JP3468211B2 - （＋）−エストロン誘導体 - Google Patents
（＋）−エストロン誘導体Info
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- JP3468211B2 JP3468211B2 JP2000212227A JP2000212227A JP3468211B2 JP 3468211 B2 JP3468211 B2 JP 3468211B2 JP 2000212227 A JP2000212227 A JP 2000212227A JP 2000212227 A JP2000212227 A JP 2000212227A JP 3468211 B2 JP3468211 B2 JP 3468211B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ジシクロペンタジエン
誘導体を出発物質として、経口避妊薬として有用な
（＋）−エストロン誘導体の製造法に使用される中間体
に関するものである。
誘導体を出発物質として、経口避妊薬として有用な
（＋）−エストロン誘導体の製造法に使用される中間体
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】（＋）−エストロンは、経口避妊薬とし
て有用な化合物であるが、その製造法については、天然
から得る方法（米国特許第1967350号(1934)、同第13059
92号(1962) が最も古くから知られているが、効率、収
率は合成法とは比較にならないほど低いものである。
て有用な化合物であるが、その製造法については、天然
から得る方法（米国特許第1967350号(1934)、同第13059
92号(1962) が最も古くから知られているが、効率、収
率は合成法とは比較にならないほど低いものである。
【０００３】立体配置が天然型である（＋）−エストロ
ンの合成法は、近年いくつか開発されている。ポズナー
ら（J. Am. Chem. Soc., 108, 1239(1986)) は、ＡＢ環
骨格を持った化合物と不整誘導されたＤ環骨格を持った
化合物とを不整マイケル付加反応させた後、さらに分子
内ディールス・アルダー反応により、Ｃ環骨格を形成
し、91〜94％のジアステレオ選択性でエストロン骨格を
構築している。しかしながら、総収率が6.3 ％と低く、
反応工程も９段階も経ており、効率的とはいえない。
ンの合成法は、近年いくつか開発されている。ポズナー
ら（J. Am. Chem. Soc., 108, 1239(1986)) は、ＡＢ環
骨格を持った化合物と不整誘導されたＤ環骨格を持った
化合物とを不整マイケル付加反応させた後、さらに分子
内ディールス・アルダー反応により、Ｃ環骨格を形成
し、91〜94％のジアステレオ選択性でエストロン骨格を
構築している。しかしながら、総収率が6.3 ％と低く、
反応工程も９段階も経ており、効率的とはいえない。
【０００４】また、タバーら（J. Org. Chem., 52, 28
(1987) は、ショウノウ誘導体を不整源としてＤ環骨格
をもったβ−ケトエステルを構築し、これとベンゾシク
ロブテン誘導体を結合させ、最後に分子内環化反応によ
り、ＢＣ環骨格を一度に構築して91％eeの光学純度を持
つ（＋）−エストロンを合成している。しかしながら、
この方法も反応工程は多段階である。β−ケトエステル
を構築するのに５段階も要し、ベンゾシクロブテン誘導
体の合成に３段階を要する。さらに両者の結合を含めて
３段階かけて目的の骨格を得ている。環化反応の収率が
低く（41％) 、β−ケトエステル前駆体からの総収率は
9.8 ％であり、立体選択性は比較的良いものの、やはり
効率よい製造法とはいえない。
(1987) は、ショウノウ誘導体を不整源としてＤ環骨格
をもったβ−ケトエステルを構築し、これとベンゾシク
ロブテン誘導体を結合させ、最後に分子内環化反応によ
り、ＢＣ環骨格を一度に構築して91％eeの光学純度を持
つ（＋）−エストロンを合成している。しかしながら、
この方法も反応工程は多段階である。β−ケトエステル
を構築するのに５段階も要し、ベンゾシクロブテン誘導
体の合成に３段階を要する。さらに両者の結合を含めて
３段階かけて目的の骨格を得ている。環化反応の収率が
低く（41％) 、β−ケトエステル前駆体からの総収率は
9.8 ％であり、立体選択性は比較的良いものの、やはり
効率よい製造法とはいえない。
【０００５】すなわち、本発明以前においては、需要の
高まっている（＋）−エストロンの供給法は充分とはい
えない状況にあった。
高まっている（＋）−エストロンの供給法は充分とはい
えない状況にあった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】以上の点から、本発明
者らは（＋）−エストロン誘導体を効率よく、なおかつ
光学純度も良く得ると言う目的を達成するために鋭意検
討し、その結果、ジシクロペンタジエンを出発物質とし
て（＋）−エストロン誘導体が効率よく得られる方法を
見出した。そして、その製造法に使用される新規の中間
体を見出した。
者らは（＋）−エストロン誘導体を効率よく、なおかつ
光学純度も良く得ると言う目的を達成するために鋭意検
討し、その結果、ジシクロペンタジエンを出発物質とし
て（＋）−エストロン誘導体が効率よく得られる方法を
見出した。そして、その製造法に使用される新規の中間
体を見出した。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、次式、
【０００８】
【化５】
【０００９】で表される（−）−トリシクロ［５．２．
１．０2.6 ］デカ−４，８−ジエン−３−オン（１）を
出発物質として、次式
１．０2.6 ］デカ−４，８−ジエン−３−オン（１）を
出発物質として、次式
【００１０】
【化６】
【００１１】（式中、Ｒは炭素数１〜20のアルキル基を
示す) で表される４−ビニル−７−アルコキシ−１，２
−ジヒドロナフタレン（２）と不整ディールス・アルダ
ー反応を行い、次式
示す) で表される４−ビニル−７−アルコキシ−１，２
−ジヒドロナフタレン（２）と不整ディールス・アルダ
ー反応を行い、次式
【００１２】
【化７】
【００１３】（式中、Ｒは上記と同じである) で表され
る化合物（３）を経て、次式
る化合物（３）を経て、次式
【００１４】
【化８】
【００１５】（式中、Ｒは上記と同じである) で表され
る（＋）−エストロン誘導体（４）を得ることを特徴と
する（＋）−エストロン誘導体の製造法に用いる中間体
である。化合物（３）から（＋）−エストロン誘導体
（４）を得る工程では次式
る（＋）−エストロン誘導体（４）を得ることを特徴と
する（＋）−エストロン誘導体の製造法に用いる中間体
である。化合物（３）から（＋）−エストロン誘導体
（４）を得る工程では次式
【００１６】
【化９】
【００１７】
【化１０】
【００１８】
【化１１】
【００１９】（式中、Ｒは炭素数１〜20のアルキル基を
示す) で表される中間体を経る。本製造法の反応経路は
以下の式に示される。
示す) で表される中間体を経る。本製造法の反応経路は
以下の式に示される。
【００２０】
【化１２】
【００２１】本発明の出発物質である（−）−トリシク
ロ［５．２．１．０2.6 ］デカ−４，８−ジエン−３−
オン（１）は、ジシクロペンタジエンをセレンオキサイ
ドにより酸化して、得られるラセミ−トリシクロ〔５．
２．１．０2.6 〕デカ−３−ヒドロキシ−４，６−ジエ
ンを、リパーゼを用いてアシル化剤とエステル交換反応
させるか（特願平１−237546号) 、あるいはアセチル化
後に加水分解して（J.Chem. Soc. Chem. Commun., 198
9, 271) 光学分割することにより得ることができる。
ロ［５．２．１．０2.6 ］デカ−４，８−ジエン−３−
オン（１）は、ジシクロペンタジエンをセレンオキサイ
ドにより酸化して、得られるラセミ−トリシクロ〔５．
２．１．０2.6 〕デカ−３−ヒドロキシ−４，６−ジエ
ンを、リパーゼを用いてアシル化剤とエステル交換反応
させるか（特願平１−237546号) 、あるいはアセチル化
後に加水分解して（J.Chem. Soc. Chem. Commun., 198
9, 271) 光学分割することにより得ることができる。
【００２２】得られた（−）−トリシクロ［５．２．
１．０2.6 ］デカ−４，８−ジエン−３−オン（１）
と、シュミットらの方法（Liebigs Ann.Chem,. 536, 19
6(1938)；同 537, 246(1939))で得られる４−ビニル−
７−アルコキシ−１，２−ジヒドロナフタレン（２）を
ルイス酸の存在下、不整ディールス・アルダー反応させ
ることにより、化合物（３）を得ることができる。ここ
で使用するルイス酸としては、塩化ジエチルアルミニウ
ムが最も好ましいが、四塩化チタン、塩化アルミニウム
など、反応を触媒し、立体配置を制御できるものであれ
ば使用することができる。このときの反応温度は−78℃
〜−10℃であり、好ましくは−30℃である。
１．０2.6 ］デカ−４，８−ジエン−３−オン（１）
と、シュミットらの方法（Liebigs Ann.Chem,. 536, 19
6(1938)；同 537, 246(1939))で得られる４−ビニル−
７−アルコキシ−１，２−ジヒドロナフタレン（２）を
ルイス酸の存在下、不整ディールス・アルダー反応させ
ることにより、化合物（３）を得ることができる。ここ
で使用するルイス酸としては、塩化ジエチルアルミニウ
ムが最も好ましいが、四塩化チタン、塩化アルミニウム
など、反応を触媒し、立体配置を制御できるものであれ
ば使用することができる。このときの反応温度は−78℃
〜−10℃であり、好ましくは−30℃である。
【００２３】反応溶媒は炭化水素、ハロゲン系の溶媒を
使用することができ、特に好ましくはｎ−ヘキサン及び
ジクロロメタンである。反応時間は処理量等により異な
るが、12〜96時間で、好ましくは24〜36時間である。得
られた化合物（３）は、塩基の存在下、ヨウ化メチルに
よりメチル化され、化合物（５）にみちびくことができ
る。塩基は、カリウムｔ−ブトキシドが特に好ましい
が、メチル化を進行させるものであれば種類を問わな
い。また、メチル化剤も臭化メチル、塩化メチルを使用
することができる。
使用することができ、特に好ましくはｎ−ヘキサン及び
ジクロロメタンである。反応時間は処理量等により異な
るが、12〜96時間で、好ましくは24〜36時間である。得
られた化合物（３）は、塩基の存在下、ヨウ化メチルに
よりメチル化され、化合物（５）にみちびくことができ
る。塩基は、カリウムｔ−ブトキシドが特に好ましい
が、メチル化を進行させるものであれば種類を問わな
い。また、メチル化剤も臭化メチル、塩化メチルを使用
することができる。
【００２４】この段階で一部副生成物として得られるＯ
−メチル体である化合物（８）をカラムクロマトグラフ
ィーなどにより分離し、塩酸で０℃で処理することによ
り、容易に化合物（３）に戻すことができる。すなわ
ち、再び（＋）−エストロンの合成中間体として使用す
ることができる。化合物（５）をトリフルオロ酢酸およ
びトリエチルシランで処理することにより化合物（６）
を得る。
−メチル体である化合物（８）をカラムクロマトグラフ
ィーなどにより分離し、塩酸で０℃で処理することによ
り、容易に化合物（３）に戻すことができる。すなわ
ち、再び（＋）−エストロンの合成中間体として使用す
ることができる。化合物（５）をトリフルオロ酢酸およ
びトリエチルシランで処理することにより化合物（６）
を得る。
【００２５】更に加熱することによりレトロ・ディール
ス・アルダー反応させて化合物（７）を得る。最後に、
接触水素添加により化合物（７）の不飽和結合を還元
し、目的とする（＋）−エストロン誘導体（４）を得る
ことができる。還元触媒は、ラネーニッケルなど、接触
触媒を使用することができるが、好ましくは、パラジウ
ムカーボンである。
ス・アルダー反応させて化合物（７）を得る。最後に、
接触水素添加により化合物（７）の不飽和結合を還元
し、目的とする（＋）−エストロン誘導体（４）を得る
ことができる。還元触媒は、ラネーニッケルなど、接触
触媒を使用することができるが、好ましくは、パラジウ
ムカーボンである。
【００２６】
【発明の効果】以上説明した中間体を用いることによ
り、出発物質であるジシクロペンタジエン誘導体（１）
から少ない工程で総収率良く（＋）−エストロン誘導体
を得ることができる。化合物（８) の回収を考慮に入れ
れば、更に良い収率で（＋）−エストロンを得ることが
できる。
り、出発物質であるジシクロペンタジエン誘導体（１）
から少ない工程で総収率良く（＋）−エストロン誘導体
を得ることができる。化合物（８) の回収を考慮に入れ
れば、更に良い収率で（＋）−エストロンを得ることが
できる。
【００２７】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらの実施例によって制限されるも
のではない。 実施例１ （−）−トリシクロ［５．２．１．０2.6 ］デカ−４，
８−ジエン−３−オン（１）1.72g (11.8mmol)と４−ビ
ニル−７−メトキシ−１，２−ジヒドロナフタレン
（２）2.63g (14.1mmol)を、ジクロロメタン25mlに溶解
し、−30℃に冷却した。この溶液に、塩化ジエチルアル
ミニウム（0.94Ｍ、ｎ−ヘキサン溶液）15ml（14.1mmo
l) を滴下した。−30℃で32時間攪拌後、５％塩酸を加
え、更にジクロロメタンで抽出した。次にジクロロメタ
ン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順
で洗い硫酸マグネシウム上で乾燥した。ジクロロメタン
留去後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、3.1g (収率81.5％）の化合物（３）を得た。
するが、本発明はこれらの実施例によって制限されるも
のではない。 実施例１ （−）−トリシクロ［５．２．１．０2.6 ］デカ−４，
８−ジエン−３−オン（１）1.72g (11.8mmol)と４−ビ
ニル−７−メトキシ−１，２−ジヒドロナフタレン
（２）2.63g (14.1mmol)を、ジクロロメタン25mlに溶解
し、−30℃に冷却した。この溶液に、塩化ジエチルアル
ミニウム（0.94Ｍ、ｎ−ヘキサン溶液）15ml（14.1mmo
l) を滴下した。−30℃で32時間攪拌後、５％塩酸を加
え、更にジクロロメタンで抽出した。次にジクロロメタ
ン層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順
で洗い硫酸マグネシウム上で乾燥した。ジクロロメタン
留去後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、3.1g (収率81.5％）の化合物（３）を得た。
【００２８】本化合物の物性は以下の通りであった。
［α］D 31−168.3 ゜（c1.01, CHCl3)
ＩＲ (film) νmax 1730, 1605cm-1 1
Ｈ−ＮＭＲ（500MHz, CDCl3) J, 1.35(1H,d, J＝8.5H
z) 1.51(1H,d, J＝7.9Hz), 1.84(1H,ddd, J＝17.1, 12.2,
4.9Hz),1.95-2.02(1H,m), 2.16-2.27(2H,m), 2.36-2.51
(3H,m),2.58-2.62(1H,m), 2.72-2.91(4H,m), 3.09-3.12
(1H,m),3.80(3H,s), 6.15-6.22(3H,m), 6.66(1H,d, J
＝8.6Hz),7.47(1H,d, J＝8.6Hz) ＭＳ m/z 332（Ｍ+）, 266（100％） 元素分析 計算値 Ｃ23Ｈ24Ｏ2 ：Ｃ 83.10, Ｈ 7.28 実測値 : Ｃ 83.16, Ｈ 7.34。
z) 1.51(1H,d, J＝7.9Hz), 1.84(1H,ddd, J＝17.1, 12.2,
4.9Hz),1.95-2.02(1H,m), 2.16-2.27(2H,m), 2.36-2.51
(3H,m),2.58-2.62(1H,m), 2.72-2.91(4H,m), 3.09-3.12
(1H,m),3.80(3H,s), 6.15-6.22(3H,m), 6.66(1H,d, J
＝8.6Hz),7.47(1H,d, J＝8.6Hz) ＭＳ m/z 332（Ｍ+）, 266（100％） 元素分析 計算値 Ｃ23Ｈ24Ｏ2 ：Ｃ 83.10, Ｈ 7.28 実測値 : Ｃ 83.16, Ｈ 7.34。
【００２９】実施例２
化合物（３）560mg (1.96mmol)のジメトキシエタン８ml
溶液に室温下でカリウムｔ−ブトキシド37.8mg (3.37mm
ol) を加え、12分間攪拌した。氷冷下、ヨウ化メチル1.
1ml (17mmol)を滴下し、更に12分間攪拌後、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液を加え、エーテルで抽出した。有機
層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム上で乾燥
し、溶媒留去後、残留物をシリガゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、エーテル／ｎ−ヘキサン（１／１）の
留分より、化合物（５）334mg(収率57％）と化合物
（８）123mg(収率21％) を得た。さらに化合物（５）は
メタノールより再結晶して無色針状晶を得た。
溶液に室温下でカリウムｔ−ブトキシド37.8mg (3.37mm
ol) を加え、12分間攪拌した。氷冷下、ヨウ化メチル1.
1ml (17mmol)を滴下し、更に12分間攪拌後、飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液を加え、エーテルで抽出した。有機
層を飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム上で乾燥
し、溶媒留去後、残留物をシリガゲルカラムクロマトグ
ラフィーに付し、エーテル／ｎ−ヘキサン（１／１）の
留分より、化合物（５）334mg(収率57％）と化合物
（８）123mg(収率21％) を得た。さらに化合物（５）は
メタノールより再結晶して無色針状晶を得た。
【００３０】本化合物の物性は以下の通りであった。
融点 161〜162 ℃
［α］D 31＋130゜（ｃ0.665, CHCl3)
ＩＲ（film) νmax 1735, 1606 cm-1 1
Ｈ−ＮＭＲ（90MHz, CDCl3) J, 1.09(3H,s),1.48-2.65
(9H,m), 2.80-3.21(5H,m), 3.78(3H,s), 5.81-6.06(2H,
m) 6.10-6.28(1H,m), 6.57-6.79(2H,m), 7.39(1H,d, J＝8.
3Hz)ＭＳ m/z 246（Ｍ+ 100％） 元素分析 計算値 Ｃ24Ｈ26Ｏ2 ：Ｃ 83.20, Ｈ 7.56 実測値 ：Ｃ 83.21, Ｈ 7.78。
(9H,m), 2.80-3.21(5H,m), 3.78(3H,s), 5.81-6.06(2H,
m) 6.10-6.28(1H,m), 6.57-6.79(2H,m), 7.39(1H,d, J＝8.
3Hz)ＭＳ m/z 246（Ｍ+ 100％） 元素分析 計算値 Ｃ24Ｈ26Ｏ2 ：Ｃ 83.20, Ｈ 7.56 実測値 ：Ｃ 83.21, Ｈ 7.78。
【００３１】実施例３
化合物（５）304mg (0.878mmol) のジクロロメタン６ml
溶液にトリフルオロ酢酸0.68ml (8.83mmol)、トリエチ
ルシラン0.70ml (4.38mmol) を滴下し、室温で20時間攪
拌した。氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、
ジクロロメタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。減圧下で溶媒を留去後、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エー
テル／ｎ−ヘキサン（１／15) の流分より、化合物
（６）2.65mg (収率87％）を得た。メタノールより再結
晶して無色針状晶を得た。
溶液にトリフルオロ酢酸0.68ml (8.83mmol)、トリエチ
ルシラン0.70ml (4.38mmol) を滴下し、室温で20時間攪
拌した。氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、
ジクロロメタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マ
グネシウム上で乾燥した。減圧下で溶媒を留去後、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、エー
テル／ｎ−ヘキサン（１／15) の流分より、化合物
（６）2.65mg (収率87％）を得た。メタノールより再結
晶して無色針状晶を得た。
【００３２】本化合物の物性は以下の通りであった。
融点 173〜174 ℃
［α］D 31＋126 ゜(c0.96, CHCl3)
ＩＲ（ヌジョール）νmax 1728cm -1 1
Ｈ−ＮＭＲ（500MHz, CDCl3) J, 1.07(3H,s)
1.35-1.48(3H,m), 1.52-1.74(5H,m), 2.07-2.18(2H,m),
2.25-2.32(1H,m), 2.77(1H,tb, J＝10.4, 4.3Hz), 2.87
-2.98(3H,m) 3.08(1H,br,s), 3.24(1H,dd, J＝10.3, 4.2Hz), 3.77(3
H,s),6.02(1H,dd, J ＝5.5, 3.0Hz), 6.22(1H,dd, J＝
5.5, 3.0Hz),6.64(1H,d, J＝3.0Hz), 6.70(1H,dd,J＝1
1.0, 2.5Hz),7.16(1H,d, J＝9.1Hz) ＭＳ m/z 348（Ｍ+），282（100％） 元素分析 計算値 Ｃ24Ｈ28Ｏ2 ：Ｃ 82.72, Ｈ 8.10 実測値 ：Ｃ 82.55, Ｈ 8.10。
2.25-2.32(1H,m), 2.77(1H,tb, J＝10.4, 4.3Hz), 2.87
-2.98(3H,m) 3.08(1H,br,s), 3.24(1H,dd, J＝10.3, 4.2Hz), 3.77(3
H,s),6.02(1H,dd, J ＝5.5, 3.0Hz), 6.22(1H,dd, J＝
5.5, 3.0Hz),6.64(1H,d, J＝3.0Hz), 6.70(1H,dd,J＝1
1.0, 2.5Hz),7.16(1H,d, J＝9.1Hz) ＭＳ m/z 348（Ｍ+），282（100％） 元素分析 計算値 Ｃ24Ｈ28Ｏ2 ：Ｃ 82.72, Ｈ 8.10 実測値 ：Ｃ 82.55, Ｈ 8.10。
【００３３】実施例４
化合物（６）13mg（0.037mmol)のジフェニルエーテル１
ml溶液を1.5 時間加熱還流した。シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、エノン体（７）８mg (収率76
％）を得た。エノン体39mg (0.14mmol) のエタノール溶
液に10％パラジウムカーボン４mgを加え、水素気流下50
分間攪拌した。セライト濾過後、濾液を減圧下濃縮し，
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
エーテル／ｎ−ヘキサン（１／６）の流分からエストロ
ンメチルエーテル（４）33mg (収率84％）を得た。
ml溶液を1.5 時間加熱還流した。シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーに付し、エノン体（７）８mg (収率76
％）を得た。エノン体39mg (0.14mmol) のエタノール溶
液に10％パラジウムカーボン４mgを加え、水素気流下50
分間攪拌した。セライト濾過後、濾液を減圧下濃縮し，
残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、
エーテル／ｎ−ヘキサン（１／６）の流分からエストロ
ンメチルエーテル（４）33mg (収率84％）を得た。
【００３４】本化合物の物性は以下の通りであった。
融点 174〜175.5 ℃
［α］D 33＋159 ゜(c0.72, CHCl3)
ＩＲ（ヌジョール）νmax 1735cm-1 1
Ｈ−ＮＭＲ（90MHz, CDCl3) J, 0.88(3H,s)
1.20-2.51(13H,m), 2.72-2.98(2H,m), 3.77(3H,s), 6.5
4-6.67(2H,m),6.55-6.76(1H,m), 7.20(1H,d, J ＝8.3H
z) ＭＳ m/z 284（Ｍ+ 100％）。
4-6.67(2H,m),6.55-6.76(1H,m), 7.20(1H,d, J ＝8.3H
z) ＭＳ m/z 284（Ｍ+ 100％）。
【００３５】実施例５
化合物（８)(融点103 〜105 ℃、［α］D 33＋215 ゜(c
1.0.1, CHCl3)123mgを０℃の10％ HCl-THF(1:3) 混合溶
媒５mlに溶解し、攪拌しながら０℃から 1.5時間かけて
徐々に室温に戻した。氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液を加えて中和した後、ジクロロメタンで抽出し、飽
和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム上で乾燥した。ジ
クロロメタンを留去した後、残留物をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付し、化合物（３）100mg(定量的) を得
た。
1.0.1, CHCl3)123mgを０℃の10％ HCl-THF(1:3) 混合溶
媒５mlに溶解し、攪拌しながら０℃から 1.5時間かけて
徐々に室温に戻した。氷冷下飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液を加えて中和した後、ジクロロメタンで抽出し、飽
和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム上で乾燥した。ジ
クロロメタンを留去した後、残留物をシリカゲルクロマ
トグラフィーに付し、化合物（３）100mg(定量的) を得
た。
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式 【化１】 （式中、Ｒは炭素数１〜20のアルキル基を示す) で表さ
れる化合物。 - 【請求項２】 一般式 【化２】 （式中、Ｒは炭素数１〜20のアルキル基を示す) で表さ
れる化合物。 - 【請求項３】 一般式 【化３】 （式中、Ｒは炭素数１〜20のアルキル基を示す）で表さ
れる化合物。 - 【請求項４】 一般式 【化４】 （式中、Ｒは炭素数１〜20のアルキル基を示す）で表さ
れる化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000212227A JP3468211B2 (ja) | 1991-11-25 | 2000-07-13 | （＋）−エストロン誘導体 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33455491A JP3178046B2 (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | （＋）−エストロン誘導体の製造法 |
| JP2000212227A JP3468211B2 (ja) | 1991-11-25 | 2000-07-13 | （＋）−エストロン誘導体 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33455491A Division JP3178046B2 (ja) | 1991-11-25 | 1991-11-25 | （＋）−エストロン誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001055398A JP2001055398A (ja) | 2001-02-27 |
| JP3468211B2 true JP3468211B2 (ja) | 2003-11-17 |
Family
ID=30002130
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000212227A Expired - Fee Related JP3468211B2 (ja) | 1991-11-25 | 2000-07-13 | （＋）−エストロン誘導体 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3468211B2 (ja) |
-
2000
- 2000-07-13 JP JP2000212227A patent/JP3468211B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2001055398A (ja) | 2001-02-27 |
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