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JP3476059B2 - Method for producing hologram recording material - Google Patents
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JP3476059B2 - Method for producing hologram recording material - Google Patents

Method for producing hologram recording material

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JP3476059B2
JP3476059B2 JP16166998A JP16166998A JP3476059B2 JP 3476059 B2 JP3476059 B2 JP 3476059B2 JP 16166998 A JP16166998 A JP 16166998A JP 16166998 A JP16166998 A JP 16166998A JP 3476059 B2 JP3476059 B2 JP 3476059B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ホログラム記録材
料の作製方法に係り、詳しくは、光情報処理の分野にお
いてホログラフィー技術を基盤とする光制御部品の主た
る材料であるホログラム記録材料を作製する方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a hologram recording material, and more particularly to a method for producing a hologram recording material which is a main material of light control parts based on holography technology in the field of optical information processing. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】ある材料に光を当てると、屈折率が変わ
る現象をフォトリフラクティブ効果と称する。光の干渉
縞を照射すると、この干渉縞の形そのままに屈折率が変
調され、光照射を止めてもこの屈折率変調が保存されて
一種の回折格子として働く。この様な効果を示す材料
は、ホログラフィー技術のなかで、ホログラムの記録媒
体として利用されている。すなわち、フォトリフラクテ
ィブ効果を示す材料に、ホログラフィー技術で称すると
ころの「物体光」と「参照光」を照射して、前記材料中
に干渉縞を形成すると、干渉縞が材料の屈折率変調とし
て記録される。記録された屈折率変調は、前記のように
一種の回折格子であり、ホログラフィー技術で称すると
ころの「ホログラム」である。前記参照光及び物体光の
照射を止めた後、該参照光に相当する光を再び前記材料
に照射すると(再生光を照射すると)、前記ホログラム
による回折現象で、前記物体光が再生される。
2. Description of the Related Art The phenomenon in which the refractive index changes when a certain material is exposed to light is called the photorefractive effect. When the interference fringes of light are irradiated, the refractive index is modulated while maintaining the shape of the interference fringes, and even if the irradiation of light is stopped, the refractive index modulation is preserved and it functions as a kind of diffraction grating. A material exhibiting such an effect is used as a hologram recording medium in the holographic technique. That is, when a material exhibiting a photorefractive effect is irradiated with “object light” and “reference light”, which are called by holography technology, and interference fringes are formed in the material, the interference fringes are recorded as a refractive index modulation of the material. To be done. The recorded refractive index modulation is a kind of diffraction grating as described above, and is a “hologram” referred to in holographic technology. After the irradiation of the reference light and the object light is stopped, the light corresponding to the reference light is irradiated again on the material (irradiation of the reproduction light), whereby the object light is reproduced by the diffraction phenomenon by the hologram.

【0003】フォトリフラクティブ効果を示す材料とし
ては、電気光学結晶として知られるニオブ酸リチウム、
ニオブ酸ストロンチウムバリウム、チタン酸バリウム、
ニオブ酸カリウム、タンタル酸ニオブ酸カリウムなどの
単結晶などがある。そして、この材料の具体的な利用分
野は、画像の記録や、近年注目されている位相共役光発
生の他、記録された回折格子の波長選択制を利用したフ
ィルターなどがある。
As a material exhibiting a photorefractive effect, lithium niobate known as an electro-optic crystal,
Strontium barium niobate, barium titanate,
Single crystals such as potassium niobate and potassium tantalate niobate are available. Specific fields of application of this material include recording of images, generation of phase conjugate light, which has been attracting attention in recent years, and filters utilizing the wavelength selective control of recorded diffraction gratings.

【0004】フォトリフラクティブ効果は、以下のよう
な性質をもつ物質で観測される。 1)電場によって屈折率が変調される現象即ち電気光学
効果を発現すること。 2)キャリア(電子または正孔)を受け入れるトラップ
が存在すること。 3)このトラップに捕獲されたキャリアは物質中を動く
ことができないが、光を照射すると伝導帯または価電子
帯に励起され、動き回ることができるようになること。
The photorefractive effect is observed in substances having the following properties. 1) To develop a phenomenon in which the refractive index is modulated by an electric field, that is, an electro-optical effect. 2) There is a trap that accepts carriers (electrons or holes). 3) The carriers trapped in the trap cannot move in the substance, but when irradiated with light, they are excited in the conduction band or valence band and can move around.

【0005】また、このような物質では、以下のような
プロセスにしたがってフォトリフラクティブ効果が発現
する。キャリアには電子または正孔があるが、ここでは
簡単のために電子のみの動きを示す。 1)結晶材料中で干渉縞が形成される、従って材料中で
光強度の強い(明るい)部分と光強度の弱い(暗い)部
分が交互に縞状に形成される。 2)明るい部分では、電子が伝導帯に光励起される。 3)伝導帯に励起された電子は物質中を動き回り、いず
れどこかでトラップに捕獲される。 4)明るい部分では電子が励起されるために次第に電子
の数が減る一方、暗い部分では新たに電子が捕獲される
ことはあっても励起されることはなく、次第に電子がた
まってゆく。 5)このために明るい部分は正に帯電して暗い部分は負
に帯電する(この変調された電荷を空間電荷と称す
る)。その結果、明るい部分と暗い部分との間で電場が
発生する。この電場は干渉縞と同じ形に変調され、空間
電場と称する。 6)電場によって屈折率が変調される。これがホログラ
ムであり、光を回折する作用をもつ。
Further, such a substance exhibits a photorefractive effect according to the following process. Carriers have electrons or holes, but here, for the sake of simplicity, only electrons move. 1) Interference fringes are formed in the crystalline material, so that high light intensity (bright) portions and low light intensity (dark) portions are alternately formed in stripes in the material. 2) In the bright part, electrons are photoexcited to the conduction band. 3) The electrons excited in the conduction band move around in the substance and are trapped by the trap somewhere. 4) The number of electrons is gradually reduced because the electrons are excited in the bright part, but in the dark part, electrons are newly excited but are not excited, and the electrons are gradually accumulated. 5) Therefore, the bright part is positively charged and the dark part is negatively charged (this modulated charge is called space charge). As a result, an electric field is generated between the bright part and the dark part. This electric field is modulated in the same shape as the interference fringes and is called the spatial electric field. 6) The refractive index is modulated by the electric field. This is a hologram, which has the function of diffracting light.

【0006】ところが、フォトリフラクティブ効果によ
って形成された空間電荷に改めて光を照射すると、キャ
リアが再び励起されて物質中を動けるようになるため、
せっかく形成した空間電荷即ちホログラムが消えてしま
う。これは、常時光を照射する光スイッチやフィルター
などのデバイスでは致命的な問題であった。
However, when the space charge formed by the photorefractive effect is again irradiated with light, the carriers are excited again and can move in the substance.
The space charge formed, that is, the hologram, disappears. This has been a fatal problem in devices such as optical switches and filters that constantly emit light.

【0007】このためにフォトリフラクティブ効果によ
る空間電荷が光照射により消えないようにする「定着」
技術がある。現在、市販されている光フィルターや光モ
ニターには、熱定着と呼ばれる技術が用いられている。
これらの素子にはフォトリフラクティブ材料のニオブ酸
リチウム単結晶が用いられており、この結晶に含まれる
水素イオン(水素原子核)を利用して熱定着を行ってい
る。通常、結晶中の水素イオンは室温では殆ど動かない
が、100℃程度に加熱すると動きやすくなる。ニオブ
酸リチウム単結晶に光照射して予めホログラムを形成し
ておいてから加熱すると、水素イオンはこのホログラム
の空間電場を打ち消すように動くため、元のホログラム
と同じ形に水素イオンの濃度分布ができる。この状態で
室温に戻すと、水素イオンは再び殆ど動かなくなり、水
素イオンの濃度分布は固定される。しかる後に一様に光
を照射すると、電子または正孔による元の空間電荷は消
え、水素イオンによるレプリカの空間電荷が浮かび上が
る。電子や正孔が光を感じるのに対して水素イオンは光
を感じないため、この水素イオンによる空間電荷は光を
照射しても消えない。これが定着である。
For this reason, "fixing" is performed so that space charges due to the photorefractive effect are not erased by light irradiation.
There is technology. At present, a technique called thermal fixing is used for commercially available optical filters and optical monitors.
A lithium niobate single crystal, which is a photorefractive material, is used for these elements, and thermal fixing is performed using hydrogen ions (hydrogen nuclei) contained in the crystal. Usually, hydrogen ions in the crystal hardly move at room temperature, but when heated to about 100 ° C., they easily move. When the lithium niobate single crystal is irradiated with light to form a hologram in advance and then heated, the hydrogen ions move so as to cancel the spatial electric field of this hologram, so that the concentration distribution of the hydrogen ions has the same shape as the original hologram. it can. When the temperature is returned to room temperature in this state, hydrogen ions hardly move again and the concentration distribution of hydrogen ions is fixed. Then, when the light is uniformly irradiated, the original space charge due to the electrons or holes disappears, and the space charge of the replica due to hydrogen ions emerges. Since electrons and holes sense light, hydrogen ions do not sense light. Therefore, the space charge due to the hydrogen ions does not disappear even when light is irradiated. This is fixation.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
如きホログラムを得るためフォトリフラクティブ効果に
よる空間電荷を定着する技術は、実は容易ではない。つ
まり、水素イオンを光学単結晶に含ませ、所望の濃度分
布を得るのは容易ではない。殊に、フォトリフラクティ
ブ効果を有するタンタル酸ニオブ酸カリウム単結晶は、
特に、微量の銅を添加すると前記のトラップを増加させ
ることができ、空間電場が大きくなるために効果が大き
くなること、タンタルとニオブの量の比を適当に選ぶ
と、室温で2次の電気光学効果(電場の2乗に比例した
屈折率変化が表われる現象)が大きくなり、この場合、
結晶外部から印加する電場によって屈折率の変調の度合
を自由に制御できることから光スイッチの材料として用
いることができること、適度にリチウムを添加すると前
記2次の電気光学効果を増加させる他結晶が割れにくく
なること、などの極めて優れた特長を持つのであるが、
そしてまた、定着に必要な水素イオンを得るために、普
通に育成するだけで水素イオンを含む単結晶を900℃
程度熱処理することにより、酸素となじむ水素イオンを
水蒸気として熱処理中に結晶内に出入りさせて水素イオ
ンを増加させることができるが、単結晶育成の原料にあ
る種の不純物が含まれると、水素イオンを含ませること
が極めて難しくなる。
However, the technique of fixing the space charge by the photorefractive effect in order to obtain the hologram as described above is actually not easy. That is, it is not easy to obtain a desired concentration distribution by including hydrogen ions in the optical single crystal. In particular, potassium tantalate niobate single crystal having a photorefractive effect,
In particular, the addition of a trace amount of copper can increase the number of the traps described above, and the space electric field becomes large, so that the effect becomes large. If the ratio of the amounts of tantalum and niobium is appropriately selected, the secondary electric field at room temperature The optical effect (a phenomenon in which the change in the refractive index proportional to the square of the electric field appears) becomes large, and in this case,
Since the degree of modulation of the refractive index can be freely controlled by an electric field applied from the outside of the crystal, it can be used as a material for an optical switch. If lithium is added to an appropriate degree, the secondary electro-optical effect is increased and the crystal is less likely to be broken. It has extremely excellent features such as becoming,
Also, in order to obtain hydrogen ions necessary for fixing, a single crystal containing hydrogen ions can be grown at 900 ° C. just by growing it normally.
By performing heat treatment to a degree, hydrogen ions that are compatible with oxygen can be made to enter and leave the crystal during heat treatment to increase hydrogen ions, but if certain raw materials for single crystal growth contain impurities, hydrogen ions Would be extremely difficult to include.

【0009】例えば、前述したように単結晶のカリウム
の一部をリチウムで置換したり、あるいは銅を微量に添
加することはフォトリフラクティブ効果を向上させるた
めに非常に重要な要素技術であるが、この2つの添加物
は、いずれも単結晶が水素イオンを取り込むのを著しく
妨げる。図3および図4はこれらの事情を説明するもの
である。図3では、結晶育成の原料中のリチウムの量を
変えて、得られた単結晶が含む水素イオンの濃度の変化
を調べた。ここで、原料のTa25、Nb25、K2
3 、Li2CO3 の粉末を混合して加熱、融解して徐
冷して単結晶を育成したが、原料の混合比はTa25
とNb25 とは各々30.6mol.%と13.1mol.%に固
定し、K2CO3 とLi2CO3 とで残りの56.3mol.%
とした。図3の横軸はLi2CO3 のmol.%である。
For example, as mentioned above, substituting a part of single crystal potassium with lithium or adding a trace amount of copper is a very important elemental technique for improving the photorefractive effect. Both of these two additives significantly hinder the uptake of hydrogen ions by the single crystal. 3 and 4 explain these circumstances. In FIG. 3, the change in the concentration of hydrogen ions contained in the obtained single crystal was examined by changing the amount of lithium in the raw material for crystal growth. Here, the raw materials Ta 2 O 5 , Nb 2 O 5 , and K 2 C are used.
O 3 and Li 2 CO 3 powders were mixed, heated, melted and gradually cooled to grow a single crystal. The raw material mixing ratio was Ta 2 O 5
And Nb 2 O 5 are fixed at 30.6 mol.% And 13.1 mol.% Respectively, and the remaining 56.3 mol.% With K 2 CO 3 and Li 2 CO 3 .
And The horizontal axis of FIG. 3 is mol% of Li 2 CO 3 .

【0010】タンタル酸ニオブ酸カリウムの単結晶が水
素イオンを含むとき、O−Hボンドによる波数約350
0cm-1の赤外光吸収が観測される。図3の縦軸は、分光
器で光吸収スペクトルを測定し、吸収係数を波数軸で積
分して得た値であり、単結晶中の水素イオンの濃度に比
例する。この実験では純度の高い原料を用いたため、リ
チウムを添加しないときには高い水素イオン濃度が得ら
れるものの、この図からLi2CO3の混合比を増加させ
ることにより、成長する単結晶中の水素イオン濃度が減
少して0に近づくことが明らかである。
When the single crystal of potassium tantalate niobate contains hydrogen ions, the wave number by the O--H bond is about 350.
Infrared absorption at 0 cm -1 is observed. The vertical axis of FIG. 3 is a value obtained by measuring an optical absorption spectrum with a spectroscope and integrating the absorption coefficient on the wave number axis, and is proportional to the concentration of hydrogen ions in the single crystal. Since a high-purity raw material was used in this experiment, a high hydrogen ion concentration can be obtained when lithium is not added. However, by increasing the mixing ratio of Li 2 CO 3 from this figure, the hydrogen ion concentration in the growing single crystal can be increased. It is clear that decreases and approaches zero.

【0011】同様なことを銅についても行った。K2
3 を58.0mol.%、Ta25 を29.4mol.%、Nb2
5 を12.6mol.%の混合粉末を元にして、これに少量
のCuO粉末を加えたものから単結晶を育成した。図4
はその結果を、CuOのmol.%を横軸に、前記の積分吸
収係数を縦軸に取ったものである。わずかなCuO添加
でも水素イオン濃度が著しく減少することが分かる。従
って、フォトリフラクティブ材料として有望なリチウム
置換・銅ドープのタンタル酸ニオブ酸カリウムには殆ど
水素イオンは含まれず、熱定着を行うことはできない。
そして、この単結晶を900℃程度で熱処理しても、水
素イオンを含ませることはできなかった。
The same was done for copper. K 2 C
O 3 is 58.0 mol.%, Ta 2 O 5 is 29.4 mol.%, Nb 2
A single crystal was grown from a mixed powder containing O 5 at 12.6 mol.% And a small amount of CuO powder added thereto. Figure 4
Is the result obtained by plotting mol% of CuO on the horizontal axis and the integrated absorption coefficient on the vertical axis. It can be seen that the hydrogen ion concentration is significantly reduced even with a slight addition of CuO. Accordingly, lithium-substituted / copper-doped potassium tantalate niobate, which is promising as a photorefractive material, contains almost no hydrogen ions, and thermal fixing cannot be performed.
Then, even if this single crystal was heat-treated at about 900 ° C., hydrogen ions could not be included.

【0012】本発明は、上述の問題点に鑑み、水素イオ
ンを結晶に確実に含ませるホログラム記録材料の作製方
法を提供する。
In view of the above-mentioned problems, the present invention provides a method for producing a hologram recording material in which hydrogen ions are surely included in a crystal.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成する本
発明は、次の発明特定事項を有する。第1の発明は、タ
ンタル、ニオブ、カリウム、酸素を主成分としてペロブ
スカイト型の結晶構造を持つ光学結晶を用いたホログラ
ム記録材料の作製方法において、前記光学結晶中に酸素
空孔を生成し、その後水蒸気を吸収させることを特徴と
する。
The present invention which achieves the above object has the following matters for specifying the invention. A first invention is a method for producing a hologram recording material using an optical crystal having tantalum, niobium, potassium and oxygen as main components and having a perovskite type crystal structure, wherein oxygen vacancies are formed in the optical crystal, and It is characterized by absorbing water vapor.

【0014】第2の発明は、第1の発明にあって、前記
酸素空孔を生成する方法として、単結晶の育成時に、酸
素の欠損した原料を用いることを特徴とする。
A second aspect of the present invention is the first aspect of the present invention, which is characterized in that, as a method of generating the oxygen vacancies, a raw material lacking oxygen is used during the growth of a single crystal.

【0015】第3の発明は、第2の発明にあって、前記
酸素の欠損した原料として、前記光学結晶の原料全体の
0.1mol.%から1.0mol.%までの範囲内で、金属銅を含
むものであることを特徴とする。
A third aspect of the present invention is the second aspect of the present invention, wherein as the oxygen-deficient raw material, the entire raw material of the optical crystal is used.
It is characterized in that it contains metallic copper in the range of 0.1 mol.% To 1.0 mol.%.

【0016】第4の発明は、第1の発明にあって、前記
酸素空孔を生成する方法として、単結晶を少なくとも1
000℃以上で前記単結晶の融点以下の温度で熱処理す
ることを特徴とする。
A fourth aspect of the present invention is the method according to the first aspect, wherein at least one single crystal is used as a method for generating the oxygen vacancies.
The heat treatment is performed at a temperature of 000 ° C. or higher and a melting point of the single crystal or lower.

【0017】例えば、タンタル酸ニオブ酸カリウム単結
晶に出入りする水素イオンについては、水蒸気という形
で酸素と共に出入りすることが考えられ、例えば酸素を
含まない水素ガス中で熱処理を行なっても、単結晶中に
水素イオンを含ませることは難しいことが判明した。つ
まり、水素イオンの出入りには酸素が非常に重要な役割
を果たすと考えられる。このことから、単結晶中に酸素
を受け入れる場所(酸素空孔)を生成すれば、そこに水
蒸気を入れることで単結晶中の水素イオン濃度を増やせ
そうである。かかる鑑点からするとこれまでリチウムや
銅を含むタンタル酸ニオブ酸カリウムに水素イオンを導
入しにくいのは、酸素空孔濃度が非常に低いことによる
ことがわかった。したがって、酸素空孔を単結晶中に生
成すれば、その後の水蒸気中での熱処理により簡単に水
素イオンを導入することができることになる。
For example, hydrogen ions entering and exiting a potassium tantalate niobate single crystal may enter and exit with oxygen in the form of water vapor. For example, even if heat treatment is performed in hydrogen gas containing no oxygen, the single crystal It has been found difficult to include hydrogen ions in it. In other words, oxygen is considered to play a very important role in the entry and exit of hydrogen ions. From this, if a place (oxygen vacancy) for accepting oxygen is created in the single crystal, it is likely that the hydrogen ion concentration in the single crystal can be increased by introducing water vapor into the place. From this point of view, it has been found that it is difficult to introduce hydrogen ions into potassium tantalate niobate containing lithium and copper because the oxygen vacancy concentration is very low. Therefore, if oxygen vacancies are generated in the single crystal, hydrogen ions can be easily introduced by the subsequent heat treatment in steam.

【0018】単結晶中に酸素空孔を生成するためにはさ
まざまな方法がある。一つは、酸素が欠損した原料を用
いて単結晶を育成する方法である。例えば銅を添加した
単結晶を育成しようとするとき、前に記載したCuOの
代わりに金属銅を原料として用いる。このとき、結晶成
長中の融液は酸素が欠乏しており、その結果成長する単
結晶でも酸素が欠損する。もう一つには熱処理がある。
酸化物を高温にさらすと酸素空孔の濃度が増加するので
あるが、タンタル酸ニオブ酸カリウムの場合、前記のよ
うに900℃程度での熱処理では殆ど効果は期待できな
い。熱処理温度は少なくとも1000℃を超える必要が
あり、その結晶を育成した時の温度よりも高い温度が望
ましい。この場合、単結晶の融点以上の温度で熱処理を
することはできないが、タンタル酸ニオブ酸カリウムは
インコングルエント(固体を融解して再び固化させると
元の固体と異なる組成の固体が得られること)であるこ
とから固相から液相へ変る温度と液相から固相へ変る温
度が大きく異なることとなり、融点は結晶析出温度より
もかなり高いため、結晶析出温度よりも高い温度での熱
処理が可能である。更には別の方法として単結晶育成中
の雰囲気を水素などの所謂還元雰囲気とする方法もあ
る。
There are various methods for creating oxygen vacancies in a single crystal. One is a method of growing a single crystal using a raw material lacking oxygen. For example, when growing a single crystal to which copper is added, metallic copper is used as a raw material instead of CuO described above. At this time, the melt during crystal growth is deficient in oxygen, and as a result, the growing single crystal also lacks oxygen. Another is heat treatment.
When the oxide is exposed to a high temperature, the concentration of oxygen vacancies increases, but in the case of potassium tantalate niobate, the heat treatment at about 900 ° C. as described above hardly has any effect. The heat treatment temperature must exceed at least 1000 ° C., and is preferably higher than the temperature at which the crystal was grown. In this case, it is not possible to perform heat treatment at a temperature above the melting point of the single crystal, but potassium tantalate niobate is an incongruent (a solid with a different composition from the original solid can be obtained by melting and solidifying again). ), The temperature at which the solid phase changes to the liquid phase and the temperature at which the liquid phase changes to the solid phase are significantly different, and since the melting point is considerably higher than the crystal precipitation temperature, heat treatment at a temperature higher than the crystal precipitation temperature is necessary. It is possible. Furthermore, as another method, there is a method in which the atmosphere during the growth of the single crystal is a so-called reducing atmosphere such as hydrogen.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】ここで、本発明の実施の形態につ
いて述べる。 <第1例>純粋なタンル酸ニオブ酸カリウムを育成する
ための原料に、金属銅の粒を加えたものから単結晶を育
成した。得られた単結晶はペロブスカイト型であること
が確認された。図1に、得られた単結晶のO−Hボンド
の積分吸収係数の銅添加量依存性を示す。参考のため、
図4のデータを重ねてプロットした。単結晶中の銅の濃
度が高い程オリジナルのホログラムの空間電荷が大き
く、さらに水素イオンの濃度が高いほどレプリカのホロ
グラムの空間電荷が大きくなることから、図1では右上
方向が特性が優れることを示す。CuOの場合と同様に
添加量増加にともなって水素イオン濃度の減少傾向が見
られるものの、CuOよりも多い添加量でも高い水素イ
オン濃度が保たれている。これは、CuOの代わりに金
属銅を原料とした場合、酸素の欠損のために成長するタ
ンタル酸ニオブ酸カリウム単結晶中に過剰に酸素空孔が
生成されたことを表わす。水素イオンは、主に結晶成長
後に室温まで冷却するときに、周りの空気中の水蒸気
が、この酸素空孔に入ることで結晶に取り込まれる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Here, embodiments of the present invention will be described. <First Example> A single crystal was grown from a raw material for growing pure potassium niobate tannate to which particles of metallic copper were added. It was confirmed that the obtained single crystal was a perovskite type. FIG. 1 shows the copper addition amount dependency of the integrated absorption coefficient of the obtained O—H bond of the single crystal. For reference,
The data in FIG. 4 was plotted in an overlapping manner. The higher the copper concentration in the single crystal, the larger the space charge of the original hologram, and the higher the concentration of hydrogen ions, the larger the space charge of the replica hologram. Show. Similar to the case of CuO, the hydrogen ion concentration tends to decrease with the increase of the addition amount, but the high hydrogen ion concentration is maintained even with the addition amount of CuO. This means that when metallic copper was used as a raw material instead of CuO, oxygen vacancies were excessively generated in the potassium tantalate niobate single crystal growing due to oxygen deficiency. When hydrogen ions are mainly cooled to room temperature after crystal growth, water vapor in the surrounding air enters the oxygen vacancies and is taken into the crystals.

【0020】<第2例>Ta22、Nb25、K2CO
3 に加えてLi2CO3 とCuOの粉末を混合したもの
からタンタル酸ニオブ酸カリウム単結晶を育成した。得
られた単結晶は、ペロブスカイト型の結晶構造であっ
た。この単結晶から第1例と同様にして試料を作製して
水素イオン濃度を測定したことろ、Li2CO3 とCu
Oの双方の添加の影響で測定精度ぎりぎりの濃度しか検
出されなかった。水蒸気を飽和させたアルゴンガスの中
で900℃にて3日熱処理を行ったが、顕著な水素イオ
ン濃度増加は見られなかった。さらに、やはり900℃
で真空中で熱処理した後に水蒸気を飽和させたアルゴン
ガスの中で熱処理を行ったが、水素イオン濃度増加は見
られなかった。しかし、水蒸気を飽和させたアルゴンガ
スの中で1100℃に1日以上保持した後に、温度を8
00℃に下げてからそのまま10時間以上保持した結
果、著しく水素イオン濃度を増加させることができた。
その結果のO−Hボンド吸収スペクトルを、図2に単結
晶育成直後のものと併せて示す。ここで、最後の熱処理
において、1100℃の部分で主に酸素空孔生成を行
い、800℃で単結晶に水蒸気を吸収させている。な
お、1100℃という温度は、この単結晶を成長させた
ときの温度を既に超えており、融点に近い。従って、こ
れ以上の温度での熱処理はきわめて難しい。1150℃
まで加熱したところ、単結晶は融解してしまった。
<Second Example> Ta 2 O 2 , Nb 2 O 5 , K 2 CO
In addition to 3 , a powder of Li 2 CO 3 and CuO was mixed to grow a potassium niobate tantalate single crystal. The obtained single crystal had a perovskite type crystal structure. The filtrate that this single crystal in the same manner as the first example to prepare a sample to measure the hydrogen ion concentration, Li 2 CO 3 and Cu
Due to the influence of the addition of both O, only the concentration at the margin of the measurement accuracy was detected. The heat treatment was performed at 900 ° C. for 3 days in an argon gas saturated with water vapor, but no remarkable increase in hydrogen ion concentration was observed. Furthermore, still 900 ℃
The sample was heat-treated in a vacuum at 1, and then heat-treated in an argon gas saturated with water vapor, but no increase in hydrogen ion concentration was observed. However, after the temperature was maintained at 1100 ° C. for 1 day or more in an argon gas saturated with water vapor, the temperature was raised to 8
As a result of lowering the temperature to 00 ° C. and maintaining it as it is for 10 hours or more, the hydrogen ion concentration could be remarkably increased.
The resulting OH bond absorption spectrum is shown in FIG. 2 together with that immediately after single crystal growth. Here, in the final heat treatment, oxygen vacancies are mainly generated at 1100 ° C., and water vapor is absorbed in the single crystal at 800 ° C. Note that the temperature of 1100 ° C. has already exceeded the temperature when this single crystal was grown, and is close to the melting point. Therefore, heat treatment at a temperature higher than this is extremely difficult. 1150 ° C
When heated to, the single crystal melted.

【0021】以上述べたところでは、タンタル酸ニオブ
酸カリウムを材料の基礎としており、このタンタル酸ニ
オブ酸カリウムとは、主としてタンタルとニオブとカリ
ウムと酸素からなる化合物で、ペロブスカイト型の結晶
構造を持つものの総称である。通常は、KTa1-xNbx
3 からなる化学式で表記され、xは0から1の範囲内
の数値をとる。従ってx=0やx=1の場合もタンタル
酸ニオブ酸カリウムに含まれ、通常は前者をタンタル酸
カリウム、後者をニオブ酸カリウムと称する。また実際
にはKTa1-xNbx3 なる化学式で示される元素の比
率は厳密に満たされるわけではなく、例えば、カリウム
は10%近く過剰になったり、逆に欠損していてもペロ
ブスカイト型の結晶構造を保つことがある。このような
場合でも酸素空孔は必ず存在し、不純物が含まれること
も当然である。従って本発明で取り扱う材料は、カリウ
ムとタンタルとニオブと酸素が主要な構成元素であり、
かつペロブスカイト型の結晶構造である全ての材料を含
む。
In the above description, potassium tantalate niobate is the basis of the material. This potassium tantalate niobate is a compound mainly composed of tantalum, niobium, potassium and oxygen, and has a perovskite type crystal structure. It is a general term for things. Usually, KTa 1-x Nb x
It is represented by a chemical formula consisting of O 3 , and x takes a numerical value within the range of 0 to 1. Therefore, x = 0 and x = 1 are also included in potassium tantalate niobate, and the former is usually called potassium tantalate and the latter is called potassium niobate. In reality, the ratio of the elements represented by the chemical formula KTa 1-x Nb x O 3 is not strictly satisfied. For example, potassium is about 10% in excess, or conversely, even if it is deficient, it is a perovskite type. May retain the crystal structure of. Even in such a case, oxygen vacancies always exist, and it is natural that impurities are contained. Therefore, the material handled in the present invention, potassium, tantalum, niobium and oxygen are the main constituent elements,
In addition, all materials having a perovskite type crystal structure are included.

【0022】フォトリフラクティブ効果を増大させるた
めに若干の不純物を添加することは、よく行われる。例
えば前記のように、カリウムの一部をリチウムで置換し
た材料は、純粋なタンタル酸ニオブ酸カリウムよりもフ
ォトリフラクティブ特性に優れ、かつタンタル酸ニオブ
酸カリウムよりも本発明の効果が顕著である。リチウム
のみならず、ナトリウム、ルビジウム、セシウム、フラ
ンシウムといったアルカリ金属、ベリリウム、マグネシ
ウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ラジウ
ムといったアルカリ土類金属は、カリウムを置換する元
素の候補である。同様に、タンタルかまたはニオブの一
部を遷移金属元素で置換することもできる。本発明で述
べた銅は、その一例であるが、その他にチタン、バナジ
ウム、クロム、マンガン、鉄等の金属元素がよく用いら
れる。その他に、タンタルまたはニオブを置換する元素
としては、元素周期表において原子数21のスカンジウ
ムから30の亜鉛までの1列の元素群、原子数39イッ
トリウムから48カドミウムまでの元素群、原子数72
ハフニウムから80水銀までの1列の元素群、原子数5
7ランタンから71ラテチウムまでの希土類と称する元
素群、原子数89アクチニウムから103ローレンシウ
ムまでの元素群が置換の候補として挙げられる。他に、
アルミニウム、シリコン、ガリウム、ゲルマニウム、イ
ンジウム、スズ、鉛、ビスマスを始め、同期表に記載さ
れた全ての元素にて、カリウムまたはタンタルまたはニ
オブの一部を置換した場合でも、ペロブスカイト型の結
晶構造を保っているものは、本発明で扱うタンタル酸ニ
オブ酸カリウムに含まれる。これら全ての材料の単結晶
について、本発明の方法で水素イオン濃度を増加させる
ことができる。
It is common practice to add some impurities to enhance the photorefractive effect. For example, as described above, the material in which a part of potassium is replaced with lithium has a better photorefractive property than pure potassium tantalate niobate, and the effect of the present invention is more remarkable than potassium tantalate niobate. Not only lithium, but also alkali metals such as sodium, rubidium, cesium, and francium, and alkaline earth metals such as beryllium, magnesium, calcium, strontium, barium, and radium are candidates for replacing potassium. Similarly, part of the tantalum or niobium may be replaced with a transition metal element. Copper described in the present invention is one example, but other metal elements such as titanium, vanadium, chromium, manganese, and iron are often used. In addition, as the element substituting tantalum or niobium, in the Periodic Table of the Elements, a row of elements from scandium having 21 atoms to zinc having 30 atoms, an element group having 39 atoms from yttrium to 48 cadmium, and 72 atoms
A row of elements from hafnium to 80 mercury, 5 atoms
The group of elements called rare earths from 7 lanthanum to 71 lattenium and the group of elements from 89 actinium to 103 lorencium atoms are listed as candidates for substitution. other,
Aluminum, silicon, gallium, germanium, indium, tin, lead, bismuth, and all elements listed in the synchronization table, even if a part of potassium or tantalum or niobium is replaced, perovskite type crystal structure What is kept is contained in the potassium tantalate niobate treated in the present invention. For single crystals of all these materials, the hydrogen ion concentration can be increased by the method of the present invention.

【0023】上述の場合、金属酸化物を用いて、金属元
素を意図的に添加するにあたっては、酸化の度合が小さ
い原料を添加するのがよい。例えば、鉄を添加するとき
はFe23よりもFeO、FeOよりも金属鉄が効果的
である。前記の置換元素において金属元素全てについ
て、一般的な原料である酸化物ではなく、金属として原
料に添加することにより酸素の欠損した原料とすること
ができる。さらに、本発明の取り扱うタンタル酸ニオブ
酸カリウムの主たる構成元素であるタンタル、ニオブ、
カリウムについても、原料であるTa25 、Nb
25 、K2CO3の一部を金属タンタル、金属ニオブ、
金属カリウムで置き換えることによっても同様な効果が
期待できる。
In the above case, when intentionally adding a metal element using a metal oxide, it is preferable to add a raw material having a small degree of oxidation. For example, when adding iron, FeO is more effective than Fe 2 O 3 and metallic iron is more effective than FeO. Regarding all the metal elements in the above-mentioned substituting elements, oxygen-deficient raw materials can be obtained by adding them to the raw materials as metals instead of oxides which are general raw materials. Further, tantalum, which is the main constituent element of potassium niobate tantalate handled by the present invention, niobium,
As for potassium, the raw materials Ta 2 O 5 and Nb are also used.
2 O 5 , K 2 CO 3 are partially metal tantalum, metal niobium,
A similar effect can be expected by replacing with metal potassium.

【0024】フォトリフラクティブ効果を発現する材料
には、タンタル酸ニオブ酸カリウム以外にもニオブ酸リ
チウム、タンタル酸リチウム、チタン酸バリウムなど、
化学式ABO3 で表わされる酸化物、さらにこれと同類
でタングステンブロンズ型の結晶構造をもつニオブ酸ス
トロンチウムバリウムなどの酸化物があるが、これらの
材料についても本発明の効果が期待できる。また、タン
タルとニオブとカリウムとリチウムと酸素を主たる構成
元素とする結晶には、前記のペロブスカイト型の結晶構
造を持つもの以外に、タングステンブロンズ型の結晶構
造をもつものも存在する。この材料においてもフォトリ
フラクティブ効果が観測され、本発明の効果が期待でき
る。
Materials exhibiting a photorefractive effect include lithium niobate, lithium tantalate, barium titanate, etc. in addition to potassium tantalate niobate.
There are oxides represented by the chemical formula ABO 3 and oxides such as strontium barium niobate having a tungsten bronze type crystal structure which is similar to the oxides, and the effects of the present invention can be expected for these materials. In addition to crystals having the perovskite type crystal structure described above, there are crystals having a tungsten bronze type crystal structure as the crystals containing tantalum, niobium, potassium, lithium and oxygen as main constituent elements. A photorefractive effect is also observed in this material, and the effect of the present invention can be expected.

【0025】また、上述の熱処理の条件に関しては、融
点以下ならば、高ければ高いほど短時間ですむために1
100℃という温度を用いたが、これよりやや低い温度
でも1000℃以上ならば長時間熱処理すれば同様に酸
素空孔濃度を増加させることができ、従って水素イオン
濃度を増加させることができた。保持時間についても特
に規定はなく、わずかな時間でも水素イオン濃度を向上
させることができるが、長い程高い水素イオン濃度が得
られる。さらに、雰囲気は酸素濃度が低いほうがよい
が、これも規定されない。例えば、空気中で、1100
℃で熱処理を行って酸素空孔を生成した後に、急冷して
から再び800℃で湿ったアルゴン中で熱処理して水蒸
気を吸収させたが、得られた水素イオン濃度は図2に記
載のものよりも10%程度低いものの、十分な効果が観
測された。
Regarding the above heat treatment conditions, the higher the melting point is, the shorter the time is.
Although a temperature of 100 ° C. was used, if the temperature was 1000 ° C. or higher even at a slightly lower temperature, the oxygen vacancy concentration could be similarly increased by the long-term heat treatment, and thus the hydrogen ion concentration could be increased. The holding time is not particularly limited, and the hydrogen ion concentration can be improved even for a short time, but the longer the hydrogen ion concentration, the higher the hydrogen ion concentration obtained. Furthermore, the atmosphere should have a low oxygen concentration, but this is not specified. For example, in air 1100
After heat treatment at ℃ to generate oxygen vacancies, it was rapidly cooled and then heat-treated again at 800 ℃ in moist argon to absorb water vapor. The obtained hydrogen ion concentration was as shown in FIG. Although it is lower by about 10%, a sufficient effect was observed.

【0026】[0026]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、光
学結晶中に酸素空孔を生成しその後水蒸気を吸収させる
ことにより、水素原子核である水素イオンを結晶中に確
実に含ませることができた。
As described above, according to the present invention, hydrogen vacancies, which are hydrogen nuclei, can be surely included in the crystal by forming oxygen vacancies in the optical crystal and then absorbing water vapor. did it.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のホログラム記録材料の製造方法の一つ
で、CuOの代わりに金属銅を銅イオン添加のための原
料とし、これによって還元された状態のタンタル酸ニオ
ブ酸カリウムの単結晶を育成する方法の効果を説明する
図。
FIG. 1 is one of the methods for producing a hologram recording material of the present invention, in which metallic copper is used as a raw material for addition of copper ions instead of CuO, and a single crystal of potassium tantalate niobate in a reduced state is obtained by this. The figure explaining the effect of the method of raising.

【図2】本発明のホログラム記録材料の製造方法の一つ
で、1133℃、湿ったアルゴン中で熱処理することに
よってタンタル酸ニオブ酸カリウム単結晶中に酸素空孔
を生成する方法の効果を説明する図。
FIG. 2 illustrates the effect of a method of producing oxygen vacancies in a potassium tantalate niobate single crystal by heat treatment in a wet argon atmosphere at 1133 ° C., which is one of the methods for producing a hologram recording material of the present invention. Figure to do.

【図3】タンタル酸ニオブ酸カリウムの単結晶育成時の
原料中のLi2CO3の割合に対する、成長した単結晶の
水素イオン濃度の変化を表わす図。
FIG. 3 is a graph showing changes in the hydrogen ion concentration of a grown single crystal with respect to the ratio of Li 2 CO 3 in the raw material when growing a potassium tantalate niobate single crystal.

【図4】タンタル酸ニオブ酸カリウムの単結晶育成時の
原料中のCuOの割合に対する、成長した単結晶の水素
イオン濃度の変化を表わす図。
FIG. 4 is a diagram showing changes in the hydrogen ion concentration of a grown single crystal with respect to the ratio of CuO in the raw material during the growth of a potassium tantalate niobate single crystal.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03H 1/02 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) G03H 1/02

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 タンタル、ニオブ、カリウム、酸素を主
成分としてペロブスカイト型の結晶構造を持つ光学結晶
を用いたホログラム記録材料の作製方法において、 前記光学結晶中に酸素空孔を生成し、その後水蒸気を吸
収させることを特徴とするホログラム記録材料の作製方
法。
1. A method for producing a hologram recording material using an optical crystal having a perovskite type crystal structure containing tantalum, niobium, potassium and oxygen as main components, wherein oxygen vacancies are formed in the optical crystal, and then water vapor is formed. A method for producing a hologram recording material, which comprises absorbing
【請求項2】 前記酸素空孔を生成する方法は、単結晶
の育成時に、酸素の欠損した原料を用いることを特徴と
する請求項1のホログラム記録材料の作製方法。
2. The method for producing a hologram recording material according to claim 1, wherein the method of forming the oxygen vacancies uses a raw material devoid of oxygen when growing a single crystal.
【請求項3】 前記酸素の欠損した原料は、前記光学結
晶の原料全体の0.1mol.%から1.0mol.%までの範囲内
で、金属銅を含むものであることを特徴とする請求項2
記載のホログラム記録材料の作製方法。
3. The oxygen-deficient raw material contains metallic copper within a range of 0.1 mol.% To 1.0 mol.% Of the total raw material of the optical crystal.
A method for producing the hologram recording material described.
【請求項4】 前記酸素空孔を生成する方法は、単結晶
を少なくとも1000℃以上で前記単結晶の融点以下の
温度で熱処理することを特徴とする請求項1記載のホロ
グラム記録材料の作製方法。
4. The method for producing a hologram recording material according to claim 1, wherein the method of forming oxygen vacancies comprises heat-treating the single crystal at a temperature of at least 1000 ° C. and at a temperature below the melting point of the single crystal. .
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