JP3422095B2 - Silver halide photographic materials - Google Patents
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、最終画像として銀画像
を形成するためのハロゲン化銀黒白写真感光材料の現像
処理方法に関するものであり、更に詳しくは、実質的に
明室と呼びうる環境下で取り扱うことができ、硬調なネ
ガ銀画像を形成することができる、写真製版の分野にお
いて好適な、返し用のハロゲン化銀黒白写真感光材料の
現像処理方法に関するものである。FIELD OF THE INVENTION The present invention relates to the development of a silver halide black and white photographic light-sensitive material to form a silver image as a final image.
More specifically, it relates to a processing method , and more specifically, it can be handled in an environment that can be called a bright room and can form a negative tone silver image with high contrast. of silver halide black-and-white photographic light-sensitive material
The present invention relates to a development processing method .
【0002】[0002]
【従来の技術】印刷複製の分野における写真製版工程の
うち、特に集版、返しの作業工程においては、より明る
い環境下で作業を行うことで、作業能率、作業環境の向
上がはかられており、実質的に明室と呼びうる環境下で
取り扱うことのできる製版用ハロゲン化銀感光材料が提
供されている。可視光に対する感度を低くして、明室で
取扱可能な感光材料を作る方法としては、塩化銀を主体
とするハロゲン化銀乳剤にロジウム塩、イリジウム塩、
ピナクリプトールイエロー、フェノサフラニン等の無機
および有機減感剤を添加した乳剤を用いる方法がよく知
られている。特に化学増感を施さない0.05〜0.5
μmの微粒子塩化銀もしくは微粒子塩臭化銀乳剤にロジ
ウム塩及び/または有機減感剤を用いる方法が好ましく
用いられている。さらにこれらの乳剤と組み合わせて、
感度調整、セーフライト安全性の付与の目的で、イエロ
ー染料や紫外線吸収染料を感光材料中に含有させる方法
が用いられる。2. Description of the Related Art Among photoengraving processes in the field of print reproduction, particularly in the work processes of collecting and returning plates, the work efficiency and work environment are improved by working in a brighter environment. That is, there is provided a silver halide light-sensitive material for plate making that can be handled in an environment that can be called a bright room. As a method of making a light-sensitive material that can be handled in a bright room by lowering its sensitivity to visible light, a silver halide emulsion mainly containing silver chloride, a rhodium salt, an iridium salt,
A method using an emulsion to which inorganic and organic desensitizers such as pinacryptol yellow and phenosafranine are added is well known. 0.05 to 0.5 without chemical sensitization
A method of using a rhodium salt and / or an organic desensitizer in a fine grain silver chloride or fine grain silver chlorobromide emulsion having a size of μm is preferably used. Furthermore, in combination with these emulsions,
A method of incorporating a yellow dye or an ultraviolet absorbing dye into a light-sensitive material is used for the purpose of sensitivity adjustment and safelight safety.
【0003】一方、集版、返し工程に用いられる感光材
料は、線画、網点画像の再生を良好ならしめるために、
画像部と非画像部が明瞭に区別された高い黒化濃度をも
つ、いわゆる超硬調な写真特性を有するものが求められ
ている。特に、返し原稿としての網点画像と線画像原稿
を重ねて露光する(いわゆる抜き文字画像形成を行う)
場合、線画の再現性能(抜き文字品質)が良好である感
光材料が求められている。On the other hand, the light-sensitive material used in the plate-collecting and reversing process has the following features:
There is a demand for what has a so-called ultra-high contrast photographic property, which has a high blackening density in which image areas and non-image areas are clearly distinguished. In particular, the halftone image and the line image original as the return original are overlapped and exposed (so-called character image formation is performed).
In this case, there is a demand for a light-sensitive material having good line drawing reproduction performance (extracted character quality).
【0004】超硬調な写真特性を感光材料に付与する方
法としては、ビトラジン誘導体や、テトラゾリウム化合
物を感光材料中に含有させる方法などが知られている
が、前述した無機および有機減感剤やイエロー染料や紫
外線吸収染料を感光材料中に含有させる方法を組合せる
と、ヒドラジン誘導体やテトラゾリウム化合物による硬
調化効果を阻害したり、良好な線画の再現性能を喪失さ
せてしまうという問題が生じる場合があった。As a method for imparting ultra-high contrast photographic characteristics to a light-sensitive material, a method of incorporating a vitrazine derivative or a tetrazolium compound into the light-sensitive material is known, and the above-mentioned inorganic and organic desensitizers and yellow. When a method of incorporating a dye or an ultraviolet-absorbing dye into the light-sensitive material is combined, problems may occur such that the contrast enhancement effect of the hydrazine derivative or tetrazolium compound is obstructed and good line drawing reproduction performance is lost. It was
【0005】返し用ハロゲン化銀黒白写真感光材料にお
ける超硬調な写真特性が得られる画像システムとして、
特開昭60−140338号、同61−238049
号、同63−183438号、同63−296034
号、同61−198147号、同61−198148
号、同61−240235号で開示されている。しかし
ながら、これらの発明において使用されている現像液の
pHは11以上である。pH11以上の現像液は空気酸
化され易く不安定で、長期の保存に耐えないため、ヒド
ラジン誘導体を含むハロゲン化銀写真感光材料をより低
いpHの現像液で現像し、硬調な画像が得られるシステ
ムが要望されている。As an image system capable of obtaining ultrahigh contrast photographic characteristics in a silver halide black and white photographic light-sensitive material for return,
JP-A-60-140338, JP-A-61-238049
No. 63-183438, No. 63-296034.
No. 61-198147, No. 61-198148.
No. 61-240235. However, the pH of the developer used in these inventions is 11 or more. A developer with a pH of 11 or more is easily oxidized by air and is unstable and cannot withstand long-term storage. Therefore, a silver halide photographic light-sensitive material containing a hydrazine derivative is developed with a developer having a lower pH to obtain a high contrast image. Is required.
【0006】ところが、現像液のpHが低いとヒドラジ
ン誘導体による硬調化効果が低下し、硬調な画像が得ら
れない。硬調化を促進させるために、より高活性なヒド
ラジン誘導体および造核促進剤の開発が試みられてきた
が、感光材料の長期保存安定性を低下させる場合があっ
た。However, when the pH of the developing solution is low, the effect of increasing the contrast of the hydrazine derivative is lowered, and a high contrast image cannot be obtained. Although attempts have been made to develop more active hydrazine derivatives and nucleation accelerators in order to promote higher contrast, the long-term storage stability of the light-sensitive material may be reduced in some cases.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、明るいセーフライト(実質的に明室)下で取り扱う
ことができ、超硬調な写真特性を有する返し用ハロゲン
化銀写真感光材料の現像処理方法を提供することにあ
る。本発明の第二の目的は、明るいセーフライト(実質
的に明室)下で取り扱うことができ、線画の再現性能
(抜き文字品質)が良好である感光材料の現像処理方法
を提供することにある。本発明の第三の目的は、空気酸
化に対し安定なpHが11以下の低pH現像液で処理し
ても超硬調な写真特性を有し、抜き文字品質が良好であ
る感光材料の現像処理方法を提供することにある。本発
明の第四の目的は、長期保存安定性が良好である感光材
料を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION A first object of the present invention is to provide a reversal silver halide photographic light-sensitive material which can be handled under bright safelight (substantially bright room) and has ultrahigh contrast photographic characteristics. Another object of the present invention is to provide a development processing method . A second object of the present invention is to provide a method for processing a light-sensitive material which can be handled under a bright safelight (substantially in a bright room) and has good line image reproduction performance (extracted character quality). To provide. A third object of the present invention, even when a stable pH to air oxidation is treated with 11 or lower pH developers have ultrahigh contrast photographic characteristics, development of the light-sensitive material outline characters quality is good To provide a method . A fourth object of the present invention is to provide a light-sensitive material having good long-term storage stability.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明のこれらの目的
は、支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を
有する明室用ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法
において、該乳剤層に、Ir、Ru、Rh、Reおよび
Crから選ばれる重金属イオンを銀1モル当たり少なく
とも1×10-5モル含有しセレン増感剤及びテルル増感
剤の少なくとも1つによって化学増感された塩化銀含有
率95モル%以上のハロゲン化銀を含み、該乳剤層又は
その他の親水性コロイド層の少なくとも1層に一般式
(VI) で表わされるヒドラジン誘導体と一般式(VII)
〜(X)で表わされる造核促進剤の少なくとも1種を含
有する明室用ハロゲン化銀写真感光材料を、pH9.0
〜11.0の現像液で処理することを特徴とする現像処
理方法によって達成された。These and other objects of the present invention are provided in a method for processing a silver halide photographic light-sensitive material for a bright room having at least one silver halide emulsion layer on a support. The emulsion layer contains at least 1 × 10 −5 mol of a heavy metal ion selected from Ir, Ru, Rh, Re and Cr per mol of silver, and is chemically sensitized with at least one of a selenium sensitizer and a tellurium sensitizer. A hydrazine derivative represented by the general formula (VI) and a general formula (VII) in at least one of the emulsion layer and the other hydrophilic colloid layer, which contains a perceived silver chloride content of 95 mol% or more.
To (X), a bright-room silver halide photographic light-sensitive material containing at least one of nucleation accelerators having a pH of 9.0.
~ 11.0 developer processing characterized by processing
It was achieved by a logical method .
【0009】以下、本発明について詳述する。本発明に
使用するハロゲン化銀乳剤は、Rh、Ir、Ru、R
e、Crから選ばれる重金属を少なくとも一種含有す
る。これらの重金属として好ましいものは、金属配位錯
体であり、下の一般式で表わされる六配位錯体である。
〔M(NY)m L6-m 〕n
(式中、MはRh、Ir、Ru、Re、Crから選ばれ
る重金属である。Lは架橋配位子である。Yは酸素又は
硫黄である。m=0、1、2であり、n=0、−1、−
2、−3である。)Lの好ましい具体例としてはハロゲ
ン化物配位子(フッ化物、塩化物、臭化物及びヨウ化
物)、シアン化物配位子、シアネート配位子、チオシア
ネート配位子、セレノシアネート配位子、テルロシアネ
ート配位子、アシド配位子及びアコ配位子が挙げられ
る。アコ配位子が存在する場合には、配位子の1つ又は
2つを占めることが好ましい。以下に金属配位錯体の具
体例を示す。
1.〔Rh(H2O)Cl5〕-2
2.〔RuCl6 〕-3
3.〔Ru(NO)Cl5 〕-2
4.〔RhCl6 〕-3
5.〔Ru(H20)Cl5〕-2
6.〔Ru(NO)(H2O)Cl4〕-1
7.〔Re(NO)Cl5 〕-2
8.〔Ir(NO)Cl5 〕-2
9. 〔Ir(H20)Cl5〕-2
10.〔Re(H20)Cl5〕-2
11. 〔RhBr6 〕-3
12. 〔ReCl6 〕-3
13. 〔IrCl6 〕-3
14. 〔Re(NS)Cl4(SeCN) 〕-2
15. 〔Cr(CN)6 〕-3 The present invention will be described in detail below. To the present invention
The silver halide emulsion used is Rh, Ir, Ru, R
At least one heavy metal selected from e and Cr is contained. Preferred as these heavy metals are metal coordination complexes, and hexacoordination complexes represented by the following general formula. [M (NY) m L 6-m ] n (In the formula, M is a heavy metal selected from Rh, Ir, Ru, Re, and Cr. L is a bridging ligand. Y is oxygen or sulfur. M = 0, 1, 2 and n = 0, -1,-.
2 and -3. ) Preferred examples of L are halide ligands (fluoride, chloride, bromide and iodide), cyanide ligands, cyanate ligands, thiocyanate ligands, selenocyanate ligands, tellurocyan. Nate ligands, acid ligands and aco ligands. When an aco ligand is present, it preferably occupies one or two of the ligands. Specific examples of the metal coordination complex are shown below. 1. [Rh (H 2 O) Cl 5 ] -2 2. [RuCl 6 ] -3 3. [Ru (NO) Cl 5 ] -2 4. [RhCl 6 ] -3 5. [Ru (H 2 0) Cl 5 ] -2 6. [Ru (NO) (H 2 O) Cl 4 ] -1 7. [Re (NO) Cl 5 ] -2 8. [Ir (NO) Cl 5 ] -2 9. [Ir (H 2 0) Cl 5 ] -2 10. [Re (H 2 0) Cl 5] -2 11. [RhBr 6] -3 12. [ReCl 6] -3 13. [IrCl 6] -3 14. [Re (NS) Cl 4 (SeCN ) ] - 2 15. [Cr (CN) 6 ] -3
【0010】上記金属錯体をハロゲン化銀に含有せしめ
るには、粒子調製時に添加することができる。本発明に
使用するハロゲン化銀粒子中の該重金属の含有量は、ハ
ロゲン化銀1モル当たり1×10-5モル〜1×10-2モ
ルである。好ましくは10-5〜3×10-4モルである。
又、上記重金属は併用してもよい。ハロゲン化銀粒子中
の該重金属の分布には特に制限はないが、粒子外部によ
り多く存在することが好ましい。The above metal complex can be added to the silver halide during grain preparation. To the present invention
The content of the heavy metal in the silver halide grains used is 1 × 10 −5 mol to 1 × 10 −2 mol per mol of silver halide. It is preferably 10 −5 to 3 × 10 −4 mol.
Further, the above heavy metals may be used in combination. The distribution of the heavy metal in the silver halide grain is not particularly limited, but it is preferable that the heavy metal is more present outside the grain.
【0011】本発明に用いられる明室用ハロゲン化銀写
真感光材料のハロゲン化銀乳剤は95モル%以上、特に
99モル%以上が塩化銀からなる塩臭化銀、塩沃臭化銀
あるいは塩化銀である。臭化銀あるいは沃化銀の比率が
増加すると明室下でのセーフライト安全性の悪化、ある
いはγが低下して好ましくない。[0011] The silver halide emulsion of the bright room for silver halide photographic light-sensitive material of the present invention is 95 mol% or more, particularly 99 mol% or more is made of silver chloride silver chlorobromide, silver chloroiodobromide or chloride It is silver. If the proportion of silver bromide or silver iodide is increased, the safety of safelight in a bright room is deteriorated or γ is decreased, which is not preferable.
【0012】本発明で用いられるセレン増感剤として
は、従来公知の特許に開示されているセレン化合物を用
いることができる。すなわち通常、不安定型セレン化合
物および/または非不安定型セレン化合物を添加して、
高温、好ましくは40℃以上で乳剤を一定時間攪拌する
ことにより用いられる。不安定型セレン化合物としては
特公昭44−15748号、特公昭43−13489
号、特開平4−25832号、特開平4−109240
号、特願平3−82929号などに記載の化合物を用い
ることが好ましい。具体的な不安定セレン増感剤として
は、イソセレノシアネート類(例えばアリルイソセレノ
シアネートの如き脂肪族イソセレノシアネート類)、セ
レノ尿素類、セレノケトン類、セレノアミド類、セレノ
カルボン酸類(例えば、2−セレノプロピオン類、2−
セレノ酪酸)、セレノエステル類、ジアシルセレニド
類、(例えば、ビス(3−クロロ−2,6−ジメトキシ
ベンゾイル)セレニド)、セレノホスフェート類、ホス
フィンセレニド類、コロイド状金属セレンなどがあげら
れる。不安定型セレン化合物の好ましい類型を上に述べ
たがこれらは限定的なものではない。当業技術者には写
真乳剤の増感剤としての不安定型セレン化合物といえ
ば、セレンが不安定である限りに於いて該化合物の構造
はさして重要なものではなく、セレン増感剤分子の有機
部分はセレンを担持し、それを不安定な形で乳剤中に存
在せしめる以外何らの役割を持たないことが一般に理解
されている。本発明においては、かかる広範な概念の不
安定セレン化合物が有利に用いられる。本発明で用いら
れる非不安定型セレン化合物としては特公昭46−45
53号、特公昭52−34492号および特公昭52−
34491号に記載の化合物が用いられる。非不安定型
セレン化合物としては例えば亜セレン酸、セレノシアン
化カリウム、セレナゾール類、セレナゾール類の四級
塩、ジアリールセレニド、ジアリールジセレニド、ジア
ルキルセレニド、ジアルキルジセレニド、2−セレナゾ
リジンジオン、2−セレノオキサゾリジンチオンおよび
これらの誘導体等があげられる。これらのセレン化合物
のうち、好ましくは以下の一般式(I)および(II)が
あげられる。
一般式(I)As the selenium sensitizer used in the present invention, the selenium compounds disclosed in conventionally known patents can be used. That is, usually, an unstable selenium compound and / or a non-unstable selenium compound is added,
It is used by stirring the emulsion at a high temperature, preferably 40 ° C. or higher for a certain time. Unstable selenium compounds are disclosed in JP-B-44-15748 and JP-B-43-13489.
JP-A-4-25832 and JP-A-4-109240.
It is preferable to use the compounds described in Japanese Patent Application No. 3-82929 and Japanese Patent Application No. 3-82929. Specific examples of the unstable selenium sensitizer include isoselenocyanates (for example, aliphatic isoselenocyanates such as allyl isoselenocyanate), selenoureas, selenoketones, selenamides, selenocarboxylic acids (for example, 2- Selenopropion, 2-
(Selenobutyric acid), selenoesters, diacylselenides, (for example, bis (3-chloro-2,6-dimethoxybenzoyl) selenide), selenophosphates, phosphine selenides, colloidal metal selenium and the like. The preferred types of labile selenium compounds have been described above, but are not limiting. Stable selenium compounds as sensitizers for photographic emulsions are known to those skilled in the art, as long as selenium is unstable, the structure of the compounds is not so important, and organic compounds of selenium sensitizer molecules are not important. It is generally understood that the moieties carry selenium and play no role other than allowing it to be present in the emulsion in an unstable form. In the present invention, the labile selenium compound having such a broad concept is advantageously used. The non-unstable selenium compound used in the present invention is Japanese Patent Publication No. 46-45.
No. 53, Japanese Patent Publication No. 52-34492 and Japanese Patent Publication No. 52-
The compound described in 34491 is used. Examples of non-labile selenium compounds include selenious acid, potassium selenocyanide, selenazoles, quaternary salts of selenazoles, diaryl selenides, diaryl diselenides, dialkyl selenides, dialkyl diselenides, 2-selenazolidinediones, Examples include 2-selenooxazolidinethione and derivatives thereof. Of these selenium compounds, the following general formulas (I) and (II) are preferable. General formula (I)
【0013】[0013]
【化9】 [Chemical 9]
【0014】式中、Z1 およびZ2 はそれぞれ同じでも
異なっていてもよく、アルキル基(例えば、メチル基、
エチル基、t−ブチル基、アダマンチル基、t−オクチ
ル基)、アルケニル基(例えば、ビニル基、プロペニル
基)、アラルキル基(例えば、ベンジル基、フェネチル
基)、アリール基(例えば、フェニル基、ペンタフルオ
ロフェニル基、4−クロロフェニル基、3−ニトロフェ
ニル基、4−オクチルスルファモイルフェニル基、α−
ナフチル基)、複素環基(例えば、ピリジル基、チエニ
ル基、フリル基、イミダゾリル基)、−NR1(R2)、−
OR3 または−SR4 を表わす。R1 、R2 、R3 およ
びR4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、アルキ
ル基、アラルキル基、アリール基または複素環基を表わ
す。アルキル基、アラルキル基、アリール基または複素
環基としてはZ1 と同様な例があげられる。ただし、R
1 およびR2 は水素原子またはアシル基(例えば、アセ
チル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、ヘプタフルオ
ロブタノイル基、ジフルオロアセチル基、4−ニトロベ
ンゾイル基、α−ナフトイル基、4−トリフルオロメチ
ルベンゾイル基)であってもよい。一般式(I)中、好
ましくはZ1 はアルキル基、アリール基または−NR
1(R2)を表わし、Z2 は−NR5(R6)を表わす。R1 、
R2 、R5 およびR6 はそれぞれ同じでも異なっていて
もよく、水素原子、アルキル基、アリール基、またはア
シル基を表わす。一般式(I)中、より好ましくはN,
N−ジアルキルセレノ尿素、N,N,N’−トリアルキ
ル−N’−アシルセレノ尿素、テトラアルキルセレノ尿
素、N,N−ジアルキル−アリールセレノアミド、N−
アルキル−N−アリール−アリールセレノアミドを表わ
す。
一般式(II)In the formula, Z 1 and Z 2, which may be the same or different, each represents an alkyl group (for example, a methyl group,
Ethyl group, t-butyl group, adamantyl group, t-octyl group), alkenyl group (eg vinyl group, propenyl group), aralkyl group (eg benzyl group, phenethyl group), aryl group (eg phenyl group, penta) Fluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 3-nitrophenyl group, 4-octylsulfamoylphenyl group, α-
Naphthyl group), heterocyclic group (for example, pyridyl group, thienyl group, furyl group, imidazolyl group), -NR 1 (R 2 ),-
Represent OR 3 or -SR 4. R 1 , R 2 , R 3 and R 4, which may be the same or different, each represents an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. Examples of the alkyl group, aralkyl group, aryl group or heterocyclic group are the same as those for Z 1 . However, R
1 and R 2 are a hydrogen atom or an acyl group (for example, acetyl group, propanoyl group, benzoyl group, heptafluorobutanoyl group, difluoroacetyl group, 4-nitrobenzoyl group, α-naphthoyl group, 4-trifluoromethylbenzoyl group ) May be sufficient. In formula (I), Z 1 is preferably an alkyl group, an aryl group or —NR
1 (R 2 ) and Z 2 represents -NR 5 (R 6 ). R 1 ,
R 2 , R 5 and R 6, which may be the same or different, each represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group or an acyl group. In the general formula (I), more preferably N,
N-dialkylselenourea, N, N, N'-trialkyl-N'-acylselenourea, tetraalkylselenourea, N, N-dialkyl-arylselenoamide, N-
Represents an alkyl-N-aryl-arylselenoamide. General formula (II)
【0015】[0015]
【化10】 [Chemical 10]
【0016】式中、Z3 、Z4 及びZ5 は各々同じでも
異なっていてもよく、脂肪族基、芳香族基、複素環基、
−OR7 、−NR8(R9)、−SR10、−SeR11、X、
水素原子を表わす。R7 、R10およびR11は脂肪族基、
芳香族基、複素環基、水素原子またはカチオンを表わ
し、R8 およびR9 は脂肪族基、芳香族基、複素環基ま
たは水素原子を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。一
般式(II) において、Z3 、Z4 、Z5 、R7 、R8 、
R9 、R10およびR11で表わされる脂肪族基は直鎖、分
岐または環状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アラルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基、t−ブチル基、n−ブチ
ル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシ
ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アリル
基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基、プロパルギル
基、3−ペンチニル基、ベンジル基、フェネチル基)を
表わす。一般式(II)において、Z3 、Z4 、Z5 、R
7 、R8 、R9 、R10およびR11で表わされる芳香族基
は単環または縮環のアリール基(例えば、フェニル基、
ペンタフルオロフェニル基、4−クロロフェニル基、3
−スルホフェニル基、α−ナフチル基、4−メチルフェ
ニル基)を表わす。一般式(II)において、Z3、
Z4 、Z5 、R7 、R8 、R9 、R10およびR11で表わ
される複素環基は窒素原子、酸素原子または硫黄原子の
うち少なくとも一つを含む3〜10員環の飽和もしくは
不飽和の複素環基(例えば、ピリジル基、チエニル基、
フリル基、チアゾリル基、イミダゾリル基、ベンズイミ
ダゾリル基)を表わす。一般式(II)において、R7 、
R10およびR11で表わされるカチオンはアルカリ金属原
子またはアンモニウムを表わし、Xで表わされるハロゲ
ン原子は、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子また
は沃素原子を表わす。一般式(II)中、好ましくは
Z3 、Z4 またはZ5 は脂肪族基、芳香族基または−O
R7 を表わし、R7 は脂肪族基または芳香族基を表わ
す。一般式(II)中、より好ましくはトリアルキルホス
フィンセレニド、トリアリールホスフィンセレニド、ト
リアルキルセレノホスフェートまたはトリアリールセレ
ノホスフェートを表わす。以下に一般式(I)および
(II)で表わされる化合物の具体例を示すが、本発明は
これに限定されるものではない。In the formula, Z 3 , Z 4 and Z 5, which may be the same or different, each represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group,
-OR 7 , -NR 8 (R 9 ), -SR 10 , -SeR 11 , X,
Represents a hydrogen atom. R 7 , R 10 and R 11 are aliphatic groups,
It represents an aromatic group, a heterocyclic group, a hydrogen atom or a cation, R 8 and R 9 represent an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and X represents a halogen atom. In the general formula (II), Z 3 , Z 4 , Z 5 , R 7 , R 8 ,
The aliphatic group represented by R 9 , R 10 and R 11 is a linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group, alkynyl group, aralkyl group (eg, methyl group, ethyl group, n-group).
Propyl group, isopropyl group, t-butyl group, n-butyl group, n-octyl group, n-decyl group, n-hexadecyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, allyl group, 2-butenyl group, 3-pentenyl group, A propargyl group, a 3-pentynyl group, a benzyl group, a phenethyl group). In the general formula (II), Z 3 , Z 4 , Z 5 , R
The aromatic group represented by 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 is a monocyclic or condensed aryl group (for example, a phenyl group,
Pentafluorophenyl group, 4-chlorophenyl group, 3
-Sulfophenyl group, α-naphthyl group, 4-methylphenyl group). In the general formula (II), Z 3 ,
The heterocyclic group represented by Z 4 , Z 5 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 and R 11 is a saturated or 3- to 10-membered ring containing at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom or a sulfur atom. Unsaturated heterocyclic groups (eg, pyridyl group, thienyl group,
Furyl group, thiazolyl group, imidazolyl group, benzimidazolyl group). In the general formula (II), R 7 ,
The cation represented by R 10 and R 11 represents an alkali metal atom or ammonium, and the halogen atom represented by X represents, for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. In formula (II), Z 3 , Z 4 or Z 5 is preferably an aliphatic group, an aromatic group or -O.
Represents R 7, R 7 represents an aliphatic group or an aromatic group. In formula (II), trialkylphosphine selenide, triarylphosphine selenide, trialkylselenophosphate or triarylselenophosphate is more preferable. Specific examples of the compounds represented by formulas (I) and (II) are shown below, but the invention is not limited thereto.
【0017】[0017]
【化11】 [Chemical 11]
【0018】[0018]
【化12】 [Chemical 12]
【0019】[0019]
【化13】 [Chemical 13]
【0020】[0020]
【化14】 [Chemical 14]
【0021】[0021]
【化15】 [Chemical 15]
【0022】[0022]
【化16】 [Chemical 16]
【0023】[0023]
【化17】 [Chemical 17]
【0024】[0024]
【化18】 [Chemical 18]
【0025】本発明で用いられるテルル増感剤として
は、例えば、米国特許第1,623,499号、同第
3,320,069号、同第3,772,031号、英
国特許第235,211号、同第1,121,496
号、同第1,295,462号、同第1,396,69
6号、カナダ特許第800,958号、特願平2−33
3819号、同3−53693号、同3−131598
号、同4−129787号、ジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイアティー・ケミカル・コミュニケーション
(J.Chem.Soc.Chem.Commun.) 635(1980)、ibid 1102(19
79) 、ibid 645(1979)、ジャーナル・オブ・ケミカル・
ソサイアティー・パーキン・トランザクション(J.Che
m.Soc.Perkin Trans.) 1, 2191(1980) 、S.パタイ(S.P
atai)編、ザ・ケミストリー・オブ・オーガニック・セ
レニウム・アンド・テルリウム・カンパウンズ(The Ch
emistry of Organic Selenium and Tellurium compound
s), Vol 1(1986) 、同Vol 2(1987) に記載の化合物を用
いることが好ましい。具体的なテルル増感剤としては、
例えばコロイド状テルル、テルロ尿素類(例えばアリル
テルロ尿素、N,N−ジメチルテルロ尿素、テトラメチ
ルテルロ尿素、N−カルボキシエチル−N’N’−ジメ
チルテルロ尿素、N,N’−ジメチルエチレンテルロ尿
素、N,N’−ジフェニルエチレンテルロ尿素)、イソ
テルロシアナート類(例えばアリルイソテルロシアナー
ト)、テルロケトン類(例えばテルロアセトフェノ
ン)、テルロアミド類(例えばテルロアセトアミド、
N,N−ジメチルテルロベンズアミド)、テルロヒドラ
ジド(例えばN,N’,N’−トルメチルテルロベンズ
ヒドラジド)、テルロエステル(例えばt−ブチル−t
−ヘキシルテルロエステル)、ホスフィンテルリド類
(例えばトリブチルホスフィンテルリド、トリシクロヘ
キシルホスフィンテルリド、トリイソプロピルホスフィ
ンテルリド、ブチル−ジイソプロピルホスフィンテルリ
ド、ジブチルフェニルホスフィンテルリド)、ジアシル
(ジ)テルリド類(例えばビス(ジフェニルカルバモイ
ル)ジテルリド、ビス(N−フェニル−N−メチルカル
バモイル)ジテルリド、ビス(N−フェニル−N−メチ
ルカルバモイル)テルリド、ジエチルカルバモイルテル
リド、ビス(エトキシカルボニル)テルリド)、(ジ)
テルリド類、他のテルル化合物(例えば英国特許第1,
295,462号記載の負電荷のテルライドイオン含有
ゼラチン、ポタシウムテルリド、ポタシウムテルロシア
ナート、テルロペンタチオネートナトリウム塩、アリル
テルロシアネート)があげられる。これらのテルル化合
物のうち、好ましくは下記一般式(III) 、(IV) および
(V)が挙げられる。
一般式(III)Examples of the tellurium sensitizer used in the present invention include US Pat. Nos. 1,623,499, 3,320,069, 3,772,031 and British Patent 235. No. 211, No. 1,121,496
No. 1, No. 1,295,462, No. 1,396,69
6, Canadian Patent No. 800,958, Japanese Patent Application No. 2-33
No. 3819, No. 3-53693, No. 3-131598.
No. 4-129787, Journal of Chemical Society Chemical Communication (J.Chem.Soc.Chem.Commun.) 635 (1980), ibid 1102 (19
79), ibid 645 (1979), Journal of Chemicals
Society Perkin Transaction (J.Che
m.Soc.Perkin Trans.) 1, 2191 (1980), S. Patay (SP
atai), The Chemistry of Organic Selenium and Tellurium Companies (The Ch
emistry of Organic Selenium and Tellurium compound
s), Vol 1 (1986), and Vol 2 (1987). As a specific tellurium sensitizer,
For example, colloidal tellurium, telluroureas (eg, allyl tellurourea, N, N-dimethyl tellurourea, tetramethyl tellurourea, N-carboxyethyl-N′N′-dimethyltelurourea, N, N′-dimethylethylene tellurourea, N, N'-diphenylethylene tellurourea), isotellocyanates (for example, allyl isotellurocyanate), telluroketones (for example, telluroacetophenone), telluroamides (for example, telluroacetamide,
N, N-dimethyl tellurobenzamide), tellurohydrazide (eg N, N ′, N′-tolumethylmethyl tellurobenzhydrazide), telluroester (eg t-butyl-t)
-Hexyl telluroester), phosphine tellurides (for example, tributylphosphine telluride, tricyclohexylphosphine telluride, triisopropylphosphine telluride, butyl-diisopropylphosphine telluride, dibutylphenylphosphine telluride), diacyl (di) tellurides ( For example, bis (diphenylcarbamoyl) ditelluride, bis (N-phenyl-N-methylcarbamoyl) ditelluride, bis (N-phenyl-N-methylcarbamoyl) telluride, diethylcarbamoyltelluride, bis (ethoxycarbonyl) telluride), (di)
Tellurides, other tellurium compounds (eg British Patent No. 1,
Negatively charged telluride ion-containing gelatin described in No. 295,462, potassium telluride, potassium tellurocyanate, telluropentathionate sodium salt, allyl tellurocyanate). Of these tellurium compounds, the following general formulas (III), (IV) and (V) are preferable. General formula (III)
【0026】[0026]
【化19】 [Chemical 19]
【0027】式中、R11、R12およびR13は脂肪族基、
芳香族基、複素環基、OR14、NR15(R16)、S
R17、OSiR18(R19)(R20)、Xまたは水素原子
を表わす。R14およびR17は脂肪族基、芳香族基、複素
環基、水素原子またはカチオンを表わし、R15およびR
16は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素原子を表
わし、R18、R19およびR20は脂肪族基を表わし、Xは
ハロゲン原子を表わす。次に一般式(III)について詳細
に説明する。一般式(III) において、R11、R12、
R13、R14、R15、R16、R17、R18、R19およびR20
で表わされる脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30のも
のであって、特に炭素数1〜20の直鎖、分岐または環
状のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラル
キル基である。アルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、アラルキル基としては、例えばメチル、エチル、n
−プロピル、イソプロピル、t−ブチル、n−オクチ
ル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニ
ル、プロパルギル、3−ペンチニル、ベンジル、フェネ
チルがあげられる。一般式(III) において、R11、
R12、R13、R14、R15、R16およびR17で表わされる
芳香族基は好ましくは炭素数6〜30のものであって、
特に炭素数6〜20の単環または縮環のアリール基であ
り、例えばフェニル、ナフチルがあげられる。一般式(I
II) において、R11、R12、R13、R14、R15、R16お
よびR17で表わされる複素環基は窒素原子、酸素原子お
よび硫黄原子のうち少なくとも一つを含む3〜10員環
の飽和もしくは不飽和の複素環基である。これらは単環
であってもよいし、さらに他の芳香環もしくは複素環と
縮合環を形成してもよい。複素環基としては、好ましく
は5〜6員環の芳香族複素環であり、例えばピリジル、
フリル、チエニル、チアゾリル、イミダゾリル、ベンズ
イミダゾリルがあげられる。一般式(III) において、R
14およびR17で表わされるカチオンはアルカリ金属、ア
ンモニウムを表わす。一般式(III) において、Xで表わ
されるハロゲン原子は、例えばフッ素原子、塩素原子、
臭素原子および沃素原子を表わす。また、この脂肪族
基、芳香族基および複素環基は置換されていてもよい。
置換基としては以下のものがあげられる。代表的な置換
基としては例えば、アルキル基、アラルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、ア
リールオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド
基、ウレタン基、スルホニルアミノ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、
アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、アシルオキシ基、リン酸アミド基、ジ
アシルアミノ基、イミド基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、カルボキ
シ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基、ニトロ基、およびヘ
テロ環基等があげられる。これらの基はさらに置換され
ていてもよい。置換基が2つ以上あるときは同じでも異
なっていてもよい。R11、R12、R13は互いに結合して
リン原子と一緒に環を形成してもよく、またR15とR16
は結合して含窒素複素環を形成してもよい。一般式(II
I) 中、好ましくはR11、R12およびR13は脂肪族基ま
たは芳香族基を表わし、より好ましくはアルキル基また
は芳香族基を表わす。
一般式(IV)In the formula, R 11 , R 12 and R 13 are aliphatic groups,
Aromatic group, heterocyclic group, OR 14 , NR 15 (R 16 ), S
It represents R 17 , OSiR 18 (R 19 ) (R 20 ), X or a hydrogen atom. R 14 and R 17 represent an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, a hydrogen atom or a cation, and R 15 and R 17
16 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, R 18 , R 19 and R 20 represent an aliphatic group, and X represents a halogen atom. Next, the general formula (III) will be described in detail. In the general formula (III), R 11 , R 12 ,
R 13 , R 14 , R 15 , R 16 , R 17 , R 18 , R 19 and R 20
The aliphatic group represented by is preferably one having 1 to 30 carbon atoms, and particularly a straight chain, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group, alkynyl group or aralkyl group having 1 to 20 carbon atoms. Examples of the alkyl group, alkenyl group, alkynyl group and aralkyl group include methyl, ethyl, n
-Propyl, isopropyl, t-butyl, n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopentyl,
Examples thereof include cyclohexyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, propargyl, 3-pentynyl, benzyl and phenethyl. In the general formula (III), R 11 ,
The aromatic group represented by R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 preferably has 6 to 30 carbon atoms,
Particularly, it is a monocyclic or condensed ring aryl group having 6 to 20 carbon atoms, and examples thereof include phenyl and naphthyl. General formula (I
In II), the heterocyclic group represented by R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 is a 3- to 10-membered compound containing at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom. It is a saturated or unsaturated heterocyclic group of the ring. These may be a single ring or may form a condensed ring with another aromatic ring or a heterocycle. The heterocyclic group is preferably a 5- or 6-membered aromatic heterocycle, such as pyridyl,
Furyl, thienyl, thiazolyl, imidazolyl and benzimidazolyl can be mentioned. In the general formula (III), R
The cations represented by 14 and R 17 are alkali metals and ammonium. In the general formula (III), the halogen atom represented by X is, for example, a fluorine atom, a chlorine atom,
Represents a bromine atom and an iodine atom. Further, the aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group may be substituted.
The following are mentioned as a substituent. Examples of typical substituents include alkyl groups, aralkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aryl groups, alkoxy groups, aryloxy groups, amino groups, acylamino groups, ureido groups, urethane groups, sulfonylamino groups, sulfamoyl groups, Carbamoyl group, sulfonyl group, sulfinyl group,
Alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, acyloxy group, phosphoramide group, diacylamino group, imide group, alkylthio group, arylthio group, halogen atom, cyano group, sulfo group, carboxy group, hydroxy group, phosphono Group, nitro group, and heterocyclic group. These groups may be further substituted. When there are two or more substituents, they may be the same or different. R 11 , R 12 and R 13 may combine with each other to form a ring together with a phosphorus atom, and R 15 and R 16
May combine with each other to form a nitrogen-containing heterocycle. General formula (II
In I), preferably R 11 , R 12 and R 13 represent an aliphatic group or an aromatic group, more preferably an alkyl group or an aromatic group. General formula (IV)
【0028】[0028]
【化20】 [Chemical 20]
【0029】式中、R21は脂肪族基、芳香族基、複素環
基または−NR23(R24)を表わし、R22は−NR
25(R26)、−N(R27)N(R28)R29または−OR
30を表わす。R23、R24、R25、R26、R27、R28、R
29およびR30は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環
基またはアシル基を表わす。ここでR21とR25、R21と
R27、R21とR28、R21とR30、R23とR25、R23とR
27、R23とR28およびR23とR30は結合して環を形成し
てもよい。次に一般式(IV)について詳細に説明する。
一般式(IV)において、R21、R22、R23、R24、
R25、R26、R27、R28、R29およびR30で表わされる
脂肪族基、芳香族基および複素環基は一般式(III) と同
意義を表わす。一般式(IV)において、R23、R24、R
25、R26、R27、R28、R29およびR30で表わされるア
シル基は好ましくは炭素数1〜30のものであって、特
に炭素数1〜20の直鎖または分岐のアシル基であり、
例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイル、
デカノイルがあげられる。ここでR21とR25、R21とR
27、R21とR28、R21とR30、R23とR25、R23と
R27、R23とR28およびR23とR30が結合して環を形成
する場合は例えばアルキレン基、アリーレン基、アラル
キレン基またはアルケニレン基等があげられる。また、
この脂肪族基、芳香族基、および複素環基は一般式(II
I) であげた置換基で置換されていてもよい。一般式(I
V)中、好ましくはR21は脂肪族基、芳香族基または−
NR23(R24)を表わし、R22は−NR25(R26)を表
わす。R23、R24、R25およびR26は脂肪族基または芳
香族基を表わす。一般式(IV)中、より好ましくはR21
は芳香族基または−NR23(R24)を表わし、R22は−
NR25(R26)を表わす。R23、R24、R25およびR26
はアルキル基または芳香族基を表わす。ここで、R21と
R25およびR23とR25はアルキレン基、アリーレン基、
アラルキレン基またはアルケニレン基を介して環を形成
することもより好ましい。
一般式(V)In the formula, R 21 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or --NR 23 (R 24 ) and R 22 represents --NR.
25 (R 26), - N (R 27) N (R 28) R 29 or -OR
Represents 30 . R 23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R
29 and R 30 represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or an acyl group. Where R 21 and R 25 , R 21 and R 27 , R 21 and R 28 , R 21 and R 30 , R 23 and R 25 , R 23 and R
27 , R 23 and R 28, and R 23 and R 30 may combine to form a ring. Next, general formula (IV) will be described in detail.
In the general formula (IV), R 21 , R 22 , R 23 , R 24 ,
The aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group represented by R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 and R 30 have the same meanings as in formula (III). In the general formula (IV), R 23 , R 24 , R
The acyl group represented by 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 and R 30 is preferably one having 1 to 30 carbon atoms, and particularly preferably a straight chain or branched acyl group having 1 to 20 carbon atoms. Yes,
For example, acetyl, benzoyl, formyl, pivaloyl,
Decanoyl is given. Where R 21 and R 25 , R 21 and R
27, R 21 and R 28, R 21 and R 30, R 23 and R 25, R 23 and R 27, if R 23 and R 28 and R 23 and R 30 are combined to form a ring, for example an alkylene group , An arylene group, an aralkylene group or an alkenylene group. Also,
The aliphatic group, aromatic group, and heterocyclic group have the general formula (II
It may be substituted with the substituents mentioned in I). General formula (I
In V), preferably R 21 is an aliphatic group, an aromatic group or-
NR 23 (R 24 ) is represented, and R 22 is —NR 25 (R 26 ). R 23 , R 24 , R 25 and R 26 represent an aliphatic group or an aromatic group. In formula (IV), more preferably R 21
Represents an aromatic group or —NR 23 (R 24 ), and R 22 represents —
Represents NR 25 (R 26 ). R 23 , R 24 , R 25 and R 26
Represents an alkyl group or an aromatic group. Here, R 21 and R 25 and R 23 and R 25 are an alkylene group, an arylene group,
It is more preferable to form a ring via an aralkylene group or an alkenylene group. General formula (V)
【0030】[0030]
【化21】 [Chemical 21]
【0031】式中、R31およびR32は同じであっても異
なっていてもよく、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−
(C=Y′)−R33を表わす。R33は水素原子、脂肪族
基、芳香族基、複素環基、NR34(R35)、OR36また
はSR37を表わし、Y′は酸素原子、硫黄原子またはN
R38を表わす。R34、R35、R36、R37およびR38は水
素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表わし、
nは1または2を表わす。次に一般式(V)について詳
細に説明する。一般式(V)においてR31、R32、
R33、R34、R35、R36、R37およびR38で表わされる
脂肪族基、芳香族基または複素環基は一般式(III) の各
々と同意義を表わす。また、R31、R32、R33、R34、
R35、R36、R37およびR38で表わされる脂肪族基、芳
香族基および複素環基は一般式(III) であげた置換基で
置換されていてもよい。ここで、R31とR32およびR34
とR35は結合して環を形成してもよい。一般式(V)
中、好ましくはR31およびR32は複素環基または−(C
=Y′)−R33を表わす。R33はNR34(R35)または
OR36を表わし、Y′は酸素原子を表わす。R34、R35
およびR36は脂肪族基、芳香族基または複素環基を表わ
す。一般式(V)中、より好ましくはR31およびR32は
−(C=Y′)−R33を表わす。R33はNR34(R35)
を表わし、Y′は酸素原子を表わす。R34およびR35は
脂肪族基、芳香族基または複素環基を表わす。下記化2
0〜34に本発明の一般式(III) 、(IV)および(V)で
表わされる化合物の具体例を示すが、本発明はこれに限
定されるものではない。In the formula, R 31 and R 32 may be the same or different, and an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group,
It represents (C = Y ')-R 33 . R 33 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, NR 34 (R 35 ), OR 36 or SR 37 , and Y ′ represents an oxygen atom, a sulfur atom or N.
Represents R 38 . R 34 , R 35 , R 36 , R 37 and R 38 represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group,
n represents 1 or 2. Next, the general formula (V) will be described in detail. In the general formula (V), R 31 , R 32 ,
The aliphatic group, aromatic group or heterocyclic group represented by R 33 , R 34 , R 35 , R 36 , R 37 and R 38 has the same meaning as in formula (III). In addition, R 31 , R 32 , R 33 , R 34 ,
The aliphatic group, aromatic group and heterocyclic group represented by R 35 , R 36 , R 37 and R 38 may be substituted with the substituents represented by formula (III). Where R 31 and R 32 and R 34
And R 35 may combine with each other to form a ring. General formula (V)
Among them, preferably R 31 and R 32 are a heterocyclic group or-(C
= Y ') - represent R 33. R 33 represents NR 34 (R 35 ) or OR 36 , and Y ′ represents an oxygen atom. R 34 , R 35
And R 36 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. In formula (V), more preferably R 31 and R 32 represent — (C═Y ′) — R 33 . R 33 is NR 34 (R 35 )
And Y'represents an oxygen atom. R 34 and R 35 represent an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. The following formula 2
Specific examples of the compounds represented by formulas (III), (IV) and (V) of the present invention are shown in 0 to 34, but the present invention is not limited thereto.
【0032】[0032]
【化22】 [Chemical formula 22]
【0033】[0033]
【化23】 [Chemical formula 23]
【0034】[0034]
【化24】 [Chemical formula 24]
【0035】[0035]
【化25】 [Chemical 25]
【0036】[0036]
【化26】 [Chemical formula 26]
【0037】[0037]
【化27】 [Chemical 27]
【0038】[0038]
【化28】 [Chemical 28]
【0039】[0039]
【化29】 [Chemical 29]
【0040】[0040]
【化30】 [Chemical 30]
【0041】[0041]
【化31】 [Chemical 31]
【0042】[0042]
【化32】 [Chemical 32]
【0043】[0043]
【化33】 [Chemical 33]
【0044】[0044]
【化34】 [Chemical 34]
【0045】[0045]
【化35】 [Chemical 35]
【0046】[0046]
【化36】 [Chemical 36]
【0047】本発明で用いられるテルル増感剤は、ハロ
ゲン化銀乳剤粒子表面又は粒子内部に、増感核となると
推定されるテルル化銀を生成せしめる化合物である。ハ
ロゲン化銀乳剤中のテルル化銀生成速度については、以
下の試験ができる。多量添加(例えば、1×10-3モル
/モルAg)すると、生成したテルル化銀が可視域に吸
収をもつ。従って、イオウ増感剤について、E.Moisarが
Journal of Photographic Science,14巻、181頁
(1966年)や、同16巻、102頁(1968年)
に記載された方法を適用できる。ハロゲン化銀乳剤中で
の生成硫化銀量を、可視域(520nm) での乳剤の無限
反射率(infinite reflectivity)からKubelka-Munkの式
を用いて求めたのと同様の方法で、相対的なテルル化銀
生成速度を簡便に求めることができる。また、この反応
は、見かけ上一次反応に近いので、擬一次反応速度定数
も求めることができる。例えば、平均粒子径0.5μm
の臭化銀8面体乳剤(1kg乳剤中にAgBr0.75モ
ル、ゼラチン80gを含有)をpH=6.3、pAg=
8.3に保ちつつ50℃に保温し、有機溶剤(メタノー
ルなど)に溶解したテルル化合物を1×10-3モル/モ
ルAg添加する。積分球をもつ分光光度計で1cm厚みの
セルに乳剤を入れ、ブランクの乳剤を参照にして520
nmでの反射率(R)を時間を追って測定していく。反射
率をKubelka-Munkの式(1−R)2/2Rに代入しその値
の変化から擬一次反応速度定数k(min-1) を求める。テ
ルル化銀を生成しなければ常にR=1のためKubelka-Mu
nkの値はテルル化合物のない時と同じで0のままであ
る。このテスト法と全く同一条件での見かけの一次反応
速度定数kが1×10-8〜1×100min-1の化合物が好
ましい。また、可視域の吸収が検出しにくいより少量の
添加量域では、生成したテルル化銀を未反応テルル増感
剤から分離し定量できる。例えば、ハロゲン塩水溶液
や、水溶性メルカプト化合物の水溶液などへの浸漬で分
離したあと、原子吸光法などにより、微量のTeを定量
分析する。この反応速度は、化合物の種類は勿論のこと
被検乳剤のハロゲン化銀組成、試験する温度、pAgや
pHなどで数ケタの範囲で大きく変動する。本発明で好
ましく用いられるテルル増感剤は、用いようとするハロ
ゲン組成、晶癖を有する具体的なハロゲン化銀乳剤に対
してテルル化銀を生成しうる化合物である。総括的に言
えば、臭化銀乳剤に対して、温度40〜95℃、pH3
〜10、またはpAg6〜11のいずれかの範囲で、テ
ルル化銀を生成しうる化合物が本発明に対して好ましく
用いられ、この範囲で、上記テスト法による擬一次反応
速度定数kが、1×10-7〜1×10-1min -1の範囲に
入る化合物がテルル増感剤としてより好ましい。The tellurium sensitizer used in the present invention is a compound capable of producing silver telluride which is presumed to serve as a sensitizing nucleus on the surface or inside of the silver halide emulsion grain. The following tests can be conducted for the rate of silver telluride formation in a silver halide emulsion. When a large amount is added (for example, 1 × 10 −3 mol / mol Ag), the formed silver telluride has absorption in the visible region. Therefore, regarding sulfur sensitizers, E. Moisar
Journal of Photographic Science, 14 volumes, 181 pages (1966) and 16 volumes, 102 pages (1968).
The method described in can be applied. The amount of silver sulfide produced in a silver halide emulsion was determined by the same method as that obtained from the infinite reflectivity of the emulsion in the visible range (520 nm) using the Kubelka-Munk equation. The silver telluride formation rate can be easily determined. Further, since this reaction is apparently close to the first-order reaction, the quasi-first-order reaction rate constant can also be obtained. For example, average particle size 0.5μm
Of silver bromide octahedron emulsion (containing 0.75 mol of AgBr and 80 g of gelatin in 1 kg of emulsion), pH = 6.3, pAg =
While keeping the temperature at 8.3, the temperature is kept at 50 ° C., and 1 × 10 −3 mol / mol Ag of a tellurium compound dissolved in an organic solvent (such as methanol) is added. Place the emulsion in a 1 cm thick cell on a spectrophotometer with an integrating sphere, 520 with reference to the blank emulsion.
The reflectance (R) at nm is measured over time. The reflectance is substituted into the Kubelka-Munk equation (1-R) 2 / 2R, and the pseudo first-order reaction rate constant k (min -1 ) is determined from the change in the value. Kubelka-Mu because R = 1 always unless silver telluride is produced
The value of nk remains the same as 0 without tellurium compound. A compound having an apparent first-order reaction rate constant k of 1 × 10 −8 to 1 × 10 0 min −1 under exactly the same conditions as in this test method is preferable. Further, in a smaller addition amount range where absorption in the visible region is difficult to detect, the produced silver telluride can be separated from the unreacted tellurium sensitizer and quantified. For example, after separation by immersion in an aqueous solution of a halogen salt or an aqueous solution of a water-soluble mercapto compound, a trace amount of Te is quantitatively analyzed by an atomic absorption method or the like. The reaction rate greatly varies within a range of several digits depending on the type of compound, the silver halide composition of the emulsion to be tested, the temperature to be tested, pAg, pH and the like. The tellurium sensitizer preferably used in the present invention is a compound capable of forming silver telluride with respect to a specific silver halide emulsion having a halogen composition and a crystal habit to be used. Generally speaking, for a silver bromide emulsion, the temperature is 40 to 95 ° C. and the pH is 3
A compound capable of forming silver telluride in the range of 10 to 10 or pAg of 6 to 11 is preferably used in the present invention, and in this range, the pseudo first-order reaction rate constant k according to the above test method is 1 ×. A compound falling within the range of 10 −7 to 1 × 10 −1 min −1 is more preferable as the tellurium sensitizer.
【0048】本発明の一般式(III) 、(IV)および(V)
で表わされる化合物は既に知られている方法に準じて合
成することができる。例えばジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイアティ(J.Chem.Soc.(A)) 1969、292
7;ジャーナル・オブ・オルガノメタリック・ケミスト
リー(J.Organomet.Chem.)4、320(1965);ib
id, 1,200(1963);ibid, 113、C35
(1976);フォスフォラス・サルファー(Phosphor
us Sulfur)15、155(1983);ヘミッシェ・ベ
リヒテ(Chem.Ber.)109、2996(1976);ジ
ャーナル・オブ・ケミカル・ソサイアティ・ケミカル・
コミュニケーション(J.Chem.Soc.Chem.Commun.)635
(1980);ibid, 1102(1979);ibid, 6
45(1979);ibid, 820(1987);ジャー
ナル・オブ・ケミカル・ソサイアティ・パーキン・トラ
ンザクション(J.Chem.Soc.Perkin.Trans.) 1、219
1(1980);S.パタイ(S.Patai)編、ザ・ケミスト
リー・オブ・オルガノ・セレニウム・アンド・テルリウ
ム・カンパウンズ(The Chemistry of Organo Selenium
and Tellurium Compounds) 2巻の216〜267(1
987)、テトラヘドロン・レターズ(Tetrahedron Le
tters)31、3587(1990)、ジャーナル・オブ
・ケミカル・リサーチ、シノプシーズ(J.Chem.Res., S
ynopses)2、56(1990)、ブレタン・オブ・ザ・
ケミカル・ソサイアティ・オブ・ジャパン(Bull.Chem.
Soc.Japan)62、2117(1989)、ibid, 60、
771(1987)、ジャーナル・オブ・オルガノメタ
リック・ケミストリー(J.Organometallic Chem.) 33
8、9(1988)、ibid, 306、C36(198
6)、日本化学会誌7巻、1475(1987)、ツァ
イトシュリフト・フュアー・ヘミー(Zeitschrift Chem
ie) 26、179(1986)、ケミストリー・レター
ズ(Chemistry Letters)3、475(1987)、イン
ディアン・ジャーナル・オブ・ケミストリー(Indian J
ournal of Chemistry, Section A) 25A、57(19
86)、アンゲバンテ・ヘミー(Angewandte Chemie)9
7、1051(1985)、スペクトロキミカ・アクタ
(Spectrochimica Acta, Part A)38A、185(19
82)、オーガニック・プレパレーション・アンド・プ
ロセディア・インターナショナル(Organic Preparatio
ns and Procedures International)10、289(19
78)、オルガノメタリックス(Organometallics)1、
470(1982)に記載の方法で合成することができ
る。General formulas (III), (IV) and (V) of the present invention
The compound represented by can be synthesized according to a known method. For example, Journal of Chemical Society (J. Chem. Soc. (A)) 1969, 292.
7; Journal of Organometallic Chemistry (J. Organomet. Chem.) 4, 320 (1965); ib
id, 1,200 (1963); ibid, 113, C35
(1976); Phosphor
us Sulfur) 15, 155 (1983); Chemist Ber. 109, 2996 (1976); Journal of Chemical Society Chemicals.
Communication (J.Chem.Soc.Chem.Commun.) 635
(1980); ibid, 1102 (1979); ibid, 6
45 (1979); ibid, 820 (1987); Journal of Chemical Society Perkin Transaction (J.Chem.Soc.Perkin.Trans.) 1, 219.
1 (1980); edited by S. Patai, The Chemistry of Organo Selenium
and Tellurium Compounds) Volume 2 216-267 (1
987), Tetrahedron Letters
tters) 31, 3587 (1990), Journal of Chemical Research, Synopses (J. Chem. Res., S
ynopses) 2, 56 (1990), Brettan of the
Chemical Society of Japan (Bull.Chem.
Soc. Japan) 62, 2117 (1989), ibid, 60,
771 (1987), Journal of Organometallic Chem. 33.
8, 9 (1988), ibid, 306, C36 (198)
6), The Chemical Society of Japan, Volume 7, 1475 (1987), Zeitschrift Chem.
ie) 26, 179 (1986), Chemistry Letters 3, 475 (1987), Indian Journal of Chemistry (Indian J)
ournal of Chemistry, Section A) 25A, 57 (19
86), Angewandte Chemie 9
7, 1051 (1985), Spectrochimica Acta, Part A 38A, 185 (19)
82), Organic Preparation and Procedia International (Organic Preparatio
ns and Procedures International) 10, 289 (19
78), Organometallics 1,
470 (1982).
【0049】これらの本発明で用いるセレンおよびテル
ル増感剤の使用量は、使用するハロゲン化銀粒子、化学
熟成条件等により変わるが、一般にハロゲン化銀1モル
当り10-8〜10-2モル、好ましくは10-7〜5×10
-3モル程度を用いる。The amounts of these selenium and tellurium sensitizers used in the present invention vary depending on the silver halide grains used, the chemical ripening conditions, etc., but generally 10 -8 to 10 -2 mol per mol of silver halide. , Preferably 10 −7 to 5 × 10
Use about -3 mol.
【0050】本発明における化学増感の条件としては、
特に制限はないが、pHとしては5〜8、pAgとして
は6〜11、好ましくは7〜10であり、温度としては
40〜95℃、好ましくは45〜85℃である。The conditions for the chemical sensitization in the present invention are:
Although not particularly limited, the pH is 5 to 8, the pAg is 6 to 11, preferably 7 to 10, and the temperature is 40 to 95 ° C, preferably 45 to 85 ° C.
【0051】本発明においては、金、白金、パラジウ
ム、イリジウム等の貴金属増感剤を併用することが好ま
しい。特に、金増感剤を使用することは好ましく、具体
的には、塩化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウ
ムオーリチオシアネート、硫化金、金セレナイド等が挙
げられ、ハロゲン化銀1モル当り、10-7〜10-2モル
程度を用いることができる。In the present invention, it is preferable to use a noble metal sensitizer such as gold, platinum, palladium or iridium together. In particular, it is preferable to use a gold sensitizer, and specific examples thereof include chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide, etc., and 10 − per mol of silver halide. About 7 to 10 -2 mol can be used.
【0052】本発明において、更に、硫黄増感剤を併用
することも好ましい。具体的には、チオ硫酸塩(例え
ば、ハイポ)、チオ尿素類(例えば、ジフェニルチオ尿
素、トリエチル尿素、アリルチオ尿素)、ローダニン類
等の公知の不安定硫黄化合物が挙げられ、ハロゲン化銀
1モル当り10-7〜10-2モル程度を用いることができ
る。In the present invention, it is also preferable to use a sulfur sensitizer together. Specific examples thereof include known unstable sulfur compounds such as thiosulfates (for example, hypo), thioureas (for example, diphenylthiourea, triethylurea, allylthiourea), and rhodanines. 1 mol of silver halide About 10 -7 to 10 -2 mol can be used per unit.
【0053】本発明に用いられる明室用ハロゲン化銀写
真感光材料のハロゲン化銀乳剤は、平均粒子サイズが
0.20μm以下である。特に0.08〜0.16μm
であることが好ましい。粒子サイズが0.2μを越える
とγが低下し、実技のDmax が低下する。本発明におい
てハロゲン化銀粒子を調整するには混合条件として反応
温度は50℃以下、好ましくは40℃以下で、均一混合
するために十分攪拌速度の高い条件下で銀電位70mV
以上、好ましくは300mV〜500mVあるいは、
5,6−シクロペンタン−4−ヒドロキシ−1,3,3
a,7−テトラザインデンの様な安定剤の共存下におい
て80mV〜120mVで調整すると良好な結果を得る
ことができる。粒子サイズ分布は基本的には制限はない
が単分散である方が好ましい。ここでいう単分散とは重
量もしくは粒子数で少なくともその95%が平均粒子サ
イズの±40%以内の大きさを持つ粒子群から構成さ
れ、より好ましくは±20%以内である。本発明に使用
するハロゲン化銀粒子は立方体、八面体の様な規則的な
結晶体を有するものが好ましく、特に立方体が好まし
い。[0053] The silver halide emulsion of the bright room for silver halide photographic light-sensitive material of the present invention has an average particle size is less than 0.20 [mu] m. Especially 0.08 to 0.16 μm
Is preferred. If the particle size exceeds 0.2μ, γ decreases and Dmax of the practical skill decreases. In the present invention, the reaction temperature is 50 ° C. or lower, preferably 40 ° C. or lower as a mixing condition for adjusting the silver halide grains, and the silver potential is 70 mV under a condition of sufficiently high stirring speed for uniform mixing.
Above, preferably 300 mV ~ 500 mV, or
5,6-Cyclopentane-4-hydroxy-1,3,3
Good results can be obtained by adjusting at 80 mV to 120 mV in the presence of a stabilizer such as a, 7-tetrazaindene. The particle size distribution is basically not limited, but it is preferably monodisperse. The term "monodispersion" as used herein means that at least 95% by weight or the number of particles is composed of a particle group having a size within ± 40% of the average particle size, and more preferably within ± 20%. Used in the present invention
The silver halide grains are preferably grains having a regular crystal structure such as a cube or octahedron, and a cube is particularly preferable.
【0054】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
下記一般式(VI)によって表わされる化合物である。
一般式(VI)The hydrazine derivative used in the present invention is
It is a compound represented by the following general formula (VI). General formula (VI)
【0055】[0055]
【化37】 [Chemical 37]
【0056】式中、R1 はスルホンアミド基で置換され
た、脂肪族基または芳香族基を表わし、R2 は水素原
子、アルキル基、アリール基、不飽和ヘテロ環基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アミノ基またはヒドラジ
ノ基を表わす。A1 、A2 はともに水素原子、あるいは
一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のアルキル
スルホニル基、又は置換もしくは無置換のアリールスル
ホニル基、又は置換もしくは無置換のアシル基を表わ
す。In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group substituted with a sulfonamide group, and R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, an unsaturated heterocyclic group, an alkoxy group or an aryloxy group. Represents a group, an amino group or a hydrazino group. A 1 and A 2 both represent a hydrogen atom, or one represents a hydrogen atom and the other represents a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group.
【0057】一般式(VI)において、R1 で表わされる
スルホンアミド基で置換された脂肪族基は好ましくは炭
素数1〜30のものであって、特に炭素数1〜20の直
鎖、分岐または環状のアルキル基である。ここで分岐ア
ルキル基はその中に1つまたはそれ以上のヘテロ原子を
含んだ飽和のヘテロ環を形成するように環化されていて
もよい。また、このアルキル基は置換基を有していても
よい。一般式(VI)において、R1 で表わされるスルホ
ンアミド基で置換された芳香族基は単環または2環のア
リール基または不飽和ヘテロ環基である。ここで、不飽
和ヘテロ環基は単環または2環のアリール基と縮環して
ヘテロアリール基を形成してもよい。例えばベンゼン
環、ナフタレン環、ピリジン環、ピリミジン環、イミダ
ゾール環、ピラゾール環、キノリン環、イソキノリン
環、ベンズイミダゾール環、チアゾール環、ベンゾチア
ゾール環等があるが、なかでもベンゼン環を含むものが
好ましい。このなかで、特に好ましいものはアリール基
である。In the general formula (VI), the aliphatic group substituted by the sulfonamide group represented by R 1 is preferably one having 1 to 30 carbon atoms, particularly straight chain or branched one having 1 to 20 carbon atoms. Alternatively, it is a cyclic alkyl group. The branched alkyl groups herein may be cyclized to form a saturated heterocycle containing one or more heteroatoms therein. Moreover, this alkyl group may have a substituent. In the general formula (VI), the aromatic group substituted by the sulfonamide group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group or an unsaturated heterocyclic group. Here, the unsaturated heterocyclic group may be condensed with a monocyclic or bicyclic aryl group to form a heteroaryl group. Examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a thiazole ring, and a benzothiazole ring. Among them, those containing a benzene ring are preferable. Of these, an aryl group is particularly preferable.
【0058】一般式(VI)において、R2 で表わされる
アルキル基としては、好ましくは炭素数1〜4のアルキ
ル基であり、アリール基としては単環または2環のアリ
ール基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものであ
る。不飽和ヘテロ環基としては少なくとも1つの窒素、
酸素、および硫黄原子を含む5〜6員環の化合物で、例
えばイミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、
テトラゾリル基、ピリジル基、ピリジニウム基、キノリ
ニウム基、キノリニル基などがある。ピリジル基または
ピリジニウム基が特に好ましい。アルコキシ基としては
炭素数1〜8のアルコキシ基のものが好ましく、アリー
ルオキシ基としては単環のものが好ましく、アミノ基と
しては無置換アミノ基、及び炭素数1〜10のアルキル
アミノ基、アリールアミノ基が好ましい。In formula (VI), the alkyl group represented by R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group, for example benzene. It contains a ring. At least one nitrogen as the unsaturated heterocyclic group,
A 5- or 6-membered ring compound containing oxygen and a sulfur atom, for example, an imidazolyl group, a pyrazolyl group, a triazolyl group,
Examples include a tetrazolyl group, a pyridyl group, a pyridinium group, a quinolinium group, and a quinolinyl group. A pyridyl group or a pyridinium group is particularly preferable. The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, the aryloxy group is preferably a monocyclic group, the amino group is an unsubstituted amino group, and an alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms, aryl Amino groups are preferred.
【0059】R2 は置換されていてもよく、好ましい代
表的な置換基としては例えばアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アリール基、複素環を含む基、ピリ
ジニウム基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキ
シ基、アシルオキシ基、アルキルまたはアリールスルホ
ニルオキシ基、アミノ基、カルボンアミド基、スルホン
アミド基、ウレイド基、チオウレイド基、セミカルバジ
ド基、チオセミカルバジド基、ウレタン基、ヒドラジド
構造を持つ基、4級アンモニウム構造を持つ基、アルキ
ルまたはアリールチオ基、アルキルまたはアリールスル
ホニル基、アルキルまたはアリールスルフィニル基、カ
ルボキシル基、スルホ基、アシル基、アルコキシまたは
アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、スルファ
モイル基、ハロゲン原子、シアノ基、リン酸アミド基、
ジアシルアミノ基、イミド基、アシルウレア構造を持つ
基、セレン原子またはテルル原子を含む基、3級スルホ
ニウム構造または4級スルホニウム構造を持つ基などが
挙げられ、好ましい置換基としては直鎖、分岐または環
状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のもの)、
アラルキル基(好ましくはアルキル部分の炭素数が1〜
3の単環または2環のもの)、アルコキシ基(好ましく
は炭素数1〜20のもの)、置換アミノ基(好ましくは
炭素数1〜20のアルキル基で置換されたアミノ基)、
アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜30を持つも
の)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数1〜30を
持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜30を
持つもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜3
0のもの)などである。R 2 may be substituted, and preferable typical substituents are, for example, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a heterocyclic group-containing group, a pyridinium group, a hydroxy group, an alkoxy group and an aryloxy group. Groups, acyloxy groups, alkyl or aryl sulfonyloxy groups, amino groups, carbonamido groups, sulfonamide groups, ureido groups, thioureido groups, semicarbazide groups, thiosemicarbazide groups, urethane groups, hydrazide groups, quaternary ammonium structures Group having, alkyl or arylthio group, alkyl or arylsulfonyl group, alkyl or arylsulfinyl group, carboxyl group, sulfo group, acyl group, alkoxy or aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, sulfamoyl group, halogen Child, a cyano group, a phosphoric acid amide group,
Examples thereof include a diacylamino group, an imide group, a group having an acylurea structure, a group containing a selenium atom or a tellurium atom, a group having a tertiary sulfonium structure or a quaternary sulfonium structure, and preferable substituents are linear, branched or cyclic. An alkyl group (preferably having a carbon number of 1 to 20),
Aralkyl group (preferably 1 to 1 carbon atoms in the alkyl part)
3 monocyclic or bicyclic), an alkoxy group (preferably having 1 to 20 carbon atoms), a substituted amino group (preferably an amino group substituted with an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms),
Acylamino group (preferably having 2 to 30 carbon atoms), sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), phosphoric acid amide group (Preferably having 1 to 3 carbon atoms
0) and so on.
【0060】R2 で表わされる基のうち好ましいもの
は、水素原子、アルキル基(例えば、メチル基、トリフ
ルオロメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、3−メタ
ンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホニルメチ
ル基など)、アラルキル基(例えば、o−ヒドロキシベ
ンジル基など)、アリール基(例えば、フェニル基、
3,5−ジクロロフェニル基、o−メタンスルホンアミ
ドフェニル基、4−メタンスルホニルフェニル基、2−
ヒドロキシメチルフェニル基など)などであり、特に水
素原子、トリフロロメチル基が好ましい。又、R2 はC
O−R2 の部分を残余分子から分裂させ、−CO−R2
部分の原子を含む環式構造を生成させる環化反応を生起
するようなものであってもよく、その例としては、例え
ば特開昭63−29751号などに記載のものが挙げら
れる。Preferred among the groups represented by R 2 are a hydrogen atom, an alkyl group (eg, methyl group, trifluoromethyl group, 3-hydroxypropyl group, 3-methanesulfonamidopropyl group, phenylsulfonylmethyl group, etc. ), An aralkyl group (for example, an o-hydroxybenzyl group), an aryl group (for example, a phenyl group,
3,5-dichlorophenyl group, o-methanesulfonamidophenyl group, 4-methanesulfonylphenyl group, 2-
(E.g., a hydroxymethylphenyl group), and a hydrogen atom and a trifluoromethyl group are particularly preferable. Also, R 2 is C
The portion of OR 2 is split from the rest of the molecule, and -CO-R 2
It may be one that causes a cyclization reaction to form a cyclic structure containing a partial atom, and examples thereof include those described in JP-A-63-29751.
【0061】A1 、A2 は水素原子、炭素数20以下の
アルキルまたはアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基、又はハメットの置換基定数の和が−
0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニル
基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾイ
ル基、又はハメットの置換基定数の和が−0.5以上と
なるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖又は
分岐状、又は環状の無置換及び置換脂肪族アシル基(置
換基としては、例えばハロゲン原子、エーテル基、スル
ホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カルボキシ
基、スルホン酸基が挙げられる))である。A1 、A2
としては水素原子が最も好ましい。A 1 and A 2 are a hydrogen atom, an alkyl or aryl sulfonyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a phenyl sulfonyl group, or the sum of Hammett's substituent constants is-).
Phenylsulfonyl group substituted to be 0.5 or more), acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably benzoyl group, or substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is -0.5 or more) A benzoyl group, or a linear, branched, or cyclic unsubstituted or substituted aliphatic acyl group (as a substituent, for example, a halogen atom, an ether group, a sulfonamide group, a carbonamide group, a hydroxyl group, a carboxy group, a sulfonic acid group Can be mentioned)). A 1 , A 2
Is most preferably a hydrogen atom.
【0062】一般式(VI)のR1 、R2 の置換基はさら
に置換されていても良く、好ましい例としてはR2 の置
換基として例示したものが挙げられる。さらにその置換
基、その置換基の置換基、置換基の置換基の置換基・・
・、というように多重に置換されていても良く、好まし
い例はやはりR2 の置換基として例示したものがあては
まる。The substituents of R 1 and R 2 in the general formula (VI) may be further substituted, and preferable examples thereof include those exemplified as the substituent of R 2 . Furthermore, the substituent, the substituent of the substituent, the substituent of the substituent of the substituent ...
., And may be multiply substituted, and the preferable examples are also those exemplified as the substituent of R 2 .
【0063】一般式(VI)のR1 またはR2 はその中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基またはポリマーが組み込まれているもので
もよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真性
に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、
アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフ
ェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの
中から選ぶことができる。またポリマーとしては、例え
ば特開平1−100530号に記載のものが挙げられ
る。R 1 or R 2 in the general formula (VI) may have a ballast group or polymer commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler incorporated therein. The ballast group is a group having a carbon number of 8 or more, which is relatively inert to photographic properties, such as an alkyl group,
It can be selected from aralkyl group, alkoxy group, phenyl group, alkylphenyl group, phenoxy group, alkylphenoxy group and the like. Examples of the polymer include those described in JP-A No. 1-100530.
【0064】一般式(VI)のR1 またはR2 はその中に
ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を強める基が組み込
まれているものでもよい。かかる吸着基としては、アル
キルチオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、複素環チオ
アミド基、メルカプト複素環基、トリアゾール基などの
米国特許第4,385,108号、同4,459,34
7号、特開昭59−195233号、同59−2002
31号、同59−201045号、同59−20104
6号、同59−201047号、同59−201048
号、同59−201049号、特開昭61−17073
3号、同61−270744号、同62−948号、同
63−234244号、同63−234245号、同6
3−234246号に記載された基があげられる。R 1 or R 2 in the general formula (VI) may be one in which a group for enhancing adsorption to the surface of silver halide grains is incorporated. Examples of the adsorptive group include alkylthio groups, arylthio groups, thiourea groups, heterocyclic thioamide groups, mercaptoheterocyclic groups, and triazole groups, which are disclosed in U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,34.
7, JP-A-59-195233 and JP-A-59-2002.
No. 31, No. 59-201045, No. 59-20104
No. 6, No. 59-201047, No. 59-201048.
No. 59-201049, JP-A-61-17073.
No. 3, No. 61-270744, No. 62-948, No. 63-234244, No. 63-234245, No. 6
The groups described in 3-234246 are mentioned.
【0065】本発明において特に好ましいヒドラジン誘
導体は、R1 がスルホンアミド基を介して、バラスト
基、ハロゲン化銀粒子表面に対する吸着を促進する基、
4級アンモニウム構造を持つ基、またはアルキルチオ基
を有するフェニル基であり、R2 が水素原子、置換アル
キル基または置換アリール基(置換基としては電子吸引
性基または2位へのヒドロキシメチル基が好ましい)で
あるヒドラジン誘導体である。なお、上記のR1 および
R2 の各選択肢のあらゆる組合せが可能であり、好まし
い。特にR1 がスルホンアミド基を介してハロゲン化銀
粒子表面に対する吸着を促進する基またはアルキルチオ
基を有するフェニル基であり、R2 が置換アルキル基で
あるヒドラジン誘導体が好ましい。In the present invention, a particularly preferred hydrazine derivative is a group in which R 1 is a ballast group or a group that promotes adsorption to the surface of a silver halide grain via a sulfonamide group,
It is a group having a quaternary ammonium structure or a phenyl group having an alkylthio group, and R 2 is a hydrogen atom, a substituted alkyl group or a substituted aryl group (the substituent is preferably an electron-withdrawing group or a hydroxymethyl group at the 2-position). ) Is a hydrazine derivative. Note that any combination of the above R 1 and R 2 options is possible and preferred. In particular a phenyl group having a group or an alkylthio group R 1 promotes adsorption to silver halide grain surfaces through a sulfonamide group, a hydrazine derivative R 2 is a substituted alkyl group are preferred.
【0066】一般式(VI)で示される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。Specific examples of the compound represented by the general formula (VI) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0067】[0067]
【化38】 [Chemical 38]
【0068】[0068]
【化39】 [Chemical Formula 39]
【0069】[0069]
【化40】 [Chemical 40]
【0070】[0070]
【化41】 [Chemical 41]
【0071】[0071]
【化42】 [Chemical 42]
【0072】[0072]
【化43】 [Chemical 43]
【0073】[0073]
【化44】 [Chemical 44]
【0074】[0074]
【化45】 [Chemical formula 45]
【0075】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE Item2
3516(1983年11月号、P.346)およびそ
こに引用された文献の他、米国特許第4,080,20
7号、同4,269,929号、同4,276,364
号、同4,278,748号、同4,385,108
号、同4,459,347号、同4,478,928
号、同4,560,638号、同4,686,167
号、同4,912,016号、同4,988,604
号、同4,994,365号、同5,041,355
号、同5,104,769号、英国特許第2,011,
391B号、欧州特許第217,310号、同301,
799号、同356,898号、特開昭60−1797
34号、同61−170733号、同61−27074
4号、同62−178246号、同62−270948
号、同63−29751号、同63−32538号、同
63−104047号、同63−121838号、同6
3−129337号、同63−223744号、同63
−234244号、同63−234245号、同63−
234246号、同63−294552号、同63−3
06438号、同64−10233号、特開平1−90
439号、同1−100530号、同1−105941
号、同1−105943号、同1−276128号、同
1−280747号、同1−283548号、同1−2
83549号、同1−285940号、同2−2541
号、同2−77057号、同2−139538号、同2
−196234号、同2−196235号、同2−19
8440号、同2−198441号、同2−19844
2号、同2−220042号、同2−221953号、
同2−221954号、同2−285342号、同2−
285343号、同2−289843号、同2−302
750号、同2−304550号、同3−37642
号、同3−54549号、同3−125134号、同3
−184039号、同3−240036号、同3−24
0037号、同3−259240号、同3−28003
8号、同3−282536号、同4−51143号、同
4−56842号、同4−84134号、同2−230
233号、同4−96053号、同4−216544
号、同5−45761号、同5−45762号、同5−
45763号、同5−45764号、同5−45765
号、特願平5−94925号に記載されたものを組み合
わせて用いることができる。As the hydrazine derivative used in the present invention, in addition to the above, RESEARCH DISCLOSURE Item 2
3516 (November 1983, p. 346) and references cited therein, as well as U.S. Pat. No. 4,080,20.
No. 7, No. 4,269,929, No. 4,276,364
Nos. 4,278,748, 4,385,108
Issue No. 4,459,347 Issue No. 4,478,928
Nos. 4,560,638 and 4,686,167
No. 4,912,016, 4,988,604
Issue No. 4,994,365 Issue 5,041,355
No. 5,104,769, British Patent No. 2,011,
391B, European Patent Nos. 217,310 and 301,
799, 356, 898, JP-A-60-1797.
34, 61-170733, 61-27074.
No. 4, No. 62-178246, No. 62-270948.
No. 63, No. 63-29751, No. 63-32538, No. 63-104047, No. 63-121838, No. 6
3-129337, 63-223744, 63
-234244, 63-234245, 63-
234246, 63-294552, 63-3
06438, 64-10233 and JP-A-1-90.
No. 439, No. 1-100530, No. 1-105941
No. 1, No. 1-105943, No. 1-276128, No. 1-280747, No. 1-283548, No. 1-2.
83549, 1-285940, 2-2541.
No. 2, No. 2-77057, No. 2-139538, No. 2
-196234, 2-196235, 2-19
No. 8440, No. 2-198441, No. 2-19844
No. 2, No. 2-220042, No. 2-221953,
2-221954, 2-285342, 2-
285343, 2-289843, 2-302
No. 750, No. 2-304550, No. 3-37642
No. 3, No. 3-54549, No. 3-125134, No. 3
-184039, 3-240036, 3-24
No. 0037, No. 3-259240, No. 3-28003
No. 8, No. 3-228536, No. 4-51143, No. 4-56842, No. 4-84134, No. 2-230.
No. 233, No. 4-96053, No. 4-216544.
No. 5, No. 5-45761, No. 5-45762, No. 5-
No. 45763, No. 5-45764, No. 5-45765.
And those described in Japanese Patent Application No. 5-94925 can be used in combination.
【0076】本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量
としてはハロゲン化銀1モルあたり1×10-6モルない
し5×10-2モル含有されるのが好ましく、特に1×1
0-5モルないし2×10-2モルの範囲が好ましい添加量
である。The addition amount of the hydrazine derivative in the present invention is preferably 1 × 10 -6 mol to 5 × 10 -2 mol per mol of silver halide, and particularly 1 × 1.
The preferable addition amount is in the range of 0 -5 mol to 2 × 10 -2 mol.
【0077】本発明のヒドラジン誘導体は、適当な水混
和性有機溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタ
ノール、プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン
類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなど
に溶解して用いることができる。また、既に良く知られ
ている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリ
クレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあ
るいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルや
シクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械
的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるい
は固体分散法として知られている方法によって、ヒドラ
ジン誘導体の粉末を水の中にボールミル、コロイドミ
ル、あるいは超音波によって分散して用いることもでき
る。The hydrazine derivative of the present invention is a suitable water-miscible organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve. It can be used by dissolving it in Further, by a well-known emulsification dispersion method, it is dissolved by using an oil such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone, and mechanically emulsified and dispersed. An object can be produced and used. Alternatively, the hydrazine derivative powder may be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves according to a method known as a solid dispersion method.
【0078】本発明に用いられる造核促進剤は下記一般
式(VII)、(VIII)、(IX)及び(X)で示される化合物で
ある。The nucleation accelerator used in the present invention is a compound represented by the following general formulas (VII), (VIII), (IX) and (X).
【0079】[0079]
【化46】 [Chemical formula 46]
【0080】式中、R1 、R2 、R3 は、アルキル基、
シクロアルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロ
アルケニル基、ヘテロ環残基を表わし、これらは更に置
換基を有していてもよい。mは1ないし4の整数を表わ
し、LはP原子とその炭素原子で結合するm価の有機基
を表わし、nは1ないし3の整数を表わし、Xはn価の
陰イオンを表わし、XはLと連結してもよい。In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are alkyl groups,
It represents a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group or a heterocyclic residue, which may further have a substituent. m represents an integer of 1 to 4, L represents an m-valent organic group bonded to the P atom by its carbon atom, n represents an integer of 1 to 3, X represents an n-valent anion, and X represents May be linked to L.
【0081】[0081]
【化47】 [Chemical 47]
【0082】式中、Aはヘテロ環を完成させるための有
機基を表わす。B、Dはそれぞれ2価の基を表す。
R1 、R2 は各々アルキル基またはアリール基を表し、
R3 、R4 は水素原子または置換基を表す。R5 はアル
キル基を表す。Xはアニオン基を表わすが、分子内塩の
場合はXは必要ない。In the formula, A represents an organic group for completing the heterocycle. B and D each represent a divalent group.
R 1 and R 2 each represent an alkyl group or an aryl group,
R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a substituent. R 5 represents an alkyl group. X represents an anion group, but X is not necessary in the case of an inner salt.
【0083】一般式(VII)について詳細に説明する。The general formula (VII) will be described in detail.
【0084】[0084]
【化48】 [Chemical 48]
【0085】式中R1 、R2 、R3 はアルキル基、シク
ロアルキル基、アリール基、アルケニル基、シクロアル
ケニル基、ヘテロ環残基を表わし、これらはさらに置換
基を有していてもよい。mは整数を表わし、LはP原子
とその炭素原子で結合するm価の有機基を表わし、nは
1ないし3の整数を表わし、Xはn価の陰イオンを表わ
し、XはLと連結していてもよい。In the formula, R 1 , R 2 and R 3 represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group and a heterocyclic residue, which may further have a substituent. . m represents an integer, L represents an m-valent organic group which is bonded to a P atom and its carbon atom, n represents an integer of 1 to 3, X represents an n-valent anion, and X is linked to L. You may have.
【0086】R1 、R2 、R3 で表わされる基の例とし
ては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert
−ブチル基、オクチル基、2−エチルヘキシル基、ドデ
シル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基などの直鎖又
は分枝状のアルキル基;置換、無置換のベンジル基など
のアラルキル基;シクロプロピル基、シクロペンチール
基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、フェニ
ル基、ナフチル基、フエナントリル基などのアリール
基;アリル基、ビニル基、5−ヘキセニル基、などのア
ルケニル基;シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基
などのシクロアルケニル基;ピリジル基、キノリル基、
フリル基、イミダゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾ
リル基、ベンゾトリアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、
モルホリル基、ピリミジル基、ピロリジル基などのヘテ
ロ環残基が挙げられる。これらの基上に置換した置換基
の例としては、R1 、R2 、R3 で表わされる基の他
に、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など
のハロゲン原子、ニトロ基、1、2、3級アミノ基、ア
ルキル又はアリールエーテル基、アルキル又はアリール
チオエーテル基、カルボンアミド基、カルバモイル基、
スルホンアミド基、スルファモイル基、ヒドロキシル
基、スルホキシ基、スルホニル基、カルボキシル基、ス
ルホン酸基、シアノ基又はカルボニル基、が挙げられ
る。Lで表わされる基の例としてはR1 、R2、R3 と
同義の基のほかにトリメチレン基、テトラメチレン基、
ヘキサメチレン基、ペンタメチレン基、オクタメチレン
基、ドデカメチレン基などのポリメチレン基、フェニレ
ン基、ビフェニレン基、ナフチレン基などの2価芳香族
基、トリメチレンメチル基、テトラメチレンメチル基な
どの多価脂肪族基、フェニレン−1,3,5−トルイル
基、フェニレン−1,2,4,5−テトライル基などの
多価芳香族基などが挙げられる。Examples of the groups represented by R 1 , R 2 and R 3 include methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group and tert group.
-A straight-chain or branched alkyl group such as a butyl group, an octyl group, a 2-ethylhexyl group, a dodecyl group, a hexadecyl group, and an octadecyl group; an aralkyl group such as a substituted or unsubstituted benzyl group; a cyclopropyl group, a cyclopen Cycloalkyl groups such as teal and cyclohexyl, aryl groups such as phenyl, naphthyl and phenanthryl; alkenyl groups such as allyl, vinyl and 5-hexenyl; cyclopentenyl, cyclohexenyl and other cyclo groups Alkenyl group; pyridyl group, quinolyl group,
Furyl group, imidazolyl group, thiazolyl group, thiadiazolyl group, benzotriazolyl group, benzothiazolyl group,
Heterocyclic residues such as a morpholyl group, a pyrimidyl group and a pyrrolidyl group are mentioned. Examples of the substituents substituted on these groups include, in addition to the groups represented by R 1 , R 2 and R 3 , halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom, nitro group, 1 2, a tertiary amino group, an alkyl or aryl ether group, an alkyl or aryl thioether group, a carbonamido group, a carbamoyl group,
Examples thereof include sulfonamide group, sulfamoyl group, hydroxyl group, sulfoxy group, sulfonyl group, carboxyl group, sulfonic acid group, cyano group and carbonyl group. Examples of the group represented by L include a group having the same meaning as R 1 , R 2 and R 3 , as well as a trimethylene group, a tetramethylene group,
Polymethylene group such as hexamethylene group, pentamethylene group, octamethylene group and dodecamethylene group, divalent aromatic group such as phenylene group, biphenylene group and naphthylene group, polyvalent fat such as trimethylenemethyl group and tetramethylenemethyl group Examples thereof include polyvalent aromatic groups such as group groups, phenylene-1,3,5-toluyl group, and phenylene-1,2,4,5-tetrayl group.
【0087】Xで表わされる陰イオンの例としては、塩
素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオンなどのハロゲンイ
オン、アセテートイオン、オキサレートイオン、フマレ
ートイオン、ベンゾエートイオンなどのカルボキシレー
トイオン、p−トルエンスルホネート、メタンスルホネ
ート、ブタンスルホネート、ベンゼンスルホネートなど
のスルホネートイオン、硫酸イオン、過塩素酸イオン、
炭酸イオン、硝酸イオンが挙げられる。Examples of the anion represented by X include halogen ions such as chlorine ion, bromine ion and iodine ion, acetate ion, oxalate ion, fumarate ion, carboxylate ion such as benzoate ion and p-toluenesulfonate. , Methane sulfonate, butane sulfonate, benzene sulfonate and other sulfonate ions, sulfate ions, perchlorate ions,
Examples thereof include carbonate ion and nitrate ion.
【0088】一般式(VII)において、R1 、R2 、R3
は好ましくは炭素数20以下の基であり、炭素数15以
下のアリール基が特に好ましい。mは1または2が好ま
しく、mが1を表わす時、Lは好ましくは炭素数20以
下の基であり、総炭素数15以下のアルキル基またはア
リール基が特に好ましい。mが2を表わす時、Lで表わ
される2価の有機基は好ましくはアルキレン基、アリー
レン基またはこれらの基を結合して形成される2価の
基、さらにはこれらの基と−CO−基、−O−基、−N
R4 −基(ただしR4 は水素原子またはR1 、R2 、R
3 と同義の基を表わし、分子内に複数のR4 が存在する
時、これらは同じであっても異なっていても良く、さら
には互いに結合していても良い)、−S−基、−SO−
基、−SO2 −基を組みあわせて形成される2価の基で
ある。mが2を表わす時、Lはその炭素原子でP原子と
結合する総炭素数20以下の2価基であることが特に好
ましい。mが2以上の整数を表わす時、分子内にR1 、
R2 、R3 はそれぞれ複数存在するが、その複数の
R1 、R2 、R3 はそれぞれ同じであっても異なってい
ても良い。nは1または2が好ましく、mは1または2
が好ましい。XはR1 、R2 、R3 、またはLと結合し
て分子内塩を形成しても良い。In the general formula (VII), R 1 , R 2 , R 3
Is preferably a group having 20 or less carbon atoms, and an aryl group having 15 or less carbon atoms is particularly preferable. m is preferably 1 or 2, and when m is 1, L is preferably a group having 20 or less carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group or aryl group having 15 or less total carbon atoms. When m represents 2, the divalent organic group represented by L is preferably an alkylene group, an arylene group or a divalent group formed by combining these groups, and further, these groups and a -CO- group. , -O- group, -N
R 4 — group (provided that R 4 is a hydrogen atom or R 1 , R 2 , R
3 represents a group having the same meaning as 3, and when a plurality of R 4's are present in the molecule, they may be the same or different and may be bonded to each other), —S— group, — SO-
It is a divalent group formed by combining a group and a —SO 2 — group. When m represents 2, L is particularly preferably a divalent group having a total carbon number of 20 or less, which is bonded to a P atom at that carbon atom. When m represents an integer of 2 or more, R 1 in the molecule,
R 2, R 3 are each plurality of, the plurality of R 1, R 2, R 3 may be different even in the same, respectively. n is preferably 1 or 2 and m is 1 or 2
Is preferred. X may combine with R 1 , R 2 , R 3 or L to form an inner salt.
【0089】R1 、R2 及びR3 の置換基の一部として
ハロゲン化銀感光材料の特定の層に添加するために、拡
散性を低下するためのバラスト基もしくはハロゲン化銀
への吸着促進基を有することが好ましい。バラスト基と
しては炭素原子の総数が15以上のもので、ハロゲン化
銀写真用カプラーで用いられるものが好ましい。ハロゲ
ン化銀への吸着促進基としては、好ましくはチオアミド
類(例えばチオウレタン、チオウレイド、チオアミ
ド)、メルカプト類(例えば5−メルカプトテトラゾー
ル、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、2−
メルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカ
プト−1,3,4−オキサジアゾール等のヘテロ環メル
カプト、アルキルメルカプト、アリールメルカプト)お
よびイミノ銀を生成する5ないし6員の含窒素ヘテロ環
(例えばベンゾトリアゾール)である。In order to add to a specific layer of the silver halide light-sensitive material as a part of the substituents of R 1 , R 2 and R 3 , promotion of adsorption to a ballast group or silver halide for reducing diffusibility. It is preferable to have a group. The ballast group has a total number of carbon atoms of 15 or more and is preferably used in a silver halide photographic coupler. The adsorption promoting group for silver halide is preferably thioamides (eg thiourethane, thioureido, thioamide), mercaptos (eg 5-mercaptotetrazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 2-
Heterocycles such as mercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole, etc., and 5- to 6-membered nitrogen-containing heterocycles that form iminosilver. (For example, benzotriazole).
【0090】本発明の一般式(VII)で表わされる化合物
の多くのものは公知であり、試薬として市販のものであ
る。一般的合成法としては、ホスフィン酸類をハロゲン
化アルキル類、スルホン酸エステルなどのアルキル化剤
と反応させる方法:あるいはホスホニウム塩類の対陰イ
オンを常法により交換する方法がある。Many of the compounds represented by the general formula (VII) of the present invention are known and commercially available as reagents. As a general synthetic method, there is a method of reacting a phosphinic acid with an alkylating agent such as an alkyl halide or a sulfonate: or a method of exchanging a counter anion of a phosphonium salt by a conventional method.
【0091】一般式(VII)で表わされる化合物の具体例
を以下に示す。但し、本発明は以下の化合物に限定され
るものではない。Specific examples of the compound represented by formula (VII) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0092】[0092]
【化49】 [Chemical 49]
【0093】[0093]
【化50】 [Chemical 50]
【0094】[0094]
【化51】 [Chemical 51]
【0095】[0095]
【化52】 [Chemical 52]
【0096】[0096]
【化53】 [Chemical 53]
【0097】[0097]
【化54】 [Chemical 54]
【0098】[0098]
【化55】 [Chemical 55]
【0099】[0099]
【化56】 [Chemical 56]
【0100】[0100]
【化57】 [Chemical 57]
【0101】次に、一般式(VIII)、一般式(IX)、一般
式(X)について更に詳細に説明する。Next, the general formula (VIII), general formula (IX) and general formula (X) will be described in more detail.
【0102】[0102]
【化58】 [Chemical 58]
【0103】式中、Aはヘテロ環を完成させるための有
機基を表わし、炭素原子、水素原子、酸素原子、窒素原
子、硫黄原子を含んでもよく、更にベンゼン環が縮環し
ても構わない。好ましい例として、Aは5〜6員環を挙
げることができ、更に好ましい例としてピリジン環、キ
ノリン環、イソキノリン環を挙げることができる。ま
た、Aは置換されてもよく、好ましい置換基としては、
ハロゲン原子(例えば、塩素原子、臭素原子)、置換あ
るいは無置換のアルキル基(例えば、メチル基、ヒドロ
キシエチル基など)、置換あるいは無置換のアラルキル
基(例えばベジル基、p−メトキシフェネチル基な
ど)、置換あるいは無置換のアリール基(例えば、フェ
ニル基、トリル基、p−クロロフェニル基、フリル基、
チエニル基、ナフチル基など)、置換あるいは無置換の
アシル基(例えば、ベンゾイル基、p−ブロモベンゾイ
ル基、アセチル基など)、スルホ基、カルボキシ基、ヒ
ドロキシ基、アルコキシ基(例えば、メトキシ基、エト
キシ基など)、アリールオキシ基、アミド基、スルファ
モイル基、カルバモイル基、ウレイド基、無置換あるい
はアルキル置換アミノ基、シアノ基、ニトロ基、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基を表す。特に好ましい置換基
の例として、アリール基、スルホ基、カルボキシ基、ヒ
ドロキシ基を挙げることができる。B、Dで表される2
価基は、アルキレン、アリーレン、アルケニレン、−S
O2 −、−SO−、−O−、−S−、−N(R6 )−を
単独または組み合わせて構成されるものが好ましい。た
だし、R6 はアルキル基、アリール基、水素原子を表
す。特に好ましい例として、B、Dはアルキレン、アリ
ーレン、−O−、−S−を単独または組み合わせて構成
されるものを挙げることができる。R1 、R2 は炭素数
1〜20のアルキル基が好ましく、各々同じでも異なっ
ていてもよい。アルキル基に置換基が置換していてもよ
く、置換基としては、ハロゲン原子(例えば、塩素原
子、臭素原子)、置換あるいは無置換のアリール基(例
えば、フェニル基、トリル基、p−クロロフェニル基、
フリル基、チエニル基、ナフチル基など)、置換あるい
は無置換のアシル基(例えば、ベンゾイル基、p−ブロ
モベンゾイル基、アセチル基など)、スルホ基、カルボ
キシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(例えば、メトキ
シ基、エトキシ基など)、アリールオキシ基、アミド
基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウレイド基、
無置換あるいはアルキル置換アミノ基、シアノ基、ニト
ロ基、アルキルチオ基、アリールチオ基を表す。特に、
好ましい例として、R1 、R2 は各々炭素数1〜10の
アルキル基を表す。好ましい置換基の例として、アリー
ル基、スルホ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基を挙げる
ことができる。In the formula, A represents an organic group for completing the heterocycle, which may contain a carbon atom, a hydrogen atom, an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom, and the benzene ring may be condensed. . As a preferred example, A can be a 5- or 6-membered ring, and more preferred examples are a pyridine ring, a quinoline ring and an isoquinoline ring. In addition, A may be substituted, and as a preferable substituent,
Halogen atom (eg chlorine atom, bromine atom), substituted or unsubstituted alkyl group (eg methyl group, hydroxyethyl group etc.), substituted or unsubstituted aralkyl group (eg bezyl group, p-methoxyphenethyl group etc.) A substituted or unsubstituted aryl group (eg, phenyl group, tolyl group, p-chlorophenyl group, furyl group,
Thienyl group, naphthyl group, etc.), substituted or unsubstituted acyl group (eg, benzoyl group, p-bromobenzoyl group, acetyl group, etc.), sulfo group, carboxy group, hydroxy group, alkoxy group (eg, methoxy group, ethoxy group) Group), an aryloxy group, an amide group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, a ureido group, an unsubstituted or alkyl-substituted amino group, a cyano group, a nitro group, an alkylthio group, and an arylthio group. Examples of particularly preferable substituents include an aryl group, a sulfo group, a carboxy group, and a hydroxy group. 2 represented by B and D
The valent group is alkylene, arylene, alkenylene, -S
O 2 -, - SO -, - O -, - S -, - N (R 6) - those constituted singly or in combination are preferred. However, R 6 represents an alkyl group, an aryl group, or a hydrogen atom. As a particularly preferable example, B and D include alkylene, arylene, -O-, and -S-, which may be used alone or in combination. R 1 and R 2 are preferably alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms and may be the same or different. The alkyl group may be substituted with a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom (eg, chlorine atom, bromine atom), a substituted or unsubstituted aryl group (eg, phenyl group, tolyl group, p-chlorophenyl group). ,
Furyl group, thienyl group, naphthyl group, etc.), substituted or unsubstituted acyl group (eg, benzoyl group, p-bromobenzoyl group, acetyl group, etc.), sulfo group, carboxy group, hydroxy group, alkoxy group (eg, methoxy group) Group, ethoxy group, etc.), aryloxy group, amide group, sulfamoyl group, carbamoyl group, ureido group,
It represents an unsubstituted or alkyl-substituted amino group, a cyano group, a nitro group, an alkylthio group, and an arylthio group. In particular,
As a preferred example, R 1 and R 2 each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of preferred substituents include an aryl group, a sulfo group, a carboxy group, and a hydroxy group.
【0104】R3 、R4 は水素原子または置換基を表
し、置換基の例としては、上記にR1、R2 のアルキル
基の置換基として挙げた置換基から選ばれる。好ましい
例として、R3 、R4 は炭素数0〜10であり、具体的
には、アリール置換アルキル基、置換あるいは無置換の
アリール基を挙げることができる。R5 は炭素数1〜2
0のアルキル基が好ましく、直鎖でも分岐していても、
さらには環状のアルキル基でもよい。アルキル基に置換
基が置換していてもよく、置換基の例としては、上記に
R1 、R2 のアルキル基の置換基として挙げた置換基か
ら選ばれる。Xはアニオン基を表すが、分子内塩の場合
はXは必要ない。Xの例として、塩素イオン、臭素イオ
ン、ヨウ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、p−トル
エンスルホン酸イオン、オギザラートを表す。R 3 and R 4 represent a hydrogen atom or a substituent, and examples of the substituent are selected from the above-mentioned substituents of the alkyl group of R 1 and R 2 . As preferred examples, R 3 and R 4 have 0 to 10 carbon atoms, and specific examples thereof include an aryl-substituted alkyl group and a substituted or unsubstituted aryl group. R 5 has 1 to 2 carbon atoms
An alkyl group of 0 is preferable, and whether it is linear or branched,
Further, it may be a cyclic alkyl group. The alkyl group may be substituted with a substituent, and examples of the substituent are selected from the substituents mentioned above as the substituents of the alkyl group of R 1 and R 2 . X represents an anion group, but X is not necessary in the case of an inner salt. Examples of X are chlorine ion, bromine ion, iodine ion, nitrate ion, sulfate ion, p-toluenesulfonate ion, and oxalate.
【0105】R3 、R4 及びR5 の置換基の一部とし
て、ハロゲン化銀感光材料の特定の層に添加するため
に、拡散性を低下するためのバラスト基もしくはハロゲ
ン化銀への吸着促進基を有することが好ましい。バラス
ト基としては炭素原子の総数が15以上のもので、ハロ
ゲン化銀写真用カプラーで用いられるものが好ましい。
ハロゲン化銀への吸着促進基としては、好ましくはチオ
アミド類(例えばチオウレタン、チオウレイド、チオア
ミド)、メルカプト類(例えば5−メルカプトテトラゾ
ール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、2
−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メル
カプト−1,3,4−オキサジアゾール等のヘテロ環メ
ルカプト、アルキルメルカプト、アリールメルカプト)
およびイミノ銀を生成する5ないし6員の含窒素ヘテロ
環(例えばベンゾトリアゾール)である。Adsorption to a ballast group or silver halide for decreasing the diffusivity in order to add it to a specific layer of a silver halide light-sensitive material as a part of the substituents of R 3 , R 4 and R 5. It is preferable to have a accelerating group. The ballast group has a total number of carbon atoms of 15 or more and is preferably used in a silver halide photographic coupler.
The adsorption promoting group for silver halide is preferably thioamides (eg thiourethane, thioureido, thioamide), mercaptos (eg 5-mercaptotetrazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 2
-Heterocyclic mercapto such as mercapto-1,3,4-thiadiazole and 2-mercapto-1,3,4-oxadiazole, alkylmercapto, arylmercapto)
And a 5- or 6-membered nitrogen-containing heterocycle (eg, benzotriazole) that produces iminosilver.
【0106】本発明の一般式(VIII)、一般式(IX)、一
般式(X)で表わされる化合物の合成は一般に良く知ら
れた方法(例えば、Quart.Rev., 16,163(196
2)参照)により容易に合成することができる。The compounds represented by the general formula (VIII), the general formula (IX) and the general formula (X) of the present invention can be synthesized by a generally well-known method (for example, Quart. Rev., 16, 163 (196).
It can be easily synthesized according to 2).
【0107】一般式(VIII)、一般式(IX) 、一般式
(X)で表わされる化合物の具体例を以下に示す。但
し、本発明は以下の化合物に限定されるものではない。Specific examples of the compounds represented by the general formula (VIII), the general formula (IX) and the general formula (X) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0108】[0108]
【化59】 [Chemical 59]
【0109】[0109]
【化60】 [Chemical 60]
【0110】[0110]
【化61】 [Chemical formula 61]
【0111】[0111]
【化62】 [Chemical formula 62]
【0112】[0112]
【化63】 [Chemical formula 63]
【0113】[0113]
【化64】 [Chemical 64]
【0114】[0114]
【化65】 [Chemical 65]
【0115】[0115]
【化66】 [Chemical formula 66]
【0116】[0116]
【化67】 [Chemical formula 67]
【0117】本発明の一般式(VII)、一般式(VIII)、一
般式(IX)、一般式(X)の化合物の添加量としては、
特に制限はないが、ハロゲン化銀1 モル当たり1 ×10
-5ないし2×10-2モル含有されるのが好ましく、特に
2×10-5ないし1×10-2モルの範囲が好ましい添加
量である。本発明において特に好ましく用いられる造核
促進剤は、一般式(IX)で示される化合物である。The addition amount of the compounds of the general formula (VII), general formula (VIII), general formula (IX) and general formula (X) of the present invention is as follows.
There is no particular limitation, but 1 × 10 per mol of silver halide
-5 to 2 × 10 -2 mol is preferable, and a particularly preferable range is 2 × 10 -5 to 1 × 10 -2 mol. The nucleation accelerator used particularly preferably in the present invention is a compound represented by the general formula (IX).
【0118】また、本発明の一般式(VII)、一般式(VII
I)、一般式(IX)、一般式(X)の化合物を、写真感光
材料中に含有させるときは、水溶性の場合は水溶液とし
て、水不溶性の場合はアルコール類(たとえばメタノー
ル、エタノール)、エステル類(たとえば酢酸エチ
ル)、ケトン類(たとえばアセトン)などの水に混和し
うる有機溶媒の溶液として、ハロゲン化銀乳剤溶液又
は、親水性コロイド溶液に添加すればよい。また、既に
良く知られている乳化分散法によって、ジブチルフタレ
ート、トリクレジルフォスフェート、グリセリルトリア
セテートあるいはジエチルフタレートなどのオイル、酢
酸エチルやシクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶
解し、機械的に乳化分散物を作成して用いることもでき
る。あるいは固体分散法として知られている方法によっ
て、微細な分散物にして用いることもできる。Further, the general formula (VII) and the general formula (VII
When the compound of the formula (I), the general formula (IX) or the general formula (X) is contained in the photographic light-sensitive material, it is an aqueous solution when it is water-soluble, and alcohols (for example, methanol or ethanol) when it is water-insoluble. It may be added to a silver halide emulsion solution or a hydrophilic colloid solution as a solution of a water-miscible organic solvent such as esters (eg ethyl acetate) and ketones (eg acetone). Further, by a well-known emulsification dispersion method, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, oil such as glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are dissolved and mechanically emulsified and dispersed. It is also possible to create and use things. Alternatively, it can be used as a fine dispersion by a method known as a solid dispersion method.
【0119】本発明に使用する明室用ハロゲン化銀感光
材料を用いて、超硬調で明室用途に耐えうるセーフライ
ト安全性を有する写真特性を得るには、従来の伝染現像
液や米国特許2,419,975号に記載されたpH1
3に近い高アルカリ現像液を用いる必要はなく、安定な
現像液を用いることができる。すなわち本発明に使用す
る明室用ハロゲン化銀感光材料は、保恒剤として亜硫酸
イオンを0.15モル/リットル以上含み、pH9.5
〜11.0の現像液によって充分に超硬調の画像を得る
ことができる。In order to obtain a photographic property having a superhigh contrast and safe light safety that can withstand use in a bright room using the silver halide light-sensitive material for a bright room used in the present invention, a conventional infectious developer or US patent is used. PH 1 described in 2,419,975
It is not necessary to use a highly alkaline developer close to 3, and a stable developer can be used. That is, it is used in the present invention .
The light- sensitive silver halide light-sensitive material for bright room contains 0.15 mol / liter or more of sulfite ion as a preservative and has a pH of 9.5.
A sufficiently high-contrast image can be obtained with a developing solution of about 11.0.
【0120】本発明における現像・定着等に特別な制限
はないが、現像液としてはジヒドロキシベンゼン系化合
物またはレダクトン類を現像主薬として用いることが好
ましい。このうち、ジヒドロキシベンゼン系現像主薬を
用いる場合の好ましい現像液は以下の組成を有する。
(1) 0.2〜0.75モル/リットルのジヒドロキシベ
ンゼン系現像主薬、(2) 0.001〜0.06モル/リ
ットルの1−フェニル−3−ピラゾリドン系またはp−
アミノフェノール系の補助現像主薬、(3) 0.15〜
1.2モル/リットルの遊離の亜硫酸イオン、(4) 一般
式〔XI〕で示される化合物を含有し、一般式〔XI〕で示
される化合物とジヒドロキシベンゼン系現像主薬の濃度
比が0.03〜0.12であり、pHが9.0〜11.
0である現像液であり、特に9.5〜10.7が好まし
い。
一般式〔XI〕There is no particular limitation on the development and fixing in the present invention, but it is preferable to use a dihydroxybenzene compound or reductone as a developing agent as a developing solution. Among these, a preferable developing solution in the case of using a dihydroxybenzene type developing agent has the following composition.
(1) 0.2 to 0.75 mol / liter of dihydroxybenzene type developing agent, (2) 0.001 to 0.06 mol / liter of 1-phenyl-3-pyrazolidone type or p-type
Aminophenol-based auxiliary developing agent, (3) 0.15-
It contains 1.2 mol / liter of free sulfite ion, (4) the compound represented by the general formula [XI], and the concentration ratio of the compound represented by the general formula [XI] and the dihydroxybenzene-based developing agent is 0.03. .About.0.12 and the pH is 9.0-11.
The developer is 0, and particularly preferably 9.5 to 10.7. General formula (XI)
【0121】[0121]
【化68】 [Chemical 68]
【0122】式中、R1 、R2 はそれぞれヒドロキシ
基、アミノ基、アシルアミノ基、アルキルスルホニルア
ミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルコキシカル
ボニルアミノ基、メルカプト基またはアルキルチオ基を
表す。P、Qはヒドロキシ基、カルボキシル基、アルコ
キシ基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル
基、スルホ基、スルホアルキル基、アミノ基、アミノア
ルキル基、アルキル基またはアリール基を表すか、また
は、PとQは互いに結合して、R1 、R2 が置換してい
る二つのビニル炭素原子とYが置換している炭素原子と
共に5〜8員環を形成する原子群を表す。Yは=0、ま
たは=N−R3 を表す。R3 は水素原子、ヒドロキシル
基、アルキル基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、ス
ルホアルキル基、カルボキシアルキル基を表す。In the formula, R 1 and R 2 each represent a hydroxy group, amino group, acylamino group, alkylsulfonylamino group, arylsulfonylamino group, alkoxycarbonylamino group, mercapto group or alkylthio group. P and Q represent a hydroxy group, a carboxyl group, an alkoxy group, a hydroxyalkyl group, a carboxyalkyl group, a sulfo group, a sulfoalkyl group, an amino group, an aminoalkyl group, an alkyl group or an aryl group, or P and Q are It represents an atomic group which is bonded to each other to form a 5- to 8-membered ring with two vinyl carbon atoms substituted by R 1 and R 2 and a carbon atom substituted by Y. Y represents = 0 or = N-R 3,. R 3 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, an alkyl group, an acyl group, a hydroxyalkyl group, a sulfoalkyl group or a carboxyalkyl group.
【0123】一般式〔XI〕の詳しい説明および具体的化
合物は、特願平5−282101号に記載されている。
この中で好ましいのは、アスコルビン酸あるいはエリソ
ルビン酸(立体異性体)である。一般式〔XI〕の化合物
の添加量は、(一般式〔XI〕で示される化合物/ハイド
ロキノン系現像主薬)の濃度比(一般式〔XI〕で示され
る化合物の濃度をジヒドロキシベンゼン系現像主薬の濃
度で除した値)が0.03〜0.12の範囲である。好
ましい濃度比は0.03〜0.10であり、特に好まし
い濃度比は0.05〜0.09である。Detailed description of the general formula [XI] and specific compounds are described in Japanese Patent Application No. 5-282101.
Of these, ascorbic acid and erythorbic acid (stereoisomers) are preferable. The addition amount of the compound of the general formula [XI] is the concentration ratio of (the compound represented by the general formula [XI] / hydroquinone type developing agent) (the concentration of the compound represented by the general formula [XI] is the same as that of the dihydroxybenzene type developing agent). The value divided by the concentration) is in the range of 0.03 to 0.12. A preferable concentration ratio is 0.03 to 0.10. A particularly preferable concentration ratio is 0.05 to 0.09.
【0124】本発明に用いるジヒドロキシベンゼン系現
像主薬としてはハイドロキノン、クロロハイドロキノ
ン、ブロムハイドロキノン、イソプロピルハイドロキノ
ン、メチルハイドロキノン、2,3−ジブロムハイドロ
キノン、2,5−ジメチルハイドロキノンなどである
が、特にハイドロキノンが好ましい。ハイドロキノン誘
導体の現像液中での濃度は0.2〜0.75モル/リッ
トル、好ましくは0.2〜0.5モル/リットルであ
り、特に好ましくは0.2〜0.4モル/リットルであ
る。Examples of the dihydroxybenzene type developing agent used in the present invention include hydroquinone, chlorohydroquinone, bromohydroquinone, isopropylhydroquinone, methylhydroquinone, 2,3-dibromohydroquinone, and 2,5-dimethylhydroquinone, but hydroquinone is particularly preferable. preferable. The concentration of the hydroquinone derivative in the developer is 0.2 to 0.75 mol / liter, preferably 0.2 to 0.5 mol / liter, particularly preferably 0.2 to 0.4 mol / liter. is there.
【0125】本発明に用いる1−フェニル−3−ピラゾ
リドン誘導体現像主薬としては、1−フェニル−3−ピ
ラゾリドン、1−フェニル−4,4−ジメチル−3−ピ
ラゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキ
シメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル−4,4−
ジヒドロキシメチル−3−ピラゾリドン、1−フェニル
−5−メチル−3−ピラゾリドン、1−p−アミノフェ
ニル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−p−
トリル−4,4−ジメチル−3−ピラゾリドン、1−p
−トリル−4−メチル−4−ヒドロキシメチル−3−ピ
ラゾリドンなどで好ましくは、1−フェニル−3−ピラ
ゾリドン、1−フェニル−4−メチル−4−ヒドロキシ
メチル−3−ピラゾリドン等である。As the 1-phenyl-3-pyrazolidone derivative developing agent used in the present invention, 1-phenyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone and 1-phenyl-4-methyl- 4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-4,4-
Dihydroxymethyl-3-pyrazolidone, 1-phenyl-5-methyl-3-pyrazolidone, 1-p-aminophenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-p-
Trilyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidone, 1-p
-Tolyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone and the like are preferable, and 1-phenyl-3-pyrazolidone and 1-phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidone are preferable.
【0126】本発明に用いるp−アミノフェノール系現
像主薬としてはN−メチル−p−アミノフェノール、p
−アミノフェノール、N−(β−ヒドロキシエチル)−
p−アミノフェノール、N−(4−ヒドロキシフェニ
ル)グリシン等があるが、なかでもN−メチル−p−ア
ミノフェノールが好ましい。ジヒドロキシベンゼン類と
1−フェニル−3−ピラゾリドン類もしくはp−アミノ
フェノール類の組合せを用いる場合には前者を0.05
モル/リットル〜0.5モル/リットル、後者を0.0
6モル/リットル以下の量で用いるのが好ましい。As the p-aminophenol type developing agent used in the present invention, N-methyl-p-aminophenol, p
-Aminophenol, N- (β-hydroxyethyl)-
There are p-aminophenol, N- (4-hydroxyphenyl) glycine and the like, and among them, N-methyl-p-aminophenol is preferable. When the combination of dihydroxybenzenes and 1-phenyl-3-pyrazolidones or p-aminophenols is used, the former is 0.05
Mol / liter to 0.5 mol / liter, the latter of 0.0
It is preferably used in an amount of 6 mol / liter or less.
【0127】また、レダクトン類を現像主薬として用い
る場合には、レダクトン類として前述の一般式(XI)の
化合物を用いることが好ましく、アスコルビン酸あるい
はエリソルビン酸(立体異性体)が特に好ましい。この
場合の補助現像主薬としてはジヒドロキシベンゼン系現
像主薬と同様のものを用いることができ、p−アミノフ
ェール系および/または1−フェニル−3−ピラゾリド
ン系の補助現像主薬が好ましい。一般式(XI)の化合物
を現像主薬として用いる場合の使用量の一般的な範囲と
しては、現像液1リットル当り5×10-3モル〜1モ
ル、特に好ましくは10-2モル〜0.5モルである。When the reductone is used as the developing agent, the compound of the above-mentioned general formula (XI) is preferably used as the reductone, and ascorbic acid or erythorbic acid (stereoisomer) is particularly preferable. In this case, as the auxiliary developing agent, the same ones as the dihydroxybenzene type developing agent can be used, and the p-aminofer type and / or 1-phenyl-3-pyrazolidone type auxiliary developing agent is preferable. When the compound of the general formula (XI) is used as a developing agent, the amount used is generally in the range of 5 × 10 −3 mol to 1 mol, and particularly preferably 10 −2 mol to 0.5, per liter of the developing solution. It is a mole.
【0128】本発明に好ましい現像液に用いる保恒剤
は、遊離の亜硫酸イオンであり、現像液への添加の形と
しては、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸リチウム、亜硫酸ア
ンモニウム、重亜硫酸ナトリウムなどがある。遊離の亜
硫酸イオン濃度は、0.15〜1.2モル/リットル、
好ましくは0.3〜1.0モル/リットル、特に好まし
くは0.3〜0.8モル/リットルである。本発明の現
像処理に用いる現像液のpHは9.0から11.0まで
の範囲で、好ましくは9.5〜10.7である。pHの
設定のために用いるアルカリ剤には水酸化ナトリウム、
炭酸ナトリウム、第三リン酸ナトリウム、水酸化カリウ
ム、炭酸カリウム、ホウ酸等のpH調製剤を含む。The preservative used in the developing solution preferred in the present invention is a free sulfite ion, and sodium sulfite, lithium sulfite, ammonium sulfite, sodium bisulfite and the like can be added to the developing solution. The free sulfite ion concentration is 0.15 to 1.2 mol / liter,
It is preferably 0.3 to 1.0 mol / liter, and particularly preferably 0.3 to 0.8 mol / liter. The pH of the developer used in the developing treatment of the present invention is in the range of 9.0 to 11.0, preferably 9.5 to 10.7. Sodium hydroxide is used as the alkaline agent to set the pH.
It contains pH adjusters such as sodium carbonate, sodium triphosphate, potassium hydroxide, potassium carbonate, boric acid and the like.
【0129】また、本発明の方法で使用する現像液に
は、ジアルデヒド系硬膜剤またはその重亜硫酸塩付加物
が用いられることがある。その具体例としては、グルタ
ルアルデヒド、α−メチルグルタルアルデヒド、β−メ
チルグルタルアルデヒド、マレインジアルデヒド、サク
シンジアルデヒド、メトキシサクシンジアルデヒド、メ
チルサクシンジアルデヒド、α−メトキシ−β−エトキ
シグルタルアルデヒド、α−n−ブトキシグルタルアル
デヒド、α,α−ジエチルサクシンジアルデヒド、ブチ
ルマレインジアルデヒド、又はこれらの重亜硫酸塩付加
物などがある。なかでもグルタルアルデヒドまたはその
重亜硫酸塩付加物が最も一般的に使用される。ジアルデ
ヒド化合物は処理される写真層の感度が抑制されず、乾
燥時間も著しく長くならない程度の量で用いられる。具
体的には、現像液1リットル当り1〜50g、好ましく
は3〜10gである。In the developer used in the method of the present invention, a dialdehyde hardener or a bisulfite adduct thereof may be used. Specific examples thereof include glutaraldehyde, α-methylglutaraldehyde, β-methylglutaraldehyde, maleindialdehyde, succindialdehyde, methoxysuccindialdehyde, methylsuccindialdehyde, α-methoxy-β-ethoxyglutaraldehyde, α. Examples include -n-butoxyglutaraldehyde, α, α-diethylsuccindialdehyde, butylmaleindialdehyde, and bisulfite adducts thereof. Of these, glutaraldehyde or its bisulfite adduct is most commonly used. The dialdehyde compound is used in such an amount that the sensitivity of the photographic layer to be processed is not suppressed and the drying time is not significantly prolonged. Specifically, it is 1 to 50 g, preferably 3 to 10 g per liter of the developing solution.
【0130】本発明の方法に用いられる現像液にはカブ
リ防止剤が使用され、例えば、インダゾール系、ベンズ
イミダゾール系またはベンズトリアゾール系がある。具
体的には、5−ニトロインダゾール、5−p−ニトロベ
ンゾイルアミノインダゾール、1−メチル−5−ニトロ
インダゾール、6−ニトロインダゾール、3−メチル−
5−ニトロインダゾール、5−ニトロベンズイミダゾー
ル、2−イソプロピル−5−ニトロベンズイミダゾー
ル、5−ニトロベンズトリアゾール、4−〔(2−メル
カプト−1,3,4−チアジアゾール−2−イル)チ
オ〕ブタンスルホン酸ナトリウム、5−アミノ−1,
3,4−チアジアゾール−2−チオールなどを挙げるこ
とができる。これらカブリ防止剤の量は、通常、現像液
1リットル当り0.01〜10mmolであり、より好まし
くは0.1〜2mmolである。なお、これら有機のカブリ
防止剤以外に、例えば、臭化カリウム、臭化ナトリウム
の如きハロゲン化物も使用することができる。An antifoggant is used in the developer used in the method of the present invention, and examples thereof include indazole type, benzimidazole type and benztriazole type. Specifically, 5-nitroindazole, 5-p-nitrobenzoylaminoindazole, 1-methyl-5-nitroindazole, 6-nitroindazole, 3-methyl-
5-nitroindazole, 5-nitrobenzimidazole, 2-isopropyl-5-nitrobenzimidazole, 5-nitrobenztriazole, 4-[(2-mercapto-1,3,4-thiadiazol-2-yl) thio] butane Sodium sulfonate, 5-amino-1,
3,4-thiadiazole-2-thiol and the like can be mentioned. The amount of these antifoggants is usually 0.01 to 10 mmol, and more preferably 0.1 to 2 mmol, per liter of the developing solution. In addition to these organic antifoggants, for example, halides such as potassium bromide and sodium bromide can be used.
【0131】更に本発明に用いる現像液中には各種の有
機・無機のキレート剤を併用することができる。無機キ
レート剤としては、テトラポリリン酸ナトリウム、ヘキ
サメタリン酸ナトリウム等を用いることができる。一
方、有機キレート剤としては、主に有機カルボン酸、ア
ミノポリカルボン酸、有機ホスホン酸、アミノホスホン
酸及び有機ホスホノカルボン酸を用いることができる。
有機カルボン酸としては、アクリル酸、シュウ酸、マロ
ン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン
酸、コルク酸、アシエライン酸、セバチン酸、ノナンジ
カルボン酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボ
ン酸、マレイン酸、イタコン酸、リンゴ酸、クエン酸、
酒石等を挙げることができるが、これらに限定されるも
のではない。Further, various organic and inorganic chelating agents can be used in combination in the developing solution used in the present invention. As the inorganic chelating agent, sodium tetrapolyphosphate, sodium hexametaphosphate or the like can be used. On the other hand, as the organic chelating agent, organic carboxylic acid, aminopolycarboxylic acid, organic phosphonic acid, aminophosphonic acid and organic phosphonocarboxylic acid can be mainly used.
As the organic carboxylic acid, acrylic acid, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, corkic acid, acieleic acid, sebacic acid, nonanedicarboxylic acid, decanedicarboxylic acid, undecanedicarboxylic acid, maleic acid , Itaconic acid, malic acid, citric acid,
Examples include tartar and the like, but the invention is not limited thereto.
【0132】アミノポリカルボン酸としては、イミノ二
酢酸、ニトリロ酸酢酸、ニトリロ酸プロピオン酸、エチ
レンジアミノモノヒドロキシエチル三酢酸、エチレンジ
アミン四酢酸、グリコールエーテル四酢酸、1,2−ジ
アミノプロパン四酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、
トリエチレンテトラミン六酢酸、1,3−ジアミノ−2
−プロパノール四酢酸、グリコールエーテルジアミノ四
酢酸、その他特開昭52−25632号、同55−67
747号、同57−102624号、及び特公昭53−
40900号明細書等に記載の化合物を挙げることがで
きる。Examples of aminopolycarboxylic acids include iminodiacetic acid, nitriloacetic acid, nitrilopropionic acid, ethylenediaminomonohydroxyethyltriacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, glycol ether tetraacetic acid, 1,2-diaminopropanetetraacetic acid, diethylenetriamine. Pentaacetic acid,
Triethylene tetramine hexaacetic acid, 1,3-diamino-2
-Propanol tetraacetic acid, glycol ether diamino tetraacetic acid, etc. JP-A-52-25632, 55-67
No. 747, No. 57-102624, and Japanese Patent Publication No. 53-53
The compounds described in the specification of No. 40900 and the like can be mentioned.
【0133】有機ホスホン酸としては、米国特許321
4454号、同3794591号、及び西独特許公開2
227639号等に記載のヒドロキシアルキリデン−ジ
ホスホン酸やリサーチ・ディスクロージャー(Research
Disclosure) 第181巻、Item 18170(1979
年5月号)等に記載の化合物が挙げられる。アミノホス
ホン酸としては、アミノトリス(メチレンホスホン
酸)、エチレンジアミノテトラメチレンホスホン酸、ア
ミノトリメチレンホスホン酸等が挙げられるが、その他
上記リサーチ・ディスクロージャー18170号、特開
昭57−208554号、同54−61125号、同5
5−29883号及び同56−97347号等に記載の
化合物を挙げることができる。As the organic phosphonic acid, US Pat.
4454, 3794591, and West German Patent Publication 2
227639 and the like, hydroxyalkylidene-diphosphonic acid and Research Disclosure (Research
Disclosure) Volume 181, Item 18170 (1979)
May issue) and the like. Examples of the aminophosphonic acid include aminotris (methylenephosphonic acid), ethylenediaminotetramethylenephosphonic acid, aminotrimethylenephosphonic acid, and the like. In addition to the above, Research Disclosure 18170, JP-A-57-208554 and 54 -61125, 5
Examples thereof include compounds described in JP-A Nos. 5-29883 and 56-97347.
【0134】有機ホスホノカルボン酸としては、特開昭
52−102726号、同53−42730号、同54
−121127号、同55−4024号、同55−40
25号、同55−126241号、同55−65955
号、同55−65956号、及び前述のリサーチ・ディ
スクロージャー18170号等に記載の化合物を挙げる
ことができる。これらのキレート剤はアルカリ金属塩や
アンモニウム塩の形で使用してもよい。これらキレート
剤の添加量としては、現像液1リットル当り好ましく
は、1×10-4〜1×10-1モル、より好ましくは1×
10-3〜1×10-2モルである。Organic phosphonocarboxylic acids include those disclosed in JP-A Nos. 52-102726, 53-42730 and 54.
-112127, 55-4024, 55-40
No. 25, No. 55-126241, No. 55-65955.
No. 55-69556, and the above-mentioned Research Disclosure 18170. These chelating agents may be used in the form of alkali metal salts or ammonium salts. The addition amount of these chelating agents is preferably 1 × 10 −4 to 1 × 10 −1 mol, more preferably 1 ×, per 1 liter of the developing solution.
It is 10 −3 to 1 × 10 −2 mol.
【0135】本発明の方法に使用する現像液には上記の
組成の他に必要により緩衝剤(例えば、炭酸塩、アルカ
ノールアミン)、アルカリ剤(例えば、水酸化物、炭酸
塩)、溶解助剤(例えば、ポリエチレングリコール類、
これらのエステル)、pH調整剤(例えば、酢酸の如き
有機酸)、現像促進剤(例えば米国特許2648604
号、特公昭44−9503号、米国特許3171247
号に記載の各種のピリジニウム化合物やその他のカチオ
ニック化合物、フェノサフラニンのようなカチオン性色
素、硝酸タリウムや硝酸カリウムの如き中性塩、特公昭
44−9304号、米国特許2533990号、同25
31832号、同2950970号、同2577127
号記載のポリエチレングリコールやその誘導体、ポリチ
オエーテル類などのノニオン性化合物、特公昭44−9
509号、ベルギー特許682862号記載の有機溶
剤、米国特許3201242号記載のチオエーテル系化
合物など、特にチオエーテル系化合物が好ましい)、界
面活性剤などを含有させることができる。In addition to the above composition, the developer used in the method of the present invention may optionally contain a buffering agent (eg, carbonate, alkanolamine), an alkaline agent (eg, hydroxide, carbonate), a solubilizing agent. (For example, polyethylene glycols,
These esters), pH adjusters (eg organic acids such as acetic acid), development accelerators (eg US Pat. No. 2,648,604).
No. 4, Japanese Patent Publication No. 4-9503, US Pat. No. 3,171,247.
Various pyridinium compounds and other cationic compounds described in No. 5, cationic dyes such as phenosafranine, neutral salts such as thallium nitrate and potassium nitrate, JP-B-44-9304, US Pat.
31832, 2950970, and 2577127.
Polyethylene glycol and its derivatives, nonionic compounds such as polythioethers described in JP-B-44-9
509, Belgian Patent 682862, organic solvents described in U.S. Pat. No. 3,012,242, thioether compounds, etc., especially thioether compounds are preferable), and surfactants may be contained.
【0136】現像処理温度及び時間は相互に関係し、全
処理時間との関係において決定されるが、一般に処理温
度は約20℃〜約50℃で処理時間は10秒〜2分であ
る。ハロゲン化銀黒白写真感光材料1平方メートルを処
理する際に、現像液の補充液量は400ミリリットル以
下、好ましくは200ミリリットル以下である。The development processing temperature and time are interrelated and are determined in relation to the total processing time. Generally, the processing temperature is about 20 ° C. to about 50 ° C. and the processing time is 10 seconds to 2 minutes. When processing 1 square meter of a silver halide black and white photographic light-sensitive material, the replenisher amount of the developing solution is 400 ml or less, preferably 200 ml or less.
【0137】本発明の定着工程で使用する定着液は、チ
オ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、必要により
酒石酸、クエン酸、グルコン酸、ホウ酸、イミノジ酢
酸、5−スルホサリチル酸、グルコヘプタン酸、タイロ
ン、エチレンジアミン四酢酸、ジエチレントリアミン五
酢酸、ニトリロ三酢酸これらの塩を含む水溶液である。
近年の環境保護の観点からは、ホウ酸は含まれない方が
好ましい。本発明に用いられる定着液の定着剤としては
チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウムなどであ
り、定着速度の点からはチオ硫酸アンモニウムが好まし
いが、近年の環境保護の観点からチオ硫酸ナトリウムが
使われても良い。これら既知の定着剤の使用量は適宜変
えることができ、一般には約0.1〜約2モル/リット
ルである。特に好ましくは、0.2〜1.5モル/リッ
トルである。定着液には所望により、硬膜剤(例えば水
溶性アルミニウム化合物)、保恒剤(例えば、亜硫酸
塩、重亜硫酸塩)、pH緩衝剤(例えば、酢酸)、pH
調整剤(例えば、アンモニア、硫酸)、キレート剤、界
面活性剤、湿潤剤、定着促進剤を含むことができる。界
面活性剤としては、例えば硫酸化物、スルフォン化物な
どのアニオン界面活性剤、ポリエチレン系界面活性剤、
特開昭57−6740号公報記載の両性界面活性剤など
が挙げられる。また、公知の消泡剤を添加してもよい。
湿潤剤としては、例えばアルカノールアミン、アルキレ
ングリコールなどが挙げられる。定着促進剤としては、
例えば特公昭45−35754号、同58−12253
5号、同58−122536号各公報記載のチオ尿素誘
導体、分子内に3重結合を持つアルコール、米国特許第
4126459号記載のチオエーテル化合物、特開平4
−229860号記載のメソイオン化合物などが挙げら
れ、また、特開平2−44355号記載の化合物を用い
てもよい。定着液のpHは4.0〜6.5が好ましく、
特に好ましくは4.5〜6.0の範囲である。また、色
素溶出促進剤として、特開昭64−4739号記載の化
合物を用いることもできる。The fixing solution used in the fixing step of the present invention is sodium thiosulfate, ammonium thiosulfate, if necessary tartaric acid, citric acid, gluconic acid, boric acid, iminodiacetic acid, 5-sulfosalicylic acid, glucoheptanoic acid, tyron, ethylenediamine. Tetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, nitrilotriacetic acid are aqueous solutions containing these salts.
From the viewpoint of recent environmental protection, it is preferable that boric acid is not contained. As the fixing agent of the fixing solution used in the present invention, sodium thiosulfate, ammonium thiosulfate and the like are used, and ammonium thiosulfate is preferable from the viewpoint of the fixing speed, but sodium thiosulfate may be used from the viewpoint of recent environmental protection. . The use amount of these known fixing agents can be appropriately changed and is generally about 0.1 to about 2 mol / liter. Particularly preferably, it is 0.2 to 1.5 mol / liter. If desired, the fixer may include a hardening agent (eg, water-soluble aluminum compound), preservative (eg, sulfite, bisulfite), pH buffer (eg, acetic acid), pH.
Modifiers (eg ammonia, sulfuric acid), chelating agents, surfactants, wetting agents, fixing accelerators can be included. Examples of the surfactant include anionic surfactants such as sulfates and sulfonates, polyethylene-based surfactants,
Examples thereof include amphoteric surfactants described in JP-A-57-6740. Further, a known antifoaming agent may be added.
Examples of the wetting agent include alkanolamine and alkylene glycol. As a fixing accelerator,
For example, Japanese Examined Patent Publication Nos. 45-35754 and 58-12253.
5, thiourea derivatives described in JP-A Nos. 58-122536, alcohols having a triple bond in the molecule, thioether compounds described in US Pat.
Examples include mesoionic compounds described in JP-A-229860, and compounds described in JP-A-2-44355 may be used. The pH of the fixer is preferably 4.0 to 6.5,
Particularly preferably, it is in the range of 4.5 to 6.0. Further, as the dye elution accelerator, the compounds described in JP-A No. 64-4739 can also be used.
【0138】本発明の定着液中の硬膜剤としては、水溶
性アルミニウム塩、クロム塩がある。好ましい化合物は
水溶性アルミニウム塩であり、例えば塩化アルミニウ
ム、硫酸アルミニウム、カリ明バンなどがある。好まし
い添加量は0.01モル〜0.2モル/リットル、さら
に好ましくは0.03〜0.08モル/リットルであ
る。定着温度は、約20℃〜約50℃、好ましくは25
〜45℃で、定着時間は5秒〜1分、好ましくは7秒〜
50秒である。定着液の補充量は、感光材料の処理量に
対して600ml/m2以下であり、特に300ml/m2以下
が好ましい。As the hardening agent in the fixing solution of the present invention, there are water-soluble aluminum salts and chromium salts. A preferred compound is a water-soluble aluminum salt, such as aluminum chloride, aluminum sulfate, potassium alum. The preferable addition amount is 0.01 mol to 0.2 mol / liter, more preferably 0.03 to 0.08 mol / liter. The fixing temperature is about 20 ° C to about 50 ° C, preferably 25 ° C.
~ 45 ° C, fixing time is 5 seconds to 1 minute, preferably 7 seconds to
50 seconds. The replenishing amount of the fixing solution is 600 ml / m 2 or less, and particularly preferably 300 ml / m 2 or less with respect to the processing amount of the light-sensitive material.
【0139】現像、定着処理が済んだ感光材料は、つい
で水洗または安定化処理される。水洗または安定化処理
はハロゲン化銀感光材料1m2当り、3リットル以下の補
充量(0を含む、すなわちため水水洗)で行なうことも
できる。すなわち、節水処理が可能となるのみならず、
自動現像機設置の配管を不要とすることができる。水洗
を少量の水で行う場合は、特開昭63−18350号、
同62−287252号などに記載のスクイズローラー
の浄化槽を設けることがより好ましい。また、少量水洗
時に問題となる公害負荷低減のために種々の酸化剤添加
やフィルター濾過を組み合わせてもよい。更に、本発明
の方法で水洗または安定化浴に防バイ手段を施した水を
処理に応じて補充することによって生ずる水洗又は安定
化浴からのオーバーフロー液の一部又は全部を特開昭6
0−235133号に記載されているようにその前の処
理工程である定着能を有する処理液に利用することもで
きる。また、少量水性時に発生し易い水泡ムラ防止およ
び/またはスクイズローラーに付着する処理剤成分が処
理されたフィルムに転写することを防止するために水溶
性界面活性剤や消泡剤を添加してもよい。また、感光材
料から溶出した染料による汚染防止に、特開昭63−1
63456号記載の色素吸着剤を水洗槽に設置してもよ
い。The light-sensitive material that has been developed and fixed is then washed with water or stabilized. The washing or stabilizing treatment can be carried out with a replenishing amount of 3 liters or less (including 0, that is, washing with water) per 1 m 2 of the silver halide light-sensitive material. That is, not only is it possible to save water,
The piping for installing the automatic processor can be eliminated. When the washing with water is carried out with a small amount of water, JP-A-63-18350,
It is more preferable to provide a squeeze roller septic tank described in JP-A No. 62-287252. In addition, various oxidants may be added or filter filtration may be combined in order to reduce the pollution load which becomes a problem when washing with a small amount of water. Further, a part or all of the overflow liquid from the washing or stabilizing bath produced by supplementing the washing or stabilizing bath with anti-vibration means according to the process by the method of the present invention is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No.
No. 0-235133, it can also be used for a processing solution having a fixing ability, which is a processing step before that. Further, a water-soluble surfactant or an antifoaming agent may be added in order to prevent water bubble unevenness that tends to occur when a small amount of water is used and / or to prevent the treatment agent component attached to the squeeze roller from being transferred to the treated film. Good. Further, in order to prevent contamination by dyes eluted from the light-sensitive material, JP-A-63-1
The dye adsorbent described in No. 63456 may be installed in the washing tank.
【0140】また、前記水洗処理に続いて安定化処理す
る場合もあり、その例として特開平2−201357
号、同2−132435号、同1−102553号、特
開昭46−44446号に記載の化合物を含有した浴を
感光材料の最終浴としてもよい。この安定浴にも必要に
応じてアンモニウム化合物、Bi、Alなどの金属化合
物、蛍光増白剤、各種キレート剤、膜pH緩衝剤、硬膜
剤、殺菌剤、防かび剤、アルカノールアミンや界面活性
剤に用いられる水としては水道水のほか脱イオン処理し
た水やハロゲン、紫外線殺菌灯や各種酸化剤(オゾン、
過酸化水素、塩素酸塩など)等によって殺菌された水を
使用することが好ましい。There is also a case where a stabilizing treatment is carried out subsequent to the water washing treatment, and an example thereof is JP-A-2-201357.
The baths containing the compounds described in JP-A No. 2-132435, JP-A No. 1-125255, and JP-A No. 46-44446 may be used as the final bath of the light-sensitive material. In this stabilizing bath, if necessary, ammonium compounds, metal compounds such as Bi and Al, optical brighteners, various chelating agents, film pH buffers, hardeners, bactericides, fungicides, alkanolamines and surface active agents. As the water used for the agent, tap water, deionized water and halogen, ultraviolet germicidal lamps and various oxidizers (ozone,
It is preferable to use water sterilized by hydrogen peroxide, chlorate, etc.).
【0141】本発明に好ましく用いられる処理液は、特
開昭61−73147号に記載された酸素透過性の低い
包材で保管することが好ましい。一方、補充量を低減す
る場合には処理槽の空気との接触面積を小さくすること
によって液の蒸発、空気酸化を防止することが好まし
い。ローラー搬送型の自動現像機については米国特許第
3025779号明細書、同第3545971号明細書
などに記載されており、ローラー搬送型自動現像機は現
像、定着、水洗及び乾燥の四工程からなるものを好まし
く用いることができる。さらに、上記の処理液を固形処
理剤としてもよい。本発明で好ましく用いられる固形処
理剤は、粉末、錠剤、顆粒、粉末、塊状又はペースト状
のものが用いられ、好ましい形態は、特開昭61−25
9921号記載の形態あるいは錠剤である。錠剤の製造
方法は、例えば特開昭51−61837号、同54−1
55038号、同52−88025号、英国特許1,2
13,808号等に記載される一般的な方法で製造で
き、更に顆粒処理剤は、例えば特開平2−109042
号、同2−109043号、同3−39735号及び同
3−39739号等に記載される一般的な方法で製造で
きる。更に又、粉末処理剤は、例えば特開昭54−13
3332号、英国特許725,892号、同729,8
62号及びドイツ特許3,733,861号等に記載さ
れるが如き一般的な方法で製造できる。The treatment liquid preferably used in the present invention is preferably stored in the packaging material having low oxygen permeability described in JP-A-61-73147. On the other hand, in the case of reducing the replenishment amount, it is preferable to prevent the evaporation and air oxidation of the liquid by reducing the contact area with the air in the processing tank. The roller-conveying type automatic developing machine is described in U.S. Pat. Nos. 3,025,779 and 3,545,971 and the like, and the roller-conveying type automatic developing machine comprises four steps of development, fixing, washing and drying. Can be preferably used. Further, the above treatment liquid may be used as a solid treatment agent. The solid processing agent preferably used in the present invention is in the form of powder, tablets, granules, powder, lumps or pastes, and the preferred form is JP-A-61-25.
The form or tablet described in 9921. The method for producing tablets is described in, for example, JP-A-51-61837 and JP-A-54-1.
55038, 52-88025, British Patents 1, 2
It can be produced by a general method described in JP-A No. 13,808.
No. 2-109043, No. 3-39735, No. 3-39739, and the like. Furthermore, the powder treating agent is disclosed in, for example, JP-A-54-13.
3332, British Patents 725,892 and 729,8
62 and German Patent 3,733,861 and the like, but can be produced by a general method.
【0142】本発明で好ましく用いられる固形処理剤の
嵩密度は、その溶解性の観点と、本発明の目的の効果の
点から、0.5〜6.0g/cm3 のものが好ましく、特
に1.0〜5.0g/cm3 のものが好ましい。The bulk density of the solid processing agent preferably used in the present invention is preferably 0.5 to 6.0 g / cm 3 , particularly from the viewpoint of its solubility and the effect of the object of the present invention. It is preferably 1.0 to 5.0 g / cm 3 .
【0143】本発明に使用する感光材料に用いられる各
種添加剤等に関しては、特に制限は無く、例えば下記に
示す該当箇所に記載された物を好ましく用いることが出
来る。
項 目 該 当 箇 所
1)分光増感色素 特開平2−12236号公報第8頁左下欄13行目
から同右下欄4行目、同2−103536号公報第
16頁右下欄3行目から同第17頁左下欄20行目
、さらに特開平1−112235号、同2−124
560号、同3−7928号、同5−11389号
および特願平3−411064号に記載の分光増感
色素。
2)界面活性剤、帯電防 特開平2−12236号公報第9頁右上欄7行目か
止剤 ら同右下欄7行目及び特開平2−18542号公報
第2頁左下欄13行目から同第4頁右下欄18行目
。
3)カブリ防止剤、安定 特開平2−103536号公報第17頁右下欄19
剤 行目から同第18頁右上欄4行目及び同右下欄1行
目から5行目。さらに特開平1−237538号公
報に記載のチオスルフィン酸化合物。
4)酸基を有する化合物 特開平2−103536号公報第8頁右下欄5行目
から同第19頁左上欄1行目及び同2−55349
号公報第8頁右下欄13行目から同第11頁左上欄
8行目。
5)マット剤、滑り剤 特開平2−103536号第19頁左上欄15行目
から同第19頁右上欄15行目。
6)硬膜剤 特開平2−103536号公報第18頁右上欄5行
目から同17行目。
7)染料 特開平2−103536号公報第17頁右下欄1行
目から同18行目、同2−39042号公報第4頁
右上欄1行目から第6頁右上欄5行目、特開平2−
294638号及び、特開昭63−296039号
公報に記載の染料。さらに、WO88/04794
号、欧州特許第456148号、特開平5−113
82号、特願平5−224717号、及び特願平6
−117454号等の公報あるいは明細書に記載さ
れている固体分散染料。
8)バインダー 特開平2−18542号公報第3頁右下欄1行目か
ら20行目。
9)黒ポツ防止剤 米国特許第4,956,257号および特開平1−
118832号公報に記載の化合物。
10) レドックス化合物 特開平2−301743号公報の一般式(I)で表
わされる化合物(特に化合物例1ないし50)、同
3−174143号公報第3頁ないし第20頁に記
載の一般式(R−1)、(R−2)、(R−3)、
化合物例1ないし75、さらに特願平3−6946
6号、特開平4−278939号に記載の化合物。
11) モノメチン化合物 特開平2−287532号公報記載の一般式(II)
の化合物(特に化合物例II−1ないしII−26)。
12) ジヒドロキシベンゼ 特開平3−39948号公報第11頁左上欄から第
ン類 12頁左下欄の記載、および欧州特許第452,7
72A号公報に記載の化合物。
13) ポリマーラテックス 特開平2−103536号公報第18頁左下欄12
行目から同20行目。さらに特公昭46−2250
7号、特開昭50−73625号、米国特許第34
88708号、同第3939130号、同第392
9482号、特願平5−300182号の公報ある
いは明細書に記載されている活性メチレン基を有す
るポリマーラテックス。
14) 有機減感剤 特公平3−76450号、特開昭63−64039
号、特願平6−117454号等の公報あるいは明
細書に記載されている化合物。
15) アミノ基、アンモニ 特開昭63−133145号公報第8頁5行目から
ウム基、および含窒 第40頁5行目。
素ヘテロ環を有する
化合物There are no particular restrictions on the various additives and the like used in the light-sensitive material used in the present invention , and for example, those described in the following relevant parts can be preferably used. Item This section 1) Spectral sensitizing dye JP-A-2-12236, page 8, lower left column, line 13 to same, lower right column, line 4, and JP-A-2-103536, page 16, lower right column, line 3 To page 17, lower left column, line 20, and spectral enhancement described in JP-A Nos. 1-112235, 2-124560, 3-79928, 5-11389, and Japanese Patent Application No. 3-411064. Sensitive dye. 2) Surfactants, antistatic From JP-A-2-12236, page 9, upper right column, line 7 or the same, from antistatic agent, lower right column, line 7 and JP-A-2-18542, page 2, lower left column, line 13 Page 4, lower right column, line 18. 3) Antifoggant, Stability JP-A-2-103536, page 17, lower right column 19, agent line to page 18, upper right column, line 4 and lower right column, line 1 to line 5. Further, thiosulfinic acid compounds described in JP-A-1-237538. 4) Compound having an acid group From JP-A-2-103536, page 8, lower right column, line 5 to page 19, upper left column, line 1 and JP-A 2-55349, page 8, lower right column, line 13 Page 11, upper left column, line 8. 5) Matting agent, slipping agent JP-A-2-103536, page 19, upper left column, line 15 to page 19, upper right column, line 15 6) Hardener JP-A-2-103536, page 18, upper right column, line 5 to line 17 7) Dye JP-A-2-103536, page 17, lower right column, line 1 to line 18; JP-A-2-39042, page 4, upper right column, line 1 to page 6, upper right column, line 5 Dyes described in Kaihei 2-294638 and JP-A-63-296039. Further, solids described in WO88 / 04794, European Patent No. 456148, JP-A-5-11382, Japanese Patent Application No. 5-224717, Japanese Patent Application No. 6-117454, and the like. Disperse dye. 8) Binder JP-A-2-18542, page 3, lower right column, lines 1 to 20. 9) Black spot preventing agent Compounds described in U.S. Pat. No. 4,956,257 and JP-A-1-118832. 10) Redox compounds Compounds represented by the general formula (I) in JP-A No. 2-301743 (particularly compound examples 1 to 50), and general compounds described in pages 3 to 20 of JP-A 3-174143. Formulas (R-1), (R-2), (R-3), Compound Examples 1 to 75, compounds described in Japanese Patent Application No. 3-69466 and JP-A No. 4-278939. 11) Monomethine compound A compound of the general formula (II) described in JP-A-2-287532 (particularly compound examples II-1 to II-26). 12) Dihydroxybenze Compounds described in JP-A-3-39948, page 11, upper left column to items, page 12, lower left column, and European Patent No. 452,772A. 13) Polymer latex JP-A-2-103536, page 18, lower left column, lines 12 to 20. Further, in Japanese Patent Publication No. 46-22507, Japanese Patent Publication No. 50-73625, US Pat. Nos. 34 88708, 3939130, 392 9482, and Japanese Patent Application No. 5-300182, or in the specification. Polymer latices having active methylene groups as described. 14) Organic desensitizers Compounds described in Japanese Patent Publication No. 3-76450, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-64039, Japanese Patent Application No. 6-117454, or the like or the description thereof. 15) Amino group, Ammoni JP-A-63-133145, page 8, line 5 to um group, and nitrogen-containing, page 40, line 5. Compounds containing elementary heterocycles
【0144】以下、本発明を実施例によって具体的に説
明するが、本発明はこれに限定されるものではない。Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited thereto.
【0145】[0145]
実施例1
<乳剤調整>
乳剤A:40℃に保った塩化ナトリウム及び銀1モル当
り3×10-5モルのベンゼンチオスルフォン酸ナトリウ
ムを含むpH=2.0の1.5%ゼラチン水溶液中に硝
酸銀水溶液と銀1モル当り3.5×10-5モルの(NH4)2
Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウム水溶液をダブルジェッ
ト法により電位95mVにおいて3分30秒間で最終粒子
の銀量の半分を同時添加し、芯部の粒子0.12μm を
調製した。その後、硝酸銀水溶液と銀1モル当り10.
5×10-5モルの(NH4)2Rh(H2O)Cl5を含む塩化ナトリウ
ム水溶液を前述と同様に7分間で添加し、平均粒子サイ
ズ0.15μm の塩化銀立方体粒子を調製した。(変動
係数12%)
この後、当業界でよく知られたフロキュレーション法に
より水洗し、可溶性塩を除去したのちゼラチンを加え、
化学熟成せずに防腐剤として化合物−Aとフェノキシエ
タノールを銀1モル当り各50mg、安定剤として4−ヒ
ドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7−テトラザイ
ンデンを銀1モル当り10-3モル添加した。(最終粒子
として、pH=5.7、pAg=7.5、Rh=7×1
0-5モル/Agモルとなった。)Example 1 <Emulsion preparation> Emulsion A: in a 1.5% gelatin aqueous solution of pH = 2.0 containing sodium chloride and 3 × 10 −5 mol of sodium benzenethiosulfonate per mol of silver kept at 40 ° C. Aqueous silver nitrate solution and 3.5 × 10 -5 mol of (NH 4 ) 2 per mol of silver
An aqueous sodium chloride solution containing Rh (H 2 O) Cl 5 was simultaneously added by the double jet method at a potential of 95 mV for 3 minutes and 30 seconds to half the amount of silver of the final particles to prepare 0.12 μm of particles for the core. Then, a silver nitrate aqueous solution and 10.
An aqueous sodium chloride solution containing 5 × 10 −5 mol of (NH 4 ) 2 Rh (H 2 O) Cl 5 was added in the same manner as above for 7 minutes to prepare silver chloride cubic particles having an average particle size of 0.15 μm. . (Coefficient of variation: 12%) After that, washing with water by a flocculation method well known in the art to remove soluble salts, gelatin was added,
Compound-A and phenoxyethanol were used as preservatives without chemical ripening, 50 mg each per 1 mol of silver, and 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene as stabilizer was 10 − per 1 mol of silver. 3 mol was added. (As final particles, pH = 5.7, pAg = 7.5, Rh = 7 × 1
It became 0 -5 mol / Ag mol. )
【0146】乳剤B:乳剤Aと全く同様に粒子形成、水
洗、ゼラチン添加後、pH5.7、pAg7.5に調整
し、さらに銀1モル当り1.6×10-5モルのチオ硫酸
ナトリウム、0.4×10-5モルの本発明のセレン増感
剤(II−41)及び4×10-5モルの塩化金酸を加え、6
0℃で60分間加熱し化学増感を施した後、乳剤Aと同
様に安定剤及び防腐剤を加えた。Emulsion B: Just like Emulsion A, grain formation, washing with water, addition of gelatin, adjustment of pH 5.7 and pAg 7.5, and addition of 1.6 × 10 -5 mol of sodium thiosulfate per mol of silver, 0.4 × 10 -5 mol of the selenium sensitizer of the present invention (II-41) and 4 × 10 -5 mol of chloroauric acid were added, and 6
After heating at 0 ° C. for 60 minutes for chemical sensitization, a stabilizer and a preservative were added in the same manner as in Emulsion A.
【0147】乳剤C:粒子形成においてドープされた(N
H4)2Rh(H2O)Cl5の量が10-6モル/Agモルであること
以外は乳剤Bと全く同じ乳剤である。Emulsion C: Doped in grain formation (N
The emulsion is exactly the same as Emulsion B except that the amount of H 4 ) 2 Rh (H 2 O) Cl 5 is 10 −6 mol / Ag mol.
【0148】乳剤D:粒子形成においてドープされた(N
H4)2Rh(H2O)Cl5の量が5×10-6モル/Agモルである
こと以外は乳剤Bと全く同じ乳剤である。Emulsion D: Doped in grain formation (N
The emulsion is exactly the same as Emulsion B except that the amount of H 4 ) 2 Rh (H 2 O) Cl 5 is 5 × 10 −6 mol / Ag mol.
【0149】乳剤E:粒子形成においてドープされた(N
H4)2Rh(H2O)Cl5の量が6×10-5モル/Agモルである
こと以外は乳剤Bと全く同じ乳剤である。Emulsion E: Doped in grain formation (N
The emulsion is exactly the same as Emulsion B except that the amount of H 4 ) 2 Rh (H 2 O) Cl 5 is 6 × 10 -5 mol / Ag mol.
【0150】乳剤F:乳剤Aと全く同様に粒子形成、水
洗、ゼラチン添加後、pH5.7、pAg7.5に調整
し、さらに銀1モル当り2×10-5モルの本発明のテル
ル増感剤(V−70)及び4×10-5モルの塩化金酸を加
え、60℃で60分間加熱し化学増感を施した後、乳剤
Aと同様に安定剤及び防腐剤を加えた。Emulsion F: Just like Emulsion A, grain formation, washing with water, addition of gelatin, adjustment of pH 5.7 and pAg 7.5, and further sensitization of the tellurium of the present invention by 2 × 10 -5 mol per mol of silver The agent (V-70) and 4 × 10 −5 mol of chloroauric acid were added, the mixture was heated at 60 ° C. for 60 minutes for chemical sensitization, and then, like the emulsion A, a stabilizer and a preservative were added.
【0151】乳剤G:粒子形成においてドープされた金
属種がK2Ru(NO)Cl5 であること、ドープ量が6×10-5
モル/Agモルであること以外は乳剤Aと全く同じ乳剤
である。Emulsion G: The metal species doped in grain formation is K 2 Ru (NO) Cl 5 , and the doping amount is 6 × 10 -5.
The emulsion is exactly the same as Emulsion A except that it is mol / Ag mol.
【0152】乳剤H:粒子形成においてドープされた金
属種がK2Ru(NO)Cl5 であること、ドープ量が6×10-5
モル/Agモルであること以外は乳剤Bと全く同じ乳剤
である。Emulsion H: The metal species doped in grain formation is K 2 Ru (NO) Cl 5 , and the doping amount is 6 × 10 −5.
The emulsion is exactly the same as Emulsion B except that it is mol / Ag mol.
【0153】乳剤I:粒子形成においてドープされたK2
Ru(NO)Cl5 の量が5×10-6モル/Agモルであること
以外は乳剤Hと全く同じ乳剤である。Emulsion I: K 2 doped in grain formation
The emulsion is exactly the same as Emulsion H except that the amount of Ru (NO) Cl 5 is 5 × 10 −6 mol / Ag mol.
【0154】<乳剤層塗布液の調整とその塗布>表1に
示した乳剤に下記化合物を添加し、下塗層を含む下記支
持体上にゼラチン塗布量が1.1g/m2、塗布銀量が
2.5g/m2となるようにハロゲン化銀乳剤層を1層又
は2層の構成で塗布した。(化合物の塗布量は乳剤層合
計の塗布量)
4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,3a,7
−テトラザインデン 10mg/m2
N−オレイル−N−メチルタウリンナトリウム塩 35mg/m2
化合物−B 10mg/m2
化合物−C 20mg/m2
n−ブチルアクリレート/2−アセトアセトキシエチル
メタクリレート/アクリル酸共重合体(89/8/3) 900mg/m2
化合物−D(硬膜剤) 150mg/m2
さらに本発明の造核促進剤およびヒドラジン誘導体を表
1のように塗布されるよう添加した。<Preparation of Coating Solution for Emulsion Layer and Coating Thereof> The following compounds were added to the emulsions shown in Table 1 and the coating amount of gelatin was 1.1 g / m 2 on the following support including the undercoat layer, coated silver. The silver halide emulsion layer was coated so as to have an amount of 2.5 g / m 2 in the constitution of one layer or two layers. (The coating amount of the compound is the total coating amount of the emulsion layer) 4-hydroxy-6-methyl-1,3,3a, 7-tetrazaindene 10 mg / m 2 N-oleyl-N-methyltaurine sodium salt 35 mg / m 2 Compound-B 10 mg / m 2 Compound-C 20 mg / m 2 n-butyl acrylate / 2-acetoacetoxyethyl methacrylate / acrylic acid copolymer (89/8/3) 900 mg / m 2 Compound-D (hardener) 150 mg / m 2 Further, the nucleation accelerator and the hydrazine derivative of the present invention were added so as to be coated as shown in Table 1.
【0155】上記乳剤層の上層に、乳剤保護下層及び上
層を塗布した。An emulsion protection lower layer and an upper layer were coated on the above emulsion layer.
【0156】<乳剤保護下層塗布液の調整とその塗布>
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量
が0.7g/m2となるように塗布した。
ゼラチン(Ca++含有量 2700ppm) 0.7g/m2
p−ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 15mg/m2
化合物−A 5mg/m2
化合物−E 10mg/m2
化合物−F 20mg/m2 <Preparation and Coating of Emulsion Protecting Lower Layer Coating Liquid>
The following compounds were added to a gelatin aqueous solution and coated so that the gelatin coating amount would be 0.7 g / m 2 . Gelatin (Ca ++ content 2700 ppm) 0.7 g / m 2 sodium p-dodecylbenzenesulfonate 15 mg / m 2 compound-A 5 mg / m 2 compound-E 10 mg / m 2 compound-F 20 mg / m 2
【0157】<乳剤保護上層塗布液の調整とその塗布>
ゼラチン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量
が0.8g/m2となるように塗布した。
ゼラチン(Ca++含有量 2700ppm) 0.8g/m2
不定形シリカマット剤 40mg/m2
(平均粒径3.5μ、細孔直径25Å、表面積700m2/g)
不定形シリカマット剤 10mg/m2
(平均粒径2.5μ、細孔直径170Å、表面積300m2/g)
N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピルグリ
シンポタジウム 5mg/m2
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 30mg/m2
化合物−A 5mg/m2
固体分散染料−G1 100mg/m2
固体分散染料−G2 50mg/m2 <Preparation and Coating of Emulsion Protecting Upper Layer Coating Liquid>
The following compounds were added to an aqueous gelatin solution and coated so that the coating amount of gelatin was 0.8 g / m 2 . Gelatin (Ca ++ content 2700ppm) 0.8g / m 2 amorphous silica matting agent 40 mg / m 2 (average particle size 3.5 [mu], pore diameter 25 Å, surface area 700m 2 / g) amorphous silica matting agent 10mg / m 2 (average particle diameter 2.5 μ, pore diameter 170 Å, surface area 300 m 2 / g) N-perfluorooctanesulfonyl-N-propylglycinpottadium 5 mg / m 2 sodium dodecylbenzenesulfonate 30 mg / m 2 compound-A 5 mg / M 2 solid disperse dye-G 1 100 mg / m 2 solid disperse dye-G 2 50 mg / m 2
【0158】ついで、支持体の反対側の面に、下記に示
す導電層及びバック層を同時塗布した。Then, a conductive layer and a back layer shown below were simultaneously coated on the opposite surface of the support.
【0159】<導電層塗布液の調整とその塗布>ゼラチ
ン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が77
mg/m2となるように塗布した。
SnO2/Sb(9/1 重量比、平均粒径0.25μ) 200mg/m2
ゼラチン(Ca++含有量3000ppm) 77 〃
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 10 〃
ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 40 〃
ポリスチレンスルホン酸ナトリウム 9 〃
化合物−A 7 〃<Preparation of Coating Liquid for Conductive Layer and Coating> The following compounds were added to a gelatin aqueous solution to give a gelatin coating amount of 77.
It was applied so as to be mg / m 2 . SnO 2 / Sb (9/1 weight ratio, average particle size 0.25μ) 200 mg / m 2 Gelatin (Ca ++ content 3000 ppm) 77 〃 Sodium dodecylbenzene sulfonate 10 〃 Sodium dihexyl-α-sulfosuccinate 40 〃 Polystyrene Sodium sulfonate 9〃 Compound-A 7〃
【0160】<バック層塗布液の調整とその塗布>ゼラ
チン水溶液に下記化合物を添加し、ゼラチン塗布量が
2.92g/m2となるように塗布した。
ゼラチン(Ca++含有量30ppm) 2.92g/m2
ポリメチルメタクリレート微粒子(平均粒径3.4μ) 54mg/m2
化合物−H 140 〃
化合物−I 140 〃
化合物−J 40 〃
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 75 〃
ジヘキシル−α−スルホサクシナートナトリウム 20 〃
化合物−K 5 〃
N−パーフルオロオクタンスルホニル−N−プロピル
グリシンポタジウム 5 〃
硫酸ナトリウム 50 〃
酢酸ナトリウム 85 〃<Preparation of Back Layer Coating Liquid and Its Coating> The following compounds were added to a gelatin aqueous solution and coated so that the gelatin coating amount was 2.92 g / m 2 . Gelatin (Ca ++ content 30 ppm) 2.92 g / m 2 Polymethylmethacrylate fine particles (average particle size 3.4 μ) 54 mg / m 2 Compound-H 140 〃 Compound-I 140 〃 Compound-J 40 〃 Dodecylbenzenesulfonic acid Sodium 75 〃 Dihexyl-α-sulfosuccinate sodium 20 〃 Compound-K 5 〃 N-perfluorooctanesulfonyl-N-propyl glycine potassium 5 〃 Sodium sulfate 50 〃 Sodium acetate 85 〃
【0161】(支持体、下塗層)二軸延伸したポリエチ
レンテレフタレート支持体(厚味100μm)の両面に
下記組成の下塗層第1層及び第2層を塗布した。
<下塗層1層>
コアーシェル型塩化ビニリデン共重合体 15g
2,4−ジクロル−6−ヒドロキシ−s−トリアジン 0.25〃
ポリスチレン微粒子(平均粒径3μ) 0.05〃
化合物−L 0.20〃
コロイダルシリカ(スノーテックスZL:粒径70〜
100μm日産化学(株)製) 0.12〃
水を加えて 100〃
さらに、10重量%のKOHを加え、pH=6に調整し
た塗布液を乾燥温度180℃2分間で、乾燥膜厚が0.
9μになる様に塗布した。(Support, Undercoat Layer) A biaxially stretched polyethylene terephthalate support (thickness: 100 μm) was coated on both sides with the first and second undercoat layers having the following composition. <Undercoat layer 1 layer> Core-shell type vinylidene chloride copolymer 15 g 2,4-dichloro-6-hydroxy-s-triazine 0.25〃 polystyrene fine particles (average particle size 3µ) 0.05〃 compound-L 0.20 〃 Colloidal silica (Snowtex ZL: particle size 70-100 μm, manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd.) 0.12 〃 Water added 100 〃 Further, 10 wt% KOH was added to dry the coating solution adjusted to pH = 6. When the temperature is 180 ° C. for 2 minutes, the dry film thickness is 0.1.
It was applied so as to be 9μ.
【0162】
<下塗層第2層>
ゼラチン 1
メチルセルロース 0.05〃
化合物−M 0.02〃
C12H25O(CH2CH2O)10H 0.03〃
化合物−A 3.5×10-3〃
酢酸 0.2〃
水を加えて 100〃
この塗布液を乾燥温度170℃2分間で、乾燥膜厚が
0.1μになる様に塗布した。<Undercoat Layer Second Layer> Gelatin 1 Methylcellulose 0.05 〃 Compound-M 0.02 〃 C 12 H 25 O (CH 2 CH 2 O) 10 H 0.03 〃 Compound-A 3.5 × 10 -3 〃 acetic acid 0.2 〃 water was added 100 〃 This coating solution was applied at a drying temperature of 170 ° C for 2 minutes so that the dry film thickness was 0.1 µ.
【0163】[0163]
【化69】 [Chemical 69]
【0164】[0164]
【化70】 [Chemical 70]
【0165】[0165]
【化71】 [Chemical 71]
【0166】<評価方法>
写真特性
この様にして得られた試料を光学クサビを通して大日本
スクリーン社製P−627FMプリンターで露光し、富
士写真フイルム(株)製自動現像機FG−680AG及
び現像液1で38℃20秒処理し、定着、水洗、乾燥し
た。定着液は定着液1を使用した。これらの試料に対し
以下の項目を評価した。
1) 感度(S1.5);濃度1.5 を与える露光量の対数値(数
値が小さい程感度は高い。)
2) γ ;(1.5-0.1) /{log(濃度1.5 を与える露光
量)−log(濃度0.1 を与える露光量) }<Evaluation Method> Photographic Properties The sample thus obtained was exposed through an optical wedge with a P-627FM printer manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd., and was developed by Fuji Photo Film Co., Ltd. automatic developing machine FG-680AG and a developing solution. The sample was treated with No. 1 at 38 ° C. for 20 seconds, fixed, washed with water and dried. The fixer used was fixer 1. The following items were evaluated for these samples. 1) Sensitivity (S 1.5 ); Logarithmic value of the exposure amount giving a density of 1.5 (the smaller the value, the higher the sensitivity.) 2) γ; (1.5-0.1) / {log (exposure amount giving a density of 1.5) -log ( Exposure dose giving a density of 0.1)}
【0167】抜き文字画質
抜き文字画質を評価するために、特公平2−28,85
6号の第1図に記載されている構成の原稿「透明貼りこ
みベース/線画ポジ像が形成されているフィルム(線画
原稿)/透明貼りこみベース/網点画像が形成されてい
るフィルム(網点原稿)、をこの順に重ねたもの」を用
意し、この原稿と各試料の乳剤面とを密着させて、P−
627FMプリンターにて画像露光を与え、現像処理し
た。(上記と同処理)
各試料の露光時間は網点面積率50%の網点原稿部が、
網点面積率50%の網点として各試料上に画像形成され
るように決定された。ここで、抜文字画質5とは同第1
図の如き原稿を用いて50%の網点面積が返し用感光材
料上に50%の網点面積となる様な適正露光した時30
μm巾の文字が再現される画質を言い非常に良好な抜文
字画質である。一方抜文字画質1とは同様な適正露光を
与えた時150μm巾以上の文字しか再現することので
きない画質を言い良くない抜文字品質であり、5と1の
間に官能評価で4〜2のランクを設けた。3以上が実用
し得るレベルである。Extracted Character Image Quality To evaluate the extracted character image quality, Japanese Patent Publication No. 2-28,85
No. 6 of the document shown in FIG. 1 "Transparent embedding base / film having line image positive image formed (line image original) / transparent embedding base / film having dot image formed (mesh) Point original), and the emulsion surface of each sample are brought into close contact with each other.
Image development was performed by a 627FM printer, and development processing was performed. (Same processing as above) The exposure time of each sample is as follows:
It was determined to be imaged on each sample as a halftone dot area 50% halftone dot. Here, the first character image quality is the same as the first character quality 5.
When an appropriate exposure is performed using a document as shown in the figure such that 50% halftone dot area is 50% halftone dot area on the return photosensitive material.
It is the image quality with which characters with a width of μm can be reproduced, and it is a very good extracted image quality. On the other hand, the extracted character image quality 1 is an unexplained extracted character quality, which is an image quality that can reproduce only a character having a width of 150 μm or more when the same appropriate exposure is given, and is between 4 and 2 in the sensory evaluation between 5 and 1. Rank is set. A level of 3 or more is a practical level.
【0168】実技Dmax
抜き文字画質の評価で記述した50%の網点原稿をフィ
ルム試料上に50%の網点面積となる様に露光を与えた
時の最大黒化濃度。Practical technique Dmax The maximum blackening density when a 50% halftone original document described in the evaluation of character image quality without a dot is exposed to a 50% halftone dot area on a film sample.
【0169】保存性△S1.5
試料を50℃70%の条件下に3日間放置した後、写真
特性の評価で記述した処理を行い、塗布直後に対する感
度変化(S1.5 塗布直後−S1.5 50℃70%3d:数
値が大きい程、増感傾向にある。)Storability ΔS 1.5 The sample was left under the condition of 70 ° C. at 50 ° C. for 3 days, and then the processing described in the evaluation of photographic characteristics was performed to change the sensitivity immediately after coating (S 1.5 immediately after coating−S 1.5 50 ° C.). 70% 3d: The larger the numerical value, the more sensitized there is.)
【0170】 <現像液1> 水酸化カリウム 35.0 g ジエチレントリアミン−五酢酸 2.0 g 炭酸カリウム 12.0 g メタ重亜硫酸ナトリウム 40.0 g 臭化カリウム 3.0 g ハイドロキノン 25.0 g 5−メチルベンゾトリアゾール 0.08g 4−ヒドロキシメチル−4−メチル−1−フェニル−3− ピラゾリドン 0.45g 2,3,5,6,7,8−ヘキサヒドロ−2−チオキソ− 4−(1H)−キナゾリノン 0.04g 2−メルカプトベンツイミダゾール−5−スルホン酸 ナトリウム 0.15g エリソルビン酸ナトリウム 3.0 g 水酸化カリウムを加え、水を加えて1リットルとし pHを10.5に合わせる。 1 リットル [0170] <Developer 1> Potassium hydroxide 35.0 g Diethylenetriamine-pentaacetic acid 2.0 g Potassium carbonate 12.0 g Sodium metabisulfite 40.0 g Potassium bromide 3.0 g Hydroquinone 25.0 g 5-methylbenzotriazole 0.08 g 4-hydroxymethyl-4-methyl-1-phenyl-3- Pyrazolidone 0.45g 2,3,5,6,7,8-hexahydro-2-thioxo- 4- (1H) -quinazolinone 0.04 g 2-Mercaptobenzimidazole-5-sulfonic acid Sodium 0.15g Sodium erythorbate 3.0 g Add potassium hydroxide and add water to 1 liter Adjust the pH to 10.5. 1 liter
【0171】
<定着液1>
チオ硫酸アンモニウム 359.1 g
エチレンジアミン四酢酸 2Na 2水塩 2.26g
チオ硫酸ナトリウム 5水塩 32.8 g
亜硫酸ナトリウム 64.8 g
NaOH 37.2 g
氷酢酸 87.3 g
酒石酸 8.76g
グルコン酸ナトリウム 6.6 g
硫酸アルミニウム 25.3 g
pH(硫酸または水酸化ナトリウムで調整) 4.85
水を加えて 1リットル
上記定着液1リットルに対して水を2リットル加えて使
用した。<Fixer 1> Ammonium thiosulfate 359.1 g Ethylenediaminetetraacetic acid 2Na dihydrate 2.26 g Sodium thiosulfate pentahydrate 32.8 g Sodium sulfite 64.8 g NaOH 37.2 g Glacial acetic acid 87.3 g Tartaric acid 8.76 g Sodium gluconate 6.6 g Aluminum sulfate 25.3 g pH (adjusted with sulfuric acid or sodium hydroxide) 4.85 Add water to 1 liter Add 2 liters of water to 1 liter of the above fixing solution Used.
【0172】表1から明らかな様に本発明の試料(ナン
バー7〜13、18)は、γ10以上の硬調な写真特性
を示し、抜き文字画質に優れ、実技Dmaxも5.0以上と
高い。さらに保存性が良く、これら高品質を長期間維持
できる。As is clear from Table 1, the samples of the present invention (Nos. 7 to 13 and 18) show photographic characteristics of high gradation of γ10 or more, excellent image quality of extracted characters and high practical Dmax of 5.0 or more. Furthermore, it has good storage stability and can maintain these high qualities for a long period of time.
【0173】[0173]
【表1】 [Table 1]
【0174】乳剤Bの重金属種をK3CrCN6, K3ReCl6, K2
Ir(NO)Cl5 に変更し調製した3種の乳剤に対し表1の乳
剤Bと同じ評価を行ったところ、硬調、高Dmax、高画質
でかつ保存性の良いことを確認した。The heavy metal species of Emulsion B was changed to K 3 CrCN 6 , K 3 ReCl 6 , K 2
When three kinds of emulsions prepared by changing to Ir (NO) Cl 5 were evaluated in the same manner as Emulsion B in Table 1, it was confirmed that they had high contrast, high Dmax, high image quality and good storability.
【0175】実施例2
実施例1の試料(ナンバー1、4〜8)を現像液2で3
8℃20秒処理CFG−680AG)した以外は実施例
1と同様に評価した。Example 2 The sample of Example 1 (Nos. 1, 4 to 8) was made 3 times with the developer 2.
Evaluation was performed in the same manner as in Example 1 except that the treatment was performed at 8 ° C. for 20 seconds CFG-680AG).
【0176】 <現像液2> メトール 7.5g アスコルビン酸ナトリウム 30.0g メタホウ酸ナトリウム 70.0g 臭化カリウム 1.0g 5−メチルベンゾトリアゾール 10.0mg 亜硫酸水素ナトリウム 22.0g 水を加えて 1リットル pH=9.8[0176] <Developer 2> Metol 7.5g Sodium ascorbate 30.0g Sodium metaborate 70.0g Potassium bromide 1.0g 5-methylbenzotriazole 10.0 mg Sodium hydrogen sulfite 22.0 g 1 liter with water pH = 9.8
【0177】評価結果は、実施例1より更に硬調化し、
本発明の試料(ナンバー7〜8)は、抜き文字画質に優
れ、実技Dmaxも5.0以上と高かった。The evaluation result shows that the contrast becomes even harder than in Example 1,
The samples of the present invention (Nos. 7 to 8) were excellent in the image quality of extracted characters, and the practical skill Dmax was as high as 5.0 or more.
【0178】[0178]
【発明の効果】Ir、Ru、Rh、ReおよびCrから
選ばれる重金属イオンを含有し、セレン及びテルル増感
剤の少なくとも1つによって化学増感された塩化銀含有
率95モル%以上のハロゲン化銀を含み、ヒドラジン誘
導体及び造核促進剤を含有する明室用ハロゲン化銀写真
感光材料の現像処理方法によって従来不可能であった低
pH現像液での硬調、高画質を達成することができた。
更に明室用ハロゲン化銀写真感光材料の保存性も良化で
きた。EFFECT OF THE INVENTION Halogenation containing a heavy metal ion selected from Ir, Ru, Rh, Re and Cr and chemically sensitized with at least one of selenium and tellurium sensitizers and having a silver chloride content of 95 mol% or more. It is possible to achieve high contrast and high image quality in a low pH developing solution, which has been impossible in the past, by the development processing method of a bright room silver halide photographic light-sensitive material containing silver and a hydrazine derivative and a nucleation accelerator. It was
Further, the storage stability of the light-sensitive silver halide photographic light-sensitive material was improved.
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−167746(JP,A) 特開 平6−19035(JP,A) 特開 平6−75322(JP,A) 特開 平5−273710(JP,A) 特開 平6−230497(JP,A) 特開 平6−250322(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03C 1/06 501 G03C 1/035 G03C 1/09 G03C 1/295 Continuation of front page (56) Reference JP-A-1-167746 (JP, A) JP-A-6-19035 (JP, A) JP-A-6-75322 (JP, A) JP-A-5-273710 (JP , A) JP-A-6-230497 (JP, A) JP-A-6-250322 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G03C 1/06 501 G03C 1/035 G03C 1/09 G03C 1/295
Claims (3)
銀乳剤層を有する明室用ハロゲン化銀写真感光材料の現
像処理方法において、該乳剤層に、Ir、Ru、Rh、
ReおよびCrから選ばれる重金属イオンをハロゲン化
銀1モル当たり少なくとも1×10-5モル含有し下記一
般式(I)〜(V)で表わされる化合物の少なくとも1
つによって化学増感された塩化銀含有率95モル%以上
のハロゲン化銀を含み、該乳剤層又はその他の親水性コ
ロイド層の少なくとも1層に下記一般式(VI)で表わさ
れるヒドラジン誘導体の少なくとも1種と下記一般式
(VII)〜(X)で表わされる造核促進剤の少なくとも
1種を含有する明室用ハロゲン化銀写真感光材料を、p
H9.0〜11.0の現像液で処理することを特徴とす
る明室用ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法。 一般式(I) 【化1】 式中、Z1 およびZ2 はそれぞれ同じでも異なっていて
もよく、アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、ア
リール基、複素環基、−NR1(R2)、−OR3または−
SR4 を表わす。R1 、R2 、R3 およびR4 はそれぞ
れ同じでも異なっていてもよく、アルキル基、アラルキ
ル基、アリール基または複素環基を表わす。アルキル
基、アラルキル基、アリール基または複素環基としては
Z1 と同様な例があげられる。ただし、R1 およびR2
は水素原子またはアシル基であってもよい。 一般式(II) 【化2】 式中、Z3 、Z4 およびZ5 はそれぞれ同じでも異なっ
ていてもよく、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−OR
7 、−NR8(R9)、−SR10、−SeR11、X、水素原
子を表わす。R7 、R10およびR11は脂肪族基、芳香族
基、複素環基、水素原子またはカチオンを表わし、R8
およびR9 は脂肪族基、芳香族基、複素環基または水素
原子を表わし、Xはハロゲン原子を表わす。 一般式(III) 【化3】 式中、R11、R12およびR13は脂肪族基、芳香族基、複
素環基、OR14、NR15(R16) 、SR17、OSiR18
(R19) (R20) 、Xまたは水素原子を表わす。R14お
よびR17は脂肪族基、芳香族基、複素環基、水素原子ま
たはカチオンを表わし、R15およびR16は脂肪族基、芳
香族基、複素環基または水素原子を表わし、R18、R19
およびR20は脂肪族基を表わし、Xはハロゲン原子を表
わす。 一般式(IV) 【化4】 式中、R21は脂肪族基、芳香族基、複素環基または−N
R23(R24) を表わし、R22は−NR25(R26) 、−
N(R27)N(R28)R29または−OR30を表わす。R
23、R24、R25、R26、R27、R28、R29およびR30は
水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基またはアシル
基を表わす。ここでR21とR25、R21とR27、R21とR
28、R21とR30、R23とR25、R23とR27、R23とR28
およびR23とR30は結合して環を形成してもよい。 一般式(V) 【化5】 式中、R31およびR32は同じであっても異なっていても
よく、脂肪族基、芳香族基、複素環基、−(C=Y′)
−R33を表わす。R33は水素原子、脂肪族基、芳香族
基、複素環基、NR34(R35)、OR36またはSR37を
表わし、Y′は酸素原子、硫黄原子またはNR38を表わ
す。R34、R35、R36、R37およびR38は水素原子、脂
肪族基、芳香族基または複素環基を表わし、nは1また
は2を表わす。 一般式(VI) 【化6】 式中、R1 はスルホンアミド基で置換された脂肪族基ま
たは芳香族基を表わし、R2 は水素原子、アルキル基、
アリール基、不飽和ヘテロ環基、アルコキシ基、アリー
ルオキシ基、アミノ基またはヒドラジノ基を表わす。A
1 、A2 はともに水素原子、あるいは一方が水素原子で
他方が置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、又
は置換もしくは無置換のアリールスルホニル基、又は置
換もしくは無置換のアシル基を表わす。 【化7】 式中、R1 、R2 、R3 は、アルキル基、シクロアルキ
ル基、アリール基、アルケニル基、シクロアルケニル
基、ヘテロ環残基を表わし、これらは更に置換基を有し
ていてもよい。mは1ないし4の整数を表わし、LはP
原子とその炭素原子で結合するm価の有機基を表わし、
nは1ないし3の整数を表わし、Xはn価の陰イオンを
表わし、XはLと連結してもよい。 【化8】 式中、Aはヘテロ環を完成させるための有機基を表す。
B、Dはそれぞれ2価の基を表わす。R1 、R2 は各々
アルキル基またはアリール基を表し、R3 、R4 は水素
原子または置換基を表す。R5 はアルキル基を表す。X
はアニオン基を表すが、分子内塩の場合はXは必要な
い。1. A current bright room for silver halide photographic light-sensitive material having a silver halide emulsion layer at least one layer on a support
In the image processing method , Ir, Ru, Rh,
At least one compound represented by the following general formulas (I) to (V), containing at least 1 × 10 −5 mol of a heavy metal ion selected from Re and Cr per mol of silver halide.
Containing at least one hydrazine derivative represented by the following general formula (VI) in at least one of the emulsion layer and other hydrophilic colloid layers. A silver halide photographic light-sensitive material for a bright room containing one kind and at least one kind of nucleation accelerators represented by the following general formulas (VII) to (X),
Characterized by processing with a developer of H 9.0 to 11.0
A method for developing a silver halide photographic light-sensitive material for a bright room. General formula (I) In the formula, Z 1 and Z 2 may be the same or different and each is an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, —NR 1 (R 2 ), —OR 3 or —.
Represents SR 4 . R 1 , R 2 , R 3 and R 4, which may be the same or different, each represents an alkyl group, an aralkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. Examples of the alkyl group, aralkyl group, aryl group or heterocyclic group are the same as those for Z 1 . However, R 1 and R 2
May be a hydrogen atom or an acyl group. General formula (II) In the formula, Z 3 , Z 4 and Z 5 may be the same or different and each is an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or -OR.
7, -NR 8 (R 9) , - SR 10, represented -SeR 11, X, a hydrogen atom. R 7 , R 10 and R 11 represent an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, a hydrogen atom or a cation, and R 8
And R 9 represents an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and X represents a halogen atom. General formula (III): In the formula, R 11 , R 12 and R 13 are an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, OR 14 , NR 15 (R 16 ), SR 17 and OSiR 18
(R 19 ) (R 20 ), X or a hydrogen atom. R 14 and R 17 represent an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, a hydrogen atom or a cation, and R 15 and R 16 represent an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or a hydrogen atom, and R 18 , R 19
And R 20 represents an aliphatic group, and X represents a halogen atom. General formula (IV): In the formula, R 21 is an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or -N
Represents R 23 (R 24 ), R 22 represents —NR 25 (R 26 ), −
N (R 27 ) N (R 28 ) R 29 or —OR 30 is represented. R
23 , R 24 , R 25 , R 26 , R 27 , R 28 , R 29 and R 30 represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group or an acyl group. Where R 21 and R 25 , R 21 and R 27 , R 21 and R
28 , R 21 and R 30 , R 23 and R 25 , R 23 and R 27 , R 23 and R 28
And R 23 and R 30 may combine to form a ring. General formula (V) In the formula, R 31 and R 32 may be the same or different, and an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group,-(C = Y ')
Represents R 33 . R 33 represents a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, NR 34 (R 35 ), OR 36 or SR 37 , and Y ′ represents an oxygen atom, a sulfur atom or NR 38 . R 34 , R 35 , R 36 , R 37 and R 38 represent a hydrogen atom, an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, and n represents 1 or 2. General formula (VI) In the formula, R 1 represents an aliphatic group or an aromatic group substituted with a sulfonamide group, R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group,
It represents an aryl group, an unsaturated heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or a hydrazino group. A
1 and A 2 each represent a hydrogen atom, or one represents a hydrogen atom and the other represents a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, a substituted or unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group. [Chemical 7] In the formula, R 1 , R 2 , and R 3 represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkenyl group, or a heterocyclic residue, which may further have a substituent. m is an integer of 1 to 4, L is P
Represents an m-valent organic group that is bonded to an atom and its carbon atom,
n represents an integer of 1 to 3, X represents an n-valent anion, and X may be linked to L. [Chemical 8] In the formula, A represents an organic group for completing the heterocycle.
B and D each represent a divalent group. R 1 and R 2 each represent an alkyl group or an aryl group, and R 3 and R 4 each represent a hydrogen atom or a substituent. R 5 represents an alkyl group. X
Represents an anion group, but X is not necessary in the case of an inner salt.
導体のR1 がスルホンアミド基を介してハロゲン化銀粒
子表面に対する吸着を促進する基又はアルキルチオ基を
有するフェニル基であることを特徴とする請求項1に記
載の明室用ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法。2. The hydrazine derivative represented by the general formula (VI) is characterized in that R 1 is a group which promotes adsorption to the surface of the silver halide grain through a sulfonamide group or a phenyl group having an alkylthio group. The method for developing a silver halide photographic light-sensitive material for a bright room according to claim 1.
化合物であることを特徴とする請求項1又は2に記載の
明室用ハロゲン化銀写真感光材料の現像処理方法。3. The nucleation accelerator is a compound represented by the general formula (IX), according to claim 1 or 2.
Development method of silver halide photographic light-sensitive material for bright room .
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| US08/774,715 US5985508A (en) | 1994-09-20 | 1997-01-03 | Silver halide photographic material |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP25015694A JP3422095B2 (en) | 1994-09-20 | 1994-09-20 | Silver halide photographic materials |
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