JP3402678B2 - シクロヘキサンジメチル誘導体 - Google Patents
シクロヘキサンジメチル誘導体Info
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Description
て有用なシクロヘキサンジメチル誘導体、詳しくは、ネ
マチック液晶材料に混合することにより、広い液晶温度
範囲を有し、液晶材料の屈折率の異方性(Δn)を小さ
く維持したまま、N−I点を上昇させることができるシ
クロヘキサンジメチル誘導体に関するものである。 【0002】 【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】液晶材
料に要求される物性として、水、光、熱に安定で、しき
い値電圧が低く、室温を含む広い温度範囲で液晶状態で
あることが望まれる。しかし、一般的には単独の液晶化
合物で全ての要求性能を満たすことは困難で、数種類の
液晶化合物や液晶以外の化合物を混合することで、求め
る性能により近い組成物として使用されている。液晶化
合物は、低温側から結晶相(C)、場合によってスメク
チック相(S)を経由してネマチック相(N)、更に高
温側で等方性液体相(I)を示すが、ここでスメチック
相(S)とネマチック相(N)のときに液晶状態であ
る。液晶化合物を含有する液晶材料は、室温を含む広い
温度範囲で液晶相を示すことが必要であり、この液晶温
度範囲が広いことは、広範な使用環境において良好な表
示が得られることを意味するものである。特に、N−I
点は高温側における表示に良い影響を示すため、高温と
なる環境で使用される場合にはN−I点の高い液晶材料
が必要となる。 【0003】また、液晶材料の屈折率の異方性(以下、
単に「Δn」ということがある)は液晶表示の視覚特性
に影響し、Δnが小さいほど視覚特性が良好となるた
め、用いられる液晶材料は小さいΔnを維持する必要が
ある。 【0004】このため、ネマチック液晶材料に混合し
て、液晶温度範囲を広くしながらN−I点を高め、しか
も、Δnを増大させない化合物が求められていた。 【0005】N−I点の高い液晶材料としては、例え
ば、特開昭54−157541号公報、特開昭56−1
58751号公報、特開昭56−1611352号公
報、特開昭57−18649号公報、特開昭57−95
933号公報、特開昭57−176943号公報、特開
昭58−10532号公報、特開昭58−124744
号公報、特開平3−31248号公報、特表平3−50
0892号公報等にアルキルシクロヘキシルメトキシ基
を有する誘導体が提案されている。これらの化合物に中
には高いN−I点を有し、ネマチック液晶材料に混合し
てN−I点を上昇させるものもあるが、N−I点が高く
なるに従ってC−I点が高くなり液晶範囲温度が狭いた
め、低温側での特性が低下する欠点があった。 【0006】従って、本発明の目的は、ネマチック液晶
材料に混合することにより、広い液晶温度範囲を有し、
液晶材料の屈折率の異方性(Δn)を小さく維持したま
ま、N−I点を上昇させることができるシクロヘキサン
ジメチル誘導体を提供することにある。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく、種々検討を重ねた結果、特定のシクロヘ
キサンジメチル誘導体を、ネマチック液晶材料に混合す
ることにより、広い液晶温度範囲と高いN−I点を有
し、しかも、液晶材料に混合した場合にもΔnを増大さ
せないことを知見した。 【0008】本発明は、上記知見に基づきなされたもの
で、下記〔化2〕(上記〔化1〕と同じ)の一般式
(I)で表されるシクロヘキサンジメチル誘導体を提供
するものである。 【0009】 【化2】 【0010】以下、本発明のシクロヘキサンジメチル誘
導体について詳述する。 【0011】上記一般式(I)中、R1及びR2で表される
炭素数1〜12のアルキル基としては、例えば、メチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチ
ル、イソブチル、第二ブチル、第三−ブチル、n−ペン
チル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、n−ヘキ
シル、イソヘキシル、n−ヘプチル、イソヘプチル、n
−オクチル、2−エチルヘキシル、イソオクチル、2−
オクチル、n−ノニル、イソノニル、n−デシル、イソ
デシル、n−ウンデシル、イソウンデシル、n−ドデシ
ル、イソドデシル等が挙げられる。 【0012】また、X及びYで表されるハロゲン原子と
しては、例えば、塩素、フッ素、臭素等が挙げられる。 【0013】従って、本発明のシクロヘキサンジメチル
誘導体としては、例えば、下記〔化3〕〜〔化20〕の
化合物No.1〜No.18等が挙げられる。 【0014】 【化3】 【0015】 【化4】 【0016】 【化5】 【0017】 【化6】 【0018】 【化7】 【0019】 【化8】 【0020】 【化9】 【0021】 【化10】 【0022】 【化11】 【0023】 【化12】 【0024】 【化13】 【0025】 【化14】【0026】 【化15】 【0027】 【化16】 【0028】 【化17】 【0029】 【化18】 【0030】 【化19】 【0031】 【化20】 【0032】本発明のシクロヘキサンジメチル誘導体
は、例えば、1,4−シクロヘキサンジメタノールをア
ルカリ金属水素化物とハロゲン化アルキルとを用いてア
ルキルエーテル化して4−アルコキシメチルシクロヘキ
シルメタノールを合成し、これと核置換フェノール類を
常法によってエーテル化し、その後必要に応じてエステ
ル化することによって製造することができる。 【0033】本発明のシクロヘキサンジメチル誘導体
を、周知の液晶材料(母液晶)に混合する事によって、
該液晶材料の屈折率の異方性(Δn)を変化することな
くN−I点を上昇させることができる。 【0034】上記母液晶を構成する化合物としては、例
えば、下記〔化21〕に示す化合物等が挙げられ、該母
液晶は、通常これらの化合物を数種以上混合して用いら
れるものである。 【0035】 【化21】【0036】本発明のシクロヘキサンジメチル誘導体の
配合量は、上記母液晶100重量部に対して、好ましく
は1〜30重量部である。 【0037】 【実施例】以下、実施例により本発明の化合物の製造法
及び性質を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明
はこれらの実施例によって何ら制限を受けるものではな
い。 【0038】実施例1:トランス−4−n−プロピルシ
クロヘキサンカルボン酸−トランス−4−(4’−メト
キシメチルシクロヘキシルメトキシ)フェニルエステル
(上記〔化3〕の化合物No. 1)の合成 (1)トランス−4−メトキシメチルシクロヘキシルメ
タノールの合成 水素化ナトリウム(55%油性)65.5gをN,N’
−ジメチルホルムアミド11gに分散し、ここにトラン
ス−1,4−シクロヘキサンジメタノール259.6g
をN,N’−ジメチルホルムアミド500mlに溶解し
た溶液を滴下した。そのまま室温で3時間撹拌した後、
一晩放置した。その後、放置した溶液にヨウ化メチル2
12.9gをN,N’−ジメチルホルムアミド100m
lに溶解した溶液を滴下し、そのまま室温で4時間撹拌
した後、析出物をろ別した。ろ液を脱溶媒後、水1リッ
トルを加えて、酢酸エチルで抽出した。乾燥、脱溶媒
後、生成物を酢酸エチル/n−ヘキサン(1/2)を展
開溶媒としてシリカゲルカラム処理を行ない、目的物の
トランス−4−メトキシメチルシクロヘキシルメタノー
ルを122.2g(収率51%)を得た。 【0039】(2)トランス−1−メトキシメチル−4
−(4’−アセトキシフェノキシ)メチルシクロヘキサ
ンの合成 上記(1)で得られたトランス−4−メトキシメチルシ
クロヘキシルメタノール33.5g、ヒドロキノンモノ
アセテート25.9g及びトリフェニルホスフィン5
2.5gを乾燥ジエチルエーテル300mlに溶解し
た。これにアゾジカルボン酸ジイソプロピル40.4g
を滴下し、室温で4時間撹拌後、析出したトリフェニル
ホスフィンオキシドをろ別した。ろ液を脱溶媒後、生成
物を酢酸エチル/n−ヘキサン(2/8)を展開溶媒と
してシリカゲルカラム処理を行ない、目的物のトランス
−1−メトキシメチル−4−(4’−アセトキシフェノ
キシ)メチルシクロヘキサン41.2g(収率83%)
を得た。 【0040】(3)トランス−4−(4’−メトキシメ
チルシクロヘキシル)メトキシフェノールの合成 上記(2)で得られたトランス−1−メトキシメチル−
4−(4’−アセトキシフェノキシ)メチルシクロヘキ
サン41.2gをエタノール230ml及び水50ml
の混合溶液に分散し、これに85%水酸化カリウム1
4.0gを加えて75℃に加熱し、1時間還流下に撹拌
した。その後冷却し、反応液を希塩酸500ml中に注
ぎ、析出物をろ過した。次いで洗液が中性になるまで析
出物を水洗して目的物のトランス−4−(4’−メトキ
シメチルシクロヘキシル)メトキシフェノール34.0
g(収率96%、融点80℃)を得た。 【0041】(4)トランス−4−n−プロピルシクロ
ヘキサンカルボン酸−トランス−4−(4’−メトキシ
メチルシクロヘキシルメトキシ)フェニルエステルの合
成 上記(3)で得られたトランス−4−(4’−メトキシ
メチルシクロヘキシルメトキシ)フェノール27.9g
及びトランス−4−n−プロピルシクロヘキサンカルボ
ン酸20.6gを塩化メチレン270mlに溶解し、こ
こにN,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド25.
0gを塩化メチレン30mlに溶解した溶液を滴下し
た。室温で3時間撹拌後、析出したN,N’−ジシクロ
ヘキシル尿素をろ別した。ろ液を脱溶媒後、生成物を酢
酸エチル/n−ヘキサン(2/8)を展開溶媒としてシ
リカゲルカラム処理を行ない、次いでメタノールで再結
晶を行ない、白色結晶35.6g(収率80%)を得
た。 【0042】得られた白色結晶の赤外分光分析の結果は
下記の通りであり、白色結晶が目的物であることを確認
した。 2920cm-1、2850cm-1、1750cm-1、1
500cm-1、1460cm-1、1440cm-1、12
40cm-1、1190cm-1、1150cm-1、112
0cm-1、1040cm-1、890cm-1、830cm
-1 【0043】また、得られた目的物の相転移温度は下記
の通りであり、N−I点が高く、しかも液晶温度範囲が
76℃と著しく広い特徴をもっていた。 C−S点(82℃)、S−N点(95℃)、N−I点
(158℃) 【0044】これに対し、化合物No. 1のメトキシメチ
ル基をn−プロピル基に代えた以外は同一の構造を有す
る下記〔化22〕の比較化合物は、下記に示すように、
N−I点は高いが、液晶温度範囲は54℃しかなく、液
晶材料として劣ったものでしかなかった。 【0045】 【化22】 【0046】実施例2:トランス−4−n−ブチルシク
ロヘキサンカルボン酸−トランス−4−(4’−メトキ
シメチルシクロヘキシルメトキシ)フェニルエステル
(上記〔化4〕の化合物No. 2)の合成 実施例1の(3)で得られたトランス−4−(4’−メ
トキシメチルシクロヘキシルメトキシ)フェノール6.
0g及びトランス−4−n−ブチルシクロヘキシルカル
ボン酸4.9gを塩化メチレン60mlに溶解し、ここ
にN,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド5.5g
を塩化メチレン6mlに溶解した溶液を滴下した。室温
で3時間撹拌後、析出したN,N’−ジシクロヘキシル
尿素をろ別した。ろ液を脱溶媒後、生成物を酢酸エチル
/n−ヘキサン(2/8)を展開溶媒としてシリカゲル
カラム処理を行ない、次いでメタノールで再結晶を行な
い、白色結晶5.6g(収率56%)を得た。 【0047】得られた白色結晶の赤外分光分析の結果は
下記の通りであり、白色結晶が目的物であることを確認
した。 2920cm-1、2850cm-1、1750cm-1、1
600cm-1、1510cm-1、1440cm-1、12
40cm-1、1190cm-1、1150cm-1、112
0cm-1、1040cm-1、1000cm-1、840c
m-1 【0048】また、得られた目的物の相転移温度は下記
の通りであり、N−I点が高く、しかも液晶温度範囲が
67℃と著しく広い特徴をもっていた。 C−N点(88℃)、N−I点(155℃) 【0049】実施例3:トランス−4−n−ペンチルシ
クロヘキサンカルボン酸−トランス−4−(4’−メト
キシメチルシクロヘキシルメトキシ)フェニルエステル
(上記〔化5〕の化合物No. 3)の合成 実施例1の(3)で得られたトランス−4−(4’−メ
トキシメチルシクロヘキシルメトキシ)フェノール2.
5g及びトランス−4−n−ペンチルシクロヘキシルカ
ルボン酸2.2gを塩化メチレン30mlに溶解し、こ
こにN,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド2.3
gを塩化メチレン3mlに溶解した溶液を滴下した。室
温で3時間撹拌後、析出したN,N’−ジシクロヘキシ
ル尿素をろ別した。ろ液を脱溶媒後、生成物を酢酸エチ
ル/n−ヘキサン(2/8)を展開溶媒としてシリカゲ
ルカラム処理を行ない、次いでメタノールで再結晶を行
ない、白色結晶3.3g(収率75%)を得た。 【0050】得られた白色結晶の赤外分光分析の結果は
下記の通りであり、白色結晶が目的物であることを確認
した。 2910cm-1、2840cm-1、1750cm-1、1
580cm-1、1500cm-1、1460cm-1、12
40cm-1、1190cm-1、1150cm-1、112
0cm-1、1030cm-1、970cm-1、830cm
-1 【0051】また、得られた目的物の相転移温度は下記
の通りであり、N−I点が高く、しかも液晶温度範囲が
84℃と著しく広い特徴をもっていた。 C−S点(74℃)、S−N点(79℃)、N−I点
(158℃) 【0052】実施例4:トランス−4−(4’−メトキ
シメチルシクロヘキシルメトキシ) 安息香酸−4−シアノフェニルエステル(上記〔化9〕
の化合物No. 7)の合成 (1)トランス−4−(4’−メトキシメチルシクロヘ
キシルメトキシ)安息香酸−メチルエステルの合成 実施例1の(1)で得られたトランス−4−メトキシメ
チルシクロヘキシルメタノール3.16g、p−ヒドロ
キシ安息香酸メチル3.20g及びトリフェニルホスフ
ィンオキシド5.51gを乾燥ジエチルエーテル30m
lに溶解し、ここにアゾジカルボン酸ジイソプロピル
4.25gを滴下した。室温で3時間撹拌後、析出した
トリフェニルホスフィンをろ別し、ろ液を脱溶媒後、生
成物を酢酸エチル/n−ヘキサン(2/8)を展開溶媒
としてシリカゲルカラム処理を行ない、目的物のトラン
ス−4−(4’−メトキシメチルシクロヘキシルメトキ
シ)安息香酸−メチルエステル5.41g(収率92
%)を得た。 【0053】(2)トランス−4−(4’−メトキシメ
チル)シクロヘキシルメトキシ安息香酸の合成 上記(1)で得られたトランス−4−(4’−メトキシ
メチルシクロヘキシルメトキシ)安息香酸−メチルエス
テル5.41gを含水エタノール40mlに分散し、こ
こに85%水酸化カリウム1.84gを加えて、90℃
で1時間撹拌した。その後冷却し、反応液を希塩酸10
0mlに注ぎ、析出物をろ過した。次いで洗液が中性に
なるまで析出物を水洗して、目的物のトランス−4−
(4’−メトキシメチルシクロヘキシルメトキシ)安息
香酸4.8g(収率93%)を得た。 【0054】(3)トランス−4−(4’−メトキシメ
チルシクロヘキシルメトキシ)安息香酸−4−シアノフ
ェニルエステルの合成 上記(2)で得られたトランス−4−(4’−メトキシ
メチルシクロヘキシルメトキシ)安息香酸4.0g、4
−シアノフェノール1.9gを塩化メチレン40mlに
溶解し、これにN,N−ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド3.5gを塩化メチレン4mlに溶解した溶液を滴下
した。室温で3時間撹拌後、析出したN,N’−ジシク
ロヘキシル尿素をろ別し、ろ液を脱溶媒後、生成物を酢
酸エチル/n−ヘキサン(2/8)を展開溶媒としてシ
リカゲルカラム処理を行った。次いでエタノールで再結
晶を行ない、白色結晶4.9g(収率90%)を得た。 【0055】得られた白色結晶の赤外分光分析の結果は
下記の通りであり、白色結晶が目的物であることを確認
した。 2920cm-1、2850cm-1、2220cm-1、1
730cm-1、1600cm-1、1500cm-1、14
60cm-1、1440cm-1、1250cm-1、120
0cm-1、1160cm-1、1100cm-1、1060
cm-1、1800cm-1、1000cm-1、880cm
-1、840cm-1、760cm-1 【0056】また、得られた目的物の相転移温度は下記
の通りであり、N−I点が高く、しかも液晶温度範囲が
55℃と著しく広い特徴をもっていた。 C−N点(136℃)、N−I点(191℃) 【0057】実施例5:トランス−4−(4’−メトキ
シメチルシクロヘキシルメトキシ)フェニル−4−シア
ノ安息香酸エステル(上記〔化10〕の化合物No. 8)
の合成 実施例1の(3)で得られたトランス−4−(4’−メ
トキシメチルシクロヘキシルメトキシ)フェノール2.
5g及び4−シアノ安息香酸1.7gを塩化メチレン3
0mlに溶解し、ここにN,N’−ジシクロヘキシルカ
ルボジイミド2.3gを塩化メチレン3mlに溶解した
溶液を滴下した。室温で3時間撹拌後、析出したN,
N’−ジシクロヘキシル尿素をろ別した。ろ液を脱溶媒
後、生成物を酢酸エチル/n−ヘキサン(1/2)を展
開溶媒としてシリカゲルカラム処理を行ない、次いでエ
タノール/酢酸エチル(2/1)で再結晶を行ない、白
色結晶2.2g(収率58%)を得た。 【0058】得られた白色結晶の赤外分光分析の結果は
下記の通りであり、白色結晶が目的物であることを確認
した。 2920cm-1、2850cm-1、2230cm-1、1
730cm-1、1600cm-1、1500cm-1、14
60cm-1、1270cm-1、1240cm-1、119
0cm-1、1080cm-1、1040cm-1、860c
m-1、840cm -1 【0059】また、得られた目的物の相転移温度は下記
の通りであり、N−I点が高く、しかも液晶温度範囲が
133℃と著しく広い特徴をもっていた。 C−S点(62℃)、S−N点(146℃)、N−I点
(195℃) 【0060】実施例6:4−(トランス−4’−メトキ
シメチルシクロヘキシルメトキシ) 安息香酸−3,4−ジフルオロフェニルエステル(上記
〔化11〕の化合物No.9の合成) 実施例3と同様にして合成したトランス−4−(4’−
メトキシメチルシクロヘキシルメトキシ)安息香酸2.
65g及び3,4−ジフルオロフェノール1.49gを
塩化メチレン27mlに溶解し、ここにN,N−ジシク
ロヘキシルカルボジイミド2.36gを塩化メチレン3
mlに溶解した溶液を滴下した。室温で3時間撹拌後、
析出したN,N’−ジシクロヘキシル尿素をろ別した。
ろ液を脱溶媒後、生成物を酢酸エチル/n−ヘキサン
(2/8)を展開溶媒としてシリカゲルカラム処理を行
い、次いでエタノールで再結晶を行ない、白色結晶3.
4g(収率91%)を得た。 【0061】得られた白色結晶の赤外分光分析の結果は
下記の通りであり、白色結晶が目的物であることを確認
した。 2920cm-1、2860cm-1、1730cm-1、1
600cm-1、1510cm-1、1460cm-1、12
40cm-1、1200cm-1、1170cm-1、114
0cm-1、1100cm-1、1050cm-1、1030
cm-1、830cm-1 【0062】また、得られた目的物の相転移温度は下記
の通りであり、N−I点が高く、しかも液晶温度範囲が
40℃と著しく広い特徴をもっていた。 C−N点(64℃)、N−I点(104℃) 【0063】実施例7:4−シアノ−4’−(4”−メ
トキシメチルシクロヘキシルメトキシ)ビフェニル(上
記〔化12〕の化合物No. 10の合成) 実施例1の(1)で得られたトランス−4−メトキシメ
チルシクロヘキシルメタノール5.22g、4−シアノ
−4’−ヒドロキシビフェニル5.86g及びトリフェ
ニルホスフィン8.66gを乾燥ジエチルエーテル75
mlに溶解した。ここにアゾジカルボン酸ジイソプロピ
ル6.67gを滴下し、室温で3時間撹拌後、析出した
トリフェニルホスフィンをろ別した。ろ液を脱溶媒後、
生成物を酢酸エチル/n−ヘキサン(2/8)を展開溶
媒としてシリカゲルカラム処理を行ない、次いでメタノ
ールで再結晶を行ない、白色結晶4.0g(収率40
%)を得た。 【0064】得られた白色結晶の赤外分光分析の結果は
下記の通りであり、白色結晶が目的物であることを確認
した。 2920cm-1、2840cm-1、2210cm-1、1
600cm-1、1480cm-1、1460cm-1、12
90cm-1、1240cm-1、1170cm-1、111
0cm-1、1090cm-1、1060cm-1、830c
m-1 【0065】また、得られた目的物の相転移温度は下記
の通りであり、N−I点が高く、しかも液晶温度範囲が
63℃と著しく広い特徴をもっていた。 C−N点(125℃)、N−I点(188℃) 【0066】実施例8:トランス−4−(トランス−
4’−n−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキサンカ
ルボン酸−トランス−4−(4’−メトキシメチル)シ
クロヘキシルメトキシフェニルエステル(上記〔化1
7〕の化合物No. 15)の合成 実施例1の(3)で得られたトランス−4−(4’−メ
トキシメチルシクロヘキシルメトキシ)フェノール2.
5g及びトランス−4−(トランス−4’−n−ペンチ
ルシクロヘキシル)シクロヘキサンカルボン酸3.1g
を塩化メチレン30mlに溶解し、ここにN,N’−ジ
シクロヘキシルカルボジイミド2.3gを塩化メチレン
3mlに溶解した溶液を滴下した。室温で3時間撹拌
後、析出したN,N’−ジシクロヘキシル尿素をろ別し
た。ろ液を脱溶媒後、生成物を酢酸エチル/n−ヘキサ
ン(2/8)を展開溶媒としてシリカゲルカラム処理を
行ない、次いでエタノール/酢酸エチル(1/1)で再
結晶を行ない、白色結晶4.0g(収率78%)を得
た。 【0067】得られた白色結晶の赤外分光分析の結果は
下記の通りであり、白色結晶が目的物であることを確認
した。 2910cm-1、2840cm-1、1740cm-1、1
590cm-1、1500cm-1、1450cm-1、12
40cm-1、1200cm-1、1130cm-1、111
0cm-1、1040cm-1、990cm-1、840cm
-1 【0068】また、得られた目的物の相転移温度は下記
の通りであり、N−I点が高く、しかも液晶温度範囲が
78℃と著しく広い特徴をもっていた。 C−S点(94℃)、S−N点(200℃)、N−I点
(272℃) 【0069】実施例9 STN液晶素材として市販液晶Aを母液晶とし、上記実
施例1〜8 により得られた化合物を添加したときの特性
値を下記〔表1〕に示す。 【0070】尚、市販液晶Aは、下記〔化23〕に示す
組成を有する4−n−アルキルシクロヘキサンカルボン
酸アルコキシフェニルエステル系の組成物である。 【0071】〈市販液晶Aの組成〉 【0072】 【化23】 【0073】 【表1】【0074】上記〔表1〕から判る様に本発明の化合物
を一成分として加えることにより液晶組成物のNーI点
は大幅に上昇し、しかも、液晶材料の屈折率の異方性
(Δn)はほとんど変化しないことがわかる。 【0075】 【発明の効果】本発明のシクロヘキサンジメチル誘導体
は、ネマチック液晶材料に混合することにより、広い液
晶温度範囲を有し、液晶材料の屈折率の異方性(Δn)
を小さく維持したまま、N−I点を上昇させることがで
きるものである。
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項1】 下記〔化1〕の一般式(I)で表される
シクロヘキサンジメチル誘導体。 【化1】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20617493A JP3402678B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | シクロヘキサンジメチル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20617493A JP3402678B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | シクロヘキサンジメチル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0756132A JPH0756132A (ja) | 1995-03-03 |
| JP3402678B2 true JP3402678B2 (ja) | 2003-05-06 |
Family
ID=16519041
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20617493A Expired - Lifetime JP3402678B2 (ja) | 1993-08-20 | 1993-08-20 | シクロヘキサンジメチル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3402678B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6149990A (en) * | 1996-02-07 | 2000-11-21 | Chisso Corporation | Carboxylate derivatives comprising an ether group and liquid crystal composition comprising the same |
-
1993
- 1993-08-20 JP JP20617493A patent/JP3402678B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0756132A (ja) | 1995-03-03 |
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