JP3399703B2 - Anode for flat plate magnetron and method of manufacturing the same - Google Patents
Anode for flat plate magnetron and method of manufacturing the sameInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、電子レンジ等の高
周波加熱機器に用いられる平板型マグネトロン用陽極及
びその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat plate type magnetron anode used in a high frequency heating apparatus such as a microwave oven and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】マグネトロンは、電子管の中で作用空間
に互いに直角な直流磁界と直流電界が存在するクロス・
フィールド・デバイスの一つであり、70%程度の高い
効率が得られるという特徴がある。図11は従来の円筒
型マグネトロンの部分縦断面図である。図11に示すよ
うに、円筒状の陽極61にはその内側から中心軸に向か
って複数のベイン62が放射状に突出して形成されてお
り、この円筒状の陽極61とベイン62とで空洞共振器
を構成している。2. Description of the Related Art A magnetron is a cross-type magnetic field in which a direct-current magnetic field and a direct-current electric field are present in the electron tube at right angles to each other.
It is one of the field devices and is characterized by high efficiency of about 70%. FIG. 11 is a partial vertical sectional view of a conventional cylindrical magnetron. As shown in FIG. 11, a cylindrical anode 61 is formed with a plurality of vanes 62 protruding radially from the inside toward the central axis. The cylindrical anode 61 and the vanes 62 form a cavity resonator. Are configured.
【0003】陰極63は円筒状の陽極61の中心軸上に
配置され、この陰極63とベイン62とで囲まれた空間
が作用空間である。陽極61の上下両端には、作用空間
に均一に磁界を形成するためのポールピース64が固着
されており、このポールピース64にはマグネット66
が密着して固定されている。また、円筒状の陽極61と
ヨーク65との間には、陽極損により発生する熱を逃が
すために多数の放熱板67が配置されている。なお、陽
極損は陰極から放出された電子が陽極電圧で加速され、
陽極に衝突することにより発生する。The cathode 63 is arranged on the central axis of the cylindrical anode 61, and the space surrounded by the cathode 63 and the vane 62 is the working space. A pole piece 64 for uniformly forming a magnetic field in the working space is fixed to both upper and lower ends of the anode 61, and a magnet 66 is attached to the pole piece 64.
Are closely attached and fixed. Further, a large number of heat dissipation plates 67 are arranged between the cylindrical anode 61 and the yoke 65 in order to dissipate the heat generated by the anode loss. Note that the anode loss is that electrons emitted from the cathode are accelerated by the anode voltage,
It is generated by colliding with the anode.
【0004】この構成において、陽極61内を真空に
し、マグネット66によって作用空間に磁界を印加し、
陰極63−ベイン62間に電源入力部68より高電圧を
印加すると、陰極63からベイン62に向かって電子が
飛び出す。飛び出した電子はマグネット66から受ける
磁界により作用空間中を螺旋を描きながらベイン62に
向かって進むサイクロイド運動を行う。この作用空間中
を螺旋を描きながら進む電子から空洞共振器にエネルギ
ーが与えられ、高周波磁界が発生し、マイクロ波として
マイクロ波出力部69から取り出される。In this structure, the inside of the anode 61 is evacuated and a magnetic field is applied to the working space by the magnet 66,
When a high voltage is applied from the power supply input unit 68 between the cathode 63 and the vane 62, electrons fly out from the cathode 63 toward the vane 62. The ejected electrons perform a cycloidal motion that advances toward the vane 62 while drawing a spiral in the action space by the magnetic field received from the magnet 66. Energy is applied to the cavity resonator from electrons traveling in a spiral in the action space, a high-frequency magnetic field is generated, and the microwave is extracted from the microwave output unit 69 as a microwave.
【0005】現在電子レンジ等の高周波加熱機器に用い
られているマグネトロンは、円筒型が主流であるが、そ
の他に平板型マグネトロンがある。図12は従来の平板
型マグネトロンの縦断面図であり、図13は、図12の
マグネトロンの外観斜視図である。図12及び13に示
すように、ハウジング81内の平板状の陽極71には複
数の平板状のベイン72が陰極73及びソール部74に
対して垂直に同一ピッチで形成されており、これが空洞
共振器を構成している。そしてベイン72の端面が陽極
71の側面を形成するように、ベイン72は並べられて
いる。The main type of magnetron currently used in high-frequency heating equipment such as a microwave oven is a cylindrical type, but there is also a flat type magnetron. 12 is a vertical cross-sectional view of a conventional flat plate magnetron, and FIG. 13 is an external perspective view of the magnetron of FIG. As shown in FIGS. 12 and 13, a plurality of flat plate-shaped vanes 72 are formed on the flat plate-shaped anode 71 inside the housing 81 at the same pitch vertically to the cathode 73 and the sole portion 74. Make up the vessel. The vanes 72 are arranged so that the end faces of the vanes 72 form the side faces of the anode 71.
【0006】陰極73は陽極71の左端下部に配置さ
れ、ソール部74−ベイン72間が作用空間である。陽
極71の両側面には、作用空間に均一に磁界を形成する
ためのポールピース78が固着されており、このポール
ピース78にはヨーク75を有するマグネット76が密
着して固定されている。また、ヨーク75には陽極損に
より発生する熱を逃がすための放熱板77が配置されて
いる。The cathode 73 is arranged at the lower left end of the anode 71, and the space between the sole portion 74 and the vane 72 is a working space. A pole piece 78 for uniformly forming a magnetic field in the working space is fixed to both side surfaces of the anode 71, and a magnet 76 having a yoke 75 is closely fixed to the pole piece 78. Further, the yoke 75 is provided with a heat dissipation plate 77 for radiating heat generated by anode loss.
【0007】この構成において、陽極71内を真空に
し、マグネット76によって作用空間に磁界を印加し、
陽極71、ソール部74−ベイン72間に電源入力部8
0より電圧を印加すると、陰極73からベイン72に向
かって電子が飛び出す。飛び出した電子はマグネット7
6から受ける磁界により作用空間をサイクロイド運動を
行いながら図12の右方向に進む。この電子から空洞共
振器にエネルギーが与えられ、高周波磁界が発生し、マ
イクロ波としてマイクロ波出力部79から取り出され
る。In this structure, the inside of the anode 71 is evacuated, and a magnetic field is applied to the working space by the magnet 76,
Power input section 8 between the anode 71, the sole portion 74 and the vane 72
When a voltage is applied from 0, electrons fly out from the cathode 73 toward the vane 72. Electrons that popped out are magnets 7
The magnetic field received from 6 advances to the right in FIG. 12 while performing a cycloidal motion in the action space. Energy is applied to the cavity resonator from these electrons, a high-frequency magnetic field is generated, and the microwave is extracted from the microwave output section 79 as a microwave.
【0008】また、分割陽極を用いたマグネトロンの場
合、その分割数によって様々なモードでの発振が起こ
る。この中で、実際に用いられるモードは隣接共振器間
の位相推移がπラジアンに等しいπモードと呼ばれるも
ので、最も相互作用が強い。しかし、マグネトロンの発
振においてはπモードと他のモードとの発振周波数が近
接していると、動作条件が僅かに変化してもπモードか
ら他のモードへの飛躍(mode-jumping)が起こり、その
結果、発振周波数や出力が急変してしまう。そこで、共
振器間の結合を密にして各モードの共振周波数を可能な
限り離すことが必要になる。Further, in the case of a magnetron using a split anode, oscillation in various modes occurs depending on the number of splits. Among them, the mode actually used is called a π mode in which the phase transition between adjacent resonators is equal to π radian, and the interaction is strongest. However, in the oscillation of the magnetron, if the oscillation frequencies of the π mode and other modes are close to each other, a jump (mode-jumping) from the π mode to another mode occurs even if the operating condition changes slightly, As a result, the oscillation frequency and output suddenly change. Therefore, it is necessary to close the coupling between the resonators and separate the resonance frequencies of the respective modes as much as possible.
【0009】従来のマグネトロンは、均圧環によりモー
ドの分離を行っている。均圧環は陽極ベインを一つおき
に導体で接続したものである。これにより、一つおきの
陽極の電位は同じ位相で振動するように強制される。し
たがって、振動可能なモードをπモードと0モード(全
ての陽極ベインが同一位相で振動する)とに限定するこ
とができる。In the conventional magnetron, modes are separated by a pressure equalizing ring. The pressure equalizing ring is one in which every other anode vane is connected by a conductor. This forces the potential of every other anode to oscillate in the same phase. Therefore, the modes capable of vibrating can be limited to the π mode and the 0 mode (all the anode vanes vibrate in the same phase).
【0010】微細ピッチの溝加工には、マルチワイヤソ
ーが用いられる。マルチワイヤソーは、ピッチを刻んだ
ローラーの間に巻き付けたピアノ線を砥粒を分散させた
溶液(ラッピング液)をかけながら動かし、溝入れ、切
断加工を行うものである。主に、磁気ヘッド、水晶振動
子の加工等に用いられる。加工ピッチで0.3mm、切
りしろで120μm程度の加工が可能である。A multi-wire saw is used for processing fine pitch grooves. The multi-wire saw moves a piano wire wrapped between pitched rollers while applying a solution (lapping liquid) in which abrasive particles are dispersed, and performs grooving and cutting. It is mainly used for processing magnetic heads and crystal oscillators. A processing pitch of 0.3 mm and a cutting margin of about 120 μm are possible.
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】従来のマグネトロンで
は、その動作電圧が4kVであり、駆動にはトランスを
必要としていた。これを家庭用電源の電圧100Vで駆
動させるためには位相整合上、陽極ベインのピッチを細
かくするか、あるいは印加する磁場強度を低くする必要
がある。しかし、磁場強度を低くすると発振能率は著し
く低下してしまう。そこで、ピッチを細かくすることの
みで対応する必要がある。The conventional magnetron has an operating voltage of 4 kV and requires a transformer for driving. In order to drive this with a household power supply voltage of 100 V, it is necessary to make the pitch of the anode vanes fine or to reduce the strength of the applied magnetic field in terms of phase matching. However, when the magnetic field strength is lowered, the oscillation efficiency is significantly reduced. Therefore, it is necessary to deal with it only by making the pitch finer.
【0012】ところが、4kVの動作電圧を100Vに
変更する場合、その陽極ベインのピッチは現状の15%
程度になってしまい、その加工が従来の陽極の加工と比
較して困難になる。また、マグネトロンにおいて、その
発振周波数は陽極の空洞共振器の共振周波数によって決
定される。この共振周波数は空洞共振器の形状にも影響
されるが、そのサイズによる影響が大きい。However, when the operating voltage of 4 kV is changed to 100 V, the pitch of the anode vanes is 15% of the current one.
However, the processing becomes difficult as compared with the processing of the conventional anode. Further, in the magnetron, its oscillation frequency is determined by the resonance frequency of the cavity of the anode. This resonance frequency is influenced by the shape of the cavity resonator, but its size has a great influence.
【0013】特に、平板型マグネトロンにおいては各ベ
インが並行であり、間隙を作ってキャパシタンスCとイ
ンダクタンスLを大きくすることが困難であるため、空
洞共振器の溝深さを大きくする必要がある。例えば、動
作電圧100Vの場合、高周波加熱に用いられる周波数
2.45GHzでの発振を行うためには、その空洞共振
器の溝幅0.1〜0.25mmに対して溝深さは30m
m程度になる。したがって、ベイン厚に対してベイン高
さ(溝深さ)が極めて大きいので、ベインの変形による
ピッチのずれが生じ、効率が低下する可能性があるとい
う問題がある。また、このような微小ピッチのベインに
均圧環(板)を取り付けるのも困難であるという問題が
ある。さらに、平板型マグネトロンは、円筒型マグネト
ロンと異なり、陽極ベインに終端があるため、各空洞共
振器における電界強度に差が生じるという問題がある。In particular, in the flat plate magnetron, since the vanes are parallel to each other and it is difficult to form a gap to increase the capacitance C and the inductance L, it is necessary to increase the groove depth of the cavity resonator. For example, when the operating voltage is 100 V, in order to oscillate at the frequency of 2.45 GHz used for high frequency heating, the groove width of the cavity resonator is 0.1 to 0.25 mm and the groove depth is 30 m.
It will be about m. Therefore, since the height of the vane (groove depth) is extremely large with respect to the thickness of the vane, there is a problem in that the pitch may be displaced due to the deformation of the vane and the efficiency may be reduced. Further, there is a problem that it is difficult to attach a pressure equalizing ring (plate) to the vanes having such a fine pitch. Further, unlike the cylindrical magnetron, the flat plate magnetron has a problem in that the electric field strengths in the respective cavity resonators differ because the anode vanes have terminations.
【0014】本発明は、加工が容易で均圧板を容易に取
り付けることができると共に、ベインの変形、ピッチず
れによる効率の低下を防ぐことができる平板型マグネト
ロン用陽極及びその製造方法を提供することを目的とす
る。さらに、本発明は、上記目的に加え、高周波電界の
乱れを除去し、発振効率の向上を図ることができる平板
型マグネトロン用陽極及びその製造方法を提供すること
も目的とする。The present invention provides a flat plate type magnetron anode which can be easily processed and can be easily attached with a pressure equalizing plate, and can prevent a decrease in efficiency due to deformation of a vane and a pitch shift, and a manufacturing method thereof. With the goal. Further, in addition to the above objects, it is another object of the present invention to provide a flat plate type magnetron anode capable of removing the disturbance of the high frequency electric field and improving the oscillation efficiency, and a manufacturing method thereof.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、平板
状陽極に形成されたベインのピッチの2倍のピッチを有
する溝が形成された二つの導体と、前記ベインのピッチ
と同一ピッチを有する溝が形成された絶縁体とを接合し
てなる均圧板を前記陽極の両平板面に備えたことを特徴
とする平板型マグネトロン用陽極である。Means for Solving the Problems of claims 1 invention, and two conductor groove having twice the pitch of the vanes is formed into a flat plate positive electrode is formed, identical to the pitch of the vane A flat plate type magnetron anode, characterized in that pressure equalizing plates, which are joined to an insulator in which grooves having a pitch are formed, are provided on both flat plate surfaces of the anode.
【0016】請求項2の発明は、請求項1又は2におい
て、前記均圧板は前記陽極の両平板面に設けられた溝部
に嵌合されたことを特徴とする平板型マグネトロン用陽
極である。A second aspect of the present invention is the flat-plate magnetron anode according to the first or second aspect, characterized in that the pressure equalizing plate is fitted in groove portions provided on both flat plate surfaces of the anode.
【0017】請求項3の発明は、請求項3において、前
記陽極に形成されたベインと接合する前記均圧板の導体
の端部が折り曲げられたことを特徴とする平板型マグネ
トロン用陽極である。[0017] The invention of claim 3, in claim 3, is a plate-type magnetron for anode and an end portion of the conductor of the equalizing pressure plate to be bonded to the vane formed in the positive electrode is folded .
【0018】請求項4の発明は、平板状陽極の両平板面
に溝部を設ける工程と、前記陽極に溝入れ手段により複
数のベインを形成する工程と、二つの導体と絶縁体とを
接合して均圧板を作製する工程と、該均圧板の絶縁体の
一面に前記ベインのピッチと同一ピッチを有する溝を溝
入れ手段により形成する工程と、前記均圧板の導体の一
面に前記ベインのピッチの2倍のピッチを有する溝を前
記溝入れ手段により形成する工程と、前記均圧板を前記
陽極の溝部に嵌め合わせる工程とを含む平板型マグネト
ロン用陽極の製造方法である。[0018] The invention according to claim 4, bonding the steps of providing a groove on both flat surfaces of the flat anode, forming a plurality of vanes by grooving unit to the positive pole, and two conductors and insulators And a step of forming a pressure equalizing plate, forming a groove having the same pitch as the pitch of the vane on one surface of the insulator of the pressure equalizing plate by grooving means, A method for manufacturing a flat plate type magnetron anode, which includes a step of forming grooves having a pitch twice the pitch by the grooving means, and a step of fitting the pressure equalizing plate into the groove portions of the anode.
【0019】請求項1の発明によれば、平板状陽極に形
成されたベインピッチの2倍のピッチを有する溝が形成
された二つの導体と、上記ベインピッチと同一ピッチを
有する溝が形成された絶縁体とを接合してなる均圧板を
陽極の両平板面に備えているので、空洞共振器の構造が
単純になると共に均圧板自身の作製も容易になる。According to the invention of claim 1, having a two conductor groove is formed to have double the pitch of Beinpitchi been made form <br/> the tabular positive electrode, the Beinpitchi the same pitch Since the pressure equalizing plate formed by joining the insulator with the groove formed is provided on both flat plate surfaces of the anode, the structure of the cavity resonator is simplified and the pressure equalizing plate itself can be easily manufactured.
【0020】請求項2の発明によれば、均圧板が陽極の
両平板面に設けられた溝部に嵌合されているので、ベイ
ンが均圧板により固定されると共に均圧板により熱伝導
率も向上する。さらに、均圧板の両端でベインと結合し
ているため構造が対称になる。According to the invention of claim 2 , since the pressure equalizing plates are fitted in the grooves provided on both flat surfaces of the anode, the vanes are fixed by the pressure equalizing plates and the thermal conductivity is also improved by the pressure equalizing plates. To do. Furthermore, the structure is symmetrical because the vanes are connected to both ends of the pressure equalizing plate.
【0021】請求項3の発明によれば、ベインと接合す
る均圧板の導体の端部が折り曲げられているので、該導
体端部はバネの働きをし、ベインと均圧板とのロウ付け
時に接合部分で一定の力が発生する。According to the invention of claim 3 , since the end of the conductor of the pressure equalizing plate joined to the vane is bent, the end of the conductor functions as a spring, and when brazing the vane and the pressure equalizing plate. A constant force is generated at the joint.
【0022】請求項4の発明によれば、平板状陽極の両
平板面に溝部を設け、陽極に溝入れ手段により複数のベ
インを形成し、二つの導体と絶縁体とを接合して均圧板
を作製して、絶縁体の一面にベインピッチと同一ピッチ
を有する溝を溝入れ手段により形成し、導体の一面にベ
インピッチの2倍のピッチを有する溝を上記溝入れ手段
により形成した後に、均圧板を陽極の溝部に嵌め合わせ
るので、空洞共振器の構造が単純になると共に均圧板自
身の作製も容易になる。また、ベインが均圧板により固
定されると共に均圧板により熱伝導率も向上する。さら
に、均圧板の両端でベインと結合しているため構造が対
称になる。According to the invention of claim 4, the groove on both flat surfaces of the tabular anode is provided, a plurality of vanes formed by grooving means explicitly poles, equalizing by joining a two conductors and insulators A pressure plate is produced, and grooves having the same pitch as the vane pitch are formed on one surface of the insulator by the grooving means, and grooves having a pitch twice the vane pitch are formed on the one surface of the conductor by the grooving means, and then the even groove is formed. Since the pressure plate is fitted in the groove of the anode, the structure of the cavity resonator is simplified and the pressure equalizing plate itself is easily manufactured. Further, the vane is fixed by the pressure equalizing plate, and the thermal conductivity is also improved by the pressure equalizing plate. Furthermore, the structure is symmetrical because the vanes are connected to both ends of the pressure equalizing plate.
【0023】[0023]
【発明の実施の形態】実施の形態1
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明
する。図1は本発明にかかる平板型マグネトロン用陽極
に用いられる無酸素銅ブロックの斜視図である。図1に
示す平板状無酸素銅ブロック1は、縦10mm×横60
mm×高さ30mmのブロックの上部10mm×60m
mの面に縦20mm×横60mm×高さ5mmのブロッ
クを接合したものである。そして、該銅ブロック1の平
板面2(60mm×30mm)に縦5mm×横60mm
×深さ2mmの溝部3を設けた。さらに、この銅ブロッ
ク1の底面4(10mm×60mm)にワイヤ径0.1
3mm、砥粒GC1000番を用いてマルチワイヤソー
により溝入れ(167溝)を行い、図2に示すように、
0.3mmピッチで切りしろ0.15mm、深さ30m
mのベイン5を形成した。これにより空洞共振器が構成
され、これを陽極10とした。なお、二つのブロックか
ら銅ブロックを構成したのは、後述するように平板型マ
グネトロンのパッケージングの際、陽極上部に蓋を兼ね
させるためである。すなわち、陽極上部の突出部とセラ
ミックパッケージとで接合が行われる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiment 1 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of an oxygen-free copper block used in a flat plate type magnetron anode according to the present invention. The flat plate oxygen-free copper block 1 shown in FIG. 1 has a length of 10 mm and a width of 60.
mm x height 30 mm, upper part of block 10 mm x 60 m
A block having a length of 20 mm, a width of 60 mm, and a height of 5 mm is joined to the surface of m. Then, the flat plate surface 2 (60 mm × 30 mm) of the copper block 1 has a length of 5 mm × width of 60 mm.
C. A groove 3 having a depth of 2 mm was provided. Furthermore, wire diameter 0.1 is applied to the bottom surface 4 (10 mm × 60 mm) of the copper block 1.
Grooving (167 grooves) was performed with a multi-wire saw using 3 mm and abrasive grain No. GC1000, and as shown in FIG.
Cutting margin 0.15mm, depth 30m at 0.3mm pitch
m of bain 5 was formed. This constituted a cavity resonator, which was used as the anode 10. The reason why the copper block is composed of the two blocks is to make the upper part of the anode also serve as a lid when the flat plate magnetron is packaged, as described later. That is, the protrusion is formed on the anode and the ceramic package is joined.
【0024】次に、図3に示すようなアルミナブロック
6に縦1.5mm×横50mm×高さ1mmの無酸素銅
ブロック7(表面を無電界銀メッキ液により銀メッキ処
理したもの)二本を図4に示すようにロウ付けにより接
合し、均圧板11を作製した。本実施の形態において、
均圧板の溝入れ手段としてマルチワイヤソーを用いた。
すなわち、図5に示すように、アルミナブロック6の面
に0.3mmピッチで切りしろ0.16mm、深さ1m
mの溝入れを行い、溝入れ部9を形成した。さらに、ワ
イヤ径0.2mm、砥粒GC3000番を用いて銅ブロ
ック7の面にも0.6mmピッチで切りしろ0.12m
m、深さ0.4mmの溝入れを行い、溝入れ部8を形成
した。なお、カーフロスが切りしろに対して大きいの
で、2回に分けて溝入れを行った。Next, two pieces of an oxygen-free copper block 7 (one whose surface is silver-plated with an electroless silver plating solution) having a length of 1.5 mm × width of 50 mm × height of 1 mm are formed on an alumina block 6 as shown in FIG. Were joined by brazing as shown in FIG. 4 to produce a pressure equalizing plate 11. In the present embodiment,
A multi-wire saw was used as a grooving means for the pressure equalizing plate.
That is, as shown in FIG. 5, the surface of the alumina block 6 is cut at a pitch of 0.3 mm with a margin of 0.16 mm and a depth of 1 m.
Grooving of m was performed to form a grooved portion 9. Furthermore, a wire diameter of 0.2 mm and abrasive grains of No. GC3000 are used to cut the surface of the copper block 7 at a pitch of 0.6 mm.
Grooves having a depth of m and a depth of 0.4 mm were formed to form grooved portions 8. Since the kerf loss is large with respect to the cut margin, the grooving was performed twice.
【0025】続いて、図2に示す陽極10の溝部3に図
5に示す均圧板11を図6に示すように嵌め合わせて接
着し、これにより本発明にかかる平板型マグネトロン用
陽極を完成させた。なお、図7に示すように、上下でベ
インピッチだけずらし、かつ、均圧板11の表面にメッ
キされた銀と、ベイン5の銅とを銀−銅ロウとして作用
させて均圧板11とベイン5とを接合した。また、均圧
板11とベイン5との接合部の寸法(切りしろ)がそれ
ぞれ0.15mmと0.12mmとなっているが、その
理由は加工時の精度的なずれを吸収するためである。Subsequently, the pressure equalizing plate 11 shown in FIG. 5 is fitted and adhered to the groove portion 3 of the anode 10 shown in FIG. 2 as shown in FIG. 6, thereby completing the flat plate type magnetron anode according to the present invention. It was Note that, as shown in FIG. 7, silver which is vertically shifted by a vane pitch and which is plated on the surface of the pressure equalizing plate 11 and copper of the vane 5 act as a silver-copper braze to form the pressure equalizing plate 11 and the vane 5. Joined. Further, the dimensions (cut margin) of the joint between the pressure equalizing plate 11 and the vane 5 are 0.15 mm and 0.12 mm, respectively, for the purpose of absorbing precision deviation during processing.
【0026】図8は均圧板を具備していない陽極を用い
た平板型マグネトロンの構成を示す分解斜視図であり、
図9は均圧板を具備した本発明にかかる陽極を用いた平
板型マグネトロンの構成を示す分解斜視図である。図8
及び9に示すように、本発明の範囲外の陽極21及び本
発明にかかる陽極10の1ベインの中央にマイクロ波出
力を取り出すためのロッド19を銀−銅ロウでロウ付け
し、接合した。さらに、真空容器内(10−8 Tor
r)で陰極13をダイボンディングしたアルミナセラミ
ック製のハウジング12に、各陽極21、10を金−ゲ
ルマニウムロウでロウ付けし、接合した。このハウジン
グ12の両側面には、作用空間に必要な磁界を発生させ
るためのポールピース14を取り付けた。なお、ソール
部20とベイン間が作用空間である。亜鉛メッキを行っ
た鉄製のヨーク15に放熱板17を設けると共に、フェ
ライト磁石16を取り付けた。最後に、ハウジング12
を覆うように上記ヨーク15をハウジング12に取り付
け、これにより平板型マグネトロンを完成させた。FIG. 8 is an exploded perspective view showing the structure of a flat plate type magnetron using an anode having no pressure equalizing plate.
FIG. 9 is an exploded perspective view showing the configuration of a flat plate type magnetron using an anode according to the present invention equipped with a pressure equalizing plate. Figure 8
9 and 9, a rod 19 for taking out a microwave output was brazed and joined to the center of one vane of the anode 21 outside the scope of the present invention and the anode 10 according to the present invention. Furthermore, in a vacuum container (10-8 Tor
Each anode 21, 10 was brazed with gold-germanium solder and joined to the housing 12 made of alumina ceramic to which the cathode 13 was die-bonded in step r). Pole pieces 14 for generating a magnetic field necessary for the working space are attached to both side surfaces of the housing 12. The working space is between the sole portion 20 and the vane. A heat sink 17 was provided on a galvanized iron yoke 15, and a ferrite magnet 16 was attached. Finally, the housing 12
The above-mentioned yoke 15 was attached to the housing 12 so as to cover the above, whereby a flat plate type magnetron was completed.
【0027】完成した各平板型マグネトロンに電源入力
部18から陽極電圧100Vを印加し、陽極−ソール間
距離0.5mm、磁界強度1360 Gauss及びエ
ミッション電流2.1Aの条件下で2.45 GHzの
発振出力をパワーメータによって測定した。本発明の範
囲外の陽極を用いた場合の発振出力は15Wであった
が、本発明にかかる陽極を用いた場合の発振出力は18
2Wであった。発振出力が約12倍向上した。An anode voltage of 100 V was applied to each of the completed flat plate magnetrons from the power supply input section 18, and the anode-sole distance was 0.5 mm, the magnetic field strength was 1360 Gauss, and the emission current was 2.1 A at 2.45 GHz. The oscillation output was measured by a power meter. The oscillation output when using the anode outside the range of the present invention was 15 W, but the oscillation output when using the anode according to the present invention was 18 W.
It was 2W. The oscillation output is improved about 12 times.
【0028】実施の形態2
実施の形態1で用いられた均圧板において、図10に示
すように陽極10に形成されたベイン5と接合する均圧
板22の導体23の端部を120度折り曲げた。このよ
うに作製した均圧板22を実施の形態1と同様に陽極1
0の溝部3に嵌め合わせ、得られた陽極10を用いて平
板型マグネトロンを組み立てた。実施の形態1と同一条
件下で、2.45 GHzの発振出力をパワーメータに
よって測定した。その結果、本実施の形態の陽極を用い
た場合の発振出力は196Wであった。すなわち、実施
の形態1の本発明の範囲外の陽極を用いた場合の発振出
力(15W)と比較して約13倍に、実施の形態1の本
発明にかかる陽極を用いた場合の発振出力(182W)
と比較して約8%向上した。Embodiment 2 In the pressure equalizing plate used in the first embodiment, as shown in FIG. 10, the end portion of the conductor 23 of the pressure equalizing plate 22 joined to the vane 5 formed on the anode 10 is bent by 120 degrees. . The pressure equalizing plate 22 manufactured in this manner is used as the anode 1 in the same manner as in the first embodiment.
The flat plate magnetron was assembled using the obtained anode 10 by fitting it into the groove 3 of No. 0. An oscillation output of 2.45 GHz was measured with a power meter under the same conditions as in the first embodiment. As a result, the oscillation output when the anode of this embodiment was used was 196W. That is, the oscillation output when using the anode according to the first embodiment of the present invention is about 13 times that of the oscillation output (15 W) when using the anode outside the scope of the present invention of the first embodiment. (182W)
Improved by about 8%.
【0029】実施の形態3
本実施の形態においては、図11に示すような高周波電
界の強度分布に適合した形状を有するアルミナブロック
31を用いた。すなわち、このアルミナブロック31の
形状は、電磁界シミュレーションによって計算した高周
波電界の強度分布曲線に基づいて決定されたものであ
る。また、アルミナブロック31には、二本の平行な溝
が設けられている。そして、図12に示すように、溝入
れ手段としてマルチワイヤソーを用いて、アルミナブロ
ック31に0.3mmピッチで切りしろ0.16mm、
深さ1mmの溝入れを行った。Embodiment 3 In this embodiment, an alumina block 31 having a shape adapted to the intensity distribution of a high frequency electric field as shown in FIG. 11 is used. That is, the shape of the alumina block 31 is determined based on the intensity distribution curve of the high frequency electric field calculated by the electromagnetic field simulation. Further, the alumina block 31 is provided with two parallel grooves. Then, as shown in FIG. 12, a multi-wire saw is used as the grooving means, and the alumina block 31 is cut at a pitch of 0.3 mm by 0.16 mm.
Grooving with a depth of 1 mm was performed.
【0030】続いて、ワイヤ径0.2mm、砥粒GC3
000番を用いて、0.6mmピッチで切りしろ0.1
2mm、深さ0.4mmの溝入れが行われた縦1.5m
m×横50mm×高さ1mmの無酸素銅ブロック32
(表面を無電界銀メッキ液により銀メッキ処理したも
の)二本をアルミナブロック31の二本の溝にロウ付け
により接合し、均圧板33を作製した。したがって、こ
のように作製された均圧板33の形状も高周波電界の強
度分布に適合したものとなる。なお、カーフロスが切り
しろに対して大きいので、2回に分けて溝入れを行っ
た。Then, wire diameter 0.2 mm, abrasive grains GC3
Use No. 000 to cut at a pitch of 0.6 mm 0.1
1.5m in height with 2mm and 0.4mm depth grooved
m x 50 mm wide x 1 mm high oxygen-free copper block 32
The two (the surface of which was silver-plated with an electroless silver plating solution) were joined to the two grooves of the alumina block 31 by brazing to manufacture a pressure equalizing plate 33. Therefore, the shape of the pressure equalizing plate 33 manufactured in this way is also adapted to the intensity distribution of the high frequency electric field. Since the kerf loss is large with respect to the cut margin, the grooving was performed twice.
【0031】平板型陽極の両平面に上記均圧板の形状に
適した溝を設け、そして実施の形態1と同様にベインを
形成した後、この溝に上記均圧板を嵌め合わせて接着し
た。これにより、本発明にかかる他の平板型マグネトロ
ン用陽極を完成させた。なお、上記均圧板と陽極ベイン
との接合方法及び接合状態は、実施の形態1で説明した
とおりである(図7参照)。Grooves suitable for the shape of the pressure equalizing plate were formed on both flat surfaces of the flat plate type anode, and after forming the vanes as in the first embodiment, the pressure equalizing plates were fitted and bonded to the grooves. Thus, another flat plate type magnetron anode according to the present invention was completed. The joining method and joining state of the pressure equalizing plate and the anode vane are as described in Embodiment 1 (see FIG. 7).
【0032】そして、図13に示すように、上記平板型
マグネトロン用陽極40を用いて、実施の形態1で説明
した操作手順に従って平板型マグネトロンを完成させ
た。完成した平板型マグネトロンに電源入力部18から
陽極電圧100Vを印加し、陽極−ソール間距離0.5
mm、磁界強度1360 Gauss及びエミッション
電流2.1Aの条件下で2.45 GHzの発振出力を
パワーメータによって測定した。本実施の形態にかかる
陽極を用いた場合の発振出力は294Wであり、実施の
形態1にかかる陽極を用いた場合の発振出力(182
W)と比較して、発振出力が約1.6倍向上した。Then, as shown in FIG. 13, a flat plate magnetron was completed by using the flat plate magnetron anode 40 according to the operation procedure described in the first embodiment. An anode voltage of 100 V is applied from the power input unit 18 to the completed flat plate magnetron, and the distance between the anode and the sole is 0.5.
mm, a magnetic field strength of 1360 Gauss, and an emission current of 2.1 A, an oscillation output of 2.45 GHz was measured by a power meter. The oscillation output when the anode according to the present embodiment is used is 294 W, and the oscillation output when the anode according to the first embodiment is used (182
Compared with W), the oscillation output is improved by about 1.6 times.
【0033】実施の形態4
本実施の形態では、均圧板の溝入れ手段としてウエット
エッチングプロセスを用いた。エッチング液としては、
蒸留水100ccと硝酸100ccとを混合したものに
硝酸銀10gを加えたものを用いた。本プロセスにより
溝入れを行った場合には、バリを発生させることなくマ
ルチワイヤソーと同精度(±0.01mm)の加工を行
うことができた。さらに、カーフロスが切り代に比較し
て大きい場合には、エッチングプロセスは均圧板の溝入
れ加工をマルチワイヤソーより容易に、かつ、大量に行
うことができる。Fourth Embodiment In this embodiment, a wet etching process is used as a groove forming means for the pressure equalizing plate. As an etching solution,
A mixture of 100 cc of distilled water and 100 cc of nitric acid and 10 g of silver nitrate was used. When grooving was performed by this process, it was possible to perform processing with the same accuracy (± 0.01 mm) as the multi-wire saw without generating burrs. Further, when the kerf loss is large compared to the cutting allowance, the etching process can perform grooving of the pressure equalizing plate more easily and in a larger amount than the multi-wire saw.
【0034】実施の形態5
本実施の形態においては、均圧板の溝入れ手段として鍛
造加工を用いた。鍛型をCr−Mn鋼を用い、±0.0
05mmの精度で作製した。鍛練温度800℃とし、炉
内雰囲気は窒素とした。型を用いるため、突起部にテー
パーがつき、先細りの形状(先端部0.12mm、根元
部0.2mm)になるが、マルチワイヤソーと同精度
(±0.01mm)の加工を行うことができた。Fifth Embodiment In the present embodiment, forging is used as the grooving means of the pressure equalizing plate. Using a Cr-Mn steel forging die, ± 0.0
It was manufactured with an accuracy of 05 mm. The forging temperature was 800 ° C., and the atmosphere in the furnace was nitrogen. Since a mold is used, the projection has a taper and becomes a tapered shape (tip part 0.12 mm, root part 0.2 mm), but it can be processed with the same accuracy as the multi-wire saw (± 0.01 mm). It was
【0035】実施の形態6
本実施の形態では、均圧板の溝入れ手段として打ち抜き
加工を用いた。ダイスの溝形状に対してポンチをある隙
間量(クリアランス)だけ小さく造る必要がある。無酸
素銅の精密な打ち抜きの場合、その実用クリアランスは
板厚の1〜3%なので、1mm厚の鋼板では0.01〜
0.03mmとなる。そこで、ポンチの各突起部の幅
は、ダイスの各突起部の幅0.15mmに対して0.1
1mmとした。加工工具には、WC系超硬合金を用い
た。縁仕上げには、各突起部の幅が0.14mmのポン
チを用いた。本実施の形態において、マルチワイヤソー
と同精度(±0.01mm)の加工を行うことができ
た。Embodiment 6 In the present embodiment, punching is used as the groove forming means for the pressure equalizing plate. It is necessary to make the punch smaller than the groove shape of the die by a certain amount of clearance. In the case of precise punching of oxygen-free copper, the practical clearance is 1 to 3% of the plate thickness, so it is 0.01 to 1 mm for a 1 mm thick steel plate.
It becomes 0.03 mm. Therefore, the width of each protrusion of the punch is 0.1 mm with respect to the width of each protrusion of the die of 0.15 mm.
It was set to 1 mm. WC-based cemented carbide was used for the processing tool. A punch having a width of each protrusion of 0.14 mm was used for edge finishing. In the present embodiment, processing with the same accuracy (± 0.01 mm) as the multi-wire saw could be performed.
【0036】[0036]
【発明の効果】請求項1の発明によれば、平板状陽極に
形成されたベインピッチの2倍のピッチを有する溝が形
成された二つの導体と、上記ベインピッチと同一ピッチ
を有する溝が形成された絶縁体とを接合してなる均圧板
を陽極の両平板面に備えることにより、空洞共振器の構
造が単純になると共に均圧板自身の作製も容易になるの
で、マグネトロンの分割陽極の加工時間及び加工精度の
向上を図ることができ、さらに細かいピッチでも均圧板
を容易に取り付けることができ発振モードの分離を行う
ことができる。According to the first aspect of the present invention, two conductors each having a groove having a pitch twice that of the vane pitch formed on the flat plate-shaped anode and a groove having the same pitch as the vane pitch are formed. By equipping both flat surfaces of the anode with a pressure equalizing plate that is joined to an insulator, the structure of the cavity resonator is simplified and the pressure equalizing plate itself can be easily manufactured. Further, the processing accuracy can be improved, and the pressure equalizing plate can be easily attached even at a fine pitch, and the oscillation modes can be separated.
【0037】請求項2の発明によれば、均圧板を陽極の
両平板面に設けられた溝部に嵌合することにより、ベイ
ンが均圧板により固定されるので、ベインの変形、ピッ
チずれによる効率の低下を防止することができる。これ
により、組み立て時、輸送時の取り扱いも容易になる。
また、この均圧板により熱伝導率も向上するので、熱に
よるベーンの変形及び磁界の熱変動を防ぐことができ
る。さらに、均圧板の両端でベインと結合しているため
構造が対称になるので、高周波電界の乱れが少なくな
り、出力の安定化を図ることができる。According to the invention of claim 2 , the vanes are fixed by the pressure equalizing plates by fitting the pressure equalizing plates into the groove portions provided on both flat plate surfaces of the anode. Can be prevented. This facilitates handling during assembly and transportation.
Further, since the pressure equalizing plate also improves the thermal conductivity, it is possible to prevent deformation of the vane and thermal fluctuation of the magnetic field due to heat. Further, since both ends of the pressure equalizing plate are connected to the vanes, the structure is symmetrical, so that the disturbance of the high frequency electric field is reduced and the output can be stabilized.
【0038】請求項3の発明によれば、ベインと接合す
る均圧板の導体の端部を折り曲げることにより、該導体
端部はバネの働きをし、ベインと均圧板とのロウ付けを
行う際に接合部分に一定の力を加えることができ、その
結果、各ベイン間での接合状態のバラツキを低減するこ
とができる。According to the third aspect of the invention, by bending the end of the conductor of the pressure equalizing plate that is joined to the vane, the end of the conductor functions as a spring, and when brazing the vane and the pressure equalizing plate. It is possible to apply a constant force to the joint portion, and as a result, it is possible to reduce variations in the joint state between the vanes.
【0039】請求項4の発明によれば、平板状陽極の両
平板面に溝部を設け、陽極に溝入れ手段により複数のベ
インを形成し、二つの導体と絶縁体とを接合して均圧板
を作製して、絶縁体の一面にベインピッチと同一ピッチ
を有する溝を溝入れ手段により形成し、導体の一面にベ
インピッチの2倍のピッチを有する溝を上記溝入れ手段
により形成した後に、均圧板を陽極の溝部に嵌め合わせ
ることにより、空洞共振器の構造が単純になると共に均
圧板自身の作製も容易になる。また、ベインが均圧板に
より固定されると共に均圧板により熱伝導率も向上す
る。さらに、均圧板の両端でベインと結合しているため
構造が対称になる。[0039] According to the invention of claim 4, the groove on both flat surfaces of the tabular anode is provided, a plurality of vanes formed by grooving means explicitly poles, equalizing by joining a two conductors and insulators A pressure plate is produced, and grooves having the same pitch as the vane pitch are formed on one surface of the insulator by the grooving means, and grooves having a pitch twice the vane pitch are formed on the one surface of the conductor by the grooving means, and then the even groove is formed. By fitting the pressure plate into the groove of the anode, the structure of the cavity resonator becomes simple and the pressure equalizing plate itself can be easily manufactured. Further, the vane is fixed by the pressure equalizing plate, and the thermal conductivity is also improved by the pressure equalizing plate. Furthermore, the structure is symmetrical because the vanes are connected to both ends of the pressure equalizing plate.
【図1】本発明の平板型マグネトロン用陽極に用いられ
る無酸素銅ブロックの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of an oxygen-free copper block used in a flat plate type magnetron anode of the present invention.
【図2】図1の無酸素銅ブロックにベインを形成するこ
とにより構成された空洞共振器を備えた平板型マグネト
ロン用陽極の斜視図である。2 is a perspective view of a flat plate type magnetron anode including a cavity resonator formed by forming a vane on the oxygen-free copper block of FIG. 1. FIG.
【図3】均圧板に用いられるアルミナブロックの斜視図
である。FIG. 3 is a perspective view of an alumina block used for a pressure equalizing plate.
【図4】図3のアルミナブロックに無酸素銅ブロックを
接合した状態を示す斜視図である。FIG. 4 is a perspective view showing a state in which an oxygen-free copper block is joined to the alumina block of FIG.
【図5】図4の接合されたブロックに溝が設けられた状
態を示す均圧板の斜視図である。5 is a perspective view of a pressure equalizing plate showing a state in which grooves are provided in the joined blocks of FIG.
【図6】図5の均圧板を図2の陽極の溝部に嵌め合わせ
た状態を示す本発明の平板型マグネトロン用陽極の斜視
図である。6 is a perspective view of the flat plate type magnetron anode of the present invention showing a state in which the pressure equalizing plate of FIG. 5 is fitted in the groove of the anode of FIG. 2.
【図7】図6の均圧板と陽極との接合部分を示す部分拡
大図である。FIG. 7 is a partial enlarged view showing a joint portion between the pressure equalizing plate and the anode in FIG.
【図8】本発明の範囲外の陽極を用いた場合の平板型マ
グネトロンの構成を示す分解斜視図である。FIG. 8 is an exploded perspective view showing a configuration of a flat plate magnetron when an anode outside the scope of the present invention is used.
【図9】本発明にかかる陽極を用いた場合の平板型マグ
ネトロンの構成を示す分解斜視図である。FIG. 9 is an exploded perspective view showing a configuration of a flat plate type magnetron when the anode according to the present invention is used.
【図10】別態様の均圧板を図2の陽極に嵌め合わせた
状態を示す本発明の平板型マグネトロン用陽極の部分断
面図である。10 is a partial cross-sectional view of the flat plate type magnetron anode of the present invention showing a state where a pressure equalizing plate of another embodiment is fitted to the anode of FIG.
【図11】均圧板に用いられる他のアルミナブロックの
斜視図である。FIG. 11 is a perspective view of another alumina block used for the pressure equalizing plate.
【図12】溝入れが行われたアルミナブロックと無酸素
銅ブロックとを接合することにより構成された均圧板の
斜視図である。FIG. 12 is a perspective view of a pressure equalizing plate configured by joining a grooved alumina block and an oxygen-free copper block.
【図13】本発明にかかる他の陽極を用いた場合の平板
型マグネトロンの構成を示す分解斜視図である。FIG. 13 is an exploded perspective view showing a configuration of a flat plate type magnetron when another anode according to the present invention is used.
【図14】従来の円筒型マグネトロンの部分縦断面図で
ある。FIG. 14 is a partial vertical cross-sectional view of a conventional cylindrical magnetron.
【図15】従来の平板型マグネトロンの縦断面図であ
る。FIG. 15 is a vertical cross-sectional view of a conventional flat plate magnetron.
【図16】図15の平板型マグネトロンの斜視図であ
る。16 is a perspective view of the flat plate type magnetron of FIG. 15. FIG.
1 平板状無酸素銅ブロック 2 平板面 3 溝部 4 底面 5 ベイン 6 アルミナブロック 7 無酸素銅ブロック 8 無酸素銅ブロックの溝入れ部 9 アルミナブロックの溝入れ部 10 平板状陽極 11 均圧板 1 Flat plate oxygen-free copper block 2 Flat surface 3 groove 4 bottom 5 Bain 6 Alumina block 7 oxygen-free copper block Grooving part of 8 oxygen-free copper block 9 Groove of alumina block 10 Flat anode 11 Pressure equalizing plate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭52−48462(JP,A) 特開 昭49−16372(JP,A) 特開 昭49−69067(JP,A) 特開 平5−283878(JP,A) 特開 昭58−46546(JP,A) 特開 昭48−90464(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01J 23/18 - 23/22 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) Reference JP-A-52-48462 (JP, A) JP-A-49-16372 (JP, A) JP-A-49-69067 (JP, A) JP-A-5- 283878 (JP, A) JP-A-58-46546 (JP, A) JP-A-48-90464 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01J 23 / 18-23 /twenty two
Claims (4)
の2倍のピッチを有する溝が形成された二つの導体と、
前記ベインのピッチと同一ピッチを有する溝が形成され
た絶縁体とを接合してなる均圧板を前記陽極の両平板面
に備えたことを特徴とする平板型マグネトロン用陽極。And two conductor groove is formed with a 1. A 2 times the pitch of the pitch of the flat positive pole formed Bain,
An anode for a flat plate magnetron, characterized in that pressure equalizing plates, which are joined to an insulator having grooves having the same pitch as the vane pitch, are provided on both flat plate surfaces of the anode.
られた溝部に嵌合されたことを特徴とする請求項1記載
の平板型マグネトロン用陽極。2. The flat plate type magnetron anode according to claim 1, wherein the pressure equalizing plate is fitted in grooves formed on both flat plate surfaces of the anode.
前記均圧板の導体の端部が折り曲げられたことを特徴と
する請求項2記載の平板型マグネトロン用陽極。Wherein the plate type magnetron anode for according to claim 2, wherein the ends of the conductors of the equalizing pressure plate to be bonded to the vane formed explicitly electrode is bent.
程と、前記陽極に溝入れ手段により複数のベインを形成
する工程と、二つの導体と絶縁体とを接合して均圧板を
作製する工程と、該均圧板の絶縁体の一面に前記ベイン
のピッチと同一ピッチを有する溝を前記溝入れ手段によ
り形成する工程と、前記均圧板の導体の一面に前記ベイ
ンのピッチの2倍のピッチを有する溝を前記溝入れ手段
により形成する工程と、前記均圧板を前記陽極の溝部に
嵌め合わせる工程とを含む平板型マグネトロン用陽極の
製造方法。A step wherein providing the groove section on both flat surfaces of the flat anode, forming a plurality of vanes by grooving unit to the positive pole, the two conductors and equalizing the pressure plate by bonding insulator A step of producing, a step of forming grooves having the same pitch as the pitch of the vanes on one surface of the insulator of the pressure equalizing plate by the grooving means, and a double pitch of the vanes on one surface of the conductor of the pressure equalizing plate. And a step of fitting the pressure equalizing plate into the groove of the anode, the method for producing a flat plate magnetron anode.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18136795A JP3399703B2 (en) | 1995-03-13 | 1995-07-18 | Anode for flat plate magnetron and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5249295 | 1995-03-13 | ||
| JP7-52492 | 1995-03-13 | ||
| JP18136795A JP3399703B2 (en) | 1995-03-13 | 1995-07-18 | Anode for flat plate magnetron and method of manufacturing the same |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08315742A JPH08315742A (en) | 1996-11-29 |
| JP3399703B2 true JP3399703B2 (en) | 2003-04-21 |
Family
ID=26393089
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18136795A Expired - Fee Related JP3399703B2 (en) | 1995-03-13 | 1995-07-18 | Anode for flat plate magnetron and method of manufacturing the same |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3399703B2 (en) |
-
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