JP3431352B2 - 光学素子用洗浄剤組成物およびそれを用いる光学素子洗浄方法 - Google Patents
光学素子用洗浄剤組成物およびそれを用いる光学素子洗浄方法Info
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Description
げ洗浄液あるいは浸漬仕上げ洗浄液として優れた特性を
有する光学素子用洗浄剤組成物およびそれを用いる光学
素子洗浄方法に関するものである。
技術開発センター、辻薦著、1986年、p33)にあ
るように、各種工業分野においてハロゲン化炭化水素類
が広く洗浄に適用されてきており、精密工業分野では光
学素子、電子部品等の精密部品の洗浄用溶剤、仕上げ洗
浄剤、乾燥用溶剤としてハロゲン化炭化水素類であるフ
ロン113が広く用いられてきた。これは、フロン11
3が不燃性である;各種熱可塑性樹脂、ゴム類などの高
分子材料を浸食しないが、一般に汚れとなる油脂類を溶
解するという選択的溶解性を有する;乾燥速度が速い等
の優れた特性を有しているためである。また、特開平5
- 25499には、20〜97重量%のシクロペンタン
と3〜60重量%の炭素数1〜3の脂肪族1価アルコー
ルと残部を構成する炭素数6〜8の炭化水素から成るブ
レーキ装置用の洗浄剤が開示されている。
3をはじめとする特定フロンは、化学的に非常に安定で
あり、揮散した場合には、オゾン層まで到達し、ここで
紫外線によって分解され分子中に含有されるハロゲンに
よって地球を取り巻くオゾン層を破壊することで地球環
境を破壊することが明らかとなっており、特定フロンを
含んだものは1995年までに工業的な使用はほとんど
禁止となるため、今後洗浄への適用は不可能となる。
発明では、主成分のシクロペンタンが特異なベンジン臭
を持つため、作業環境の悪化の要因となる。また、ポリ
スチレン等のプラスチックに対してダメージを与えるた
め、被洗浄物の適用範囲が限定される。これらの状況に
鑑み本発明では、請求項1においてオゾン層への影響が
なく、環境に対して安全性が高く、組成の安定性が高い
ために洗浄の始めから終了まで安定した洗浄性能が得ら
れ、乾燥性に優れる光学素子用洗浄剤組成物を提供する
ことを目的としている。請求項2では、上記に加えて安
全性を高めた光学素子用洗浄剤組成物を提供することを
目的としている。請求項3および4では、精密洗浄に適
用できるレベルの低残渣性を有する高い洗浄品質が得ら
れる光学素子用洗浄剤組成物を提供することを目的とし
ている。請求項5では、本発明の光学素子用洗浄剤組成
物を用いた好適な光学素子洗浄方法を提供することを目
的とする。
メチルペンタンを44重量%以上含む炭素数6の脂肪族
飽和炭化水素が66〜90重量%と、エチルアルコール
を85重量%以上含む炭素数1〜3の低級アルコールが
10〜34重量%とからなる共沸又は共沸様特性を示す
光学素子用洗浄剤組成物である。請求項2の発明は、安
全性を向上させる観点から請求項1の発明に加え、n−
ヘキサン、メチルアルコール、イソプロピルアルコール
又はn−プロピルアルコールの含有量の合計が全体の組
成に対して10重量%未満である光学素子用洗浄剤組成
物である。請求項3の発明は、より高精度な洗浄品質を
得る観点から、請求項1乃至2の発明に加え組成物に含
有される水分量が2000重量ppm(以下、単にpp
mという)未満の光学素子用洗浄組成物である。請求項
4の発明は、より高精度な洗浄品質を得る観点から、請
求項1乃至3のいずれかの発明に加え、760mmHg
における沸点が120℃以上の成分の含有量の合計が1
重量%未満であり、かつ沸点が170℃以上の成分の含
有量の合計が1000ppm未満である光学素子用洗浄
剤組成物である。請求項5の発明は、請求項1乃至4の
いずれかの発明に係る洗浄剤組成物を含浸させた繊維状
物により光学素子表面を拭くことにより、該表面の汚れ
を除去して洗浄することを特徴とする光学素子洗浄方法
である。
化水素および低級アルコールは、分子中にオゾン層を破
壊するハロゲン元素を含有していないため、洗浄に伴っ
て大気中に蒸発揮散してもオゾン層破壊への影響がな
く、地球環境への安全性が高い洗浄剤組成物となってい
る。
炭素数1〜3の低級アルコールの系では、請求項1の範
囲の組成で共沸又は共沸様特性を示す組成物を形成する
ことが検討の結果、判明した。ここでの共沸特性とは、
2種以上の化合物の混合系において、見かけ上安定した
一つの沸点を持ち、単一化合物のような挙動を示す特性
をいう。これらの共沸混合系の示す沸点は、共沸混合系
を形成する複数の化合物のそれぞれの沸点よりも低い沸
点となる。さらに共沸混合系では、気液平衡状態におい
て蒸気相と液相の構成成分比が同一となる。また、ここ
での共沸様特性とは、2種以上の化合物の混合系におい
て、常圧(760mmHg)下での共沸の時の沸点に対
して、その沸点範囲が5℃以下で、単一化合物に近似の
挙動を示す特性をいう。
を44重量%以上含む炭素数6の脂肪族飽和炭化水素が
66〜90重量%で、エチルアルコールを85重量%以
上含む炭素数1〜3の低級アルコールが10〜34重量
%の組成比の時に、常圧下での沸点が52〜55. 5℃
の範囲になり、表1に示した各構成成分(炭素数6の脂
肪族飽和炭化水素、および、炭素数1〜3の低級アルコ
ールの各種類)の沸点と比較しても十分に低いものとな
る。
することにより乾燥速度を比較することが可能であり、
一般的には、沸点が低いほど乾燥速度が速い。したがっ
て、請求項1の光学素子用洗浄剤組成物は、その構成成
分単体よりも優れた乾燥速度を有している。更に、上記
洗浄剤組成物は、常圧下での共沸の時の沸点に対して、
その沸点範囲が5℃以下となり、共沸特性又は共沸様特
性を示し、蒸発・揮発による組成の変化が小さいものと
なっている。したがって、洗浄中に洗浄剤の各構成成分
が不均等に揮発することによる組成変化を防止でき、長
期間の使用でも均一な洗浄能力を保持することが可能と
なる。また、保管中での保管容器内での組成変化を避け
られる。
以上含む炭素数6の脂肪族飽和炭化水素が82〜88重
量%と、エチルアルコールを85重量%以上含む炭素数
1〜3の低級アルコールが12〜18重量%とからなる
洗浄剤組成物が更に望ましい。この場合、上記洗浄剤組
成物は共沸特性を示し、沸点が各構成成分に比べて低下
するのに加えて、蒸留した際の低級アルコール成分また
は脂肪族飽和炭化水素成分の組成変化がおよそ5%未満
の変化幅となっており、組成の変化が非常に小さく、組
成が安定した状態となる。つまり、洗浄中の蒸発・揮発
による組成の変化は、非常に小さいものとなっている。
の洗浄剤組成物の場合、その洗浄能力は汚れに対する溶
解能力として示される。一般に溶解能力を推定する尺度
として溶解度パラメーター(以下SP値と称する)が知
られている。また、SP値は化合物の極性に強く影響さ
れる。請求項1の発明の構成成分の脂肪族飽和炭化水素
である2−メチルペンタン、3−メチルペンタン、n−
ヘキサン等の鎖式化合物は、分子構造から極性的にはき
わめて類似した特性を有する。一方、低級アルコール成
分であるメチルアルコール、エチルアルコール、イソプ
ロピルアルコール、n−プロピルアルコールも極性的に
類似した特性を有する。したがって、洗浄能力は、2−
メチルペンタン、3−メチルペンタン、n−ヘキサンを
合計した脂肪族飽和炭化水素とメチルアルコール、エチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、n−プロピル
アルコールを合計した低級アルコールとの組成比に左右
される。
が洗浄剤として適用されるときに、除去対象として、手
脂、マジックインク、ピッチなどのワックス類、松ヤニ
を代表とするフラックス類などが挙げられる。これらの
汚れ成分に対して、手拭き洗浄および浸漬洗浄による洗
浄除去を行なった場合には、前記の低級アルコール成分
の組成が10重量%未満では手脂、マジックインク、松
ヤニに対して洗浄能力が不十分となり、手拭き洗浄にお
いて容易に除去できなくなってしまう。したがって、十
分な洗浄能力を得るためには低級アルコール混合物の含
有量が10重量%以上必要である。さらに容易に洗浄を
行うには、12重量%以上の含有量が望ましい。
説明する。請求項1の発明の光学素子用洗浄剤組成物
は、被洗浄物の材質として金属、ガラス、セラミックス
および熱可塑性樹脂等の各種プラスチック・エラストマ
ー類へ適用される。これらの材質について、浸漬や手拭
き洗浄後の侵食性は、低級アルコール成分の含有量に依
存しており、金属、ガラス類では低級アルコール成分が
5〜50重量%の範囲の組成比では、全く変化が見られ
ず、洗浄剤組成物による影響はない。また、内部に応力
の残留が少ない熱可塑性樹脂では、やはり低級アルコー
ル成分5〜50重量%の範囲の組成比では、問題がない
が、射出成形などの加工がなされ、内部応力が多く残留
している熱可塑性樹脂製品では低級アルコール混合物の
組成比が35重量%を越えたものでは、クラックの発生
など侵食が見られる場合がある。以上のことから幅広く
各種被洗浄物材質に洗浄剤として適用できるようにする
には、低級アルコール混合物の組成比を34重量%以下
しなければならない。種々の製品で残留している応力レ
ベルが異なることを考慮して安全率を見込むと20重量
%以下が望ましい。
は、n−ヘキサン、メチルアルコール、イソプロピルア
ルコール、又はn−プロピルアルコールの合計の含有率
を、本発明の洗浄剤組成物全体の10重量%未満とする
ことで、安全性の確保をおこなうことができる。洗浄剤
組成物の構成成分のうち、n−ヘキサン、イソプロピル
アルコール、メチルアルコールは、日本国の労働安全衛
生法有機溶剤予防規則において、第2種有機溶剤に指定
されている。メチルアルコールは劇毒物としても指定さ
れている。また、n−ヘキサン、メチルアルコール、イ
ソプロピルアルコールおよびn−プロピルアルコールの
許容濃度は、それぞれ50、100、400および20
0ppmであり、その他の構成成分の許容濃度に比較し
て低く、安全性を考慮した場合、これらの成分の合計の
含有量を制限することが好ましい。
は、実質的に水を含有させないように含有水分量を20
00ppm未満としているため、共沸又は共沸様特性を
維持しつつ乾燥後でもシミのない状態が得られ、洗浄品
質の向上が図られ、精密洗浄への適用が可能となってい
る。洗浄剤組成物中に水分の含有が多いと、水は蒸発潜
熱が非常に大きいために、洗浄剤組成物が揮発した後で
も揮発しきれず、被洗浄物表面に粒状に水が残ってしま
う現象が見られる。発明者らの検討では水分含有量が2
000ppm以上含まれた場合では、洗浄・乾燥後に被
洗浄物表面に粒状に水が残り、この水が乾燥すると被洗
浄物表面にシミが発生してしまうことが判明した。水分
の含有量は少ないほどシミの発生を押さえられるので、
望ましくは1000ppm未満がよく、さらに望ましく
は500ppmがよい。組成物中の水分は、吸着剤やモ
レキュラーシーブなどの分子ふるいを本発明の組成物中
にいれることで、水分が吸着除去できるので、この方法
により水分含有量の制御を行ってもよい。
は、沸点120℃以上の成分が1重量%未満でかつ、沸
点170℃以上の成分が1000ppm未満となってい
るので十分に精密洗浄に適用可能である。洗浄剤組成物
の構成成分として用いる脂肪族飽和炭化水素には、製造
法およびその過程において高沸点を有する炭化水素など
が不純物として含有される可能性があり、これらの高沸
点成分の種類および含有量によっては洗浄後に残渣とし
て被洗浄物表面に残る場合が生じる。レンズの光学コー
ティング前の仕上げ洗浄などの精密洗浄において残渣が
発生した場合には、レンズの光学コーティングの剥離な
どの不具合が生じるため、精密洗浄には適用できない。
また、高沸点成分が含まれてくると乾燥速度の低下も生
じる場合が出てくる。発明者らの検討では、沸点が12
0℃以上の成分が1重量%を越えると乾燥時間の遅延が
目立ち始め、沸点170℃以上の成分の含有量が100
0ppmを越えると洗浄・乾燥後に被洗浄物表面に残渣
が残り、精密洗浄への適用が難しくなる。
肪族飽和炭化水素は、炭化水素ガスから直接合成された
ものが好ましい。請求項5の発明の光学素子洗浄方法
は、上記洗浄剤組成物が共沸又は共沸様特性を有するの
で、繊維状物に含浸させ、前記繊維状物により被洗浄物
表面を拭くことでも精密洗浄を達成できる。
化水素または低級アルコール全体の組成比は、蒸発や揮
発が生じても非常に安定しているので、その洗浄能力も
非常に安定しているものとなる。したがって、本発明の
洗浄剤組成物を繊維状物に染み込ませて、手拭き洗浄を
行なった場合には、繊維状物から本発明の洗浄剤組成物
が揮発していっても繊維状物に残っている洗浄剤組成物
の組成はほとんど変化がなく、繊維状物などが乾燥しき
るまで安定した洗浄能力を発揮しながら手拭き洗浄する
ことが可能となる。ここで、洗浄剤組成物を染み込ませ
る繊維状物としては、天然繊維布、合成繊維布、不織布
等の布や、ワイピング紙等の紙が適している。
として、2- メチルペンタン60. 1重量%、3−メチ
ルペンタン36. 2重量%、n−ヘキサン3. 7重量%
で構成される炭化水素混合物を用い、炭素数2〜3の低
級アルコールとして、エチルアルコール85. 5重量
%、イソプロピルアルコール4. 9重量%、n−プロピ
ルアルコール9. 6重量%で構成される低級アルコール
混合物を用いて、炭化水素混合物および低級アルコール
混合物の組成比を変化させたもの(表2では、低級アル
コール混合物の組成比を0、10、15、20、30、
100重量%で行った。)を各々200g調整して混合
組成物とし、これらについて常圧下で単蒸留を行い、初
期蒸留における沸点、初期蒸留組成物組成比(以下、気
相組成比という)、および、初期蒸留組成物を得たとき
の蒸留容器内の混合組成物組成比(以下、液相組成比と
いう)を求めた。結果を表2に示した。ここで初期蒸留
組成物は蒸留液が留出開始してから沸点の上昇が安定し
た時点で採取された蒸留組成物を指している。
5. 5重量%、イソプロピルアルコール4. 9重量%、
n−プロピルアルコール9. 6重量%で構成される低級
アルコール混合物の液相組成比が9. 6〜31. 8重量
%の範囲(エチルアルコール8. 5〜27. 2重量%、
イソプロピルアルコール0. 4〜1. 6重量%、n−プ
ロピルアルコール0. 9〜3. 1重量%に相当する)、
2−メチルペンタン60. 1重量%、3−メチルペンタ
ン36. 2重量%、n−ヘキサン3. 7重量%で構成さ
れる炭化水素混合物の液相組成比が90. 4〜68. 2
重量%の範囲(2-メチルペンタン54. 3〜40重量
%、3−メチルペンタン32. 7〜24.7重量%、n
−ヘキサン3. 3〜2. 5重量%に相当する)では沸点
が55.0〜55. 5℃となり、炭化水素混合物のみの
沸点62. 0℃および低級アルコール混合物のみの沸点
78. 5℃よりも著しい沸点降下現象が見られ、近似的
に共沸状態となっていることが確認された。このように
沸点の低下が見られたことで、洗浄剤組成物として非常
に優れた乾燥性を得ることができた。
合物の液相組成比をX軸(横軸)に、低級アルコール混
合物の気相組成比をY軸(縦軸)にとり、炭化水素混合
物と低級アルコール混合物との混合系における気液平衡
図(X−Y線図)を作製し、共沸組成を求めた。これを
図1に示す。共沸状態においては、液相の組成比と気相
の組成比が同一になることから、X−Y線図と関数Y=
Xの交点が共沸組成となる。したがって、図1のX−Y
線図より共沸組成を求めたところ、低級アルコール混合
物の組成が16. 1重量%、炭化水素混合物の組成が8
3. 9重量%となった。したがって、共沸組成は、2-
メチルペンタン50. 4重量%、3- メチルペンタン3
0. 4%、n−ヘキサン3. 1重量%、エチルアルコー
ル13.7重量%、イソプロピルアルコール0. 8重量
%、n−プロピルアルコール1.6重量%であることが
判明した。
組成物を100g調整し、常圧下で単蒸留を行なって経
時的に蒸留液およびそのときの残留液(液相)を採取
し、その組成変化を求めた。組成比の決定は、ガスクロ
マトグラフにより検量線を用いておこなった。ガスクロ
マトグラフの測定条件は、ガスクロマトグラフ本体;
(株)島津製作所製GC−14B、カラム;ヒューレッ
トパッカード社製DB−1(内径0. 53mm、長さ3
0m)、検出器;FID、注入口温度210℃、検出器
温度230℃、カラム温度;初期40℃(ホールド時間
2. 5分)、昇温速度;10℃毎分、最終到達温度20
0℃で行なった。結果を表3および表4に示した。表3
中で、横には蒸留液のサンプリングのタイミングを、縦
には各構成成分の組成比の分析結果、および、低級アル
コールと炭化水素のそれぞれの合計の組成比(単位;重
量%)を示す。また、表4中で、横には蒸留残留液(液
相)のサンプリングのタイミングを、縦には各構成成分
の組成比の分析結果、および、低級アルコールと炭化水
素のそれぞれの合計の組成比(単位;重量%)を示す。
蒸留液の組成の変化は、蒸留終了までで0. 4重量%の
幅の変化であり、また、各蒸留液採取時の蒸留残留液の
組成変化は、蒸留終了までで4. 7重量%の幅の変化で
あり、非常に組成安定性が高いことが確認された。
素として、2−メチルペンタン97. 3重量%、n−ヘ
キサン2.7重量%で構成される炭化水素混合物を用
い、炭素数1〜3の低級アルコールとして、エチルアル
コール100重量%で構成される低級アルコール混合物
を用いて、炭化水素混合物および低級アルコール混合物
の組成比を変化させたもの(表5では、低級アルコール
混合物の組成比を0、10、15、20、35、100
重量%で行った。)を各々200g調整して混合組成物
とし、これらについて常圧下で単蒸留を行い、初期蒸留
における沸点、気相組成比、および、液相組成比を求め
た。結果を表5に示した。
00重量%で構成される低級アルコール混合物の液相組
成比が9. 6〜34. 0重量%の範囲では沸点が53.
4〜54. 0℃となり、炭化水素混合物のみの沸点6
0. 5℃および低級アルコール混合物のみの沸点78.
3℃よりも著しい沸点降下現象が見られ、近似的に共沸
状態となっていることが確認された。また、表5の結果
を基に低級アルコール混合物の液相組成比をX軸(横
軸)に、低級アルコール混合物の気相組成比をY軸(縦
軸)にとり、炭化水素混合物と低級アルコール混合物と
の混合系における気液平衡図(X−Y線図)を作製し、
共沸組成を求めた。これを図2に示す。図2のX−Y線
図より共沸組成を求めたところ、低級アルコール混合物
の組成が16. 6重量%、炭化水素混合物の組成が8
3. 4重量%となった。したがって、共沸組成は、2-
メチルペンタン81. 2重量%、n−ヘキサン2. 2重
量%、エチルアルコール16. 6重量%であることが判
明した。
量%、イソプロピルアルコール0. 8重量%、n−プロ
ピルアルコール1. 6重量%、2- メチルペンタン5
0. 3重量%、3-メチルペンタン30. 4重量%、n
−ヘキサン3. 1重量%の組成比の混合物400gを蒸
留フラスコに入れ、SUS306製コイル状充填物(東
京特殊金網製ヘリパック)がつめられた理論段数25段
の精留塔を用いて常圧下で蒸留したところ、沸点53.
0℃の蒸留液が得られた。これを実施例1と同様のガス
クロマトグラフィーの条件により、検量線を用いて組成
を分析したところ、エチルアルコール16. 0重量%、
2- メチルペンタン55. 4重量%、3- メチルペンタ
ン27. 9重量%、n−ヘキサン0. 7重量%であっ
た。この組成物は、含有される成分の沸点よりも低い沸
点を有しており、共沸組成物となっている。
合物および低級アルコール混合物を用いて、炭化水素混
合物および低級アルコール混合物の組成比を変化させた
もの(表6に示すように、低級アルコール混合物の組成
比を5、10、15、20、30、40重量%で行っ
た。)を各々200g調整して混合組成物とした。一
方、スライドガラスに手脂を付着させ、付着後常温常湿
にて24時間放置したもの、スライドガラスを油性マジ
ックインクおよび1, 1, 1- トリクロロエチレンを溶
媒とした40重量%の松ヤニ溶液にディッピングして溶
媒を揮発させたものを用意し、これらに対し、前述の組
成比を変化させた混合組成物をワイピング紙(十條キン
バリー製キムワイプ)に含浸させ、手拭き洗浄を行なっ
た。洗浄性評価は、10回未満の手拭き洗浄で完全に除
去できた場合を「○」、10回以上の手拭き洗浄で除去
できたものを「△」、10回以上の手拭き洗浄でも除去
しきれない場合を「×」として評価を行なった。
物の組成比が10重量%になると手脂、マジックイン
ク、松ヤニのいずれも洗浄除去が困難になる傾向にあ
り、10重量%未満の場合には、マジックインク、松ヤ
ニに対しては、除去できない場合が生じてくる。
れ成分への洗浄性を評価した。比較例としてジエチルエ
ーテル・エチルアルコール混合液およびエチルアルコー
ルについても同様の評価をおこなった。汚れ成分の付着
した被洗浄対象は、松ヤニ、マジックインクは前述の方
法により作成し、ピッチについても1, 1, 1−トリク
ロロエチレンを溶媒とした40重量%のピッチ溶液にス
ライドガラスをディピングして溶媒を揮発させたものを
用意した。エポキシ樹脂に関しては、ビスフェノール系
のエポキシ樹脂(昭和シェル(株)製エピコート)をメ
タルマスクによる印刷法によりスライドガラス表面に厚
さ約0. 5mmに層状に形成したものを用いた。洗浄の
評価は前述と同様にしておこない、結果を表7に示し
た。本発明の組成物1、組成物2、組成物3は、どの汚
れ成分に関しても良好な洗浄結果が得られ、汚れへの適
用範囲が非常に広いことが確認された。
合物および低級アルコール混合物を用いて、組成比を変
化させたもの(表8に示すように、低級アルコール混合
物の組成比を10、15、20、25、30、35、4
0、50重量%で行った。)を用意し、各種材料に対し
て1分間の浸漬試験および手拭き洗浄を行ない、その後
の各種材料の外観変化を観察した。評価は、浸漬試験お
よび手拭き洗浄後で外観変化がない場合を「○」、浸漬
試験後のみに外観変化がみられたものを「△」、浸漬試
験および手拭き洗浄のいずれでも外観変化が見られた場
合を「×」として評価を行なった。
低級アルコール混合物の組成比が10〜50重量%の範
囲では全く問題はなかった。熱可塑性樹脂各種において
も10〜40重量%の範囲では問題なかったが、成型時
の応力が残留しているPMMAでは、低級アルコール混
合物の組成比が35重量%以上の範囲では、手拭き洗浄
でもクラックの発生が見られる場合があった。また、3
0重量%では浸漬試験で若干のクラックの発生が見られ
たが、手拭き洗浄では外観変化は見られなかった。この
ことから、幅広い被洗浄物の材料に適用されるには、洗
浄剤組成物としては、低級アルコール混合物の組成比が
35重量%以下の範囲である必要があることが判明し
た。より好ましくは、30重量%以下であることが望ま
しい。
重量%、3−メチルペンタン36.2重量%、n−ヘキ
サン3. 7重量%で構成され、ガスクロマトグラフィー
で炭素数7以上の成分が含有されていないことが確認さ
れた炭化水素混合物にオクタン(沸点125℃)または
デカン(沸点174℃)を添加量を変化させた混合物を
調整し、この混合物に清浄なスライドガラスを浸漬し
て、10cm毎秒で引き上げて、常温で乾燥させたとき
のスライドガラス上に残留する残渣成分の確認を行なっ
た。表9に示すようにオクタンの添加量は0〜1200
0ppm、また、表10に示すようにデカンの添加量は
0〜1200ppmで行った。評価は、残渣が呼気試験
を行なっても全く見られなかったものを「○」、最終的
な乾燥状態では呼気試験によっても残渣は無いが、乾燥
に遅延傾向があるものを「△」、呼気試験で残渣が確認
されたものを「×」、目視で残渣が確認されたものを
「××」として、評価した。
ンの添加量が1重量%以上になると乾燥に遅延傾向が見
られ、デカンの添加量が1000ppm以上となると残
渣が発生した。以上より、迅速な乾燥を得るには、沸点
120℃以上の成分が1重量%未満がよく、好ましく
は、0. 8重量%以下、安全率を見てより好ましくは、
0. 5重量%以下がよい。また、残渣の発生を抑制する
には、沸点170℃以上の成分が1000ppm未満が
よく、好ましくは800ppm以下、より好ましくは5
00ppm以下がよい。
素として、2−メチルペンタン60. 1重量%、3−メ
チルペンタン36. 2重量%、n−ヘキサン3. 7重量
%で構成される炭化水素混合物を用い、炭素数1〜3の
低級アルコールとして、エチルアルコール85. 5重量
%、イソプロピルアルコール13. 4重量%、メチルア
ルコール1. 1重量%で構成される低級アルコール混合
物を用いて、炭化水素混合物および低級アルコール混合
物の組成比を変化させたもの(表11では、低級アルコ
ール混合物の組成比を0、10、15、20、30、1
00重量%で行った。)を各々200g調整して混合組
成物とし、これらについて常圧下で単蒸留を行い、初期
蒸留における沸点、気相組成比、および、液相組成比を
求めた。結果を表11に示した。
85. 5重量%、イソプロピルアルコール13. 4重量
%、メチルアルコール1. 1重量%で構成される低級ア
ルコール混合物の液相組成比が9. 8〜31. 6重量%
の範囲では沸点が54. 2〜54. 5℃となり、炭化水
素混合物のみの沸点62. 0℃および低級アルコール混
合物のみの沸点78. 5℃よりも著しい沸点降下現象が
見られ、近似的に共沸状態となっていることが確認され
た。また、表11の結果を基に低級アルコール混合物の
液相組成比をX軸(横軸)に、低級アルコール混合物の
気相組成比をY軸(縦軸)にとり、炭化水素混合物と低
級アルコール混合物との混合系における気液平衡図(X
−Y線図)を作製し、共沸組成を求めた。これを図3に
示す。共沸状態においては、液相の組成比と気相の組成
比が同一になることから、X−Y線図と関数Y=Xの交
点が共沸組成となる。したがって、図3のX−Y線図よ
り共沸組成を求めたところ、低級アルコール混合物の組
成が16. 4重量%、炭化水素混合物の組成が83. 6
重量%となった。したがって、共沸組成は、2- メチル
ペンタン49. 5重量%、3- メチルペンタン31. 2
%、n−ヘキサン2. 9重量%、エチルアルコール1
4. 0重量%、イソプロピルアルコール2. 2重量%、
メチルアルコール0. 2重量%であることが判明した。
組成物を100g調整し、常圧下で単蒸留を行なって経
時的に蒸留液およびそのときの残留液(液相)を採取
し、その組成変化を求めた。組成比の決定は、ガスクロ
マトグラフにより検量線を用いておこなった。ガスクロ
マトグラフの測定条件は、実施例1と同様である。結果
を表12および表13に示した。表12中で、横には蒸
留液のサンプリングのタイミングを、縦には各構成成分
の組成比の分析結果、および、低級アルコールと炭化水
素のそれぞれの合計の組成比(単位;重量%)を示す。
また、表13中で、横には蒸留残留液(液相)のサンプ
リングのタイミングを、縦には各構成成分の組成比の分
析結果、および、低級アルコールと炭化水素のそれぞれ
の合計の組成比(単位;重量%)を示す。低級アルコー
ル混合物および炭化水素混合物の蒸留液の組成の変化
は、蒸留前に対して蒸留終了までで0. 6重量%の変化
であり、各蒸留液採取時の蒸留残留液の組成変化は、蒸
留終了までで3. 8重量%の変化となり、非常に組成安
定性が高いことが確認された。
液の欄に示した組成比の混合物400gを蒸留前液とし
て蒸留フラスコに入れ、SUS306製コイル状充填物
(東京特殊金網製ヘリパック)がつめられた理論段数2
5段の精留塔を用いて常圧下で蒸留したところ、表14
〜22に示した組成比の蒸留液が経時的に得られた。表
中で、縦には蒸留液のサンプリングのタイミングを、横
には沸点の観測値、各構成成分の組成比の分析結果、お
よび、低級アルコールと炭化水素のそれぞれの合計の組
成比(単位;重量%)を示す。これらの組成比は、実施
例1と同様のガスクロマトグラフィーの条件により、検
量線を用いて分析を行なった。この蒸留液は、含有され
る成分の沸点よりも低い沸点を有しており、組成比の変
化も小さく、特に低級アルコール成分と炭化水素成分と
の組成比変化は非常に小さくなっていることから、共沸
組成物又は共沸様組成物となっていた。
5重量%、3−メチルペンタン28. 2重量%、n−ヘ
キサン3. 1重量%、エチルアルコール13. 8重量
%、イソプロピルアルコール0. 8重量%、n−プロピ
ルアルコール1. 6重量%の組成の洗浄剤組成物に表2
3に示すように500〜2700ppmの蒸留水を添加
したものを5種類調整し、それぞれをカールフィッシャ
ー水分計により含有水分量の測定を行なった。次に調整
された洗浄剤組成物をそれぞれ100mlビーカーにと
り、清浄なスライドガラスを浸漬後、3cm/分の速度
で引き上げ、乾燥した直後にスライドガラス表面の観察
を目視によりおこなった。評価は、全くシミがなく、清
浄な乾燥表面が得られたものを「○」、粒状の水分の残
留の傾向が見られ、乾燥後にシミの発生がほとんどない
ものを「△」、シミの発生が見られたものを「×」とし
て評価をおこなった。
0ppm以上となると、シミの発生が見られはじめ、清
浄な乾燥表面を得ることが難しくなることが判明した。
このことより、シミのない乾燥表面を得るには、含有水
分量を2000ppm未満とすることが必要となる。好
ましくは、1000ppm以下であり、安全率を見込む
とより好ましくは、500ppm以下がよい。
む炭素数6の脂肪族飽和炭化水素が66〜90重量%
と、エチルアルコールを85重量%以上含む炭素数1〜
3の低級アルコールが10〜34重量%とからなる共沸
又は共沸様特性を示す洗浄剤組成物では、非常に優れた
乾燥性能と充分な洗浄能力を発揮しうるとともに、各種
素材に対する侵食性の低さおよび洗浄中あるいは保管状
態での優れた組成安定性を維持することが可能となる。
イソプロピルアルコール又はn−プロピルアルコールの
含有量の合計が全体の組成に対して10重量%未満であ
る洗浄剤組成物では、安全性の確保をおこなうことがで
きる。また、含有される水分量が2000ppm未満で
ある洗浄剤組成物では、シミの発生を抑制し、洗浄品質
の向上を図ることができる。
0℃以上の成分の含有量の合計が1重量%未満であり、
かつ沸点が170℃以上の成分の含有量の合計が100
0ppm未満である洗浄剤組成物では、優れた低残渣性
と乾燥性の維持を付与することが可能となる。さらに、
2−メチルペンタンを44重量%以上含む炭素数6の脂
肪族飽和炭化水素が66〜90重量%と、エチルアルコ
ールを85重量%以上含む炭素数1〜3の低級アルコー
ルが10〜34重量%とからなる洗浄剤組成物は、共沸
又は共沸様特性を有するので、繊維状物に含浸させて被
洗浄物表面を拭く洗浄方法においても、洗浄剤が布等か
ら揮発することによる組成変化がほとんど無い。そのた
め、布等が乾燥しきるまで安定した洗浄能力を維持しな
がら手拭き洗浄することが可能となる。
る。
る。
る。
Claims (5)
- 【請求項1】 2−メチルペンタンを44重量%以上含
む炭素数6の脂肪族飽和炭化水素が66〜90重量%
と、エチルアルコールを85重量%以上含む炭素数1〜
3の低級アルコールが10〜34重量%とからなる共沸
又は共沸様特性を示す光学素子用洗浄剤組成物。 - 【請求項2】 n−ヘキサン、メチルアルコール、イソ
プロピルアルコール又はn−プロピルアルコールの含有
量の合計が全体の組成に対して10重量%未満であるこ
とを特徴とする請求項1に記載の光学素子用洗浄剤組成
物。 - 【請求項3】 含有される水分量が2000重量ppm
未満であることを特徴とする請求項1乃至2に記載の光
学素子用洗浄剤組成物。 - 【請求項4】 760mmHgにおける沸点が120℃
以上の成分の含有量の合計が1重量%未満であり、かつ
沸点が170℃以上の成分の含有量の合計が1000重
量ppm未満であることを特徴とする請求項1乃至3の
いずれかに記載の光学素子用洗浄剤組成物。 - 【請求項5】 請求項1乃至4のいずれかに記載の光学
素子用洗浄剤組成物を繊維状物に含浸させ、前記繊維状
物により光学素子表面を拭くことにより、該表面の汚れ
を除去して洗浄することを特徴とする光学素子洗浄方
法。
Priority Applications (4)
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| SG1999002855A SG77694A1 (en) | 1995-06-30 | 1996-06-29 | Cleaning agent composition and precision cleaning method |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP16525695A JP3431352B2 (ja) | 1995-06-30 | 1995-06-30 | 光学素子用洗浄剤組成物およびそれを用いる光学素子洗浄方法 |
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Family
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-
1995
- 1995-06-30 JP JP16525695A patent/JP3431352B2/ja not_active Expired - Fee Related
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