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JP3420199B2 - Charged particle beam drawing apparatus and drawing method - Google Patents
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JP3420199B2 - Charged particle beam drawing apparatus and drawing method - Google Patents

Charged particle beam drawing apparatus and drawing method

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JP3420199B2
JP3420199B2 JP2000316747A JP2000316747A JP3420199B2 JP 3420199 B2 JP3420199 B2 JP 3420199B2 JP 2000316747 A JP2000316747 A JP 2000316747A JP 2000316747 A JP2000316747 A JP 2000316747A JP 3420199 B2 JP3420199 B2 JP 3420199B2
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recording
shot data
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隆幸 阿部
多喜二 石村
芳明 服部
智浩 飯島
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、荷電粒子ビーム描
画技術に係わり、特に可変成形ビーム方式の荷電粒子ビ
ーム描画装置及び描画方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a charged particle beam drawing technique, and more particularly to a variable shaped beam type charged particle beam drawing apparatus and a drawing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体パターンなどを描画する電
子ビーム描画装置において、形状として矩形や三角形を
有し、且つそれらの寸法を可変できる可変成形ビーム方
式が用いられている。この可変成形ビーム方式の電子ビ
ーム描画装置では、描画スループットの向上をはかるこ
とができる反面、次のような問題がある。
2. Description of the Related Art In recent years, in an electron beam drawing apparatus for drawing a semiconductor pattern or the like, a variable shaped beam system having a rectangle or a triangle as a shape and capable of varying the dimensions thereof has been used. Although this variable shaped beam electron beam drawing apparatus can improve drawing throughput, it has the following problems.

【0003】即ち、この種の装置では矩形ビームのみな
らず、斜線描画に対応した数種類の三角形ビームを形成
可能であり、ショットの形状が変わると、次のショット
のビーム照射までの時間(セトリングタイム)を長くす
る必要がある。また、この種の装置において図形データ
が入力された順番のまま描画する場合、ショットの形状
がランダムに変わる。そのため、長いセトリングタイム
が頻繁に使用され、描画全体のセトリングタイムが多大
なものとなる。
That is, this type of apparatus can form not only a rectangular beam but also several kinds of triangular beams corresponding to oblique line drawing, and when the shape of a shot changes, the time until the beam irradiation of the next shot (settling time). ) Needs to be long. Further, when drawing is performed in the same order as the graphic data is input in this type of apparatus, the shape of the shot changes randomly. Therefore, a long settling time is frequently used, and the settling time of the entire drawing becomes large.

【0004】このセトリングタイムの増加を抑える方法
として、ショットをその形状毎に分けて順番に描画して
いく方法が提案されている(登録−第2504434号
公報、J.Vac.Sci.Technol.B8(6),Nov/Dec 1990 pp.187
7)。しかしながら、これらの文献には、ショット形状
の分割をリアルタイムで(描画と同時に)実現し得る具
体的な方式は記述されていない。例えば、上記JVST
の文献には、リアルタイム処理する回路の記載はあるも
のの、これを実現する具体的記述は全くない。
As a method of suppressing the increase in the settling time, a method of dividing shots into respective shapes and sequentially drawing the shots has been proposed (Registered No. 2504434, J.Vac.Sci.Technol.B8). (6), Nov / Dec 1990 pp.187
7). However, these documents do not describe a specific method capable of realizing shot shape division in real time (at the same time as drawing). For example, the above JVST
Although there is a description of a circuit that performs real-time processing in the above document, there is no specific description for realizing this.

【0005】実際に、このような処理を実現する方法に
よっては、「並び替えを行うこと」によりムダ時間が発
生し得る。しかも、その無駄時間が並び替えによる描画
時間の短縮効果以上になる場合があり、そのような場合
には、並び替えをしない方が全体の描画時間が短くな
る。このように、ショット順番の並び替えによって、総
合的に描画時間の短縮の効果を得ることは容易ではな
い。
Actually, depending on the method for realizing such processing, wasteful time may occur due to "performing rearrangement". Moreover, the dead time may be more than the effect of reducing the drawing time due to the rearrangement. In such a case, the entire drawing time is shortened if the rearrangement is not performed. In this way, it is not easy to obtain the effect of shortening the drawing time comprehensively by rearranging the shot order.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このように従来、可変
成形ビーム方式の電子ビーム描画装置においては、ショ
ットの形状毎に分けて描画することが検討されている
が、ショットの並べ替えをリアルタイムに行うことはで
きなかった。また、ショットの並び替えを行うことによ
り無駄時間が発生し、この無駄時間が描画時間短縮の効
果を妨げる要因となっていた。
As described above, in the variable shaped beam electron beam drawing apparatus, it has been conventionally considered to draw the shots separately for each shape of the shots, but the shots are rearranged in real time. I couldn't do it. In addition, the rearrangement of shots causes dead time, which is a factor that hinders the effect of shortening the drawing time.

【0007】本発明は、上記事情を考慮して成されたも
ので、その目的とするところは、リアルタイムにショッ
トの並び替えを行うことができ、且つショットの並び替
えを行うことにより発生する無駄時間を抑えることがで
き、描画スループットの向上をはかり得る荷電粒子ビー
ム描画装置及び描画方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to be able to rearrange shots in real time, and to waste the waste caused by rearranging shots. It is an object of the present invention to provide a charged particle beam drawing apparatus and a drawing method that can suppress the time and improve the drawing throughput.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】(構成)上記課題を解決
するために本発明は、次のような構成を採用している。
(Structure) In order to solve the above problems, the present invention adopts the following structure.

【0009】即ち本発明は、可変成形ビーム方式の荷電
粒子ビーム描画装置において、描画すべき図形を分割し
たショットデータを所定の集合毎に発生するショットデ
ータ発生手段と、このショットデータ発生手段の出力結
果を受けて、ショットの形状毎にショットデータを振分
ける操作を前記集合毎に繰り返すショット形状振り分け
手段と、このショット形状振り分け手段により振り分け
られたショットの形状毎にショットデータを異なるメモ
リ領域に一時的に格納するための記録手段と、前記記録
手段内で前記集合の最後のショットデータであることを
示した情報を取り除く手段と、前記記録手段内でショッ
ト形状毎に前記集合内の最後のショットであることを示
す情報を付加する手段と、前記記録手段から同一集合に
対して所定の順番でショットの形状毎にショットデータ
を読み出す操作を前記集合毎に繰り返す手段とを具備し
てなり、前記ショット形状毎に読み出したショット順序
に従ってパターンを描画することを特徴とする。
That is, according to the present invention, in a charged particle beam drawing apparatus of a variable shaped beam system, shot data generating means for generating shot data for dividing a figure to be drawn for each predetermined set, and output of the shot data generating means. In response to the result, a shot shape allocating means for repeating the operation of allocating the shot data for each shot shape for each set, and the shot data for each shape of the shots allocated by this shot shape allocating means are temporarily stored in different memory areas. Recording means for temporarily storing the information, means for removing information indicating the last shot data of the set in the recording means, and the last shot in the set for each shot shape in the recording means. Means for adding information indicating that the same set from the recording means in a predetermined order The operation of reading the shot data for each shape of the shots will be and means for repeating for each of the set, characterized by drawing a pattern according shot sequence read for each of the shot shape.

【0010】また本発明は、可変成形ビーム方式の荷電
粒子ビーム描画方法において、描画すべき図形を分割し
たショットデータを所定の集合毎に発生する工程と、前
記集合の最後のショットデータであることを示した情報
を取り除く工程と、前記ショットデータをショットの形
状毎に振分ける操作を前記集合毎に繰り返す工程と、前
記振り分けられたショット形状毎に前記集合内の最後の
ショットであることを示す情報を付加する工程と、前記
ショットデータをショットの形状毎に異なるメモリ領域
に一時的に格納する工程と、前記メモリ領域から同一集
合に対して所定の順番でショットの形状毎にショットデ
ータを読み出す操作を前記集合毎に繰り返す工程と、前
記ショット形状毎に読み出したショット順序に従ってパ
ターンを描画する工程とを含むことを特徴とする。
According to the present invention, in the charged particle beam drawing method of the variable shaped beam system, a step of generating shot data for dividing a figure to be drawn for each predetermined set, and the last shot data of the set. The step of removing the information indicating, the step of repeating the operation of allocating the shot data for each shot shape, and the step of repeating the operation for each shot shape, showing that the shot is the last shot in the set Adding information, temporarily storing the shot data in different memory areas for each shot shape, and reading shot data for each shot shape in the same set from the memory area in a predetermined order. A pattern is drawn according to the step of repeating the operation for each set and the shot order read for each shot shape. Characterized in that it comprises a degree.

【0011】ここで、本発明の望ましい実施態様として
は次のものが挙げられる。 (1) 記録手段は、同時に入出力アクセス可能なデュアル
ポートメモリであること。
The following are preferred embodiments of the present invention. (1) The recording means shall be a dual port memory that allows simultaneous input / output access.

【0012】(2) 記録手段は、時間分割による入出力ア
クセス可能なメモリであること。より具体的には、メモ
リとして周辺回路の動作クロックの倍速のメモリ動作が
可能なものを用いることにより、1クロックの間に書き
込みと読み出しを行うことができ、実効的に同時に入出
力アクセス可能にする。
(2) The recording means is a memory which can be accessed by time division. More specifically, by using a memory capable of operating at a speed double that of the operation clock of the peripheral circuit, writing and reading can be performed in one clock, and effective simultaneous input / output access is possible. To do.

【0013】(3) 記録手段は、少なくとも2つに物理的
に別れていること。より具体的には、2つのメモリをバ
ンク切り替え可能に接続し、一方のメモリに書き込みを
行っている間に他方のメモリから読み出しを行うことに
より、実効的に同時に入出力アクセス可能にする。
(3) The recording means is physically separated into at least two. More specifically, two memories are connected so that banks can be switched, and while writing to one memory, reading from the other memory effectively enables simultaneous input / output access.

【0014】(4) 記録手段へのショットデータの書き込
みが全て完了した集合に対して、記録手段からの読み出
しを行うこと。
(4) Reading from the recording means is performed on a set in which all shot data has been written to the recording means.

【0015】(5) ショットデータの集合を記録手段より
小さい所定の大きさの仮想的な集合に分割する手段と、
分割された仮想的な集合の最後のショットデータを示す
情報を付加する手段とを備えたこと。
(5) means for dividing a set of shot data into a virtual set having a predetermined size smaller than the recording means,
And means for adding information indicating the last shot data of the divided virtual set.

【0016】(6) ビーム位置を決めるための主偏向器
と、主偏向器により決められた位置で小領域の描画を行
うための副偏向器とを備えており、所定の集合とは、副
偏向器により描画可能な小領域であるサブフィールドで
あること。
(6) A main deflector for determining the beam position and a sub-deflector for drawing a small area at the position determined by the main deflector are provided. The subfield is a small area that can be drawn by the deflector.

【0017】(7) 記録手段は、アクセスアドレスがリン
グ状態となるものであり、データの書き込み及び読み出
しをアドレス順に行い、且つ一旦読み出した領域はデー
タ書き込み可能にすること。
(7) The recording means is such that the access address is in a ring state, data is written and read in the order of addresses, and the area once read is made data writable.

【0018】(8) ショット形状毎に集合内の最後のショ
ットであることを示す情報を付加する手段として、ショ
ット形状毎の最終ショットデータの後に区切りデータを
付加すること。
(8) As a means for adding information indicating that it is the last shot in the set for each shot shape, delimiter data is added after the final shot data for each shot shape.

【0019】(作用)本発明によれば、上記の構成を採
用することにより、所定の集合で規定される描画の単
位、例えば副偏向器にて描画できる領域(サブフィール
ドと呼ぶ)を単位にして、ショット形状による描画順番
の並び替えが行われる。これは、次のように実現され
る。
(Operation) According to the present invention, by adopting the above configuration, the drawing unit defined by a predetermined set, for example, the area (called a subfield) that can be drawn by the sub-deflector is used as a unit. Then, the drawing order is rearranged according to the shot shape. This is achieved as follows.

【0020】サブフィールドにおいて元の図形は、複数
のショットに分割され、各ショットの情報(ショットデ
ータ)はその形状毎に振り分けられ記録手段の異なる領
域に書き込まれる。このとき、上記サブフィールドの最
終ショットを記録手段にセットした後、ショット形状毎
の各記録領域に、サブフィールドの終了を示す情報を記
入する。この情報を各記録領域にセットすることで、後
の出力制御の正常動作が保証される。
In the subfield, the original figure is divided into a plurality of shots, and the information (shot data) of each shot is sorted according to its shape and written in different areas of the recording means. At this time, after setting the final shot of the subfield to the recording means, information indicating the end of the subfield is written in each recording area for each shot shape. By setting this information in each recording area, the normal operation of the subsequent output control is guaranteed.

【0021】ショット形状毎に異なる記録領域を有する
記録手段には、上記のような書き込み手段に加えて、次
のような読み出し手段が備えられている。この読み出し
手段は、一つの“ショット形状(例えば、矩形のショッ
ト)の記録領域”に対して、上記サブフィールドの終了
の情報が認められるまで、その記録領域に書き込まれた
ショットの情報を読み出し、次の回路に送る。サブフィ
ールドの終了の情報が認められたときには、その“ショ
ット形状の記録領域”の読み出しを終了し、次の“ショ
ット形状の記録領域”(例えば、右下に直角がある直角
二等辺三角形)に対して読み出しを開始する。そして、
上記処理を繰り返す。このような処理を各ショット形状
の記録領域毎に対して全て繰り返す。また、このサブフ
ィールドの最後に出力するショットについて、それが最
終ショットであることを示す情報を付加する。
The recording means having a different recording area for each shot shape is provided with the following reading means in addition to the above-mentioned writing means. This reading means reads the information of the shots written in the recording area until the information of the end of the subfield is recognized in one "shot shape (for example, rectangular shot) recording area", Send to the next circuit. When the information of the end of the subfield is recognized, the reading of the "shot shape recording area" is completed, and the next "shot shape recording area" (eg, right-angled isosceles triangle with a right angle at the lower right) is read. Then, reading is started. And
The above process is repeated. Such a process is repeated for each recording area of each shot shape. Also, with respect to the shot output at the end of this subfield, information indicating that it is the final shot is added.

【0022】以上の手順を行うことによって、例えば初
めに矩形のショットの全て、次に右下に直角がある直角
二等辺三角形のショット全て、…というように、サブフ
ィールド毎に、ショットがその形状(図形コード)によ
って全て並び替えられることが保証される。
By performing the above procedure, for example, all the rectangular shots, and then all the isosceles right triangle shots having a right angle in the lower right corner are shot. All are guaranteed to be sorted by (graphic code).

【0023】また、この動作が正常に行われるために、
記録手段に格納できるショットの数を、上記サブフィー
ルド領域内に描画されるショットの最大の数よりも大き
くしている。サブフィールド領域内に描画されるショッ
トの最大の数が、記録手段に格納できるショット数より
も大きくなると上記動作が異常になるため、この場合は
次の処理を行う。
Further, since this operation is normally performed,
The number of shots that can be stored in the recording unit is set to be larger than the maximum number of shots drawn in the subfield area. If the maximum number of shots drawn in the subfield area becomes larger than the number of shots that can be stored in the recording unit, the above operation becomes abnormal. In this case, the following processing is performed.

【0024】即ち、各サブフィールド領域の処理におい
て、書き込み時にその処理したショットの数をカウント
して、そのショット数が所定の数に達した場合には、仮
想的にサブフィールド領域の処理を終了する操作を行
い、その際、各ショット形状毎の記憶手段に書き込むサ
ブフィールド領域の処理終了の情報は、真の終了情報と
異なる仮想終了情報とする。そして、読み出し手段で
は、各ショット形状毎の読み出し処理において仮想終了
情報を読み出した場合には、次のショット形状の記録手
段へ読み出しの制御を移す。しかし、このとき仮想的な
サブフィールド領域の最終ショットにはサブフィールド
領域の終了情報を付加しない。
That is, in the processing of each subfield area, the number of shots processed at the time of writing is counted, and when the number of shots reaches a predetermined number, the processing of the subfield area is virtually ended. Is performed, and at that time, the processing end information of the subfield area written in the storage unit for each shot shape is virtual end information different from the true end information. Then, in the reading means, when the virtual end information is read in the reading processing for each shot shape, the reading control is transferred to the recording means of the next shot shape. However, at this time, the end information of the subfield area is not added to the final shot of the virtual subfield area.

【0025】なお、上記の仮想的サブフィールド領域の
設定により残ったサブフィールド領域に対しても同様の
処理を行う。これにより、ショットデータの集合を記録
手段より小さい所定の大きさの仮想的な集合に分割する
ことが可能となる。
The same processing is performed on the subfield areas remaining after the setting of the virtual subfield areas. This makes it possible to divide the set of shot data into a virtual set of a predetermined size smaller than the recording means.

【0026】また、ショット形状毎の記録手段を、時間
分割による入出力の同時アクセスとするか、或いは少な
くとも2つ以上に物理的に分かれたものとすることによ
って、実効的に入出力アクセスを同時に(ハードウェア
の1クロックで)行うことを可能にしている。これによ
って、ショットの並び替えによる無駄時間の発生を抑
え、ショット形状毎の並び替えによる描画時間の短縮を
はかることができる。なお、記録手段として同時に入出
力アクセス可能なデュアルポートメモリを用いても同様
であるのは勿論である。
Further, by making the recording means for each shot shape simultaneous access of input / output by time division, or by physically dividing into at least two or more, the input / output access can be performed simultaneously effectively. It can be done (with one clock of hardware). As a result, it is possible to suppress the generation of dead time due to the rearrangement of shots and reduce the drawing time due to rearrangement for each shot shape. Needless to say, the same is true even if a dual port memory capable of simultaneous input / output access is used as the recording means.

【0027】上記のようなシステムが実現する系を模式
的に、図1に示す。
A system realized by the above system is schematically shown in FIG.

【0028】ショットデータの記録部として、ショット
形状毎のショットデータ格納メモリが例えば5個用意さ
れる。1つのサブフィールド内のショットデータ、或い
は仮想的なサブフィールド1つ分は、1つの格納メモリ
に格納できるようになっている。各々の格納メモリ内で
は、サブフィールドの区切り、或いは仮想的な区切りの
データ(図中のハッチングで示す)が挿入されている。
これは、ショットデータのメモリ制御回路部等によって
行われる。
For example, five shot data storage memories for each shot shape are prepared as a shot data recording section. Shot data in one subfield or one virtual subfield can be stored in one storage memory. Data (indicated by hatching in the figure) of subfield delimiters or virtual delimiters is inserted in each storage memory.
This is performed by the memory control circuit unit for shot data and the like.

【0029】記録部の前段には、サブフィールド毎に出
力されるショットデータを入力し、ショットの形状毎に
ショットデータを振分ける振り分け部が設けられる。こ
の振り分け部では、サブフィールド毎に上記振り分け操
作を繰り返す。また、最終ショット情報の処理として、
サブフィールドの最後のショットデータであることを示
した情報を取り除くようにしている。
In front of the recording unit, there is provided a distribution unit for inputting shot data output for each subfield and distributing shot data for each shot shape. The distribution unit repeats the distribution operation for each subfield. Also, as the processing of the final shot information,
Information indicating that it is the last shot data of the subfield is removed.

【0030】記録部の後段には、5つの格納メモリから
順番にショットデータを読み出す出力部が設けられる。
この出力部では、1つの格納メモリのデータを読み出
し、区切り或いは仮想区切りデータを読み出したら該メ
モリの読み出しを終了し、次の格納メモリに対してデー
タを読み出しを行うようにしている。つまり、区切り或
いは仮想区切りデータによって、出力時にショットデー
タの格納メモリの切り替えを行うことができる。
An output unit for sequentially reading shot data from the five storage memories is provided at the subsequent stage of the recording unit.
In this output unit, the data in one storage memory is read out, and when the delimiter or virtual delimiter data is read out, the reading out of the memory is ended, and the data is read out to the next storage memory. In other words, it is possible to switch the storage memory for shot data at the time of output depending on the delimiter or virtual delimiter data.

【0031】これによって、矩形、右下に直角を持った
直角二等辺三角形、…と、ショット形状毎にショットデ
ータが出力されることが保証される。また、格納メモリ
においてショットデータのアドレスはリング状にするこ
とによって、固定サイズ、有限なサイズのメモリ領域を
連続して利用可能としている。
This guarantees that shot data is output for each shot shape, such as a rectangle, an isosceles right triangle having a right angle at the lower right. Further, by making the address of the shot data ring-shaped in the storage memory, a fixed-size and finite-size memory area can be continuously used.

【0032】[0032]

【発明の実施の形態】以下、本発明の詳細を図示の実施
形態によって説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The details of the present invention will be described below with reference to the illustrated embodiments.

【0033】(第1の実施形態)図2は、本発明の第1
の実施形態に使用した電子ビーム描画装置を示す概略構
成図である。
(First Embodiment) FIG. 2 shows a first embodiment of the present invention.
It is a schematic block diagram which shows the electron beam drawing apparatus used for the embodiment.

【0034】図中10は試料室、11はターゲット(試
料)、12は試料台、20は電子光学鏡筒、21は電子
銃、22a〜22eは各種レンズ系、23はブランキン
グ板、24〜26は各種偏向系、27a,27b,27
cはビーム成形用アパーチャマスクを示している。ま
た、31は試料台駆動回路部、32はレーザ測長系、3
3は偏向制御回路部、34はブランキング制御回路部、
35は可変成形ビーム寸法制御回路、36は並び替え回
路及び描画用制御回路部、37は制御計算機、38はデ
ータ変換用計算機、39はCADシステムを示してい
る。
In the figure, 10 is a sample chamber, 11 is a target (sample), 12 is a sample stand, 20 is an electron optical lens barrel, 21 is an electron gun, 22a to 22e are various lens systems, 23 is a blanking plate, and 24 to. 26 is various deflection systems, 27a, 27b, 27
Reference numeral c indicates an aperture mask for beam shaping. Further, 31 is a sample table drive circuit section, 32 is a laser measuring system, 3
3 is a deflection control circuit unit, 34 is a blanking control circuit unit,
Reference numeral 35 is a variable shaped beam size control circuit, 36 is a rearrangement circuit and drawing control circuit section, 37 is a control computer, 38 is a data conversion computer, and 39 is a CAD system.

【0035】本実施形態の電子ビーム描画装置は、ステ
ージ連続移動方式を採用している。即ち、ステージを連
続に移動させながら、ビームを偏向してビーム位置を制
御しながら図形パターンを描画する。この1回のステー
ジ連続移動で描画する幅数mmの帯状の領域をフレーム
と呼ぶ。目的の図形パターンは、このような連続移動方
向(X方向)の描画を垂直方向(Y方向)に繰り返すこ
とで全て描画されることになる。連続移動中、ビームの
位置制御は主偏向器25と副偏向器26とによって行わ
れる。
The electron beam drawing apparatus of this embodiment adopts a stage continuous movement system. That is, while moving the stage continuously, the beam is deflected and the beam position is controlled to draw a graphic pattern. A band-shaped region having a width of several mm, which is drawn by the continuous movement of the stage once, is called a frame. The target graphic pattern is all drawn by repeating such drawing in the continuous movement direction (X direction) in the vertical direction (Y direction). During continuous movement, beam position control is performed by the main deflector 25 and the sub deflector 26.

【0036】副偏向器26は、60μm□程度の領域
(これをサブフィールドと呼ぶ)で、ビームの位置を制
御する。サブフィールドの位置決めは、主偏向器25に
よって行い、この主偏向位置決め可能な範囲が、前記フ
レームの幅(若しくは言い換えて、高さ)を決めてい
る。つまり、主偏向器25によってサブフィールドの位
置決めを行い、副偏向器26によってサブフィールドの
描画を行うようになっている。
The sub-deflector 26 controls the beam position in an area of about 60 μm □ (this is called a subfield). The sub-field is positioned by the main deflector 25, and the range in which the main deflection can be positioned determines the width (or in other words, the height) of the frame. In other words, the main deflector 25 positions the subfield, and the subdeflector 26 draws the subfield.

【0037】電子銃21から放出された電子ビームはブ
ランキング用偏向器23によりON−OFFされる。本
装置は、この際の照射時間を調整することにより、照射
位置に応じて照射量を変化させることを可能としてい
る。ブランキング板27aを通過したビームは、ビーム
成形用偏向器24及びビーム成形用アパチャマスク27
b,27cにより矩形ビームや三角形ビームに成形さ
れ、またその矩形や三角形の寸法が可変される。そし
て、この成形されたビームは主偏向器25,副偏向器2
6によりターゲット11上で偏向走査され、このビーム
走査によりターゲット11に所望パターンが描画される
こととなっている。
The electron beam emitted from the electron gun 21 is turned on and off by the blanking deflector 23. The present apparatus makes it possible to change the irradiation amount according to the irradiation position by adjusting the irradiation time at this time. The beam that has passed through the blanking plate 27 a is deflected by the beam forming deflector 24 and the beam forming aperture mask 27.
A rectangular beam and a triangular beam are formed by b and 27c, and the dimensions of the rectangular and triangular beams are variable. The shaped beam is used for the main deflector 25 and the sub-deflector 2.
Deflection scanning is performed on the target 11 by 6, and a desired pattern is drawn on the target 11 by this beam scanning.

【0038】なお、本装置での電子ビームの加速電圧は
50kVであり、また発生し得る可変成形ビームの最大
サイズは高さ2μm,幅2μmの矩形である。
The accelerating voltage of the electron beam in this apparatus is 50 kV, and the maximum size of the variable shaped beam that can be generated is a rectangle having a height of 2 μm and a width of 2 μm.

【0039】図3に、並び替え回路及び描画用制御回路
部36のブロック図を示す。図中40は、ショットデー
タ発生回路部、41は最終ショットデータ処理回路部、
42はメモリ制御回路部、43は5つの記録メモリ43
a〜43eからなる記録部である。各回路部の入出力動
作は10MHzで動作し、即ち1クロック=100n秒
毎にショットを受け取り、パイプライン方式で、並び替
えしたショットを1クロック100n秒毎に各回路部か
ら出力する。但し、ショット形状毎の記録手段(本実施
形態ではメモリ)への書き込みと読み出しを実効的に1
クロックで実現するため、メモリアクセス回路は上記1
0MHzの倍速20MHzで動作させている。
FIG. 3 shows a block diagram of the rearrangement circuit and drawing control circuit section 36. In the figure, 40 is a shot data generation circuit section, 41 is a final shot data processing circuit section,
42 is a memory control circuit unit, 43 is five recording memories 43
The recording unit includes a to 43e. The input / output operation of each circuit unit operates at 10 MHz, that is, the shots are received every 1 clock = 100 nsec, and the shots rearranged are output from each circuit unit every 100 nsec per clock by the pipeline method. However, writing / reading to / from the recording unit (memory in this embodiment) for each shot shape is effectively 1
Since it is realized by a clock, the memory access circuit has the above 1
It is operated at 20 MHz, which is double the speed of 0 MHz.

【0040】図形データの流れより、各回路部の動作を
以下の通り説明する。CADシステム39で作成された
LSIパターンデータをデータ変換用計算機38に投入
して、図形データヘのデータ変換を行う。作成された図
形データを制御計算機37に転送する。次に、制御計算
機37から図形データをショットデータ発生回路部40
に転送する。
The operation of each circuit unit will be described below from the flow of graphic data. The LSI pattern data created by the CAD system 39 is input to the data conversion computer 38 to convert the data into graphic data. The created graphic data is transferred to the control computer 37. Next, the graphic data is sent from the control computer 37 to the shot data generating circuit unit 40.
Transfer to.

【0041】ショット発生回路部40では、入力した図
形データから図4に示すような、矩形50と、4種類の
三角形51〜54のショットに対応した図形コードと、
各ショットの寸法データ(X,Y)と、ショットを照射
する位置データ(X,Y)を持つショットデータを発生
させる。このとき発生したショットの寸法は、可変成形
ビームの最大サイズに制限を受ける。ここでは、幅がX
に対応し、高さがYに対応する。
In the shot generation circuit section 40, a figure code corresponding to shots of a rectangle 50 and four types of triangles 51 to 54 as shown in FIG.
Shot data having dimension data (X, Y) of each shot and position data (X, Y) for irradiating the shot is generated. The size of the shot generated at this time is limited by the maximum size of the variable shaped beam. Here, the width is X
And the height corresponds to Y.

【0042】また、ショットデータは、サブフィールド
毎にまとめられたグループを構成し、サブフィールドの
最終ショットには最終ショットである情報のコードが追
加される。これによって、異なるサブフィールドに所属
するショットデータの流れる順番が混ざり合うことが抑
えられている。次に、ショットデータは、最終ショット
データ処理回路部41に送られる。
The shot data constitutes a group grouped for each sub-field, and a code of information which is the final shot is added to the final shot of the sub-field. As a result, it is possible to prevent the order in which shot data belonging to different subfields flow from being mixed. Next, the shot data is sent to the final shot data processing circuit unit 41.

【0043】最終ショットデータ処理回路部41が行う
処理は、サブフィールドの最終ショットデータに関する
処理と、仮想的なサブフィールド分割処理の2種の処理
である。サブフィールドの最終ショットデータに関する
処理は、次のようなものである。
The processing performed by the final shot data processing circuit section 41 is two types of processing, that is, processing relating to final shot data of subfields and virtual subfield division processing. The processing for the final shot data of the subfield is as follows.

【0044】(1) サブフィールド内で最終となるショッ
トデータを判別する。 (2) 最終ショットの場合には、そのショットに付加され
ている「最終ショットを示す情報のコード」を削除す
る。
(1) Determine the final shot data in the subfield. (2) In the case of the final shot, the "code of information indicating the final shot" added to the shot is deleted.

【0045】(3) 最終ショットデータを受け取ったの
ち、サブフィールド区切りデータ(ダミーデータ)を5
個順番に作成し、これらを次の回路に送る。このサブフ
ィールド区切りデータは、各ショット形状毎の記録メモ
リ内で、サブフィールドの終了を示すためのデータとな
る。上記5個は、並び替えをするショット形状の5種類
に対応しており、またショット形状毎の記録メモリの5
種類に対応している。ここで、5種類のサブフィールド
区切りデータはそれぞれ、矩形のショット形状のコー
ド、直角二等辺三角形4種のショット形状のコードを持
つ。しかし、区切りデータであることを示す情報は、シ
ョットデータ中のショット形状のコードとは異なる制御
コードとして、“10”と記されている。
(3) Subfield delimiter data (dummy data) is set to 5 after receiving the final shot data.
Create them one by one and send them to the next circuit. The subfield delimiter data is data for indicating the end of the subfield in the recording memory for each shot shape. The above 5 pieces correspond to 5 kinds of shot shapes to be rearranged, and 5 pieces of the recording memory for each shot shape.
It corresponds to the type. Here, each of the five types of subfield delimiter data has a rectangular shot shape code and four right isosceles triangle four types of shot shape codes. However, the information indicating the delimiter data is written as "10" as a control code different from the shot shape code in the shot data.

【0046】また、仮想的なサブフィールド分割処理は
次のようなものである。 (1) 現在処理中のサブフィールドについて、最終ショッ
トデータ処理回路部41に入力されたショットの数をカ
ウントする。
Further, the virtual subfield division processing is as follows. (1) Count the number of shots input to the final shot data processing circuit unit 41 for the subfield currently being processed.

【0047】(2) 上記カウント数が8000個となった
ら、最終ショットデータ処理回路部41への入力を中止
し、仮想的なサブフィールド区切りデータ(仮想ダミー
データ)を5個順番に作成し、次の回路に送る。ここ
で、仮想的なサブフィールド区切りデータは、サブフィ
ールド区切りデータと同様に5種類のショットコードを
持っており、各々にセットされる「仮想的なサブフィー
ルド区切り」を示す制御コードは“11”と記され、
「実際のサブフィールド区切り」の制御コードの“1
0”とは異なる値がセットされる。
(2) When the count number reaches 8000, the input to the final shot data processing circuit unit 41 is stopped, and virtual subfield delimiter data (virtual dummy data) is created in order of five, Send to the next circuit. Here, the virtual subfield delimiter data has five types of shot codes similarly to the subfield delimiter data, and the control code indicating the “virtual subfield delimiter” set in each is “11”. Is written,
Control code "1" for "actual subfield delimiter"
A value different from 0 "is set.

【0048】ここで、仮想的な区切りとした値(=80
00)は、最終ショットデータ処理回路部41のレジス
タ内に制御計算機37からセットされたものである。こ
の値(=8000)は、ショット形状毎の記録メモリに
記録できるショット数の上限(=10000)よりも小
さい値として設定してある。次に、上記最終ショットデ
ータ処理回路部41の出力はレジスタAAAにセットさ
れる。
Here, a value (= 80) which is a virtual delimiter
00) is set in the register of the final shot data processing circuit unit 41 from the control computer 37. This value (= 8000) is set as a value smaller than the upper limit (= 10000) of the number of shots that can be recorded in the recording memory for each shot shape. Next, the output of the final shot data processing circuit unit 41 is set in the register AAA.

【0049】メモリ制御回路部42は、最終ショットデ
ータ処理回路部41からの出力が格納されるレジスタA
AAと、出力用レジスタBBBとにアクセスする。メモ
リ制御回路部42は、ショット形状毎の記録メモリ43
a〜43eに対する制御回路であり、次のことを行う。
The memory control circuit section 42 has a register A in which the output from the final shot data processing circuit section 41 is stored.
Access AA and output register BBB. The memory control circuit unit 42 includes a recording memory 43 for each shot shape.
It is a control circuit for a to 43e and performs the following.

【0050】(1) レジスタAAAのショットデータを取
り込み、ショット形状毎の記録メモリにショットデータ
を振り分け、格納する。このとき、ショットデータ内の
ショット形状のコードを読みとって、どの記録メモリに
格納すべきかを算出する。また、各記録メモリのどこま
でショットデータが記録されているかを制御している。
直前までにショットデータを格納したアドレスの次のア
ドレスに、上記レジスタAAAにあるショットデータを
格納する。
(1) The shot data in the register AAA is fetched, and the shot data is sorted and stored in the recording memory for each shot shape. At this time, the code of the shot shape in the shot data is read and the recording memory to be stored is calculated. It also controls how much shot data is recorded in each recording memory.
The shot data stored in the register AAA is stored at the address next to the address at which the shot data was stored until immediately before.

【0051】(2) 一方、出力用レジスタBBBに対し
て、次のことを行っている。
(2) On the other hand, the following is performed on the output register BBB.

【0052】(イ)ショット形状毎の記録メモリ内のデ
ータを順に読み込み、それが普通のショットデータであ
れば、本回路42の内部のレジスタCCCに書き込む。
この制御は、本回路42の内部に「ショット形状毎のシ
ョットデータ記録メモリ」のための読み込み用アドレス
計算回路と計算結果を保存するメモリを保持し、また形
状毎の「ショット形状毎の記録メモリ」の切り替え機能
を持つことで実現されている。このレジスタCCCに一
次記録されたデータは、次のデータがサブフィールド区
切りデータ等ではなく、ショットのデータであれば、外
部のレジスタBBBに出力される。
(B) The data in the recording memory for each shot shape is sequentially read, and if it is ordinary shot data, it is written in the register CCC inside the circuit 42.
This control holds a read address calculation circuit for the “shot data recording memory for each shot shape” and a memory for storing the calculation result inside the circuit 42, and a “recording memory for each shot shape” for each shape. It is realized by having a switching function. The data primarily recorded in the register CCC is output to the external register BBB if the next data is shot data instead of subfield delimiter data.

【0053】(ロ)もし、そのショット形状毎の記録メ
モリ内のショットデータが、サブフィールドの区切りデ
ータであれば、その記録メモリの読み出しを終了し、次
の記録メモリの読み出しを開始する。もし、そのとき処
理していた記録メモリが最後の記録メモリ43eであれ
ば、本回路42の内部レジスタCCCに格納したショッ
トデータはこのサブフィールドの最後のショットである
ので、このショットデータには、サブフィールドの最後
のショットを表す制御コードを付加して、出力用レジス
タBBBに書き出す。その後、次のサブフィールドデー
タの処理を開始するため、再び最初の記録メモリ43a
からの読み込みを開始する。
(B) If the shot data in the recording memory for each shot shape is the subfield delimiter data, the reading of the recording memory is ended and the reading of the next recording memory is started. If the recording memory being processed at that time is the last recording memory 43e, the shot data stored in the internal register CCC of the circuit 42 is the last shot of this subfield. A control code representing the last shot of the subfield is added and written to the output register BBB. After that, in order to start the processing of the next subfield data, the first recording memory 43a is restarted.
Start reading from.

【0054】(ハ)もし、記録メモリ内のショットデー
タが、仮想サブフィールドの区切りデータであれば、そ
の記録メモリの読み出しを終了し、次の記録メモリの読
み出しを開始する。もし、そのとき処理していた記録メ
モリが最後の記録メモリ43eであれば、現在処理中の
サブフィールドの残り部分を処理するために、記録メモ
リ43aの読み込みを開始する。
(C) If the shot data in the recording memory is the delimiter data of the virtual subfield, the reading of the recording memory is ended and the reading of the next recording memory is started. If the recording memory being processed at that time is the last recording memory 43e, reading of the recording memory 43a is started in order to process the remaining part of the subfield currently being processed.

【0055】なお、上記の各記録メモリヘのアドレスの
制御では読み出し,書き込み共に、アドレスを15ビッ
トで表現処理している。アドレスの上限となる32k−
1(k=1024)番地を越えたときには、アドレスの
0番地にアクセスするようになっている。これによっ
て、32kのメモリをリングバッファとして繰り返し使
用できるようにしてある。ここで、このメモリ制御回路
部42は、1クロック(100n秒)の問に、同一記録
メモリに対して書き込みと読み出しが同時に発生する場
合があるため、周辺回路の動作クロック(10MHz)
の倍速(20MHz)で動作を行っている。上記出力用
レジスタBBBに格納されたデータは、次の回路に送ら
れる。
In the control of the address to each recording memory, the address is expressed by 15 bits for both reading and writing. 32k-which is the upper limit of the address
When the address exceeds 1 (k = 1024), the address 0 is accessed. This allows the 32k memory to be used repeatedly as a ring buffer. Here, since the memory control circuit unit 42 may write and read simultaneously to and from the same recording memory in response to one clock (100 nsec), the operating clock of the peripheral circuit (10 MHz)
It operates at double speed (20 MHz). The data stored in the output register BBB is sent to the next circuit.

【0056】このようにして送られたショットデータ
は、各サブフィールド毎に最初は矩形ショットのみ、次
は右下に直角を持つ直角二等辺三角形、…という形で、
ショット形状毎に取りまとめられて順に流れていくこと
になる。
The shot data sent in this manner is, for each sub-field, initially a rectangular shot only, and then a right isosceles triangle having a right angle at the lower right, ...
The shot shapes are collected and flowed in order.

【0057】上記ショットデータは、描画用制御回路の
各種回路を通り、最終的に描画を制御する回路に受け取
られる。この回路では、例えばショットの形状を記憶し
ながら、ショット間の待ち時間を制御する。これは、 (1)直前のショットデータの形状と今回のショットデ
ータの形状が同じならば、待ち時間T1(例えば50n
秒)、異なれば、T2(200n秒)とする。 (2)直前のショットの位置と今回のショットの位置と
の差(δx)から、仮の待ち時間を、ある関数fを用い
て、f(δx)で決める。 (3)(1)で得た時間(T1或いはT2)と、(2)
で得たf(δx)を比較して大きい方をショットの待ち
時間とする。
The shot data passes through various circuits of the drawing control circuit and is finally received by the circuit which controls drawing. In this circuit, for example, the waiting time between shots is controlled while memorizing the shape of the shot. (1) If the shape of the immediately preceding shot data and the shape of the current shot data are the same, the waiting time T1 (for example, 50n
Sec), if different, T2 (200 nsec). (2) From the difference (δx) between the position of the previous shot and the position of the current shot, a temporary waiting time is determined by f (δx) using a certain function f. (3) The time (T1 or T2) obtained in (1) and (2)
The f (δx) obtained in step 1 is compared and the larger one is set as the shot waiting time.

【0058】ショットデータの流れは、既述の処理によ
って、ショットの形状毎に並べ直され、形状毎に連続し
ている。そのため、上記(1)では、殆ど、T1(50
n秒)が選択されることになる。そのため、実効的に1
ショットの成形にかかる待ち時間を平均して最小の値5
0n秒にできる。但し、(3)で示すようにf(δx)
と比較して大きい方が、ショットの待ち時間になるた
め、必ずしも最小の値50n秒になるわけではない。し
かし、反対に長いT2時間を設定する回数が最小になる
ことで、時間の短縮が必ず生じることになる。
The flow of shot data is rearranged for each shape of the shot by the above-described processing, and is continuous for each shape. Therefore, in (1) above, T1 (50
n seconds) will be selected. Therefore, effectively 1
The minimum value of the waiting time for forming shots is 5
Can be 0 nsec. However, as shown in (3), f (δx)
The larger the value, the smaller the waiting time for the shot, and thus the minimum value is not necessarily 50 ns. However, on the contrary, the number of times of setting the long T2 time is minimized, so that the time is necessarily shortened.

【0059】上記の処理を実現した場合に、ショットデ
ータをその図形コードで振り分けた時の処理時間と振り
分けなかったときの処理時間を比較して、短縮された時
間の割合を、図5に示す。ここで、1ショットの成形に
かかる待ち時間の短い方をT1=50n秒とし、長い方
をT2=200n秒とし、照射量を10μC/cm2
する。矩形のショットデータがサブフィールド内に含ま
れる割合を横軸とし、短縮された時間の割合を縦軸とす
る。このとき、4種類の三角形の個数はそれぞれ同じと
する。
When the above processing is realized, the processing time when the shot data is distributed by the graphic code is compared with the processing time when the shot data is not distributed, and the ratio of the shortened time is shown in FIG. . Here, the shorter waiting time for one shot molding is T1 = 50 ns, the longer waiting time is T2 = 200 ns, and the irradiation dose is 10 μC / cm 2 . The horizontal axis represents the proportion of rectangular shot data included in the subfield, and the vertical axis represents the proportion of the shortened time. At this time, the number of four types of triangles is the same.

【0060】図にあるように、矩形の割合が50%まで
は約15%の短縮の効果があり、矩形の割合が増加する
と共に短縮の効果が減少する特徴を示す。矩形の割合が
100%では、全て同じショット形状であるため、成形
の待ち時間が全て短いT1時間であり、時間短縮は0で
ある。つまり、本実施形態では、矩形の割合が50%以
下の場合に特に有効であると言える。
As shown in the drawing, there is a reduction effect of about 15% up to a rectangle ratio of 50%, and the feature is that the reduction effect decreases as the rectangle ratio increases. When the rectangular ratio is 100%, the shot shapes are all the same, so that the waiting time for molding is all T1 hours and the time reduction is 0. That is, it can be said that the present embodiment is particularly effective when the ratio of the rectangle is 50% or less.

【0061】このように本実施形態によれば、描画に先
立って、図形コードによってショットデータの描画順番
を並び替えることがリアルタイムで実現できる。従っ
て、同じ図形コードを持つショットが並んだ場合より長
いセトリングタイムになる異種の図形コードに切り換わ
る回数が減少するため(全体のショット数に変化が無い
から、相対的に同種の図形コードに切り換わる回数が増
える)、描画全体でトータルのセトリングタイムを減少
させることができる。これによって、描画時間を短縮で
き、電子ビーム描画装置の生産性を向上させることがで
きる。
As described above, according to this embodiment, the drawing order of the shot data can be rearranged by the graphic code in real time before the drawing. Therefore, the number of times of switching to a different type of figure code that has a longer settling time than when shots with the same figure code are arranged is reduced (since there is no change in the total number of shots, it is possible to switch to a figure code of the same type relatively. It is possible to reduce the total settling time for the entire drawing. Thereby, the drawing time can be shortened and the productivity of the electron beam drawing apparatus can be improved.

【0062】(第2の実施形態)図6は、本発明の第2
の実施形態に係わる電子ビーム描画装置の要部構成を説
明するためのもので、並び替え回路及び描画用制御回路
部を示すブロック図である。なお、図3と同一部分には
同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
(Second Embodiment) FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a block diagram illustrating a rearrangement circuit and a drawing control circuit unit for explaining the main configuration of the electron beam drawing apparatus according to the embodiment. The same parts as those in FIG. 3 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0063】図中45は振り分け回路部、46は5つの
記録メモリ46a〜46eからなる記録部、47は出力
切り換え回路部である。第1の実施形態との相違点とし
て、記録メモリ46a〜46eにデュアルポートメモリ
を用いている。振り分け回路部45は、ショットデータ
のショット形状(図形コード)に基づいて対応した記録
メモリヘショットデータを振り分ける。出力切り換え回
路部47は、内部にレジスタB,Cを持ち、記録メモリ
からの読み出しにおいてサブフィールドの区切りを起点
に切り換えを行い、レジスタB,Cを使ってサブフィー
ルドの最後を示す情報の再設定処理を行っている。
In the figure, reference numeral 45 is a distribution circuit section, 46 is a recording section composed of five recording memories 46a to 46e, and 47 is an output switching circuit section. As a difference from the first embodiment, dual port memories are used as the recording memories 46a to 46e. The distribution circuit unit 45 distributes the shot data to the corresponding recording memory based on the shot shape (graphic code) of the shot data. The output switching circuit unit 47 has registers B and C therein, performs switching from a subfield delimiter in reading from the recording memory, and resets information indicating the end of the subfield using the registers B and C. It is processing.

【0064】このような構成であれば、記録部46とし
てデュアルポートメモリを用いているため、メモリアク
セスの動作を他の各回路部の入出力動作と同じにして
も、ショット形状毎の記録手段(本実施形態ではメモ
リ)への書き込みと読み出しを実効的に1クロックで実
現することができる。従って、第1の実施形態と同様の
効果が得られる。
With such a configuration, since the dual port memory is used as the recording unit 46, even if the memory access operation is the same as the input / output operation of each other circuit unit, the recording means for each shot shape is used. Writing and reading to (memory in this embodiment) can be effectively realized in one clock. Therefore, the same effect as that of the first embodiment can be obtained.

【0065】(第3の実施形態)図7は、本発明の第3
の実施形態に係わる電子ビーム描画装置の要部構成を説
明するためのもので、並び替え回路及び描画用制御回路
部を示すブロック図である。なお、図3と同一部分には
同一符号を付して、その詳しい説明は省略する。
(Third Embodiment) FIG. 7 shows a third embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a block diagram illustrating a rearrangement circuit and a drawing control circuit unit for explaining the main configuration of the electron beam drawing apparatus according to the embodiment. The same parts as those in FIG. 3 are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0066】図中48,49は記録部であり、各々の記
録部48,49はそれぞれ記録メモリ48a〜48eと
記録メモリ49a〜49eからなる。第2の実施形態と
の相違点は、2つの記録部48,49をバンク切り換え
でアクセスするようにしたことである。
In the figure, reference numerals 48 and 49 are recording sections, and the respective recording sections 48 and 49 are composed of recording memories 48a to 48e and recording memories 49a to 49e, respectively. The difference from the second embodiment is that the two recording units 48 and 49 are accessed by bank switching.

【0067】このような構成であれば、記録手段として
の2つの記録部48,49をバンク切り換えるようにし
ているので、一方の記録部からデータを読み出す時に他
方の記録部にデータを書き込むことができ、これにより
ショット形状毎の記録手段(本実施形態ではメモリ)へ
の書き込みと読み出しを実効的に1クロックで実現する
ことができる。つまり、記録メモリをバンク切り換えで
アクセスすることにより、同時入出力アクセスができな
いメモリであっても、周辺回路部分と同じ動作速度でア
クセスすることが可能となる。
With such a configuration, the two recording units 48 and 49 as the recording means are switched between banks, so that when data is read from one recording unit, data can be written to the other recording unit. Therefore, writing and reading to / from the recording unit (memory in this embodiment) for each shot shape can be effectively realized in one clock. In other words, by accessing the recording memory by bank switching, even a memory that cannot perform simultaneous I / O access can be accessed at the same operation speed as the peripheral circuit portion.

【0068】なお、本発明は上述した各実施形態に限定
されるものではない。実施形態では、電子ビーム描画装
置に適用した例を説明したが、これに限らずイオンビー
ム描画装置に適用することも可能である。また、記録メ
モリの数は5つに何ら限定されるものではなく、成形す
る図形種の数に応じて適宜変更可能である。その他、本
発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施する
ことができる。
The present invention is not limited to the above embodiments. In the embodiment, the example applied to the electron beam writing apparatus has been described, but the present invention is not limited to this and can be applied to the ion beam writing apparatus. Further, the number of recording memories is not limited to five at all, and can be appropriately changed according to the number of graphic types to be formed. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

【0069】[0069]

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、可
変成形ビーム方式の荷電粒子ビーム描画装置において、
所定の集合単位でショットの形状毎にショットデータを
振分ける手段、ショットの形状毎にショットデータを異
なるメモリ領域に格納する記録手段、記録手段から同一
集合に対して所定の順番でショットの形状毎にショット
データを読み出す手段等を設けることにより、描画に先
立って、図形コードによってショットデータの描画順番
を並び替えることをリアルタイムで実現することができ
る。しかも、ショットの並び替えを行うことにより発生
する無駄時間を極力抑えることができる。従って、可変
成形ビームを用いた場合の描画スループットの向上をは
かることができる。
As described above in detail, according to the present invention, in the charged particle beam drawing apparatus of the variable shaped beam system,
A means for allocating shot data for each shot shape in a predetermined set unit, a recording means for storing shot data in different memory areas for each shot shape, and a shot shape for each shot shape in the same set from the recording means. By providing a means for reading the shot data, etc., the drawing order of the shot data can be rearranged by the graphic code in real time prior to drawing. In addition, it is possible to minimize the dead time generated by rearranging the shots. Therefore, it is possible to improve the drawing throughput when the variable shaped beam is used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の処理体系を示す模式図。FIG. 1 is a schematic diagram showing a processing system of the present invention.

【図2】第1の実施形態に使用した電子ビーム描画装置
を示す概略構成図。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing an electron beam drawing apparatus used in the first embodiment.

【図3】第1の実施形態における並び替え回路及び描画
用制御回路部の具体的構成を示すブロック図。
FIG. 3 is a block diagram showing a specific configuration of a rearrangement circuit and a drawing control circuit unit according to the first embodiment.

【図4】図2の装置で形成可能な各種ショットデータの
例を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing an example of various shot data that can be formed by the apparatus of FIG.

【図5】第1の実施形態における処理時間の短縮の割合
を示す図。
FIG. 5 is a diagram showing a rate of reduction in processing time in the first embodiment.

【図6】第2の実施形態における並び替え回路及び描画
用制御回路部の具体的構成を示すブロック図。
FIG. 6 is a block diagram showing a specific configuration of a rearrangement circuit and a drawing control circuit unit according to the second embodiment.

【図7】第3の実施形態における並び替え回路及び描画
用制御回路部の具体的構成を示すブロック図。
FIG. 7 is a block diagram showing a specific configuration of a rearrangement circuit and a drawing control circuit unit according to the third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…試料室 11…ターゲット(試料) 12…試料台 20…電子光学鏡筒 21…電子銃 22a〜22e…レンズ系 23…ブランキング板 24〜26…偏向系 27a〜27c…ビーム成形用アパーチャマスク 31…試料台駆動回路部 32…レーザ測長系 33…偏向制御回路部 34…ブランキング制御回路部 35…可変成形ビーム寸法制御回路部 36…並び替え回路及び描画用制御回路部 37…制御計算機 38…データ変換用計算機 39…CADシステム 40…ショットデータ発生回路部 41…最終ショットデータ処理回路部 42…メモリ制御回路部 43,46,48,49…記録部 43a〜e,46a〜e,48a〜e,49a〜e…記
録メモリ 45…振り分け回路部 47…出力切り換え回路部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Sample chamber 11 ... Target (sample) 12 ... Sample stand 20 ... Electron optical lens barrel 21 ... Electron guns 22a-22e ... Lens system 23 ... Blanking plates 24-26 ... Deflection systems 27a-27c ... Beam shaping aperture mask 31 ... Sample stage drive circuit unit 32 ... Laser length measurement system 33 ... Deflection control circuit unit 34 ... Blanking control circuit unit 35 ... Variable shaping beam size control circuit unit 36 ... Sorting circuit and drawing control circuit unit 37 ... Control computer 38 ... Data conversion computer 39 ... CAD system 40 ... Shot data generation circuit section 41 ... Final shot data processing circuit section 42 ... Memory control circuit sections 43, 46, 48, 49 ... Recording sections 43a-e, 46a-e, 48a -E, 49a-e ... Recording memory 45 ... Distribution circuit section 47 ... Output switching circuit section

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 服部 芳明 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 飯島 智浩 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株式会社東芝研究開発センター内 (56)参考文献 特開 昭63−133525(JP,A) 特開 昭61−43419(JP,A) 特開 平5−343304(JP,A) 特開 平4−162710(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027 G03F 7/20 504 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Yoshiaki Hattori 1 Komukai Toshiba-cho, Sachi-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Toshiba Research & Development Center Co., Ltd. (72) Inventor Tomohiro Iijima Komukai-Toshiba, Kawasaki-shi, Kanagawa No. 1 in Toshiba Research and Development Center Co., Ltd. (56) Reference JP 63-133525 (JP, A) JP 61-43419 (JP, A) JP 5-343304 (JP, A) JP 4-162710 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/027 G03F 7/20 504

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】描画すべき図形を分割したショットデータ
を所定の集合毎に発生するショットデータ発生手段と、
このショットデータ発生手段の出力結果を受けて、ショ
ットの形状毎にショットデータを振分ける操作を前記集
合毎に繰り返すショット形状振り分け手段と、このショ
ット形状振り分け手段により振り分けられたショットの
形状毎にショットデータを異なるメモリ領域に一時的に
格納するための記録手段と、前記記録手段内で前記集合
の最後のショットデータであることを示した情報を取り
除く手段と、前記記録手段内でショット形状毎に前記集
合内の最後のショットであることを示す情報を付加する
手段と、前記記録手段から同一集合に対して所定の順番
でショットの形状毎にショットデータを読み出す操作を
前記集合毎に繰り返す手段とを具備してなり、 前記ショット形状毎に読み出したショット順序に従って
パターンを描画することを特徴とする荷電粒子ビーム描
画装置。
1. Shot data generating means for generating shot data obtained by dividing a figure to be drawn for each predetermined set,
In response to the output result of the shot data generating means, a shot shape allocating means for repeating the operation of allocating the shot data for each shot shape for each set, and a shot for each shape of the shots allocated by this shot shape allocating means. Recording means for temporarily storing data in different memory areas, means for removing information indicating the last shot data of the set in the recording means, and for each shot shape in the recording means Means for adding information indicating that the shot is the last shot in the set, and means for repeating, for each set, an operation of reading shot data for each shot shape in a predetermined order from the recording means to the same set. And a pattern is drawn according to the shot order read for each shot shape. Characterized charged particle beam drawing device.
【請求項2】前記記録手段は、同時に入出力アクセス可
能なデュアルポートメモリ、時間分割による入出力アク
セス可能なメモリ、又は少なくとも2つに物理的に別れ
ていて、実効的に同時に入出力アクセス可能なメモリで
あることを特徴とする請求項1記載の荷電粒子ビーム描
画装置。
2. The recording means is physically divided into a dual port memory capable of input / output access at the same time, a memory capable of input / output access by time division, or at least two, and is effectively capable of input / output access at the same time. 2. The charged particle beam drawing apparatus according to claim 1, which is a different memory.
【請求項3】前記記録手段へのショットデータの書き込
みが全て完了した集合に対して、前記記録手段からの読
み出しを行うことを特徴とする請求項1記載の荷電粒子
ビーム描画装置。
3. The charged particle beam drawing apparatus according to claim 1, wherein the reading from the recording means is performed for a set in which all the shot data has been written to the recording means.
【請求項4】前記ショットデータの集合を前記記録手段
より小さい所定の大きさの仮想的な集合に分割する手段
と、前記分割された仮想的な集合の最後のショットデー
タを示す情報を付加する手段とを備えたことを特徴とす
る請求項1記載の荷電粒子ビーム描画装置。
4. A means for dividing the set of shot data into a virtual set of a predetermined size smaller than the recording means, and information indicating the last shot data of the divided virtual set. The charged particle beam drawing apparatus according to claim 1, further comprising:
【請求項5】描画すべき図形を分割したショットデータ
を所定の集合毎に発生する工程と、前記集合の最後のシ
ョットデータであることを示した情報を取り除く工程
と、前記ショットデータをショットの形状毎に振分ける
操作を前記集合毎に繰り返す工程と、前記振り分けられ
たショット形状毎に前記集合内の最後のショットである
ことを示す情報を付加する工程と、前記ショットデータ
をショットの形状毎に異なるメモリ領域に一時的に格納
する工程と、前記メモリ領域から同一集合に対して所定
の順番でショットの形状毎にショットデータを読み出す
操作を前記集合毎に繰り返す工程と、前記ショット形状
毎に読み出したショット順序に従ってパターンを描画す
る工程とを含むことを特徴とする荷電粒子ビーム描画方
法。
5. A step of generating shot data in which a figure to be drawn is divided for each predetermined set, a step of removing information indicating that the shot data is the last shot data of the set, A step of repeating the operation of distributing for each shape for each set, a step of adding information indicating that it is the last shot in the set for each of the allocated shot shapes, and the shot data for each shape of the shot In a different memory area, and repeatedly reading shot data for each shot shape in the same set from the memory area in a predetermined order, for each set, and for each shot shape. And a step of drawing a pattern in accordance with the read shot order.
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