JP3483239B2 - Heater structure of vacuum oven chamber - Google Patents
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims description 9
- UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N alumane;titanium Chemical compound [AlH3].[Ti] UQZIWOQVLUASCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- Drying Of Solid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、キャリア上に搭
載され、内部にチップを収納したパッケージを真空中で
加熱乾燥するための真空オーブンチャンバーのヒータ構
造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、チップを収納するためのパッケ
ージとしては、セラミック基板に金属製のシールフレー
ムを接合したセラミック製のパッケージや、全体が金属
で形成されている金属製のパッケージ等があり、内部に
チップが収納され、リードとの内部配線をしたこれらの
パッケージは、キャリア上に位置決めされて多数搭載さ
れている。
【0003】このように、キャリア上に搭載されたパッ
ケージは、まず、真空オーブンチャンバー内に搬入され
て加熱乾燥される。次いで、このパッケージの開口端部
にキャップが載置された後、このキャップはパッケージ
にスポット溶接により仮止めされる。スポット溶接によ
り仮止めされたパッケージとキャップとの接合部は、キ
ャップの互いに対向する周縁に沿って回転する一対のロ
ーラ電極により加圧、通電されて、接合部に発生するジ
ュール熱によりパッケージ開口端部とキャップとがシー
ム溶接される。
【0004】このようにして、パッケージとキャップと
をシーム溶接する場合、このシーム溶接工程の前工程に
おいて、パッケージを搭載したキャリアは、上記のよう
に真空オーブンチャンバー内に搬入して、一定時間、真
空中で加熱乾燥しなければならない。このように、パッ
ケージを加熱乾燥するために、図4、図5に示すよう
に、従来の真空オーブンチャンバーは、内部にヒータ1
1を埋設したヒータブロック12とこのヒートブロック
12に支持された多数の熱伝導率の良好な部材(例え
ば、ニッケルめっきされた銅板)からなる棚13aが設
けられており、この棚13aの上にトレー3を載置し、
このトレー3の中にパッケージ4を多数搭載したキャリ
ア5を載置して、ヒータ11からの熱で棚13aを加熱
してパッケージが加熱乾燥されるように構成されてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような構成にして
いるのでヒータブロック12からの熱が棚板13aを均
一に加熱でき、平坦な温度分布が得られる。また、この
加熱時、真空オーブンチャンバー内に窒素ガスを充填
し、内部に対流熱を発生させることにより棚板の加熱時
間の短縮を図っている。
【0006】しかしながら、窒素ガス中で加熱すると、
各パッケージ4の加熱温度にばらつきがあるときと同様
に、パッケージ4内に収納されているチップの特性が変
化してしまい、良品率が低下し、歩留まりが悪くなると
いう問題点があった。本発明は、上記課題を解決するた
めになされたもので、棚板の放射率を向上させ、対流熱
を発生させることなく、加熱時間の短縮が可能となる真
空オーブンチャンバーのヒータ構造を提供することを目
的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の真空オーブンチ
ャンバーのヒータ構造は、キャリア上に搭載され、内部
にチップを収納したパッケージに、キャップを溶接する
ための溶接工程の前工程におけるチャンバー内に前記キ
ャリアを搬入して前記パッケージを真空中で加熱乾燥す
るための真空オーブンチャンバーであって、熱伝導率の
良好な部材で形成した棚板を支持してなる棚体と、この
棚体を前記真空オーブンチャンバー内に配置するととも
に、別途設けられたヒータからの伝導熱により加熱され
た前記棚体の前記棚板上に、前記パッケージを搭載した
前記キャリアを載置して前記パッケージを加熱乾燥する
こととした真空オーブンチャンバーにおいて、前記棚板
の表面には窒化チタンアルミニウム皮膜が形成されてい
ることを特徴とするものである。
【0008】
【発明の実施の形態】この発明の実施例を、図1〜図3
に基づいて詳細に説明する。図1はこの発明の実施例を
示す正面図、図2は図1の平面図、図3は要部拡大説明
図である。なお、従来例と同一のものは同一名称を使用
するとともに、同一番号を付し、その説明を省略する。
【0009】図1〜3において、10は真空オーブンチ
ャンバー23内に配置されている棚体で、両側部にヒー
タ11を埋設したヒータブロック12と、このヒータブ
ロック12に支持されている棚板13とにより構成され
ている。ヒータブロック12には、任意の数のヒータ1
1が埋設されて加熱源となっているとともに、熱伝導率
の良好な銅等の金属部材で形成された棚板13が間隙を
介在させて複数支持されている。この棚板13の下面
(図中の下面)には、窒化チタンアルミニウムの皮膜が
形成されている。この実施例の場合には、ヒータ11は
片側につき3本程度使用された。なお、棚板13の板厚
は厚いものが熱容量が大となるから、温度分布が均一と
なり好適である。
【0010】棚板13の上面には、底面が棚板13と同
一形状を有する皿状に形成されているステンレス製の補
助棚板14がねじ15により棚板13に固着されてい
る。この補助棚板14は、棚板13が銅等のように熱伝
導率は高いが軟性の部材で形成された場合、棚板13が
切削されるのを防止するためのもので、棚板13が硬度
の高い部材で形成されている場合には、必ずしも必要で
はない。又、補助棚板14はその表面が円滑に形成され
ているので、トレー3を出し入れする際のガイドとして
の役割も果たしている。なお、棚板13は、補助棚板1
4およびトレー3より大きな熱容量を有することが必要
である。
【0011】16、17はそれぞれ窒素ガス注入用およ
び排気用の電磁弁で、それぞれ窒素ガスの注入、排気の
際に制御ユニット22に制御されて開閉される。18、
19はヒータ11への加熱電流の入力端および出力端、
20は冷却パイプで、この実施例の場合には冷却水が循
環している。21は空気の排気バルブ、22は制御ユニ
ットで、棚板13の加熱温度、加熱時間の制御、真空オ
ーブンチャンバー23内への窒素ガスの注入、排気の制
御、冷却水の温度制御、空気の排気のための排気バルブ
21の制御等この真空オーブンチャンバー23の各部の
制御が行われている。
【0012】24は支持柱で、真空オーブンチャンバー
23は本体(図示せず)に固定されるとともに、制御ユ
ニット22にも支持柱24で固定されている。25は真
空オーブンチャンバー23の前面扉である。
【0013】このように構成されているので、まず、棚
板13と補助棚板14とからなる棚の各段に、パッケー
ジ4を搭載したトレー3がそれぞれ載置された後、排気
バルブ21から真空オーブンチャンバー23内部の空気
が排気されて、内部が真空にされる。
【0014】次いで、制御ユニット22からの指令によ
り、ヒータ11に加熱電流が給電されてヒータ11が加
熱され、ヒータブロック12が全体として加熱されて、
棚板13の加熱源となる。各棚板13は熱伝導率の良好
な部材で形成されているので、ヒータブロック12から
の伝導熱により、各棚板13およびその補助棚板14と
一体となって均一に加熱され、平坦な温度分布が得られ
る。この際、各棚板13の下面には窒化チタンアルミニ
ウム皮膜が形成されているので、真空オーブンチャンバ
ー23内に輻射熱も発生し、棚板13の加熱時間を短縮
することが出来る。
【0015】この状態で、トレー3上のキャリア5に搭
載されているパッケージ4は、所定時間、所定温度で加
熱乾燥される。
【0016】所定時間が経過すると、真空オーブンチャ
ンバー23の前面扉25を開放するために、制御ユニッ
ト22からの指令により、窒素ガス注入用の電磁弁16
が動作して真空オーブンチャンバー23内に窒素ガスが
注入される。充分窒素ガスが注入されると制御ユニット
22からの指令により、電磁弁16が閉鎖され、真空オ
ーブンチャンバー23の前面扉25が開放されて内部か
らトレー3が搬出され、次の仮止め工程へと搬送され
る。
【0017】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように、キャリ
ア上に搭載され、内部にチップを収納したパッケージ
に、キャップを溶接するための溶接工程の前工程におけ
るチャンバー内に前記キャリアを搬入して前記パッケー
ジを真空中で加熱乾燥するための真空オーブンチャンバ
ーにおいて、表面に放射率の高い窒化チタンアルミニウ
ム皮膜が形成された熱伝導率の良好な部材で形成した棚
板を支持してなる棚体と、この棚体を前記真空オーブン
チャンバー内に配置するとともに、別途設けられたヒー
タからの伝導熱により加熱された前記棚体の前記棚板上
に、前記パッケージを搭載した前記キャリアを載置して
前記パッケージを加熱乾燥することとしたので、加熱時
間を短縮するために窒素ガスを内部に充填する必要がな
くなったから、前記パッケージ内に収納されているチッ
プの特性が変化することがなくなり、良品率が向上し、
歩留まりがよくなる。従って、本発明によれば、信頼性
の高い、加熱時間の短縮が可能な真空オーブンチャンバ
ーのヒータ構造を提供することができる。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heater structure of a vacuum oven chamber for heating and drying a package mounted on a carrier and containing a chip therein in a vacuum. Things. 2. Description of the Related Art In general, as a package for accommodating a chip, a ceramic package in which a metal seal frame is bonded to a ceramic substrate, a metal package entirely formed of metal, and the like are used. There are a number of these packages in which a chip is housed and the internal wiring with the leads is positioned on a carrier. As described above, a package mounted on a carrier is first carried into a vacuum oven chamber and dried by heating. Next, after a cap is placed on the open end of the package, the cap is temporarily fixed to the package by spot welding. The joint between the package and the cap temporarily fixed by spot welding is pressed and energized by a pair of roller electrodes rotating along the opposing peripheral edges of the cap, and the package opening end is generated by Joule heat generated at the joint. The part and the cap are seam-welded. [0004] In the case where the package and the cap are seam-welded in this manner, in a process prior to the seam welding process, the carrier on which the package is mounted is loaded into the vacuum oven chamber as described above, and is maintained for a predetermined time. It must be dried by heating in a vacuum. As described above, in order to heat and dry the package, a conventional vacuum oven chamber has a heater 1 inside as shown in FIGS.
1 is provided, and a shelf 13a made of a number of members having good thermal conductivity (for example, nickel-plated copper plate) supported by the heat block 12 is provided on the shelf 13a. Place the tray 3,
The carrier 5 on which a large number of packages 4 are mounted is placed in the tray 3, and the shelf 13 a is heated by the heat from the heater 11 to heat and dry the packages. [0005] With such a configuration, the heat from the heater block 12 can uniformly heat the shelf plate 13a, and a flat temperature distribution can be obtained. At the time of this heating, the vacuum oven chamber is filled with nitrogen gas to generate convective heat therein, thereby shortening the heating time of the shelf board. However, when heating in nitrogen gas,
Similar to the case where the heating temperature of each package 4 varies, there is a problem that the characteristics of the chips housed in the package 4 change, the yield rate decreases, and the yield decreases. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and provides a heater structure of a vacuum oven chamber capable of improving the emissivity of a shelf board and shortening a heating time without generating convection heat. The purpose is to: [0007] The heater structure of the vacuum oven chamber of the present invention is mounted on a carrier and is used in a process prior to a welding process for welding a cap to a package containing a chip therein. A vacuum oven chamber for carrying the carrier into the chamber and heating and drying the package in a vacuum, wherein the shelf supports a shelf plate formed of a member having good thermal conductivity; A body is placed in the vacuum oven chamber, and the carrier on which the package is mounted is placed on the shelf plate of the shelf heated by conduction heat from a separately provided heater, and the package is placed. In a vacuum oven chamber to be heated and dried, a titanium aluminum nitride film is formed on the surface of the shelf. It is characterized by the following. FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention; FIG.
This will be described in detail based on FIG. FIG. 1 is a front view showing an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of FIG. 1, and FIG. 3 is an enlarged explanatory view of a main part. The same components as those in the conventional example have the same names and are given the same numbers, and the description thereof is omitted. In FIGS. 1 to 3, reference numeral 10 denotes a shelf disposed in a vacuum oven chamber 23, a heater block 12 having heaters 11 embedded on both sides, and a shelf plate 13 supported by the heater block 12. It consists of: The heater block 12 includes an arbitrary number of heaters 1.
1 is buried as a heating source, and a plurality of shelves 13 made of a metal member such as copper having good thermal conductivity are supported with a gap therebetween. A film of titanium aluminum nitride is formed on the lower surface of the shelf 13 (the lower surface in the figure). In this embodiment, about three heaters 11 were used on one side. It should be noted that since the shelf plate 13 having a large thickness has a large heat capacity, the temperature distribution is uniform, which is preferable. On the upper surface of the shelf 13, a stainless steel auxiliary shelf 14 whose bottom is formed in a dish shape having the same shape as the shelf 13 is fixed to the shelf 13 with screws 15. The auxiliary shelves 14 are for preventing the shelves 13 from being cut when the shelves 13 are formed of a soft member having a high thermal conductivity such as copper. Is not necessarily required when the member is formed of a member having high hardness. Further, since the surface of the auxiliary shelf plate 14 is formed smoothly, it also serves as a guide when the tray 3 is taken in and out. In addition, the shelf 13 is the auxiliary shelf 1
It is necessary to have a larger heat capacity than 4 and tray 3. Reference numerals 16 and 17 denote solenoid valves for injecting and exhausting nitrogen gas, respectively, which are controlled by a control unit 22 to be opened and closed when nitrogen gas is injected and exhausted, respectively. 18,
19 is an input end and an output end of the heating current to the heater 11,
A cooling pipe 20 circulates cooling water in this embodiment. 21 is an air exhaust valve, 22 is a control unit, controls the heating temperature and heating time of the shelf 13, injects nitrogen gas into the vacuum oven chamber 23, controls exhaust, controls the temperature of cooling water, and exhausts air. Each part of the vacuum oven chamber 23 is controlled, such as control of an exhaust valve 21 for the purpose. Reference numeral 24 denotes a support column. The vacuum oven chamber 23 is fixed to a main body (not shown), and is also fixed to the control unit 22 by the support column 24. Reference numeral 25 denotes a front door of the vacuum oven chamber 23. With this configuration, first, the tray 3 on which the package 4 is mounted is placed on each stage of the shelf composed of the shelf 13 and the auxiliary shelf 14, and then the exhaust valve 21 is turned on. The air inside the vacuum oven chamber 23 is exhausted, and the inside is evacuated. Next, in response to a command from the control unit 22, a heating current is supplied to the heater 11, the heater 11 is heated, and the heater block 12 is heated as a whole.
It serves as a heating source for the shelf 13. Since each shelf 13 is formed of a member having good thermal conductivity, the shelf 13 is heated uniformly by the conduction heat from the heater block 12 integrally with each shelf 13 and the auxiliary shelf 14 thereof. A temperature distribution is obtained. At this time, since the titanium aluminum nitride film is formed on the lower surface of each shelf 13, radiant heat is also generated in the vacuum oven chamber 23, and the heating time of the shelf 13 can be reduced. In this state, the package 4 mounted on the carrier 5 on the tray 3 is heated and dried at a predetermined temperature for a predetermined time. After a lapse of a predetermined time, the electromagnetic valve 16 for injecting nitrogen gas is instructed by a command from the control unit 22 to open the front door 25 of the vacuum oven chamber 23.
Operates to inject nitrogen gas into the vacuum oven chamber 23. When a sufficient amount of nitrogen gas is injected, the electromagnetic valve 16 is closed, the front door 25 of the vacuum oven chamber 23 is opened and the tray 3 is carried out from the inside by the command from the control unit 22, and the process proceeds to the next temporary fixing step. Conveyed. According to the present invention, as described above, the carrier is mounted in a chamber in a process prior to a welding process for welding a cap to a package mounted on a carrier and containing a chip therein. In a vacuum oven chamber for heating and drying the package in a vacuum, a shelf plate formed of a member having a good thermal conductivity with a titanium aluminum nitride film having a high emissivity formed on a surface thereof is supported. And the carrier having the package mounted on the shelf plate of the shelf heated by conduction heat from a separately provided heater while disposing the shelf in the vacuum oven chamber. Since the package is placed and heated and dried, there is no need to fill the inside with nitrogen gas to shorten the heating time. Therefore, the characteristics of the chip housed in the package do not change, the non-defective rate is improved,
Yield improves. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a highly reliable heater structure of a vacuum oven chamber capable of shortening the heating time.
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す正面図である。
【図2】本発明の実施例を示すもので、図1の平面図で
ある。
【図3】本発明の実施例を示すもので、要部拡大説明図
である。
【図4】従来例を示す説明図である。
【図5】真空オーブンチャンバー内に搬入されるパッケ
ージ4の状態を示す説明図である。
【符号の説明】
3 トレー
4 パッケージ
5 キャリア
10 棚体
11 ヒータ
12 ヒータブロック
13 棚板
14 補助棚板
23 真空オーブンチャンバーBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a front view showing an embodiment of the present invention. FIG. 2 shows an embodiment of the present invention and is a plan view of FIG. FIG. 3 shows an embodiment of the present invention and is an enlarged explanatory view of a main part. FIG. 4 is an explanatory diagram showing a conventional example. FIG. 5 is an explanatory diagram showing a state of a package 4 carried into a vacuum oven chamber. [Description of Signs] 3 tray 4 package 5 carrier 10 shelf 11 heater 12 heater block 13 shelf 14 auxiliary shelf 23 vacuum oven chamber
Claims (1)
収納したパッケージに、キャップを溶接するための溶接
工程の前工程におけるチャンバー内に前記キャリアを搬
入して前記パッケージを真空中で加熱乾燥するための真
空オーブンチャンバーであって、熱伝導率の良好な部材
で形成した棚板を支持してなる棚体と、この棚体を前記
真空オーブンチャンバー内に配置するとともに、別途設
けられたヒータからの伝導熱により加熱された前記棚体
の前記棚板上に、前記パッケージを搭載した前記キャリ
アを載置して前記パッケージを加熱乾燥することとした
真空オーブンチャンバーにおいて、 前記棚板の表面には窒化チタンアルミニウム皮膜が形成
されていることを特徴とする真空オーブンチャンバーの
ヒータ構造。(57) [Claim 1] The carrier is loaded into a chamber in a process preceding a welding process for welding a cap to a package mounted on the carrier and containing a chip therein. A vacuum oven chamber for heating and drying the package in a vacuum, wherein the shelf supports a shelf formed of a member having good thermal conductivity, and the shelf is disposed in the vacuum oven chamber. And a vacuum oven chamber in which the carrier on which the package is mounted is placed on the shelf of the shelf heated by conduction heat from a separately provided heater and the package is heated and dried. 3. The heater structure of a vacuum oven chamber according to claim 1, wherein a titanium aluminum nitride film is formed on a surface of the shelf.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08290098A JP3483239B2 (en) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | Heater structure of vacuum oven chamber |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08290098A JP3483239B2 (en) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | Heater structure of vacuum oven chamber |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11257852A JPH11257852A (en) | 1999-09-24 |
| JP3483239B2 true JP3483239B2 (en) | 2004-01-06 |
Family
ID=13787141
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08290098A Expired - Fee Related JP3483239B2 (en) | 1998-03-13 | 1998-03-13 | Heater structure of vacuum oven chamber |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3483239B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103206838B (en) * | 2013-04-02 | 2014-12-10 | 海博瑞恩电子科技无锡有限公司 | Electrode core drying device and method |
| JP2019002652A (en) * | 2017-06-19 | 2019-01-10 | 株式会社島川製作所 | Vacuum heating furnace |
-
1998
- 1998-03-13 JP JP08290098A patent/JP3483239B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH11257852A (en) | 1999-09-24 |
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| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081017 Year of fee payment: 5 |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091017 Year of fee payment: 6 |
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| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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