JP3397490B2 - Stage moving mechanism - Google Patents
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- JP3397490B2 JP3397490B2 JP1182895A JP1182895A JP3397490B2 JP 3397490 B2 JP3397490 B2 JP 3397490B2 JP 1182895 A JP1182895 A JP 1182895A JP 1182895 A JP1182895 A JP 1182895A JP 3397490 B2 JP3397490 B2 JP 3397490B2
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- Prior art keywords
- stage
- retainer
- base
- linear bearing
- fixed
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Electron Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Bearings For Parts Moving Linearly (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子ビーム描画装置な
どにおいて被描画材料や試料をX,Y方向に移動する場
合に用いて好適なステージ移動機構に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から電子ビーム描画装置などに用い
られている被描画材料などの移動機構を図1,図2に示
す。図1は移動機構の斜視図、図2はその平面図であ
る。図において1は例えば描画室の底部に配置された基
盤であり、この基盤1の上にはベース2が取り付けられ
ている。ベース2上には被描画材料であるウエーハやマ
スク基板等が載せられるステージ3が設けられている
が、ステージ3がX,Y方向に円滑に移動できるよう、
ベース2とステージ3との間に多数のボール4が挟まれ
ている。
【0003】ここで、ベース2の表面とステージ3の底
面とはそれぞれ平面度良く加工研磨されており、また、
各ボール4はその直径の相互差が極めて少なくなるよう
に選ばれている。このような構成により、ステージ3の
移動に際しては、ステージ3の上下位置の変動やピッチ
ング・ローリングを極めて少なく維持することが可能と
されている。なお、ボール4の配列はリテーナ5により
一定のボール間隔に維持されており、リテーナ5の重量
は、リテーナ5の底面がベース2上を滑る状態で支えら
れている。また、ベース2の周囲には、ストッパ6が突
設され、リテーナ5の位置ずれが生じても、リテーナ5
がベース2から外れないように工夫されている。
【0004】ステージ3はX方向への移動アーム7xと
Y方向の移動アーム7yに案内されてX,Y2方向に移
動可能とされている。アーム7yには2本の細長いセン
ターガイド8a,8cが固定され、ステージ3にはセン
ターガイド8a,8cの中間にそれらとほぼ平行にセン
ターガイド8bが固定されている。図2におけるAA断
面図を図3(a)に、また、図3(a)の断面線BBに
おける断面を右方から見た断面図を図3(b)に示す。
センターガイド8aと8bとの間およびセンターガイド
8bと8cとの間には、コロ9が挾まれている。このコ
ロ9の位置や姿勢を維持するために、リテーナ10が設
けられているが、リテーナ10はコロ9と共に移動可能
とされている。なお、図示していないが、アーム7xと
ステージ3との間にも上記したと同様なセンターガイ
ド,コロ,リテーナの構成が設けられている。
【0005】アーム7xの一方の端部には、ローラーガ
イド11xが固定されているが、アーム7xとこのロー
ラーガイド11xとは直角に交叉するように配置され
る。ローラーガイド11xの一部にはボールネジ12x
が貫通して螺合されており、その結果、ボールネジ12
xを回転させることにより、ローラーガイド11xおよ
びローラーガイド11xに固定されたアーム7xはボー
ルネジ12xに平行に移動される。なお、アーム7xの
他端にはローラが設けられており、このローラはボール
ネジ12xと平行に配置されたガイドレール13xに沿
って移動する。
【0006】同様に、アーム7yの一方の端部には、ロ
ーラーガイド11yが固定されているが、アーム7yと
このローラーガイド11yとは直角に交叉するように配
置される。ローラーガイド11yの一部にはボールネジ
12yが貫通して螺合されており、その結果、ボールネ
ジ12yを回転させることにより、ローラーガイド11
yおよびローラーガイド11yに固定されたアーム7y
はボールネジ12yに平行に移動される。なお、アーム
7yの他端はアーム7xの場合と同様、ボールネジ12
yと平行に配置されたガイドレール13yに沿って移動
する。なお、ボールネジ12x,12y、ガイドレール
13x,13yは基盤1に固定され、ボールネジ12x
はモータ14xによって回転させられ、ボールネジ12
yはモータ14yによって回転させられる。
【0007】上記した構成で、モータ14yを回転させ
ると、ボールネジ12yが回転し、その結果、ローラー
ガイド11yはY方向に移動する。このローラーガイド
11yの移動によりローラーガイド11yに固定された
アーム7yが移動する。従って、アーム7yに固定され
たセンターガイド8a,8cがステージ3に固定された
センターガイド8bをリテーナ10内のコロ9を介して
押すことから、ステージ3はY方向に移動する。また、
モータ14xを回転させると、ボールネジ12xが回転
し、その結果、ローラーガイド11xはX方向に移動す
る。
【0008】このローラーガイド11xの移動によりロ
ーラーガイド11xに固定されたアーム7xが移動す
る。従って、ステージ3はX方向に移動する。この時、
センターガイド8bはステージ3と共に移動し、併せて
リテーナ10とコロ9もステージ3の移動の1/2の距
離アーム7y上をX方向に移動する。このステージ3の
X,Y水平方向の移動は、ステージ3とベース2との間
にボール4が多数設けられているので、円滑に行われ
る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記構成で、ボール4
の配列を維持するリテーナ5は、ベース2の上面に置か
れているが、ステージ3の移動と共に、そのベース2の
上面を滑りながら移動する。リテーナ5の自重がベース
2の上面にかかる状態で、リテーナ5の底面とベース2
の面とが擦れるため、両者から磨耗粉が発生する。その
磨耗粉が発生しているベース2の面の同じ場所を複数の
ボール4が転がって通過しているので、複数のボール4
は必ず磨耗粉の上に乗り上げてしまう。この状態が生じ
ると、ステージ3が持ち上げられ、ステージ3の上下の
位置精度が悪化してしまう。
【0010】また、リテーナ5の移動にも摩擦抵抗があ
るので、ステージ3の移動が繰り返されると、リテーナ
5の姿勢(とくに回転方向)のずれが発生し、上下のベ
ース面に対する複数のボール4の平面的な配置に変化が
生じてしまう。このことは、ステージ3の移動を繰り返
すことにより、同じ座標位置でもボール4の配置が変わ
ってしまうことを意味しており、ステージ3の上下の位
置精度の再現性も悪化させてしまうことになる。
【0011】更に、リテーナ5の位置がずれてしまうこ
とにより、ベース2の周囲のストッパ6にリテーナ5が
衝突し、ステージ3の移動方向によっては、リテーナ5
とストッパ6が擦れながら移動することもあり、この現
象によっても磨耗粉の発生が避けられない。
【0012】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、ステージの移動によっても磨耗粉
の発生を極端に少なくすることができ、精密なステージ
の移動を可能とする移動機構を実現するにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に基づく
ステージ移動機構は、ベース上にステージを配置させる
と共に、ベースの上面とステージの底面との間に複数の
ボールを設け、ステージをボールを介してベース上で円
滑に移動させるようにした移動機構において、ボールの
配列を規制するためのリテーナにリニアベアリングを固
定し、このリニアベアリングをシャフトによって支え、
また、シャフトの両端に別のリニアベアリングを固定
し、このリニアベアリングをシャフトによって支え、リ
テーナがベース面に接触せずにステージの底面とベース
の上面との間の空中を移動するように構成したことを特
徴としている。
【0014】
【0015】
【作用】請求項1の発明においては、ステージをベース
上で円滑に移動させるボールの配列を規制するためのリ
テーナにリニアベアリングを固定し、このリニアベアリ
ングをシャフトによって支え、また、シャフトの両端に
別のリニアベアリングを固定し、このリニアベアリング
をシャフトによって支え、リテーナをベース面に接触さ
せずにステージの底面とベースの上面との間の空中を移
動させる。
【0016】
【0017】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。図4は本発明の一実施例である移動機構の
平面図であり、図5は図4のAA断面図である。この実
施例において、図1,図2,図3に示した従来例と同一
ないしは類似の構成要素には同一番号を付し、その詳細
な説明を省略する。リテーナ5の4隅にはリニアベアリ
ング15xが平行に固定されており、この各リニアベア
リング15xは2本の平行なシャフト16,17によっ
て支えられている。2本のシャフト16,17のそれぞ
れの両端には、リニアベアリング15yがリニアベアリ
ング15xとは直交方向に固定されている。このリニア
ベアリング15yは2本の平行なシャフト18,19
(シャフト16,17と直交している)によって支えら
れている。シャフト18,19の中間部はベース2の側
面に固定されている。
【0018】上記構成により、リテーナ5の重量はリニ
アベアリング15x,15yを介して、シャフト16,
17,18,19に支えられることになり、ベース2の
上面に接触する部材はボール4以外は何もなくなること
になる。また、シャフト16,17,18,19のそれ
ぞれの端部には、ストッパ20が設けられており、も
し、リテーナ5の位置ずれが生じても、シャフト16,
17,18,19からリニアベアリング15x,15y
が外れないように構成されている。
【0019】さて、試料ステージ3をX方向に移動させ
るときには、試料ステージ3の底面とベース2の上面に
挾まれている複数のボール4が転がり、リテーナ5をX
方向に動かそうとする。この際、リテーナ5に固定され
ているリニアベアリング15xがシャフト16,17に
案内され、リテーナ5はボール4と共に抵抗無くX方向
に移動する。
【0020】この時、リテーナ5およびリニアベアリン
グ15xは、試料ステージ3の底面とベース2の上面の
間の空中を移動するため、摩擦による摩耗粉等のゴミは
発生しない。試料ステージ3がY方向に移動するときも
同様に試料ステージ3の底面とベース2の平面に挾まれ
ている複数のボール4が転がり、リテーナ5をY方向に
動かそうとする。この際、リテーナ5に固定されている
リニアベアリング15xとシャフト16,17がY方向
に動かされる。その結果、シャフト16,17の両端に
直交方向に固定されているリニアベアリング15yは、
シャフト18,19に案内されて移動する。従って、リ
テーナ5はボール4と共に抵抗無くY方向に移動するこ
とができる。
【0021】この時、リテーナ5,リニアベアリング1
5xおよびシャフト16,17は、試料ステージ3の底
面とベース2の平面の間の空中を移動し、リニアベアン
グ15yはベース2の外側を移動するため、ステージ3
のX方向の移動と同様に摩擦による摩耗粉等のゴミは発
生しない。
【0022】更に、シャフト18,19が、ベース2の
側面のY方向に2本固定されているので、リニアベアリ
ング15yと直交方向に固定されているシャフト16,
17は、X方向に平行な姿勢が維持された状態で移動す
ることができる。従って、リテーナ5は、回転方向の姿
勢のずれが発生しないので、上下のベース面に対する複
数のボール4の平面的な配置には変化が生じない。
【0023】以上本発明の一実施例を詳述したが、本発
明はこの実施例に限定されない。例えば、主として電子
ビーム描画装置におけるステージの移動について説明し
たが、走査電子顕微鏡などの他の電子ビーム装置やイオ
ンビーム装置にも本発明を適用することができる。ま
た、実施例におけるリニアベアリングとシャフトは、小
形軽量で走行抵抗の小さいガイドであれば、循環式のリ
ニアベアリングおよびガイドレールなどを用いることも
可能である。更に、リテーナの4隅に4個のリニアベア
リングを配置したが、リテーナの姿勢を維持できれば良
いので、3個あるいは2個でも可能である。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明で
は、ステージをベース上で円滑に移動させるボールの配
列を規制するためのリテーナにリニアベアリングを固定
し、このリニアベアリングをシャフトによって支え、ま
た、シャフトの両端に別のリニアベアリングを固定し、
このリニアベアリングをシャフトによって支え、リテー
ナをベース面に接触させずにステージの底面とベースの
上面との間の空中を移動させるように構成した。
【0025】その結果、ベースの上面に接触するものは
ボール以外に何もないので、リテーナがベース面に接触
せず、ステージの底面とベースの上面との間の空中を移
動するようになったので、従来の摩擦による摩耗粉など
のゴミの発生を無くすことが可能となる。
【0026】従って、ベース面上でゴミの発生がなくな
るので、ボールがゴミの上に乗り上げ、ステージの上下
の位置精度を悪化させることは防止される。また、リテ
ーナとベース面間の滑りの摩擦抵抗が無くなり、リニア
ベアリングとシャフトの転がり抵抗になったため、リテ
ーナ移動の走行抵抗が小さくなり、リテーナのずれの発
生を無くすことができる。
【0027】更に、リテーナを支えるリニアベアリング
やシャフトが、水平方向に回転せず、X−Yに移動する
ので、リテーナに回転方向の姿勢のずれも発生しなくな
った。このため、ステージ移動を繰り返しても、同じ座
標位置でのボールの配置が変わらないので、ステージの
上下動の再現性を向上させることができる。
【0028】更にまた、リテーナがずれて、シャフトの
両端にあるストッパにリニアベアリングが当たっても、
一方向からしか当たらない構造としたので、従来のよう
にリテーナとストッパが擦れながら移動することがなく
なり、そのことによるゴミの発生も防止できる。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a stage moving mechanism suitable for moving a material to be drawn or a sample in X and Y directions in an electron beam drawing apparatus or the like. . 2. Description of the Related Art FIGS. 1 and 2 show a mechanism for moving a material to be drawn, which has conventionally been used in an electron beam drawing apparatus or the like. FIG. 1 is a perspective view of the moving mechanism, and FIG. 2 is a plan view thereof. In the drawing, reference numeral 1 denotes a base placed at the bottom of a drawing chamber, for example, and a base 2 is mounted on the base 1. On the base 2, there is provided a stage 3 on which a wafer or a mask substrate, which is a material to be drawn, is placed, and the stage 3 is moved smoothly in the X and Y directions.
Many balls 4 are sandwiched between the base 2 and the stage 3. Here, the surface of the base 2 and the bottom surface of the stage 3 are processed and polished with good flatness, respectively.
Each ball 4 is selected such that the difference between the diameters is very small. With such a configuration, when the stage 3 moves, it is possible to keep the fluctuation of the vertical position of the stage 3 and the pitching / rolling extremely small. The arrangement of the balls 4 is maintained at a constant pitch by the retainer 5, and the weight of the retainer 5 is supported such that the bottom surface of the retainer 5 slides on the base 2. Further, a stopper 6 is provided around the base 2 so as to protrude therefrom.
Is designed so that it does not come off the base 2. The stage 3 is movable in the X and Y directions by being guided by a moving arm 7x in the X direction and a moving arm 7y in the Y direction. Two elongated center guides 8a and 8c are fixed to the arm 7y, and a center guide 8b is fixed to the stage 3 in the middle of the center guides 8a and 8c almost in parallel with them. FIG. 3A is a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 2, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the cross section taken along a cross-sectional line BB of FIG.
Rollers 9 are sandwiched between the center guides 8a and 8b and between the center guides 8b and 8c. A retainer 10 is provided to maintain the position and posture of the roller 9, and the retainer 10 is movable with the roller 9. Although not shown, a center guide, a roller, and a retainer similar to those described above are provided between the arm 7x and the stage 3. A roller guide 11x is fixed to one end of the arm 7x. The arm 7x and the roller guide 11x are arranged so as to intersect at right angles. Ball screw 12x is part of roller guide 11x
Are screwed through, so that the ball screw 12
By rotating x, the roller guide 11x and the arm 7x fixed to the roller guide 11x are moved in parallel with the ball screw 12x. A roller is provided at the other end of the arm 7x, and the roller moves along a guide rail 13x arranged in parallel with the ball screw 12x. Similarly, a roller guide 11y is fixed to one end of the arm 7y, and the arm 7y and the roller guide 11y are arranged so as to intersect at right angles. A ball screw 12y penetrates a part of the roller guide 11y and is screwed. As a result, by rotating the ball screw 12y, the roller guide 11y is rotated.
y and the arm 7y fixed to the roller guide 11y
Is moved in parallel with the ball screw 12y. The other end of the arm 7y has a ball screw 12 similar to the arm 7x.
It moves along the guide rail 13y arranged in parallel with y. The ball screws 12x and 12y and the guide rails 13x and 13y are fixed to the base 1, and the ball screws 12x and 12y are fixed.
Is rotated by a motor 14x, and the ball screw 12
y is rotated by a motor 14y. In the above configuration, when the motor 14y is rotated, the ball screw 12y rotates, and as a result, the roller guide 11y moves in the Y direction. The arm 7y fixed to the roller guide 11y moves by the movement of the roller guide 11y. Accordingly, since the center guides 8a and 8c fixed to the arm 7y push the center guide 8b fixed to the stage 3 via the rollers 9 in the retainer 10, the stage 3 moves in the Y direction. Also,
When the motor 14x is rotated, the ball screw 12x rotates, and as a result, the roller guide 11x moves in the X direction. The arm 7x fixed to the roller guide 11x moves by the movement of the roller guide 11x. Therefore, the stage 3 moves in the X direction. At this time,
The center guide 8b moves together with the stage 3, and at the same time, the retainer 10 and the roller 9 also move in the X direction on the arm 7y which is a half of the movement of the stage 3. The movement of the stage 3 in the X and Y horizontal directions is performed smoothly because a large number of balls 4 are provided between the stage 3 and the base 2. [0009] With the above configuration, the ball 4
Is maintained on the upper surface of the base 2, but moves while sliding on the upper surface of the base 2 with the movement of the stage 3. With the weight of the retainer 5 applied to the upper surface of the base 2, the bottom surface of the retainer 5 and the base 2
Abrasion powder is generated from both. Since the plurality of balls 4 roll and pass over the same place on the surface of the base 2 where the wear powder is generated, the plurality of balls 4
Always gets on the wear powder. When this state occurs, the stage 3 is lifted, and the vertical position accuracy of the stage 3 deteriorates. Further, since the movement of the retainer 5 also has frictional resistance, if the movement of the stage 3 is repeated, the attitude (especially, the rotation direction) of the retainer 5 will be shifted, and the plurality of balls 4 will move with respect to the upper and lower base surfaces. Changes in the two-dimensional arrangement. This means that, by repeating the movement of the stage 3, the arrangement of the balls 4 is changed even at the same coordinate position, and the reproducibility of the vertical position accuracy of the stage 3 is also deteriorated. . Further, when the position of the retainer 5 shifts, the retainer 5 collides with a stopper 6 around the base 2, and depending on the moving direction of the stage 3, the retainer 5 may move.
The stopper 6 may move while being rubbed, and this phenomenon inevitably causes the generation of wear powder. The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to minimize the generation of abrasion powder even when the stage is moved, thereby enabling precise stage movement. In order to realize a moving mechanism. According to a first aspect of the present invention, there is provided a stage moving mechanism, wherein a stage is arranged on a base and a plurality of balls are provided between an upper surface of the base and a bottom surface of the stage. In a moving mechanism that moves the stage smoothly on the base via the ball , a linear bearing is fixed to a retainer for regulating the ball arrangement.
And support this linear bearing with a shaft,
In addition, another linear bearing is fixed to both ends of the shaft
The linear bearing is supported by a shaft, and the retainer moves in the air between the bottom surface of the stage and the upper surface of the base without contacting the base surface. According to the first aspect of the present invention, a linear bearing is fixed to a retainer for regulating the arrangement of balls for smoothly moving the stage on the base.
Supported by the shaft, and at both ends of the shaft
Fix another linear bearing, this linear bearing
Is supported by the shaft, and is moved in the air between the bottom surface of the stage and the top surface of the base without bringing the retainer into contact with the base surface. Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 4 is a plan view of a moving mechanism according to an embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a cross-sectional view along AA in FIG. In this embodiment, the same or similar components as those of the conventional example shown in FIGS. 1, 2 and 3 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. At four corners of the retainer 5, linear bearings 15x are fixed in parallel, and each linear bearing 15x is supported by two parallel shafts 16,17. At both ends of each of the two shafts 16 and 17, a linear bearing 15y is fixed in a direction orthogonal to the linear bearing 15x. The linear bearing 15y has two parallel shafts 18, 19
(Perpendicular to the shafts 16 and 17). The intermediate portion between the shafts 18 and 19 is fixed to the side surface of the base 2. With the above configuration, the weight of the retainer 5 is reduced by the linear bearings 15x and 15y to the shaft 16,
17, 18, and 19, there is no member other than the ball 4 to contact the upper surface of the base 2. Further, a stopper 20 is provided at each end of the shafts 16, 17, 18, and 19, so that even if the retainer 5 is displaced, the shaft 16,
Linear bearings 15x, 15y from 17, 18, 19
Is configured not to come off. When the sample stage 3 is moved in the X direction, a plurality of balls 4 sandwiched between the bottom surface of the sample stage 3 and the upper surface of the base 2 roll and move the retainer 5 to the X direction.
Try to move in the direction. At this time, the linear bearing 15x fixed to the retainer 5 is guided by the shafts 16 and 17, and the retainer 5 moves in the X direction together with the ball 4 without resistance. At this time, since the retainer 5 and the linear bearing 15x move in the air between the bottom surface of the sample stage 3 and the upper surface of the base 2, dust such as wear powder due to friction does not occur. Similarly, when the sample stage 3 moves in the Y direction, the plurality of balls 4 sandwiched between the bottom surface of the sample stage 3 and the plane of the base 2 roll and attempt to move the retainer 5 in the Y direction. At this time, the linear bearing 15x and the shafts 16, 17 fixed to the retainer 5 are moved in the Y direction. As a result, the linear bearing 15y fixed to both ends of the shafts 16 and 17 in the orthogonal direction is
It moves while being guided by the shafts 18 and 19. Therefore, the retainer 5 can move in the Y direction together with the ball 4 without resistance. At this time, retainer 5, linear bearing 1
5x and the shafts 16 and 17 move in the air between the bottom surface of the sample stage 3 and the plane of the base 2, and the linear bearing 15y moves outside the base 2, so that the stage 3
As in the case of the movement in the X direction, dust such as wear powder due to friction is not generated. Further, since two shafts 18 and 19 are fixed in the Y direction on the side surface of the base 2, the shafts 16 and 19 fixed in a direction orthogonal to the linear bearing 15y are provided.
17 can move in a state where a posture parallel to the X direction is maintained. Accordingly, since the retainer 5 does not shift in the rotation direction, the planar arrangement of the plurality of balls 4 with respect to the upper and lower base surfaces does not change. Although one embodiment of the present invention has been described in detail, the present invention is not limited to this embodiment. For example, although the movement of the stage in the electron beam writing apparatus has been mainly described, the present invention can be applied to other electron beam apparatuses such as a scanning electron microscope and an ion beam apparatus. Further, as the linear bearing and the shaft in the embodiment, a circulating linear bearing and a guide rail can be used as long as the guide is small and lightweight and has small running resistance. Further, four linear bearings are arranged at the four corners of the retainer. However, three or two linear bearings are possible as long as the retainer can maintain the posture. As described above, according to the first aspect of the present invention, the linear bearing is fixed to the retainer for regulating the arrangement of the balls for smoothly moving the stage on the base.
This linear bearing is supported by a shaft,
Also, fix another linear bearing on both ends of the shaft,
The linear bearing was supported by a shaft, and was moved in the air between the bottom surface of the stage and the top surface of the base without bringing the retainer into contact with the base surface. As a result, since there is nothing other than the ball in contact with the upper surface of the base, the retainer does not contact the base surface and moves in the air between the bottom surface of the stage and the upper surface of the base. Therefore, it is possible to eliminate the generation of dust such as wear powder due to the conventional friction. Therefore, since no dust is generated on the base surface, it is possible to prevent the ball from riding on the dust and deteriorating the accuracy of the vertical position of the stage. In addition, the sliding frictional resistance between the retainer and the base surface is eliminated, and the rolling resistance between the linear bearing and the shaft is reduced. Therefore, the traveling resistance of the movement of the retainer is reduced, and the occurrence of the displacement of the retainer can be eliminated. Further, since the linear bearing and the shaft supporting the retainer do not rotate in the horizontal direction but move in the X-Y direction, the retainer does not shift in the rotational direction. Therefore, even if the stage movement is repeated, the arrangement of the balls at the same coordinate position does not change, so that the reproducibility of the vertical movement of the stage can be improved. Further, even if the retainer is displaced and the linear bearings hit the stoppers at both ends of the shaft,
Since the structure is such that the retainer and the stopper come into contact only from one direction, the retainer and the stopper do not move while rubbing as in the related art, and the generation of dust due to this can be prevented.
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のステージ移動機構の斜視図である。
【図2】図1に示した移動機構の平面図である。
【図3】ステージ移動のためのセンターガイドの間に設
けられるコロとリテーナの構造を示す図である。
【図4】本発明の一実施例であるステージ移動機構の平
面図である。
【図5】図4に示したステージ移動機構の断面図であ
る。
【符号の説明】
2 ベース
3 ステージ
4 ボール
5 リテーナ
7x,7y アーム
15x,15y リニアベアリング
16,17,18,19 シャフトBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a conventional stage moving mechanism. FIG. 2 is a plan view of the moving mechanism shown in FIG. FIG. 3 is a diagram showing a structure of a roller and a retainer provided between center guides for moving a stage. FIG. 4 is a plan view of a stage moving mechanism according to an embodiment of the present invention. 5 is a sectional view of the stage moving mechanism shown in FIG. [Description of Signs] 2 Base 3 Stage 4 Ball 5 Retainer 7x, 7y Arm 15x, 15y Linear bearing 16, 17, 18, 19 Shaft
Claims (1)
に、ベースの上面とステージの底面との間に複数のボー
ルを設け、ステージをボールを介してベース上で円滑に
移動させるようにした移動機構において、ボールの配列
を規制するためのリテーナにリニアベアリングを固定
し、このリニアベアリングをシャフトによって支え、ま
た、シャフトの両端に別のリニアベアリングを固定し、
このリニアベアリングをシャフトによって支え、リテー
ナがベース面に接触せずにステージの底面とベースの上
面との間の空中を移動するように構成したステージ移動
機構。(57) [Claim 1] A stage is arranged on a base, and a plurality of balls are provided between an upper surface of the base and a bottom surface of the stage, and the stage is smoothly moved on the base via the balls. In a moving mechanism that moves the ball, a linear bearing is fixed to a retainer for regulating the arrangement of balls, this linear bearing is supported by a shaft, and another linear bearing is fixed to both ends of the shaft,
A stage moving mechanism in which the linear bearing is supported by a shaft and the retainer moves in the air between the bottom surface of the stage and the upper surface of the base without contacting the base surface.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1182895A JP3397490B2 (en) | 1995-01-27 | 1995-01-27 | Stage moving mechanism |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1182895A JP3397490B2 (en) | 1995-01-27 | 1995-01-27 | Stage moving mechanism |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08197365A JPH08197365A (en) | 1996-08-06 |
| JP3397490B2 true JP3397490B2 (en) | 2003-04-14 |
Family
ID=11788630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1182895A Expired - Fee Related JP3397490B2 (en) | 1995-01-27 | 1995-01-27 | Stage moving mechanism |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3397490B2 (en) |
-
1995
- 1995-01-27 JP JP1182895A patent/JP3397490B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH08197365A (en) | 1996-08-06 |
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