JP3469013B2 - Vacuum deposition equipment - Google Patents
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Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、真空蒸着装置に関
する。例えば、略真空状態で電子ビームによって金属を
蒸発させ、この金属蒸気を移動する帯状のプラスチック
フィルムに蒸着する際の電子ビーム安定装置として利用
できるものである。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a vacuum vapor deposition apparatus. For example, it can be used as an electron beam stabilizer for evaporating a metal by an electron beam in a substantially vacuum state and depositing this metal vapor on a moving strip-shaped plastic film.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の真空蒸着装置の一例を図３、図４
に示す。図３はその蒸着部の真空チャンバ及びるつぼを
破断した側面図、図４は図３のIV−IV断面図である。両
図に示すように、真空チャンバ４２内に銅製の水冷受台
３２が固設されると共にこの水冷受台３２に絶縁断熱材
３３を介してセラミック製のるつぼ３１が支持されてい
る。2. Description of the Related Art An example of a conventional vacuum vapor deposition apparatus is shown in FIGS.
Shown in. 3 is a side view in which the vacuum chamber and the crucible of the vapor deposition section are broken, and FIG. 4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG. As shown in both figures, a water cooling pedestal 32 made of copper is fixedly mounted in a vacuum chamber 42, and a ceramic crucible 31 is supported on the water cooling pedestal 32 via an insulating heat insulating material 33.
【０００３】るつぼ３１の上方における真空チャンバ４
２の壁面には電子ビーム発生装置３８が固設されてい
る。また、るつぼ３１の電子ビーム４０入側、つまり、
その上流側におけるるつぼ上面よりも下方のフィルム幅
方向両端部には、板状のポールピース（Ｎ極、Ｓ極）３
５が装着され、プラスチックフィルム２９の移動側（図
３中右方）には偏向コイル３４及びチャンネル３６が装
着されている。尚、図中、３７はシャッタ、３９はエッ
ジマスク、４１は駆動回転する冷却ドラムである。Vacuum chamber 4 above crucible 31
An electron beam generator 38 is fixedly installed on the wall surface of 2. In addition, the electron beam 40 entrance side of the crucible 31, that is,
Plate-like pole pieces (N pole, S pole) 3 are provided at both ends in the film width direction below the upper surface of the crucible on the upstream side.
5, a deflection coil 34 and a channel 36 are attached to the moving side (right side in FIG. 3) of the plastic film 29. In the figure, 37 is a shutter, 39 is an edge mask, and 41 is a cooling drum that is driven and rotated.
【０００４】この真空蒸着装置では、ほぼ真空に減圧さ
れた真空チャンバ４２内のシャッタ３７を開き、電子ビ
ーム発生装置３８から電子ビーム４０を水平方向に放射
し、この電子ビーム４０を偏向コイル３４によってるつ
ぼ３１内の溶融金属３０（例えば、コバルト）に照射し
て加熱し、金属蒸気を蒸発させる。金属蒸気をチャンネ
ル３６で遮蔽しながら、両エッジ部がエッジマスク３９
で覆われて駆動回転する冷却ドラム４１に巻回して移動
するプラスチックフィルム２９に蒸着し、所要の膜厚の
金属被膜を連続して生成する。In this vacuum vapor deposition apparatus, the shutter 37 in the vacuum chamber 42, which has been evacuated to a substantially vacuum, is opened, the electron beam 40 is horizontally emitted from the electron beam generator 38, and the electron beam 40 is deflected by the deflection coil 34. The molten metal 30 (for example, cobalt) in the crucible 31 is irradiated and heated to evaporate the metal vapor. Both edges are edge masks 39 while the metal vapor is blocked by the channels 36.
It is wound on a cooling drum 41 which is covered with and is driven to rotate and is vapor-deposited on a moving plastic film 29 to continuously produce a metal film having a required film thickness.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】従来の装置では、蒸着
時間の経過と共にるつぼ３１から蒸発した金属蒸気がる
つぼ３１、水冷受台３２、エッジマスク３９、チャンネ
ル３６等の周辺部材に無効蒸気として付着すると、電子
ビーム４０の偏向角度が不安定となり、さらに蒸着時間
が経過して無効蒸気の付着が多くなると電子ビーム４０
が偏向しなくなる。In the conventional apparatus, the metal vapor evaporated from the crucible 31 with the elapse of vapor deposition time adheres to the peripheral members such as the crucible 31, the water cooling pedestal 32, the edge mask 39 and the channel 36 as ineffective vapor. Then, the deflection angle of the electron beam 40 becomes unstable, and when the deposition time elapses and the amount of ineffective vapor adheres more, the electron beam 40
Will not be biased.
【０００６】従って、電子ビーム４０が溶融金属３０か
ら免れてるつぼ３１の端縁部、絶縁断熱材３３、水冷受
台３２の上面を照射するのでこれらの部材を破損すると
共に、るつぼ３１内の溶融金属３０へ照射しなくなるの
で金属蒸気の蒸発不能となる。Accordingly, the electron beam 40 irradiates the edge of the crucible 31, which is free from the molten metal 30, the insulating heat insulating material 33, and the upper surface of the water-cooling pedestal 32, so that these members are damaged and the melting in the crucible 31 occurs. Since the metal 30 is not irradiated, the vapor of the metal cannot be evaporated.
【０００７】このため、るつぼ３１の電子ビーム４０入
側のフィルム幅方向両外側に板状のポールピース３５を
装着しているが、ポールピース３５のみでは、磁場の空
間位置が悪いため、無効蒸気が周囲構造物へ付着し、こ
の板状のポールピース３５ではこの不具合を完全に解決
することができなかった。即ち、無効蒸気により、ポー
ルピース３５の偏向性能も影響を受けるため、蒸着時間
の経過（つまり、無効蒸気の増大）とともに、偏向性能
が低下し、最悪の場合には、るつぼ内に入射出来なくな
る虞があるからである。For this reason, plate-like pole pieces 35 are mounted on both outer sides of the crucible 31 on the electron beam 40 entrance side in the film width direction. Adhered to the surrounding structure, and the plate-shaped pole piece 35 could not completely solve this problem. That is, since the deflection performance of the pole piece 35 is also affected by the ineffective vapor, the deflection performance deteriorates as the vapor deposition time elapses (that is, the amount of the ineffective vapor increases), and in the worst case, the light cannot enter the crucible. This is because there is a risk.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の電子ビーム安定
装置は、次に示す構成によって前記課題を解決するため
の手段とする。
（１）請求項１においては、真空チャンバ内の蒸発槽上
方に電子ビームを水平方向に放射するように設けた電子
ビーム発生装置と、この電子ビームを前記蒸発槽内の溶
融金属に偏向させる偏向コイルと、前記蒸発槽の上面に
設けたプラスチックフィルム走行装置とを具備した真空
蒸着装置であって、前記蒸発槽の電子ビーム入側におけ
るプラスチックフィルム板幅方向両端において、前記蒸
発槽上面よりも下方に下部ポールピースをそれぞれ設
け、更に、前記蒸発槽上面より上方に強磁性体よりなる
上部ポールピースをそれぞれ設け、前記上部ポールピー
ス間に前記蒸発槽に対して平行な磁場を形成するように
したことを特徴とする。The electron beam stabilizing device of the present invention has the following structure to solve the above problems. (1) In claim 1, an electron beam generator provided so as to radiate an electron beam in the horizontal direction above the evaporation tank in the vacuum chamber, and a deflection for deflecting the electron beam to the molten metal in the evaporation tank. A vacuum vapor deposition apparatus comprising a coil and a plastic film traveling device provided on the upper surface of the evaporation tank, wherein the evaporation film is below the upper surface of the evaporation tank at both ends in the width direction of the plastic film on the electron beam entrance side of the evaporation tank. to provide a lower pole piece, respectively, further, provided <br/> upper pole piece made of a ferromagnetic material above said evaporation tank top, respectively, the upper Porupi
It is characterized in that a magnetic field parallel to the evaporation tank is formed between the spaces .
【０００９】（２）請求項２においては、更に、前記上
部ポールピースを、柱状上部ポールピースとしたもので
ある。（３）請求項３においては、更に、前記上部ポールピー
スは、前記下部ポールピースに対して垂直状に取り付け
ることを特徴とする。 (2) In the present invention, the upper pole piece is a columnar upper pole piece. (3) In claim 3, the upper pole piece is further provided.
Mount vertically to the lower pole piece
It is characterized by
【００１０】〔作用〕
（１）請求項１においては、真空チャンバ内を略真空に
減圧して電子ビーム発生装置から電子ビームを双方の上
部ポールピース及び下部ポールピース間で水平方向に放
射し、偏向コイルによって下方に偏向させて蒸発槽内の
溶融金属を照射して加熱し、金属蒸気を蒸発させて移動
するプラスチックフィルムに蒸着し、所要の膜厚の金属
被膜を連続して生成する。この蒸着時間の経過と共に、
金属蒸気が蒸発槽の周辺の各部材に無効蒸気として付着
するが、電子ビームを双方の上部ポールピース及び下部
ポールピース間で放射し、その偏向角度を安定させて蒸
発槽内の溶融金属を照射して蒸発槽やその受台等の周辺
部材の破損を防止する。[Operation] (1) In claim 1, the inside of the vacuum chamber is decompressed to a substantially vacuum, and the electron beam is emitted from the electron beam generator in a horizontal direction between both upper pole pieces and lower pole pieces. It is deflected downward by a deflection coil to irradiate and heat the molten metal in the evaporation tank, vaporize the metal vapor and deposit it on the moving plastic film to continuously produce a metal film of a required thickness. With the passage of this deposition time,
Metal vapor adheres to each member around the evaporation tank as ineffective vapor, but the electron beam is radiated between both upper and lower pole pieces, and the deflection angle is stabilized to irradiate the molten metal in the evaporation tank. Therefore, damage to peripheral members such as the evaporation tank and its pedestal is prevented.
【００１１】（２）請求項２においては、更に、電子ビ
ームを双方の柱状上部ポールピース及び下部ポールピー
スに囲まれた領域で放射し、その安定した偏向角度によ
って蒸発槽内の溶融金属を確実に照射して、金属蒸着を
設定どおりに安定的に得ることで、安定した高品質の蒸
着被膜を得ることが可能となる。(2) In the present invention, the electron beam is further radiated in a region surrounded by both columnar upper pole pieces and lower pole pieces, and the stable deflection angle ensures the molten metal in the evaporation tank. It is possible to obtain a stable and high-quality vapor-deposited coating by irradiating the substrate with the metal to stably obtain the metal vapor deposition as set.
【００１２】[0012]
【実施例】本発明の一実施例に係る磁気テープ製造用の
真空蒸着装置を図１及び図２に示す。図１は真空蒸着装
置の蒸着部の真空チャンバ及びるつぼを破断した側面
図、図２は図１のII−II断面図である。即ち、図１及び
図２において、水冷受台３２に絶縁断熱材３３を介して
支持されたるつぼ３１及び水冷受台３２に装着された偏
向コイル３４のフィルム幅方向両端面には、下部ポール
ピースとして、従来の装置と同様の板状のポールピース
３５がそれぞれ装着されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A vacuum vapor deposition apparatus for manufacturing a magnetic tape according to an embodiment of the present invention is shown in FIGS. 1 is a side view in which a vacuum chamber and a crucible of a vapor deposition section of a vacuum vapor deposition apparatus are broken, and FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG. That is, in FIG. 1 and FIG. 2, the lower pole piece is provided on both end faces of the crucible 31 supported by the water cooling pedestal 32 via the insulating heat insulating material 33 and the deflection coil 34 mounted on the water cooling pedestal 32 in the film width direction. As such, plate-like pole pieces 35 similar to those in the conventional apparatus are mounted.
【００１３】双方のポールピース３５の電子ビーム４０
入側の上面には、上部ポールピースとして、１対の円柱
状ポールピース（Ｎ極、Ｓ極）１が立設されている。ポ
ールピース１は、偏向コイル３４のポールピース３５と
同様に磁性体材料であり、ポールピース１を電子ビーム
４０の放射入口流路両側位置であって、ポールピース３
５に取り付けることにより、上部ポールピース１間に
は、るつぼと平行な磁場が形成されるため、電子はロー
レンツ力により直角下向き方向に曲げられ、下方へ偏向
する。Electron beam 40 of both pole pieces 35
As an upper pole piece, a pair of cylindrical pole pieces (N pole, S pole) 1 is erected on the upper surface on the entrance side. The pole piece 1 is made of a magnetic material similar to the pole piece 35 of the deflection coil 34, and the pole piece 1 is located at both sides of the radiation inlet flow path of the electron beam 40.
By attaching to 5, a magnetic field parallel to the crucible is formed between the upper pole pieces 1, so that the electrons are bent downward at a right angle by the Lorentz force and are deflected downward.
【００１４】このように上記流路両側に磁界が作用する
ため、電子ビーム４０が拡散することなく全てるつぼ３
１内のコバルト３０に照射されることとなる。ポールピ
ース１の材質としては、ポールピース３５と同様に、
鉄、ニッケル、コバルト、鉄合金（磁性を有するステン
レス等）の強磁性体とすれば良い。フィルム２９の幅の
変更に応じて、流路幅を可変できるように、ポールピー
ス１を幅方向に移動可能な構成としても良い。なお、そ
の他の構成は従来の装置と同一であり、従来の装置と同
一の部材には同一の符号を付し、重複する説明を省略す
る。Since the magnetic fields act on both sides of the flow path in this way, the electron beam 40 is not diffused and all the crucible 3 is used.
The cobalt 30 in 1 is irradiated. As the material of the pole piece 1, like the pole piece 35,
A ferromagnetic material such as iron, nickel, cobalt, or an iron alloy (stainless steel having magnetism) may be used. The pole piece 1 may be configured to be movable in the width direction so that the flow path width can be changed according to the change in the width of the film 29. Note that the other configurations are the same as those of the conventional device, and the same members as those of the conventional device are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted.
【００１５】上記構成を有する本実施例の真空蒸着装置
では、次のような作用・効果が認められる。即ち、図１
及び図２に示すように、真空チャンバ４２内を例えば１
０-3torr以下の略真空に減圧してシャッタ３７を開き、
プラスチックフィルム２９を巻回した冷却ドラム４１を
駆動回転し、電子ビーム発生装置３８から電子ビーム４
０を双方の円柱状ポールピース１間で水平方向に放射
し、偏向コイル３４によってるつぼ３１の上方で下方に
偏向させてるつぼ３１内の溶融金属（コバルト）３０を
照射して加熱し、金属蒸気を蒸発させる。In the vacuum vapor deposition apparatus of this embodiment having the above structure, the following actions and effects are recognized. That is, FIG.
And, as shown in FIG.
Open the shutter 37 by reducing the pressure to a vacuum below 0 -3 torr.
The cooling drum 41 wound with the plastic film 29 is driven to rotate, and the electron beam generator 38 causes the electron beam 4 to pass.
0 is radiated horizontally between both cylindrical pole pieces 1 and is deflected downward by the deflection coil 34 above the crucible 31 to irradiate and heat the molten metal (cobalt) 30 in the crucible 31. Evaporate.
【００１６】この金属蒸気を、両エッジ部がエッジマス
ク３９によって覆われて移動するプラスチックフィルム
２９に蒸着し、所要の膜厚の金属被膜を連続して生成す
る。蒸着時間の経過と共に、金属蒸気が水冷受台３２、
シャッタ３７、チャンネル３６、エッジマスク３９等に
無効蒸気として付着するが、電子ビーム４０を双方の円
柱状ポールピース１に囲まれた領域で放射するので、そ
の偏向角度は安定してるつぼ３１内の溶融金属３０を確
実に照射し、るつぼ３１、絶縁断熱材３３、水冷受台３
２等の破損を防止する。This metal vapor is vapor-deposited on the moving plastic film 29 with both edge portions covered by the edge mask 39 to continuously produce a metal film having a required film thickness. As the vapor deposition time elapses, the metal vapor is cooled by the water cooling pedestal 32,
Although it adheres to the shutter 37, the channel 36, the edge mask 39, etc. as ineffective vapor, the electron beam 40 is emitted in the area surrounded by both cylindrical pole pieces 1, so that the deflection angle is stable. The molten metal 30 is surely irradiated, and the crucible 31, the insulating and heat insulating material 33, and the water cooling cradle 3
Prevent damage such as 2.
【００１７】このように説明したように、本発明では、
るつぼと平行に磁場を形成することにより、ローレンツ
力により電子ビームを偏向するのであるから、偏向の効
果は磁場の三次元的（空間的）な配置が重要である。本
発明のように、上部ポールピース１をるつぼ上方かつ電
子銃側の空間的な位置に設け、ここにるつぼと平行な磁
場を形成することにより、従来の下部ポールピース３５
のみにより形成される空間磁場に比べて良好な偏向効果
を得ることができ、しかも、無効蒸気による影響を受け
にくい効果がある。As described above, according to the present invention,
Since the electron beam is deflected by the Lorentz force by forming a magnetic field parallel to the crucible, the three-dimensional (spatial) arrangement of the magnetic field is important for the effect of the deflection. As in the present invention, the upper pole piece 1 is provided above the crucible and at a spatial position on the side of the electron gun, and a magnetic field parallel to the crucible is formed here.
A good deflection effect can be obtained as compared with the spatial magnetic field formed by only the above, and there is an effect that it is less likely to be affected by the ineffective vapor.
【００１８】尚、本実施例では、上部ポールピース１を
円柱状としたため、確実に電子ビーム４０の偏向角度を
最も安定させてるつぼ３１内の溶融金属３０に照射する
ことができたが、これに限るものではなく、その他に、
板状材、角柱状材等のポールピース１が適用でき、これ
らの上部ポールピースでもある程度電子ビームの偏向角
度を安定させることができた。In this embodiment, since the upper pole piece 1 has a columnar shape, the molten metal 30 in the crucible 31 which can reliably stabilize the deflection angle of the electron beam 40 can be irradiated. It is not limited to
The pole piece 1 such as a plate-shaped material or a prismatic material can be applied, and even these upper pole pieces can stabilize the deflection angle of the electron beam to some extent.
【００１９】[0019]
【発明の効果】以上、実施例に基づいて具体的に説明し
たように、本発明は、次に示す効果を奏する。
（１）請求項１においては、蒸発槽の電子ビーム入側の
上面よりも下方のフィルム幅方向両端に下部ポールピー
スをそれぞれ設け、蒸発槽の電子ビーム入側の上面より
も上方のフィルム幅方向両端に強磁性体よりなる上部ポ
ールピースをそれぞれ設け、前記上部ポールピース間に
前記蒸発槽に対して平行な磁場を形成するようにしたこ
とにより、蒸着時間の経過と共に、蒸発槽から蒸発した
金属蒸気が蒸発槽の周辺部材に無効蒸気として付着して
も、電子ビームの偏向角度を安定させることができる。
従って、電子ビームを蒸発槽内の溶融金属へ常時照射す
ることが可能になり、蒸発槽等の破損を防止することが
できる。As described above in detail with reference to the embodiments, the present invention has the following effects. (1) In the first aspect, lower pole pieces are provided at both ends in the film width direction below the electron beam entrance side of the evaporation tank, respectively, and film width directions above the electron beam entrance side upper surface of the evaporation tank. Provide upper pole pieces made of ferromagnetic material at both ends, and place between the upper pole pieces.
By forming a magnetic field parallel to the evaporation tank, even if the metal vapor evaporated from the evaporation tank adheres to the peripheral members of the evaporation tank as ineffective vapor with the elapse of vapor deposition time, the electron beam is deflected. The angle can be stabilized.
Therefore, it becomes possible to constantly irradiate the molten metal in the evaporation tank with the electron beam, and it is possible to prevent damage to the evaporation tank and the like.
【００２０】（２）請求項２においては、（１）項の装
置の上部ポールピースに円柱状ポールピースを用いたこ
とより、（１）項の効果に加え、電子ビームの偏向をさ
らに一定の角度に安定させることができる。（３）請求項３においては、（１）又は（２）項の装置
の前記上部ポールピースを前記下部ポールピースに対し
て垂直状に取り付けたことにより、（１）又は（２）項
の効果に加え、電子ビームの偏向をさらに一定の角度に
安定させることができる。
従って、電子ビームを蒸発槽
内の溶融金属へ常時確実に照射することが可能になり、
蒸発槽等の部材の破損の防止と安定的な高品質の蒸着被
膜を生成することができる。(2) In claim 2, since the cylindrical pole piece is used as the upper pole piece of the device of (1), in addition to the effect of (1), the deflection of the electron beam is further constant. It can be stabilized at an angle. (3) In Claim 3, the device according to (1) or (2).
Of the upper pole piece to the lower pole piece
(1) or (2) due to the vertical mounting
In addition to the effect of
Can be stabilized. Therefore, it becomes possible to always reliably irradiate the molten metal in the evaporation tank with the electron beam,
It is possible to prevent damage to members such as an evaporation tank and to generate a stable high-quality vapor-deposited coating.
【図１】本発明の一実施例に係る真空蒸着装置の蒸着部
の真空チャンバ及びるつぼを破断した側面図である。FIG. 1 is a side view in which a vacuum chamber and a crucible of a vapor deposition unit of a vacuum vapor deposition apparatus according to an embodiment of the present invention are cut away.
【図２】図１のII−II断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along the line II-II in FIG.
【図３】従来の真空蒸着装置の一例に係る蒸着部の真空
チャンバ及びるつぼを破断した側面図である。FIG. 3 is a side view in which a vacuum chamber and a crucible of a vapor deposition section according to an example of a conventional vacuum vapor deposition apparatus are cut away.
【図４】図３のIV−IV断面図である。4 is a sectional view taken along line IV-IV in FIG.
１ 円柱状ポールピース ２９ プラスチックフィルム ３０ 溶融金属 ３１ るつぼ ３４ 偏向コイル ３５ ポールピース ３８ 電子ビーム発生装置 ４０ 電子ビーム ４１ 冷却ドラム 1 Cylindrical pole piece 29 plastic film 30 Molten metal 31 crucible 34 deflection coil 35 pole pieces 38 Electron Beam Generator 40 electron beam 41 cooling drum
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松尾 祐三 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式 会社 情報科学研究所内 (72)発明者 水野谷 博英 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式 会社 情報科学研究所内 (72)発明者 山本 準 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606 花王株式 会社 情報科学研究所内 (56)参考文献 特開 平４−229061（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−39465（ＪＰ，Ａ) 特開 平９−257548（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−81960（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C23C 14/00 - 14/58 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yuzo Matsuo 2606 Akabane, Kaiga-cho, Haga-gun, Tochigi Prefecture Kao Stock Company, Inc.Institute of Information Science (72) Inventor Hirohide Mizunoya 2606 Akabane, Kai-cho, Haga-gun, Tochigi Information Technology Research Institute In-house (72) Inventor Jun Yamamoto 2606 Akabane, Kaigamachi, Haga-gun, Tochigi Kao Co., Ltd. Research Institute for Information Science (56) Reference JP-A-4-229061 (JP, A) JP-A-3-39465 (JP, A) JP-A-9-257548 (JP, A) Actual development 4-81960 (JP, U) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C23C 14/00-14/58
Claims (3)
子ビームを水平方向に放射するように設けた電子ビーム
発生装置と、この電子ビームを前記蒸発槽内の溶融金属
に偏向させる偏向コイルと、前記蒸発槽の上方に設けた
プラスチックフィルムを巻掛ける冷却ロールを具え、前
記蒸発槽の電子ビーム入側におけるプラスチックフィル
ム板幅方向両端において、前記蒸発槽上面よりも下方に
下部ポールピースをそれぞれ設け、更に、前記蒸発槽上
面より上方に強磁性体よりなる上部ポールピースをそれ
ぞれ設け、前記上部ポールピース間に前記蒸発槽に対し
て平行な磁場を形成するようにしたことを特徴とする真
空蒸着装置。1. An electron beam generator provided so as to horizontally radiate an electron beam from a side of an evaporation tank in a vacuum chamber, and a deflection coil for deflecting the electron beam to a molten metal in the evaporation tank. And a cooling roll for winding a plastic film provided above the evaporation tank, at both ends in the width direction of the plastic film on the electron beam entrance side of the evaporation tank, lower pole pieces below the evaporation tank upper surface, respectively. The upper pole pieces made of a ferromagnetic material are provided above the upper surface of the evaporation tank, and the upper pole pieces are provided between the upper pole pieces with respect to the evaporation tank.
A vacuum deposition apparatus characterized in that a parallel magnetic field is formed .
ルピースであることを特徴とする請求項１記載の真空蒸
着装置。2. The vacuum deposition apparatus according to claim 1, wherein the upper pole piece is a columnar upper pole piece.
ルピースに対して垂直状に取り付けることを特徴とするCharacterized by being attached vertically to the lupe
請求項１又は２記載の真空蒸着装置。The vacuum vapor deposition device according to claim 1 or 2.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP31443196A JP3469013B2 (en) | 1996-11-26 | 1996-11-26 | Vacuum deposition equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31443196A JP3469013B2 (en) | 1996-11-26 | 1996-11-26 | Vacuum deposition equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPH10152769A JPH10152769A (en) | 1998-06-09 |
| JP3469013B2 true JP3469013B2 (en) | 2003-11-25 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country Status (1)
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| JP (1) | JP3469013B2 (en) |
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| JP5299096B2 (en) * | 2009-06-05 | 2013-09-25 | パナソニック株式会社 | Vapor deposition equipment |
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- 1996-11-26 JP JP31443196A patent/JP3469013B2/en not_active Expired - Fee Related
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