）で表せる。但し，Ｎ；反磁
界係数、μ0 ；真空の透磁率、Ｉ；磁化の強さである。
上述した反磁界係数（Ｎ）は、磁石のＮ極とＳ極間の距
離が小さいと大きな値となり、磁化の強さが弱くなつて
しまう。
ては、反磁界（Ｈｄ）は以下の式で表すことができる。
即ち、Ｈｄ＝Ｎ（Ｉ／μ0 ）で表せる。但し，Ｎ；反磁
界係数、μ0 ；真空の透磁率、Ｉ；磁化の強さである。
上述した反磁界係数（Ｎ）は、磁石のＮ極とＳ極間の距
離が小さいと大きな値となり、磁化の強さが弱くなつて
しまう。
【０００４】このため、磁力の強さを１０００ガウス近
くの強さにするためには、１ｍｍ以上の厚さにする必要
がある。しかしながら、上述した印刷による方法では、
厚膜磁石の厚さは、０．２μｍ〜０．３μｍ以下の場合
が一般的である。これは、印刷で１ｍｍ以上の厚さにす
ると、印刷時に縁にバリが生じ、外観が悪くなるためで
ある。更に、厚さを厚くすると、磁石（磁性物質）に応
力がかかり、基板より剥がれ易くなるという欠点を有し
ているためでもある。
くの強さにするためには、１ｍｍ以上の厚さにする必要
がある。しかしながら、上述した印刷による方法では、
厚膜磁石の厚さは、０．２μｍ〜０．３μｍ以下の場合
が一般的である。これは、印刷で１ｍｍ以上の厚さにす
ると、印刷時に縁にバリが生じ、外観が悪くなるためで
ある。更に、厚さを厚くすると、磁石（磁性物質）に応
力がかかり、基板より剥がれ易くなるという欠点を有し
ているためでもある。
【０００５】また、他の例として、厚膜磁石をシリコン
ゴム基板に配設された溝内に形成した場合もある。例え
ば、厚さ約２ｍｍのシリコンゴム基板に直径約６ｍｍ、
深さ約１ｍｍの溝を所定間隔で所定数作成している。こ
の溝を設けたシリコンゴム基板の例を図７に示す。図７
において（Ａ）が側面図、（Ｂ）が上面図であり、図中
１がシリコンゴム基板、２がシリコンゴム基板１に配設
された溝である。そしてこの溝２の中に磁性体材料粉
末、例えば基本構成が（ＳｍＣｏ5 ）である平均粒径２
９μｍ〜３０μのサマリウム・コバルトの合金粉末と、
熱硬化性のシリコン樹脂とに、溶剤としてカルビトール
とを適量加え、これを例えば三本ロールで十分に混合し
て磁気ペーストを作り、これを溝２中に充填する。
ゴム基板に配設された溝内に形成した場合もある。例え
ば、厚さ約２ｍｍのシリコンゴム基板に直径約６ｍｍ、
深さ約１ｍｍの溝を所定間隔で所定数作成している。こ
の溝を設けたシリコンゴム基板の例を図７に示す。図７
において（Ａ）が側面図、（Ｂ）が上面図であり、図中
１がシリコンゴム基板、２がシリコンゴム基板１に配設
された溝である。そしてこの溝２の中に磁性体材料粉
末、例えば基本構成が（ＳｍＣｏ5 ）である平均粒径２
９μｍ〜３０μのサマリウム・コバルトの合金粉末と、
熱硬化性のシリコン樹脂とに、溶剤としてカルビトール
とを適量加え、これを例えば三本ロールで十分に混合し
て磁気ペーストを作り、これを溝２中に充填する。
【０００６】そしてこの溝２中に磁気ペーストの充填さ
れたシリコンゴム基板に対して熱硬化処理を行う。この
様にして加熱硬化された磁気組成物（磁石）の例を図８
に示す。図８において、（Ａ）は側面図を、（Ｂ）は上
面図であり、１がシリコンゴム基板、３が溝内に形成さ
れた磁気組成物である。その後工程５で熱硬化された磁
気組成物を着磁機で着磁して磁石とする。例えば、一方
面にＮ極、他方面にＳ極が形成され、厚さ方向に磁力線
の通過する着磁機に、磁気組成物の形成されたシリコン
ゴム基板を位置させ、１５０００エルステツドで着磁
し、磁気効果素子（磁石）とする。
れたシリコンゴム基板に対して熱硬化処理を行う。この
様にして加熱硬化された磁気組成物（磁石）の例を図８
に示す。図８において、（Ａ）は側面図を、（Ｂ）は上
面図であり、１がシリコンゴム基板、３が溝内に形成さ
れた磁気組成物である。その後工程５で熱硬化された磁
気組成物を着磁機で着磁して磁石とする。例えば、一方
面にＮ極、他方面にＳ極が形成され、厚さ方向に磁力線
の通過する着磁機に、磁気組成物の形成されたシリコン
ゴム基板を位置させ、１５０００エルステツドで着磁
し、磁気効果素子（磁石）とする。
【０００７】この様にして着磁されたシリコン基板の各
磁石部分は、磁石毎に分離され接着絆に貼り付けられ
る。具体的には、複数の磁石の埋め込まれたシリコン基
板の各磁石部分を、図９に示す様に、各磁石毎に切断又
は打ち抜きにより分離する。この分離する形状は、例え
ば円形であり円柱状の磁石の埋め込まれたシリコンゴム
基板とする。そしてこのようにして分離された各磁石部
分は、磁石埋め込み面、又は磁石埋め込み面の反対側の
面に当該磁石部分を皮膚等に十分固定できる程度の大き
さの接着剤の塗布された接着絆に貼り付ける。この磁石
部分を接着絆に貼り付けた状態を図１０に示す。図１０
においては、磁石埋め込み面の反対側の面に当該磁石部
分を皮膚等に十分固定できる程度の大きさの接着剤を塗
布した例を示している。従来は、この場合の他、例えば
磁石埋め込み面に当該磁石部分を皮膚等に十分固定でき
る程度の大きさの接着剤を塗布した場合もある。
磁石部分は、磁石毎に分離され接着絆に貼り付けられ
る。具体的には、複数の磁石の埋め込まれたシリコン基
板の各磁石部分を、図９に示す様に、各磁石毎に切断又
は打ち抜きにより分離する。この分離する形状は、例え
ば円形であり円柱状の磁石の埋め込まれたシリコンゴム
基板とする。そしてこのようにして分離された各磁石部
分は、磁石埋め込み面、又は磁石埋め込み面の反対側の
面に当該磁石部分を皮膚等に十分固定できる程度の大き
さの接着剤の塗布された接着絆に貼り付ける。この磁石
部分を接着絆に貼り付けた状態を図１０に示す。図１０
においては、磁石埋め込み面の反対側の面に当該磁石部
分を皮膚等に十分固定できる程度の大きさの接着剤を塗
布した例を示している。従来は、この場合の他、例えば
磁石埋め込み面に当該磁石部分を皮膚等に十分固定でき
る程度の大きさの接着剤を塗布した場合もある。
【０００８】図１０において、５が接着剤の塗布された
接着絆である。図Ｘ５に矢印ａで示す面が皮膚接触面で
ある。
接着絆である。図Ｘ５に矢印ａで示す面が皮膚接触面で
ある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
印刷方式で磁石部分を製作する方法では、上述したよう
に磁石部分の厚さが０．２μｍ〜０．３μｍであり、反
磁界の影響がでて強い磁力が得られない。また、溝を形
成してこの中に磁性体を形成する方法では、印刷等の簡
易な方法で磁石部分の厚さを一ｍｍ以上にすることがで
きる。しかしながら、磁石埋め込み面の反対側の面に当
該磁石部分を皮膚等に十分固定できる程度の大きさの接
着剤の塗布された接着絆に貼り付けた場合には、磁性体
が皮膚に直接接触するため、磁性体の材料に大きな制約
があり、直接皮膚に触れさせたくない材料の場合には磁
性体の上部にシリコーン等を薄く印刷等で覆う必要が生
じ、工程が複雑になるなどの欠点を有していた。
印刷方式で磁石部分を製作する方法では、上述したよう
に磁石部分の厚さが０．２μｍ〜０．３μｍであり、反
磁界の影響がでて強い磁力が得られない。また、溝を形
成してこの中に磁性体を形成する方法では、印刷等の簡
易な方法で磁石部分の厚さを一ｍｍ以上にすることがで
きる。しかしながら、磁石埋め込み面の反対側の面に当
該磁石部分を皮膚等に十分固定できる程度の大きさの接
着剤の塗布された接着絆に貼り付けた場合には、磁性体
が皮膚に直接接触するため、磁性体の材料に大きな制約
があり、直接皮膚に触れさせたくない材料の場合には磁
性体の上部にシリコーン等を薄く印刷等で覆う必要が生
じ、工程が複雑になるなどの欠点を有していた。
【００１０】さらに、磁石埋め込み面に当該磁石部分を
皮膚等に十分固定できる程度の大きさの接着剤を塗布し
た場合には、強度上の問題もあり、頂部の基板厚さを余
り薄くできず、シリコンゴム基板に溝を形成した場合に
は、厚さは約０．３ｍｍ以上は必要である。このため、
皮膚に到達する磁力は弱くなり、厚さ約０．３ｍｍでは
直接皮膚に接触させる場合に比し、約２０％も弱くなつ
てしまう。
皮膚等に十分固定できる程度の大きさの接着剤を塗布し
た場合には、強度上の問題もあり、頂部の基板厚さを余
り薄くできず、シリコンゴム基板に溝を形成した場合に
は、厚さは約０．３ｍｍ以上は必要である。このため、
皮膚に到達する磁力は弱くなり、厚さ約０．３ｍｍでは
直接皮膚に接触させる場合に比し、約２０％も弱くなつ
てしまう。
【００１１】本発明は、上述の問題を解決するためのも
のであり、磁石を直接皮膚に触れさせることなく、皮膚
に到達する磁力を高めることを目的とする。
のであり、磁石を直接皮膚に触れさせることなく、皮膚
に到達する磁力を高めることを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記の課題を
達成する一手段として、以下の構成を備える。本発明に
かかる磁気治療器は、皮膚に密着される面以外の面から
強磁性体を充填するための空間が形成された非磁性体基
板と、前記空間内に充填され、前記基板の厚さ方向に着
磁された磁石と、前記空間から前記基板の皮膚密着面へ
貫通する貫通穴に挿入され、その凸部および底部の形状
がそれぞれ前記貫通穴および前記空間の底部の形状に略
一致する強磁性体部材と、前記皮膚密着面の反対側の前
記基板の面に貼着された、皮膚へ密着させるための接着
剤が塗布された部材とを有することを特徴とする。
達成する一手段として、以下の構成を備える。本発明に
かかる磁気治療器は、皮膚に密着される面以外の面から
強磁性体を充填するための空間が形成された非磁性体基
板と、前記空間内に充填され、前記基板の厚さ方向に着
磁された磁石と、前記空間から前記基板の皮膚密着面へ
貫通する貫通穴に挿入され、その凸部および底部の形状
がそれぞれ前記貫通穴および前記空間の底部の形状に略
一致する強磁性体部材と、前記皮膚密着面の反対側の前
記基板の面に貼着された、皮膚へ密着させるための接着
剤が塗布された部材とを有することを特徴とする。
【００１３】本発明にかかる磁気治療器の製造方法は、
磁気組成物を充填するための少なくとも一つの溝、およ
び、前記溝の底部の中央近傍に所定径の貫通穴を有する
非磁性体基板を製作する製作工程と、その凸部および底
部の形状がそれぞれ前記貫通穴および前記溝の底部の形
状に略一致する凸形状の強磁性体部材を前記基板の溝お
よび貫通穴に挿入する挿入工程と、強磁性材料の混合合
金粉末と熱硬化性樹脂とを混合して強磁性材料のペース
トを製造する混合工程と、前記ペーストを前記基板の溝
に充填する充填工程と、前記溝に充填された前記ペース
トを焼き付け硬化させる焼付工程と、前記ペーストを焼
き付け硬化した後、前記強磁性材料に着磁して磁石にす
る着磁工程と、前記基板を前記磁石部分を中心に所定の
大きさに整形し、皮膚へ接着可能にするための接着剤が
塗布された部材を貼着する整形工程とを有することを特
徴とする。
磁気組成物を充填するための少なくとも一つの溝、およ
び、前記溝の底部の中央近傍に所定径の貫通穴を有する
非磁性体基板を製作する製作工程と、その凸部および底
部の形状がそれぞれ前記貫通穴および前記溝の底部の形
状に略一致する凸形状の強磁性体部材を前記基板の溝お
よび貫通穴に挿入する挿入工程と、強磁性材料の混合合
金粉末と熱硬化性樹脂とを混合して強磁性材料のペース
トを製造する混合工程と、前記ペーストを前記基板の溝
に充填する充填工程と、前記溝に充填された前記ペース
トを焼き付け硬化させる焼付工程と、前記ペーストを焼
き付け硬化した後、前記強磁性材料に着磁して磁石にす
る着磁工程と、前記基板を前記磁石部分を中心に所定の
大きさに整形し、皮膚へ接着可能にするための接着剤が
塗布された部材を貼着する整形工程とを有することを特
徴とする。
【００１４】また、磁気組成物を充填するための少なく
とも一つの溝を有する非磁性体基板を製作する製作工程
と、前記基板の溝に強磁性材料を充填する充填工程と、
その断面積が前記溝の底面より小さい強磁性体部材を、
前記溝の底面の略中心部に貫通し、前記溝に充填された
強磁性材料に到達するように、前記溝が形成された面に
対向する前記基板の面から打ち込む打込工程と、前記基
板の厚さ方向に前記強磁性材料を着磁して磁石にする着
磁工程と、前記基板を前記磁石部分を中心に所定の大き
さに整形し、皮膚へ接着可能にするための接着剤が塗布
された部材を貼着する整形工程とを有することを特徴と
する。
とも一つの溝を有する非磁性体基板を製作する製作工程
と、前記基板の溝に強磁性材料を充填する充填工程と、
その断面積が前記溝の底面より小さい強磁性体部材を、
前記溝の底面の略中心部に貫通し、前記溝に充填された
強磁性材料に到達するように、前記溝が形成された面に
対向する前記基板の面から打ち込む打込工程と、前記基
板の厚さ方向に前記強磁性材料を着磁して磁石にする着
磁工程と、前記基板を前記磁石部分を中心に所定の大き
さに整形し、皮膚へ接着可能にするための接着剤が塗布
された部材を貼着する整形工程とを有することを特徴と
する。
【００１５】
【実施例】以下、図面を参照して本発明に係る一実施例
を詳細に説明する。
を詳細に説明する。
【００１６】
【第１実施例】図１は本発明に係る一実施例の磁気治療
器の製造工程を示す工程図である。以下の説明は、本実
施例の厚膜磁石をシリコンゴム基板に配設された溝内に
形成する場合を例に説明する。しかし、本発明はこのシ
リコンゴム基板に形成する場合に限るものではなく、任
意の材料の基板に形成可能なことは勿論である。
器の製造工程を示す工程図である。以下の説明は、本実
施例の厚膜磁石をシリコンゴム基板に配設された溝内に
形成する場合を例に説明する。しかし、本発明はこのシ
リコンゴム基板に形成する場合に限るものではなく、任
意の材料の基板に形成可能なことは勿論である。
【００１７】先ず、工程１において、シリコンゴム基板
に磁石を形成するための、底部の一部が貫通された溝を
製作する溝製作工程を実施する。本実施例では厚さ約２
ｍｍのシリコンゴム基板に直径約６ｍｍ、深さ約１．７
ｍｍの略中心部に所定径の貫通穴部を有する溝を所定間
隔で所定数作成している。この貫通穴付きの溝を設けた
シリコンゴム基板の例を図２に示す。図２において
（Ａ）が側面図、（Ｂ）が上面図であり、図中１１がシ
リコンゴム基板、１２がシリコンゴム基板１に配設され
た溝、１５が溝１２の底部略中心部に配設された貫通穴
である。なお、この貫通穴１５は、溝を設けるとともに
同時に開けてもよく、あるいは一旦溝１２を設けた後に
さらに穴開け工程で穴開けしてもよい。
に磁石を形成するための、底部の一部が貫通された溝を
製作する溝製作工程を実施する。本実施例では厚さ約２
ｍｍのシリコンゴム基板に直径約６ｍｍ、深さ約１．７
ｍｍの略中心部に所定径の貫通穴部を有する溝を所定間
隔で所定数作成している。この貫通穴付きの溝を設けた
シリコンゴム基板の例を図２に示す。図２において
（Ａ）が側面図、（Ｂ）が上面図であり、図中１１がシ
リコンゴム基板、１２がシリコンゴム基板１に配設され
た溝、１５が溝１２の底部略中心部に配設された貫通穴
である。なお、この貫通穴１５は、溝を設けるとともに
同時に開けてもよく、あるいは一旦溝１２を設けた後に
さらに穴開け工程で穴開けしてもよい。
【００１８】続いて工程２において、径が溝１２に略一
致する所定厚さの底部を有し、凸部が貫通穴１５形状に
略一致する凸状鉄片１４を、各溝１２内に貫通穴１５に
凸状鉄片１４の凸部が貫通するように挿入する鉄片挿入
工程を実行する。そして工程３において、磁性体材料粉
末、例えば基本構成が（ＳｍＣｏ5 ）である平均粒径２
９μｍ〜３０μのサマリウム・コバルトの合金粉末と、
熱硬化性の樹脂、例えば基板をシリコンとした場合には
シリコン樹脂とに、溶剤としてカルビトールとを適量加
え、これを例えば三本ロールで十分に混合して磁気ペー
ストを作る混合工程を行う。なお、この強磁性体材料粉
末は以上の例に限定されるものではなく、例えば、基本
構成が（Ｎｄ2 Ｆｅ14Ｂ）である平均粒径１５μｍ〜３
０μのネオジウム・鉄・ボロンの合金粉末と熱硬化性の
シリコン樹脂とを、混合してもよい。この工程３と上述
した工程１、工程２とは、上述の順序で行つても、工程
１、工程２と工程３とを平行して行つてもよく、その実
行順序等は任意である。
致する所定厚さの底部を有し、凸部が貫通穴１５形状に
略一致する凸状鉄片１４を、各溝１２内に貫通穴１５に
凸状鉄片１４の凸部が貫通するように挿入する鉄片挿入
工程を実行する。そして工程３において、磁性体材料粉
末、例えば基本構成が（ＳｍＣｏ5 ）である平均粒径２
９μｍ〜３０μのサマリウム・コバルトの合金粉末と、
熱硬化性の樹脂、例えば基板をシリコンとした場合には
シリコン樹脂とに、溶剤としてカルビトールとを適量加
え、これを例えば三本ロールで十分に混合して磁気ペー
ストを作る混合工程を行う。なお、この強磁性体材料粉
末は以上の例に限定されるものではなく、例えば、基本
構成が（Ｎｄ2 Ｆｅ14Ｂ）である平均粒径１５μｍ〜３
０μのネオジウム・鉄・ボロンの合金粉末と熱硬化性の
シリコン樹脂とを、混合してもよい。この工程３と上述
した工程１、工程２とは、上述の順序で行つても、工程
１、工程２と工程３とを平行して行つてもよく、その実
行順序等は任意である。
【００１９】次に、工程４において、工程３で作つた磁
気ペーストを用いて印刷等の方法で工程２で鉄片１４の
挿入された溝１２中に、工程３で混合した磁気ペースト
を充填する充填工程を実行する。この充填工程は、電気
回路の導電体パターンの印刷などと同様の印刷設備をそ
のまま用いることができ、例えば、シルクスクリーン印
刷、フレキソ印刷、凸版印刷、グラビア印刷等の各種印
刷方法で磁気ペーストを溝に充填することができる。な
お、他に、直接磁気ペーストを基板上に塗布、溝内にも
充填させ、基板表面の余剰ペーストを取り除く等、任意
の方法で溝内に磁気ペーストを充填させればよい。
気ペーストを用いて印刷等の方法で工程２で鉄片１４の
挿入された溝１２中に、工程３で混合した磁気ペースト
を充填する充填工程を実行する。この充填工程は、電気
回路の導電体パターンの印刷などと同様の印刷設備をそ
のまま用いることができ、例えば、シルクスクリーン印
刷、フレキソ印刷、凸版印刷、グラビア印刷等の各種印
刷方法で磁気ペーストを溝に充填することができる。な
お、他に、直接磁気ペーストを基板上に塗布、溝内にも
充填させ、基板表面の余剰ペーストを取り除く等、任意
の方法で溝内に磁気ペーストを充填させればよい。
【００２０】続いて工程５で溝内に磁気ペーストの充填
されたシリコンゴム基板を１８０°Ｃの雰囲気中で略３
０分間加熱し、磁性体熱硬化処理を行う。この様にして
加熱硬化された磁気組成物（磁石）の例を図３に示す。
図３において、（Ａ）は側面図を、（Ｂ）は上面図であ
り、１１がシリコンゴム基板、１３が溝内に形成された
磁気組成物である。
されたシリコンゴム基板を１８０°Ｃの雰囲気中で略３
０分間加熱し、磁性体熱硬化処理を行う。この様にして
加熱硬化された磁気組成物（磁石）の例を図３に示す。
図３において、（Ａ）は側面図を、（Ｂ）は上面図であ
り、１１がシリコンゴム基板、１３が溝内に形成された
磁気組成物である。
【００２１】その後工程６で熱硬化された磁気組成物を
着磁機で着磁して磁石とする。例えば、一方面にＮ極、
他方面にＳ極が形成され、厚さ方向に磁力線の通過する
着磁機に、磁気組成物の形成されたシリコンゴム基板を
位置させ、１５０００エルステツドで着磁し、磁気効果
素子（磁石）とする。この様にして着磁されたシリコン
基板の各磁石部分は、工程７で磁石毎に分離して接着絆
に貼り付ける接着絆付加工程を施され、磁気治療器とさ
れる。具体的には、複数の磁石の埋め込まれたシリコン
基板の各磁石部分を、各磁石毎に切断又は打ち抜きによ
り分離する。この工程は、鉄片１４が埋め込まれている
点を除き上述した図３と略同様にして行われる。なお、
分離する形状は本実施例では円形とし、円柱状の磁石の
埋め込まれたシリコンゴム基板としている。しかし、こ
の分離形状は円形に限るものではなく、角形形状でも良
いことは勿論である。このようにして分離された各磁石
部分は、磁石埋め込み面の反対側の面に当該磁石部分を
皮膚等に十分固定できる程度の大きさの接着剤の塗布さ
れた接着絆に貼り付ける。この磁石部分を接着絆に貼り
付けた状態を図４に示す。図４において、（Ａ）は側面
図、（Ｂ）は上面図であり、図中５が接着剤の塗布され
た接着絆である。図５（Ａ）に矢印ａで示す面が皮膚接
触面である。
着磁機で着磁して磁石とする。例えば、一方面にＮ極、
他方面にＳ極が形成され、厚さ方向に磁力線の通過する
着磁機に、磁気組成物の形成されたシリコンゴム基板を
位置させ、１５０００エルステツドで着磁し、磁気効果
素子（磁石）とする。この様にして着磁されたシリコン
基板の各磁石部分は、工程７で磁石毎に分離して接着絆
に貼り付ける接着絆付加工程を施され、磁気治療器とさ
れる。具体的には、複数の磁石の埋め込まれたシリコン
基板の各磁石部分を、各磁石毎に切断又は打ち抜きによ
り分離する。この工程は、鉄片１４が埋め込まれている
点を除き上述した図３と略同様にして行われる。なお、
分離する形状は本実施例では円形とし、円柱状の磁石の
埋め込まれたシリコンゴム基板としている。しかし、こ
の分離形状は円形に限るものではなく、角形形状でも良
いことは勿論である。このようにして分離された各磁石
部分は、磁石埋め込み面の反対側の面に当該磁石部分を
皮膚等に十分固定できる程度の大きさの接着剤の塗布さ
れた接着絆に貼り付ける。この磁石部分を接着絆に貼り
付けた状態を図４に示す。図４において、（Ａ）は側面
図、（Ｂ）は上面図であり、図中５が接着剤の塗布され
た接着絆である。図５（Ａ）に矢印ａで示す面が皮膚接
触面である。
【００２２】以上の様にして製造された本実施例の磁気
治療器においては、磁束が図５に示す様に鉄片１４の凸
状部分に収束された様になり、密度の高い磁力線が貼着
された生体内に浸透し、優れた磁気治療効果を奏する。
本実施例の厚膜磁石は、ガウスメータでの測定で略表面
磁束を１５００ガウス〜２０００ガウス近くとすること
ができた。
治療器においては、磁束が図５に示す様に鉄片１４の凸
状部分に収束された様になり、密度の高い磁力線が貼着
された生体内に浸透し、優れた磁気治療効果を奏する。
本実施例の厚膜磁石は、ガウスメータでの測定で略表面
磁束を１５００ガウス〜２０００ガウス近くとすること
ができた。
【００２３】以上説明したように本実施例によれば、基
板に溝を配設し、該溝の中に磁石を埋め込むように形成
したことにより、磁石部分の剥離などなくその厚さを厚
くでき、強い保磁力を備えた磁気治療器が提供できる。
しかもシリコンゴム基板部分が弾力性のある突起形状で
あるため、指圧効果も合わせ持つ磁気治療器とすること
ができる。
板に溝を配設し、該溝の中に磁石を埋め込むように形成
したことにより、磁石部分の剥離などなくその厚さを厚
くでき、強い保磁力を備えた磁気治療器が提供できる。
しかもシリコンゴム基板部分が弾力性のある突起形状で
あるため、指圧効果も合わせ持つ磁気治療器とすること
ができる。
【００２４】また、熱硬化性樹脂として熱硬化性のシリ
コン塗料を用いたのは、主に基板材質がシリコンゴムで
あるためであり、基板をガラスエポキシ基板やフエノー
ル基板、又はセラミツク基板とし、これらの基板上に磁
気材料ペーストを充填する場合には、基板への接着強度
を増すため、エポキシ樹脂を使用すればよい。これらの
基板を用いた場合にもエポキシ樹脂により上述同様の作
用効果が得られた。
コン塗料を用いたのは、主に基板材質がシリコンゴムで
あるためであり、基板をガラスエポキシ基板やフエノー
ル基板、又はセラミツク基板とし、これらの基板上に磁
気材料ペーストを充填する場合には、基板への接着強度
を増すため、エポキシ樹脂を使用すればよい。これらの
基板を用いた場合にもエポキシ樹脂により上述同様の作
用効果が得られた。
【００２５】
【第２実施例】以上の工程１の製作工程では、シリコン
ゴム基板１を直接加工して溝を形成する例を説明した
が、本発明は以上の例に限定されるものではなく、２枚
の基板の一方基板に第１実施例の溝形状に対応する貫通
穴をあけ、他方基板と一体化して結果として溝部を形成
した基板としてもよい。そして溝形成後に貫通穴を開け
るようにしてもよい。または貫通穴は別途他方基板に予
め開けておき、互いの貫通穴の位置を合わせて互いの基
板を一体化してもよい。この様にして溝部を形成した基
板を製作することにより、面倒な溝切り作業にかえ、簡
単なプレス打ち抜き作業等で溝部の形成された基板が製
作できる。
ゴム基板１を直接加工して溝を形成する例を説明した
が、本発明は以上の例に限定されるものではなく、２枚
の基板の一方基板に第１実施例の溝形状に対応する貫通
穴をあけ、他方基板と一体化して結果として溝部を形成
した基板としてもよい。そして溝形成後に貫通穴を開け
るようにしてもよい。または貫通穴は別途他方基板に予
め開けておき、互いの貫通穴の位置を合わせて互いの基
板を一体化してもよい。この様にして溝部を形成した基
板を製作することにより、面倒な溝切り作業にかえ、簡
単なプレス打ち抜き作業等で溝部の形成された基板が製
作できる。
【００２６】この打ち抜き作業は溝切り作業に比し、非
常に簡単であり、かつ一定基準の貫通穴を一度に多数
（例えば数個、数十個と）開けることができ、大幅に作
業効率を向上させることができる。
常に簡単であり、かつ一定基準の貫通穴を一度に多数
（例えば数個、数十個と）開けることができ、大幅に作
業効率を向上させることができる。
【００２７】
【第３実施例】更に、以上の各実施例は、溝１２の底部
略中央部に貫通穴を開けて鉄片１４を挿入する例につい
てのものであつた。しかし、本発明は以上の例に限定さ
れるのではなく、例えばシリコンゴム基板に溝のみを配
設してこの中に強磁性体粉末の磁気ペーストを充填し、
その後にシリコン基板１１の溝を配設しない面より溝の
略中心と成るように釘状の鉄部材を打ち込む等してこの
鉄部材の先端部を強磁性体材料部まで貫通させても、上
述の各実施例と同様の高密度の磁力線を生体内に浸透さ
せることができる。この様に構成した本発明に係る第３
実施例を図６を参照して以下に説明する。
略中央部に貫通穴を開けて鉄片１４を挿入する例につい
てのものであつた。しかし、本発明は以上の例に限定さ
れるのではなく、例えばシリコンゴム基板に溝のみを配
設してこの中に強磁性体粉末の磁気ペーストを充填し、
その後にシリコン基板１１の溝を配設しない面より溝の
略中心と成るように釘状の鉄部材を打ち込む等してこの
鉄部材の先端部を強磁性体材料部まで貫通させても、上
述の各実施例と同様の高密度の磁力線を生体内に浸透さ
せることができる。この様に構成した本発明に係る第３
実施例を図６を参照して以下に説明する。
【００２８】図７において、１１は図６に示すシリコン
ゴム基板と同様のシリコンゴム基板であり、基板１１に
は、例えば直径約６ｍｍの溝１２を設けて磁気ペースト
１３を充填し、ここに釘状鉄部材２０を打ち込んでい
る。では０．５ｍｍ））の基板２１を接着剤等で貼着す
る。この様に構成することにより、溝１２内に貫通穴を
開ける工程が不要になり、釘状鉄部材２０を単に打ち込
むと言う簡単な工程で磁気治療硬化の高い磁気治療器が
提供できる。
ゴム基板と同様のシリコンゴム基板であり、基板１１に
は、例えば直径約６ｍｍの溝１２を設けて磁気ペースト
１３を充填し、ここに釘状鉄部材２０を打ち込んでい
る。では０．５ｍｍ））の基板２１を接着剤等で貼着す
る。この様に構成することにより、溝１２内に貫通穴を
開ける工程が不要になり、釘状鉄部材２０を単に打ち込
むと言う簡単な工程で磁気治療硬化の高い磁気治療器が
提供できる。
【００２９】なお、磁気材料ペーストを充填する溝部形
状は任意の形状とすることができ、例えば、正方形、長
方形、円形、楕円形、菱形、台形、三角形の溝等任意の
溝形状とすることができ、これらの形状を一部に含む多
角形形状とすることも極めて容易にできる。また、深さ
も任意であり、更に、中央部の深さが周囲より深い山形
の溝形状であつても良いことは勿論である。
状は任意の形状とすることができ、例えば、正方形、長
方形、円形、楕円形、菱形、台形、三角形の溝等任意の
溝形状とすることができ、これらの形状を一部に含む多
角形形状とすることも極めて容易にできる。また、深さ
も任意であり、更に、中央部の深さが周囲より深い山形
の溝形状であつても良いことは勿論である。
【００３０】更に、上記実施例では鉄片１４又は鉄部材
２０を用いた例を説明したが、アレルギー反応を起こ恐
れの少ない磁性体材料であれば、鉄に限るものではな
く、他の任意の材料を使用することができる。以上説明
したように、上記各実施例で製造した厚膜磁石は径年変
化に非常に強いものであり、かつ、基板２の所望の位置
に所望の形状で必要数だけ容易に形成でき、しかも、表
面が人体に殆ど無害な鉄片とシリコン樹脂で被覆されて
いる。このため、直接人体の皮膚に密着させてもアレル
ギー等を起こす恐れが殆どなく、磁気治療器に応用する
ことにより、非常に廉価かつ安定性に優れ、磁気治療効
果も高い磁気治療器とすることができる。
２０を用いた例を説明したが、アレルギー反応を起こ恐
れの少ない磁性体材料であれば、鉄に限るものではな
く、他の任意の材料を使用することができる。以上説明
したように、上記各実施例で製造した厚膜磁石は径年変
化に非常に強いものであり、かつ、基板２の所望の位置
に所望の形状で必要数だけ容易に形成でき、しかも、表
面が人体に殆ど無害な鉄片とシリコン樹脂で被覆されて
いる。このため、直接人体の皮膚に密着させてもアレル
ギー等を起こす恐れが殆どなく、磁気治療器に応用する
ことにより、非常に廉価かつ安定性に優れ、磁気治療効
果も高い磁気治療器とすることができる。
【００３１】さらに、磁石を複数形成し、磁石の配設位
置が人体のつぼに相当する部分となるようにすることに
より、治療効果の高い磁気治療器が提供できる。
置が人体のつぼに相当する部分となるようにすることに
より、治療効果の高い磁気治療器が提供できる。
【００３２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
磁石を直接皮膚に触れさせることなく、皮膚に到達する
磁力を高めることができる。従って、生体内に浸透する
磁力線の密度を高めることができ、しかも人体にほとん
ど無害で経年変換のほとんどない、磁気治療効果の高い
磁気治療器を提供することができる。
磁石を直接皮膚に触れさせることなく、皮膚に到達する
磁力を高めることができる。従って、生体内に浸透する
磁力線の密度を高めることができ、しかも人体にほとん
ど無害で経年変換のほとんどない、磁気治療効果の高い
磁気治療器を提供することができる。
【図１】本発明に係る一実施例の厚膜磁石の製造工程を
示すフローチヤートである。
示すフローチヤートである。
【図２】本実施例における溝部及び貫通穴の形成された
シリコンゴム基板を示す図である。
シリコンゴム基板を示す図である。
【図３】本実施例におけるシリコンゴム基板の溝部及び
貫通穴に鉄片及び磁気組成物の充填された状態を示す図
である。
貫通穴に鉄片及び磁気組成物の充填された状態を示す図
である。
【図４】本実施例における磁気治療器の完成状態を示す
図である。
図である。
【図５】本実施例における磁気治療器の磁束の流れを説
明するための図である。
明するための図である。
【図６】本発明に係る第３実施例におけるシリコンゴム
基板への溝部分形成例及び鉄片打ち込み状態を示す図で
ある。
基板への溝部分形成例及び鉄片打ち込み状態を示す図で
ある。
【図７】従来の磁気治療器における溝部の形成されたシ
リコンゴム基板を示す図である。
リコンゴム基板を示す図である。
【図８】従来の磁気治療器におけるシリコンゴム基板の
溝部に磁気組成物の充填された状態を示す図である。
溝部に磁気組成物の充填された状態を示す図である。
【図９】従来の磁気治療器における打ち抜き工程を説明
するための図である。
するための図である。
【図１０】従来の磁気治療器における磁気治療器の完成
状態を示す図である。
状態を示す図である。
１ 溝部の形成されたシリコンゴム基板
２ 溝
３，１３ 溝内に充填された強磁性材料ペースト
５ 接着絆
１１ 貫通穴の配設されたシリコンゴム基板
１２ 貫通穴の配設された溝
１４ 凸状鉄片
１５ 貫通穴
２０ 釘状鉄部材
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平１−250269（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−224303（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−7045（ＪＰ，Ａ)
実開 昭62−97655（ＪＰ，Ｕ)
実開 平３−70156（ＪＰ，Ｕ)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
A61N 2/08
Claims (3)
- 【請求項１】 皮膚に密着される面以外の面から強磁性
体を充填するための空間が形成された非磁性体基板と、 前記空間内に充填され、前記基板の厚さ方向に着磁され
た磁石と、 前記空間から前記基板の皮膚密着面へ貫通する貫通穴に
挿入され、その凸部および底部の形状がそれぞれ前記貫
通穴および前記空間の底部の形状に略一致する強磁性体
部材と、 前記皮膚密着面の反対側の前記基板の面に貼着された、
皮膚へ密着させるための接着剤が塗布された部材とを有
することを特徴とする磁気治療器。 - 【請求項２】 磁気組成物を充填するための少なくとも
一つの溝、および、前記溝の底部の中央近傍に所定径の
貫通穴を有する非磁性体基板を製作する製作工程と、 その凸部および底部の形状がそれぞれ前記貫通穴および
前記溝の底部の形状に略一致する凸形状の強磁性体部材
を前記基板の溝および貫通穴に挿入する挿入工程と、 強磁性材料の混合合金粉末と熱硬化性樹脂とを混合して
強磁性材料のペーストを製造する混合工程と、 前記ペーストを前記基板の溝に充填する充填工程と、 前記溝に充填された前記ペーストを焼き付け硬化させる
焼付工程と、 前記ペーストを焼き付け硬化した後、前記強磁性材料に
着磁して磁石にする着磁工程と、 前記基板を前記磁石部分を中心に所定の大きさに整形
し、皮膚へ接着可能にするための接着剤が塗布された部
材を貼着する整形工程とを有することを特徴とする磁気
治療器の製造方法。 - 【請求項３】 磁気組成物を充填するための少なくとも
一つの溝を有する非磁性体基板を製作する製作工程と、 前記基板の溝に強磁性材料を充填する充填工程と、その断面積が前記溝の底面より小さい強磁性体部材を、
前記溝の底面の略中心部に貫通し、前記溝に充填された
強磁性材料に到達するように、前記溝が形成された面に
対向する前記基板の面から打ち込む打込工程と、 前記基板の厚さ方向に前記強磁性材料を着磁して磁石に
する着磁工程と、 前記基板を前記磁石部分を中心に所定の大きさに整形
し、皮膚へ接着可能にするための接着剤が塗布された部
材を貼着する整形工程とを有することを特徴とする磁気
治療器の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30901491A JP3386482B2 (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | 磁気治療器及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30901491A JP3386482B2 (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | 磁気治療器及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05137805A JPH05137805A (ja) | 1993-06-01 |
| JP3386482B2 true JP3386482B2 (ja) | 2003-03-17 |
Family
ID=17987846
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30901491A Expired - Lifetime JP3386482B2 (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | 磁気治療器及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3386482B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007151769A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-21 | Pip Fujimoto Co Ltd | 磁気治療具 |
-
1991
- 1991-11-25 JP JP30901491A patent/JP3386482B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007151769A (ja) * | 2005-12-02 | 2007-06-21 | Pip Fujimoto Co Ltd | 磁気治療具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05137805A (ja) | 1993-06-01 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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