JP3421015B2 - Exposure method - Google Patents
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Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、画像のソフトフ
ォーカス処理に係わり、特に、スリット走査によりソフ
トフォーカス処理された画像を感光材料に結像すること
ができる露光方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、アナログスリット露光系を有する
複写装置等の画像形成装置において、ソフトフォーカス
処理された画像を形成する場合、原画に記録された画像
の光を、直接、感光材料に照射して露光した後、ソフト
フォーカスフィルタを介して得られる原画の画像の光
を、上記感光材料に照射して露光するようにしている。
【0003】ソフトフォーカスフィルタを介して得られ
る光は、散乱されているため、この散乱光により露光さ
れた画像は、その結像幅が拡がった像となる。上述のよ
うに、原画に記録された画像光による感光材料の露光
と、ソフトフォーカスフィルタを介して得られる散乱さ
れた画像光による感光材料の露光とを、順次実行する2
重露光によりソフトフォーカス処理された画像を形成す
ることができる。
【0004】一方、上記方法以外に、液晶セルを利用し
てソフトフォーカス処理された画像を形成することがで
きる。この液晶セルは、光散乱現象を呈し、電界印加に
より散乱状態と非散乱状態とが制御可能である。従っ
て、非散乱状態を呈する液晶セルを介して得られる原画
の画像光による感光材料の露光と、散乱状態を呈する液
晶セルを介して得られる散乱された画像光による感光材
料の露光とを、順次実行する2重露光によりソフトフォ
ーカス処理された画像を形成することができる。
【0005】液晶セルを利用したソフトフォーカス処理
は、例えば、特開昭59−29236号公報、特開平1
−214837号公報、及び特開平1−257820号
公報に開示されている。特開昭59−29236号公報
に開示された液晶セルは、対向全面電極により散乱状態
と非散乱状態とが制御され、これにより、感光材料に
は、一様に散乱された画像光が照射される。
【0006】また、特開平1−214837号公報、及
び特開平1−257820号公報に開示された液晶セル
は、それぞれ所要形状を有する対向電極により、液晶セ
ルの領域毎に散乱状態と非散乱状態とが制御され、これ
により、感光材料には、所望画像領域が散乱された画像
光が照射される。さらに、近年では、画像領域内で、ソ
フトフォーカス処理された画像と、通常の鮮明画像とを
混在させたり、また程度の異なるソフトフォーカス処理
された画像を混在させたいという要望もある。
【0007】例えば、ソフトフォーカスフィルタを利用
したソフトフォーカス処理により、上記要望を満足しよ
うとする場合、ソフトフォーカスフィルタの主走査方向
の拡散度を変えることにより対処可能である。また、液
晶セルを利用したソフトフォーカス処理により、上記要
望を満足しようとする場合、液晶セルの主走査方向の領
域毎に散乱度を変えることにより対処可能である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上述のように、アナロ
グスリット露光系を有する画像形成装置において、ソフ
トフォーカス処理された画像の形成は、ソフトフォーカ
スフィルタ若しくは光散乱現象を呈する液晶セルを介す
ることにより散乱された画像光を得、非散乱光と散乱光
とを順次感光材料に照射して2重露光することにより達
成される。
【0009】しかし、ソフトフォーカスフィルタを利用
するソフトフォーカス処理にあっては、例えば、ソフト
フォーカス処理程度を変える場合、散乱度の異なるソフ
トフォーカスフィルタを用意しなければならない。ま
た、露光毎にソフトフォーカスフィルタを光路に挿入し
なけらばならず、迅速な処理を望むことはできない。一
方、液晶セルを利用したソフトフォーカス処理にあって
は、液晶セルに印加する電界を制御することにより所望
散乱度の画像光が得られものの、やはり非散乱光と散乱
光とを感光材料に順次露光する2重露光によりソフトフ
ォーカス処理された画像が形成されるので、迅速な処理
を望むことはできない。さらに、露光毎に、液晶セルの
駆動制御を要するため、液晶セルの駆動制御が複雑にな
る。
【0010】上述のように2重露光によるソフトフォー
カス処理にあっては、迅速な処理を望むことは困難であ
る。また、画像領域内で、ソフトフォーカス処理された
画像と鮮明画像とを混在させたり、若しくは程度の異な
るソフトフォーカス処理された画像を混在させようとす
る場合、ソフトフォーカスフィルタ若しくは液晶セルの
主走査方向の拡散度若しくは散乱度を変えることにより
対処可能である。
【0011】しかし、ソフトフォーカスフィルタを利用
したソフトフォーカス処理にあって、主走査方向の拡散
度が異なるソフトフォーカスフィルタを用意すること
は、非現実的である。また、液晶セルを利用したソフト
フォーカス処理にあっては、例えば、マトリクス配列さ
れた電極により液晶セルの主走査方向の散乱度を変える
ことはできる。しかし、電極領域に相当する画像は、何
ら処理されることがないため、画像の境界が不連続にな
る。
【0012】そこでこの発明は、上記事情に鑑みて成さ
れたもので、領域毎に処理形態の異なる画像を迅速かつ
容易に形成することができる露光方法を提供することを
目的とする。
【0013】この発明に係る露光方法は、スリット領域
の副走査方向を複数の領域に分割するとともに各領域を
主走査方向に分割し、副走査方向に分割された各領域に
散乱部又は非散乱部を選択的に設定するとともに散乱部
の主走査方向の散乱度合いを可変した液晶を介して得ら
れる散乱光及び非散乱光を有する画像光を副走査方向に
相対移動させながら前記感光材料に照射するようにした
ものである。
【0014】この発明に係る前記手段によれば、液晶の
スリット幅に対応した領域には、所定比率の散乱部と非
散乱部とが設定される。従って、この液晶を通過したス
リット光を感光材料に照射すると、画像の同一領域に散
乱光と非散乱光とが照射される。従って、散乱光と非散
乱光との比率を制御することにより、各形態の処理が施
された画像を形成することができる。
【0015】また、液晶の散乱部と非散乱部との比率
は、スリット領域の主走査方向に複数設定できるので、
画像の領域毎に処理形態を変えることができる。液晶を
介してそれぞれ対向配置される一対の電極は、主走査方
向に複数分割されており、分割された各電極の接面は、
副走査方向に交差している。このため、電極構造が結像
されることがなく、画像の連続性が補償される。
【0016】各処理形態は、画像光の散乱光と非散乱光
との比率で設定され、この比率は、液晶に印加される電
界及び電極構造に依存する。散乱光と散乱光とを有する
画像光により、感光材料を露光した場合、得られる画像
は、輪郭がシャープでありながらも結像幅が拡がったソ
フトフォーカス処理された画像である。
【0017】また、散乱光のみを有する画像光により、
感光材料を露光した場合、得られる画像は、輪郭の結像
幅が拡がったソフトフォーカス処理された画像である。
また、非散乱光のみを有する画像光により、感光材料を
露光した場合、得られる画像は、鮮明画像である。ソフ
トフォーカス処理することにより、原画の粒状性が粗く
てもそれを和らげて露光することもでき、粒状性の粗い
原画でもザラツキ感を抑えた画像を形成できる。また、
真夏の海辺等で撮影した硬調画像であっても、上記のよ
うに液晶調光部材により散乱させた画像光と散乱しない
画像とで感光材料を2重露光することにより、再現画像
を軟調化することができる。
【0018】以下、図14乃至図16を参照してこの発
明に係るソフトフォーカス処理について説明する。図1
4は散乱部と非散乱部の面積比によるソフトフォーカス
効果を示しており、縦軸は、結像の拡幅度を表す画像の
ボケ度合い、及びこのボケ度合いに対応する散乱度を得
るための液晶セルへの印加電圧を示しており、横軸は、
画像に占める散乱部の割合を示している。
【0019】図14に示されるように、散乱部と非散乱
部とを適当割合で有する画像は、この発明に係るソフト
フォーカス処理された画像である(図中斜線領域)。こ
れに対し、散乱部が100%を占める画像は、結像幅が
拡がるだけで、所謂ピンボケ画像となる。また、散乱部
が0%すなわち非散乱部が100%を占める画像は、輪
郭がシャープな通常の画像となる。
【0020】例えば、図15(A)に示されるような濃
度分布を有する画像を、散乱部が100%を占める画像
の光により露光すると、図15(B)に示される濃度分
布を有する画像が得られる。先の図15(A)に示され
るように、散乱部の散乱度は、液晶セルに印加する電圧
に依存している。従って、図15(B)に示されるよう
に、散乱度が大きくなるに従い、すなわち印加電圧が大
きくなるに従い、画像の濃度分布が緩慢特性に変化す
る。
【0021】散乱部が100%を占める画像は、輪郭の
結像幅が拡がり、所謂ピンボケ画像となる。一方、この
発明に係るソフトフォーカス処理された画像は、非散乱
部と散乱部とを適当割合で有する(図14参照)。すな
わち、図16(A)に示される濃度分布を有する画像
と、図16(B)に示される濃度分布を有する画像とが
合成され、図16(C)に示されるように上記各濃度分
布の加重平均を有する濃度分布を有する画像が形成され
る。ここで図16(C)中、Hで表される濃度差は、所
謂画像の芯を示しており、散乱部の占める割合が小さく
なる程、低くなる。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面を参照して説明する。図1は、この発明に適用される
液晶調光部材の第1の実施の形態を示している。液晶調
光部材は、この発明が適用される露光装置の光路に配置
され、液晶調光部材を介した光で感光材料を露光するこ
とによりソフトフォーカス処理された画像が形成され
る。
【0023】図1に示されるように、液晶調光部材10
0は、それぞれ所要パターンを有して対向配置された透
明電極101、103を支持する一対のガラス基板10
5、107で、電界印加により光散乱現象を呈する液晶
109を挟持したものである。上記特性を有する液晶1
09として、負の誘電率異方性を有するネマチック液
晶、例えば、ZLI−4318、ZLI−4330、Z
LI−2806、若しくはZLI−4518(メルク社
製)を利用することができ、この実施形態では、ZLI
−4318にテトラブチルアンモニウムブロマイドを
0.04wt%添加したものを用いた。
【0024】ガラス基板105が支持する電極101
は、櫛形電極101a、101bが互いに咬合配置され
たものであり、また、ガラス基板107が支持する電極
103は、複数のセグメントに主走査方向に分割される
とともに、各セグメントの境界が後述するスリット幅内
でジグザグ状になるように配置されたものである。透明
電極101、103に電圧を印加することにより、液晶
109が散乱現象を呈し、また、透明電極101を構成
する各透明電極101a、101b、及び透明電極10
1の各セグメントに印加する電圧を選択制御することに
より、散乱現象を呈する液晶領域を選択することができ
る。
【0025】図2は、液晶調光部材100の層構成を示
している。すなわち、液晶調光部材100は、それぞれ
配向膜(ポリイミド等)151、153、絶縁膜(Si
O2等)155、157、及び透明電極(ITO等)1
01、103を、該順序で積層支持するガラス基板10
5、107により、液晶109が挟持され、さらにガラ
ス基板105、107の外側に反射防止膜159、16
1が積層された層構造を有する。
【0026】さらに、図3を参照して液晶調光部材10
0を構成する透明電極101について説明する。図3
(A)は、ガラス基板105が支持する透明電極101
を示すもので、それぞれ櫛形の透明電極101a、10
1bが、互いに咬合配置されている。櫛形の透明電極1
01a、101bは、それぞれ異なる櫛ピッチを有して
おり、透明電極101aの幅W1は、透明電極101b
の幅W2の2倍に設定されている。この実施形態では、
幅W1が1mm、幅W2が0.5mmに設定されてい
る。ここで、液晶に印加される電界の連続性を補償する
ために、透明電極101a、101bの隣接部分に生じ
る間隙S1は、できる限り小さく設計されることを要す
る。
【0027】電極101a、101bの幅比により設定
される透明部と散乱部との比率は、露光時の全ての倍率
で一定であることが好ましく、このためには、電極10
1a、101bの幅は狭いほど好ましい。ただし、電極
101a、101bの幅が狭すぎると光の回折を起こし
て正確に露光できないので、電極101a、101bの
幅は回折を起こさない程度に設定される。
【0028】図3(A)において、液晶調光部材100
が適用される露光装置のスリット光の通過部分は、スリ
ット幅SWを有する想像線で画成される領域112で示
され、スリット幅SWは、電極101aの櫛ピッチに相
当する。電極101a、101bの幅の比率は、スリッ
ト光領域112が最小幅(最小スリット光幅)SWのと
きに所望の散乱率が得られれるように設定する。拡大露
光時にはスリット光幅も拡大し、縮小露光時にはスリッ
ト光幅も縮小するが、最小スリット光幅SWで所望の散
乱率が得られるように設定されていれば、どの倍率でも
同じ散乱率が得られる。
【0029】先の図1に示した電極103の各セグメン
トに電圧を選択印加するとともに、異なる幅を有する電
極101a、101bの何れか一方に電圧を印加するこ
とにより、液晶調光部材100に透明部と散乱部とを形
成することができる。例えば、電極103の所定セグメ
ントに電圧を印加するとともに、電極101aに電圧を
印加すると、電極101aと先の電極103のセグメン
トとに挟持された液晶が散乱状態となる(図中網点領
域)。電極101aと電極103とに電圧を印加するこ
とにより形成された液晶部材100の透明部と散乱部と
は、その割合が2:1となり、これにより散乱率が67
%に設定される。ここで散乱率は、最小スリット光幅S
W中に占める散乱部の割合を表している。
【0030】また、電極101bに電圧を印加すると、
図3(B)に示すように、電極101bと先の電極10
3とに挟持された液晶が散乱状態となる(図中網点領
域)。電極101bと電極103とに電圧を印加するこ
とにより形成された液晶部材100の透明部と散乱部と
は、その割合が1:2となり、これにより散乱率が33
%に設定される。
【0031】上述のように、電圧が印加された先の電極
103のセグメントに対向する電極101a、101b
に電圧を選択印加することにより、散乱率が変わる。図
3(A)に示した電極パターンにおいて得られる散乱部
と透明部との組み合わせ比率は、散乱部100%:透明
部0%、散乱部67%:透明部33%、散乱部33%:
透明部67%、散乱部0%:透明部100%の4通りで
ある。
【0032】散乱部と透明部との組み合わせ比率は、電
極パターンに依存する。例えば、電極101a、101
bの間隙が、一方の電極201aの幅の1/2であり、
他方の電極201bの幅と等しくする。この電極パター
ンにおいて、幅の狭い電極201bに電圧を印加する
と、スリット光部112中で占める散乱部の割合は1/
4であり、散乱率は25%である。また、幅の広い電極
201aに電圧を印加すると、最小スリット幅SW中で
占める散乱部の割合は1/2であり、散乱率は50%で
ある。また、両方の電極201a、201bに電圧を印
加すると、スリット光部112中で占める散乱部の割合
は3/4であり、散乱率は75%である。
【0033】すなわち、設定可能な散乱部と透明部との
組み合わせ比率は、散乱部75%:透明部25%、散乱
部50%:透明部50%、散乱部25%:透明部75
%、散乱部0%:透明部100%の4通りである。図3
(A)に示した電極パターンを有する液晶調光部材10
0が適用される露光装置において、スリット光領域を通
過する画像光は、所定割合の散乱光と非散乱光とを有す
る。この画像光により感光材料を露光した場合、散乱光
により結像幅が拡がった画像と、非散乱光により結像幅
がシャープな画像とを同一部分に有する画像が得られ
る。この結果、輪郭がシャープでありながらぼけた画像
であるソフトフォーカス処理された画像が形成される。
【0034】また、液晶調光部材100は、セグメント
分割された電極103により、散乱部と透明部との組み
合わせ比率を、複数設定できる。例えば、液晶調光部材
100に、散乱部と非散乱部とを所定割合有する領域を
設定し、これにより得られる散乱光と非散乱光とで感光
材料を露光すると、得られる画像は、輪郭がシャープで
ありながらぼけた画像のソフトフォーカス処理された画
像が形成される。
【0035】また、液晶調光部材100に、散乱部のみ
を有する領域を設定し、これより得られる散乱光で感光
材料を露光すると、得られる画像は、輪郭がぼけた画像
のソフトフォーカス処理された画像が形成される。ま
た、液晶調光部材100に、非散乱部のみを有する領域
を設定し、これより得られる非散乱光で感光材料を露光
すると、得られる画像は、輪郭が鮮明な画像が形成され
る。
【0036】液晶調光部材100の各セグメントに、上
記各領域を設定することにより、画像内で異なる処理形
態の画像を形成することができる。液晶調光部材100
の各セグメントはジグザグ結合されているので、画像境
界領域がマスクとして作用することなく各画像境界の連
続性は補償され、これにより自然な画像を形成すること
ができる。なお、各セグメントは、スリット領域内で、
副走査方向に交差して接合していれば良く、上記ジグザ
グ結合に限定されない。
【0037】以下、液晶調光部材100の駆動方法につ
いて説明する。図4に示されるように、スリット112
の長手方向領域内に、処理形態の異なる領域a乃至cを
形成する場合、液晶調光部材100を構成する透明電極
101a、101bと透明電極103の各セグメントと
に適正電圧を印加する。透明電極101a、101bを
それぞれY1、Y2とし、透明電極103の各セグメン
トをそれぞれX1〜Xn(n:自然数)とすると、X
1、X2、Xnに印加される各電圧は、供給される交流
駆動電圧の振幅制御により設定される。振幅制御は、交
流駆動電圧に直列接続されるゲイン可変アンプ181に
より実行される。各ゲイン可変アンプを制御するゲイン
情報は、画像に応じて制御部バス185から出力され、
デジタル/アナログ(以下、D/Aと記す)変換器18
3によりアナログ信号に変換されている。
【0038】例えば、図5に示されるように、1フレー
ム分の画像領域501内で、鮮明画像(領域a)と、輪
郭がぼけた画像であるソフトフォーカス処理された画像
(領域b)と、輪郭がシャープかつぼけた画像であるソ
フトフォーカス処理された画像(領域c)とを形成しよ
うする場合、各領域に対応する液晶のスリット112内
の主走査方向の散乱度を順次選択設定し、3処理形態の
画像を有する1フレーム分の画像を形成する。
【0039】図6は、液晶109の電圧散乱度依存性を
示しており、液晶109は実効電圧10V〜20Vで急
峻に変化する。透明電極101a、101b及び透明電
極103の各セグメントにより設定される電位差(交流
50Hz実効値)が変わるにつれて、液晶の散乱度が変
化する。従って、所望の散乱度を得るように、液晶に電
界を印加する。
【0040】図7は、上記3形態の画像を形成する場合
の各電極への印加電圧を示している。Y1、Y2にそれ
ぞれ0V、20V、またX1、X2、Xnにそれぞれ1
0V、40V、30Vを印加すると、対向する各電極間
には、図8に示すような電位差(10V、20V、30
V、及び40V)が発生する。各電位差と図7に示した
電圧散乱度存性とを対比すると、液晶には散乱度の低い
透明領域と散乱度の高い散乱領域とが生じることが分か
る。上述のように、スリット内に散乱度の異なる2つの
領域が形成されるため、これにより電極X1と電極Y
1、Y2とが対向する領域にあっては鮮明画像が形成さ
れ、電極X2と電極Y1、Y2とが対向する領域にあっ
ては輪郭がぼけた画像であるソフトフォーカス処理され
た画像が形成され、また電極Xnと電極Y1、Y2とが
対向する領域にあっては輪郭がシャープかつぼけた画像
であるソフトフォーカス処理された画像が形成される。
【0041】図8は、上述の液晶調光部材100の散乱
特性を示しており、縦軸はヘイズ値、横軸は印加電圧を
示している。図8に示されるように、印加電圧10V乃
至60Vの範囲では、印加電圧の増加に伴いヘイズ値も
0〜90%弱の間で単調増加する。また、図9は液晶調
光部材100のスペクトラム特性を示しており、縦軸は
ヘイズ値、横軸は透過スペクトルを示している。図9に
示されるように、透過スペクトル400nm乃至700
nmの範囲では、スペクトルの透過率は変わるものの印
加電圧を変えても、液晶調光部材100のスペクトラム
特性は変わらない。したがって、電圧を印加しても液晶
調光部材100が着色を呈することはない。
【0042】なお、液晶調光部材100に印加される電
圧は、波高値で設定されている。以上説明した実施形態
では、一方の電極が所要パターンを有し、他方の電極が
セグメントに分割され、これにより液晶に散乱度の異な
る領域を形成する場合について説明した。しかし、一方
の電極が所要パターンを有するとともに、スリット長手
方向に複数のセグメントを有し、他方の電極が全面に配
されるようにしても良い。
【0043】以下、図10を参照して液晶調光部材10
0の第2の実施の形態について説明する。なお、先の図
1及び図4に示した液晶調光部材100と同一部分には
同一符号を付して詳細な説明を省略する。図10に示さ
れる液晶調光部材100は、主走査方向に複数領域X1
〜Xnに分割された電極171と、全面電極173とを
有している。
【0044】図11は複数領域X1〜Xnの各電極構造
を示しており、各電極はスリット112の副走査方向に
電極Xa、Xbを有して順次配列されている。この実施
形態では、接続線の数を減らすために、スリット112
内に配設される一対の電極Xa1、Xbに対してそれぞ
れ同一電圧を印加できるように、スリット112内で対
応する電極は互いに接続されている。
【0045】図10に戻り、スリット112の長手方向
領域内に、鮮明画像(領域a)と、輪郭がぼけた画像で
あるソフトフォーカス処理された画像(領域b)と、輪
郭がシャープかつぼけた画像であるソフトフォーカス処
理された画像(領域c)とを形成しようする場合、透明
電極171の各電極に適正電圧を印加する。図12は上
記3形態の画像を得るための電極への印加電圧を示して
おり、X1を構成する電極Xa、Xbにそれぞれ0V、
X2を構成する電極Xa、Xbにそれぞれ40V、また
Xnを構成する電極Xa、Xbに40V、0Vを印加す
る。
【0046】先の図6に示される液晶109の電圧散乱
度依存性に基づき、また電極153が接地されているこ
とから、液晶には散乱度の低い透明領域と散乱度の高い
散乱領域とが生じる。従って、スリット内には散乱度の
異なる2つの領域が形成されるため、これにより電極X
1と電極173とが対向する領域にあっては鮮明画像
(領域a)が形成され、電極X2と電極173とが対向
する領域にあっては輪郭がぼけた画像であるソフトフォ
ーカス処理された画像(領域b)が形成され、また電極
Xnと電極173とが対向する領域にあっては輪郭がシ
ャープかつぼけた画像であるソフトフォーカス処理され
た画像(領域c)が形成される。
【0047】以下、図13を参照して液晶調光部材10
0が適用される画像画像形成装置について説明する。画
像形成装置10内には感材マガジン12が配置されてお
り、感材マガジン12内には感光材料14がロール状に
巻回されて収納されている。感光材料14は、支持体上
に感光性ハロゲン化銀、バインダー、色素供与性物質、
還元剤を有するものであり、受像材料と重ね合わせて加
熱現像することにより、色素供与性物質から生成又は放
出された色素が受像材料へ転写される。また、感光材料
14は、水等の画像形成用溶媒の存在下で熱現像転写処
理が促進される。
【0048】感材マガジン12から引き出されてカッタ
ー16により所定長さに切断された感光材料14は、露
光部18へ搬送されるようになっている。受材マガジン
20内には受像材料22がロール状に巻回されて収納さ
れている。受像材料22の画像形成面には、媒染剤を有
する色素固定材料が塗布されている。受材マガジン20
から引き出されてカッター24により所定長に切断され
た受像材料22は、後述する熱現像転写部26へ搬送さ
れるようになっている。
【0049】本体上部にはプラテンガラス28が設けら
れ、光反射原画(以下、原画という)30を用いるとき
は、原画の上面を覆うための原画カバー32がプラテン
ガラス28の上に装着される。光透過原画を用いるとき
は、プラテンガラス28の上に透過原画照明装置(プル
ーフユニット)が装着される。プラテンガラス28の真
下には反射原画照明装置として、光源34及び該光源3
4と共に移動する第1移動ミラー36Aを備えた光源ユ
ニット38、該第1移動ミラー36Aとは相対移動が可
能な複数の第2移動ミラー36Bが配設されており、い
ずれもプラテンガラス28に沿って移動可能になってい
る。光源ユニット38は、原画30からの画像光をスリ
ット状にして第1移動ミラー36Aに導くスリット部材
(図示せず)を備えている。第2移動ミラー36Bは光
源ユニット38と相対移動するように構成されている
が、移動量及び移動速度は光源ユニット38の1/2に
設定されている。更に、原画からの反射光は結像レンズ
ユニット40を通って、ミラーユニット42内に設けた
固定ミラー44及び可動ミラー46、更に固定ミラー4
8によって露光部18に反射される。
【0050】なお、ミラーユニット42の近傍には、図
示を省略しているが可動ミラー46によって反射された
画像光に基づいて原画30の画像濃度を測定する測光装
置が配置されており、該測光装置により露光条件が決定
される。また、ミラーユニット42は変倍時に移動して
光路長を調節するように構成されている。可動ミラー4
6は後述するプロジェクタ50による画像形成を行う際
はミラーユニット42内を上方に移動し、プロジェクタ
50の画像光を固定ミラー48に透過させるようになっ
ている。
【0051】原画30の内容を感光材料14へ露光する
には、光源34と第1移動ミラー36Aを移動させなが
ら第2移動ミラー36Bを所定の速度で追従移動し、光
源34からの光を原画30に沿って照射し、その反射光
をミラー36A,36B,36、結像レンズユニット4
0を用いて露光部18に位置する感光材料14へ結像し
走査露光する。なお、露光部18には、本発明の要部で
ある液晶調光部材100が設けられており、画像光は必
要に応じてこの液晶調光部材100により調光されて感
光材料14に達する。
【0052】液晶調光部材100は、光源ユニット38
内のスリットと同方向(主走査方向)に延びる長手形状
である。液晶調光部材100は図13において紙面と直
交する方向に装脱可能であり露光部18に装填される。
露光ガラス18に層設される液晶調光部材100は、露
光ガラス18に密接しててもよく、または数mm(例え
ば5mm)程度浮き上がっていてもよい。また、液晶調
光部材100と露光ガラス18との間に、カナダバルサ
ムのような屈折率がガラスに近い接着剤や透明充填剤を
挿入すると、透過率が上がるので好ましい。
【0053】露光部18で走査露光された感光材料14
は、反転して搬送され、水塗布部54によって画像形成
溶媒としての水が塗布されるようになつている。水塗布
部54により水を塗布された感光材料14は受像材料2
2と重ね合わされ、熱現像転写部26で加熱現像転写が
行われるようになっている。なお、本実施態様は感光材
料14に水を塗布する構成であるが、水は感光材料14
又は受像材料22のいずれに塗布してもよく、受像材料
22に水を塗布するように構成してもよい。受像材料2
2はポリマーを含んでいるので吸水速度が遅いが、感光
材料14はゼラチンを含んでいるので吸水速度が速く、
感光材料14に水を塗布するほうが迅速化の点で有利で
ある。
【0054】熱現像転写部26は、発熱体としてのハロ
ゲンランプ56を内蔵した加熱ドラム58と、その周面
に巻き掛けられたエンドレスベルト60とからなり、加
熱ドラム58及びエンドレスベルト60を回転駆動する
ことにより、重ね合わされた感光材料14と受像材料2
2とを挟持搬送しながら熱現像転写するようになってい
る。これにより、感光材料14は可動性の色素を生成又
は放出し、同時にこの色素が受像材料22の色素固定層
に転写され、受像材料22に画像が得られるようになっ
ている。
【0055】加熱現像転写後に受像材料22から分離さ
れた感光材料14は、熱現像転写部26の側方に設けら
れた廃棄ボックス62へ送り出されるようになってい
る。また、感光材料14と分離された受像材料22は、
排出トレイ64内に集積されるようになっている。本体
10の側部にはプロジェクタ50が着脱自在に装着され
る。プロジェクタ50は、例えばカラーネガフィルムや
カラーリバーサルフィルム等の光透過型原画の画像光に
より感光材料14を露光するためのものであり、透過光
源装置66、光透過型原画が載置される走査型原画台6
8、光学系70により構成されている。光源部66内に
は透過光源72が設けられ、光学系70はズームレンズ
74と絞り板76とで構成されるレンズ部78、色フィ
ルタ80a、80b及びミラー82で構成される。
【0056】なお、プラテンガラス28に載置されて露
光に用いられる原画30は、光透過形又は光反射形のい
ずれであってもポジ画像を有することが多い。また、プ
ロジェクタ50の原画台68に載置されて露光に用いら
れる原画は、カラーリバーサルフィルムであればやはり
ポジ画像を有する。このようなポジ画像からの光で感光
材料14を露光して画像を形成するには、感光材料14
はポジ画像用のものが用いられる。この場合、感光材料
14は支持体上に、シアン色素供与性化合物と組み合わ
された赤感性ハロゲン化銀乳剤層、マゼンタ色素供与性
化合物と組み合わされた緑感性ハロゲン化銀乳剤層及び
イエロー色素供与性化合物を組み合わされた青感性ハロ
ゲン化銀乳剤層を少なくとも有し、ハロゲン化銀の現像
に逆対応して拡散性の色素像を形成するポジ型感光材料
である。
【0057】これに対し、プロジェクタ50の原画台6
8にカラーネガフィルムのようなネガ画像を有する原画
を載置して露光に用いることもある。このようなネガ画
像からの光で感光材料14を露光して画像を形成するに
は、感光材料14はネガ画像用のものが用いられる。こ
の場合、感光材料14は支持体上に、シアン色素供与性
化合物と組み合わされた赤感性ハロゲン化銀乳剤層、マ
ゼンタ色素供与性化合物と組み合わされた緑感性ハロゲ
ン化銀乳剤層及びイエロー色素供与性化合物と組み合わ
された青感性ハロゲン化銀乳剤層を少なくとも有し、ハ
ロゲン化銀の現像に対応して拡散性の色素像を形成する
ネガ型感光材料である。
【0058】なお、図13に示した画像形成装置では、
散乱現象を呈する液晶調光部材100を感光材料14近
傍に配置して、ソフトフォーカス処理された画像を得る
場合について説明した。しかし、液晶調光部材100を
原画30近傍(例えば、光源34、第1移動ミラー36
A、若しくは第2移動ミラー36B近傍)、または結像
レンズユニット40と感光材料14との間(例えば、固
定ミラー48近傍)に配置することにより、濃度変化に
因る所謂覆い焼き処理された画像が得られる。
【0059】また、濃度(偏光)変化を呈する液晶調光
部材を感光材料14近傍に配置しても、上記覆い焼き処
理された画像が得られる。さらに、ソフトフォーカス処
理された画像が得られるように構成配置された第1の液
晶調光部材と、上記覆い焼き効果が得られるように構成
配置された第2の液晶調光部材とを併用することによ
り、ソフトフォーカス処理と覆い焼き処理とが施された
画像が得られる。
【0060】濃度(偏光)が変化する液晶として、捩じ
れネマチック型液晶、超捩じれネマチック型液晶、若し
くはゲスト・ホスト型液晶が挙げられ、該液晶を封入す
ることにより覆い焼き効果が得られる液晶が構成され
る。
【0061】
【発明の効果】以上説明した発明によれば、液晶調光部
材により散乱光と非散乱光とに調光された画像光を可変
的に重ねて感光材料をスリット走査露光することによ
り、機械的動きを生ずることなく電気的制御だけで散乱
光と光散乱光とを生じさせることができる。
【0062】液晶調光部材は、主走査方向に、散乱率を
異ならしめることができるので、画像内に、処理形態の
異なる画像を混在させることができる。しかも、このよ
うな画像が、1回のスリット走査露光で達成できるの
で、容易かつ迅速に画像を形成することができる。ま
た、液晶調光部材の各セグメントの境界がジグザグ結合
されているため、これにより画像境界の連続性が補償さ
れ、よって自然な画像が得られる。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
Related to focus processing, especially soft
Forming a focused image on a photosensitive material
To an exposure method that can be performed.
[0002]
2. Description of the Related Art Conventionally, an analog slit exposure system is provided.
In image forming apparatuses such as copying machines, soft focus
When forming a processed image, the image recorded in the original
After irradiating the photosensitive material directly with the light of
Original image light obtained through the focus filter
Is applied to the photosensitive material to expose the photosensitive material.
[0003] A soft focus filter
Light is scattered, so the light
The resulting image is an image having an expanded imaging width. As mentioned above
Exposure of photosensitive material with image light recorded on the original
And the scattering obtained through the soft focus filter
And sequentially exposing the photosensitive material with the selected image light 2
Form soft-focused image by double exposure
Can be
On the other hand, in addition to the above method, a liquid crystal cell is used.
To form a soft-focused image.
Wear. This liquid crystal cell exhibits a light scattering phenomenon,
The scattering state and the non-scattering state can be controlled more. Follow
The original image obtained through a liquid crystal cell exhibiting a non-scattering state
Exposure of photosensitive material with image light from
Material by scattered image light obtained through a crystal cell
The exposure of the material is soft-
An image subjected to focus processing can be formed.
[0005] Soft focus processing using a liquid crystal cell
Are described in, for example, JP-A-59-29236,
JP-A-214837 and JP-A-1-257820
It is disclosed in the gazette. JP-A-59-29236
The liquid crystal cell disclosed in
And the non-scattering state are controlled, whereby the photosensitive material
Is irradiated with uniformly scattered image light.
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-214837 and
And a liquid crystal cell disclosed in JP-A-1-257820
The liquid crystal cell is
The scattering state and the non-scattering state are controlled for each region of the
As a result, the desired image area is scattered on the photosensitive material.
Light is irradiated. Furthermore, in recent years, software
Image that has been subject to soft focus and a normal clear image.
Mixed or different degrees of soft focus processing
There is also a demand that mixed images be mixed.
For example, using a soft focus filter
Satisfy the above demands with the soft focus processing
If you try to do so, the main scanning direction of the soft focus filter
Can be dealt with by changing the degree of diffusion. Also liquid
The soft focus processing using crystal cells
In order to satisfy the desire, the area of the liquid crystal cell in the main scanning direction
This can be dealt with by changing the degree of scattering for each region.
[0008]
As described above, the analog
In an image forming apparatus having a slit slit exposure system,
The formation of an image that has been focused
Through a liquid crystal cell exhibiting light scattering or light scattering
Image light scattered by the
And irradiate the photosensitive material sequentially to achieve double exposure
Is done.
However, a soft focus filter is used.
Soft focus processing, for example,
When changing the degree of focus processing, soft
A focus filter must be prepared. Ma
Also, a soft focus filter is inserted in the optical path for each exposure.
It must be done and quick processing cannot be desired. one
On the other hand, in soft focus processing using liquid crystal cells
Is controlled by controlling the electric field applied to the liquid crystal cell.
Although image light with a degree of scattering can be obtained, still non-scattered light and scattering
Soft exposure by double exposure of light and
Focused image is formed for fast processing
Can not hope. In addition, the liquid crystal cell
Since drive control is required, drive control of the liquid crystal cell becomes complicated.
You.
[0010] As described above, the soft-for
It is difficult to expect quick processing in the waste processing.
You. In the image area, soft focus processing was performed.
Mix images and clear images, or
Trying to mix soft-focused images
The soft focus filter or liquid crystal cell
By changing the degree of diffusion or scattering in the main scanning direction
Can be dealt with.
However, using a soft focus filter
Diffusion in the main scanning direction
Prepare soft focus filters with different degrees
Is unrealistic. In addition, software using liquid crystal cells
For focus processing, for example,
The degree of scattering in the main scanning direction of the liquid crystal cell by the electrode
Can do it. However, what is the image corresponding to the electrode area?
Is not processed, so the boundaries of the image become discontinuous.
You.
The present invention has been made in view of the above circumstances.
Images with different processing patterns for each area
To provide an exposure method that can be easily formed.
Aim.
An exposure method according to the present invention comprises:Slit area
Divides the sub-scanning direction of the
Divided in the main scanning direction and divided into each area divided in the sub-scanning direction
Selective setting of scattering part or non-scattering part and scattering part
Variable in the main scanning directionObtained via liquid crystal
BeHas scattered and non-scattered lightImage lightIn the sub scanning direction
While moving relativelyIrradiated on the photosensitive material
Things.
According to the means of the present invention, the liquid crystal
In a region corresponding to the slit width, a predetermined ratio of
A scattering section is set. Therefore, the light passing through this liquid crystal
When lit light is applied to the photosensitive material, it scatters to the same area of the image.
Irradiation with irregular light and non-scattered light is performed. Therefore, scattered light and
By controlling the ratio with the light, the processing of each mode can be performed.
Image can be formed.
Further, the ratio between the scattering part and the non-scattering part of the liquid crystal
Can be set multiple in the main scanning direction of the slit area,
The processing mode can be changed for each area of the image. LCD
The pair of electrodes, which are arranged to face each other,
The contact surface of each divided electrode is
They cross in the sub-scanning direction. Because of this, the electrode structure forms an image
And the continuity of the image is compensated.
Each processing mode is based on scattered light and non-scattered light of image light.
The ratio is set by the ratio of
Field and electrode structure. Having scattered light and scattered light
When the photosensitive material is exposed to image light, the resulting image
Is an image with a sharp outline but a wider imaging width.
This is the image that has been subjected to the vertical focus processing.
Further, the image light having only the scattered light provides
When the photosensitive material is exposed, the resulting image is
It is an image that has been subjected to soft focus processing with an increased width.
In addition, the photosensitive material is formed by image light having only non-scattered light.
When exposed, the resulting image is a clear image. Sof
Focusing reduces the graininess of the original
However, it can be lightened and exposed,
Even with the original image, an image with reduced roughness can be formed. Also,
Even if it is a high contrast image taken at the seaside in midsummer,
Does not scatter with the image light scattered by the liquid crystal light control member
Reproduced image by double exposure of photosensitive material with image
Can be softened.
Hereinafter, the present invention will be described with reference to FIGS.
The soft focus processing according to the present embodiment will be described. FIG.
4 is a soft focus based on the area ratio between the scattering part and the non-scattering part.
The vertical axis of the image indicates the degree of widening of the image.
Obtain the degree of blur and the degree of scattering corresponding to this degree of blur.
The horizontal axis indicates the voltage applied to the liquid crystal cell for
The ratio of the scattering portion in the image is shown.
As shown in FIG. 14, the scattering part and the non-scattering part
Image with an appropriate ratio of
This is an image on which focus processing has been performed (shaded area in the figure). This
In contrast, an image in which the scattering portion occupies 100% has an image width of
Just expanding the image results in a so-called out-of-focus image. Also, the scattering part
Is 0%, that is, 100% of the non-scattering part is an image.
Guo becomes a sharp normal image.
For example, as shown in FIG.
Image with 100% scattering part
Exposure with the light of
An image with the cloth is obtained. As shown in FIG.
As described above, the degree of scattering of the scattering part depends on the voltage applied to the liquid crystal cell.
Depends on. Therefore, as shown in FIG.
In addition, as the degree of scattering increases, that is, the applied voltage increases.
The density distribution of the image changes slowly
You.
The image in which the scattering portion occupies 100% is the outline
The imaging width is expanded, and a so-called out-of-focus image is obtained. Meanwhile, this
The soft-focused image according to the invention is non-scattered
Parts and scattering parts at an appropriate ratio (see FIG. 14). sand
That is, an image having the density distribution shown in FIG.
And an image having the density distribution shown in FIG.
As shown in FIG. 16 (C),
An image having a density distribution with a weighted average of the cloth is formed
You. Here, the density difference represented by H in FIG.
This shows the core of the image, where the proportion of the scattering part is small
Indeed, lower.
[0022]
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.
A description will be given with reference to FIGS. FIG. 1 is applied to the present invention.
1 shows a first embodiment of a liquid crystal light control member. LCD tone
The optical member is arranged in the optical path of the exposure apparatus to which the present invention is applied.
The photosensitive material is exposed to light through a liquid crystal light control member.
And the soft-focused image is formed by
You.
As shown in FIG. 1, the liquid crystal light control member 10
0 is a transparent pattern which is arranged facing each other with a required pattern.
A pair of glass substrates 10 supporting the bright electrodes 101 and 103
Liquid crystal exhibiting light scattering phenomenon by electric field application at 5, 107
109 is sandwiched. Liquid crystal 1 having the above characteristics
09, a nematic liquid having a negative dielectric anisotropy
Crystal, for example, ZLI-4318, ZLI-4330, Z
LI-2806 or ZLI-4518 (Merck)
Manufactured by ZLI. In this embodiment, ZLI
-4318 with tetrabutylammonium bromide
What added 0.04 wt% was used.
Electrode 101 supported by glass substrate 105
The comb-shaped electrodes 101a and 101b are arranged so as to bite each other.
Electrodes supported by the glass substrate 107
103 is divided into a plurality of segments in the main scanning direction
And the boundary of each segment is within the slit width described later.
Are arranged so as to form a zigzag shape. Transparent
By applying a voltage to the electrodes 101 and 103, the liquid crystal
109 shows a scattering phenomenon and constitutes the transparent electrode 101
Transparent electrodes 101a, 101b and transparent electrode 10
To selectively control the voltage applied to each segment
The liquid crystal region exhibiting the scattering phenomenon can be selected
You.
FIG. 2 shows the layer structure of the liquid crystal light control member 100.
are doing. That is, the liquid crystal light control members 100
Alignment films (polyimide etc.) 151, 153, insulating films (Si
155, 157, and transparent electrode (ITO, etc.) 1
01 and 103 are laminated and supported in this order.
The liquid crystal 109 is sandwiched between 5, 5 and 107, and
Antireflection films 159 and 16 on the outside of the substrate 105 and 107
1 has a layered structure.
Further, referring to FIG.
The transparent electrode 101 constituting 0 will be described. FIG.
(A) shows a transparent electrode 101 supported by a glass substrate 105.
And the comb-shaped transparent electrodes 101a, 10a
1b are occlusally arranged with each other. Comb-shaped transparent electrode 1
01a and 101b each have a different comb pitch
The width W1 of the transparent electrode 101a is
Is set twice as wide as W2. In this embodiment,
The width W1 is set to 1 mm and the width W2 is set to 0.5 mm
You. Here, the continuity of the electric field applied to the liquid crystal is compensated.
As a result, it occurs in a portion adjacent to the transparent electrodes 101a and 101b.
Gap S1 needs to be designed as small as possible.
You.
Set by the width ratio of the electrodes 101a and 101b
The ratio between the transparent part and the scattering part
Is preferably constant for this purpose.
It is preferable that the width of 1a and 101b is as narrow as possible. However, the electrode
If the width of 101a and 101b is too narrow, light diffraction occurs.
Exposure cannot be performed accurately, so that the electrodes 101a and 101b
The width is set so as not to cause diffraction.
In FIG. 3A, the liquid crystal light control member 100
The slit light passing part of the exposure equipment to which
Area 112 defined by an imaginary line having a cut width SW.
And the slit width SW corresponds to the comb pitch of the electrode 101a.
Hit. The width ratio of the electrodes 101a and 101b is
Light area 112 has a minimum width (minimum slit light width) SW
Is set so as to obtain a desired scattering rate. Expanded dew
When light is used, the slit light width is also increased.
The light width is also reduced, but the desired scattering is achieved with the minimum slit light width SW.
At any magnification as long as it is set to provide randomness
The same scattering rate is obtained.
Each segment of the electrode 103 shown in FIG.
Voltage and selectively apply voltage to
Voltage is applied to one of the poles 101a and 101b.
Thus, a transparent portion and a scattering portion are formed on the liquid crystal light control member 100.
Can be achieved. For example, a predetermined segment of the electrode 103
Voltage to the electrode 101a and the voltage to the electrode 101a.
When applied, the segment between the electrode 101a and the previous electrode 103
And the liquid crystal sandwiched between them is in a scattering state (dotted area in the figure).
Area). A voltage is applied to the electrode 101a and the electrode 103.
The transparent part and the scattering part of the liquid crystal member 100 formed by
Has a ratio of 2: 1 which results in a scattering rate of 67
Set to%. Here, the scattering rate is the minimum slit light width S
The ratio of the scattering portion in W is shown.
When a voltage is applied to the electrode 101b,
As shown in FIG. 3B, the electrode 101b and the previous electrode 10
3 is in a scattering state (dotted area in the figure).
Area). A voltage is applied to the electrode 101b and the electrode 103.
The transparent part and the scattering part of the liquid crystal member 100 formed by
Has a ratio of 1: 2, which results in a scattering rate of 33
Set to%.
As described above, the electrode to which the voltage is applied
Electrodes 101a and 101b opposed to segment 103
The scattering rate changes by selectively applying a voltage to. Figure
Scattering part obtained in the electrode pattern shown in FIG.
The combination ratio of the transparent part and the transparent part is 100% scattering part: transparent
Part 0%, scattering part 67%: transparent part 33%, scattering part 33%:
Transparent area 67%, scattering area 0%: transparent area 100%
is there.
The combination ratio of the scattering part and the transparent part is
Depends on polar pattern. For example, the electrodes 101a, 101
b is half the width of one electrode 201a,
The width is made equal to the width of the other electrode 201b. This electrode putter
A voltage is applied to the narrow electrode 201b
And the ratio of the scattering portion in the slit light portion 112 is 1 /
4 and the scattering rate is 25%. Also, a wide electrode
When a voltage is applied to 201a, the minimum slit width SW
The ratio of the scattering part occupied is 1/2, and the scattering rate is 50%.
is there. A voltage is applied to both electrodes 201a and 201b.
When added, the ratio of the scattering portion occupied in the slit light portion 112
Is 3/4 and the scattering factor is 75%.
That is, between the settable scattering part and the transparent part,
The combination ratio is: scattering part 75%: transparent part 25%, scattering
Part 50%: transparent part 50%, scattering part 25%: transparent part 75
%, Scattering part 0%: transparent part 100%. FIG.
Liquid crystal light control member 10 having electrode pattern shown in (A)
In the exposure apparatus to which 0 is applied, the light passes through the slit light area.
The passing image light has a predetermined proportion of scattered light and non-scattered light.
You. When the photosensitive material is exposed by this image light, scattered light
Image with an expanded image width due to the
Image with the same part as the sharp image
You. The result is a sharp outline but blurred image
Is formed after the soft focus processing.
Further, the liquid crystal light adjusting member 100 includes a segment.
By the divided electrode 103, a combination of a scattering part and a transparent part
A plurality of matching ratios can be set. For example, a liquid crystal light control member
100, a region having a predetermined ratio of a scattering part and a non-scattering part
Set and exposed to the resulting scattered and non-scattered light
When the material is exposed, the resulting image is sharp
Soft-focused image with blurred image
An image is formed.
The liquid crystal light control member 100 has only a scattering portion.
And set the area with the scattered light
When the material is exposed, the resulting image is a blurred image
The soft-focused image is formed. Ma
In addition, a region having only a non-scattering portion in the liquid crystal light control member 100
And expose the photosensitive material with the resulting non-scattered light
Then, the obtained image has a sharp outline.
You.
Each segment of the liquid crystal light control member 100 has
By setting each area, different processing types in the image
Image can be formed. Liquid crystal light control member 100
Are segmented in a zigzag pattern,
The bounding area does not act as a mask.
The continuity is compensated, thereby forming a natural image
Can be. Each segment is within the slit area,
It is only necessary to join in a crossing direction in the sub-scanning direction.
It is not limited to the ring coupling.
Hereinafter, a method of driving the liquid crystal light adjusting member 100 will be described.
Will be described. As shown in FIG.
In the longitudinal direction area, areas a to c having different processing modes are set.
When forming, the transparent electrode constituting the liquid crystal light adjusting member 100
101a, 101b and each segment of the transparent electrode 103
Apply the appropriate voltage to The transparent electrodes 101a and 101b
Let Y1 and Y2 be the respective segments of the transparent electrode 103.
X1 to Xn (n: natural number), X
1, X2, and Xn are supplied AC voltages.
It is set by controlling the amplitude of the drive voltage. Amplitude control
Variable gain amplifier 181 connected in series to the
More executed. Gain to control each variable gain amplifier
Information is output from the control unit bus 185 according to the image,
Digital / analog (hereinafter, referred to as D / A) converter 18
3 is converted to an analog signal.
For example, as shown in FIG.
Image area 501, a clear image (area a) and a ring
An image with soft focus processing that is an image with a blurred guo
(Region b) and the image whose outline is sharp and blurred
Form an image (area c) that has been subjected to the soft focus processing.
In this case, the liquid crystal slit 112 corresponding to each region
Are sequentially selected and set in the main scanning direction.
An image for one frame having an image is formed.
FIG. 6 shows the voltage scattering degree dependency of the liquid crystal 109.
As shown in FIG.
It changes sharply. The transparent electrodes 101a and 101b and the transparent electrodes
The potential difference set by each segment of the pole 103 (AC
(50 Hz effective value), the scattering degree of the liquid crystal changes.
Become Therefore, the liquid crystal is charged to obtain a desired degree of scattering.
Apply a field.
FIG. 7 shows a case where the above three types of images are formed.
Shows the voltage applied to each electrode. Y1, Y2
0V and 20V respectively, and 1 each for X1, X2 and Xn
When 0 V, 40 V, and 30 V are applied, between the opposing electrodes
Has a potential difference (10 V, 20 V, 30 V) as shown in FIG.
V, and 40 V). Each potential difference is shown in FIG.
Compared with the voltage scattering degree, the liquid crystal has low scattering degree
You can see that a transparent area and a high scattering area occur
You. As described above, two different scattering
Since an area is formed, the electrode X1 and the electrode Y
No clear image is formed in an area where Y1 and Y2 face each other.
In the region where the electrode X2 and the electrodes Y1 and Y2 face each other.
Soft focus processing, which is an image with a blurred outline
Image is formed, and the electrode Xn and the electrodes Y1 and Y2
Sharp and blurred image in opposing areas
Is formed after the soft focus processing.
FIG. 8 shows the scattering of the liquid crystal light adjusting member 100 described above.
The vertical axis shows the haze value and the horizontal axis shows the applied voltage.
Is shown. As shown in FIG.
In the range of 60V to 60V, the haze value increases with the increase of the applied voltage.
It increases monotonically between 0 and slightly less than 90%. FIG. 9 shows a liquid crystal tone.
The spectrum characteristic of the optical member 100 is shown, and the vertical axis is
The haze value and the horizontal axis show the transmission spectrum. In FIG.
As shown, transmission spectra from 400 nm to 700 nm
In the nm range, the transmittance of the spectrum changes but
Even if the applied voltage is changed, the spectrum of the liquid crystal light control member 100
The characteristics do not change. Therefore, even if voltage is applied, the liquid crystal
The light control member 100 does not exhibit coloring.
The electric power applied to the liquid crystal light adjusting member 100 is
The pressure is set by the peak value. Embodiment described above
So, one electrode has the required pattern and the other electrode
The liquid crystal is divided into segments, which cause the liquid crystal
The case where the region is formed is described. But on the other hand
Electrode has the required pattern and slit length
Direction, and the other electrode is
It may be done.
Hereinafter, the liquid crystal light control member 10 will be described with reference to FIG.
A second embodiment will be described. Note that the previous figure
1 and the liquid crystal light control member 100 shown in FIG.
The same reference numerals are given and the detailed description is omitted. Shown in FIG.
The liquid crystal light adjusting member 100 is provided with a plurality of areas X1 in the main scanning direction.
To Xn and the whole surface electrode 173
Have.
FIG. 11 shows each electrode structure of a plurality of regions X1 to Xn.
And each electrode is arranged in the sub-scanning direction of the slit 112.
The electrodes are sequentially arranged with electrodes Xa and Xb. This practice
In the embodiment, in order to reduce the number of connection lines, the slit 112 is used.
With respect to a pair of electrodes Xa1 and Xb
So that the same voltage can be applied.
The corresponding electrodes are connected to one another.
Returning to FIG. 10, the longitudinal direction of the slit 112
A clear image (region a) and an image with a blurred outline
An image (area b) that has undergone soft focus processing and a ring
Guo is a soft focus processing where the image is sharp and blurred
When forming an image (area c)
An appropriate voltage is applied to each of the electrodes 171. FIG. 12 is above
The voltage applied to the electrode for obtaining the image of the above three forms is shown.
0V is applied to each of the electrodes Xa and Xb constituting X1.
Each of electrodes Xa and Xb constituting X2 has a voltage of 40 V,
40 V and 0 V are applied to the electrodes Xa and Xb constituting Xn.
You.
Voltage scattering of the liquid crystal 109 shown in FIG.
Electrode 153 is grounded based on
Therefore, the liquid crystal has a transparent region with low scattering and a high scattering
A scattering region occurs. Therefore, the scattering degree in the slit is
Since two different regions are formed, the electrodes X
In a region where 1 and the electrode 173 face each other, a clear image
(Region a) is formed, and the electrode X2 and the electrode 173 face each other.
In the area where the image is blurred,
An image (area b) subjected to focus processing is formed, and an electrode is formed.
In the region where Xn and electrode 173 face each other,
Sharp focus and soft focus processing
An image (region c) is formed.
Hereinafter, referring to FIG.
An image forming apparatus to which 0 is applied will be described. Picture
A photosensitive material magazine 12 is arranged in the image forming apparatus 10.
The photosensitive material 14 is rolled in the photosensitive material magazine 12.
It is wound and stored. The photosensitive material 14 is placed on a support.
A photosensitive silver halide, a binder, a dye-providing substance,
It has a reducing agent and is superimposed on the image receiving material.
By heat development, it is formed or released from the dye-donating substance.
The emitted dye is transferred to the image receiving material. Also, photosensitive material
Reference numeral 14 denotes a heat development transfer process in the presence of an image forming solvent such as water.
Management is promoted.
The cutter pulled out of the photosensitive material magazine 12
The photosensitive material 14 cut to a predetermined length by the
The light is conveyed to the light unit 18. Receiving magazine
An image receiving material 22 is wound into a roll and stored in
Have been. A mordant is provided on the image forming surface of the image receiving material 22.
The dye fixing material is applied. Receiving magazine 20
And cut to a predetermined length by the cutter 24.
The image receiving material 22 is conveyed to a thermal development transfer section 26 described later.
It is supposed to be.
A platen glass 28 is provided on the upper part of the main body.
When using a light reflection original picture (hereinafter referred to as an original picture) 30
The original cover 32 for covering the upper surface of the original
It is mounted on glass 28. When using light transmission originals
Is a transmission original image illuminating device (pull
Unit) is installed. The truth of platen glass 28
Below, a light source 34 and the light source 3
Light source unit having a first moving mirror 36A that moves together with
The knit 38 can be moved relative to the first movable mirror 36A.
A plurality of movable second mirrors 36B are provided.
The displacement can be moved along the platen glass 28.
You. The light source unit 38 slides image light from the original 30.
A slit member that guides the first movable mirror 36A in a slit shape
(Not shown). The second moving mirror 36B is a light
Is configured to move relative to the source unit 38
However, the moving amount and moving speed are 1 / of the light source unit 38.
Is set. Furthermore, the reflected light from the original image is
Through the unit 40, provided in the mirror unit 42
Fixed mirror 44, movable mirror 46, and fixed mirror 4
The light 8 is reflected by the exposure unit 18.
The vicinity of the mirror unit 42 is shown in FIG.
Not shown, but reflected by movable mirror 46
A photometric device that measures the image density of the original 30 based on the image light
The exposure conditions are determined by the photometric device.
Is done. Also, the mirror unit 42 moves during zooming.
It is configured to adjust the optical path length. Movable mirror 4
Reference numeral 6 denotes when an image is formed by the projector 50 described later.
Moves upward in the mirror unit 42 and the projector
50 image light is transmitted through the fixed mirror 48.
ing.
Exposing the contents of the original 30 to the photosensitive material 14
While moving the light source 34 and the first moving mirror 36A.
Follows the second moving mirror 36B at a predetermined speed from the
The light from the source 34 is irradiated along the original 30 and the reflected light
To the mirrors 36A, 36B, 36 and the imaging lens unit 4
0 to form an image on the photosensitive material 14 located at the exposure unit 18.
Scan and expose. In addition, the exposure part 18 is a main part of the present invention.
A liquid crystal light control member 100 is provided, and image light is indispensable.
The light is modulated by the liquid crystal dimming member 100 as necessary.
Light material 14 is reached.
The liquid crystal light adjusting member 100 includes a light source unit 38.
Longitudinal shape extending in the same direction (main scanning direction) as the slits inside
It is. The liquid crystal light control member 100 is directly
It is detachable in the intersecting direction and is loaded into the exposure unit 18.
The liquid crystal light control member 100 layered on the exposure glass 18
It may be in close contact with the light glass 18 or several mm (eg,
(For example, 5 mm). In addition, liquid crystal tone
Between the optical member 100 and the exposure glass 18, Canadian balsa
Adhesive or transparent filler with a refractive index close to that of glass
Insertion is preferable because transmittance increases.
The photosensitive material 14 scanned and exposed by the exposure unit 18
Is transported upside down, and image formation is performed by the water application section 54.
Water as a solvent is applied. Water application
The photosensitive material 14 to which water has been applied by the unit 54 is the image receiving material 2
2 and the heat development transfer is performed by the heat development transfer unit 26.
Is being done. In this embodiment, the photosensitive material
In this configuration, water is applied to the photosensitive material 14.
Alternatively, it may be applied to any of the image receiving materials 22.
It may be configured to apply water to 22. Image receiving material 2
2 has a low water absorption rate because it contains a polymer,
Material 14 contains gelatin, so it has a high water absorption rate,
Applying water to the photosensitive material 14 is advantageous in terms of speeding up.
is there.
The thermal development transfer section 26 is provided with a halo as a heating element.
Heating drum 58 with built-in gen lamp 56 and its peripheral surface
Endless belt 60 wound around
The heat drum 58 and the endless belt 60 are driven to rotate.
Thereby, the superposed photosensitive material 14 and image receiving material 2
Thermal transfer while nipping and transporting
You. As a result, the photosensitive material 14 generates a movable dye or
Is released, and at the same time, the dye is transferred to the dye fixing layer of the image receiving material 22.
And the image is obtained on the image receiving material 22.
ing.
After the transfer by heating and development, the toner is separated from the image receiving material 22.
The photosensitive material 14 is provided on the side of the thermal development transfer section 26.
Is sent to the waste box 62
You. Further, the image receiving material 22 separated from the photosensitive material 14 is
It is configured to be accumulated in the discharge tray 64. Body
A projector 50 is detachably mounted on the side of
You. The projector 50 is, for example, a color negative film or
For image light of light transmission type originals such as color reversal film
This is for exposing the photosensitive material 14 more, and for transmitting light.
Source device 66, scanning type original table 6 on which the light transmission type original image is placed
8, the optical system 70. In the light source 66
Is provided with a transmission light source 72, and the optical system 70 is a zoom lens.
A lens unit 78 composed of an aperture plate 74 and an aperture plate 76;
It is composed of filters 80a and 80b and a mirror 82.
It is to be noted that the platen glass 28
The original 30 used for light may be of a light transmission type or a light reflection type.
Even if the image is misaligned, it often has a positive image. Also,
Placed on the original table 68 of the projector 50 and used for exposure.
If the original picture is a color reversal film,
Has a positive image. Sensitive to light from such positive images
To form an image by exposing the material 14, the photosensitive material 14
Is used for a positive image. In this case, the photosensitive material
14 is combined with a cyan dye-donating compound on a support
Red-sensitive silver halide emulsion layer, magenta dye donating
A green-sensitive silver halide emulsion layer combined with a compound;
Blue-sensitive halo combined with yellow dye-donating compound
Developing silver halide having at least a silver halide emulsion layer
Positive photosensitive material that forms a diffusible dye image in reverse
It is.
On the other hand, the original table 6 of the projector 50
8 Original picture with negative image like color negative film
May be placed and used for exposure. Negative painting like this
Exposure of photosensitive material 14 with light from an image to form an image
The photosensitive material 14 is used for a negative image. This
In the case of the photosensitive material 14, a cyan dye-donating
A red-sensitive silver halide emulsion layer combined with a compound,
Green-sensitive halides combined with zeta dye-donating compounds
Combined with silver halide emulsion layer and yellow dye-donating compound
Having at least a coated blue-sensitive silver halide emulsion layer,
Form a diffusible dye image in response to silver halide development
It is a negative photosensitive material.
In the image forming apparatus shown in FIG.
The liquid crystal light control member 100 exhibiting the scattering phenomenon is placed near the photosensitive material 14.
Get a soft-focused image by placing it next to it
The case has been described. However, the liquid crystal light control member 100
In the vicinity of the original 30 (for example, the light source 34, the first moving mirror 36)
A or near the second moving mirror 36B) or imaging
Between the lens unit 40 and the photosensitive material 14 (for example,
(In the vicinity of the constant mirror 48),
Therefore, a so-called dodging-processed image is obtained.
A liquid crystal light control exhibiting a change in density (polarization)
Even if the member is arranged near the photosensitive material 14, the above dodging
A controlled image is obtained. In addition, soft focus processing
First liquid arranged and arranged to obtain a controlled image
A crystal light control member and a structure to obtain the above dodging effect
By using in combination with the arranged second liquid crystal light control member
Soft focus and dodging
An image is obtained.
As the liquid crystal whose density (polarized light) changes,
Nematic liquid crystal, super twisted nematic liquid crystal,
Or a guest-host type liquid crystal.
By doing so, a liquid crystal with a dodging effect can be obtained.
You.
[0061]
According to the invention described above, the liquid crystal light control section is provided.
Variable image light adjusted to scattered light and non-scattered light by material
By subjecting the photosensitive material to slit scanning exposure
Scattered only by electrical control without mechanical movement
Light and light scattered light can be generated.
The liquid crystal light adjusting member has a scattering rate in the main scanning direction.
Since it can be different, the processing form
Different images can be mixed. And this is it
Image can be achieved with a single slit scanning exposure
Thus, an image can be easily and quickly formed. Ma
In addition, the boundary of each segment of the liquid crystal light control member is zigzag
This compensates for the continuity of the image boundaries.
Therefore, a natural image can be obtained.
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に適用される液晶調光部材の第1の実
施の形態を示す分解斜視図。
【図2】図1に示した液晶調光部材100の層構成を示
す断面構成図。
【図3】図1に示した液晶調光部材100を構成する透
明電極101を示す配置図。
【図4】図1に示した液晶調光部材100の駆動方法を
説明するための図。
【図5】処理形態の異なる領域を含む画像を示す図。
【図6】液晶109の散乱散乱度特性を示す特性図。
【図7】各透明電極に印加される電圧を示す図。
【図8】図1に示した液晶調光部材100の散乱特性を
示す特性図。
【図9】図1に示した液晶調光部材100のスペクトラ
ム特性を示す特性図。
【図10】この発明に適用される液晶調光部材の第2の
実施の形態を示す図。
【図11】図10に示した電極X1〜Xnの構造を示す
図。
【図12】図11に示した電極X1〜Xnを構成する電
極Xa、Xbに印加する電圧を示す図。
【図13】この発明に係る液晶調光部材が適用される画
像形成装置を示す概略構成図。
【図14】この発明に係るソフトフォーカス処理を示す
説明図。
【図15】この発明に係るソフトフォーカス処理を示す
説明図。
【図16】この発明に係るソフトフォーカス処理を示す
説明図。
【符号の説明】
100 液晶調光部材
101、103、171、173透明電極
105、107 ガラス基板
109 液晶
112 スリット光領域
151、153 配向膜
155、157 絶縁膜
159、161、反射防止膜
181 ゲイン可変アンプ
183 D/A変換器
185 制御バスBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an exploded perspective view showing a first embodiment of a liquid crystal light adjusting member applied to the present invention. FIG. 2 is a sectional configuration diagram showing a layer configuration of the liquid crystal light adjusting member 100 shown in FIG. FIG. 3 is a layout view showing a transparent electrode 101 constituting the liquid crystal light adjusting member 100 shown in FIG. FIG. 4 is a diagram for explaining a method of driving the liquid crystal light adjusting member 100 shown in FIG. FIG. 5 is a diagram showing an image including regions having different processing modes. FIG. 6 is a characteristic diagram showing the scattering characteristic of the liquid crystal 109. FIG. 7 is a diagram showing a voltage applied to each transparent electrode. FIG. 8 is a characteristic diagram showing a scattering characteristic of the liquid crystal light adjusting member 100 shown in FIG. FIG. 9 is a characteristic diagram showing spectrum characteristics of the liquid crystal light adjusting member 100 shown in FIG. FIG. 10 is a diagram showing a liquid crystal light control member according to a second embodiment of the invention. FIG. 11 is a diagram showing a structure of electrodes X1 to Xn shown in FIG. FIG. 12 is a diagram showing voltages applied to electrodes Xa and Xb constituting electrodes X1 to Xn shown in FIG. FIG. 13 is a schematic configuration diagram showing an image forming apparatus to which the liquid crystal light adjusting member according to the invention is applied. FIG. 14 is an explanatory diagram showing a soft focus process according to the present invention. FIG. 15 is an explanatory diagram showing a soft focus process according to the present invention. FIG. 16 is an explanatory diagram showing a soft focus process according to the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Liquid crystal light adjusting members 101, 103, 171, 173 Transparent electrodes 105, 107 Glass substrate 109 Liquid crystal 112 Slit light regions 151, 153 Alignment films 155, 157 Insulating films 159, 161, Antireflection film 181 Variable gain Amplifier 183 D / A converter 185 Control bus
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平2−277061(JP,A) 特開 平1−214837(JP,A) 特開 平1−257820(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03B 27/00 - 27/80 G02F 1/13 101 G02F 1/1343 Continuation of the front page (56) References JP-A-2-27761 (JP, A) JP-A 1-214837 (JP, A) JP-A 1-257820 (JP, A) (58) Fields studied (Int .Cl. 7 , DB name) G03B 27/00-27/80 G02F 1/13 101 G02F 1/1343
Claims (1)
光材料をスリット露光する露光方法において、スリット領域の副走査方向を複数の領域に分割するとと
もに各領域を主走査方向に分割し、副走査方向に分割さ
れた各領域に散乱部又は非散乱部を選択的に設定すると
ともに散乱部の主走査方向の散乱度合いを可変した 液晶
を介して得られる散乱光及び非散乱光を有する画像光を
副走査方向に相対移動させながら前記感光材料に照射す
るようにしたことを特徴とする露光方法。(57) [Claim 1] In an exposure method in which a photosensitive material is slit-exposed by relative scanning between image light and a photosensitive material, a sub-scanning direction of a slit region is divided into a plurality of regions.
Each area is divided in the main scanning direction and divided in the sub-scanning direction.
If the scattering area or non-scattering area is set selectively for each area
In both cases, image light having scattered light and non-scattered light obtained through a liquid crystal in which the degree of scattering in the main scanning direction of the scattering portion is varied is obtained.
An exposure method wherein the photosensitive material is irradiated while being relatively moved in a sub-scanning direction .
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