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JP3445191B2 - Method for producing oxazole compound - Google Patents
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JP3445191B2 - Method for producing oxazole compound - Google Patents

Method for producing oxazole compound

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JP3445191B2
JP3445191B2 JP22950099A JP22950099A JP3445191B2 JP 3445191 B2 JP3445191 B2 JP 3445191B2 JP 22950099 A JP22950099 A JP 22950099A JP 22950099 A JP22950099 A JP 22950099A JP 3445191 B2 JP3445191 B2 JP 3445191B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、シクロオキシゲナ
ーゼ−2(COX−2)の選択的阻害作用を有する下記
一般式〔7〕
TECHNICAL FIELD The present invention relates to the following general formula [7] having a selective inhibitory action on cyclooxygenase-2 (COX-2).

【0002】[0002]

【化16】 [Chemical 16]

【0003】(式中、Rは置換されてもよいシクロア
ルキル基、置換されてよいアリール基又は置換されても
よい複素環基であり、Rは低級アルキル基又はハロゲ
ン化低級アルキル基であり、Rはハロゲン原子又は水
素原子である)で示されるオキサゾール化合物の新規製
造方法に関する。本発明はまた、上記一般式〔7〕で示
される化合物を製造するための中間体の製造方法に関す
る。
(Wherein R 1 is an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heterocyclic group, and R 2 is a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group. And R 3 is a halogen atom or a hydrogen atom). The present invention also relates to a method for producing an intermediate for producing the compound represented by the above general formula [7].

【0004】[0004]

【従来の技術】シクロオキシゲナーゼ−2(COX−
2)を選択的に阻害する上記化合物〔7〕は、例えば、
抗炎症剤として有用である。化合物〔7〕の製造方法に
ついては、WO96/19463号明細書で既に具体的
に開示されている。しかしながら、従来の製造方法にお
いては、多くの処理工程を経ることにより、最終生成物
及びそれらの中間体の収率という面では、未だ十分に満
足できるものではなかった。また、各々の各工程で使用
する試薬、溶媒等においては、実験室レベルでは使用可
能であるが、工業生産を考えた場合、使用困難な物質が
あり、実用性に欠けるという問題点があった。
PRIOR ART Cyclooxygenase-2 (COX-
The compound [7] which selectively inhibits 2) is, for example,
It is useful as an anti-inflammatory agent. The method for producing the compound [7] has already been specifically disclosed in WO96 / 19463. However, the conventional production method has not been sufficiently satisfactory in terms of yields of final products and their intermediates due to many processing steps. In addition, reagents, solvents, etc. used in each step can be used at the laboratory level, but when industrial production is considered, there are some substances that are difficult to use and lack practicality. .

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明者は上記問題点
を解決すべく、各工程を詳細に検討し改善した。具体的
には、最も類似するWO96/19463号記載の製造
方法(以下、「A法」という)と比較検討した。例え
ば、A法では以下の第1〜4工程を経て本願発明の目的
化合物の一つである化合物〔7'〕を製造している。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventor has studied and improved each step in detail in order to solve the above problems. Specifically, a comparison was made with the most similar manufacturing method described in WO96 / 19463 (hereinafter referred to as "method A"). For example, in method A, compound [7 ′], which is one of the target compounds of the present invention, is produced through the following first to fourth steps.

【0006】[0006]

【化17】 [Chemical 17]

【0007】第1工程 A法では化合物〔1'〕を酢酸エチル中、トリエチルア
ミンの存在下、クロロ炭酸エチルと反応させ化合物
〔2'〕を得ている。この工程で、試薬としてクロロ炭
酸エチルを使用すると、副生成物としてエタノールが生
成され、これが化合物〔2'〕を分解する。このため主
反応である環化反応の後に、脱塩ろ過、濃縮という煩雑
な後処理工程を必要とした。このような煩雑な後処理工
程と副生成物の生成により化合物〔2'〕の収率が下が
るという問題点があった。本発明者らはこの問題点を解
決するために、クロロ炭酸エチルの代わりに安価な塩化
チオニルを使用することを検討した。その結果、塩化チ
オニルを使用することにより、驚くべきことに、上記の
煩雑な後処理工程を必要とせず、かつ、副生成物が生成
されないことを見出し、収率の向上が実現できた。また
不安定な化合物〔2'〕はそのまま単離精製せずに次工
程に用いることができることも、併せて見出した。これ
らのことにより、収率を上げるげることができた。
In the first step, Method A, compound [1 '] is reacted with ethyl chlorocarbonate in ethyl acetate in the presence of triethylamine to give compound [2']. In this step, when ethyl chlorocarbonate is used as a reagent, ethanol is produced as a by-product, which decomposes the compound [2 ']. Therefore, after the cyclization reaction, which is the main reaction, a complicated post-treatment process such as desalting filtration and concentration was required. There is a problem that the yield of the compound [2 ′] is lowered due to such complicated post-treatment process and formation of by-products. In order to solve this problem, the present inventors examined the use of inexpensive thionyl chloride instead of ethyl chlorocarbonate. As a result, it was found that, by using thionyl chloride, surprisingly, the above-mentioned complicated post-treatment step is not required and by-products are not produced, and the yield can be improved. It was also found that the unstable compound [2 ′] can be directly used in the next step without isolation and purification. With these, the yield could be increased.

【0008】第2工程 A法では化合物〔2'〕を塩化マグネシウムのテトラヒ
ドロフラン懸濁液中で、トリエチルアミンの存在下、化
合物〔3'〕と反応させることにより、化合物〔4'〕を
得ている。この工程で試薬兼溶媒として使用しているテ
トラヒドロフランは、工業生産上、大量に使用する場
合、コストの点からは最適の溶媒とはいえなかった。そ
こで本発明者らは、安価でかつ、工業的生産に適した溶
媒、また収率向上という面からも溶媒の検討を行った。
その結果、WO96/19463号明細書中に一般的例
示としては挙げられているが、具体的な実施例として開
示されていない酢酸エチルを用いることによっても、こ
の反応を同様に行うことができることを見出した。この
ような溶媒の変更は、単なるコスト低減というメリット
があるだけではなく、次工程(第3工程)における抽出
前の反応溶媒濃縮工程を省略することも可能にした。こ
のことにより、コスト低減と収率向上という問題点を一
挙に解決することができた。併せて、不安定な化合物
〔4'〕を単離精製することなしに次工程に用いること
を見出した。これらの改善により、収率の向上を達成し
た。
In the second step A, the compound [2 '] is reacted with the compound [3'] in the suspension of magnesium chloride in tetrahydrofuran in the presence of triethylamine to obtain the compound [4 ']. . Tetrahydrofuran, which is used as a reagent and a solvent in this step, was not the optimum solvent in terms of cost when used in large quantities in industrial production. Therefore, the present inventors have studied a solvent that is inexpensive and suitable for industrial production, and also a solvent from the viewpoint of improving the yield.
As a result, this reaction can be carried out in the same manner by using ethyl acetate, which is mentioned as a general example in WO96 / 19463, but is not disclosed as a specific example. I found it. Such a change of the solvent not only has a merit of cost reduction, but also makes it possible to omit the reaction solvent concentration step before extraction in the next step (third step). As a result, the problems of cost reduction and yield improvement could be solved all at once. Together, they found that the unstable compound [4 ] was used in the next step without isolation and purification. With these improvements, improved yields were achieved.

【0009】第3工程 A法ではテトラヒドロフラン中の化合物〔4'〕に、塩
酸を加え、加水分解及び脱炭酸反応を行っている。引き
続き、後処理として、反応溶媒(テトラヒドロフラン)
の濃縮、抽出、抽出溶媒の濃縮等の工程を経て化合物
〔5'〕を得ている。本発明者らは、前工程(第2工
程)で溶媒として使用しているテトラヒドロフランを酢
酸エチルに代えることにより、第3工程も引き続き酢酸
エチル中で行うことができ、抽出操作の前のテトラヒド
ロフランを濃縮する工程を省くことに成功した。このこ
とが化合物〔5'〕の収率向上へと繋がった。化合物
〔1'〕から化合物〔5'〕の収率で比較すると、A法で
は67.7%であったが、本発明法では84.7%とな
り、17%の収率の向上を達成することができた。
In the third step A method, hydrochloric acid is added to the compound [4 '] in tetrahydrofuran to carry out hydrolysis and decarboxylation reaction. Subsequently, as a post-treatment, the reaction solvent (tetrahydrofuran)
Compound [5 ′] is obtained through steps such as concentration, extraction, concentration of extraction solvent and the like. The present inventors can carry out the third step in ethyl acetate by replacing the tetrahydrofuran used as the solvent in the previous step (second step) with ethyl acetate, and the tetrahydrofuran before the extraction operation It succeeded in omitting the concentration step. This led to improvement in the yield of compound [5 ′]. Comparing the yields of the compound [1 ′] to the compound [5 ′], it was 67.7% in the method A, but was 84.7% in the method of the present invention, and a yield improvement of 17% was achieved. I was able to.

【0010】第4工程 A法では化合物〔5'〕をクロロホルム中、クロロスル
ホン酸と反応させることにより化合物〔6'〕を得てい
る。更に、これを単離することなく、テトラヒドロフラ
ン中、アンモニア水と反応させることにより目的化合物
〔7'〕を得ている。ここで、溶媒として使用している
クロロホルムは、毒性が強く、工業的使用という面では
問題があった。本発明者らは、WO96/19463号
明細書中に一般的例示はあるが、具体的な実施例として
開示されたいない方法を用いることによりこの問題点を
解決した。具体的には、驚くべきことに、無溶媒でもク
ロロホルムを使用したときと同様に反応がスムーズに進
行することを見出した。また、A法は目的化合物
〔7'〕の収率という面でも未だ満足できるものではな
っかた。A法では後処理として、反応溶媒(テトラヒド
ロフラン)の濃縮、抽出、抽出溶媒の濃縮等の工程を経
て化合物〔7'〕を得ている。本発明者らは、第2工程
と同様に、アミド化反応における溶媒をテトラヒドロフ
ランから酢酸エチルに代えることにより、抽出操作の前
のテトラヒドロフランを濃縮する工程を省くことに成功
した。これにより、化合物〔5'〕から化合物〔7'〕の
収率を77.2%から82.0%へと約5%向上させ、
従来法の問題点を解決することができ、発明を完成する
に到った。
In the fourth step, Method A, compound [5 '] is reacted with chlorosulfonic acid in chloroform to obtain compound [6']. Further, the target compound [7 ′] is obtained by reacting it with aqueous ammonia in tetrahydrofuran without isolation. Here, chloroform used as a solvent is highly toxic and has a problem in terms of industrial use. The present inventors have solved this problem by using a method not generally disclosed in WO96 / 19463 but not disclosed as a specific example. Specifically, it was surprisingly found that the reaction proceeded smoothly without solvent as in the case of using chloroform. Further, Method A has not yet been satisfactory in terms of yield of the target compound [7 ']. In Method A, as a post-treatment, the compound [7 ′] is obtained through steps such as concentration of the reaction solvent (tetrahydrofuran), extraction, concentration of the extraction solvent. Similar to the second step, the present inventors succeeded in omitting the step of concentrating tetrahydrofuran before the extraction operation by changing the solvent in the amidation reaction from tetrahydrofuran to ethyl acetate. Thereby, the yield of the compound [7 ′] from the compound [5 ′] was improved from 77.2% to 82.0% by about 5%,
The problems of the conventional method can be solved, and the invention has been completed.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の如
く、目的化合物の収率の向上と工業的に製造可能な方法
の確立を目的として、各工程における問題点を詳細に検
討した。その結果、各工程で使用する溶媒、試薬等を上
記の通り選択することにより、目的化合物を収率よく得
ることができ、しかも工業的に実用可能な製造方法を見
出し、本発明を完成するに到った。即ち、本発明は下記
(1)〜(9)に示す通りである。
As described above, the present inventors have studied in detail the problems in each step for the purpose of improving the yield of the target compound and establishing a method that can be industrially manufactured. As a result, by selecting the solvent, reagents, etc. used in each step as described above, it is possible to obtain the target compound in good yield, and to find a production method that is industrially practical, and to complete the present invention. Arrived That is, the present invention is as shown in the following (1) to (9).

【0012】(1) 一般式〔1〕(1) General formula [1]

【0013】[0013]

【化18】 [Chemical 18]

【0014】(式中、Rは置換されてもよいシクロア
ルキル基、置換されてよいアリール基又は置換されても
よい複素環基であり、Rは低級アルキル基又はハロゲ
ン化低級アルキル基である)で表される化合物を、不活
性溶媒中、塩基の存在下、塩化チオニルと反応させるこ
とによって、一般式〔2〕
(In the formula, R 1 is an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heterocyclic group, and R 2 is a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group. The compound represented by the general formula [2] is reacted with thionyl chloride in the presence of a base in an inert solvent.

【0015】[0015]

【化19】 [Chemical 19]

【0016】(式中、R及びRは前記と同じであ
る)で表されるオキサゾロン化合物となし、引き続きこ
の化合物を酢酸エチル中、マグネシウム塩及び塩基の存
在下に一般式〔3〕
An oxazolone compound represented by the formula (wherein R 1 and R 2 are the same as those described above), and then the compound is represented by the general formula [3] in ethyl acetate in the presence of a magnesium salt and a base.

【0017】[0017]

【化20】 [Chemical 20]

【0018】(式中、Rはハロゲン原子又は水素原子
であり、Xはハロゲン原子である)で表される化合物と
反応させ、一般式〔4〕
(Wherein R 3 is a halogen atom or a hydrogen atom, and X is a halogen atom) is reacted with a compound represented by the general formula [4]

【0019】[0019]

【化21】 [Chemical 21]

【0020】(式中、R、R及びRは前記と同じ
である)で表される化合物を得、この化合物を酸により
加水分解及び脱炭酸反応に付し、一般式〔5〕
A compound represented by the formula (wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above) is obtained, and the compound is subjected to hydrolysis and decarboxylation reaction with an acid to give a compound of the general formula [5].

【0021】[0021]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0022】(式中、R、R及びRは前記と同じ
である)で表される化合物となし、この化合物をスルホ
ン化剤により環化及びスルホン化し、更に塩化チオニル
でクロロ化反応を行い、一般式〔6〕
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above), the compound is cyclized and sulfonated with a sulfonating agent, and then chlorinated with thionyl chloride. Then, the general formula [6]

【0023】[0023]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0024】(式中、R、R及びRは前記と同じ
である)で表される化合物となし、続いてこの化合物を
酢酸エチル中、アンモニア水でアミド化することを特徴
とする、一般式〔7〕
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above), and the compound is subsequently amidated with aqueous ammonia in ethyl acetate. , General formula [7]

【0025】[0025]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0026】(式中、R、R及びRは前記と同じ
である)で示されるオキサゾール化合物の製造方法。
A process for producing an oxazole compound represented by the formula (wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above).

【0027】(2) Rがシクロアルキル基であり、
が低級アルキル基であり、Rがハロゲン原子であ
る(1)記載の製造方法。
(2) R 1 is a cycloalkyl group,
The production method according to (1), wherein R 2 is a lower alkyl group and R 3 is a halogen atom.

【0028】(3) Rがシクロヘキシル基であり、
がメチル基であり、Rがフッ素原子である(1)
記載の製造方法。
(3) R 1 is a cyclohexyl group,
R 2 is a methyl group and R 3 is a fluorine atom (1)
The manufacturing method described.

【0029】(4) 一般式〔1〕(4) General formula [1]

【0030】[0030]

【化25】 [Chemical 25]

【0031】(式中、Rは置換されてもよいシクロア
ルキル基、置換されてよいアリール基又は置換されても
よい複素環基であり、Rは低級アルキル基又はハロゲ
ン化低級アルキル基である)で表される化合物を、不活
性溶媒中、塩基の存在下、塩化チオニルと反応させるこ
とによって、一般式〔2〕
(In the formula, R 1 is an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heterocyclic group, and R 2 is a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group. The compound represented by the general formula [2] is reacted with thionyl chloride in the presence of a base in an inert solvent.

【0032】[0032]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0033】(式中、R及びRは前記と同じであ
る)で表されるオキサゾロン化合物となし、引き続きこ
の化合物を酢酸エチル中、マグネシウム塩及び塩基の存
在下に一般式〔3〕
(Wherein R 1 and R 2 are the same as above), and then this compound is prepared by reacting this compound in ethyl acetate in the presence of a magnesium salt and a base with the general formula [3].

【0034】[0034]

【化27】 [Chemical 27]

【0035】(式中、Rはハロゲン原子又は水素原子
であり、Xはハロゲン原子である)で表される化合物と
反応させ、一般式〔4〕
(Wherein R 3 is a halogen atom or a hydrogen atom, and X is a halogen atom), and reacted with a compound represented by the general formula [4]

【0036】[0036]

【化28】 [Chemical 28]

【0037】(式中、R、R及びRは前記と同じ
である)で表される化合物を得、この化合物を酸による
加水分解及び脱炭酸反応に付すことを特徴とする、一般
式〔5〕
A compound represented by the formula (wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as described above), and the compound is subjected to hydrolysis and decarboxylation with an acid, Formula [5]

【0038】[0038]

【化29】 [Chemical 29]

【0039】(式中、R、R及びRは前記と同じ
である)で表されるアセトフェノン化合物の製造方法。
A method for producing an acetophenone compound represented by the formula (wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above).

【0040】(5) Rがシクロアルキル基であり、
が低級アルキル基であり、Rがハロゲン原子であ
る(4)記載の製造方法。
(5) R 1 is a cycloalkyl group,
The production method according to (4), wherein R 2 is a lower alkyl group and R 3 is a halogen atom.

【0041】(6) Rがシクロヘキシル基であり、
がメチル基であり、Rがフッ素原子である(4)
記載の製造方法。
(6) R 1 is a cyclohexyl group,
R 2 is a methyl group and R 3 is a fluorine atom (4)
The manufacturing method described.

【0042】(7) 一般式〔5〕(7) General formula [5]

【0043】[0043]

【化30】 [Chemical 30]

【0044】(式中、Rは置換されてもよいシクロア
ルキル基、置換されてよいアリール基又は置換されても
よい複素環基であり、Rは低級アルキル基又はハロゲ
ン化低級アルキル基であり、Rはハロゲン原子又は水
素原子である)で表される化合物をスルホン化剤により
環化及びスルホン化し、更に塩化チオニルでクロロ化反
応を行い、一般式〔6〕
(In the formula, R 1 is an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heterocyclic group, and R 2 is a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group. And R 3 is a halogen atom or a hydrogen atom) is cyclized and sulfonated with a sulfonating agent, and then chlorinated with thionyl chloride to give a compound of the general formula [6]

【0045】[0045]

【化31】 [Chemical 31]

【0046】(式中、R、R及びRは前記と同じ
である)で表される化合物となし、続いてこの化合物を
酢酸エチル中、アンモニア水でアミド化することを特徴
とする、一般式〔7〕
(Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above), and the compound is subsequently amidated with aqueous ammonia in ethyl acetate. , General formula [7]

【0047】[0047]

【化32】 [Chemical 32]

【0048】(式中、R、R及びRは前記と同じ
である)で示されるオキサゾール化合物の製造方法。
A process for producing an oxazole compound represented by the formula (wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above).

【0049】(8) Rがシクロアルキル基であり、
が低級アルキル基であり、Rがハロゲン原子であ
る(7)記載の製造方法。
(8) R 1 is a cycloalkyl group,
The production method according to (7), wherein R 2 is a lower alkyl group and R 3 is a halogen atom.

【0050】(9) Rがシクロヘキシル基であり、
がメチル基であり、Rがフッ素原子である(7)
記載の製造方法
(9) R 1 is a cyclohexyl group,
R 2 is a methyl group and R 3 is a fluorine atom (7)
Manufacturing method described

【0051】本明細書において使用する各置換基の定義
は次の通りである。
The definition of each substituent used in the present specification is as follows.

【0052】「シクロアルキル基」とは炭素数3乃至8
個のシクロアルキル基を意味し、具体的にはシクロプロ
ピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基であ
る。好ましくは炭素数5乃至7個のシクロアルキル基で
あり、具体的にはシクロペンチル基、シクロヘキシル
基、シクロヘプチル基である。特に好ましくはシクロヘ
キシル基である。
The "cycloalkyl group" has 3 to 8 carbon atoms.
Means a cycloalkyl group, specifically, a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group. Preferred is a cycloalkyl group having 5 to 7 carbon atoms, and specifically, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, and a cycloheptyl group. Particularly preferred is a cyclohexyl group.

【0053】「複素環基」とは、環を構成する原子とし
て炭素原子以外に窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選
ばれる1乃至3個のヘテロ原子を含む5乃至6員の芳香
族複素環、飽和複素環、不飽和複素環、又はこれらの複
素環とベンゼン環若しくはシクロヘキサン環とが縮合し
た縮合複素環を意味し、具体的には、チエニル基、フリ
ル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チ
アゾリル基、イソチアゾリル基、オキサゾリル基、イソ
オキサゾリル基、モルホリノ基、モルホリニル基、ピペ
ラジニル基、ピペリジル基、ピラニル基、チオピラニル
基、ピリジル基、ベンゾチエニル基、ベンゾフラニル
基、インドリル基、4,5,6,7−テトラヒドロイン
ドリル基、4,5,6,7−テトラヒドロベンゾチエニ
ル基、4,5,6,7−テトラヒドロベンゾフラニル基
等である。好ましくはチエニル基、フリル基、ピロリル
基、モルホリノ基、モルホリニル基、ピペラジニル基、
ピペリジル基である。特に好ましくはチエニル基であ
る。
The "heterocyclic group" is a 5- to 6-membered aromatic heterocycle containing 1 to 3 heteroatoms selected from nitrogen atom, oxygen atom and sulfur atom in addition to carbon atoms as ring-constituting atoms. , A saturated heterocycle, an unsaturated heterocycle, or a condensed heterocycle in which these heterocycles are condensed with a benzene ring or a cyclohexane ring. Group, thiazolyl group, isothiazolyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, morpholino group, morpholinyl group, piperazinyl group, piperidyl group, pyranyl group, thiopyranyl group, pyridyl group, benzothienyl group, benzofuranyl group, indolyl group, 4, 5, 6 , 7-Tetrahydroindolyl group, 4,5,6,7-tetrahydrobenzothienyl group, 4,5,6, - tetrahydronaphthyl benzofuranyl group. Preferably thienyl group, furyl group, pyrrolyl group, morpholino group, morpholinyl group, piperazinyl group,
It is a piperidyl group. A thienyl group is particularly preferred.

【0054】「アリール基」とは、例えば、フェニル
基、ナフチル基、ビフェニリル基等であり、好ましくは
フェニル基である。
The "aryl group" is, for example, a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group or the like, preferably a phenyl group.

【0055】「置換されてもよい」とは、1乃至3個の
置換基により置換されてもよいことを意味し、該置換基
は同一又は異なってもよい。また、置換基の位置は任意
であって、特に制限されるものではない。具体的には、
メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブ
チル基、tert−ブチル基等の低級アルキル基;水酸
基;メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ
基等の低級アルコキシ基;フッ素、塩素、臭素等のハロ
ゲン原子;ニトロ基;シアノ基;アシル基(例えば、ホ
ルミル基、又はアセチル基、プロピオニル基等の低級ア
ルキルカルボニル基);ホルミルオキシ基、アセチルオ
キシ基、プロピオニルオキシ基等のアシルオキシ基(ア
シル部は前記と同じ);メルカプト基;メチルチオ基、
エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、イソブ
チルチオ基等の低級アルキルチオ基;アミノ基;メチル
アミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ブチル
アミノ基等の低級アルキルアミノ基;ジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチル
アミノ基等のジ低級アルキルアミノ基;カルボキシ基;
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポ
キシカルボニル基等の低級アルコキシカルボニル基;ア
ミド基;トリフルオロメチル基;メチルスルホニル基、
エチルスルホニル基等の低級アルキルスルホニル基;ア
ミノスルホニル基;シクロペンチル基、シクロヘキシル
基等の低級シクロアルキル基;フェニル基;アセトアミ
ド基、プロピオンアミド基等のアシルアミノ基(アシル
部は前記と同じ)等であり、好ましくは水酸基、低級ア
ルキル基、低級カルコキシ基、メルカプト基、低級アル
キルチオ基、ハロゲン原子、トリフルオロメチル基、低
級アルキルカルボニル基、低級アルコキシカルボニル
基、アシルアミノ基である。ここで低級とは好ましくは
炭素数1乃至6個、より好ましくは1乃至4個である。
The term "may be substituted" means that it may be substituted with 1 to 3 substituents, which may be the same or different. The position of the substituent is arbitrary and is not particularly limited. In particular,
Lower alkyl group such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, tert-butyl group; hydroxyl group; lower alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, butoxy group; fluorine, chlorine, bromine, etc. A halogen atom; a nitro group; a cyano group; an acyl group (eg, a lower alkylcarbonyl group such as a formyl group or an acetyl group, a propionyl group); Are the same as above); mercapto group; methylthio group,
Lower alkylthio groups such as ethylthio group, propylthio group, butylthio group, isobutylthio group; amino groups; lower alkylamino groups such as methylamino group, ethylamino group, propylamino group, butylamino group; dimethylamino group, diethylamino group, A di-lower alkylamino group such as a dipropylamino group and a dibutylamino group; a carboxy group;
Lower alkoxycarbonyl group such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group; amide group; trifluoromethyl group; methylsulfonyl group,
Lower alkylsulfonyl group such as ethylsulfonyl group; aminosulfonyl group; lower cycloalkyl group such as cyclopentyl group, cyclohexyl group; phenyl group; acylamino group such as acetamido group, propionamide group (acyl moiety is the same as above) Of these, a hydroxyl group, a lower alkyl group, a lower chalcoxy group, a mercapto group, a lower alkylthio group, a halogen atom, a trifluoromethyl group, a lower alkylcarbonyl group, a lower alkoxycarbonyl group and an acylamino group are preferable. Here, the term “lower” means preferably having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably 1 to 4 carbon atoms.

【0056】より具体的には、「置換されてもよいアリ
ール基」とは、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、低級アルキルスルホニル基、ア
ミノスルホニル基等で置換されてもよいアリール基、特
にフェニル基を意味し、例えばフェニル基、フルオロフ
ェニル基、メチルフェニル基、メトキシフェニル基、メ
チルスルホニルフェニル基、アミノスルホニルフェニル
基等、好ましくはフェニル基、4−フルオロフェニル基
を挙げることができる。
More specifically, the "aryl group which may be substituted" means an aryl which may be substituted with a halogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylsulfonyl group, an aminosulfonyl group or the like. Group, especially a phenyl group, and examples thereof include a phenyl group, a fluorophenyl group, a methylphenyl group, a methoxyphenyl group, a methylsulfonylphenyl group, an aminosulfonylphenyl group and the like, preferably a phenyl group and a 4-fluorophenyl group. it can.

【0057】「置換されてもよい複素環基」とは、ハロ
ゲン原子、水酸基、低級アルキル基、低級アルコキシ
基、低級アルキルスルホニル基、アミノスルホニル基等
で置換されてもよい複素環基であり、好ましくはチエニ
ル基、フリル基、5−メチルチエニル基、5−クロロチ
エニル基である。
The “heterocyclic group which may be substituted” is a heterocyclic group which may be substituted with a halogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylsulfonyl group, an aminosulfonyl group or the like, Preferred are thienyl group, furyl group, 5-methylthienyl group, and 5-chlorothienyl group.

【0058】「置換されてもよいシクロアルキル基」と
は、ハロゲン原子、水酸基、低級アルキル基、低級アル
コキシ基、低級アルキルスルホニル基、アミノスルホニ
ル基等で置換されてもよいシクロアルキル基等であり、
好ましくはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、4−メチルシクロヘキ
シル基、4−ヒドロキシシクロヘキシル基、4−フルオ
ロシクロヘキシル基等であり、特に好ましくは、シクロ
ヘキシル基である。
The "optionally substituted cycloalkyl group" is a cycloalkyl group which may be substituted with a halogen atom, a hydroxyl group, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkylsulfonyl group, an aminosulfonyl group or the like. ,
A cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a 4-methylcyclohexyl group, a 4-hydroxycyclohexyl group, a 4-fluorocyclohexyl group and the like are preferable, and a cyclohexyl group is particularly preferable.

【0059】「低級アルキル基」とは炭素数1乃至6の
直鎖又は分枝してもよいアルキル基であり、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチ
ル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、
1−エチルプロピル基、tert−ペンチル基又はヘキ
シル基等であり、好ましくはメチル基である。
The "lower alkyl group" is a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec. -Butyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, neopentyl group,
A 1-ethylpropyl group, a tert-pentyl group, a hexyl group or the like is preferable, and a methyl group is preferable.

【0060】「ハロゲン原子」とは、塩素原子、臭素原
子、フッ素原子等であり、好ましくは塩素原子、フッ素
原子である。Rにおいて好ましくは、フッ素原子であ
り、Xにおいて好ましくは、塩素原子である。
The "halogen atom" is a chlorine atom, a bromine atom, a fluorine atom or the like, preferably a chlorine atom or a fluorine atom. R 3 is preferably a fluorine atom, and X is preferably a chlorine atom.

【0061】「ハロゲン化低級アルキル基」とは、上記
定義の低級アルキル基が上記定義のハロゲン原子で置換
されたものであり、具体的にはフルオロメチル基、クロ
ロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ジフル
オロメチル基、ジクロロメチル基、トリフルオロメチル
基、トリクロロメチル基、フルオロエチル基、クロロエ
チル基、ジフルオロエチル基、ジクロロエチル基、トリ
フルオロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロ
エチル基、ペンタフルオロエチル基、フルオロプロピル
基等であり、好ましくはフルオロメチル基、クロロメチ
ル基、ジクロロメチル基、ジフルオロメチル基、トリク
ロロメチル基、トリフルオロメチル基である。
The "halogenated lower alkyl group" is the above-defined lower alkyl group substituted with a halogen atom as defined above, and specifically includes fluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, iodomethyl group. , Difluoromethyl group, dichloromethyl group, trifluoromethyl group, trichloromethyl group, fluoroethyl group, chloroethyl group, difluoroethyl group, dichloroethyl group, trifluoroethyl group, trichloroethyl group, tetrachloroethyl group, pentafluoroethyl group , A fluoropropyl group and the like, preferably a fluoromethyl group, a chloromethyl group, a dichloromethyl group, a difluoromethyl group, a trichloromethyl group and a trifluoromethyl group.

【0062】「不活性溶媒」とは、酢酸エチル、テトラ
ヒドロフラン、トルエン、ジクロロメタン等であり、好
ましくは酢酸エチルである。
The "inert solvent" is ethyl acetate, tetrahydrofuran, toluene, dichloromethane or the like, preferably ethyl acetate.

【0063】「塩基」とはトリエチルアミン、ピリジ
ン、N−メチルモルホリン等の三級アミン;ジエチルア
ミン、ジイソプロピルアミン等の二級アミン;炭酸カリ
ウム、炭酸ナトリウム等の無機塩基であり、好ましくは
三級アミンであり、より好ましくはトリエチルアミンで
ある。
The "base" is a tertiary amine such as triethylamine, pyridine or N-methylmorpholine; a secondary amine such as diethylamine or diisopropylamine; an inorganic base such as potassium carbonate or sodium carbonate, preferably a tertiary amine. Yes, and more preferably triethylamine.

【0064】「マグネシウム塩」とは、無水塩化マグネ
シウム、無水臭化マグネシウム等であり、好ましくは無
水塩化マグネシウムである。
The "magnesium salt" is anhydrous magnesium chloride, anhydrous magnesium bromide or the like, and preferably anhydrous magnesium chloride.

【0065】「酸」とは塩酸、しゅう酸、希硫酸、リン
酸等であり、好ましくは塩酸である。
The "acid" is hydrochloric acid, oxalic acid, dilute sulfuric acid, phosphoric acid or the like, preferably hydrochloric acid.

【0066】「スルホン化剤」とは、クロロスルホン
酸、無水硫酸、濃硫酸、発煙硫酸等であり、好ましくは
クロロスルホン酸である。
The "sulfonating agent" is chlorosulfonic acid, sulfuric anhydride, concentrated sulfuric acid, fuming sulfuric acid or the like, preferably chlorosulfonic acid.

【0067】次に、一般式〔7〕で表されるオキサゾー
ル化合物の製造方法について詳しく述べる。
Next, the method for producing the oxazole compound represented by the general formula [7] will be described in detail.

【0068】[0068]

【化33】 [Chemical 33]

【0069】(式中、R、R、R及びXは前記と
同じである)
(In the formula, R 1 , R 2 , R 3 and X are the same as above)

【0070】[0070]

【一般製法】第1工程 化合物〔1〕を不活性溶媒中、塩基の存在下、塩化チオ
ニルと反応させることにより化合物〔2〕を得ることが
出きる。反応に用いる不活性溶媒としては、酢酸エチ
ル、テトラヒドロフラン、トルエン、ジクロロメタン等
であり、好ましくは酢酸エチルである。塩基としては、
トリエチルアミン、ピリジン、N−メチルモルホリン等
の三級アミン;ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン
等の二級アミン;炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の無
機塩基等であり、好ましくは三級アミンであり、より好
ましくはトリエチルアミンである。反応温度は−20℃
乃至20℃、好ましくは−10℃乃至0℃である。反応
時間は、0.5時間乃至10時間、好ましくは0.5時
間乃至2時間である。なお、この反応を行う場合、水分
混入による収率低下を防ぐために、窒素等の不活性ガス
雰囲気下で反応を行うことが望ましい。また、得られた
化合物〔2〕は単離することなく、次の反応に用いるこ
とができる。
[General production method] Step 1 Compound [2] can be obtained by reacting compound [1] with thionyl chloride in the presence of a base in an inert solvent. The inert solvent used in the reaction is ethyl acetate, tetrahydrofuran, toluene, dichloromethane or the like, preferably ethyl acetate. As a base,
Tertiary amines such as triethylamine, pyridine and N-methylmorpholine; secondary amines such as diethylamine and diisopropylamine; inorganic bases such as potassium carbonate and sodium carbonate; preferably tertiary amines, more preferably triethylamine. is there. Reaction temperature is -20 ℃
To 20 ° C, preferably -10 ° C to 0 ° C. The reaction time is 0.5 to 10 hours, preferably 0.5 to 2 hours. When carrying out this reaction, it is desirable to carry out the reaction in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen in order to prevent a decrease in yield due to mixing of water. Further, the obtained compound [2] can be used for the next reaction without isolation.

【0071】第2工程 化合物〔2〕を酢酸エチル中、マグネシウム塩及び塩基
の存在下、化合物〔3〕と反応させることにより、化合
物〔4〕を得ることができる。マグネシウム塩として
は、無水塩化マグネシウム又は無水臭化マグネシウム等
であり、好ましくは、無水塩化マグネシウムである。塩
基としては、トリエチルアミン、ピリジン、N−メチル
モルホリン等の三級アミン;ジエチルアミン、ジイソプ
ロピルアミン等の二級アミン;炭酸カリウム、炭酸ナト
リウム等の無機塩基等であり、好ましくは三級アミンで
あり、より好ましくはトリエチルアミンである。反応温
度は−20℃乃至20℃、好ましくは0℃乃至10℃で
ある。反応時間は、1時間乃至20時間、好ましくは6
時間乃至15時間である。なお、この反応を行う場合も
工程1と同様に、水分混入による収率低下を防ぐため
に、窒素等の不活性ガス雰囲気下で反応を行うことが望
ましい。また、この工程では、試薬としてテトラヒドロ
フラン又はジエチルエーテル等のエーテル類、好ましく
はテトラヒドロフランを用いることにより、反応をスム
ーズに進行させることができる。エーテル類は化合物
〔2〕に対して2乃至5当量、好ましくは2当量程度の
量で使用する。更に、得られた化合物〔4〕は単離する
ことなく、次の反応に用いることができる。
Step 2 Compound [4] can be obtained by reacting compound [2] with compound [3] in ethyl acetate in the presence of a magnesium salt and a base. The magnesium salt is anhydrous magnesium chloride, anhydrous magnesium bromide, or the like, and preferably anhydrous magnesium chloride. Examples of the base include tertiary amines such as triethylamine, pyridine and N-methylmorpholine; secondary amines such as diethylamine and diisopropylamine; inorganic bases such as potassium carbonate and sodium carbonate; preferably tertiary amines, and Preferred is triethylamine. The reaction temperature is -20 ° C to 20 ° C, preferably 0 ° C to 10 ° C. The reaction time is 1 to 20 hours, preferably 6
Hours to 15 hours. Also in the case of carrying out this reaction, it is desirable to carry out the reaction under an atmosphere of an inert gas such as nitrogen in order to prevent a decrease in yield due to mixing of water, as in Step 1. In this step, the reaction can be smoothly progressed by using ethers such as tetrahydrofuran or diethyl ether, preferably tetrahydrofuran, as a reagent. The ethers are used in an amount of 2 to 5 equivalents, preferably about 2 equivalents, relative to compound [2]. Further, the obtained compound [4] can be used for the next reaction without isolation.

【0072】第3工程 化合物〔4〕を、酸による加水分解及び脱炭酸反応に付
すことにより化合物〔5〕を得ることができる。この反
応は、好ましくは酢酸エチル及び水の混合溶媒中で行う
ことができる。使用する酸としては、塩酸、しゅう酸、
希硫酸、リン酸等が挙げられ、好ましくは、塩酸であ
る。反応温度は−20℃乃至100℃、好ましくは35
℃乃至45℃である。反応時間は、1時間乃至20時
間、好ましくは1時間乃至3時間である。
Step 3 Compound [5] can be obtained by subjecting compound [4] to acid hydrolysis and decarboxylation. This reaction can be preferably carried out in a mixed solvent of ethyl acetate and water. Acids used include hydrochloric acid, oxalic acid,
Examples thereof include dilute sulfuric acid and phosphoric acid, and hydrochloric acid is preferable. The reaction temperature is -20 ° C to 100 ° C, preferably 35
C. to 45.degree. The reaction time is 1 hour to 20 hours, preferably 1 hour to 3 hours.

【0073】第4工程 化合物〔5〕を、スルホン化剤により環化及びスルホン
化し、更に塩化チオニルでクロロ化することにより化合
物〔6〕を得ることができる。続いてその生成物を単離
することなく、酢酸エチル中、アンモニア水と反応させ
ることにより目的化合物〔7〕を得ることができる。環
化及びスルホン化の反応は、好ましくは無溶媒で行う。
使用するスルホン化剤としては、クロロスルホン酸、無
水硫酸、濃硫酸、発煙硫酸等であり、好ましくは、クロ
ロスルホン酸である。化合物〔5〕から化合物〔6〕を
得る反応の反応温度は、0℃乃至200℃、好ましくは
75℃乃至95℃である。環化及びスルホン化の反応の
反応時間は、1時間乃至10時間、好ましくは2時間乃
至5時間である。クロロ化の反応時間は、0.5時間乃
至10時間、好ましくは、0.5時間乃至5時間であ
る。なお、化合物〔5〕から化合物〔6〕を得る反応に
おいては、第1工程と同様に水分混入による収率低下を
防ぐために、窒素等の不活性ガス雰囲気下で反応を行う
ことが望ましい。化合物〔6〕から化合物〔7〕を得る
反応の反応温度は、−20℃乃至200℃、好ましくは
−10℃乃至10℃である。反応時間は、1時間乃至2
4時間、好ましくは1時間乃至3時間である。
Step 4 The compound [5] can be obtained by cyclizing and sulfonating the compound [5] with a sulfonating agent and then chlorinating with thionyl chloride. Then, the target compound [7] can be obtained by reacting with ammonia water in ethyl acetate without isolating the product. The cyclization and sulfonation reactions are preferably carried out without solvent.
The sulfonating agent used is chlorosulfonic acid, sulfuric anhydride, concentrated sulfuric acid, fuming sulfuric acid, or the like, and preferably chlorosulfonic acid. The reaction temperature of the reaction for obtaining the compound [6] from the compound [5] is 0 ° C to 200 ° C, preferably 75 ° C to 95 ° C. The reaction time of the cyclization and sulfonation reaction is 1 hour to 10 hours, preferably 2 hours to 5 hours. The reaction time for chlorination is 0.5 to 10 hours, preferably 0.5 to 5 hours. In addition, in the reaction for obtaining the compound [6] from the compound [5], it is desirable to carry out the reaction in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen in order to prevent a decrease in yield due to mixing of water as in the first step. The reaction temperature of the reaction for obtaining the compound [7] from the compound [6] is −20 ° C. to 200 ° C., preferably −10 ° C. to 10 ° C. Reaction time is 1 to 2 hours
It is 4 hours, preferably 1 to 3 hours.

【0074】[0074]

【実施例】実施例1 2−N−アセチルアミノ−2−シクロヘキシル−3'−
フルオロアセトフェノン(化合物〔5〕(R1=シクロ
ヘキシル基、R2=メチル基、R3=3−フルオロ)の製
造方法) 窒素雰囲気下、DL−N−アセチル−2−シクロヘキシ
ルグリシン(60.0g)を酢酸エチル(420mL)
に懸濁させ、トリエチルアミン(45.7g)を添加し
溶解させた。氷塩冷下、塩化チオニル(37.6g)、
次いでトリエチルアミン(106.6g)を内温が0℃
を越えないように滴下した。滴下終了後、−10〜0℃
で30分間以上撹拌し4−シクロヘキシル−2−メチル
−5−オキサゾロンの酢酸エチル混合液を得た。この4
−シクロヘキシル−2−メチル−5−オキサゾロンの酢
酸エチル混合液に、窒素雰囲気下、予め酢酸エチル(1
20mL)およびテトラヒドロフラン(43.4g)に
無水塩化マグネシウム(28.7g)を添加して調製し
ておいた混合液を添加し、0〜10℃で1時間以上撹拌
した。さらに、0〜10℃で3−フルオロベンゾイルク
ロライド(47.7g)を滴下し、同温で6時間以上撹
拌して4−シクロヘキシル−4−(3−フルオロベンゾ
イル)−2−メチル−5−オキサゾロンの酢酸エチル混
合液を得た。この4−シクロヘキシル−4−(3−フル
オロベンゾイル)−2−メチル−5−オキサゾロンの酢
酸エチル混合液に35%塩酸(72.1g)および水
(173mL)を内温が45℃を越えないように滴下し
た。この反応液を35〜45℃で1時間以上撹拌後、1
0〜30℃まで冷却し、静置分層して水層を除いた。得
られた有機層を水(420mL)、20%炭酸カリウム
水溶液(420g)、ついで10%食塩水(420g)
で洗浄した。静置分層して得られた有機層を198gま
で濃縮した後、残査を加温溶解してヘプタン(212m
L)を添加した。内温を55〜65℃まで徐冷し、55
〜65℃で1時間以上晶析熟成、さらに−10℃以下ま
で冷却し、−10℃以下で1時間以上晶析熟成した。こ
の晶析液を濾過し、濾取した結晶を、−10℃以下に冷
却した酢酸エチル(54mL)とヘプタン(162m
L)の混液で洗浄後、減圧乾燥し、表題化合物(化合物
〔5〕;70.7g、収率:84.7%)を微黄白色結
晶として得た。 mp. : 116〜118℃ 1H-NMR (300MHz, CDCl3, TMS) :δ 0.9〜1.3 (5H, m),
1.5 (1H, m) 1.6〜1.9 (4H, m), 2.07 (3H, s), 5.52(1
H, dd), 6.27 (1H, br-d), 7.31 (1H, td), 7.49 (1H, td), 7.67 (1
H, td), 7.79 (1H,br-d) IR (KBr) : 3282, 2920, 1681, 1637, 1588, 1297 cm-1 MS (FAB+) : 278 (MH+)
[Example] Example 1 2-N-acetylamino-2-cyclohexyl-3'-
Fluoroacetophenone (Compound [5] (R1= Cyclo
Hexyl group, R2= Methyl group, R3= 3-fluoro)
(Building method) DL-N-acetyl-2-cyclohexyl under nitrogen atmosphere
Luglycine (60.0 g) with ethyl acetate (420 mL)
And triethylamine (45.7 g) added
Dissolved. Thionyl chloride (37.6 g) under ice salt cooling,
Next, add triethylamine (106.6 g) to an internal temperature of 0 ° C.
It was dropped so that it would not exceed. After completion of dropping, -10 to 0 ° C
Stir for 30 minutes or more at 4-cyclohexyl-2-methyl
A mixed solution of -5-oxazolone in ethyl acetate was obtained. This 4
-Cyclohexyl-2-methyl-5-oxazolone vinegar
The ethyl acetate mixed solution was previously mixed with ethyl acetate (1
20 mL) and tetrahydrofuran (43.4 g)
Prepared by adding anhydrous magnesium chloride (28.7g)
Add the prepared mixture and stir at 0-10 ° C for over 1 hour.
did. Furthermore, at 0-10 ° C, 3-fluorobenzoyl chloride
Loride (47.7 g) was added dropwise and the mixture was stirred at the same temperature for 6 hours or more.
4-cyclohexyl-4- (3-fluorobenzo) with stirring
Il) -2-methyl-5-oxazolone mixed with ethyl acetate
A combined solution was obtained. This 4-cyclohexyl-4- (3-full
Orobenzoyl) -2-methyl-5-oxazolone vinegar
35% hydrochloric acid (72.1 g) and water were added to the ethyl acid mixture.
(173 mL) was added dropwise so that the internal temperature did not exceed 45 ° C.
It was After stirring this reaction solution at 35 to 45 ° C. for 1 hour or more, 1
The mixture was cooled to 0 to 30 ° C., and allowed to stand to separate the water layer. Profit
The obtained organic layer was water (420 mL), 20% potassium carbonate
Aqueous solution (420g), then 10% saline (420g)
Washed with. 198 g of organic layer obtained by stationary separation
After concentrating with, the residue was dissolved by heating and heptane (212 m
L) was added. The internal temperature is gradually cooled to 55 to 65 ° C, and 55
Crystallization aging at ~ 65 ° C for 1 hour or more, and -10 ° C or less.
It was then cooled at -10 ° C. and aged at -10 ° C. or lower for crystallization for 1 hour or longer. This
The crystallization solution of is filtered, and the crystals collected by filtration are cooled to -10 ° C or lower.
Rejected ethyl acetate (54 mL) and heptane (162 m
L), and then dried under reduced pressure to give the title compound (compound
[5]; 70.7 g, yield: 84.7%) to give a pale yellowish white color.
Obtained as crystals. mp .: 116-118 ℃ 1H-NMR (300MHz, CDCl3, TMS): δ 0.9 ~ 1.3 (5H, m),
1.5 (1H, m) 1.6 to 1.9 (4H, m), 2.07 (3H, s), 5.52 (1
H, dd), 6.27 (1H, br-d), 7.31 (1H, td), 7.49 (1H, td), 7.67 (1
H, td), 7.79 (1H, br-d) IR (KBr): 3282, 2920, 1681, 1637, 1588, 1297 cm-1 MS (FAB +): 278 (MH+)

【0075】実施例2 5−(4−アミノスルホニル−3−フルオロフェニル)
−4−シクロヘキシル−2−メチルオキサゾール(化合
物〔7〕(R1=シクロヘキシル基、R2=メチル基、R
3=3−フルオロ)の製造方法) 窒素雰囲気下、クロロスルホン酸(126.1g)に2
−N−アセチルアミノ−2−シクロヘキシル−3'−フ
ルオロアセトフェノン(60.0g)を内温が20℃を
越えないように分割投入した。内温75〜95℃で2時
間以上撹拌後、75〜95℃で塩化チオニル(77.2
g)を滴下し、75〜95℃で30分間以上撹拌した。
反応液を5℃以下まで冷却した中に酢酸エチル(180
mL)を、内温が10℃を越えないように滴下し、さら
に5℃以下まで冷却した。この反応液を冷却した酢酸エ
チル−水混液(120mL−480mL;5℃以下)の
中へ、内温が10℃を越えないように滴下した。滴下容
器を酢酸エチル(60mL)および水(60mL)で洗
浄し、反応液と洗液を併せた後、静置分層して水層を除
いた。得られた有機層を水(300mL)で洗浄して5
−(4−クロロスルホニル−3−フルオロフェニル)−
4−シクロヘキシル−2−メチルオキサゾールの酢酸エ
チル溶液を得た。この5−(4−クロロスルホニル−3
−フルオロフェニル)−4−シクロヘキシル−2−メチ
ルオキサゾールの酢酸エチル溶液を0℃以下に冷却後、
予め0℃以下に冷却した25%アンモニア水(73.7
g)と酢酸エチル(180mL)の混液へ、内温が10
℃を越えないように滴下し、−10〜10℃で1時間以
上撹拌した。この反応液に25%食塩水(226g)を
加え、静置分層して水層を除き、有機層を25%食塩水
(226g)で洗浄した。静置分層して得られた酢酸エ
チル抽出液を濃縮してイソプロピルアルコール晶析液に
溶媒置換した。このスラリーを加温溶解後30〜50℃
まで徐冷し、同温で1時間以上晶析熟成、さらに10℃
以下まで冷却し、同温で2時間以上晶析熟成した。晶析
液を濾過し、イソプロピルアルコール(180mL)を
10℃以下に冷却した溶液で洗浄し、減圧乾燥し、表題
化合物(化合物〔7〕;60.0g、収率:82.0
%)を白色結晶として得た。 mp. : 166〜167℃ 1H-NMR (300MHz, CDCl3, TMS) :δ 1.3〜1.5 (3H, m),
1.7〜1.9 (7H, m), 2.51 (3H, s), 2.79 (1H, tt, J=3.
7, 11.3Hz), 5.19 (2H, br-s), 7.36〜7.43 (2H, m), 7.94 (1H, t) IR (KBr) : 3342, 3244, 2932, 1612, 1344, 1168 cm-1 MS (FAB+) : 339 (MH+)
Example 2 5- (4-aminosulfonyl-3-fluorophenyl)
-4-cyclohexyl-2-methyloxazole (compound
Object [7] (R1= Cyclohexyl group, R2= Methyl group, R
3= 3-fluoro) production method) 2 in chlorosulfonic acid (126.1 g) under nitrogen atmosphere
-N-acetylamino-2-cyclohexyl-3'-f
Luoroacetophenone (60.0g) with an internal temperature of 20 ° C
I put it in separately so as not to exceed it. 2 hours at an internal temperature of 75-95 ° C
After stirring for a while or more, thionyl chloride (77.2
g) was added dropwise, and the mixture was stirred at 75 to 95 ° C for 30 minutes or longer.
While the reaction solution was cooled to 5 ° C or lower, ethyl acetate (180
(mL) so that the internal temperature does not exceed 10 ° C,
It was cooled to below 5 ° C. The reaction solution was cooled with ethyl acetate.
Chill-water mixture (120 mL-480 mL; 5 ° C or less)
The solution was added dropwise to the inside so that the internal temperature did not exceed 10 ° C. Dripping volume
Wash the vessel with ethyl acetate (60 mL) and water (60 mL)
After cleaning and combining the reaction solution and the washing solution, leave the solution in a stationary layer to remove the water layer.
I was there. Wash the resulting organic layer with water (300 mL) and
-(4-chlorosulfonyl-3-fluorophenyl)-
4-Cyclohexyl-2-methyloxazole acetate
A chill solution was obtained. This 5- (4-chlorosulfonyl-3
-Fluorophenyl) -4-cyclohexyl-2-methyl
After cooling the ethyl acetate solution of luoxazole to below 0 ° C,
25% aqueous ammonia (73.7
g) and ethyl acetate (180 mL) to a mixture,
Drop it so that it does not exceed ℃, and keep it at -10 to 10 ℃ for 1 hour or more.
Stir over. 25% saline (226 g) was added to this reaction solution.
In addition, the stationary layer was separated to remove the aqueous layer, and the organic layer was washed with 25% saline solution.
It was washed with (226 g). Acetate obtained by stationary separation
Chill extract is concentrated to isopropyl alcohol crystallization solution
The solvent was replaced. After heating and dissolving this slurry, 30 to 50 ° C
Slowly cool down to the same temperature, crystallize and ripen at the same temperature for 1 hour or more, and further 10 ℃
After cooling to the following, crystallization and aging was carried out for 2 hours or more at the same temperature. Crystallization
The liquid is filtered and isopropyl alcohol (180 mL) is added.
Wash with a solution cooled to 10 ° C or lower, dry under reduced pressure, and
Compound (Compound [7]; 60.0 g, yield: 82.0
%) As white crystals. mp .: 166-167 ℃ 1H-NMR (300MHz, CDCl3, TMS): δ 1.3 ~ 1.5 (3H, m),
1.7 to 1.9 (7H, m), 2.51 (3H, s), 2.79 (1H, tt, J = 3.
7, 11.3Hz), 5.19 (2H, br-s), 7.36 ~ 7.43 (2H, m), 7.94 (1H, t) IR (KBr): 3342, 3244, 2932, 1612, 1344, 1168 cm-1 MS (FAB +): 339 (MH+)

【0076】[0076]

【発明の効果】上記から明らかなとおり、本発明によれ
ば、従来の方法に比べて極めて効率よく、高収率で希望
するシクロオキシゲナーゼ−2(COX−2)を選択的
に阻害する化合物〔7〕を製造することが可能である。
また、本発明の製造方法は実用性の高い、工業的にも非
常に有用な製造方法である。
As is apparent from the above, according to the present invention, a compound [7] which selectively inhibits desired cyclooxygenase-2 (COX-2) in a highly efficient manner and in a high yield as compared with conventional methods [7] ] Can be manufactured.
Further, the production method of the present invention is highly practical and industrially very useful.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平10−120566(JP,A) 特開 平5−70425(JP,A) 国際公開96/019463(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07D 263/32 CA(STN) CASREACT(STN) REGISTRY(STN)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-10-120566 (JP, A) JP-A-5-70425 (JP, A) International Publication 96/019463 (WO, A1) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C07D 263/32 CA (STN) CASREAT (STN) REGISTRY (STN)

Claims (9)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 一般式〔1〕 【化1】 (式中、Rは置換されてもよいシクロアルキル基、置
換されてよいアリール基又は置換されてもよい複素環基
であり、Rは低級アルキル基又はハロゲン化低級アル
キル基である)で表される化合物を、不活性溶媒中、塩
基の存在下、塩化チオニルと反応させることによって、
一般式〔2〕 【化2】 (式中、R及びRは前記と同じである)で表される
オキサゾロン化合物となし、引き続きこの化合物を酢酸
エチル及びテトラヒドロフラン中、マグネシウム塩及び
塩基の存在下に一般式〔3〕 【化3】 (式中、Rはハロゲン原子又は水素原子であり、Xは
ハロゲン原子である)で表される化合物と反応させ、一
般式〔4〕 【化4】 (式中、R、R及びRは前記と同じである)で表
される化合物を得、この化合物を酸による加水分解及び
脱炭酸反応に付し、一般式〔5〕 【化5】 (式中、R、R及びRは前記と同じである)で表
される化合物となし、この化合物をスルホン化剤により
環化及びスルホン化し、更に塩化チオニルでクロロ化反
応を行い、一般式〔6〕 【化6】 (式中、R、R及びRは前記と同じである)で表
される化合物となし、続いてこの化合物を酢酸エチル
中、アンモニア水でアミド化することを特徴とする、一
般式〔7〕 【化7】 (式中、R、R及びRは前記と同じである)で示
されるオキサゾール化合物の製造方法。
1. A general formula [1]: (In the formula, R 1 is an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heterocyclic group, and R 2 is a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group) By reacting the represented compound with thionyl chloride in the presence of a base in an inert solvent,
General formula [2] (Wherein R 1 and R 2 are the same as above), and this compound is subsequently prepared in the presence of a magnesium salt and a base in ethyl acetate and tetrahydrofuran to give a compound of the general formula [3] 3] (In the formula, R 3 is a halogen atom or a hydrogen atom, and X is a halogen atom), and reacted with a compound represented by the general formula [4] (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above), the compound is subjected to hydrolysis and decarboxylation with an acid to give a compound of the general formula [5] ] (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as above), the compound is cyclized and sulfonated with a sulfonating agent, and further chlorinated with thionyl chloride. General formula [6] (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above), and the compound is then amidated with aqueous ammonia in ethyl acetate. [7] [Chemical 7] (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are the same as the above), and a method for producing the oxazole compound.
【請求項2】 Rがシクロアルキル基であり、R
低級アルキル基であり、Rがハロゲン原子である請求
項1記載の製造方法。
2. The production method according to claim 1, wherein R 1 is a cycloalkyl group, R 2 is a lower alkyl group, and R 3 is a halogen atom.
【請求項3】 Rがシクロヘキシル基であり、R
メチル基であり、R がフッ素原子である請求項1記載
の製造方法。
3. R1Is a cyclohexyl group, RTwoBut
A methyl group, R ThreeIs a fluorine atom.
Manufacturing method.
【請求項4】 一般式〔1〕 【化8】 (式中、Rは置換されてもよいシクロアルキル基、置
換されてよいアリール基又は置換されてもよい複素環基
であり、Rは低級アルキル基又はハロゲン化低級アル
キル基である)で表される化合物を、不活性溶媒中、塩
基の存在下、塩化チオニルと反応させることによって、
一般式〔2〕 【化9】 (式中、R及びRは前記と同じである)で表される
オキサゾロン化合物となし、引き続きこの化合物を酢酸
エチル及びテトラヒドロフラン中、マグネシウム塩及び
塩基の存在下に一般式〔3〕 【化10】 (式中、Rはハロゲン原子又は水素原子であり、Xは
ハロゲン原子である)で表される化合物と反応させ、一
般式〔4〕 【化11】 (式中、R、R及びRは前記と同じである)で表
される化合物を得、この化合物を酸による加水分解及び
脱炭酸反応に付すことを特徴とする、一般式〔5〕 【化12】 (式中、R、R及びRは前記と同じである)で表
されるアセトフェノン化合物の製造方法。
4. A compound represented by the general formula [1]: (In the formula, R 1 is an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heterocyclic group, and R 2 is a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group) By reacting the represented compound with thionyl chloride in the presence of a base in an inert solvent,
General formula [2] (Wherein R 1 and R 2 are the same as above), and this compound is subsequently prepared in the presence of a magnesium salt and a base in ethyl acetate and tetrahydrofuran to give a compound of the general formula [3] 10] (In the formula, R 3 is a halogen atom or a hydrogen atom, and X is a halogen atom), and the compound represented by the general formula [4] (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as described above), and the compound is subjected to hydrolysis and decarboxylation reaction with an acid, and the compound of the general formula [5 ] [Chemical formula 12] (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are the same as the above), and a method for producing the acetophenone compound.
【請求項5】 Rがシクロアルキル基であり、R
低級アルキル基であり、Rがハロゲン原子である請求
項4記載の製造方法。
5. The production method according to claim 4, wherein R 1 is a cycloalkyl group, R 2 is a lower alkyl group, and R 3 is a halogen atom.
【請求項6】 Rがシクロヘキシル基であり、R
メチル基であり、R がフッ素原子である請求項4記載
の製造方法。
6. R1Is a cyclohexyl group, RTwoBut
A methyl group, R ThreeIs a fluorine atom.
Manufacturing method.
【請求項7】 一般式〔5〕 【化13】 (式中、Rは置換されてもよいシクロアルキル基、置
換されてよいアリール基又は置換されてもよい複素環基
であり、Rは低級アルキル基又はハロゲン化低級アル
キル基であり、Rはハロゲン原子又は水素原子であ
る)で表される化合物をスルホン化剤により環化及びス
ルホン化し、更に塩化チオニルでクロロ化反応を行い、
一般式〔6〕 【化14】 (式中、R、R及びRは前記と同じである)で表
される化合物となし、続いてこの化合物を酢酸エチル
中、アンモニア水でアミド化することを特徴とする、一
般式〔7〕 【化15】 (式中、R、R及びRは前記と同じである)で示
されるオキサゾール化合物の製造方法。
7. A compound represented by the general formula [5]: (In the formula, R 1 is an optionally substituted cycloalkyl group, an optionally substituted aryl group or an optionally substituted heterocyclic group, R 2 is a lower alkyl group or a halogenated lower alkyl group, and R 2 3 is a halogen atom or a hydrogen atom) is cyclized and sulfonated with a sulfonating agent, and further chlorinated with thionyl chloride,
General formula [6] (Wherein R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above), and the compound is then amidated with aqueous ammonia in ethyl acetate. [7] [Chemical 15] (In the formula, R 1 , R 2 and R 3 are the same as the above), and a method for producing the oxazole compound.
【請求項8】 R1がシクロアルキル基であり、R2が低
級アルキル基であり、Rがハロゲン原子である請求項
7記載の製造方法。
8. The production method according to claim 7, wherein R 1 is a cycloalkyl group, R 2 is a lower alkyl group, and R 3 is a halogen atom.
【請求項9】 Rがシクロヘキシル基であり、R
メチル基であり、R がフッ素原子である請求項7記載
の製造方法。
9. R1Is a cyclohexyl group, RTwoBut
A methyl group, R ThreeIs a fluorine atom.
Manufacturing method.
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