JP3424594B2 - 超伝導フィルタ装置、その製造方法、およびフィルタリング調整方法 - Google Patents
超伝導フィルタ装置、その製造方法、およびフィルタリング調整方法Info
- Publication number
- JP3424594B2 JP3424594B2 JP11255199A JP11255199A JP3424594B2 JP 3424594 B2 JP3424594 B2 JP 3424594B2 JP 11255199 A JP11255199 A JP 11255199A JP 11255199 A JP11255199 A JP 11255199A JP 3424594 B2 JP3424594 B2 JP 3424594B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- superconducting
- container
- gas
- superconducting filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P1/00—Auxiliary devices
- H01P1/20—Frequency-selective devices, e.g. filters
- H01P1/201—Filters for transverse electromagnetic waves
- H01P1/203—Strip line filters
- H01P1/20327—Electromagnetic interstage coupling
- H01P1/20354—Non-comb or non-interdigital filters
- H01P1/20363—Linear resonators
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01P—WAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
- H01P1/00—Auxiliary devices
- H01P1/30—Auxiliary devices for compensation of, or protection against, temperature or moisture effects ; for improving power handling capability
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S505/00—Superconductor technology: apparatus, material, process
- Y10S505/825—Apparatus per se, device per se, or process of making or operating same
- Y10S505/853—Oscillator
- Y10S505/854—Oscillator with solid-state active element
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49014—Superconductor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
- Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
- Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、超伝導フィルタ装
置、その製造方法、およびフィルタリング調整方法に関
し、特に、調整において超伝導フィルタの加工・修正を
必要としない超伝導フィルタ装置、その製造方法、およ
びフィルタリング調整方法に関する。
置、その製造方法、およびフィルタリング調整方法に関
し、特に、調整において超伝導フィルタの加工・修正を
必要としない超伝導フィルタ装置、その製造方法、およ
びフィルタリング調整方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、携帯電話やＰＨＳなどの移動体通
信が増えることにより、通信業者の数もまた増加してき
ている。このため、一つの回線が占める周波数帯域を狭
くし、また、通信業者の専有する周波数領域毎の差を狭
くすることにより、資源を有効に利用する対策が検討さ
れている。しかし、通信業者の専有する周波数領域毎の
差を狭くすると、隣接する周波数領域で隣接干渉が生
じ、問題となる。この問題を解決するためには、より矩
形に近い急峻な減衰特性を有し、ロスの少ない通過特性
も兼ね備えたフィルタが要求される。超伝導フィルタ
は、このような要求を唯一満足できるフィルタとして挙
げられるが、上述のような急峻な減衰特性を所望通り得
るためには、精度の高い超伝導フィルタが必要となり、
それを製造する段階でフィルタの調整プロセスが必須で
ある。超伝導フィルタは、低温において所望の特性の良
否を確認するため、通常のフィルタのように特性を観測
しながらパターン調整やネジ調整を行うことが困難であ
る。
信が増えることにより、通信業者の数もまた増加してき
ている。このため、一つの回線が占める周波数帯域を狭
くし、また、通信業者の専有する周波数領域毎の差を狭
くすることにより、資源を有効に利用する対策が検討さ
れている。しかし、通信業者の専有する周波数領域毎の
差を狭くすると、隣接する周波数領域で隣接干渉が生
じ、問題となる。この問題を解決するためには、より矩
形に近い急峻な減衰特性を有し、ロスの少ない通過特性
も兼ね備えたフィルタが要求される。超伝導フィルタ
は、このような要求を唯一満足できるフィルタとして挙
げられるが、上述のような急峻な減衰特性を所望通り得
るためには、精度の高い超伝導フィルタが必要となり、
それを製造する段階でフィルタの調整プロセスが必須で
ある。超伝導フィルタは、低温において所望の特性の良
否を確認するため、通常のフィルタのように特性を観測
しながらパターン調整やネジ調整を行うことが困難であ
る。
【０００３】従来より行われてきた超伝導フィルタのフ
ィルタリング調整方法は、調整段階で修正が出来るよう
に、共振器パターンが予め長めに設計されたフィルタを
作製し、その特性をみるため、一旦、超伝導状態まで冷
却する。確認された特性結果と所望の特性とがどの程度
ずれているかを確認したら、その後、フィルタを常温に
戻し、低温における特性ズレを補正するために予め長め
に設計したパターンをエッチングやレーザで加工し、再
び低温に冷却して特性の良否を確認する。そして、フィ
ルタ特性が所望の特性にならなければ上記加工工程をさ
らに繰り返し、何回もフィルタ調整を行うようにしてい
た。
ィルタリング調整方法は、調整段階で修正が出来るよう
に、共振器パターンが予め長めに設計されたフィルタを
作製し、その特性をみるため、一旦、超伝導状態まで冷
却する。確認された特性結果と所望の特性とがどの程度
ずれているかを確認したら、その後、フィルタを常温に
戻し、低温における特性ズレを補正するために予め長め
に設計したパターンをエッチングやレーザで加工し、再
び低温に冷却して特性の良否を確認する。そして、フィ
ルタ特性が所望の特性にならなければ上記加工工程をさ
らに繰り返し、何回もフィルタ調整を行うようにしてい
た。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法では、共振器の冷却時間を含めた調整時間が長くか
かる点と熱ストレスの蓄積によって引き起こされる超伝
導材料の寿命が短縮する点などが問題となっていた。
方法では、共振器の冷却時間を含めた調整時間が長くか
かる点と熱ストレスの蓄積によって引き起こされる超伝
導材料の寿命が短縮する点などが問題となっていた。
【０００５】また、特開平７−２５４７３４号公報にお
いては、低温の超伝導状態を保持したまま、フィルタパ
ターンにレーザ光を照射し、予め長めに形成されている
パターンを削ることにより電気特性を調整する方法が開
示されている。この方法は、調整時間が短く、温度サイ
クルも最小限に抑えることができる反面、超伝導フィル
タを真空チャンバ内に実装する際のパターンとレーザ光
照射位置との位置精度が厳しく要求されたり、レーザ光
照射精度が所望のパターン寸法精度よりも大きい場合、
微調整が不可能であり、また、レーザ光照射部位の超伝
導材料の劣化が発生し、共振器の無負荷Ｑが低下するた
め、その結果フィルタの通過損失が大きくなるという問
題を有する。
いては、低温の超伝導状態を保持したまま、フィルタパ
ターンにレーザ光を照射し、予め長めに形成されている
パターンを削ることにより電気特性を調整する方法が開
示されている。この方法は、調整時間が短く、温度サイ
クルも最小限に抑えることができる反面、超伝導フィル
タを真空チャンバ内に実装する際のパターンとレーザ光
照射位置との位置精度が厳しく要求されたり、レーザ光
照射精度が所望のパターン寸法精度よりも大きい場合、
微調整が不可能であり、また、レーザ光照射部位の超伝
導材料の劣化が発生し、共振器の無負荷Ｑが低下するた
め、その結果フィルタの通過損失が大きくなるという問
題を有する。
【０００６】さらに、レーザ光照射による調整は、非可
逆的調整であり、所望の特性を越えてしまった場合に
は、元の特性に戻すことができないという欠点も有す
る。
逆的調整であり、所望の特性を越えてしまった場合に
は、元の特性に戻すことができないという欠点も有す
る。
【０００７】本発明は、上記の問題を解決するために成
されたもので、パターン加工による調整を行わずに周波
数調整が可能な超伝導フィルタ装置、その製造方法、お
よびフィルタリング調整方法を提供することを目的す
る。
されたもので、パターン加工による調整を行わずに周波
数調整が可能な超伝導フィルタ装置、その製造方法、お
よびフィルタリング調整方法を提供することを目的す
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、請求項１記載の発明は、超伝導フィルタを第１の
容器に格納する第１の格納手段と、容器内に超伝導フィ
ルタと反応せず、また劣化もさせないガスを充填するこ
とにより、超伝導フィルタの中心周波数をシフトする周
波数調整手段と、特定の中心周波数をもつ電磁波を選別
する選別手段と、第１の容器内を真空にする第１の排気
手段と、第１の容器内にガスを注入または排気させるガ
ス注入／排気手段と、超伝導フィルタを超伝導状態にな
る臨界温度以下に冷却する冷却手段と、選別手段により
得られる超伝導フィルタの通過特性を、電気信号を伝送
する伝送手段を介して取り出す取得手段と、取得手段に
より得た周波数を観測し、モニタに表示する観測手段と
をさらに有し、第１の容器は気密性の高い容器であり、
観測手段により観測された周波数を基に、第１の格納手
段に注入するガスの濃度をガス注入／排気手段により調
整する。
めに、請求項１記載の発明は、超伝導フィルタを第１の
容器に格納する第１の格納手段と、容器内に超伝導フィ
ルタと反応せず、また劣化もさせないガスを充填するこ
とにより、超伝導フィルタの中心周波数をシフトする周
波数調整手段と、特定の中心周波数をもつ電磁波を選別
する選別手段と、第１の容器内を真空にする第１の排気
手段と、第１の容器内にガスを注入または排気させるガ
ス注入／排気手段と、超伝導フィルタを超伝導状態にな
る臨界温度以下に冷却する冷却手段と、選別手段により
得られる超伝導フィルタの通過特性を、電気信号を伝送
する伝送手段を介して取り出す取得手段と、取得手段に
より得た周波数を観測し、モニタに表示する観測手段と
をさらに有し、第１の容器は気密性の高い容器であり、
観測手段により観測された周波数を基に、第１の格納手
段に注入するガスの濃度をガス注入／排気手段により調
整する。
【０００９】また、請求項２記載の発明は、超伝導フィ
ルタを第１の容器に格納する第１の格納手段と、容器内
に超伝導フィルタと反応せず、また劣化もさせないガス
を充填することにより、超伝導フィルタの中心周波数を
シフトする周波数調整手段と、第１の格納手段を気密性
の高い第２の容器に格納する第２の格納手段と、第２の
容器内を真空にする第２の排気手段と、第１の排気手
段、第２の排気手段、およびガス注入／排気手段の管の
開閉を行う管開閉手段と、第１の排気手段およびガス注
入／排気手段で用いた管と第１の容器とを着脱する管着
脱手段とを有し、第１の格納手段と第２の格納手段とを
熱的に切り離す。
ルタを第１の容器に格納する第１の格納手段と、容器内
に超伝導フィルタと反応せず、また劣化もさせないガス
を充填することにより、超伝導フィルタの中心周波数を
シフトする周波数調整手段と、第１の格納手段を気密性
の高い第２の容器に格納する第２の格納手段と、第２の
容器内を真空にする第２の排気手段と、第１の排気手
段、第２の排気手段、およびガス注入／排気手段の管の
開閉を行う管開閉手段と、第１の排気手段およびガス注
入／排気手段で用いた管と第１の容器とを着脱する管着
脱手段とを有し、第１の格納手段と第２の格納手段とを
熱的に切り離す。
【００１０】また、請求項３記載の発明は、超伝導フィ
ルタを第１の容器に格納する第１の格納工程と、容器内
に超伝導フィルタと反応せず、また劣化もさせないガス
を充填することにより、超伝導フィルタの中心周波数を
シフトする周波数調整工程とを有する。
ルタを第１の容器に格納する第１の格納工程と、容器内
に超伝導フィルタと反応せず、また劣化もさせないガス
を充填することにより、超伝導フィルタの中心周波数を
シフトする周波数調整工程とを有する。
【００１１】また、請求項４記載の発明は、第１の容器
を気密性の高い第２の容器で格納する第２の格納工程
と、第１および第２の容器内を真空にする排気工程と、
超伝導フィルタを超伝導状態になる臨界温度以下に冷却
する冷却工程と、超伝導フィルタが超伝導状態であるか
を、モニタにより確認する確認工程と、確認工程により
超伝導状態が確認されると、第１の容器内にガスを注入
することにより、超伝導フィルタを取り囲む誘電率を真
空の誘電率からガスのもつ誘電率にするガス注入工程
と、ガス注入工程による超伝導フィルタの通過特性の変
化を観測する観測工程と、観測工程により所望の通過特
性が得られるまで、ガスの注入／排出を繰り返し、所望
の通過特性が得られたら、ガスの注入／排出をやめる調
整工程とをさらに有し、第１の容器は気密性の高い容器
である。
を気密性の高い第２の容器で格納する第２の格納工程
と、第１および第２の容器内を真空にする排気工程と、
超伝導フィルタを超伝導状態になる臨界温度以下に冷却
する冷却工程と、超伝導フィルタが超伝導状態であるか
を、モニタにより確認する確認工程と、確認工程により
超伝導状態が確認されると、第１の容器内にガスを注入
することにより、超伝導フィルタを取り囲む誘電率を真
空の誘電率からガスのもつ誘電率にするガス注入工程
と、ガス注入工程による超伝導フィルタの通過特性の変
化を観測する観測工程と、観測工程により所望の通過特
性が得られるまで、ガスの注入／排出を繰り返し、所望
の通過特性が得られたら、ガスの注入／排出をやめる調
整工程とをさらに有し、第１の容器は気密性の高い容器
である。
【００１２】また、請求項５記載の発明は、超伝導フィ
ルタを気密性の高い第１の容器に格納する第１の格納工
程と、第１の容器を気密性の高い第２の容器で格納する
第２の格納工程と、第１および第２の容器内を真空にす
る排気工程と、超伝導フィルタを超伝導状態になる臨界
温度以下に冷却する冷却工程と、超伝導フィルタが超伝
導状態であるかを、モニタにより確認する確認工程と、
確認工程により超伝導状態が確認されると、第１の容器
内にガスを注入するし、超伝導フィルタを取り囲む誘電
率を真空の誘電率からガスのもつ誘電率にするガス注入
工程と、ガス注入工程による超伝導フィルタの通過特性
の変化を観測する観測工程と、観測工程により所望の通
過特性が得られるまで、ガスの注入／排出を繰り返し、
所望の通過特性が得られたら、ガスの注入／排出をやめ
る調整工程と、調整工程により所望の通過特性を得られ
たら、排気工程で用いた排気管をおよびガス注入／排気
工程で用いた注入および排気管を取り外し、第１の格納
工程を外部から熱的に切る切断工程とを有する。
ルタを気密性の高い第１の容器に格納する第１の格納工
程と、第１の容器を気密性の高い第２の容器で格納する
第２の格納工程と、第１および第２の容器内を真空にす
る排気工程と、超伝導フィルタを超伝導状態になる臨界
温度以下に冷却する冷却工程と、超伝導フィルタが超伝
導状態であるかを、モニタにより確認する確認工程と、
確認工程により超伝導状態が確認されると、第１の容器
内にガスを注入するし、超伝導フィルタを取り囲む誘電
率を真空の誘電率からガスのもつ誘電率にするガス注入
工程と、ガス注入工程による超伝導フィルタの通過特性
の変化を観測する観測工程と、観測工程により所望の通
過特性が得られるまで、ガスの注入／排出を繰り返し、
所望の通過特性が得られたら、ガスの注入／排出をやめ
る調整工程と、調整工程により所望の通過特性を得られ
たら、排気工程で用いた排気管をおよびガス注入／排気
工程で用いた注入および排気管を取り外し、第１の格納
工程を外部から熱的に切る切断工程とを有する。
【００１３】また、請求項６記載の発明によれば、ガス
は不活性ガスである。
は不活性ガスである。
【００１４】また、請求項７記載の発明によれば、超伝
導フィルタのフィルタパターンは、マイクロストリップ
ラインフィルタにより構成される超伝導フィルタの全て
を適用する。
導フィルタのフィルタパターンは、マイクロストリップ
ラインフィルタにより構成される超伝導フィルタの全て
を適用する。
【００１５】また、請求項８記載の発明によれば、ガス
は、さらに超伝導フィルタを構成する超伝導体の臨界温
度より沸点が低いガスの全てを適用する。
は、さらに超伝導フィルタを構成する超伝導体の臨界温
度より沸点が低いガスの全てを適用する。
【００１６】また、請求項９記載の発明によれば、超伝
導フィルタ装置は、ハイパスフィルタ、ローパスフィル
タ、およびバンドエリミネーションフィルタに適用す
る。
導フィルタ装置は、ハイパスフィルタ、ローパスフィル
タ、およびバンドエリミネーションフィルタに適用す
る。
【００１７】また、請求項１０記載の発明によれば、超
伝導フィルタは、酸化物超伝導素材により製造されてい
る。
伝導フィルタは、酸化物超伝導素材により製造されてい
る。
【００１８】また、請求項１１記載の発明によれば、確
認工程および観測工程は、高周波コネクタおよび高周波
同軸ケーブルを介して行われる。
認工程および観測工程は、高周波コネクタおよび高周波
同軸ケーブルを介して行われる。
【００１９】また、請求項１２記載の発明は、超伝導フ
ィルタを第１の容器に格納する第１の格納工程と、容器
内に超伝導フィルタと反応せず、また劣化もさせないガ
スを充填することにより、超伝導フィルタの中心周波数
をシフトする周波数調整工程とを有する。
ィルタを第１の容器に格納する第１の格納工程と、容器
内に超伝導フィルタと反応せず、また劣化もさせないガ
スを充填することにより、超伝導フィルタの中心周波数
をシフトする周波数調整工程とを有する。
【００２０】また、請求項１３記載の発明は、第１の容
器を気密性の高い第２の容器で格納する第２の格納工程
と、第２の容器内を真空にする排気工程と、超伝導フィ
ルタを超伝導状態になる臨界温度以下に冷却する冷却工
程と、超伝導フィルタが超伝導状態であるかを、モニタ
により確認する確認工程と、第１の容器にガスの注入／
排出を行うガス注入／排出工程と、超伝導フィルタの通
過特性の変化を観測する観測工程と、観測工程により所
望の通過特性が得られるまで、ガスの注入／排出を繰り
返し、所望の通過特性が得られたら、ガスの注入／排出
をやめる調整工程とをさらに有し、第１の容器は気密性
の高い容器である。
器を気密性の高い第２の容器で格納する第２の格納工程
と、第２の容器内を真空にする排気工程と、超伝導フィ
ルタを超伝導状態になる臨界温度以下に冷却する冷却工
程と、超伝導フィルタが超伝導状態であるかを、モニタ
により確認する確認工程と、第１の容器にガスの注入／
排出を行うガス注入／排出工程と、超伝導フィルタの通
過特性の変化を観測する観測工程と、観測工程により所
望の通過特性が得られるまで、ガスの注入／排出を繰り
返し、所望の通過特性が得られたら、ガスの注入／排出
をやめる調整工程とをさらに有し、第１の容器は気密性
の高い容器である。
【００２１】また、請求項１４記載の発明によれば、所
望の通過特性に合わせて、ガスを選択する。
望の通過特性に合わせて、ガスを選択する。
【００２２】また、請求項１５記載の発明によれば、超
伝導フィルタのフィルタパターンは、マイクロストリッ
プラインフィルタにより構成される超伝導フィルタの全
てを適用する。
伝導フィルタのフィルタパターンは、マイクロストリッ
プラインフィルタにより構成される超伝導フィルタの全
てを適用する。
【００２３】また、請求項１６記載の発明によれば、ガ
スは、さらに超伝導フィルタを構成する超伝導体の臨界
温度より沸点が低いガスの全てを適用する。
スは、さらに超伝導フィルタを構成する超伝導体の臨界
温度より沸点が低いガスの全てを適用する。
【００２４】また、請求項１７記載の発明によれば、超
伝導フィルタ装置は、ハイパスフィルタ、ローパスフィ
ルタ、およびバンドエリミネーションフィルタに適用す
る。
伝導フィルタ装置は、ハイパスフィルタ、ローパスフィ
ルタ、およびバンドエリミネーションフィルタに適用す
る。
【００２５】また、請求項１８記載の発明によれば、超
伝導フィルタは、酸化物超伝導素材により製造されてい
る。
伝導フィルタは、酸化物超伝導素材により製造されてい
る。
【００２６】また、請求項１９記載の発明によれば、確
認工程および観測工程は、高周波コネクタおよび高周波
同軸ケーブルを介して行われる。
認工程および観測工程は、高周波コネクタおよび高周波
同軸ケーブルを介して行われる。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る超伝導フィル
タ装置、その製造方法、およびフィルタリング調整方法
の一実施形態を図面と共に詳細に説明する。
タ装置、その製造方法、およびフィルタリング調整方法
の一実施形態を図面と共に詳細に説明する。
【００２８】図１は本発明に係る超伝導フィルタ装置の
構成の一実施形態を示した構成図である。また、図２は
本発明による超伝導フィルタ装置を製造する過程の一実
施形態を示したフローチャートである。図３は本発明の
超伝導フィルタ装置に適用することが可能な超伝導フィ
ルタの一例となるパラレルカップルドライン型マイクロ
ストリップラインフィルタである。また、図４は本発明
により実現された超伝導フィルタ装置により得られる、
超伝導フィルタの通過特性のシフトを表す一例を示した
図である。
構成の一実施形態を示した構成図である。また、図２は
本発明による超伝導フィルタ装置を製造する過程の一実
施形態を示したフローチャートである。図３は本発明の
超伝導フィルタ装置に適用することが可能な超伝導フィ
ルタの一例となるパラレルカップルドライン型マイクロ
ストリップラインフィルタである。また、図４は本発明
により実現された超伝導フィルタ装置により得られる、
超伝導フィルタの通過特性のシフトを表す一例を示した
図である。
【００２９】まず、図１において、本発明による超伝導
フィルタ装置は、超伝導フィルタ４を格納するフィルタ
ケース２と、フィルタケース２を格納する真空チェンバ
１と、フィルタケース２を冷却することで超伝導フィル
タ４を冷却する冷却機２０とを備える。ここで、真空チ
ェンバ１は真空排気管９を、フィルタケース２は真空排
気管１０を介して内部の大気を排出する。開閉バルブ１
１および１４は、それを開閉することにより真空チェン
バ１およびフィルタケース２内へ大気が流入するのを防
ぐために備えられる。
フィルタ装置は、超伝導フィルタ４を格納するフィルタ
ケース２と、フィルタケース２を格納する真空チェンバ
１と、フィルタケース２を冷却することで超伝導フィル
タ４を冷却する冷却機２０とを備える。ここで、真空チ
ェンバ１は真空排気管９を、フィルタケース２は真空排
気管１０を介して内部の大気を排出する。開閉バルブ１
１および１４は、それを開閉することにより真空チェン
バ１およびフィルタケース２内へ大気が流入するのを防
ぐために備えられる。
【００３０】また、フィルタケース２はガス注入管７お
よびガス排気管８を備え、内部のガスの濃度はそれぞれ
開閉バルブ１２、１３を制御することにより調節する。
よびガス排気管８を備え、内部のガスの濃度はそれぞれ
開閉バルブ１２、１３を制御することにより調節する。
【００３１】また、フィルタケース２はパイプ接続部１
５、１６、および１７を備えており、それぞれ真空排気
管１０、ガス注入管７、およびガス排気管８とフィルタ
ケース２とを切り離すことが可能である。この切り離し
は、フィルタケース２と外部とを熱的に切り離すことで
超伝導フィルタ４の温度制御を容易に行うためのもので
ある。
５、１６、および１７を備えており、それぞれ真空排気
管１０、ガス注入管７、およびガス排気管８とフィルタ
ケース２とを切り離すことが可能である。この切り離し
は、フィルタケース２と外部とを熱的に切り離すことで
超伝導フィルタ４の温度制御を容易に行うためのもので
ある。
【００３２】また、冷却機２０はコールドヘッド２１を
介し、超伝導フィルタ４の冷却および温度制御を行う。
介し、超伝導フィルタ４の冷却および温度制御を行う。
【００３３】次に、図２に示されたフローチャートを用
いることにより、本発明による超伝導フィルタ装置の製
造方法、およびフィルタリング調整方法の一実施形態を
詳細に説明する。
いることにより、本発明による超伝導フィルタ装置の製
造方法、およびフィルタリング調整方法の一実施形態を
詳細に説明する。
【００３４】また、図３は、本発明に適用が可能な超伝
導フィルタの一例であり、であり、酸化物超伝導素材に
より作製されたパラレルカップルドライン型マイクロス
トリップラインフィルタ（以下、該超伝導フィルタとい
う）である。しかしながら、本発明に適用が可能な超伝
導フィルタのフィルタパターンは、上記のパラレルカッ
プルドラインフィルタの他、インターディジタルフィル
タ、コムラインフィルタなど、マイクロストリップライ
ンで構成されるフィルタであれば全てを適用することが
可能である。
導フィルタの一例であり、であり、酸化物超伝導素材に
より作製されたパラレルカップルドライン型マイクロス
トリップラインフィルタ（以下、該超伝導フィルタとい
う）である。しかしながら、本発明に適用が可能な超伝
導フィルタのフィルタパターンは、上記のパラレルカッ
プルドラインフィルタの他、インターディジタルフィル
タ、コムラインフィルタなど、マイクロストリップライ
ンで構成されるフィルタであれば全てを適用することが
可能である。
【００３５】まず、超伝導フィルタ４を、図２のステッ
プＳ０１で図１の真空チェンバ１内のフィルタケース２
に実装する。フィルタは入力端子に接続し、開閉バルブ
１２、１３は閉じ、開閉バルブ１１、１４を開いて真空
チェンバ１内およびフィルタケース２内を真空排気する
（ステップＳ０２）。十分に高真空状態になったら，ス
テップＳ０３で冷凍機２０の電源を入れ、超伝導フィル
タ４を所望の超伝導体の臨界温度以下の温度まで冷却す
る。このとき、超伝導フィルタの通過特性は、高周波コ
ネクタ１８、１９を介し、高周波ケーブル５、６をネッ
トワークアナライザに接続することにより観測してい
る。ステップＳ０４において、この観測結果から超伝導
フィルタが超伝導状態であることを確認すると、その状
態を保持しながら、開閉バルブ１１を閉じる（ステップ
Ｓ０５）。その後、ステップＳ０６で、開閉バルブ１２
を開き、ガス注入管７よりヘリウムガスあるいはアルゴ
ンガスなどの不活性ガス３を注入する。
プＳ０１で図１の真空チェンバ１内のフィルタケース２
に実装する。フィルタは入力端子に接続し、開閉バルブ
１２、１３は閉じ、開閉バルブ１１、１４を開いて真空
チェンバ１内およびフィルタケース２内を真空排気する
（ステップＳ０２）。十分に高真空状態になったら，ス
テップＳ０３で冷凍機２０の電源を入れ、超伝導フィル
タ４を所望の超伝導体の臨界温度以下の温度まで冷却す
る。このとき、超伝導フィルタの通過特性は、高周波コ
ネクタ１８、１９を介し、高周波ケーブル５、６をネッ
トワークアナライザに接続することにより観測してい
る。ステップＳ０４において、この観測結果から超伝導
フィルタが超伝導状態であることを確認すると、その状
態を保持しながら、開閉バルブ１１を閉じる（ステップ
Ｓ０５）。その後、ステップＳ０６で、開閉バルブ１２
を開き、ガス注入管７よりヘリウムガスあるいはアルゴ
ンガスなどの不活性ガス３を注入する。
【００３６】ここで注入されるガスは、不活性ガスに限
定されるものではなく、超伝導体の臨界温度よりも液化
点が低く、かつ超伝導素材と反応せず、かつ劣化もさせ
ないガスであれば全てを適用することが可能である。
定されるものではなく、超伝導体の臨界温度よりも液化
点が低く、かつ超伝導素材と反応せず、かつ劣化もさせ
ないガスであれば全てを適用することが可能である。
【００３７】それは、マイクロストリップライン上に真
空の誘電率よりも大きな誘電率をもつガスが存在するこ
とによって、波長短縮率が変化し、これにより超伝導フ
ィルタに入射する電磁波の波長が短縮するためである。
これにより、超伝導フィルタが観測する電磁波の中心周
波数は図４に示すように、ｆ0 からｆ0'に下がる方向に
作用するからである。ここで、超伝導フィルタ４は、周
波数ズレを考慮して設計されるため、予め所望の周波数
よりも大きな周波数を計測するように設計されている。
空の誘電率よりも大きな誘電率をもつガスが存在するこ
とによって、波長短縮率が変化し、これにより超伝導フ
ィルタに入射する電磁波の波長が短縮するためである。
これにより、超伝導フィルタが観測する電磁波の中心周
波数は図４に示すように、ｆ0 からｆ0'に下がる方向に
作用するからである。ここで、超伝導フィルタ４は、周
波数ズレを考慮して設計されるため、予め所望の周波数
よりも大きな周波数を計測するように設計されている。
【００３８】次に、図２のガス注入過程（ステップＳ０
７）において、フィルタの特性を確認し、所望の中心周
波数かどうかを判別し、所望の中心周波数でない場合
（ステップＳ０８のＮｏ）、ステップＳ１０１に進み、
所望の中心周波数である場合（ステップＳ０８のＹｅ
ｓ）ステップＳ０９に進む。また、ステップＳ１０１に
おいて、不活性ガス３の量が多すぎた場合は（ステップ
Ｓ１０１のＹｅｓ），ステップＳ１０２で、開閉バルブ
１３を開閉することによって不活性ガス３の量を調整
し、量が少なければステップＳ０８に戻り、更に注入す
る。
７）において、フィルタの特性を確認し、所望の中心周
波数かどうかを判別し、所望の中心周波数でない場合
（ステップＳ０８のＮｏ）、ステップＳ１０１に進み、
所望の中心周波数である場合（ステップＳ０８のＹｅ
ｓ）ステップＳ０９に進む。また、ステップＳ１０１に
おいて、不活性ガス３の量が多すぎた場合は（ステップ
Ｓ１０１のＹｅｓ），ステップＳ１０２で、開閉バルブ
１３を開閉することによって不活性ガス３の量を調整
し、量が少なければステップＳ０８に戻り、更に注入す
る。
【００３９】これにより、所望の中心周波数が得られた
ら、ステップＳ９で開閉バルブ１２を閉じて、不活性ガ
スをフィルタケース２内に充填した状態で、一旦は常温
に温度を戻し、真空チェンバ１内のみ大気圧にする。そ
して、ステップＳ１０でフィルタケース２に取り付けて
あるガス注入／排気管７、８、および真空排気管１０を
パイプ接続部１５、１６、および１７により、フィルタ
ケース２から分離した後、ステップＳ１１で、再度真空
チェンバ１内を高真空状態にし、ステップＳ１２でフィ
ルタケース２を冷却して、超伝導状態を再現する。
ら、ステップＳ９で開閉バルブ１２を閉じて、不活性ガ
スをフィルタケース２内に充填した状態で、一旦は常温
に温度を戻し、真空チェンバ１内のみ大気圧にする。そ
して、ステップＳ１０でフィルタケース２に取り付けて
あるガス注入／排気管７、８、および真空排気管１０を
パイプ接続部１５、１６、および１７により、フィルタ
ケース２から分離した後、ステップＳ１１で、再度真空
チェンバ１内を高真空状態にし、ステップＳ１２でフィ
ルタケース２を冷却して、超伝導状態を再現する。
【００４０】ここで、ステップＳ１０でガス注入／排気
菅７、８、および１０の取り外しは、外部からの熱の流
入を防ぐために行う。
菅７、８、および１０の取り外しは、外部からの熱の流
入を防ぐために行う。
【００４１】ここで、図４を用いて、本発明の一実施形
態によるフィルタ通過特性のシフトの一例を詳細に説明
する。
態によるフィルタ通過特性のシフトの一例を詳細に説明
する。
【００４２】図４で用いた超伝導フィルタは、酸化マグ
ネシウムＭｇＯ（ε＝１０）基板上に２ＧＨｚ帯のマイ
クロストリップライン超伝導フィルタ（ビスマス系超伝
導体、臨界温度１００Ｋ）を形成したもので、用いるガ
スはアルゴンガスである。
ネシウムＭｇＯ（ε＝１０）基板上に２ＧＨｚ帯のマイ
クロストリップライン超伝導フィルタ（ビスマス系超伝
導体、臨界温度１００Ｋ）を形成したもので、用いるガ
スはアルゴンガスである。
【００４３】アルゴンガスの比誘電率は、
ε＝１＋５．１７×１０Ｅ−４ （２０°Ｃのとき）
であるから、マイクロストリップライン上にアルゴンガ
スが存在すると、真空中に比べて波長短縮率が大きくな
る。そのシフト量Δｆは、図３において、 Δｆ＝ｆ0 −ｆ0'＝４７ｋＨｚ （ｆ0'：調整前の中心
周波数、ｆ0'：調整後の中心周波数） となり、４７ｋＨｚ中心周波数を低域側にシフトするこ
とが出来る。ここではアルゴンガスの比誘電率は２０°
Ｃの値を使用したが、液体アルゴンの沸点と臨界温度と
の間の温度、例えば９０Ｋでは、アルゴンガスの比誘電
率は２０°Ｃに比べて大きくなるが、液体アルゴンの比
誘電率１．５３（８２Ｋのとき）に比べれば、かなり小
さい値となる。
スが存在すると、真空中に比べて波長短縮率が大きくな
る。そのシフト量Δｆは、図３において、 Δｆ＝ｆ0 −ｆ0'＝４７ｋＨｚ （ｆ0'：調整前の中心
周波数、ｆ0'：調整後の中心周波数） となり、４７ｋＨｚ中心周波数を低域側にシフトするこ
とが出来る。ここではアルゴンガスの比誘電率は２０°
Ｃの値を使用したが、液体アルゴンの沸点と臨界温度と
の間の温度、例えば９０Ｋでは、アルゴンガスの比誘電
率は２０°Ｃに比べて大きくなるが、液体アルゴンの比
誘電率１．５３（８２Ｋのとき）に比べれば、かなり小
さい値となる。
【００４４】上記で、アルゴンガスの代わりにヘリウム
ガスを使用した場合には、比誘電率がアルゴンガスより
も一桁小さいため、アルゴンガスを用いる場合よりも小
さい、数ｋＨｚ単位の周波数シフトに適している。
ガスを使用した場合には、比誘電率がアルゴンガスより
も一桁小さいため、アルゴンガスを用いる場合よりも小
さい、数ｋＨｚ単位の周波数シフトに適している。
【００４５】また、本発明によるフィルタリング調整方
法の一実施形態としては、本発明による超伝導フィルタ
装置の製造方法における過程で示したように、図２のガ
ス注入過程（ステップＳ０８）において、フィルタの特
性を確認し、所望の中心周波数かどうかを判別し、所望
の中心周波数でない場合（ステップＳ０８のＮｏ）、ス
テップＳ１０１に進み、所望の中心周波数である場合
（ステップＳ０８のＹｅｓ）ステップＳ０９に進む。ま
た、ステップＳ１０１において、不活性ガス３の量が多
すぎた場合は（ステップＳ１０１のＹｅｓ），ステップ
Ｓ１０２で、開閉バルブ１３を開閉することによって不
活性ガス３の量を調整し、量が少なければステップＳ０
８に戻り、更に注入することにより、微調整が可能であ
る調整方法を行うことが出来る。
法の一実施形態としては、本発明による超伝導フィルタ
装置の製造方法における過程で示したように、図２のガ
ス注入過程（ステップＳ０８）において、フィルタの特
性を確認し、所望の中心周波数かどうかを判別し、所望
の中心周波数でない場合（ステップＳ０８のＮｏ）、ス
テップＳ１０１に進み、所望の中心周波数である場合
（ステップＳ０８のＹｅｓ）ステップＳ０９に進む。ま
た、ステップＳ１０１において、不活性ガス３の量が多
すぎた場合は（ステップＳ１０１のＹｅｓ），ステップ
Ｓ１０２で、開閉バルブ１３を開閉することによって不
活性ガス３の量を調整し、量が少なければステップＳ０
８に戻り、更に注入することにより、微調整が可能であ
る調整方法を行うことが出来る。
【００４６】なお、上述の各実施形態は本発明の好適な
実施の一例であり、本発明の実施形態はこれに限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲におい
て種々変形して実施することが可能である。
実施の一例であり、本発明の実施形態はこれに限定され
るものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲におい
て種々変形して実施することが可能である。
【００４７】
【発明の効果】従って、この発明によれば、所望の通過
特性を得るために、従来のように幾度も超伝導フィルタ
を直接修正・加工する必要がなく一度で済み、また、調
整が簡便になるほか調整時間を短縮できるため、修正・
加工の際の温度変化による熱ストレスが原因で起こる超
伝導素材の寿命短縮を最小限に抑えることが可能とな
る。また、従来の技術では、予め長めに形成しておいた
超伝導フィルタパターンを削ることにより修正・加工を
行っていたため、一度削りすぎてしまった超伝導フィル
タを修正することが不可能となるのに対して、本発明に
よれば、超伝導フィルタの加工をする必要がなく、ま
た、修正・加工を行う装置の寸法精度に依らず、あらゆ
る通過特性を実現することが可能である。従って、経
費、工程、作用などのあらゆる面において、より進んだ
超伝導フィルタ装置、その製造方法、およびフィルタリ
ング調整方法を提供することが可能である。
特性を得るために、従来のように幾度も超伝導フィルタ
を直接修正・加工する必要がなく一度で済み、また、調
整が簡便になるほか調整時間を短縮できるため、修正・
加工の際の温度変化による熱ストレスが原因で起こる超
伝導素材の寿命短縮を最小限に抑えることが可能とな
る。また、従来の技術では、予め長めに形成しておいた
超伝導フィルタパターンを削ることにより修正・加工を
行っていたため、一度削りすぎてしまった超伝導フィル
タを修正することが不可能となるのに対して、本発明に
よれば、超伝導フィルタの加工をする必要がなく、ま
た、修正・加工を行う装置の寸法精度に依らず、あらゆ
る通過特性を実現することが可能である。従って、経
費、工程、作用などのあらゆる面において、より進んだ
超伝導フィルタ装置、その製造方法、およびフィルタリ
ング調整方法を提供することが可能である。
【図１】本発明に係る超伝導フィルタ装置の構成の一実
施形態を示した構成図である。
施形態を示した構成図である。
【図２】本発明による超伝導フィルタ装置を製造する過
程の一実施形態を示したフローチャートである。
程の一実施形態を示したフローチャートである。
【図３】本発明の超伝導フィルタ装置に適用することが
可能な超伝導フィルタの一例となるパラレルカップルド
ライン型マイクロストリップラインフィルタである。
可能な超伝導フィルタの一例となるパラレルカップルド
ライン型マイクロストリップラインフィルタである。
【図４】本発明により実現された超伝導フィルタ装置に
より得られる、超伝導フィルタの通過特性のシフトを表
す一例を示した図である。
より得られる、超伝導フィルタの通過特性のシフトを表
す一例を示した図である。
１ 真空チャンバ
２ フィルタケース
３ 不活性ガス
４ 超伝導フィルタ
５、６ 高周波同軸ケーブル
７ ガス注入管
８ ガス排出管
９、１０ 真空排気管
１１、１２、１３、１４ 開閉バルブ
１５、１６、１７ パイプ接続部
１８、１９ 高周波コネクタ
２０ 冷却機
２１ コールドヘッド
３０ 基板
３１ パラレルカップルドライン型マイクロストリップ
ラインフィルタ Ａ 調整前のフィルタ通過特性 Ｂ 調整後のフィルタ通過特性
ラインフィルタ Ａ 調整前のフィルタ通過特性 Ｂ 調整後のフィルタ通過特性
Claims (19)
- 【請求項１】 超伝導フィルタを第１の容器に格納する
第１の格納手段と、 前記容器内に前記超伝導フィルタと反応せず、また劣化
もさせないガスを充填することにより、前記超伝導フィ
ルタの中心周波数をシフトする周波数調整手段と、 特定の中心周波数をもつ電磁波を選別する選別手段と、 前記第１の容器内を真空にする第１の排気手段と、 前記第１の容器内に前記ガスを注入または排気させるガ
ス注入／排気手段と、 前記超伝導フィルタを超伝導状態になる臨界温度以下に
冷却する冷却手段と、 前記選別手段により得られる前記超伝導フィルタの通過
特性を、電気信号を伝送する伝送手段を介して取り出す
取得手段と、 前記取得手段により得た周波数を観測し、モニタに表示
する観測手段とをさらに有し、 前記第１の容器は気密性の高い容器であり、前記観測手
段により観測された周波数を基に、前記第１の格納手段
に注入するガスの濃度を前記ガス注入／排気手段により
調整することを特徴とする超伝導フィルタ装置。 - 【請求項２】 超伝導フィルタを第１の容器に格納する
第１の格納手段と、 前記容器内に前記超伝導フィルタと反応せず、また劣化
もさせないガスを充填することにより、前記超伝導フィ
ルタの中心周波数をシフトする周波数調整手段と、 前記第１の格納手段を気密性の高い第２の容器に格納す
る第２の格納手段と、 前記第２の容器内を真空にする第２の排気手段と、 前記第１の排気手段、第２の排気手段、およびガス注入
／排気手段の管の開閉を行う管開閉手段と、 前記第１の排気手段および前記ガス注入／排気手段で用
いた管と前記第１の容器とを着脱する管着脱手段とを有
し、 前記第１の格納手段と前記第２の格納手段とを熱的に切
り離すことを特徴とする請求項１に記載の超伝導フィル
タ装置。 - 【請求項３】 超伝導フィルタを第１の容器に格納する
第１の格納工程と、 前記容器内に前記超伝導フィルタと反応せず、また劣化
もさせないガスを充填することにより、前記超伝導フィ
ルタの中心周波数をシフトする周波数調整工程とを有す
ることを特徴とする超伝導フィルタ装置の製造方法。 - 【請求項４】 前記第１の容器を気密性の高い第２の容
器で格納する第２の格納工程と、 前記第１および第２の容器内を真空にする排気工程と、 前記超伝導フィルタを超伝導状態になる臨界温度以下に
冷却する冷却工程と、 前記超伝導フィルタが超伝導状態であるかを、モニタに
より確認する確認工程と、 前記確認工程により超伝導状態が確認されると、前記第
１の容器内にガスを注入することにより、前記超伝導フ
ィルタを取り囲む誘電率を真空の誘電率からガスのもつ
誘電率にするガス注入工程と、 前記ガス注入工程による前記超伝導フィルタの通過特性
の変化を観測する観測工程と、 前記観測工程により所望の通過特性が得られるまで、ガ
スの注入／排出を繰り返し、所望の通過特性が得られた
ら、ガスの注入／排出をやめる調整工程とをさらに有
し、 前記第１の容器は気密性の高い容器であることを特徴と
する請求項３記載の超伝導フィルタ装置の製造方法。 - 【請求項５】 超伝導フィルタを気密性の高い第１の容
器に格納する第１の格納工程と、 前記第１の容器を気密性の高い第２の容器で格納する第
２の格納工程と、 前記第１および第２の容器内を真空にする排気工程と、 前記超伝導フィルタを超伝導状態になる臨界温度以下に
冷却する冷却工程と、 前記超伝導フィルタが超伝導状態であるかを、モニタに
より確認する確認工程と、 前記確認工程により超伝導状態が確認されると、前記第
１の容器内にガスを注入するし、前記超伝導フィルタを
取り囲む誘電率を真空の誘電率からガスのもつ誘電率に
するガス注入工程と、 前記ガス注入工程による前記超伝導フィルタの通過特性
の変化を観測する観測工程と、 前記観測工程により所望の通過特性が得られるまで、ガ
スの注入／排出を繰り返し、所望の通過特性が得られた
ら、ガスの注入／排出をやめる調整工程と、 前記調整工程により所望の通過特性を得られたら、前記
排気工程で用いた排気管をおよび前記ガス注入／排気工
程で用いた注入および排気管を取り外し、前記第１の格
納工程を外部から熱的に切る切断工程とを有することを
特徴とする超伝導フィルタ装置の製造方法。 - 【請求項６】 前記ガスは不活性ガスであることを特徴
とする請求項３から５のいずれかに記載の超伝導フィル
タ装置の製造方法。 - 【請求項７】 前記超伝導フィルタのフィルタパターン
は、マイクロストリップラインフィルタにより構成され
る超伝導フィルタの全てを適用することを特徴とする請
求項３から６のいずれかに記載の超伝導フィルタ装置の
製造方法。 - 【請求項８】 前記ガスは、さらに前記超伝導フィルタ
を構成する超伝導体の臨界温度より沸点が低いガスの全
てを適用することを特徴とする請求項３から７のいずれ
かに記載の超伝導フィルタ装置の製造方法。 - 【請求項９】 前記超伝導フィルタ装置は、ハイパスフ
ィルタ、ローパスフィルタ、およびバンドエリミネーシ
ョンフィルタに適用する請求項３から８のいずれかに記
載の超伝導フィルタ装置の製造方法。 - 【請求項１０】 前記超伝導フィルタは、酸化物超伝導
素材により製造されていることを特徴とする請求項３か
ら９のいずれかに記載の超伝導フィルタ装置の製造方
法。 - 【請求項１１】 前記確認工程および前記観測工程は、
高周波コネクタおよび高周波同軸ケーブルを介して行わ
れることを特徴とする請求項４から１０のいずれかに記
載の超伝導フィルタ装置の製造方法。 - 【請求項１２】 超伝導フィルタを第１の容器に格納す
る第１の格納工程と、 前記容器内に前記超伝導フィルタと反応せず、また劣化
もさせないガスを充填することにより、前記超伝導フィ
ルタの中心周波数をシフトする周波数調整工程とを有す
ることを特徴とするフィルタリング調整方法。 - 【請求項１３】 前記第１の容器を気密性の高い第２の
容器で格納する第２の格納工程と、 前記第２の容器内を真空にする排気工程と、 前記超伝導フィルタを超伝導状態になる臨界温度以下に
冷却する冷却工程と、 前記超伝導フィルタが超伝導状態であるかを、モニタに
より確認する確認工程と、 前記第１の容器にガスの注入／排出を行うガス注入／排
出工程と、 前記超伝導フィルタの通過特性の変化を観測する観測工
程と、 前記観測工程により所望の通過特性が得られるまで、ガ
スの注入／排出を繰り返し、所望の通過特性が得られた
ら、ガスの注入／排出をやめる調整工程とをさらに有
し、 前記第１の容器は気密性の高い容器であることを特徴と
する請求項１２記載のフィルタリング調整方法。 - 【請求項１４】 所望の通過特性に合わせて、前記ガス
を選択することを特徴とする請求項１２または１３に記
載のフィルタリング調整方法。 - 【請求項１５】 前記超伝導フィルタのフィルタパター
ンは、マイクロストリップラインフィルタにより構成さ
れる超伝導フィルタの全てを適用することを特徴とする
請求項１２から１４のいずれかに記載のフィルタリング
調整方法。 - 【請求項１６】 前記ガスは、さらに前記超伝導フィル
タを構成する超伝導体の臨界温度より沸点が低いガスの
全てを適用することを特徴とする請求項１２から１５の
いずれかに記載のフィルタリング調整方法。 - 【請求項１７】 前記超伝導フィルタ装置は、ハイパス
フィルタ、ローパスフィルタ、およびバンドエリミネー
ションフィルタに適用する請求項１２から１６のいずれ
かに記載のフィルタリング調整方法。 - 【請求項１８】 前記超伝導フィルタは、酸化物超伝導
素材により製造されていることを特徴とする請求項１２
から１７のいずれかに記載のフィルタリング調整方法。 - 【請求項１９】 前記確認工程および前記観測工程は、
高周波コネクタおよび高周波同軸ケーブルを介して行わ
れることを特徴とする請求項１３から１８のいずれかに
記載のフィルタリング調整方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11255199A JP3424594B2 (ja) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | 超伝導フィルタ装置、その製造方法、およびフィルタリング調整方法 |
| US09/553,330 US6609290B1 (en) | 1999-04-20 | 2000-04-20 | Superconductor filter device and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11255199A JP3424594B2 (ja) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | 超伝導フィルタ装置、その製造方法、およびフィルタリング調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000307306A JP2000307306A (ja) | 2000-11-02 |
| JP3424594B2 true JP3424594B2 (ja) | 2003-07-07 |
Family
ID=14589502
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11255199A Expired - Fee Related JP3424594B2 (ja) | 1999-04-20 | 1999-04-20 | 超伝導フィルタ装置、その製造方法、およびフィルタリング調整方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6609290B1 (ja) |
| JP (1) | JP3424594B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4126029B2 (ja) | 2004-05-19 | 2008-07-30 | 富士通株式会社 | 高周波回路冷却装置 |
| JP6495790B2 (ja) * | 2015-09-14 | 2019-04-03 | 株式会社東芝 | 断熱導波路及び無線通信装置 |
| CN105720339B (zh) * | 2016-03-30 | 2018-07-20 | 华南理工大学 | 一种双频可调带通滤波器 |
| CN109869943B (zh) * | 2019-02-26 | 2020-12-22 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种多超导滤波器组件系统 |
| CN114400428B (zh) * | 2021-12-30 | 2023-03-17 | 苏州宝罗机械工程有限公司 | 全自动化5g滤波器腔体生产装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4996188A (en) * | 1989-07-28 | 1991-02-26 | Motorola, Inc. | Superconducting microwave filter |
| US5498771A (en) * | 1993-12-03 | 1996-03-12 | Com Dev Ltd. | Miniaturized dielectric resonator filters and method of operation thereof at cryogenic temperatures |
| JPH07254734A (ja) | 1994-03-16 | 1995-10-03 | Fujitsu Ltd | 超伝導デバイスの調整方法及びその調整装置 |
| US5616540A (en) * | 1994-12-02 | 1997-04-01 | Illinois Superconductor Corporation | Electromagnetic resonant filter comprising cylindrically curved split ring resonators |
| US6433944B1 (en) | 1998-09-25 | 2002-08-13 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Master carrier for magnetic transfer and method for transfer |
-
1999
- 1999-04-20 JP JP11255199A patent/JP3424594B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-04-20 US US09/553,330 patent/US6609290B1/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6609290B1 (en) | 2003-08-26 |
| JP2000307306A (ja) | 2000-11-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3424594B2 (ja) | 超伝導フィルタ装置、その製造方法、およびフィルタリング調整方法 | |
| KR100388011B1 (ko) | ＧａＮ박막 ＳＡＷ필터 및 이를 제조하는 방법 | |
| US7395779B2 (en) | Plasma processing apparatus | |
| JPH03193880A (ja) | 高圧力下でのマイクロ波プラズマｃｖｄによる高速成膜方法及びその装置 | |
| JP2003516079A (ja) | 同調可能な高温超伝導フィルター | |
| JP5115314B2 (ja) | 立体フィルタ及びチューナブルフィルタ装置 | |
| Chin et al. | RF passive devices on Si with excellent performance close to ideal devices designed by electro-magnetic simulation | |
| JPH05299712A (ja) | マイクロ波部品 | |
| JP4229654B2 (ja) | 高周波回路の監視装置、および高周波回路の監視方法 | |
| Zhang et al. | A compact HTS duplexer for communication application | |
| JP5120278B2 (ja) | 超伝導チューナブルフィルタ装置、非線形歪測定装置、非線形歪測定方法 | |
| JP4126029B2 (ja) | 高周波回路冷却装置 | |
| Kato et al. | Power-handling capability of superconducting filters using disk-and ring-type bulk resonators | |
| Lee et al. | Fabrication of YBCO superconducting dual mode resonator for satellite communication | |
| Yang et al. | SAW resonators based on high-crystalline AlScN film grown by a two-step method of MOCVD and PVD | |
| Pandit et al. | High Tc superconductor re-entrant cavity filter structures | |
| Moraud et al. | A new planar type dielectric resonator for microwave filtering | |
| JP2876976B2 (ja) | 低温ドライエッチング方法およびその装置 | |
| JP3292168B2 (ja) | フィルタの調整方法および調整装置 | |
| KR20010085235A (ko) | 고선택 필터를 갖는 지연 등화 무선 통신 시스템 | |
| US6505471B1 (en) | Method and apparatus for adjusting device used at low temperature without deterioration thereof | |
| JPS594849B2 (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置 | |
| CN217809777U (zh) | 一种hvpe晶圆片生长装置 | |
| Li et al. | A demonstration HTS base station sub-system for mobile communications | |
| Jenkins et al. | Application of TBCCO based HTS devices to digital cellular communications |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20030401 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090502 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100502 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |