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JP3398092B2 - Transparent electromagnetic wave shielding member and method of manufacturing the same - Google Patents
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JP3398092B2 - Transparent electromagnetic wave shielding member and method of manufacturing the same - Google Patents

Transparent electromagnetic wave shielding member and method of manufacturing the same

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JP3398092B2
JP3398092B2 JP19799099A JP19799099A JP3398092B2 JP 3398092 B2 JP3398092 B2 JP 3398092B2 JP 19799099 A JP19799099 A JP 19799099A JP 19799099 A JP19799099 A JP 19799099A JP 3398092 B2 JP3398092 B2 JP 3398092B2
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powder
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、CRT(ブラウン
管)、PDP(プラズマ・ディスプレイ・パネル)等の
電子機器の表示部から照射される電磁波を効果的に遮蔽
し得る、電磁波の遮蔽効果と透光性、および視認性に優
れた透光性電磁波シールド部材およびその製造方法に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an electromagnetic wave shielding effect and a transmission effect that can effectively shield an electromagnetic wave emitted from a display portion of an electronic device such as a CRT (CRT) or PDP (plasma display panel). The present invention relates to a translucent electromagnetic wave shield member having excellent lightness and visibility and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電気機器から放射される電磁波が
人体に与える影響について種々の報告がなされており、
それに伴ってCRT等の表面画面から放射される電磁波
を遮蔽する技術について関心が高まっている。電気機器
から放射される電磁波を遮蔽するには、通常、電気機器
の筐体を金属体にしたり、筐体に金属板を貼りつけると
いった方法が知られている。しかし、例えばCRTやP
DPの表示画面から照射される電磁波を遮蔽するには、
電磁波のシールド効果(遮蔽効果)が優れているととも
に、透光性に優れていることも求められるため、金属板
をそのまま使用することはできない。従来、CRT等の
表示画面から照射される電磁波を、当該画面を覆うこと
によって遮蔽することを目的として、例えば(1)導電
性の高い金属フィラメントを混入した繊維からなるメッ
シュ、(2)ステンレス、タングステン等の導電性材料
の繊維を内部に埋め込んだ透明基材(特開平3−352
84号公報、特開平5−269912号公報、特開平5
−327274号公報)、および(3)表面に金属また
は金属酸化物の蒸着膜を形成した透明基板(特開平1−
27880号公報、特開平5−323101号公報)が
用いられている。
2. Description of the Related Art In recent years, various reports have been made on the effects of electromagnetic waves emitted from electrical equipment on the human body.
Accompanying this, there is increasing interest in technology for shielding electromagnetic waves radiated from a surface screen such as a CRT. In order to shield the electromagnetic waves emitted from an electric device, a method is generally known in which the casing of the electric device is made of a metal body or a metal plate is attached to the casing. However, for example, CRT or P
To shield the electromagnetic waves emitted from the DP display screen,
A metal plate cannot be used as it is because it is required to have excellent electromagnetic wave shielding effect (shielding effect) as well as excellent translucency. Conventionally, for the purpose of shielding electromagnetic waves emitted from a display screen such as a CRT by covering the screen, for example, (1) a mesh made of fibers mixed with a highly conductive metal filament, (2) stainless steel, Transparent base material in which fibers of a conductive material such as tungsten are embedded (Japanese Patent Laid-Open No. 3-352)
84, JP-A-5-269912, JP-A-5
No. 327274), and (3) a transparent substrate having a vapor-deposited film of metal or metal oxide formed on the surface (Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI-1-
No. 27880 and Japanese Patent Laid-Open No. 5-323101) are used.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記(1)の
メッシュを用いると表示画面が暗くなり、コントラスト
や解像度が低下する。前記(2)の透明部材は、内部に
繊維が埋め込まれていることから製造方法が複雑になっ
てコストが高くなったり、表示画面が暗くなったりする
という問題点がある。また、前記(3)の場合、充分な
透光性を維持し得る程度にまで蒸着膜を薄くすると当該
膜の表面抵抗が低下し、電磁波の減衰特性も低下するこ
とから、透光と優れた遮蔽効果とを両立できない。
However, when the mesh of the above (1) is used, the display screen becomes dark and the contrast and resolution are lowered. The transparent member of the above (2) has a problem that the manufacturing method is complicated and the cost is high and the display screen is dark because the fiber is embedded inside. Further, in the case of (3), when the vapor deposition film is thinned to the extent that sufficient translucency can be maintained, the surface resistance of the film is lowered and the attenuation property of electromagnetic waves is also lowered. It cannot be compatible with the shielding effect.

【0004】CRT等の表示画面を覆って電磁波を遮蔽
する部材には、上記例示のほかにも導電性の高い金属粉
末を混合したインキや塗料をスクリーン印刷によって格
子状または縞状のパターンとして印刷形成した透明基材
(特開昭62−57297号公報、特開平9−2839
77号公報)、導電性塗料からなる網目状のパターンを
スクリーン印刷で透明基板の表面に印刷形成し、真空中
で焼き付けたもの(特開平2−52499号公報)が知
られているが、これらの部材を用いても、充分な電磁波
の遮蔽効果と充分な透光性とを両立することができな
い。
In addition to the above examples, a member such as a CRT that covers a display screen and shields electromagnetic waves is printed with an ink or paint mixed with highly conductive metal powder as a grid or striped pattern by screen printing. Formed transparent substrate (JP-A-62-57297, JP-A-9-2839)
No. 77), a mesh pattern made of a conductive paint is printed on the surface of a transparent substrate by screen printing and baked in vacuum (Japanese Patent Laid-Open No. 52499/1990). Even if the above member is used, it is not possible to achieve both a sufficient electromagnetic wave shielding effect and a sufficient translucency.

【0005】ここで、優れた電磁波の遮蔽効果と優れた
透光性とを両立するには、パターンの線幅とパターンの
間隙(ピッチ)を最適化し、さらにパターンの電気抵抗
を小さくする必要がある。このような観点に対する考慮
は、上記公報に記載の技術にはなされておらず、またパ
ターンの作成方法に対する考慮も不充分であると考えら
れる。例えば,充分な透光性を得るには、パターンの線
幅を極めて細くして、かつその間隔を大きくするのが好
ましいが、この場合には遮蔽効果が不充分になる。ま
た、スクリーン印刷等の方法で数十μmといった極めて
細い線幅のパターンを形成するのは困難であって、パタ
ーンの線幅にばらつきが生じたり、パターンが途切れる
箇所が多数発生するなどの問題が生ずる。
Here, in order to achieve both an excellent electromagnetic wave shielding effect and an excellent light-transmitting property, it is necessary to optimize the pattern line width and the pattern gap (pitch) and further reduce the electric resistance of the pattern. is there. It is considered that such a viewpoint is not considered in the technique described in the above publication, and that the method for creating a pattern is also insufficiently considered. For example, in order to obtain sufficient translucency, it is preferable that the line width of the pattern be extremely thin and the interval be large, but in this case, the shielding effect becomes insufficient. Further, it is difficult to form a pattern having an extremely narrow line width of several tens of μm by a method such as screen printing, and there are problems such as variations in the line width of the pattern and a large number of places where the pattern is interrupted. Occurs.

【0006】一方,遮蔽効果を高めるには、パターンの
電気抵抗を極力低くすることが好ましいが、導電性微粉
末とバインダー樹脂とからなる一般的な導電性ペースト
の場合、その比抵抗は充分小さいものの、極めて細いパ
ターンを形成した場合、パターン間の電気抵抗は非常に
高くなってしまい遮蔽効果を充分高めることが困難であ
る。また、ディスプレーのコントラストの低下を抑制す
るには、パタ−ンを黒くする必要がある。そこで、導電
性粉末として、カーボン等を使用すればペーストを黒く
することは可能であるが、導電性が低くなり電磁波のシ
ールド性が悪くなる。
On the other hand, in order to enhance the shielding effect, it is preferable to lower the electric resistance of the pattern as much as possible, but in the case of a general conductive paste composed of conductive fine powder and a binder resin, the specific resistance is sufficiently small. However, when an extremely thin pattern is formed, the electric resistance between the patterns becomes very high, and it is difficult to sufficiently enhance the shielding effect. Further, in order to suppress the reduction in the contrast of the display, it is necessary to make the pattern black. Therefore, if carbon or the like is used as the conductive powder, the paste can be blackened, but the conductivity is lowered and the electromagnetic wave shielding property is deteriorated.

【0007】特開平3−35284号公報には、透明プ
ラスチック基板の表面に導電性材料からなる膜を蒸着等
によって形成した後、ケミカルエッチングによってパタ
ーニングする旨の記載があり、また特開平10−416
82号公報には、導電性材料からなる幾何学模様をケミ
カルエッチングプロセスによって透明基材の表面に設け
る旨の記載がある。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 3-35284 describes that a film made of a conductive material is formed on the surface of a transparent plastic substrate by vapor deposition or the like, and then patterned by chemical etching.
Japanese Patent Publication No. 82 describes that a geometric pattern made of a conductive material is provided on the surface of a transparent substrate by a chemical etching process.

【0008】これらの特許公開公報に記載の方法によれ
ば、非常に微細なパターンを高い精度で形成できる。し
かしながら、エッチングプロセスにおいて、微細なパタ
ーンを形成するためにフォトリソ法が用いられることか
ら、製造コストが極めて高くなり、コスト面で不利であ
る。特に、PDP等の大型画面に対応させるためには、
露光装置やエッチング装置を大型化せねばならず、製造
装置が非常に高価になる。
According to the methods described in these patent publications, a very fine pattern can be formed with high accuracy. However, since the photolithography method is used to form a fine pattern in the etching process, the manufacturing cost becomes extremely high, which is disadvantageous in terms of cost. In particular, in order to support large screens such as PDP,
The size of the exposure apparatus and the etching apparatus must be increased, and the manufacturing apparatus becomes very expensive.

【0009】そこで本発明の目的は、上記課題を解決
し、透光性と電磁波の遮蔽効果との両方に優れ、しかも
視認性のよい透光性電磁波シールド部材と、それを簡易
でかつ低コストで製造するための製造方法を提供するこ
とにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a transparent electromagnetic wave shield member which is excellent in both transparency and electromagnetic wave shielding effect and has good visibility, and a simple and low cost It is to provide a manufacturing method for manufacturing.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために、パターン形成方法としてコスト面で
有利な印刷法に着目し、なかでも5〜40μmの線幅で
微細なパターンを形成することからインキ離型性に優れ
たブランケットを用いた凹版オフセット印刷法を適用す
べく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに至っ
た。
In order to solve the above-mentioned problems, the inventors of the present invention focused on a printing method which is advantageous in terms of cost as a pattern forming method, and particularly, a fine pattern having a line width of 5 to 40 μm. The present invention has been completed as a result of earnestly researching to apply an intaglio offset printing method using a blanket having excellent ink releasability.

【0011】すなわち、本発明は、主に以下の内容を包
含する。 1)透明基板の表面に金属粉末を含む導電性ペーストを
印刷して形成されたパターンを有する電磁波シールド部
材であって、該金属粉末が(a)銀、銅、あるいは銀で
被覆された銅粉末の群より選択された1種以上の鱗片状
金属粉末と(b)パラジウムまたは白金の球状粉末のい
ずれかとからなりかつ(a)/(b)の重量比が99.
9/0.1〜50/50であり、透明基板のうち前記シ
ールドパターンが形成されている領域の全面積(Ss)
と前記シールドパターンが形成されていない領域の全面
積(Sk)とが1≦Sk/Ss≦9を満足しかつシール
ドパターンの線幅Wsが5〜40μmで膜厚Wtが0.
5〜50μmであることを特徴とする透光性電磁波シー
ルド部材。
That is, the present invention mainly includes the following contents. 1) An electromagnetic wave shielding member having a pattern formed by printing a conductive paste containing metal powder on the surface of a transparent substrate, wherein the metal powder is (a) silver, copper, or silver.
One or more scale-like metal powders selected from the group of coated copper powders and (b) either spherical powders of palladium or platinum and having a weight ratio of (a) / (b) of 99.
9 / 0.1 to 50/50, and the total area (Ss) of the region of the transparent substrate where the shield pattern is formed.
And the total area (Sk) of the region where the shield pattern is not formed satisfy 1 ≦ Sk / Ss ≦ 9, the line width Ws of the shield pattern is 5 to 40 μm, and the film thickness Wt is 0.
A translucent electromagnetic wave shield member having a thickness of 5 to 50 μm.

【0012】)インキ離型性を有するブランケットを
用いた凹版印刷法で、透明基盤の表面に透光性電磁波シ
ールドパターンを形成させるに際し、 (1)シールドパターンの形成に、(a)銀、銅、ある
いは銀で被覆された銅粉末の群より選択された1種以上
鱗片状金属粉末と(b)パラジウムまたは白金の球状
粉末のいずれかとからなりかつ(a)/(b)の重量比
が99.9/0.1〜50/50である導電性ペースト
組成物を用い、 (2)パターンの線幅を5〜40μm、膜厚を0.5〜
50μmとし、 (3)透明基板の表面に印刷された前記電磁波シールド
パターンが形成されている領域の全面積(Ss)と電磁
波シールドパターンが形成されていない領域の全面積
(Sk)との関係が、式(1): 1≦Sk/Ss≦9 (1) を満足するようにパターンを形成し、次いで硬化するこ
とを特徴とする透光性電磁波シールド部材の製造方法。
2 ) In forming an optically transparent electromagnetic wave shield pattern on the surface of a transparent substrate by an intaglio printing method using a blanket having ink releasability, (1) forming a shield pattern, (a) silver, There is copper
One or more selected from the group of copper powder coated with silver or silver
Of the scaly metal powder of (b) and spherical powder of (b) palladium or platinum, and the weight ratio of (a) / (b) is 99.9 / 0.1-50 / 50. (2) The line width of the pattern is 5 to 40 μm, and the film thickness is 0.5 to
50 μm, and (3) the relationship between the total area (Ss) of the area printed with the electromagnetic wave shield pattern printed on the surface of the transparent substrate and the total area (Sk) of the area not formed with the electromagnetic wave shield pattern. Formula (1): 1 ≦ Sk / Ss ≦ 9 (1) A pattern is formed so as to satisfy, and then a method of manufacturing a transparent electromagnetic wave shield member is characterized by curing.

【0013】)前記ブランケットがシリコーンゴムで
構成された表面ゴムを有するものである上記2)記載の
透光性電磁波シールド部材の製造方法。
3 ) The method for producing a translucent electromagnetic wave shield member according to 2 ), wherein the blanket has a surface rubber made of silicone rubber.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】本発明の透光性電磁波シールド部
材は、前記のとおり、金属粉末が(a)鱗片状金属粉末
と(b)パラジウムまたは白金の球状粉末のいずれかと
からなりかつ(a)/(b)の重量比が99.9/0.1
〜50/50である導電性ペースト組成物を用いてパタ
ーン部が作製される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the translucent electromagnetic wave shield member of the present invention, as described above, the metal powder comprises (a) scale-like metal powder and (b) either spherical powder of palladium or platinum and (a) ) / (B) weight ratio is 99.9 / 0.1
A pattern part is produced using a conductive paste composition of -50/50.

【0015】前記(a)でいう鱗片状金属粉末として
は、パラジウムおよび白金以外の金属粉末であって、金
属の体積固有抵抗をRとするとき、R<1.0×10-5
のものであればよいが、とりわけ銀粉末、銅粉末あるい
は銀で被覆された銅粉末が好ましく、これらは1種であ
ってもよいし2種以上を混合して用いてもよい。ここで
いう鱗片状粉末としては、一般的に長さが0.1〜20
μm、幅が0.05〜15μm、厚みが0.05〜5μ
m程度の鱗片状を有する粉末が好ましい。前記鱗片状粉
末のなかでも、とりわけ銀粉末が導電性の面から好まし
い。
The scale-like metal powder referred to in (a) above is a metal powder other than palladium and platinum, where R <1.0 × 10 −5 , where R is the volume resistivity of the metal.
However, silver powder, copper powder or copper powder coated with silver is preferable, and these may be used alone or in combination of two or more. The scale-like powder referred to here generally has a length of 0.1 to 20.
μm, width 0.05 to 15 μm, thickness 0.05 to 5 μm
A powder having a scale shape of about m is preferable. Among the scale-like powders, silver powder is particularly preferable in terms of conductivity.

【0016】次に、前記(b)でいうパラジウムまたは
白金の球状粉末は、(a)の鱗片状金属粉末と相補して
金属粉末全体の充填効率を向上させ、かつ鱗片状金属粉
末の表面改質を目的として添加される。本球状粉末は、
充填効率を高める目的から粒子径5μm以下であること
が好ましい。(a)の鱗片状金属粉末と(b)のパラジ
ウムまたは白金の球状粉末は、前述のとおり、99.9
/0.1≦a/b≦50/50の重量比率で混合される。
前記a/bの比率が99.9/0.1よりも小さいとき
は、添加効果ががみられなくなり、一方この比率が50
/50を越えるときは鱗片状金属粉末を単独使用する場
合よりも逆に導電性ペーストの電気抵抗が高くなる。
Next, the spherical powder of palladium or platinum mentioned in (b) above complements the scale-like metal powder of (a) to improve the filling efficiency of the whole metal powder, and improves the surface of the scale-like metal powder. It is added for the purpose of quality. This spherical powder is
The particle diameter is preferably 5 μm or less for the purpose of enhancing the filling efficiency. The scale-like metal powder of (a) and the spherical powder of palladium or platinum of (b) are 99.9 as described above.
/0.1≤a/b≤50/50 in a weight ratio.
When the ratio of a / b is less than 99.9 / 0.1, the effect of addition is not observed, while this ratio is 50
When it exceeds / 50, the electric resistance of the conductive paste becomes higher than that when the scale-like metal powder is used alone.

【0017】前記の導電性ペースト組成物は、電磁波シ
ールドパタ−ン部の導電性を高くして電磁波の遮蔽効果
をより一層高くするという観点から、その充填効率すな
わち充填密度を高くするが、通常は2g/cm3以上であ
ることが好ましい。一方、電磁波シールドパターン部の
導電性は、これら金属粉末自体の体積固有抵抗のみで決
まるものではなく、パターン部中での金属粉末間の接触
抵抗によっても大きく左右される。例えば、電磁波シー
ルドパターン部の内部に金属粒子が高密度で充填されて
いても、金属粉末間の接触抵抗が大きければ、パターン
全体の導電性が低くなる。
From the viewpoint of increasing the conductivity of the electromagnetic wave shielding pattern portion to further enhance the electromagnetic wave shielding effect, the above-mentioned conductive paste composition increases its packing efficiency, that is, the packing density. Is preferably 2 g / cm 3 or more. On the other hand, the conductivity of the electromagnetic wave shield pattern portion is not only determined by the volume specific resistance of these metal powders themselves, but is greatly influenced by the contact resistance between the metal powders in the pattern portion. For example, even if the inside of the electromagnetic wave shield pattern portion is filled with metal particles at a high density, if the contact resistance between the metal powders is large, the conductivity of the entire pattern becomes low.

【0018】前記の導電性ペースト組成物は、上記の
(a)および(b)の金属粉末と、バインダー樹脂およ
び溶剤を混合することによって調製される。前記バイン
ダー樹脂としては、熱硬化型、紫外線硬化型、熱可塑型
のいずれも使用可能である。熱硬化型としては、例え
ば、ポリエステル−メラミン、メラミン、エポキシ−メ
ラミン、フェノール、ポリイミド、アクリル、ポリウレ
タンなどの各樹脂が挙げられる。紫外線硬化型として
は、アクリル樹脂が、熱可塑型としては、ポリエステ
ル、ポリビニルブチラール、アクリル、フェノール、ポ
リウレタンなどの各樹脂が挙げられる。熱硬化型樹脂を
使用する場合、必要に応じて、例えば硬化温度を高くで
きないようなときにはp−トルエンスルホン酸、アミン
でブロックしたp−トルエンスルホン酸、ブロックイソ
シアネートなどの硬化触媒を添加しておくことが好まし
い。
The above-mentioned conductive paste composition is prepared by mixing the above-mentioned metal powders (a) and (b) with a binder resin and a solvent. As the binder resin, any of thermosetting type, ultraviolet curing type and thermoplastic type can be used. Examples of thermosetting resins include polyester-melamine, melamine, epoxy-melamine, phenol, polyimide, acrylic, and polyurethane resins. Examples of the ultraviolet curable type include acrylic resin, and examples of the thermoplastic type include polyester, polyvinyl butyral, acryl, phenol, polyurethane and other resins. When a thermosetting resin is used, a curing catalyst such as p-toluenesulfonic acid, amine-blocked p-toluenesulfonic acid, or blocked isocyanate is added, if necessary, when the curing temperature cannot be increased. It is preferable.

【0019】前記溶剤は、前記の(a)および(b)の
金属粉末とバインダー樹脂を含む配合物に、凹版オフセ
ット印刷法で印刷するために適した粘性のペーストを調
製するために添加される。該溶剤としては、例えば沸点
が150℃以上の溶剤が好適である。溶剤の沸点が15
0℃を下回ると、印刷時において乾燥しやすくなり、ペ
ーストが経時変化を起こしやすくなる。
The solvent is added to the formulation containing the metal powder of (a) and (b) and the binder resin to prepare a viscous paste suitable for printing by the intaglio offset printing method. . As the solvent, for example, a solvent having a boiling point of 150 ° C. or higher is suitable. The boiling point of the solvent is 15
When the temperature is lower than 0 ° C, the paste is easily dried during printing, and the paste is apt to change with time.

【0020】溶剤の具体例としては、例えばアルコール
類(例、ヘキサノール、オクタノール、ノナノール、デ
カノール、ウンデカノール、ドデカノール、トリデカノ
ール、テトラデカノール、ベンタデカノール、ステアリ
ルアルコール、セリルアルコール、シクロヘキサノー
ル、テルピネオールなど)や、アルキルエーテル類
[例、エチレングリコールモノブチルエーテル(ブチル
セロソルブ)、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル(ブチルカルビトール)、セロソルブア
セテート、ブチルセロソルブアセテート、力ルピトール
アセテート、ブチルカルビトールアセテートなど]等が
挙げられ、印刷適性や作業性等を考慮して適宜選択され
る。
Specific examples of the solvent include alcohols (eg, hexanol, octanol, nonanol, decanol, undecanol, dodecanol, tridecanol, tetradecanol, bentadecanol, stearyl alcohol, ceryl alcohol, cyclohexanol, terpineol). And alkyl ethers [eg, ethylene glycol monobutyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol monophenyl ether, diethylene glycol, diethylene glycol monobutyl ether (butyl carbitol), cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, rupitol acetate, butyl carbitol acetate, etc.] And the like, and is appropriately selected in consideration of printability and workability.

【0021】前記溶剤として高級アルコールを使用する
場合は、インキの乾燥性や流動性が低下する恐れがある
ため、これらよりも乾燥性が良好なブチルカルビトー
ル、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルセ
ロソルブアセテート、ブチルカルビトールアセテートな
どを併用すればよい。前記の導電性ペースト組成物にお
いて、(a)および(b)の金属粉末は、バインダー樹
脂100重量部に対し一般に100〜2000重量部、
好ましくは200〜1000重量部の割合で添加され
る。
When a higher alcohol is used as the solvent, the drying property and fluidity of the ink may be deteriorated. Therefore, butyl carbitol, butyl cellosolve, ethyl carbitol, butyl cellosolve acetate, which has a better drying property than these, may be used. Butyl carbitol acetate may be used in combination. In the conductive paste composition, the metal powders (a) and (b) are generally 100 to 2000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin,
It is preferably added in a proportion of 200 to 1000 parts by weight.

【0022】一方、溶剤の添加量は、前記のとおり、導
電性樹脂組成物が凹版オフセット印刷法で印刷するため
に適した粘性を有するペースト状となるように適宜選択
される。その粘度は、通常50〜2、000ポイズ
(P)となるように調整されるが、好ましい範囲は20
0〜1,000Pである。粘性が上記範囲を上回ると印
刷適性が低下し微細なパターンを形成できなくなり、逆
に下回るとぺースト中の導電性粉末の割合が少なくなっ
て導電性が充分満足されなくなる。
On the other hand, as described above, the amount of the solvent added is appropriately selected so that the conductive resin composition becomes a paste having a viscosity suitable for printing by the intaglio offset printing method. The viscosity is usually adjusted to be 50 to 2,000 poise (P), but the preferable range is 20.
It is 0 to 1,000P. When the viscosity exceeds the above range, printability is deteriorated and a fine pattern cannot be formed. On the contrary, when the viscosity falls below the ratio of the conductive powder in the paste, the conductivity cannot be sufficiently satisfied.

【0023】前記導電性ペースト組成物には、品質向上
等を目的に適当な添加物を加えてもよい。例えば、黒色
顔料あるいは黒色染料を添加することで、電磁波シール
ドパネルを構成したときの視認性を向上させることがで
きる。この黒色顔料としては、カーボンブラックがあげ
られるが、その種類や形状において特に制限はなく、チ
ャンネルブラック、ファーネスブラックあるいはランプ
ブラックなどの色材用カーボンブラック、および導電性
カーボンブラック、アセチレンブラックなどが挙げられ
るが、なかでも平均粒子径が20nm以下の微粉体が好
ましく用いられる。
Appropriate additives may be added to the conductive paste composition for the purpose of quality improvement and the like. For example, by adding a black pigment or a black dye, the visibility of the electromagnetic wave shield panel can be improved. Examples of the black pigment include carbon black, but the kind and shape thereof are not particularly limited, and include channel black, carbon black for coloring materials such as furnace black or lamp black, and conductive carbon black and acetylene black. However, fine powder having an average particle diameter of 20 nm or less is preferably used.

【0024】本発明において導電性ペースト組成物は、
上記の各成分を所定量配合し、常法により十分に攪拌
し、混練りすることによって調製できる。本発明におい
て、透光性電磁波シールド部材1は、例えば図1に示す
ように、透明基材2の表面に前記導電性ペースト組成物
を用いて電磁波シールドパターン部10を印刷形成した
ものである。本シールドパターンは、パターンの線幅を
5〜40μm、膜厚を0.5〜50μmとし、透明基板
の表面に印刷された電磁波シールドパターン部の全表面
積(Ss)と電磁波シールドパターン部が形成されてい
ない領域の全面積(Sk)との関係が、式(1): 1≦Sk/Ss≦9 (1) を満足するように形成されているものである。
In the present invention, the conductive paste composition is
It can be prepared by mixing the above-mentioned components in a predetermined amount, sufficiently stirring and kneading by a conventional method. In the present invention, the transparent electromagnetic wave shield member 1 is, for example, as shown in FIG. 1, an electromagnetic wave shield pattern portion 10 formed by printing on the surface of a transparent substrate 2 using the conductive paste composition. In this shield pattern, the line width of the pattern is 5 to 40 μm, the film thickness is 0.5 to 50 μm, and the total surface area (Ss) of the electromagnetic wave shield pattern portion printed on the surface of the transparent substrate and the electromagnetic wave shield pattern portion are formed. The relation with the total area (Sk) of the unfilled region is formed so as to satisfy the formula (1): 1 ≦ Sk / Ss ≦ 9 (1).

【0025】パターン部10の線幅が5μmを下回るよ
うに形成するのは困難であるうえ、断線が生じやすくな
るため、電磁波の遮蔽効果の低下につながる。逆に、線
幅が40μmを越えると画面の透過性を向上させる目的
で開口率を上げると電磁シールド性能が劣る結果にな
る。線幅は、上記範囲の中でも特に10〜30μmであ
るのが好ましい。膜厚についても、0.5μmを下回る
ときには遮蔽効果が弱く、また50μmを越えると視野
角が狭くなるなど視認性に問題がでてくる。
It is difficult to form the pattern portion 10 so that the line width thereof is less than 5 μm, and disconnection is likely to occur, resulting in a reduction in the electromagnetic wave shielding effect. On the contrary, if the line width exceeds 40 μm, the electromagnetic shielding performance will be deteriorated if the aperture ratio is increased for the purpose of improving the screen transparency. The line width is preferably 10 to 30 μm in the above range. As for the film thickness, when the thickness is less than 0.5 μm, the shielding effect is weak, and when it exceeds 50 μm, the viewing angle becomes narrow, which causes a problem in visibility.

【0026】一方、Sk/Ssの値が1よりも小さいと
パターンエリアが大きくなって透光性が低下してしま
い、逆に9よりも大きいときは電磁波の遮蔽効果の低下
につながる。Sk/Ssの値は、上記範囲の中でも5〜
8が好適である。次に、透光性電磁波シールドパターン
の形成方法について説明する。透光性電磁波シールドパ
ターンは、インキ離型性に優れたブランケットを用いた
凹版オフセット印刷法によって、透明基材上に電磁波シ
ールドパターン部を所定のパターンで印刷し、次いで硬
化することによって製造できる。
On the other hand, if the value of Sk / Ss is smaller than 1, the pattern area becomes large and the translucency is deteriorated. On the contrary, if it is larger than 9, the electromagnetic wave shielding effect is deteriorated. The value of Sk / Ss is 5 to 5 in the above range.
8 is preferred. Next, a method of forming the transparent electromagnetic wave shield pattern will be described. The translucent electromagnetic wave shield pattern can be produced by printing an electromagnetic wave shield pattern portion on a transparent substrate in a predetermined pattern by an intaglio offset printing method using a blanket excellent in ink releasability, and then curing.

【0027】凹版オフセット印刷法は、形成されるライ
ンの直線性が良好で、極めて微細なパターンを高い精度
で印刷再現できるという点において優れている。さら
に、インキ離型性に優れたブランケットを用いること
で、パターンの線幅が極めて細い場合であっても、均一
な厚みのパターンを形成することができる。本発明に用
いられる凹版としては、基板の表面に所定の凹部を形成
した、平板状のものや、平板状のものを巻き付けたも
の、円筒状のもの、あるいは円柱状のものが挙げられ
る。凹版の深さは、目的とするインキ膜厚に応じて設計
すればよいが通常は1〜50μm程度であることが多
い。
The intaglio offset printing method is excellent in that the linearity of the formed line is good and an extremely fine pattern can be printed and reproduced with high accuracy. Furthermore, by using a blanket having excellent ink releasability, it is possible to form a pattern having a uniform thickness even when the line width of the pattern is extremely narrow. Examples of the intaglio plate used in the present invention include a flat plate-shaped plate having a predetermined recess formed on the surface of the substrate, a flat plate-shaped plate wound around it, a cylindrical plate, and a columnar plate. The depth of the intaglio may be designed according to the desired ink film thickness, but is usually about 1 to 50 μm.

【0028】上記基材としては、例えばソーダライムガ
ラス、ノンアルカリガラス、石英、低アルカリガラス、
低膨張ガラスなどのガラス基板のほか、フッ素樹脂、ポ
リカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン(PE
S)、ポリエステル、ポリメタクリル樹脂等の樹脂板、
ステンレス、銅、ニッケル、低膨脹合金アンバー等の金
属基板などが使用可能である。なかでも、パターンのエ
ッヂ形状が非常にシャープに形成することが可能な、ガ
ラス製のものを用いるのが特に好ましい。
Examples of the substrate include soda lime glass, non-alkali glass, quartz, low alkali glass,
In addition to glass substrates such as low expansion glass, fluororesin, polycarbonate (PC), polyether sulfone (PE
S), polyester, resin plate such as polymethacrylic resin,
A metal substrate such as stainless steel, copper, nickel, or low expansion alloy amber can be used. Above all, it is particularly preferable to use a glass-made material that can form the edge shape of the pattern very sharply.

【0029】凹版凹部は、従来どおり、フォトリソグラ
フイ法及びエッチング法もしくは電鋳法等により形成さ
れる。上記凹版凹部の線幅、綿間隔および深さは、電磁
波シールドパターン部の形状に応じて上記記載の範囲内
で適宜設定される。本発明における凹版印刷法におい
て、最表層がシリコーンゴムからなる転写体を用いる
と、線幅が前記のように数十μmといった非常に細いパ
ターンの印刷化を図ることができるので、好ましい実施
態様となる。このシリコーンゴムとしては、基本的に室
温硬化型、加熱硬化型が挙げられるが、なかでも室温硬
化型の付加型シリコーンゴムは、硬化の際に副生成物を
全く発生せずに、薄膜の印刷塗膜を高い精度で再現する
ことができるので、好適に使用される。
The intaglio recess is formed by a photolithography method, an etching method, an electroforming method, or the like, as in the conventional case. The line width, the cotton interval, and the depth of the intaglio concave portion are appropriately set within the range described above according to the shape of the electromagnetic wave shield pattern portion. In the intaglio printing method of the present invention, when a transfer body having a silicone rubber outermost layer is used, it is possible to print a very thin pattern having a line width of several tens of μm as described above. Become. As the silicone rubber, there are basically room temperature curable type and heat curable type. Among them, the room temperature curable addition type silicone rubber does not generate any by-products at the time of curing and is capable of printing a thin film. It is preferably used because the coating film can be reproduced with high accuracy.

【0030】これらのシリコーンゴムからなる表面ゴム
層は、表面が平滑であるのが好ましく、具体的には表面
粗さが10点平均粗さで1.0μm以下であるのが好ま
しく、より好ましくは0.3μm以下である。またシリ
コーンゴムの硬度(JIS‐A)は、10〜70度であ
るのが好ましく、より好ましくは20〜60度である。
The surface rubber layer made of these silicone rubbers preferably has a smooth surface, and specifically, the surface roughness is preferably 10 μm or less in terms of 10-point average roughness, and more preferably. It is 0.3 μm or less. The hardness (JIS-A) of the silicone rubber is preferably 10 to 70 degrees, more preferably 20 to 60 degrees.

【0031】上記ブランケットの支持体としては表面が
平坦なものであればよく、例えばポリエチレンテレフタ
レート(PET)、ポリエーテルスルホン(PES)、
ポリエステル、ポリカーボネイト(PC)等のプラスチ
ックや、アルミニウム、ステンレス等の金属板などを使
用することができる。上記表面ゴム層と支持体との間に
多孔質層を形成させてもよい。
The blanket support may have any flat surface, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyether sulfone (PES),
Plastics such as polyester and polycarbonate (PC), and metal plates such as aluminum and stainless steel can be used. A porous layer may be formed between the surface rubber layer and the support.

【0032】転写体の形状はシート状のものを円筒状の
胴に巻き付けたもの、ローラ状のもの、あるいは印刷ず
れの生じないものであればパット印刷等に用いられる曲
面状の弾性体であってもよい。本発明に用いられる透明
基材としては、可視光線に対する充分な透光性を有する
ガラスやフィルムが用いられるが、導電性ペースト組成
物を透明基材上に印刷した後、加熱工程もしくは紫外線
照射工程を経ることから、充分な耐熱性を有するものが
好ましい。具体的には、フィルムとしてポリエチレンフ
タレート(PET)に代表されるポリエステル系、ポリ
エチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなどのポリオ
レフィン系、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなど
のビニル系、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂などが挙げ
られる。このなかでも透過性が良好で安価なPETフィ
ルムが好ましい。フィルム以外にも、ガラス(例、ソー
ダライムガラス)も使用可能である。
The shape of the transfer member is a sheet-shaped member wound around a cylindrical cylinder, a roller-shaped member, or a curved elastic member used for pad printing or the like if it does not cause print misalignment. May be. As the transparent substrate used in the present invention, glass or film having sufficient translucency to visible light is used, but after printing the conductive paste composition on the transparent substrate, a heating step or an ultraviolet irradiation step Therefore, those having sufficient heat resistance are preferable. Specifically, as a film, a polyester system represented by polyethylene phthalate (PET), a polyolefin system such as polyethylene, polypropylene and polystyrene, a vinyl system such as polyvinyl chloride and polyvinylidene chloride, a polyether sulfone, a polycarbonate, a polyamide, Examples include polyimide and acrylic resin. Among these, a PET film which has good transparency and is inexpensive is preferable. In addition to the film, glass (eg, soda lime glass) can be used.

【0033】透明基材の厚みは、特に限定されないが、
電磁波シールド部材の透光性を維持するという観点から
薄いほど好ましい。すなわち、使用時の形態(フィルム
状、シート状)や必要とされる機械的強度に応じて通常
0.05〜5mmの範囲で設定される。透明基材上に導
電性ペースト組成物を用いて印刷形成されたパターン
は、熱硬化型インキの場合、80〜250℃で10〜1
20分間加熱硬化される。また紫外線硬化型インキの場
合は、紫外線を1〜10分間照射される。こうして本発
明の目的物である透光性電磁波シールド部材が得られ
る。
The thickness of the transparent substrate is not particularly limited,
From the viewpoint of maintaining the transparency of the electromagnetic wave shield member, the thinner the better. That is, it is usually set in the range of 0.05 to 5 mm depending on the form (film or sheet) in use and the required mechanical strength. The pattern formed by printing using the conductive paste composition on the transparent substrate is 10 to 1 at 80 to 250 ° C. in the case of a thermosetting ink.
Heat cured for 20 minutes. Further, in the case of an ultraviolet curable ink, ultraviolet rays are irradiated for 1 to 10 minutes. Thus, the transparent electromagnetic wave shield member which is the object of the present invention is obtained.

【0034】本発明における電磁波シールドパターン部
のパターン形状は、適宜選択される。例えば図2に示す
ストライプ状のパターン11、図3及び図4に示す格子
状のパターン12,13等が挙げられる。電磁波シール
ドパターン部のパターン形状は、上記ストライプ状及び
格子状のほかに、幾何学模様であっても良い。すなわ
ち、例えば正三角形、二等辺三角形、直角三角形等の三
角形;正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四
角形;(正)六角形、(正)八角形、(正)十二角形、
(正)二十角形等の(正)N角形;円、楕円、星型等の
種種の図形単位を繰り返して得られる幾何学模様を電磁
波シールドパターン部10としてもよい。かかる幾何学
模様において、前記図形単位は2種以上を組み合わせた
ものであってもよい。また、電磁波シールド部材の除電
をスムーズに行う観点から、幾何学模様中の各図形単位
がそれぞれ連続していることが好ましい。
The pattern shape of the electromagnetic wave shield pattern portion in the present invention is appropriately selected. For example, the stripe pattern 11 shown in FIG. 2 and the grid patterns 12 and 13 shown in FIGS. The pattern shape of the electromagnetic wave shield pattern portion may be a geometric pattern in addition to the stripe shape and the grid shape. That is, for example, a triangle such as an equilateral triangle, an isosceles triangle, and a right triangle; a square such as a rectangle, a rectangle, a rhombus, a parallelogram, and a trapezoid; a (regular) hexagon, a (regular) octagon, a (regular) dodecagon,
(Orthogonal) N-gon such as (regular) decagon; geometrical pattern obtained by repeating various graphic units such as circle, ellipse and star may be used as the electromagnetic wave shield pattern portion 10. In such a geometric pattern, the graphic units may be a combination of two or more kinds. Further, from the viewpoint of smoothly removing the electric charge of the electromagnetic wave shield member, it is preferable that each figure unit in the geometric pattern is continuous.

【0035】幾何学模様からなるパターン形状の具体例
としては、例えば図5に示すように円形模様(図5
(a))、菱形模様(図5(b))、正六角形模様〔図
5(c))などのパターンが挙げられる。図5(a)〜
(c)において、ハッチングを施した部分は電磁波シー
ルドパターン部10を示し、ハッチングを施していない
部分はパターン部が形成されていない領域20を示す。
As a concrete example of the geometrical pattern, for example, as shown in FIG. 5, a circular pattern (see FIG.
(A)), diamond pattern (FIG. 5 (b)), regular hexagonal pattern (FIG. 5 (c)) and the like. FIG. 5 (a)-
In (c), the hatched portion indicates the electromagnetic wave shield pattern portion 10, and the non-hatched portion indicates the region 20 in which the pattern portion is not formed.

【0036】なお、パターンが長方形の格子状である場
合において、パターンの線間隔には2種の間隔が存在す
るが、この場合、それぞれの線間隔が後述する所定の範
囲内にあればよい。パターンが幾何学模様である場合に
おいて、線幅とは、幾何学模様を構成する1ユニット
(すなわち、三角形、四角形、N角形、円、楕円等の構
成単位〉の幅をいう。綿間隔とは、ユニット間の距離を
いい、1ユニットの面積の平方根(すなわち、1ユニッ
トを正方形と凝制したときの1辺の長さ)を求め、隣接
するユニットとの中心位置での距離から前記平方根を引
いた値をユニット間の距離とする。
When the pattern has a rectangular grid pattern, there are two types of line intervals in the pattern. In this case, each line interval may be within a predetermined range described later. When the pattern is a geometric pattern, the line width means the width of one unit (that is, a structural unit such as a triangle, a quadrangle, an N polygon, a circle, an ellipse, etc.) that constitutes the geometric pattern. , Is the distance between units, and calculates the square root of the area of one unit (that is, the length of one side when one unit is restrained as a square), and calculates the square root from the distance at the center position between adjacent units. The subtracted value is the distance between units.

【0037】本発明において、電磁波シールドパターン
部10のパターン形状を、図1に示すストライプ状パタ
ーン11、図2および図3に示す格子状パターン12,
13、あるいは図5に示す幾何学模様とする。本発明の
透光性電磁波シールド部材は、電解メッキを行うことに
よりさらに低抵抗化を図ることができ、電磁波シールド
性をより向上させることができる。
In the present invention, the pattern shape of the electromagnetic wave shield pattern portion 10 is the stripe pattern 11 shown in FIG. 1, the grid pattern 12 shown in FIGS.
13 or the geometric pattern shown in FIG. The translucent electromagnetic wave shield member of the present invention can be further reduced in resistance by performing electrolytic plating, and the electromagnetic wave shield property can be further improved.

【0038】電解メッキとしては、抵抗、コストから考
えて電解銅メッキが有効である。かかる電解銅メッキ
は、電気分解反応で銅メッキ液中の銅イオンを還元し、
陰極に設置された導電パターン部上に銅を析出させるこ
と(電析)によって行われるが、前記導電パターン部は
電気分解反応に必要な導電性を有する必要があり、電気
抵抗が小さいほど電解時間が短く設定でき生産性を向上
させることができる。なお、パターン印刷後、電解メッ
キ(電解銅メッキ)する場合は、銅粉末から銅ペースト
を調製して用いる方がメッキの接着性が良くなる。
Electrolytic copper plating is effective in terms of resistance and cost. Such electrolytic copper plating reduces copper ions in the copper plating solution by an electrolysis reaction,
It is carried out by depositing copper (electrodeposition) on the conductive pattern part installed on the cathode, but the conductive pattern part needs to have the conductivity necessary for the electrolysis reaction, and the smaller the electric resistance, the longer the electrolysis time. Can be set short and productivity can be improved. When electrolytic plating (electrolytic copper plating) is performed after pattern printing, the adhesiveness of the plating is better if a copper paste is prepared from copper powder and used.

【0039】上記電解銅メッキに使用する銅メッキ液
は、硫酸銅メッキ液、ホウフッカ銅メッキ液などの酸性
浴、あるいはピロリン酸銅メッキ液、シアン化銅メッキ
液などのアルカリ性浴が挙げられる。なかでも、均一電
着性および微粒子メッキに優れ、しかもメッキ液の毒性
が少ないピロリン酸銅液を使用するのが好ましい。メッ
キ条件は、被覆層の厚みに応じて適宜設定される。被覆
層の厚みは、シールド性と生産性の両面から考慮して設
定されるが、通常1μm〜10μmであり、10μm以
上の厚みにしても、シールド性能は、ほとんど変わらず
同じである。
Examples of the copper plating solution used for the above-mentioned electrolytic copper plating include an acid bath such as a copper sulfate plating solution and a boro-fukka copper plating solution, or an alkaline bath such as a copper pyrophosphate plating solution and a copper cyanide plating solution. Above all, it is preferable to use a copper pyrophosphate solution which is excellent in uniform electrodeposition property and fine particle plating, and has low toxicity of the plating solution. The plating conditions are appropriately set according to the thickness of the coating layer. The thickness of the coating layer is set in consideration of both the shield property and the productivity, but it is usually 1 μm to 10 μm, and even if the thickness is 10 μm or more, the shield performance is almost the same.

【0040】[0040]

【発明の効果】 本発明によれば、電磁波シールドパター
ン部を構成する極めて微細なパターンを印刷によって形
成することから、簡易かつ低コストで透光性電磁波シー
ルド部材を得ることが可能であり、生産性の向上とコス
トの低減をはかることができる。また、本発明の透光性
電磁波シールド部材は、印刷パターンが数十μmと非常
に細いために透光性に優れているとともに、膜厚が数μ
mといった薄膜でも抵抗を非常に小さくすることがで
き、優れた電磁波の遮断効果を発揮することから、当該
部材でCRT管等の表示画面を覆っても表示画面の視認
性を損なうことなく、電磁波を高度に遮断することがで
きる。
According to the present invention, an extremely fine patterns constituting the electromagnetic wave shielding pattern portion since the formation by printing, it is possible to obtain a light-transmitting electromagnetic wave shielding member with a simple and low cost production It is possible to improve the property and reduce the cost. In addition, the transparent electromagnetic wave shield member of the present invention is excellent in translucency because the printed pattern is very thin, several tens of μm, and the film thickness is several μm.
The resistance can be made extremely small even with a thin film such as m, and the excellent electromagnetic wave shielding effect is exhibited. Therefore, even if the display screen of a CRT tube or the like is covered with the member, the visibility of the display screen is not impaired, and Can be highly blocked.

【0041】[0041]

〔導電性ペースト組成物の作製〕[Preparation of conductive paste composition]

(1)鱗片状銀粉末:長さ0.2〜10μm、厚み0.
1〜2.0μm、幅0.1〜8μmの鱗片状のものを使
用した。
(1) Scale-like silver powder: length 0.2 to 10 μm, thickness 0.
A scaly material having a width of 1 to 2.0 μm and a width of 0.1 to 8 μm was used.

【0042】(2)パラジウムまたは白金の球状粉末:
いずれも平均粒子径1μmの球状のものを使用した。 (3)バインダー樹脂:無水トリメリト酸とネオペンチ
ルグリコールとのエステル(重量平均分子量;20,0
00)よりなる熱硬化性ポリエステル樹脂(住友ゴム工
業製)を使用した。 (4)硬化触媒:ジエタノールアミンとp−トルエンス
ルホン酸とを中和反応させて得られるアミンブロックp
−パラトルエンスルホン酸を用いた。 (5)溶剤;酢酸ブチルカルビトールアセテートと炭素
数13〜15の高級アルコール(トリデカノールとペン
タデカノールとの1:1の混合溶媒)を使用した。
(2) Spherical powder of palladium or platinum:
In each case, spherical particles having an average particle diameter of 1 μm were used. (3) Binder resin: ester of trimellitic anhydride and neopentyl glycol (weight average molecular weight: 20,0)
The thermosetting polyester resin (00) manufactured by Sumitomo Rubber Industries, Ltd. was used. (4) Curing catalyst: amine block p obtained by neutralizing diethanolamine and p-toluenesulfonic acid
-Using paratoluenesulfonic acid. (5) Solvent: Butyl carbitol acetate acetate and a higher alcohol having 13 to 15 carbon atoms (1: 1 mixed solvent of tridecanol and pentadecanol) were used.

【0043】上記の成分素材を、表1の実施例1〜4に
示した各配合割合となるように取り、次いで十分に攪拌
混合し、3本ロールで混練りして導電性ペースト組成物
を作製した。 〔透光性電磁波シールド部材の作製〕透明基板として、
厚み100μmの透明ポリエチレンテレフタレート(P
ET)フィルムを使用した。電磁波シールドパターン部
を凹版オフセット印刷法で形成する場合において、凹版
には、所定のパターンを施したソーダライムガラス製の
ものを用いた。凹版は、印刷物の線幅が25μm、線間
隔が225μm(開口率81%、Sk/Ss=4.3)
になるように凹部形状を設定した。
The above component materials were taken so as to have the respective compounding ratios shown in Examples 1 to 4 of Table 1, then sufficiently stirred and mixed, and kneaded with a three-roll to form a conductive paste composition. It was made. [Production of translucent electromagnetic wave shield member] As a transparent substrate,
100 μm thick transparent polyethylene terephthalate (P
ET) film was used. In the case of forming the electromagnetic wave shield pattern portion by the intaglio offset printing method, the intaglio made of soda lime glass having a predetermined pattern was used. The intaglio has a line width of the printed matter of 25 μm and a line spacing of 225 μm (aperture ratio 81%, Sk / Ss = 4.3).
The shape of the recess was set so that

【0044】ブランケット最表層のシリコーンゴムは、
JIS−A硬度40度の付加型RTVシリコーンゴム
(表面の十点平均粗さ0.3μm)を使用した。上記シ
リコーンブランケットおよび凹版を用いた平板凹版オフ
セット印刷機(住友ゴム工業株式会社製)により、上記
透明基板上に上記実施例1〜4で調製された導電性ペー
スト組成物を用いて、表1に示す線幅および膜厚で、線
間隔250μmの格子状で正方形ユヒットをもつパター
ンを印刷した後、クリーンオーブン中で120℃で30
分間、加熱硬化した。
The silicone rubber on the outermost layer of the blanket is
An addition-type RTV silicone rubber having a JIS-A hardness of 40 degrees (10-point average surface roughness of 0.3 μm) was used. A flat plate intaglio offset printer (manufactured by Sumitomo Rubber Industries, Ltd.) using the silicone blanket and the intaglio was prepared on the transparent substrate using the conductive paste compositions prepared in Examples 1 to 4 and shown in Table 1. After printing a grid pattern with square hits with a line spacing and a film thickness of 250 μm, in a clean oven at 30 ° C. at 30 ° C.
Heat cured for a minute.

【0045】[評価方法]導電性ペーストの比抵抗の測定 体積抵抗: 三菱化学製のロレスタを使用し四探子四針
法にて測定した。シート抵抗: 形状が約4mm×50
mm×2.0μmの塗膜を作成し、上記探子を塗膜中心
部にあてがい抵抗を測定した。電磁波シールド効果の測定 社団法人関西電子工業振興センターのKECを用いて測
定した。測定周波数は1MHz〜1GHzまでの範囲で
の遮蔽率を測定するのを指標として1GHzでの減衰率
で評価した。
[Evaluation method] Measurement of specific resistance of conductive paste Volume resistance: Measured by a four-probe four-needle method using a Loresta manufactured by Mitsubishi Chemical. Sheet resistance: Shape is about 4mm x 50
A coating film of mm × 2.0 μm was prepared, and the above probe was applied to the central portion of the coating film to measure the resistance. Measurement of electromagnetic wave shielding effect It was measured using KEC of Kansai Electronics Industry Promotion Center. The measurement frequency was evaluated by the attenuation rate at 1 GHz using the measurement of the shielding rate in the range of 1 MHz to 1 GHz as an index.

【0046】評価基準 ×× 0〜20dB × 20〜30dB △ 30〜40dB ○ 40〜60dB ◎ 60〜 dB目視評価 評価基準 × 全体にわたりムラがあり、見る角度でムラが発生
する。
Evaluation Criteria XX 0 to 20 dB X 20 to 30 dB Δ 30 to 40 dB ◯ 40 to 60 dB ◎ 60 to dB Visual Evaluation Evaluation Criterion × There is unevenness throughout, and unevenness occurs at the viewing angle.

【0047】△ かすかにムラがみられる。 ○ 全くムラがなく均一である。視認性評価 PDPパネルの前面に貼り付けて、目視により下記基準
にて評価した。
Δ There is slight unevenness. ○ There is no unevenness and it is uniform. Visibility evaluation It was attached to the front surface of the PDP panel and visually evaluated according to the following criteria.

【0048】評価基準 × 画面が非常に暗くなった。 △ 画面がやや暗くなった。 ○ 画面はあまり暗くならなかった。製造コスト 凹版オフセット印刷法を用いる方法のコストを1とし
て、これと比較したときのコスト比で示した。
Evaluation Criteria x The screen became very dark. △ The screen became slightly dark. ○ The screen did not get too dark. Manufacturing cost The cost of the method using the intaglio offset printing method is set to 1, and the cost ratio is shown when compared with this.

【0049】実施例1〜4で調製された導電性ペース
ト、およびこれを用いて作製した透光性電磁波シールド
部材の評価結果を表1に示す。
Table 1 shows the evaluation results of the electroconductive pastes prepared in Examples 1 to 4 and the translucent electromagnetic wave shield member produced by using the electroconductive paste.

【0050】[0050]

【表1】 [Table 1]

【0051】上記表1の結果に示されるように、実施例
1〜4において作製された電磁波シールド部材は、目視
評価、透光性・視認性および電磁波シールド性のいずれ
の評価結果も満足すべきものであった。 比較例1〜3 上記の実施例1に示す配合物において、パラジウムまた
は白金粉末のいずれも添加しない場合(比較例1)、パ
ラジウム粉末の添加量が少な過ぎる場合(比較例2)お
よびパラジウム粉末の添加量が多すぎる場合(比較例
3)、のほかは実施例1と同様に導電性ペースト組成物
(表2)を調製し、その組成物を用いて同様にして電磁
波シールド部材を作製した。それらの評価結果を表2に
示す。
As shown in the results of Table 1 above, the electromagnetic wave shielding members produced in Examples 1 to 4 should satisfy all the evaluation results of visual evaluation, light transmission / visibility, and electromagnetic wave shielding property. Met. Comparative Examples 1 to 3 In the formulation shown in Example 1 above, when neither palladium nor platinum powder was added (Comparative Example 1), when the amount of palladium powder added was too small (Comparative Example 2) and when palladium powder was added. When the added amount was too large (Comparative Example 3), a conductive paste composition (Table 2) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition was used to prepare an electromagnetic wave shielding member in the same manner. The evaluation results are shown in Table 2.

【0052】[0052]

【表2】 [Table 2]

【0053】その結果は表2に示されるように、比較例
1〜3のペースト組成物はいずれも比抵抗が大きく、こ
れらの組成物を用いて作製した電磁波シールド部材は電
磁波シールド性に劣っていた。 比較例4 PETフィルムにポリビニルブチラート樹脂とパラジウ
ム触媒の混合液を全面塗布し、無電解メッキを行った。
その銅箔上にエッチングレジストを塗布、露光、現像す
ることにより格子状にレジストパターンを形成し、塩化
第二鉄を用いて非画線部分の銅箔をエッチング除去し、
最後にレジストを剥離し、電磁波シールド部材を作製し
た。その評価結果を表3に示す。この結果、この方法に
よると性能的には十分によいシールド材が得られるが、
作製のための工程数が多いことから、製造コストが実施
例1の場合に比較して3〜10倍を要した。
As a result, as shown in Table 2, the paste compositions of Comparative Examples 1 to 3 all have a large specific resistance, and the electromagnetic wave shielding members produced using these compositions are inferior in electromagnetic wave shielding property. It was Comparative Example 4 A mixed solution of a polyvinyl butyrate resin and a palladium catalyst was applied to the entire surface of a PET film, and electroless plating was performed.
An etching resist is applied on the copper foil, exposed, and developed to form a resist pattern in a grid pattern, and the copper foil in the non-image area is removed by etching using ferric chloride.
Finally, the resist was peeled off to prepare an electromagnetic wave shield member. The evaluation results are shown in Table 3. As a result, according to this method, a sufficiently good shield material can be obtained in terms of performance,
Since the number of manufacturing steps is large, the manufacturing cost was 3 to 10 times that of the case of Example 1.

【0054】比較例5 実施例1におけると同様の導電性ペースト組成物を用い
てスクリーン印刷により、線幅50μm、線間隔250
μmの格子状パターニングの作製を試みたが、ライン形
状は凹凸が多く断線している部分が多数みられた。表3
の結果に示されるように、いずれの評価結果も満足すべ
きものではなかった。
Comparative Example 5 The same conductive paste composition as in Example 1 was used for screen printing to obtain a line width of 50 μm and a line spacing of 250.
An attempt was made to form a grid pattern of μm, but the line shape had many irregularities and many broken portions. Table 3
As shown in the results of 1., none of the evaluation results was satisfactory.

【0055】比較例6 実施例1におけると同様の導電性ペースト組成物を用い
て、パターンの線幅を3μmとしたほかは実施例1と同
様にして電磁波シールド部材を作製した。その結果、得
られたパネルは、電磁波シールド性に劣っていた(表
3)。 比較例7 実施例1におけると同様の導電性ペースト組成物を用い
て、パターン線幅を70μmとしたほかは実施例1と同
様にして電磁波シールド部材を作製した。その結果、得
られたパネルは、透光性・視認性に劣っていた(表
3)。
Comparative Example 6 An electromagnetic wave shield member was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the same conductive paste composition as in Example 1 was used and the line width of the pattern was 3 μm. As a result, the obtained panel was inferior in electromagnetic wave shielding property (Table 3). Comparative Example 7 An electromagnetic wave shield member was produced in the same manner as in Example 1 except that the same conductive paste composition as in Example 1 was used and the pattern line width was 70 μm. As a result, the obtained panel was inferior in translucency and visibility (Table 3).

【0056】比較例8 実施例1におけると同様の導電性ペースト組成物を用い
て、パターン膜厚を0.3μmとしたほかは実施例1と
同様にして電磁波シールド部材を作製した。その結果、
得られたパネルは、電磁波シールド性に劣っていた(表
3)。 比較例9 実施例1と同様の導電性ペースト組成物を用いて、パタ
ーン膜厚を60μmとしたほかは実施例1と同様にして
電磁波シールド部材を作製した。その結果、得られたパ
ネルは、透光性・視認性に劣っていた(表3)。
Comparative Example 8 An electromagnetic wave shield member was produced in the same manner as in Example 1 except that the same conductive paste composition as in Example 1 was used and the pattern film thickness was 0.3 μm. as a result,
The obtained panel was inferior in electromagnetic wave shielding properties (Table 3). Comparative Example 9 An electromagnetic wave shield member was produced in the same manner as in Example 1 except that the conductive paste composition similar to that in Example 1 was used and the pattern film thickness was set to 60 μm. As a result, the obtained panel was inferior in translucency and visibility (Table 3).

【0057】比較例10 実施例1と同様の導電性ペースト組成物を用いて、パタ
ーンをSk/Ss=0.5としたほかは実施例1と同様
にして電磁波シールド部材を作製した。その結果、得ら
れたパネルは、透光性・視認性に劣っていた(表3)。 比較例11 実施例1におけると同様の導電性ペースト組成物を用い
て、パターンをSk/Ss=10としたほかは実施例1
と同様にして電磁波シールド部材を作製した。その結
果、得られたパネルは、電磁波シールド性が極めて劣っ
ていた(表3)。
Comparative Example 10 An electromagnetic wave shield member was produced in the same manner as in Example 1 except that the pattern was changed to Sk / Ss = 0.5 using the same conductive paste composition as in Example 1. As a result, the obtained panel was inferior in translucency and visibility (Table 3). Comparative Example 11 Example 1 was repeated except that the same conductive paste composition as in Example 1 was used and the pattern was set to Sk / Ss = 10.
An electromagnetic wave shield member was produced in the same manner as in. As a result, the obtained panel was extremely inferior in electromagnetic wave shielding property (Table 3).

【0058】[0058]

【表3】 [Table 3]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1a)は透光性電磁シールド部材(パター
ン)を示す斜視図であり、同図(b)はそのA−A部分
の拡大断面図である。
1A) is a perspective view showing a translucent electromagnetic shield member (pattern), and FIG. 1B is an enlarged sectional view of a portion AA thereof.

【図2】ストライプ状パターンのー例を示す模式図であ
る。
FIG. 2 is a schematic view showing an example of a striped pattern.

【図3】格子状パターンのー例を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a grid pattern.

【図4】格子状パターンの他の例を示す模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram showing another example of a grid pattern.

【図5】図5(a)〜(c)は、幾何学模様からなるパ
ターンのー例を示す模式図である。
5 (a) to 5 (c) are schematic views showing an example of a pattern made of a geometric pattern.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透光性電極シールド部材(パターン) 2 透明基材 10 電磁シールドパターン部 11 ストライプ状のパターン 12 格子状のパターン 13 格子状のパターン WS 線幅 Wk 線間隔 Wt 膜厚 1 Translucent electrode shield member (pattern) 2 transparent substrate 10 Electromagnetic shield pattern section 11 striped patterns 12 grid pattern 13 grid pattern WS line width Wk line spacing Wt film thickness

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平9−330667(JP,A) 特開 平1−315903(JP,A) 特開 平10−75087(JP,A) 特開 平8−99476(JP,A) 特開 平4−363247(JP,A) 特開 平10−162647(JP,A) 特開2000−299592(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 9/00 ─────────────────────────────────────────────────── --- Continuation of the front page (56) Reference JP-A-9-330667 (JP, A) JP-A-1-315903 (JP, A) JP-A-10-75087 (JP, A) JP-A-8- 99476 (JP, A) JP-A-4-363247 (JP, A) JP-A-10-162647 (JP, A) JP-A-2000-299592 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7) , DB name) H05K 9/00

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】透明基板の表面に金属粉末を含む導電性ペ
ーストを印刷して形成されたパターンを有する電磁波シ
ールド部材であって、該金属粉末が(a)銀、銅、ある
いは銀で被覆された銅粉末の群より選択された1種以上
鱗片状金属粉末と(b)パラジウムまたは白金の球状
粉末のいずれかとからなりかつ(a)/(b)の重量比
が99.9/0.1〜50/50であり、透明基板のう
ち前記シールドパターンが形成されている領域の全面積
(Ss)と前記シールドパターンが形成されていない領
域の全面積(Sk)とが1≦Sk/Ss≦9を満足しか
つシールドパターンの線幅Wsが5〜40μmで膜厚W
tが0.5〜50μmであることを特徴とする透光性電
磁波シールド部材。
1. An electromagnetic wave shield member having a pattern formed by printing a conductive paste containing a metal powder on the surface of a transparent substrate, wherein the metal powder is (a) silver or copper.
One or more selected from the group of copper powder coated with silver or silver
Of flake-shaped metal powder of (b) and either spherical powder of (b) palladium or platinum and having a weight ratio of (a) / (b) of 99.9 / 0.1-50 / 50. The total area (Ss) of the region where the shield pattern is formed and the total area (Sk) of the region where the shield pattern is not formed satisfy 1 ≦ Sk / Ss ≦ 9 and the line width Ws of the shield pattern. Is 5-40 μm and film thickness W
A translucent electromagnetic wave shield member, wherein t is 0.5 to 50 μm.
【請求項2】インキ離型性を有するブランケットを用い
た凹版印刷法で、透明基盤の表面に透光性電磁波シール
ドパターンを形成させるに際し、 (1)シールドパターンの形成に、(a)銀、銅、ある
いは銀で被覆された銅粉末の群より選択された1種以上
鱗片状金属粉末と(b)パラジウムまたは白金の球状
粉末のいずれかとからなりかつ(a)/(b)の重量比
が99.9/0.1〜50/50である導電性ペースト
組成物を用い、 (2)パターンの線幅を5〜40μm、膜厚を0.5〜
50μmとし、 (3)透明基板の表面に印刷された前記電磁波シールド
パターンが形成されている領域の全面積(Ss)と電磁
波シールドパターンが形成されていない領域の全面積
(Sk)との関係が、式(1): 1≦Sk/Ss≦9 (1) を満足するようにパターンを形成し、次いで硬化するこ
とを特徴とする透光性電磁波シールド部材の製造方法。
2. When forming a transparent electromagnetic wave shield pattern on the surface of a transparent substrate by an intaglio printing method using a blanket having ink releasability, (1) forming a shield pattern, (a) silver, There is copper
One or more selected from the group of copper powder coated with silver or silver
Of the scaly metal powder of (b) and spherical powder of (b) palladium or platinum, and the weight ratio of (a) / (b) is 99.9 / 0.1-50 / 50. (2) The line width of the pattern is 5 to 40 μm, and the film thickness is 0.5 to
50 μm, and (3) the relationship between the total area (Ss) of the area printed with the electromagnetic wave shield pattern printed on the surface of the transparent substrate and the total area (Sk) of the area not formed with the electromagnetic wave shield pattern. Formula (1): 1 ≦ Sk / Ss ≦ 9 (1) A pattern is formed so as to satisfy, and then a method of manufacturing a transparent electromagnetic wave shield member is characterized by curing.
【請求項3】前記ブランケットがシリコーンゴムで構成
された表面ゴムを有するものである請求項記載の透光
性電磁波シールド部材の製造方法。
3. The method for producing a translucent electromagnetic wave shield member according to claim 2, wherein the blanket has a surface rubber made of silicone rubber.
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