JP3425643B2 - 遠赤外線放射装置 - Google Patents
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/10—Heating elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor
- H05B3/12—Heating elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor characterised by the composition or nature of the conductive material
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B3/00—Ohmic-resistance heating
- H05B3/0033—Heating devices using lamps
- H05B3/0038—Heating devices using lamps for industrial applications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B2203/00—Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
- H05B2203/032—Heaters specially adapted for heating by radiation heating
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- Resistance Heating (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、工業用乾燥処理等の
ために使用される遠赤外線放射装置に関する。
ために使用される遠赤外線放射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の工業用乾燥処理に用いられる遠赤
外線放射装置は、例えば図６に示されるようにガラス球
１中にフィラメントを組込み、このフィラメントを外部
電源と接続されたソケット部２より通電して約２０００
℃に温度上昇させて発熱させるとともに、ガラス球１中
に設けた反射鏡３により遠赤外線を被処理材に向けて放
射させる構造となっていた。
外線放射装置は、例えば図６に示されるようにガラス球
１中にフィラメントを組込み、このフィラメントを外部
電源と接続されたソケット部２より通電して約２０００
℃に温度上昇させて発熱させるとともに、ガラス球１中
に設けた反射鏡３により遠赤外線を被処理材に向けて放
射させる構造となっていた。
【０００３】しかしながら、この種の遠赤外線放射装置
は、実際には０．７〜３．６ミクロンの波長帯の赤外線
が放射されるため、物体を構成する原子、分子の波長吸
収帯である３．６ミクロン以遠の遠赤外線波長帯とは差
異があり、厳密には物体の分子固有の振動数と適合せ
ず、長時間の乾燥処理を行わなければ良好な乾燥を行う
ことができず、効率のよい乾燥処理を行い得ないという
問題を有している。
は、実際には０．７〜３．６ミクロンの波長帯の赤外線
が放射されるため、物体を構成する原子、分子の波長吸
収帯である３．６ミクロン以遠の遠赤外線波長帯とは差
異があり、厳密には物体の分子固有の振動数と適合せ
ず、長時間の乾燥処理を行わなければ良好な乾燥を行う
ことができず、効率のよい乾燥処理を行い得ないという
問題を有している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】かくして、近年、遠赤
外線放射装置の普及が進む中で、より一層の良好な効率
性や耐久性あるいは量産性、また製造コストの低減化な
どが要請されてきている。本発明の目的は、物体を構成
する原子・分子の波長吸収帯である３．６ミクロン以遠
に適合し、物体の原子中の分子固有の振動を良好に助長
することができる遠赤外線を効率よく発生することがで
き、被処理材に対する優れた乾燥効果を得ることのでき
るとともに発生する熱による熱ひずみの影響を極力抑え
ることのできる遠赤外線放射装置を提供するにある。
外線放射装置の普及が進む中で、より一層の良好な効率
性や耐久性あるいは量産性、また製造コストの低減化な
どが要請されてきている。本発明の目的は、物体を構成
する原子・分子の波長吸収帯である３．６ミクロン以遠
に適合し、物体の原子中の分子固有の振動を良好に助長
することができる遠赤外線を効率よく発生することがで
き、被処理材に対する優れた乾燥効果を得ることのでき
るとともに発生する熱による熱ひずみの影響を極力抑え
ることのできる遠赤外線放射装置を提供するにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明においては、遠赤外線放射層を備え、かつ所
定の曲率半径の凸面形状を有する第１金属板と、前記金
属板を加熱するとともに該金属板に微量電流を流すため
の電流供給装置と、前記第１金属板と前記電流供給装置
との間に間挿される第１絶縁板と、前記電流供給装置の
下方に設けられ、かつ前記第１金属板に凸面形状を形成
又は保持するための突出部を備える第２金属板と、前記
電流供給装置と前記第２金属板との間に間挿される第２
絶縁板と、前記電流供給装置に所定の電流を供給するた
めのリード線とを備える構成の遠赤外線放射装置を提案
するものである。
に、本発明においては、遠赤外線放射層を備え、かつ所
定の曲率半径の凸面形状を有する第１金属板と、前記金
属板を加熱するとともに該金属板に微量電流を流すため
の電流供給装置と、前記第１金属板と前記電流供給装置
との間に間挿される第１絶縁板と、前記電流供給装置の
下方に設けられ、かつ前記第１金属板に凸面形状を形成
又は保持するための突出部を備える第２金属板と、前記
電流供給装置と前記第２金属板との間に間挿される第２
絶縁板と、前記電流供給装置に所定の電流を供給するた
めのリード線とを備える構成の遠赤外線放射装置を提案
するものである。
【０００６】又、本発明においては、遠赤外線放射層を
備え、かつ所定の曲率半径の凸面形状を有する第１金属
板と、前記金属板を加熱するとともに該金属板に微量電
流を流すための電流供給装置と、前記第１金属板と前記
電流供給装置との間に間挿される第１絶縁板と、前記電
流供給装置の下方に設けられて前記第１金属板に凸面形
状を形成又は保持するための突出部を備えるとともに熱
ひずみ開放手段を備える第２金属板と、前記電流供給装
置と前記第２金属板との間に間挿される第２絶縁板と、
前記電流供給装置に所定の電流を供給するためのリード
線とを備える構成の遠赤外線放射装置を提案するもので
ある。
備え、かつ所定の曲率半径の凸面形状を有する第１金属
板と、前記金属板を加熱するとともに該金属板に微量電
流を流すための電流供給装置と、前記第１金属板と前記
電流供給装置との間に間挿される第１絶縁板と、前記電
流供給装置の下方に設けられて前記第１金属板に凸面形
状を形成又は保持するための突出部を備えるとともに熱
ひずみ開放手段を備える第２金属板と、前記電流供給装
置と前記第２金属板との間に間挿される第２絶縁板と、
前記電流供給装置に所定の電流を供給するためのリード
線とを備える構成の遠赤外線放射装置を提案するもので
ある。
【０００７】更に、本発明においては、前記第１絶縁板
は厚さ０．１〜０．５ｍｍを備え、又、前記電流供給装
置はコイルであり、更に、前記コイルは電極を備える構
成の遠赤外線放射装置をも提案するものである。
は厚さ０．１〜０．５ｍｍを備え、又、前記電流供給装
置はコイルであり、更に、前記コイルは電極を備える構
成の遠赤外線放射装置をも提案するものである。
【０００８】本発明の遠赤外線放射装置は、電流供給装
置で生じた誘導電流を絶縁材を介して遠赤外線放射層を
備えた金属板に微量電流を流すことによって、遠赤外線
放射層中の１０／ｃｍ2以上の自由電子がランダムに動
き、量子に加速を伴う遠赤外線放射層から３．６ミクロ
ン以遠の電磁波として遠赤外線が放射される。なお、通
電量による適合波長との関係は、５５Ｗで１１〜１６ミ
クロン、６３Ｗで７〜１１ミクロン、８１Ｗで７〜８ミ
クロン及び１０５Ｗで４〜７ミクロンとされている。
置で生じた誘導電流を絶縁材を介して遠赤外線放射層を
備えた金属板に微量電流を流すことによって、遠赤外線
放射層中の１０／ｃｍ2以上の自由電子がランダムに動
き、量子に加速を伴う遠赤外線放射層から３．６ミクロ
ン以遠の電磁波として遠赤外線が放射される。なお、通
電量による適合波長との関係は、５５Ｗで１１〜１６ミ
クロン、６３Ｗで７〜１１ミクロン、８１Ｗで７〜８ミ
クロン及び１０５Ｗで４〜７ミクロンとされている。
【０００９】次いで、この電磁波の放射は送風などに遮
られず空気中を伝播し、被処理材を構成する物質の元素
化合物に浸透し、電荷（電子量）を持っている分子量
（アボガドロの法則）固有の振動数（約４５億回前後／
秒以上）に適合し、元素分子間の振動熱を放出して低温
で効率よく乾燥効果する。
られず空気中を伝播し、被処理材を構成する物質の元素
化合物に浸透し、電荷（電子量）を持っている分子量
（アボガドロの法則）固有の振動数（約４５億回前後／
秒以上）に適合し、元素分子間の振動熱を放出して低温
で効率よく乾燥効果する。
【００１０】すなわち、放射される電磁波は、物質を構
成する原子・分子の波長吸収帯である３．６ミクロン以
遠に適合し、良好に物質の原子の共有・解離・結合によ
る分子固有の振動のため効率のよい乾燥処理を行うこと
ができる
成する原子・分子の波長吸収帯である３．６ミクロン以
遠に適合し、良好に物質の原子の共有・解離・結合によ
る分子固有の振動のため効率のよい乾燥処理を行うこと
ができる
【００１１】物質・物体内の吸収波長は３〜２０ミクロ
ン帯に集中しているが、従来の遠赤外線放射装置は放射
波長が３．６ミクロン以下の赤外線のため、物質・物体
の固有分子の吸収スペクトルは適合率が低い。しかしな
がら、この遠赤外線放射装置は被処理材に遠赤外線波長
帯域の電磁波を吸収させるために、上述したように例え
ば塗装などの物質・物体を構成する固有元素分子を毎秒
４５億回以上に振動励起させ、物質・物体内で質量固有
の共有・解離、結合させて乾燥・硬化させるものであ
る。
ン帯に集中しているが、従来の遠赤外線放射装置は放射
波長が３．６ミクロン以下の赤外線のため、物質・物体
の固有分子の吸収スペクトルは適合率が低い。しかしな
がら、この遠赤外線放射装置は被処理材に遠赤外線波長
帯域の電磁波を吸収させるために、上述したように例え
ば塗装などの物質・物体を構成する固有元素分子を毎秒
４５億回以上に振動励起させ、物質・物体内で質量固有
の共有・解離、結合させて乾燥・硬化させるものであ
る。
【００１２】特に、本発明においては、第１金属板に所
定の曲率半径の凸面形状を持たせ、この凸面形状を第２
金属板に設けた突出部により形成又は保持するようにす
る。これによって、第１金属板にプレストレスが与えら
れるので、内部で発生した熱による熱ひずみの影響を極
力小さくでき、第１金属板の表面に熱ひずみによる凹凸
を生じさせることなく長期の使用に耐え得るものとな
る。
定の曲率半径の凸面形状を持たせ、この凸面形状を第２
金属板に設けた突出部により形成又は保持するようにす
る。これによって、第１金属板にプレストレスが与えら
れるので、内部で発生した熱による熱ひずみの影響を極
力小さくでき、第１金属板の表面に熱ひずみによる凹凸
を生じさせることなく長期の使用に耐え得るものとな
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施例を図面
に基づき詳細に説明する。図１は、この発明に係る遠赤
外線放射装置を示す概略図であり、図２は該装置の分解
斜視図である。該図において、符号１０は遠赤外線放射
装置であり、該装置１０は以下の構成を備えている。符
号１２は、アルミニウム金属からなる第１金属板をなす
金属板である。この金属板１２を、この実施形態ではア
ルミニウム金属で形成したが、これ以外に、例えばステ
ンレスなどの金属も用い得る。金属板１２は所定の曲率
半径、例えば１０００Ｒ（Ｒ：半径）を有する凸面形状
に形成されている上面部１４とその周囲に沿って形成さ
れた側面部１６とを備える。金属板１２の上面部１４の
表面及び裏面、又は表面のみは遠赤外線を発生するため
の遠赤外線放射層１８を備える。遠赤外線放射層１８
は、アルミニウム金属板の過酸化アルミニウムを硫酸も
しくは臭酸などにより自然発色させ、この発色過程で生
じたサブミクロン単位の金属原子化合物をアルミニウム
金属板の表面に酸化分散させて溶着させたものであり、
その表面に２５ミクロンの凹凸を有する。このようにし
て形成された遠赤外線放射層１８は、商品名「スーパー
レイ」（スカイアルミニウム工業製）、「インフラー
ル」（日本軽金属製）又は「サーファス」（川崎製鉄
製）として市販されている。
に基づき詳細に説明する。図１は、この発明に係る遠赤
外線放射装置を示す概略図であり、図２は該装置の分解
斜視図である。該図において、符号１０は遠赤外線放射
装置であり、該装置１０は以下の構成を備えている。符
号１２は、アルミニウム金属からなる第１金属板をなす
金属板である。この金属板１２を、この実施形態ではア
ルミニウム金属で形成したが、これ以外に、例えばステ
ンレスなどの金属も用い得る。金属板１２は所定の曲率
半径、例えば１０００Ｒ（Ｒ：半径）を有する凸面形状
に形成されている上面部１４とその周囲に沿って形成さ
れた側面部１６とを備える。金属板１２の上面部１４の
表面及び裏面、又は表面のみは遠赤外線を発生するため
の遠赤外線放射層１８を備える。遠赤外線放射層１８
は、アルミニウム金属板の過酸化アルミニウムを硫酸も
しくは臭酸などにより自然発色させ、この発色過程で生
じたサブミクロン単位の金属原子化合物をアルミニウム
金属板の表面に酸化分散させて溶着させたものであり、
その表面に２５ミクロンの凹凸を有する。このようにし
て形成された遠赤外線放射層１８は、商品名「スーパー
レイ」（スカイアルミニウム工業製）、「インフラー
ル」（日本軽金属製）又は「サーファス」（川崎製鉄
製）として市販されている。
【００１４】符号２０は図３に示されたようなコイルで
あり、コイル２０は電流供給装置を構成する。コイル２
０は前記遠赤外線放射層１８を備えるアルミニウム金属
板を所定温度に加熱するとともに０．００６〜０．００
８ｍＡの微量電流を流す作用を行う。コイル２０はマイ
カ材料からなる半円形の２枚の絶縁板２２それぞれにニ
クロム線２６を巻回して形成している。ニクロム線２６
は、図３に示すように絶縁板２２の外周部及び直径方向
に沿う側縁にそれぞれ形成した歯形状の切欠部２４ａ，
２４ｂに掛けてエンドレス状態で間隔をおいて巻回され
ている。尚、図３においては絶縁板２２の裏側に位置す
るニクロム線２６は一部図示を省略してある。このよう
に２枚の絶縁板２２に巻回されたニクロム線２６の一端
同士は接続されてブリッジ部２８を形成する。リード線
２１は該ニクロム線２６に電力を供給するために、各絶
縁板２２のほぼ中央部にあるニクロム線の端部２１ａ，
２１ａでニクロム線２６に接続されている。これら２分
割されたそれぞれの絶縁板２２は、その側縁部分を互い
に突き合わせた状態で、その下に配置されるマイカ材料
の絶縁板３０と一対のホチキス止め具３２で一体的に固
定されている。一方のホチキス止め具３２は前記ブリッ
ジ部２８に近接して配置されている。この止め具３２は
コイル２０で発生した誘導電流を前記アルミニウム金属
板１２に伝えるための電極の役目を果している。上記絶
縁板３０の中央部には、リード線２１を挿通させる孔３
０ａが形成されている。
あり、コイル２０は電流供給装置を構成する。コイル２
０は前記遠赤外線放射層１８を備えるアルミニウム金属
板を所定温度に加熱するとともに０．００６〜０．００
８ｍＡの微量電流を流す作用を行う。コイル２０はマイ
カ材料からなる半円形の２枚の絶縁板２２それぞれにニ
クロム線２６を巻回して形成している。ニクロム線２６
は、図３に示すように絶縁板２２の外周部及び直径方向
に沿う側縁にそれぞれ形成した歯形状の切欠部２４ａ，
２４ｂに掛けてエンドレス状態で間隔をおいて巻回され
ている。尚、図３においては絶縁板２２の裏側に位置す
るニクロム線２６は一部図示を省略してある。このよう
に２枚の絶縁板２２に巻回されたニクロム線２６の一端
同士は接続されてブリッジ部２８を形成する。リード線
２１は該ニクロム線２６に電力を供給するために、各絶
縁板２２のほぼ中央部にあるニクロム線の端部２１ａ，
２１ａでニクロム線２６に接続されている。これら２分
割されたそれぞれの絶縁板２２は、その側縁部分を互い
に突き合わせた状態で、その下に配置されるマイカ材料
の絶縁板３０と一対のホチキス止め具３２で一体的に固
定されている。一方のホチキス止め具３２は前記ブリッ
ジ部２８に近接して配置されている。この止め具３２は
コイル２０で発生した誘導電流を前記アルミニウム金属
板１２に伝えるための電極の役目を果している。上記絶
縁板３０の中央部には、リード線２１を挿通させる孔３
０ａが形成されている。
【００１５】前記コイル１２と前記遠赤外線放射層１８
を備えるアルミニウム金属板１２との間にはコイル２０
を形成しているニクロム線２６が金属板１２と接するこ
とを防止するために第１絶縁板をなす絶縁板３４が間挿
されている。絶縁板３４は前記コイル２０を巻回した一
対の絶縁板２２とほぼ同じ直径を有し、そしてニクロム
線２６の層を完全に覆うように形成されている。また絶
縁板３４は、コイル２０で発生した誘導電流によって前
記アルミニウム金属板１２に上述した微量電流を流すこ
とのできる厚さを備える。すなわち絶縁板３４が、テフ
ロン系のポリイミド樹脂からなる場合には、その厚さは
０．２から０．４ｍｍを備え、またマイカ材の場合には
０．３〜０．５ｍｍ、特に０．３５ｍｍの厚さを備え
る。
を備えるアルミニウム金属板１２との間にはコイル２０
を形成しているニクロム線２６が金属板１２と接するこ
とを防止するために第１絶縁板をなす絶縁板３４が間挿
されている。絶縁板３４は前記コイル２０を巻回した一
対の絶縁板２２とほぼ同じ直径を有し、そしてニクロム
線２６の層を完全に覆うように形成されている。また絶
縁板３４は、コイル２０で発生した誘導電流によって前
記アルミニウム金属板１２に上述した微量電流を流すこ
とのできる厚さを備える。すなわち絶縁板３４が、テフ
ロン系のポリイミド樹脂からなる場合には、その厚さは
０．２から０．４ｍｍを備え、またマイカ材の場合には
０．３〜０．５ｍｍ、特に０．３５ｍｍの厚さを備え
る。
【００１６】符号３６は上記アルミニウム金属板１２を
固定するための押え用に配設された第２金属板をなす押
え金属板である。この押え金属板３６は図４に示される
ように中央にコイル２０への電力を供給するためのリー
ド線２１を挿通するための開口３８と該開口３８の近傍
でその周縁に形成された突出部４０を備える。この金属
板３６とコイル２０との間にマイカ材よりなる絶縁板４
４が更に間挿され、絶縁板３０とともに第２絶縁板を構
成する。これによって断熱効果が得られる。この絶縁板
４４の中央部にもリード線２１を挿通させる孔４４ａが
形成されている。
固定するための押え用に配設された第２金属板をなす押
え金属板である。この押え金属板３６は図４に示される
ように中央にコイル２０への電力を供給するためのリー
ド線２１を挿通するための開口３８と該開口３８の近傍
でその周縁に形成された突出部４０を備える。この金属
板３６とコイル２０との間にマイカ材よりなる絶縁板４
４が更に間挿され、絶縁板３０とともに第２絶縁板を構
成する。これによって断熱効果が得られる。この絶縁板
４４の中央部にもリード線２１を挿通させる孔４４ａが
形成されている。
【００１７】上記押え金属板３６の下方には、筒状のソ
ケット支持体４６の上端部に固定された底板４５が設け
られている。このソケット支持体４６はコイル２０で発
生した熱がその下方から大気へ逃げることを防止する作
用を果す。この支持体４６の下端部にはソケット部４７
が設けられている。そして、組立に際して、コイル２０
のリード線２１は、図２に鎖線で示すように絶縁板３０
及び４４のそれぞれの孔３０ａ，４４ａならびに押え金
属板３６の開口３８を通してソケット支持体４６の内部
空間４６ａに挿入され、ソケット部４７に電気的に接続
される。これによって、リード線２１は、このソケット
部４７に装置された金属製口金を介して絶縁性を確保し
つつ外部電源（図示せず）に通電される。
ケット支持体４６の上端部に固定された底板４５が設け
られている。このソケット支持体４６はコイル２０で発
生した熱がその下方から大気へ逃げることを防止する作
用を果す。この支持体４６の下端部にはソケット部４７
が設けられている。そして、組立に際して、コイル２０
のリード線２１は、図２に鎖線で示すように絶縁板３０
及び４４のそれぞれの孔３０ａ，４４ａならびに押え金
属板３６の開口３８を通してソケット支持体４６の内部
空間４６ａに挿入され、ソケット部４７に電気的に接続
される。これによって、リード線２１は、このソケット
部４７に装置された金属製口金を介して絶縁性を確保し
つつ外部電源（図示せず）に通電される。
【００１８】そして、組立に際しては、金属板１２の側
面部１６の下端部周縁が内方に折曲されて底板４５の周
縁部にカシメ状態で固定される。この金属板１２と底板
４５との間には、図２において分解状態で示す絶縁板３
４，コイル２０，絶縁板３０，４４及び押え金属板３６
がこの順序で重ね合わせ状態で保持される。
面部１６の下端部周縁が内方に折曲されて底板４５の周
縁部にカシメ状態で固定される。この金属板１２と底板
４５との間には、図２において分解状態で示す絶縁板３
４，コイル２０，絶縁板３０，４４及び押え金属板３６
がこの順序で重ね合わせ状態で保持される。
【００１９】従って、重ね合わせ状態において、押え金
属板３６の突出部４０が上方に向けて押圧力を与えるた
めに、重ね合わされた各部材相互の密着度が高まり、コ
イル２０から金属板１２への微量電流の伝達も確実に行
なわれる。特に、この突出部４０の押圧力によって金属
板１２の上面部１４が所定の曲率半径を有する凸面形状
を呈する。従って、金属板１２に対してプレストレスが
付与されるので、コイル２０からの熱によってその上面
部１４が熱変形を起こしても表面に凹凸を生じさせるよ
うなひずみが解消され、常に安定した表面状態を維持で
き、耐久性の向上を図ることができる。尚、金属板１２
を予め所定の曲率半径を有する凸面形状に形成し、これ
を組立状態において、突出部４０の押圧力によって保持
するようにしてもよい。
属板３６の突出部４０が上方に向けて押圧力を与えるた
めに、重ね合わされた各部材相互の密着度が高まり、コ
イル２０から金属板１２への微量電流の伝達も確実に行
なわれる。特に、この突出部４０の押圧力によって金属
板１２の上面部１４が所定の曲率半径を有する凸面形状
を呈する。従って、金属板１２に対してプレストレスが
付与されるので、コイル２０からの熱によってその上面
部１４が熱変形を起こしても表面に凹凸を生じさせるよ
うなひずみが解消され、常に安定した表面状態を維持で
き、耐久性の向上を図ることができる。尚、金属板１２
を予め所定の曲率半径を有する凸面形状に形成し、これ
を組立状態において、突出部４０の押圧力によって保持
するようにしてもよい。
【００２０】この実施形態では、押え金属板３６を底板
４５とは別体で構成した例を示したが、この押え金属板
３６に代えて底板４５のみを設け、これに突出部４０に
相当する形状のものを一体に設けた兼用構成も可能であ
り、この構成も本発明に含まれるものである。
４５とは別体で構成した例を示したが、この押え金属板
３６に代えて底板４５のみを設け、これに突出部４０に
相当する形状のものを一体に設けた兼用構成も可能であ
り、この構成も本発明に含まれるものである。
【００２１】また、押え金属板３６は図５に示す変形例
のように、その周辺から中央に向かって延びる複数のス
リット４２を形成した構成も提案される。このスリット
４２はコイル２０で発生した熱によって金属板３６にひ
ずみが生じ、金属板３６に凹凸を生じるのを防止する役
目をする。すなわち、熱ひずみ開放手段を構成する。凹
凸が生じると、金属板１２の側部１６と底板４５との間
のカシメ個所に隙間が生じて大気中のごみ等がそこから
侵入し、コイル２０にごみが付着して断線を生じる恐れ
がある。なお、熱ひずみを開放できる構成であれば上記
のようなスリット４２の構成に限らず、例えば金属板３
６に複数の孔を設けるようにしてもよい。また、押え金
属板３６に代えて底板４５のみで押え金属板を兼用させ
る構成の場合には、この底板４５上に上記のような熱ひ
ずみ開放手段を設ける。
のように、その周辺から中央に向かって延びる複数のス
リット４２を形成した構成も提案される。このスリット
４２はコイル２０で発生した熱によって金属板３６にひ
ずみが生じ、金属板３６に凹凸を生じるのを防止する役
目をする。すなわち、熱ひずみ開放手段を構成する。凹
凸が生じると、金属板１２の側部１６と底板４５との間
のカシメ個所に隙間が生じて大気中のごみ等がそこから
侵入し、コイル２０にごみが付着して断線を生じる恐れ
がある。なお、熱ひずみを開放できる構成であれば上記
のようなスリット４２の構成に限らず、例えば金属板３
６に複数の孔を設けるようにしてもよい。また、押え金
属板３６に代えて底板４５のみで押え金属板を兼用させ
る構成の場合には、この底板４５上に上記のような熱ひ
ずみ開放手段を設ける。
【００２２】その他、本発明は、この実施形態に限定さ
れず、種々の変形構成を含み得るものである。
れず、種々の変形構成を含み得るものである。
【００２３】
【発明の効果】本発明の遠赤外線放射装置は、電流供給
装置で生じた誘導電流を絶縁材を介して遠赤外線放射層
を備えた第１金属板に微量電流を流すことによって、物
体を構成する原子・分子の波長吸収帯である３．６ミク
ロン以遠に適合し、良好に物体の原子の共有・解離、結
合による分子固有の振動により遠赤外線を効率よく発生
することができ、よって被処理材に対して優れた乾燥効
果が得られる利点を有する。特に、遠赤外線放射層を備
えた第１金属板に所定の曲率半径の凸面形状を持たせ、
この凸面形状を第２金属板に設けた突出部によって組立
状態において形成又は維持するように構成したので、第
１金属板には常にプレストレスが与えられ、コイルから
の熱による変形にも耐え、熱ひずみによって表面に凹凸
を生じさせることが解消されるので、常に安定した表面
状態を維持でき、装置全体の耐久性の向上を図ることが
できる。
装置で生じた誘導電流を絶縁材を介して遠赤外線放射層
を備えた第１金属板に微量電流を流すことによって、物
体を構成する原子・分子の波長吸収帯である３．６ミク
ロン以遠に適合し、良好に物体の原子の共有・解離、結
合による分子固有の振動により遠赤外線を効率よく発生
することができ、よって被処理材に対して優れた乾燥効
果が得られる利点を有する。特に、遠赤外線放射層を備
えた第１金属板に所定の曲率半径の凸面形状を持たせ、
この凸面形状を第２金属板に設けた突出部によって組立
状態において形成又は維持するように構成したので、第
１金属板には常にプレストレスが与えられ、コイルから
の熱による変形にも耐え、熱ひずみによって表面に凹凸
を生じさせることが解消されるので、常に安定した表面
状態を維持でき、装置全体の耐久性の向上を図ることが
できる。
【図１】本発明に係る遠赤外線放射装置を示す外観斜視
図である。
図である。
【図２】本発明に係る遠赤外線放射装置の分解図であ
る。
る。
【図３】本発明に係る遠赤外線放射装置のコイルの概略
平面図である。
平面図である。
【図４】本発明に係る遠赤外線放射装置の押え金属板の
概略平面図である。
概略平面図である。
【図５】本発明に係る遠赤外線放射装置の押え金属板の
変形例構成の概略平面図である。
変形例構成の概略平面図である。
【図６】従来の遠赤外線放射装置の概略図である。
１０ 遠赤外線放射装置
１２ 金属板
１８ 遠赤外線放射層
２０ コイル
２２ 絶縁板
２６ ニクロム線
２９ リード線
３０ 絶縁板
３２ ホチキス止め具
３４ 絶縁板
３６ 金属板
４０ 突出部
４２ スリット
４４ 絶縁板
４６ ソケット支持体
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
H05B 3/02 - 3/20
F26B 3/30
Claims (4)
- 【請求項１】遠赤外線放射層を備えた第１金属板と、 前記金属板を加熱するとともに該金属板に微量電流を流
すための電流供給装置と、 前記第１金属板と前記電流供給装置との間に間挿される
第１絶縁板と、前記電流供給装置の下方に設けられるとともに突出部を
備える第２金属板と、 前記電流供給装置と前記第２金属板との間に間挿される
第２絶縁板と、 前記電流供給装置に所定の電流を供給するためのリード
線と、よりなり、組立において、前記第１金属板、第１絶縁
板、電流供給装置、第２絶縁板及び第２金属板の各部材
を、この順序に重ね合わせるとともに、前記第２金属板
の突出部による上方へ向けての押圧力によって前記第１
金属板にプレストレスを付与し、該第１金属板の上面部
を所定の曲率半径を有する凸面形状としてなることを特
徴とする 遠赤外線放射装置。 - 【請求項２】遠赤外線放射層を備え、かつ、所定の曲率
半径の凸面形状を有する第１金属板と、 前記金属板を加熱するとともに該金属板に微量電流を流
すための電流供給装置と、 前記第１金属板と前記電流供給装置との間に間挿される
第１絶縁板と、前記電流供給装置の下方に設けられるとともに突出部を
備える第２金属板と、 前記電流供給装置と前記第２金属板との間に間挿される
第２絶縁板と、 前記電流供給装置に所定の電流を供給するためのリード
線と、よりなり、組立において、前記第１金属板、第１絶縁
板、電流供給装置、第２絶縁板及び第２金属板の各部材
を、この順序に重ね合わせるとともに、前記所定の曲率
半径の凸面形状を有する第１金属板の該凸面形状を、前
記第２金属板の突出部による上方へ向けての押圧力によ
って維持してなることを特徴とする 遠赤外線放射装置。 - 【請求項３】前記第２金属板に、熱ひずみ開放手段をな
す複数のスリット又は孔を形成してなる請求項１又は２
に記載の遠赤外線放射装置。 - 【請求項４】前記電流供給装置はマイカ材料からなる半
円形の２枚の絶縁板と、そのそれぞれの絶縁板にニクロ
ム線を巻回して形成したコイルであることを特徴とする
請求項１ないし３のいずれか１に記載の遠赤外線放射装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34450996A JP3425643B2 (ja) | 1996-12-10 | 1996-12-10 | 遠赤外線放射装置 |
| US08/988,165 US6011270A (en) | 1996-12-10 | 1997-12-10 | Far infrared rays radiation device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34450996A JP3425643B2 (ja) | 1996-12-10 | 1996-12-10 | 遠赤外線放射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10172726A JPH10172726A (ja) | 1998-06-26 |
| JP3425643B2 true JP3425643B2 (ja) | 2003-07-14 |
Family
ID=18369828
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34450996A Expired - Lifetime JP3425643B2 (ja) | 1996-12-10 | 1996-12-10 | 遠赤外線放射装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6011270A (ja) |
| JP (1) | JP3425643B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102004041556B4 (de) * | 2004-08-27 | 2007-09-20 | Infineon Technologies Ag | Laterale Schottky-Diode und Verfahren zu ihrer Herstellung |
| US8816256B2 (en) * | 2008-04-11 | 2014-08-26 | Fujifilm Corporation | Heat generating body |
| KR101028910B1 (ko) | 2010-09-14 | 2011-04-12 | 서민희 | 원적외선 난방장치 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3895216A (en) * | 1974-09-30 | 1975-07-15 | Gen Electric | Low thermal mass solid plate surface heating unit |
-
1996
- 1996-12-10 JP JP34450996A patent/JP3425643B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-12-10 US US08/988,165 patent/US6011270A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6011270A (en) | 2000-01-04 |
| JPH10172726A (ja) | 1998-06-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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