JP3433732B2 - 光半導体気密封止容器及び光半導体モジュール並びに光ファイバー増幅器 - Google Patents
光半導体気密封止容器及び光半導体モジュール並びに光ファイバー増幅器Info
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光半導体素子を内
部に収納するための光半導体気密封止容器、及びその光
半導体気密封止容器を用いた光半導体モジュール及び光
ファイバー増幅器に関する。
部に収納するための光半導体気密封止容器、及びその光
半導体気密封止容器を用いた光半導体モジュール及び光
ファイバー増幅器に関する。
【0002】
【従来の技術】光通信を初めとする高速で動作すること
が必要な光エレクトロニクス用の半導体装置、特に光フ
ァイバー増幅器の励起用光源や光半導体増幅器等の半導
体モジュールにおいては、光半導体素子やドライバーI
C等を内部に収納するための気密封止容器が使用されて
いる。
が必要な光エレクトロニクス用の半導体装置、特に光フ
ァイバー増幅器の励起用光源や光半導体増幅器等の半導
体モジュールにおいては、光半導体素子やドライバーI
C等を内部に収納するための気密封止容器が使用されて
いる。
【0003】従来の光半導体気密封止容器においては、
図1及び図2に示すように、一般にコバール等のFe−
Ni−Co合金のような金属からなる枠体1に、Fe−
Ni−Co合金又は42アロイ等のFe−Ni合金、若
しくはCuW等の複合金属材料からなる底板2を固定し
ている。特に消費電力が大きく、放熱性が要求される光
半導体気密封止容器では、CuWの底板2が使用されて
いる。
図1及び図2に示すように、一般にコバール等のFe−
Ni−Co合金のような金属からなる枠体1に、Fe−
Ni−Co合金又は42アロイ等のFe−Ni合金、若
しくはCuW等の複合金属材料からなる底板2を固定し
ている。特に消費電力が大きく、放熱性が要求される光
半導体気密封止容器では、CuWの底板2が使用されて
いる。
【0004】光半導体気密封止容器の側壁部である枠体
1は、上記のごとくコバール等を切削加工や射出成形し
て作製され、通常は複数のセラミックスシートの必要箇
所にメタライズを施したセラミックス端子部3と、コバ
ール製のリード端子4とを備えている。また、枠体1の
一部を絶縁体であるセラミックスで構成して、セラミッ
クス端子部3と一体化した構造のものや、枠体1に設け
た貫通穴にリード端子4を挿通し、ガラス封止して取り
付けた構造のものもある。
1は、上記のごとくコバール等を切削加工や射出成形し
て作製され、通常は複数のセラミックスシートの必要箇
所にメタライズを施したセラミックス端子部3と、コバ
ール製のリード端子4とを備えている。また、枠体1の
一部を絶縁体であるセラミックスで構成して、セラミッ
クス端子部3と一体化した構造のものや、枠体1に設け
た貫通穴にリード端子4を挿通し、ガラス封止して取り
付けた構造のものもある。
【0005】更に、枠体1には、容器の内部と外部で光
を透過させるために光透過窓5が形成してある。光透過
窓5は通常はコバール等のパイプからなり、気密封止の
ためにガラス等の窓材を張り付けている。一部の光半導
体気密封止容器では、ガラス等の窓材を使用せず、枠体
1に光ファイバーを貫通させて、光ファイバーごと半田
ロウ付けで気密封止した光ファイバー透過窓も使用され
ている。尚、この場合には窓枠のパイプのみ容器の枠体
1に接合している。
を透過させるために光透過窓5が形成してある。光透過
窓5は通常はコバール等のパイプからなり、気密封止の
ためにガラス等の窓材を張り付けている。一部の光半導
体気密封止容器では、ガラス等の窓材を使用せず、枠体
1に光ファイバーを貫通させて、光ファイバーごと半田
ロウ付けで気密封止した光ファイバー透過窓も使用され
ている。尚、この場合には窓枠のパイプのみ容器の枠体
1に接合している。
【0006】これらの枠体1、底板2、及びリード端子
4等の各部品は、銀ロウ付けや半田ロウ付けにより接合
されて、光半導体気密封止容器が組立てられる。この光
半導体気密封止容器は、後に蓋体で気密封止を行うため
と、容器の腐食を防ぐため並びに半導体モジュール組立
時の半田付けを容易にするために、通常は全体に金めっ
きが施される。この光半導体気密封止容器の内部に光半
導体素子などを実装した後、最後に容器の枠体1の上端
面にコバール等のリングを介して蓋体(図示せず)が溶
接又は半田ロウ付けにより気密に固定される。
4等の各部品は、銀ロウ付けや半田ロウ付けにより接合
されて、光半導体気密封止容器が組立てられる。この光
半導体気密封止容器は、後に蓋体で気密封止を行うため
と、容器の腐食を防ぐため並びに半導体モジュール組立
時の半田付けを容易にするために、通常は全体に金めっ
きが施される。この光半導体気密封止容器の内部に光半
導体素子などを実装した後、最後に容器の枠体1の上端
面にコバール等のリングを介して蓋体(図示せず)が溶
接又は半田ロウ付けにより気密に固定される。
【0007】半導体モジュールは、上記した光半導体気
密封止容器の内部に、光半導体素子などを実装したもの
である。即ち、図3に示すように、光半導体気密封止容
器の内部に、レーザダイオード(LD)素子6やフォト
ダイオード(PD)素子のような光半導体素子のほか、
これを駆動させるドライバーIC、温度測定用のチップ
サーミスタ等を回路基板7に搭載して実装する。
密封止容器の内部に、光半導体素子などを実装したもの
である。即ち、図3に示すように、光半導体気密封止容
器の内部に、レーザダイオード(LD)素子6やフォト
ダイオード(PD)素子のような光半導体素子のほか、
これを駆動させるドライバーIC、温度測定用のチップ
サーミスタ等を回路基板7に搭載して実装する。
【0008】光半導体素子、特にLD素子は温度により
発振波長が変わるほか、高温では光出力が低下したり、
極端に寿命が短くなり信頼性が悪化する等の不具合があ
る。そこで、温度を制御し且つLD素子等を冷却するた
めに、電子冷却装置が用いられる。電子冷却装置は、図
3に示すように、電極と配線がメタライズされた2枚の
セラミックス板からなる絶縁体基板9の間に、化合物半
導体であるBiTeの結晶又は焼結体で構成された複数
の電子冷却素子(ペルチェ素子)8を挟持した構造を有
している。電子冷却装置の絶縁体基板9としては、一般
にアルミナや窒化アルミニウムが用いられ、特に高放熱
性を必要とする場合や、電子冷却装置の消費電力を抑制
する場合には、熱伝導性の良い窒化アルミニウム(Al
N)が使用される。
発振波長が変わるほか、高温では光出力が低下したり、
極端に寿命が短くなり信頼性が悪化する等の不具合があ
る。そこで、温度を制御し且つLD素子等を冷却するた
めに、電子冷却装置が用いられる。電子冷却装置は、図
3に示すように、電極と配線がメタライズされた2枚の
セラミックス板からなる絶縁体基板9の間に、化合物半
導体であるBiTeの結晶又は焼結体で構成された複数
の電子冷却素子(ペルチェ素子)8を挟持した構造を有
している。電子冷却装置の絶縁体基板9としては、一般
にアルミナや窒化アルミニウムが用いられ、特に高放熱
性を必要とする場合や、電子冷却装置の消費電力を抑制
する場合には、熱伝導性の良い窒化アルミニウム(Al
N)が使用される。
【0009】それぞれの電子冷却素子8は、絶縁体基板
9にメタライズされた配線により電気的に接合され、半
導体気密封止容器との間の電気的結線のために1対のリ
ードを有している。尚、光半導体モジュールの組立て
は、この電子冷却装置を半導体気密封止容器の底板2に
半田付けした後、LD素子6やPD素子のような光半導
体素子及びその他の部品を予め実装しておいた回路基板
7を、電子冷却装置の片方の絶縁体基板9の上に半田ロ
ウ付けにより固定する。
9にメタライズされた配線により電気的に接合され、半
導体気密封止容器との間の電気的結線のために1対のリ
ードを有している。尚、光半導体モジュールの組立て
は、この電子冷却装置を半導体気密封止容器の底板2に
半田付けした後、LD素子6やPD素子のような光半導
体素子及びその他の部品を予め実装しておいた回路基板
7を、電子冷却装置の片方の絶縁体基板9の上に半田ロ
ウ付けにより固定する。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上記のごとく各部が異
種の材料で構成された光半導体気密封止容器は、光半導
体モジュールとして構成された後に、MIL−STDに
記載される−40℃〜+125℃の耐環境試験により、
BiTe素子等の電子冷却素子が特性劣化を起こすこと
があった。この電子冷却素子が特性劣化は、熱膨張率の
違いによって光半導体気密封止容器の底板や、半導体モ
ジュール内のLD素子やPD素子を実装した回路基板等
が反ることから、ヤング率が低く且つ比較的柔らかいB
iTe素子等の電子冷却素子に熱応力が集中し、結果的
に電子冷却素子にクラックが発生することに起因する。
種の材料で構成された光半導体気密封止容器は、光半導
体モジュールとして構成された後に、MIL−STDに
記載される−40℃〜+125℃の耐環境試験により、
BiTe素子等の電子冷却素子が特性劣化を起こすこと
があった。この電子冷却素子が特性劣化は、熱膨張率の
違いによって光半導体気密封止容器の底板や、半導体モ
ジュール内のLD素子やPD素子を実装した回路基板等
が反ることから、ヤング率が低く且つ比較的柔らかいB
iTe素子等の電子冷却素子に熱応力が集中し、結果的
に電子冷却素子にクラックが発生することに起因する。
【0011】電子冷却素子の特性劣化が起こると、電子
冷却装置の冷却効率が悪化して消費電力が大きくなり、
最悪の場合は自己発熱により光半導体モジュールの温度
制御ができなくなるという問題がある。また、半導体気
密封止容器の底板の反りは、電子冷却装置に欠陥を与え
ない場合であっても、LD素子やPD素子のような光半
導体素子と光ファイバーとの間の光結合を行う光学系の
光軸をずらせやすい。この光軸のずれは、光半導体モジ
ュールの光ファイバー端出力を低下させるという問題が
ある。
冷却装置の冷却効率が悪化して消費電力が大きくなり、
最悪の場合は自己発熱により光半導体モジュールの温度
制御ができなくなるという問題がある。また、半導体気
密封止容器の底板の反りは、電子冷却装置に欠陥を与え
ない場合であっても、LD素子やPD素子のような光半
導体素子と光ファイバーとの間の光結合を行う光学系の
光軸をずらせやすい。この光軸のずれは、光半導体モジ
ュールの光ファイバー端出力を低下させるという問題が
ある。
【0012】これらの問題に対して、例えば、特開平6
−314747号公報には、底板のフランジ部を研削に
より薄くすることにより、反りを緩和吸収する対策が開
示されている。また、特開平6−82659号公報に
は、底板のフランジ部を薄くする代わりに、フランジ部
のみを縦弾性係数の小さな別の金属で構成することによ
り、同等の効果を得ている。しかし、いずれの方法も加
工が難しく、しかも充分な強度を得ることが困難であっ
た。
−314747号公報には、底板のフランジ部を研削に
より薄くすることにより、反りを緩和吸収する対策が開
示されている。また、特開平6−82659号公報に
は、底板のフランジ部を薄くする代わりに、フランジ部
のみを縦弾性係数の小さな別の金属で構成することによ
り、同等の効果を得ている。しかし、いずれの方法も加
工が難しく、しかも充分な強度を得ることが困難であっ
た。
【0013】尚、特開平5−67844号公報には、底
板と電子冷却装置の絶縁体基板とを共用する光半導体モ
ジュールが提案されている。即ち、半導体気密封止容器
の底板をAlN等のセラミックスで構成する方法であ
る。これにより、電子冷却装置の片側の絶縁体基板を省
略することができるため、半導体モジュールの小型化、
特に薄層化が実現される。しかし、この方法では、底板
にネジ止め用の孔部等を加工することが困難なうえ、ネ
ジ止め時に底板の孔部周辺が割れやすいという欠点があ
った。また、半導体モジュールと放熱板をネジ止めした
後にも、放熱板に反りが発生したとき底板が割れやすい
等の問題もあった。
板と電子冷却装置の絶縁体基板とを共用する光半導体モ
ジュールが提案されている。即ち、半導体気密封止容器
の底板をAlN等のセラミックスで構成する方法であ
る。これにより、電子冷却装置の片側の絶縁体基板を省
略することができるため、半導体モジュールの小型化、
特に薄層化が実現される。しかし、この方法では、底板
にネジ止め用の孔部等を加工することが困難なうえ、ネ
ジ止め時に底板の孔部周辺が割れやすいという欠点があ
った。また、半導体モジュールと放熱板をネジ止めした
後にも、放熱板に反りが発生したとき底板が割れやすい
等の問題もあった。
【0014】そこで、本願発明者は、これらの問題を解
決するため、特許第3047864号において、新たな
光半導体気密封止容器を提案した。この光半導体気密封
止容器は、金属、絶縁体、又は金属と絶縁体の複合体か
らなる枠体と、該枠体に固定された金属からなる第1の
底板と、該第1の底板の前記枠体と反対側の表面に固定
され、該第1の底板よりもヤング率が大きい第2の底板
とを備えることを特徴とするものである。しかしなが
ら、この方法は、放熱板に取り付けるため第1の底板の
フランジ部を曲げ加工しなければならず、また第1の底
板から放熱板への放熱が殆ど期待できない。
決するため、特許第3047864号において、新たな
光半導体気密封止容器を提案した。この光半導体気密封
止容器は、金属、絶縁体、又は金属と絶縁体の複合体か
らなる枠体と、該枠体に固定された金属からなる第1の
底板と、該第1の底板の前記枠体と反対側の表面に固定
され、該第1の底板よりもヤング率が大きい第2の底板
とを備えることを特徴とするものである。しかしなが
ら、この方法は、放熱板に取り付けるため第1の底板の
フランジ部を曲げ加工しなければならず、また第1の底
板から放熱板への放熱が殆ど期待できない。
【0015】本発明は、このような従来の事情に鑑み、
底板の反りを低減することができると共に、より一層優
れた放熱特性を有する光半導体気密封止容器、並びにこ
の光半導体気密封止容器を用いることによって、電子冷
却素子の劣化や光軸のずれが起こらない光半導体モジュ
ール及び光ファイバー増幅器を提供することを目的とす
る。
底板の反りを低減することができると共に、より一層優
れた放熱特性を有する光半導体気密封止容器、並びにこ
の光半導体気密封止容器を用いることによって、電子冷
却素子の劣化や光軸のずれが起こらない光半導体モジュ
ール及び光ファイバー増幅器を提供することを目的とす
る。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明が提供する光半導体気密封止容器は、金属、
絶縁体、又は金属と絶縁体の複合体からなる枠体と、枠
体に固定された金属からなる第1の底板と、第1の底板
の前記枠体と反対側の表面に固定され、第1の底板より
もヤング率が大きい第2の底板と、第1の底板の両側か
ら突き出たフランジ部の第2の底板側の表面に固定され
た金属製のブロック板とを備え、該ブロック板の表面と
前記第2の底板の表面との間に0.3mm以下の段差を
有することを特徴とする。
め、本発明が提供する光半導体気密封止容器は、金属、
絶縁体、又は金属と絶縁体の複合体からなる枠体と、枠
体に固定された金属からなる第1の底板と、第1の底板
の前記枠体と反対側の表面に固定され、第1の底板より
もヤング率が大きい第2の底板と、第1の底板の両側か
ら突き出たフランジ部の第2の底板側の表面に固定され
た金属製のブロック板とを備え、該ブロック板の表面と
前記第2の底板の表面との間に0.3mm以下の段差を
有することを特徴とする。
【0017】上記本発明の光半導体気密封止容器におい
ては、前記ブロック板が略コ字形の形状を有し、前記第
1の底板のフランジ部に固定されたブロック板と、前記
第1の底板、第2の底板、及び枠体との間に光透過窓の
溶接用隙間が形成されていることを特徴とする。
ては、前記ブロック板が略コ字形の形状を有し、前記第
1の底板のフランジ部に固定されたブロック板と、前記
第1の底板、第2の底板、及び枠体との間に光透過窓の
溶接用隙間が形成されていることを特徴とする。
【0018】また、上記本発明の光半導体気密封止容器
においては、前記第1の底板と前記ブロック板はヤング
率が15×103kg/mm2以下であり、且つ前記第
2の底板はヤング率が25×103kg/mm2以上で
あることを特徴とする。具体的には、前記第2の底板
は、窒化アルミニウム又は炭化ケイ素を90%以上含有
する抗折力が25kg/mm2以上のセラミックスから
なる。また、前記第1の底板と前記ブロック板は、銅、
Fe−Ni−Co合金、又はFe−Ni合金からなる。
においては、前記第1の底板と前記ブロック板はヤング
率が15×103kg/mm2以下であり、且つ前記第
2の底板はヤング率が25×103kg/mm2以上で
あることを特徴とする。具体的には、前記第2の底板
は、窒化アルミニウム又は炭化ケイ素を90%以上含有
する抗折力が25kg/mm2以上のセラミックスから
なる。また、前記第1の底板と前記ブロック板は、銅、
Fe−Ni−Co合金、又はFe−Ni合金からなる。
【0019】本発明が提供する光半導体モジュール及び
光ファイバー増幅器は、上記本発明の光半導体気密封止
容器の内部に、回路基板上に実装された少なくとも一つ
の光半導体素子を収納したものである。この光半導体モ
ジュール及び光ファイバー増幅器は、容器の第1の底板
と回路基板との間に、一対の絶縁体基板で挟持されたペ
ルチェ素子からなる電子冷却装置を備えることができ
る。
光ファイバー増幅器は、上記本発明の光半導体気密封止
容器の内部に、回路基板上に実装された少なくとも一つ
の光半導体素子を収納したものである。この光半導体モ
ジュール及び光ファイバー増幅器は、容器の第1の底板
と回路基板との間に、一対の絶縁体基板で挟持されたペ
ルチェ素子からなる電子冷却装置を備えることができ
る。
【0020】
【発明の実施の形態】本発明の光半導体気密封止容器
は、図4〜6に一具体例を示すように、枠体1に固定さ
れる底板が、枠体1に直接固定された金属からなる第1
の底板11と、第1の板11の枠体1と反対側の表面に
固定された第2の底板12との2層構造からなると共
に、第1の底板11の両側から突き出たフランジ部11
aにおける第2の底板12側の表面に、金属製のブロッ
ク板13が固定してある。尚、第1の底板11のフラン
ジ部11aと、これに固定するブロック板13には、放
熱板(図示せず)に取り付けるため、これらを連通した
ネジ止め用の孔部11bや切欠部11cを設けてある。
は、図4〜6に一具体例を示すように、枠体1に固定さ
れる底板が、枠体1に直接固定された金属からなる第1
の底板11と、第1の板11の枠体1と反対側の表面に
固定された第2の底板12との2層構造からなると共
に、第1の底板11の両側から突き出たフランジ部11
aにおける第2の底板12側の表面に、金属製のブロッ
ク板13が固定してある。尚、第1の底板11のフラン
ジ部11aと、これに固定するブロック板13には、放
熱板(図示せず)に取り付けるため、これらを連通した
ネジ止め用の孔部11bや切欠部11cを設けてある。
【0021】本発明において、第1の底板11のフラン
ジ部11aに金属製のブロック板13を固定することに
より、第1の底板11と放熱板との接触面積を増大させ
ることができる。即ち、従来の第1の底板は第2の底板
との段差分だけ折り曲げ加工したフランジ部の一部のみ
で放熱板と接していたのに対し、本発明ではフラットで
フランジ部11aよりも表面積の大きいブロック板13
を通して放熱板と接することになるため、第1の底板1
1のフランジ部11aから放熱板に伝わる熱が従来より
も増え、全体として放熱特性を向上させることができ
る。
ジ部11aに金属製のブロック板13を固定することに
より、第1の底板11と放熱板との接触面積を増大させ
ることができる。即ち、従来の第1の底板は第2の底板
との段差分だけ折り曲げ加工したフランジ部の一部のみ
で放熱板と接していたのに対し、本発明ではフラットで
フランジ部11aよりも表面積の大きいブロック板13
を通して放熱板と接することになるため、第1の底板1
1のフランジ部11aから放熱板に伝わる熱が従来より
も増え、全体として放熱特性を向上させることができ
る。
【0022】また、フランジ部11aの第2の底板12
側にブロック板13を固定することによって、第1の底
板11と第2の底板12との段差を減少し又は無くすこ
とができるため、第1の底板11がフラットな平板のま
まであっても簡単に放熱板に取り付けることができる。
しかも、従来のごとく段差を無くすように第1の底板1
1を折り曲げる必要がないため、第2の底板12や枠体
1等への亀裂の発生を防止できる。特に、図5に示すよ
うに、ブロック板13の表面と第2の底板12の表面と
の間の段差Aを0.3mm以下とすることにより、第2
の底板12と放熱板との密着性を高めることができる。
側にブロック板13を固定することによって、第1の底
板11と第2の底板12との段差を減少し又は無くすこ
とができるため、第1の底板11がフラットな平板のま
まであっても簡単に放熱板に取り付けることができる。
しかも、従来のごとく段差を無くすように第1の底板1
1を折り曲げる必要がないため、第2の底板12や枠体
1等への亀裂の発生を防止できる。特に、図5に示すよ
うに、ブロック板13の表面と第2の底板12の表面と
の間の段差Aを0.3mm以下とすることにより、第2
の底板12と放熱板との密着性を高めることができる。
【0023】第1の底板11に固定したブロック板13
は、図5に示すように、第2の底板12の最近接部との
間に、少なくとも0.1mmの隙間Bを設けることが好
ましい。この隙間Bによって、第1の底板11を放熱板
に取り付ける際に、そのフランジ部11aが段差Aの分
だけ容易に湾曲でき、より高い密着性を得ることができ
る。尚、後述するように光透過窓5を枠体1に固定する
には一般にレーザ溶接を用いるが、このレーザ溶接を支
障なく実施するためには、ブロック板13と、フランジ
部11aを含めた第1の底板11、第2の底板12、及
び枠体1との間にある程度の隙間が必要である。そのた
め、上記隙間Bを溶接可能な程度に広くするか、若しく
は図6に示すようにブロック板13を略コ字形の形状に
加工して、ブロック板13と、第1の底板11、第2の
底板12、及び枠体1との間に溶接用隙間14を設ける
ことが好ましい。
は、図5に示すように、第2の底板12の最近接部との
間に、少なくとも0.1mmの隙間Bを設けることが好
ましい。この隙間Bによって、第1の底板11を放熱板
に取り付ける際に、そのフランジ部11aが段差Aの分
だけ容易に湾曲でき、より高い密着性を得ることができ
る。尚、後述するように光透過窓5を枠体1に固定する
には一般にレーザ溶接を用いるが、このレーザ溶接を支
障なく実施するためには、ブロック板13と、フランジ
部11aを含めた第1の底板11、第2の底板12、及
び枠体1との間にある程度の隙間が必要である。そのた
め、上記隙間Bを溶接可能な程度に広くするか、若しく
は図6に示すようにブロック板13を略コ字形の形状に
加工して、ブロック板13と、第1の底板11、第2の
底板12、及び枠体1との間に溶接用隙間14を設ける
ことが好ましい。
【0024】加えて、本発明の光半導体気密封止容器に
おいては、特許第3047864号と同様に、底板を2
層構造にし且つ第2の底板12のヤング率を第1の底板
11のヤング率よりも大きくすることによって、底板の
反りの主要因となる応力歪みが金属からなる第1の底板
11に吸収されるので、第2の底板12には反りが発生
せず、その平坦度を維持することができる。その結果、
光半導体モジュールとしたとき、温度変化による電子冷
却素子の劣化を防ぎ、光学系の光軸のずれも発生しなく
なる。
おいては、特許第3047864号と同様に、底板を2
層構造にし且つ第2の底板12のヤング率を第1の底板
11のヤング率よりも大きくすることによって、底板の
反りの主要因となる応力歪みが金属からなる第1の底板
11に吸収されるので、第2の底板12には反りが発生
せず、その平坦度を維持することができる。その結果、
光半導体モジュールとしたとき、温度変化による電子冷
却素子の劣化を防ぎ、光学系の光軸のずれも発生しなく
なる。
【0025】即ち、一般に底板の熱膨張係数が枠体の熱
膨張係数よりも大きいと、半導体気密封止容器組立時の
ロウ付け後に自然に張力が働く。これは、ロウ付け温度
の800℃程度の高温で枠体よりも底板が大きく伸びて
おり、ロウ材が固化した後に常温に冷却すると相対的に
底板の収縮率が大きくなるからである。この張力が反り
の原因でもあるが、底板として第2の底板と共に薄くて
ヤング率の小さな柔らかい金属からなる第1の底板を介
在させた本発明では、冷却後に第1の底板が反らずに太
鼓の膜の様に逆に平坦面を得ることができる。この第1
の底板にヤング率の大きな第2の底板を固定することに
より、第2の底板の平坦度が容器組立後も維持されるの
である。
膨張係数よりも大きいと、半導体気密封止容器組立時の
ロウ付け後に自然に張力が働く。これは、ロウ付け温度
の800℃程度の高温で枠体よりも底板が大きく伸びて
おり、ロウ材が固化した後に常温に冷却すると相対的に
底板の収縮率が大きくなるからである。この張力が反り
の原因でもあるが、底板として第2の底板と共に薄くて
ヤング率の小さな柔らかい金属からなる第1の底板を介
在させた本発明では、冷却後に第1の底板が反らずに太
鼓の膜の様に逆に平坦面を得ることができる。この第1
の底板にヤング率の大きな第2の底板を固定することに
より、第2の底板の平坦度が容器組立後も維持されるの
である。
【0026】このように、第1の底板に応力歪みを吸収
させ、第2の底板の平坦度を維持するためには、第2の
底板のヤング率を第1の底板のヤング率よりも大きくす
ることが必要である。そのため、MIL−STDの環境
試験温度及びLDモジュール製造時の半田付け温度を考
慮した−40℃〜+250℃の温度範囲で、第1の底板
のヤング率が15×103kg/mm2以下、且つ第2
の底板のヤング率が25×103kg/mm2以上であ
ることが好ましい。また、第1の底板のフランジ部に固
定するブロック板13のヤング率も、第1の底板と同様
に15×103kg/mm2以下であることが好まし
い。
させ、第2の底板の平坦度を維持するためには、第2の
底板のヤング率を第1の底板のヤング率よりも大きくす
ることが必要である。そのため、MIL−STDの環境
試験温度及びLDモジュール製造時の半田付け温度を考
慮した−40℃〜+250℃の温度範囲で、第1の底板
のヤング率が15×103kg/mm2以下、且つ第2
の底板のヤング率が25×103kg/mm2以上であ
ることが好ましい。また、第1の底板のフランジ部に固
定するブロック板13のヤング率も、第1の底板と同様
に15×103kg/mm2以下であることが好まし
い。
【0027】このような第2の底板の具体的な材質とし
ては、窒化アルミニウム(AlN)又は炭化ケイ素(S
iC)を90%以上含有するセラミックスがある。ヤン
グ率が25×103kg/mm2よりも小さなセラミッ
クスでは、金属からなる第1の底板に応力歪みを十分に
押しつけることができず、セラミックスからなる第2の
底板自体が反ってしまう。特にAlNはアルミナに比較
して熱伝導率が高いことから、高出力タイプに適してい
る。また、第2の底板は、亀裂や欠損等を生じさせない
ために、抗折力が25×103kg/mm2以上のセラ
ミックスが好ましい。尚、第2の底板の厚みは特に限定
されないが、通常は0.3〜1.5mm程度の厚みが好ま
しい。
ては、窒化アルミニウム(AlN)又は炭化ケイ素(S
iC)を90%以上含有するセラミックスがある。ヤン
グ率が25×103kg/mm2よりも小さなセラミッ
クスでは、金属からなる第1の底板に応力歪みを十分に
押しつけることができず、セラミックスからなる第2の
底板自体が反ってしまう。特にAlNはアルミナに比較
して熱伝導率が高いことから、高出力タイプに適してい
る。また、第2の底板は、亀裂や欠損等を生じさせない
ために、抗折力が25×103kg/mm2以上のセラ
ミックスが好ましい。尚、第2の底板の厚みは特に限定
されないが、通常は0.3〜1.5mm程度の厚みが好ま
しい。
【0028】一方、第1の底板及びブロック板の材質と
しては、銅、コバール等のFe−Ni−Co合金、又は
24アロイ等のFe−Ni合金が好ましい。Fe−Ni
−Co合金又はFe−Ni合金はセラミックスからなる
第2の底板と熱膨張率が近い点で有望であり、またC
u、特に純銅は熱膨張率が第2の底板とは大きく異なる
ものの、ヤング率が小さいことから有望である。ヤング
率が15×103kg/mm2よりも大きな金属、例え
ばWやMo等では、薄い金属板の加工が困難であるため
第1の底板として適さない。
しては、銅、コバール等のFe−Ni−Co合金、又は
24アロイ等のFe−Ni合金が好ましい。Fe−Ni
−Co合金又はFe−Ni合金はセラミックスからなる
第2の底板と熱膨張率が近い点で有望であり、またC
u、特に純銅は熱膨張率が第2の底板とは大きく異なる
ものの、ヤング率が小さいことから有望である。ヤング
率が15×103kg/mm2よりも大きな金属、例え
ばWやMo等では、薄い金属板の加工が困難であるため
第1の底板として適さない。
【0029】第1の底板の厚みは、0.3〜1.2mmが
好ましい。その理由は、枠体と第1の底板の熱膨張率が
異なる場合には、800℃程度の高温でのロウ付け時に
容器に反りが生じやすいが、この反りを減らすために第
1の底板の厚みを1.2mm以下に薄くすることが有効
なためである。また、第1の底板の厚みが0.3mm未
満でも、反りが増えるため好ましくない。尚、ブロック
板の厚みは、第2の底板の厚みと、その第2の底板との
段差Aに応じて定めることができる。
好ましい。その理由は、枠体と第1の底板の熱膨張率が
異なる場合には、800℃程度の高温でのロウ付け時に
容器に反りが生じやすいが、この反りを減らすために第
1の底板の厚みを1.2mm以下に薄くすることが有効
なためである。また、第1の底板の厚みが0.3mm未
満でも、反りが増えるため好ましくない。尚、ブロック
板の厚みは、第2の底板の厚みと、その第2の底板との
段差Aに応じて定めることができる。
【0030】第1の底板と第2の底板、及び第1の底板
のフランジ部とブロック板は、それぞれ積層し、ロウ材
等を用いて互いに接合固定する。第1の底板がCuやF
e−Ni−Co合金又はFe−Ni合金であり、ロウ材
に銀ロウを用いた場合、第1の底板と銀ロウの合金化が
起こって歪みを生じることがあるが、Ni又はNiBめ
っきを予め第1の底板に施しておくことにより回避する
ことができる。一方、第2の底板の表層にも、ロウ材の
濡れ性を良くするためにNi又はNiBめっきを施すこ
とが好ましい。第2の底板がセラミックス等からなる場
合は、最初にメタライズ層としてW、Mo、Pt、Ti
等の1種以上の層を形成し、その上にNi又はNiBめ
っきを施す。Ni又はNiBのめっき厚は1.5〜3μ
mの範囲が好ましい。
のフランジ部とブロック板は、それぞれ積層し、ロウ材
等を用いて互いに接合固定する。第1の底板がCuやF
e−Ni−Co合金又はFe−Ni合金であり、ロウ材
に銀ロウを用いた場合、第1の底板と銀ロウの合金化が
起こって歪みを生じることがあるが、Ni又はNiBめ
っきを予め第1の底板に施しておくことにより回避する
ことができる。一方、第2の底板の表層にも、ロウ材の
濡れ性を良くするためにNi又はNiBめっきを施すこ
とが好ましい。第2の底板がセラミックス等からなる場
合は、最初にメタライズ層としてW、Mo、Pt、Ti
等の1種以上の層を形成し、その上にNi又はNiBめ
っきを施す。Ni又はNiBのめっき厚は1.5〜3μ
mの範囲が好ましい。
【0031】第1の底板と第2の底板とブロック板を組
合わせるに際しては、放熱板へのネジ止め等を考慮し
て、各形状を定めることができる。尚、ネジ止め用の孔
部や切欠部等は、加工が簡単な金属からなる第1の底板
のフランジ部及びブロック板に設けることが好ましい。
金属からなる第1の底板及びブロック板は、容易にエッ
チング加工やパンチ加工が可能であり、場所によっては
ハーフエッチングも可能である。尚、第1の底板へのハ
ーフエッチングによる窪み部の形成は、枠体の組み込み
時や電子冷却装置の実装時の位置ずれを防止する効果が
あり、実装工程の歩留まり率を上げることができる。
合わせるに際しては、放熱板へのネジ止め等を考慮し
て、各形状を定めることができる。尚、ネジ止め用の孔
部や切欠部等は、加工が簡単な金属からなる第1の底板
のフランジ部及びブロック板に設けることが好ましい。
金属からなる第1の底板及びブロック板は、容易にエッ
チング加工やパンチ加工が可能であり、場所によっては
ハーフエッチングも可能である。尚、第1の底板へのハ
ーフエッチングによる窪み部の形成は、枠体の組み込み
時や電子冷却装置の実装時の位置ずれを防止する効果が
あり、実装工程の歩留まり率を上げることができる。
【0032】また、第1の底板の中央部には、絶縁体基
板に電子冷却素子を搭載した電子冷却装置を嵌め込む位
置決め用の穴部又は窪み部を設けることができる。これ
により電子冷却装置の位置決めが簡単になるうえ、特に
位置決め用の穴部を穿設した場合には、第1の底板がコ
バールや42アロイのように低熱伝導率の金属からなる
場合であっても、電子冷却装置が穴部を通って放熱板に
直接接するため放熱性が向上する利点がある。
板に電子冷却素子を搭載した電子冷却装置を嵌め込む位
置決め用の穴部又は窪み部を設けることができる。これ
により電子冷却装置の位置決めが簡単になるうえ、特に
位置決め用の穴部を穿設した場合には、第1の底板がコ
バールや42アロイのように低熱伝導率の金属からなる
場合であっても、電子冷却装置が穴部を通って放熱板に
直接接するため放熱性が向上する利点がある。
【0033】一方、第2の底板となるセラミックスは、
複雑形状を高精度にて製作することは困難であるが、こ
こで使用するようなセラミックスの平板、又は電子冷却
装置の搭載部に窪みを有するセラミックス板等は、押し
出し成形技術により簡単に且つ低コストで製作すること
が可能である。
複雑形状を高精度にて製作することは困難であるが、こ
こで使用するようなセラミックスの平板、又は電子冷却
装置の搭載部に窪みを有するセラミックス板等は、押し
出し成形技術により簡単に且つ低コストで製作すること
が可能である。
【0034】このようにして積層固定された第1の底板
と第2の底板は、その第1の底板の上に枠体をロウ付け
等により固定して、例えば図4に示すような光半導体気
密封止容器とする。尚、枠体としては、通常のごとく金
属、セラミックスのような絶縁体、及び金属と絶縁体の
複合体を用いることができる。この光半導体気密封止容
器には、従来と同様に、電子冷却装置を実装(図3参
照)し、更に図7に示すように、光半導体素子6等を取
り付けた回路基板7を電子冷却装置の上に実装した後、
上端開口部を蓋体(図示せず)で気密封止して、光半導
体モジュール及び光ファイバー増幅器を構成する。
と第2の底板は、その第1の底板の上に枠体をロウ付け
等により固定して、例えば図4に示すような光半導体気
密封止容器とする。尚、枠体としては、通常のごとく金
属、セラミックスのような絶縁体、及び金属と絶縁体の
複合体を用いることができる。この光半導体気密封止容
器には、従来と同様に、電子冷却装置を実装(図3参
照)し、更に図7に示すように、光半導体素子6等を取
り付けた回路基板7を電子冷却装置の上に実装した後、
上端開口部を蓋体(図示せず)で気密封止して、光半導
体モジュール及び光ファイバー増幅器を構成する。
【0035】この光半導体モジュール及び光ファイバー
増幅器の構成に際して、光半導体素子搭載用の回路基板
と、電子冷却装置の絶縁体基板と、半導体気密封止容器
の第2の底板との熱膨張率の差を±1×10−6/℃以
下にすることが好ましい。これによって、MIL−ST
Dの環境試験における−40℃〜+125℃のヒートサ
イクルの温度変化において、電子冷却素子の上下間でも
反りがなくなり、更に内部に組み込まれた電子冷却素子
の劣化を防止でき、光学系の光軸ずれも起こらない光半
導体モジュール及び光ファイバー増幅器が得られる。
増幅器の構成に際して、光半導体素子搭載用の回路基板
と、電子冷却装置の絶縁体基板と、半導体気密封止容器
の第2の底板との熱膨張率の差を±1×10−6/℃以
下にすることが好ましい。これによって、MIL−ST
Dの環境試験における−40℃〜+125℃のヒートサ
イクルの温度変化において、電子冷却素子の上下間でも
反りがなくなり、更に内部に組み込まれた電子冷却素子
の劣化を防止でき、光学系の光軸ずれも起こらない光半
導体モジュール及び光ファイバー増幅器が得られる。
【0036】
【実施例】図4に示す光半導体気密封止容器を作製し
た。即ち、枠体1としてコバール板を使用し、第1の底
板11及びブロック板13として通常の半導体モジュー
ルの組立温度範囲である−40℃〜+250℃における
ヤング率が15×103kg/mm2以下の銅板を使用
した。第2の底板12としては、ヤング率が25×10
3kg/mm2以上、抗析力が25kg/mm2以上で
あり、熱膨張率が4.5×10−6/℃、熱伝導率が1
50W/m・Kであって、AlN含有量が90%以上の
AlNセラミックス板を使用した。
た。即ち、枠体1としてコバール板を使用し、第1の底
板11及びブロック板13として通常の半導体モジュー
ルの組立温度範囲である−40℃〜+250℃における
ヤング率が15×103kg/mm2以下の銅板を使用
した。第2の底板12としては、ヤング率が25×10
3kg/mm2以上、抗析力が25kg/mm2以上で
あり、熱膨張率が4.5×10−6/℃、熱伝導率が1
50W/m・Kであって、AlN含有量が90%以上の
AlNセラミックス板を使用した。
【0037】第1の底板11は、フラットな上記銅板を
パンチ加工し、図6に示すように、ネジ止め用の孔部1
1bと切欠部11cを有する各フランジ部11aを両側
に形成し、更に中央部には後に搭載する電子冷却装置の
位置決め用穴部11dを形成した。AlNセラミックス
の第2の底板12には、第1の底板11の位置決め用穴
部11dに対応して、中央部表面に窪み部を設けた。次
に、銅からなる第1の底板11に、Niめっきを施し
た。また、AlNセラミックスからなる第2の底板12
には、1つの層が500nm以下のW/Niのメタライ
ズ層をスパッタ蒸着した後、更にその上にNiめっきを
施した。尚、メタライズ層のW/Niの代りに、Ti/
Pt/Ni、Ti/Pd/Ni、Ti/Mo/Ni、T
i/W/Niなどを使用しても良い。
パンチ加工し、図6に示すように、ネジ止め用の孔部1
1bと切欠部11cを有する各フランジ部11aを両側
に形成し、更に中央部には後に搭載する電子冷却装置の
位置決め用穴部11dを形成した。AlNセラミックス
の第2の底板12には、第1の底板11の位置決め用穴
部11dに対応して、中央部表面に窪み部を設けた。次
に、銅からなる第1の底板11に、Niめっきを施し
た。また、AlNセラミックスからなる第2の底板12
には、1つの層が500nm以下のW/Niのメタライ
ズ層をスパッタ蒸着した後、更にその上にNiめっきを
施した。尚、メタライズ層のW/Niの代りに、Ti/
Pt/Ni、Ti/Pd/Ni、Ti/Mo/Ni、T
i/W/Niなどを使用しても良い。
【0038】ネジ止め用の孔部11bを有するフランジ
部11aに固定するブロック板13は、溶接用隙間14
を形成できるようにコ字形に加工し、ネジ止め用の孔部
11bに合わせて穿孔した。また、切欠部11cを有す
る各フランジ部11aに固定するブロック板13には、
切欠部11cに一致する切欠を設けた。このブロック板
13の厚みは0.7mmとし、第1の底板11の厚みは
0.8mm及び第2の底板12の厚みは1.0mmとし
た。従って、第2の底板12とブロック板13の段差A
は0.3mmである。また、ブロック板13と第2の底
板12の最近接部との隙間Bは0.3mmに設定した。
部11aに固定するブロック板13は、溶接用隙間14
を形成できるようにコ字形に加工し、ネジ止め用の孔部
11bに合わせて穿孔した。また、切欠部11cを有す
る各フランジ部11aに固定するブロック板13には、
切欠部11cに一致する切欠を設けた。このブロック板
13の厚みは0.7mmとし、第1の底板11の厚みは
0.8mm及び第2の底板12の厚みは1.0mmとし
た。従って、第2の底板12とブロック板13の段差A
は0.3mmである。また、ブロック板13と第2の底
板12の最近接部との隙間Bは0.3mmに設定した。
【0039】その後、この第1の底板11と第2の底板
12と枠体1とを重ね合わせ、第1の底板11の両側の
フランジ部11aにブロック板13をそれぞれ載置する
と共に、図4に示すように、枠体1に複数のセラミック
スシートからなるセラミックス端子部3と、コバールか
らなる複数のリード端子4と、コバールのシーム溶接用
のリングと、コバールからなる光透過窓5用の円形パイ
プ枠を組み付け、同時に銀ロウ付けした。これらを同時
接合することによって、低コスト化が図れるほか、放熱
特性も向上する。この後、光透過窓5用のガラスを張り
付け、全体に金めっきを施して、光半導体気密封止容器
を完成させた。
12と枠体1とを重ね合わせ、第1の底板11の両側の
フランジ部11aにブロック板13をそれぞれ載置する
と共に、図4に示すように、枠体1に複数のセラミック
スシートからなるセラミックス端子部3と、コバールか
らなる複数のリード端子4と、コバールのシーム溶接用
のリングと、コバールからなる光透過窓5用の円形パイ
プ枠を組み付け、同時に銀ロウ付けした。これらを同時
接合することによって、低コスト化が図れるほか、放熱
特性も向上する。この後、光透過窓5用のガラスを張り
付け、全体に金めっきを施して、光半導体気密封止容器
を完成させた。
【0040】得られた光半導体気密封止容器を用いて、
図7に示す光半導体モジュールを製作した。まず、半導
体気密封止容器の第1の底板11上に、電子冷却装置を
通常のごとく実装した。この電子冷却装置は、ペルチェ
素子である複数のBiTe素子を2枚の絶縁体基板で挟
持した通常のものであり、絶縁体基板は光半導体気密封
止容器の第2の底板12と同じAlNセラミックスを使
用した。
図7に示す光半導体モジュールを製作した。まず、半導
体気密封止容器の第1の底板11上に、電子冷却装置を
通常のごとく実装した。この電子冷却装置は、ペルチェ
素子である複数のBiTe素子を2枚の絶縁体基板で挟
持した通常のものであり、絶縁体基板は光半導体気密封
止容器の第2の底板12と同じAlNセラミックスを使
用した。
【0041】また、実装用の光半導体モジュール内部の
回路基板7としては、絶縁体であればAlNセラミック
ス以外の材質、例えばアルミナでも良いが、上記電子冷
却装置の絶縁体基板との熱膨張率の差が±1×10−6
/℃を越えると電子冷却素子の劣化が起きるので、電子
冷却装置の絶縁体基板と同じAlNセラミックスを使用
した。このため、第2の底板12、電子冷却装置の絶縁
体基板、及び実装用の回路基板7の間での熱膨張率差は
0.1×10−6/℃程度しかなく、これは熱膨張率の
測定誤差程度である。
回路基板7としては、絶縁体であればAlNセラミック
ス以外の材質、例えばアルミナでも良いが、上記電子冷
却装置の絶縁体基板との熱膨張率の差が±1×10−6
/℃を越えると電子冷却素子の劣化が起きるので、電子
冷却装置の絶縁体基板と同じAlNセラミックスを使用
した。このため、第2の底板12、電子冷却装置の絶縁
体基板、及び実装用の回路基板7の間での熱膨張率差は
0.1×10−6/℃程度しかなく、これは熱膨張率の
測定誤差程度である。
【0042】このAlNセラミックスからなる回路基板
7の上に、LD素子6とレンズ10とを光軸合わせして
固定した。更に、LD素子6の後ろにはPD素子、及び
LD素子6を変調駆動するためのドライバーIC等を回
路基板7上に実装した。尚、このAlNセラミックスか
らなる回路基板7には、ドライバーICからの高周波信
号の劣化を抑制し、ドライバーICの寿命を延ばして信
頼性を向上させるため、配線をメタライズしてある。ま
た、LD素子6の近傍には温度測定用のチップサーミス
タが実装してある。
7の上に、LD素子6とレンズ10とを光軸合わせして
固定した。更に、LD素子6の後ろにはPD素子、及び
LD素子6を変調駆動するためのドライバーIC等を回
路基板7上に実装した。尚、このAlNセラミックスか
らなる回路基板7には、ドライバーICからの高周波信
号の劣化を抑制し、ドライバーICの寿命を延ばして信
頼性を向上させるため、配線をメタライズしてある。ま
た、LD素子6の近傍には温度測定用のチップサーミス
タが実装してある。
【0043】上記のごとくLD素子6等を実装した回路
基板7を、電子冷却装置の絶縁体基板上に半田付けし
た。電子冷却素子の配線リードは、光半導体気密封止容
器の内側に用意したリード端子に熱圧着で接続した。そ
の他の配線はリボン形状のワイヤボンドにて行った。最
後に、枠体1の解放上端に、金めっきしたコバールの蓋
体(図示せず)をシーム溶接して気密封止した。
基板7を、電子冷却装置の絶縁体基板上に半田付けし
た。電子冷却素子の配線リードは、光半導体気密封止容
器の内側に用意したリード端子に熱圧着で接続した。そ
の他の配線はリボン形状のワイヤボンドにて行った。最
後に、枠体1の解放上端に、金めっきしたコバールの蓋
体(図示せず)をシーム溶接して気密封止した。
【0044】外付けの光ファイバーはジルコニアのセラ
ミックスフェルールに挿入した後、8度の角度を付けて
斜めに研磨した。これは、光ファイバーの端面からの光
反射がLD素子6のノイズに与える影響を減らすためで
ある。このフェルールに円筒形のFe−Ni合金製の外
枠を取り付け、光ファイバーと容器の間には円筒形のF
e−Ni合金製の外枠を付けたアイソレータとレンズを
挿入し、これら全てを光ファイバーに最大限の光が入射
できるように位置合わせした後、溶接用隙間14を通し
てYAGでのレーザ溶接により組立てて、光半導体モジ
ュールとした。更に、Er3+ドープファイバーと光カ
ップラを光結合させて、光ファイバー増幅器を作製し
た。
ミックスフェルールに挿入した後、8度の角度を付けて
斜めに研磨した。これは、光ファイバーの端面からの光
反射がLD素子6のノイズに与える影響を減らすためで
ある。このフェルールに円筒形のFe−Ni合金製の外
枠を取り付け、光ファイバーと容器の間には円筒形のF
e−Ni合金製の外枠を付けたアイソレータとレンズを
挿入し、これら全てを光ファイバーに最大限の光が入射
できるように位置合わせした後、溶接用隙間14を通し
てYAGでのレーザ溶接により組立てて、光半導体モジ
ュールとした。更に、Er3+ドープファイバーと光カ
ップラを光結合させて、光ファイバー増幅器を作製し
た。
【0045】この光ファイバー増幅器は、第1の底板1
1の孔部11b及び切欠部11cを利用して、厚さ3m
m及び縦横200×300mmの放熱板にネジ止めによ
り固定した。その後、この光ファイバー増幅器を−40
℃〜+125℃のヒートサイクル試験に供したところ、
電子冷却素子の劣化も光学系の光軸ずれによる光出力の
低下も観測されなかった。
1の孔部11b及び切欠部11cを利用して、厚さ3m
m及び縦横200×300mmの放熱板にネジ止めによ
り固定した。その後、この光ファイバー増幅器を−40
℃〜+125℃のヒートサイクル試験に供したところ、
電子冷却素子の劣化も光学系の光軸ずれによる光出力の
低下も観測されなかった。
【0046】尚、上記した実施例では、第2の底板とし
てAlNセラミックスを用いたが、SiC含有量が90
%以上のSiCセラミックスを用いても良い。SiCセ
ラミックスは、熱伝導率が130W/m・Kと高熱伝導
であり、熱膨張率が4.2×10−6/℃であって、電
子冷却装置の絶縁体基板であるAlNセラミックスとも
熱膨張率差が0.3×10−6/℃と小さい。また、第
1の底板として、42アロイ又はコバールを使用しても
良い。光半導体モジュール及び光ファイバー増幅器には
電子冷却装置を使用しない場合もあるが、その場合には
実装済みの回路基板を直接容器に接合する。尚、この構
造の光半導体モジュール及び光ファイバー増幅器でも、
本発明によるものは光軸のずれが生じることはなかっ
た。また、本発明により、光ファイバー増幅器の消費電
力を20%抑えることができ、また信頼性も高まった。
てAlNセラミックスを用いたが、SiC含有量が90
%以上のSiCセラミックスを用いても良い。SiCセ
ラミックスは、熱伝導率が130W/m・Kと高熱伝導
であり、熱膨張率が4.2×10−6/℃であって、電
子冷却装置の絶縁体基板であるAlNセラミックスとも
熱膨張率差が0.3×10−6/℃と小さい。また、第
1の底板として、42アロイ又はコバールを使用しても
良い。光半導体モジュール及び光ファイバー増幅器には
電子冷却装置を使用しない場合もあるが、その場合には
実装済みの回路基板を直接容器に接合する。尚、この構
造の光半導体モジュール及び光ファイバー増幅器でも、
本発明によるものは光軸のずれが生じることはなかっ
た。また、本発明により、光ファイバー増幅器の消費電
力を20%抑えることができ、また信頼性も高まった。
【0047】
【発明の効果】本発明によれば、底板の反りをなくすと
共に、放熱板の密着性を高め且つ放熱板との接触面積を
増やすことで、従来よりも一層優れた放熱特性を有する
光半導体気密封止容器を提供することができる。また、
この光半導体気密封止容器を用いることにより、光軸の
ずれによる光出力低下や、電子冷却素子の劣化が起こら
ない光半導体モジュールを提供することができる。ま
た、光ファイバー増幅器の消費電力を抑え、且つ信頼性
を高めることができる。
共に、放熱板の密着性を高め且つ放熱板との接触面積を
増やすことで、従来よりも一層優れた放熱特性を有する
光半導体気密封止容器を提供することができる。また、
この光半導体気密封止容器を用いることにより、光軸の
ずれによる光出力低下や、電子冷却素子の劣化が起こら
ない光半導体モジュールを提供することができる。ま
た、光ファイバー増幅器の消費電力を抑え、且つ信頼性
を高めることができる。
【図1】従来の光半導体気密封止容器の概略の斜視図で
ある。
ある。
【図2】従来の光半導体気密封止容器の概略の断面図で
ある。
ある。
【図3】従来の光半導体モジュールの概略の断面図であ
る。
る。
【図4】本発明の光半導体気密封止容器の一具体例を示
す概略の斜視図である。
す概略の斜視図である。
【図5】図4に示す光半導体気密封止容器の概略の側面
図である。
図である。
【図6】図4に示す光半導体気密封止容器の概略の底面
図である。
図である。
【図7】本発明の光半導体モジュールの一具体例を示す
概略の斜視図である。
概略の斜視図である。
1 枠体
2 底板
3 セラミックス端子部
4 リード端子
5 光透過窓
6 LD素子
7 回路基板
8 電子冷却素子
9 絶縁体基板
10 レンズ
11 第1の底板
11a フランジ部
11b 孔部
11c 切欠部
12 第2の底板
13 ブロック板
14 溶接用隙間
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平5−162386(JP,A)
特開 平10−7052(JP,A)
特開 平6−140460(JP,A)
特開2000−121886(JP,A)
特開 平6−82659(JP,A)
特開 平5−67844(JP,A)
特許3047864(JP,B2)
(58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名)
H01S 5/022
H01L 23/02
Claims (10)
- 【請求項1】 内部に光半導体素子を収納する光半導体
気密封止容器であって、金属、絶縁体、又は金属と絶縁
体の複合体からなる枠体と、枠体に固定された金属から
なる第1の底板と、第1の底板の前記枠体と反対側の表
面に固定され、第1の底板よりもヤング率が大きい第2
の底板と、第1の底板の両側に突き出たフランジ部の第
2の底板側の表面に固定された金属製のブロック板とを
備え、該ブロック板の表面と前記第2の底板の表面との
間に0.3mm以下の段差を有することを特徴とする光
半導体気密封止容器。 - 【請求項2】 前記ブロック板が略コ字形の形状を有
し、前記第1の底板のフランジ部に固定されたブロック
板と、前記第1の底板、第2の底板、及び枠体との間に
光透過窓の溶接用隙間が形成されていることを特徴とす
る、請求項1に記載の光半導体気密封止容器。 - 【請求項3】 前記第1の底板のフランジ部は、放熱板
へのネジ止め用の孔部又は切欠部を備えることを特徴と
する、請求項1又は2に記載の光半導体気密封止容器。 - 【請求項4】 前記第1の底板の中央部に、電子冷却装
置が嵌め込まれる位置決め用の穴部又は窪み部が設けら
れていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに
記載の光半導体気密封止容器。 - 【請求項5】 前記第1の底板と前記ブロック板はヤン
グ率が15×10 3 kg/mm 2 以下であり、且つ前記
第2の底板はヤング率が25×10 3 kg/mm 2 以上
であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記
載の光半導体気密封止容器。 - 【請求項6】 前記第2の底板は、窒化アルミニウム又
は炭化ケイ素を90%以上含有する抗折力が25kg/
mm 2 以上のセラミックスからなることを特徴とする、
請求項1〜5のいずれかに記載の光半導体気密封止容
器。 - 【請求項7】 前記第1の底板と前記ブロック板は、
銅、Fe−Ni−Co合金、又はFe−Ni合金からな
ることを特徴とする、請求項1〜6のいずれかに記載の
光半導体気密封止容器。 - 【請求項8】 前記第1の底板の厚みが0.3〜1.2m
mであることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに
記載の光半導体気密封止容器。 - 【請求項9】 請求項1〜9のいずれかに記載の光半導
体気密封止容器の内部に、回路基板上に実装された少な
くとも一つの光半導体素子が収納されていることを特徴
とする光半導体モジュール及び光ファイバー増幅器。 - 【請求項10】 前記容器の第1の底板と前記回路基板
との間に、一対の絶縁体基板で挟持されたペルチェ素子
からなる電子冷却装置を備えることを特徴とする、請求
項9に記載の光半導体モジュール及び光ファイバー増幅
器。
Priority Applications (4)
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|---|---|---|---|
| JP2000355733A JP3433732B2 (ja) | 2000-11-22 | 2000-11-22 | 光半導体気密封止容器及び光半導体モジュール並びに光ファイバー増幅器 |
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|---|---|---|---|
| JP2000355733A JP3433732B2 (ja) | 2000-11-22 | 2000-11-22 | 光半導体気密封止容器及び光半導体モジュール並びに光ファイバー増幅器 |
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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-
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- 2001-08-03 KR KR10-2001-0046901A patent/KR100436408B1/ko not_active Expired - Fee Related
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