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JP3483989B2 - Photosensitive material processing equipment - Google Patents
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JP3483989B2 - Photosensitive material processing equipment - Google Patents

Photosensitive material processing equipment

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JP3483989B2
JP3483989B2 JP18394095A JP18394095A JP3483989B2 JP 3483989 B2 JP3483989 B2 JP 3483989B2 JP 18394095 A JP18394095 A JP 18394095A JP 18394095 A JP18394095 A JP 18394095A JP 3483989 B2 JP3483989 B2 JP 3483989B2
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photosensitive material
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は感光材料処理装置に
係り、特に、処理槽から排出された処理液の廃液を廃液
貯留部へ貯留する感光材料処理装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus, and more particularly to a photosensitive material processing apparatus for storing a waste liquid of a processing liquid discharged from a processing tank in a waste liquid storage section.

【0002】[0002]

【従来の技術】感光材料処理装置では、感光材料の処理
に応じて処理槽に補充液を補充するようになっている。
補充を行うと、処理槽の処理液はオーバーフローし、廃
液として廃液タンク等に貯留される。
2. Description of the Related Art In a photosensitive material processing apparatus, a replenisher is replenished in a processing tank according to processing of a photosensitive material.
When replenished, the processing liquid in the processing tank overflows and is stored as a waste liquid in a waste liquid tank or the like.

【0003】一方、この感光材料処理装置の廃液を濃縮
する装置が提案されている(特開平4−338947〜
338950号公報)。この廃液を濃縮する装置は、廃
液を蒸発濃縮するために、蒸発釜の加熱手段及び、蒸気
を冷却し、凝縮し液化する冷却釜の冷却手段としてヒー
トポンプを使用するものである。
On the other hand, an apparatus for concentrating the waste liquid of this photosensitive material processing apparatus has been proposed (JP-A-4-338947).
338950). This apparatus for concentrating the waste liquid uses a heat pump as a heating means of the evaporating vessel and a cooling means of a cooling vessel for cooling, condensing and liquefying the vapor in order to evaporate and concentrate the waste fluid.

【0004】また、特開平6−118597号公報に
は、処理機内の廃液処理槽内に、乾燥部の排熱空気を導
入して廃液を蒸発させる手段と、蒸気の水分を除去する
手段とを備えた装置が開示されている。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 6-18597 discloses a means for introducing waste heat air from the drying section to evaporate the waste liquid and a means for removing moisture in the steam in the waste liquid processing tank in the processing machine. An apparatus comprising is disclosed.

【0005】特開平4−338947〜338950号
公報の装置では、専用の熱源と冷却器を設けて廃液の濃
縮を行っていたが、特開平6−118597号では感光
材料処理装置内で乾燥風を熱源として利用し、廃液の濃
縮を行うものである。
In the apparatus disclosed in Japanese Patent Laid-Open Nos. 4-338947 to 338950, a waste heat is concentrated by providing a dedicated heat source and a cooler. However, in Japanese Patent Laid-Open No. 6-118595, dry air is blown in the photosensitive material processing apparatus. It is used as a heat source to concentrate the waste liquid.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、ヒートポンプ
を使用する濃縮装置は、装置に多大な費用がかかるばか
ランニングコストも大きく問題がある(なお、これらの
問題や課題は、特開平6−118597号にも記載され
ている。)。
However, the concentrating device using the heat pump has a problem that the device is very expensive and the running cost is large (these problems and problems are disclosed in JP-A-6-11897). It is also described in.).

【0007】一方、特開平6−118597号では、処
理機自身の乾燥風を利用するため、ヒートポンプや新た
なヒータが不要がであり、効率が改善されている。しか
しながら、この方式は、相変わらず廃液を一旦予備タン
ク(内蔵タンク)に貯留した後に蒸発工程を行っている
ため装置が複雑になり、一旦貯留された液は表面積が小
さくされるため蒸発効率が低下してしまうという問題が
ある。
On the other hand, in Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-118597, since the dry air of the processing machine itself is used, there is no need for a heat pump or a new heater, and the efficiency is improved. However, in this method, since the waste liquid is still stored in the preliminary tank (built-in tank) and then the evaporation process is performed, the device becomes complicated, and the surface area of the liquid once stored is reduced, so that the evaporation efficiency is reduced. There is a problem that it will end up.

【0008】本発明は上記事実を考慮し、簡単な構造で
廃液量を低減することのできる感光材料処理装置を提供
することが目的である。
In view of the above facts, an object of the present invention is to provide a photosensitive material processing apparatus capable of reducing the amount of waste liquid with a simple structure.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、感光材料を処理する処理液を貯留する処理槽と、前
記処理槽の処理液を加温する温調手段と、を備え、前記
処理槽から排出された処理液の廃液を廃液貯留部へ貯留
する感光材料処理装置であって、前記廃液の容積を廃液
貯留部へ貯留する前に減量する減量手段を備え、前記減
量手段は処理液により加温された前記処理槽の槽壁であ
り、前記廃液は前記槽壁を伝わった後に前記廃液貯留部
へ貯留されることを特徴としている。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a processing bath for storing a processing liquid for processing a photosensitive material, and a temperature adjusting means for heating the processing liquid in the processing bath. A photosensitive material processing apparatus for storing a waste liquid of a processing liquid discharged from the processing tank in a waste liquid storage part, wherein
A reduction means for reducing the volume before storing in the storage part is provided.
The measuring means is a tank wall of the processing tank heated by the processing liquid.
After the waste liquid has passed through the tank wall, the waste liquid storage section
It is characterized by being stored in .

【0010】請求項1に記載の感光材料処理装置では、
感光材料は処理槽に貯留された処理液によって所定の処
理が行われる。また、温調手段は、感光材料の処理が適
正に行われるように処理槽の処理液を加温する。
In the photosensitive material processing apparatus according to claim 1,
The photosensitive material is subjected to predetermined processing by the processing liquid stored in the processing tank. The temperature adjusting means heats the processing liquid in the processing tank so that the photosensitive material can be processed properly.

【0011】また、処理液の補充等が行われ、処理槽か
らオバーフローして排出された処理液は、廃液となって
廃液貯留部へ貯留されるが、減量手段が廃液の容積を廃
液貯留部へ貯留する前に減量するので、廃液貯留部へ貯
留される廃液量を低減することができる。
Further, the processing liquid replenished with the processing liquid and the like, which is overflowed from the processing tank and discharged, is stored as a waste liquid in the waste liquid storage portion, and the volume reduction means reduces the volume of the waste liquid to the waste liquid storage portion. The amount of waste liquid stored in the waste liquid storage unit can be reduced because the amount is reduced before storing the waste liquid.

【0012】[0012]

【0013】さらに詳しくは、廃液は槽壁を伝わった後
に廃液貯留部へ貯留される。ここで、槽壁が温調手段に
より加温された処理液によって温められているので、廃
液は廃液貯留部へ貯留される以前に槽壁部分で水分が蒸
発して容量が減量する。なお、水分の蒸発を多くするた
めに、廃液を槽壁にできる限り広げることが好ましい。
また、水分の蒸発は除々に行われるので、処理槽から排
出する廃液の量は、蒸発速度に合わせて少量かつ一定量
とすることが好ましい。
More specifically, the waste liquid is stored in the waste liquid storage portion after passing through the tank wall. Here, since the tank wall is warmed by the treatment liquid heated by the temperature adjusting means, the waste liquid has its capacity reduced by evaporation of water in the tank wall portion before being stored in the waste liquid storage section. In order to increase evaporation of water, it is preferable to spread the waste liquid on the tank wall as much as possible.
Moreover, since the evaporation of water is gradually performed, it is preferable that the amount of the waste liquid discharged from the processing tank be a small amount and a constant amount according to the evaporation rate.

【0014】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の感光材料処理装置において、送風手段及び処理液で処
理された感光材料を乾燥させる乾燥風生成手段の少なく
とも一方を備え、前記廃液は前記廃液貯留部へ貯留され
る前に前記送風手段によって生成される風及び前記乾燥
風生成手段によって生成される乾燥風の少なくとも一方
の影響を受けることを特徴としている。
The invention as defined in claim 2 is as set forth in claim 1.
In the light-sensitive material processing apparatus, at least one of a blowing means and a drying air generating means for drying the light-sensitive material treated with the processing liquid is provided, and the waste liquid is generated by the blowing means before being stored in the waste liquid storage section. It is characterized in that it is affected by at least one of the dry air and the dry air generated by the dry air generating means.

【0015】請求項2に記載の感光材料処理装置では、
廃液が廃液貯留部へ貯留される前に送風手段によって生
成される風及び乾燥風生成手段によって生成される乾燥
風の少なくとも一方の影響を受ける。このため、廃液貯
留部へ貯留される前に廃液の蒸発が促進され、廃液貯留
部へ貯留される廃液量を低減することができる。特に、
温められた槽壁を伝わる廃液に風を当てることにより、
蒸発が促進されて効果が高まる。
In the photosensitive material processing apparatus according to the second aspect,
Before the waste liquid is stored in the waste liquid storage unit, it is affected by at least one of the wind generated by the air blowing unit and the dry air generated by the dry air generating unit. Therefore, the evaporation of the waste liquid is promoted before being stored in the waste liquid storage unit, and the amount of waste liquid stored in the waste liquid storage unit can be reduced. In particular,
By blowing air on the waste liquid that has passed through the heated tank wall,
Evaporation is accelerated and the effect is enhanced.

【0016】また、請求項3に記載の発明は、請求項1
または請求項2に記載の感光材料処理装置において、前
記温調手段が作動しているときに、単位時間当たりの処
理槽からオーバーフローする廃液を平均化するように補
充液の補充を行う補充手段を備えたことを特徴としてい
る。
The invention described in claim 3 is the same as claim 1
Alternatively, in the photosensitive material processing apparatus according to claim 2,
When the temperature control means is operating, processing per unit time
It is supplemented to average out the waste liquid overflowing from the processing tank.
It is characterized by having a replenishing means for replenishing the filling liquid.
It

【0017】請求項3に記載の感光材料処理装置では、
温調手段が作動しているときに、補充手段は、単位時間
当たりの処理槽からオーバーフローする廃液を平均化す
るように補充液の補充を行う。即ち、補充手段は、短時
間に液補充を行って、その後しばらくの間液の補充を行
わない、ということが無く、少しずつ時間をかけて補充
液を補充するので、処理槽からオーバーフローする廃液
も液補充に対応して少しずつ長時間をかけて排出される
ことになり、これによって多量の水分を蒸発させること
が可能となり廃液貯留部へ貯留される廃液量を確実に低
減することができる。
In the photosensitive material processing apparatus according to claim 3,
When the temperature control means is operating, replenishing means, the unit time
Average the waste liquid overflowing from the per treatment tank
To replenish the replenisher . That is, the replenishing means does not replenish the liquid in a short time and does not replenish the liquid for a while after that, and replenishes the replenishing liquid little by little, so that the waste liquid overflowing from the processing tank Will also be discharged little by little in response to liquid replenishment, which makes it possible to evaporate a large amount of water and reliably reduce the amount of waste liquid stored in the waste liquid storage section. .

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】図1に示すように、感光材料処理
装置としてのフィルムプロセッサ10は、露光済みの感
光材料としてのフィルム12を収容したカートリッジ1
3を装着する装着部14及びフィルム12を現像処理す
るフィルム現像部16を備えている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As shown in FIG. 1, a film processor 10 as a photosensitive material processing apparatus includes a cartridge 1 containing a film 12 as an exposed photosensitive material.
A mounting unit 14 for mounting the film 3 and a film developing unit 16 for developing the film 12 are provided.

【0019】フィルム現像部16は、箱状のケーシング
17の中に設けられており、発色現像液を貯留した発色
現像槽18、漂白液を貯留した漂白槽20、漂白定着液
を貯留した漂白定着槽22、定着液を貯留した定着槽2
4、水洗水を貯留した水洗槽26、安定浴液を貯留した
第1安定浴槽28及び第2安定浴槽30が連続して設け
られ、第2安定浴槽30の下流側には乾燥室32が設け
られている。
The film developing section 16 is provided in a box-shaped casing 17, and has a color developing tank 18 containing a color developing solution, a bleaching tank 20 containing a bleaching solution, and a bleach-fixing solution containing a bleach-fixing solution. Tank 22, fixing tank 2 storing fixer
4, a washing tank 26 storing flush water, a first stabilizing bath 28 and a second stabilizing bath 30 storing a stabilizing bath liquid are continuously provided, and a drying chamber 32 is provided downstream of the second stabilizing bath 30. Has been.

【0020】これら各槽には、複数を備えたラック34
が配設されており、このラック34のローラに挟持搬送
されることによって、フィルム12は、図1に示される
如く、略U字型の搬送経路で各槽へ浸漬され、現像処理
等がなされる。
Each of these tanks has a plurality of racks 34
By being nipped and conveyed by the rollers of the rack 34, the film 12 is immersed in each tank in a substantially U-shaped conveyance path as shown in FIG. It

【0021】これらの処理液にて処理されたフィルム1
2は、乾燥室32へ送り込まれ、ヒータ36とファン3
8等からなる乾燥風発生手段によって乾燥風(温風)が
吹き付けられ、乾燥された後に機外へ排出される。[発
色現像槽]図2に示すように、発色現像槽18は、発色
現像液を貯留する処理タンク40と処理タンク40に連
通するサブタンク42を備えている。
Film 1 treated with these treatment liquids
2 is sent to the drying chamber 32, and the heater 36 and the fan 3
Dry air (warm air) is blown by the dry air generating means composed of 8 and the like, and after being dried, it is discharged out of the machine. [Color Developing Tank] As shown in FIG. 2, the color developing tank 18 includes a processing tank 40 that stores a color developing solution and a sub tank 42 that communicates with the processing tank 40.

【0022】サブタンク42には、サブタンク42内の
液の温度を検出する温度センサ(サーミスタ)46、槽
内の液のレベルを検出するフロート式の液面検出センサ
48、槽内の液を加温する温調手段としてのヒータ50
が取り付けられている。なお、液面検出センサ48に
は、槽内の液が所定温度以上に上がった際に作動する安
全サーモ52が取り付けられている。
In the sub tank 42, a temperature sensor (thermistor) 46 for detecting the temperature of the liquid in the sub tank 42, a float type liquid level detecting sensor 48 for detecting the level of the liquid in the tank, and a liquid in the tank are heated. Heater 50 as a temperature control means for
Is attached. The liquid level detection sensor 48 is equipped with a safety thermostat 52 that operates when the liquid in the tank rises above a predetermined temperature.

【0023】さらに、発色現像槽18には、処理タンク
40及びサブタンク42に貯留された液を循環させる循
環装置54が設けられている。循環装置54は、交換可
能な循環フィルター56、流量計58、循環ポンプ6
0、冷却用ラジエーター62及び制御装置55を備えて
おり、液を所定温度に保っている。
Further, the color developing tank 18 is provided with a circulation device 54 for circulating the liquid stored in the processing tank 40 and the sub tank 42. The circulation device 54 includes a replaceable circulation filter 56, a flow meter 58, and a circulation pump 6.
0, a cooling radiator 62 and a controller 55 are provided to keep the liquid at a predetermined temperature.

【0024】また、サブタンク42には、補充手段43
が取り付けられており、補充手段43は補充タンク5
1、補充タンク51内の処理液をサブタンク42へ供給
するポンプ53及びポンプ53より供給された処理液を
サブタンク42内に放出するノズル44を備えている。
なお、このポンプ53は、制御装置55によって制御さ
れている。また、発色現像槽18の補充タンク51に
は、補充用の発色現像液が貯留されている。
The sub tank 42 has a replenishing means 43.
Is attached, and the replenishment means 43 is a replenishment tank 5
1. A pump 53 for supplying the processing liquid in the replenishment tank 51 to the sub tank 42 and a nozzle 44 for discharging the processing liquid supplied from the pump 53 into the sub tank 42 are provided.
The pump 53 is controlled by the controller 55. The replenishing color developing solution is stored in the replenishing tank 51 of the color developing tank 18.

【0025】なお、発色現像槽18の余剰の発色現像液
は発色現像槽18の矢印F方向側の槽壁に設けられたス
リット64からオーバーフローするようになっている。
The excess color developing solution in the color developing tank 18 overflows from a slit 64 provided in the tank wall of the color developing tank 18 in the direction of arrow F.

【0026】発色現像槽18には、図2乃至図4に示す
ようにスリット64の下側に傾斜壁66が形成されてい
る。図3に示すように、傾斜壁66は、スリット64か
らオーバーフローした液が全面に渡って広がるように複
数の傾斜した溝68が交互に形成されている。
In the color developing tank 18, an inclined wall 66 is formed below the slit 64 as shown in FIGS. As shown in FIG. 3, the inclined wall 66 has a plurality of inclined grooves 68 alternately formed so that the liquid overflowing from the slit 64 spreads over the entire surface.

【0027】また、傾斜壁66の下端は、傾斜してお
り、傾斜壁66の下端には傾斜壁66を伝わって落ちて
くる液を回収するための樋70が設けられている。図2
及び図3に示すように、樋70の下端には、配管72が
接続されており、樋70で回収した液は配管72を介し
て第1の廃液タンク74内に回収されるようになってい
る。なお、廃液タンク74には、廃液の満杯検出用のフ
ロートスイッチ75が、キャップ74Aに取り付けられ
ている。 [漂白槽]漂白槽20は、発色現像槽18とほぼ同様の
構造であるので、発色現像槽18との相違点のみを説明
する。なお、発色現像槽18と同一構造に関しては同一
符号を付し、その説明は省略する。
The lower end of the slanted wall 66 is slanted, and a gutter 70 is provided at the lower end of the slanted wall 66 for collecting the liquid that has fallen down along the slanted wall 66. Figure 2
Further, as shown in FIG. 3, a pipe 72 is connected to the lower end of the gutter 70, and the liquid collected in the gutter 70 is collected in the first waste liquid tank 74 via the pipe 72. There is. The waste liquid tank 74 has a float switch 75 attached to the cap 74A for detecting the fullness of the waste liquid. [Bleaching Tank] Since the bleaching tank 20 has a structure similar to that of the color developing tank 18, only differences from the color developing tank 18 will be described. The same components as those of the color developing tank 18 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0028】漂白槽20が発色現像槽18と相違する点
は、図5に示すように、容積が異なる点、処理タンク4
0にオーバーフロー用のスリット64及び傾斜壁66が
形成されていない点、補充タンク51に漂白液(補充
液)が貯留されている点、循環装置54に流量計58が
設けられていない点である。また、漂白槽20からオー
バーフローした漂白液は、図6に示すように隣接する漂
白定着槽22に流れ込む(矢印A)ようになっている。 [漂白定着槽]漂白定着槽22は、発色現像槽18とほ
ぼ同様の構造であるので、発色現像槽18との相違点の
みを説明する。漂白定着槽22が発色現像槽18と相違
する点は、容積が異なる点、補充手段43が設けられて
いない点、循環装置54に流量計58が設けられていな
い点である。
The bleaching tank 20 is different from the color developing tank 18 in that the bleaching tank 20 has a different volume as shown in FIG.
0 is that the overflow slit 64 and the inclined wall 66 are not formed, the bleaching liquid (replenishing liquid) is stored in the replenishment tank 51, and the flow meter 58 is not provided in the circulation device 54. . Further, the bleaching solution overflowing from the bleaching tank 20 flows into the adjacent bleach-fixing tank 22 as shown in FIG. 6 (arrow A). [Bleach-fixing tank] The bleach-fixing tank 22 has almost the same structure as the color-developing tank 18, and therefore only the differences from the color-developing tank 18 will be described. The bleach-fixing tank 22 is different from the color developing tank 18 in that the bleach-fixing tank 22 has a different volume, that the replenishing means 43 is not provided, and that the circulation device 54 is not provided with a flow meter 58.

【0029】漂白定着槽22では、図4に示すように、
漂白定着液がスリット64からオーバーフローするよう
になっており、スリット64からオーバーフローした漂
白定着液は、定着槽24の槽壁に連続する傾斜壁66を
伝わって落ちた後、図6に示すように配管76を介して
第2の廃液タンク78内に回収されるようになってい
る。なお、廃液タンク78にも、廃液タンク74と同様
に廃液の満杯検出用のフロートスイッチ75が取り付け
られている。 [定着槽]定着槽24は、漂白槽20とほぼ同様の構造
であるので、漂白槽20との相違点のみを説明する。定
着槽24が漂白槽20と相違する点は、補充タンク51
に定着液(補充液)が貯留されている点、循環装置54
に流量計58が設けられていない点である。
In the bleach-fixing tank 22, as shown in FIG.
The bleach-fixing solution overflows from the slit 64, and the bleaching-fixing solution overflowing from the slit 64 flows down the inclined wall 66 continuous with the tank wall of the fixing tank 24 and then, as shown in FIG. It is adapted to be collected in the second waste liquid tank 78 via the pipe 76. It should be noted that the waste liquid tank 78 is also provided with a float switch 75 for detecting the fullness of the waste liquid, like the waste liquid tank 74. [Fixing Tank] The fixing tank 24 has substantially the same structure as the bleaching tank 20. Therefore, only the differences from the bleaching tank 20 will be described. The fixing tank 24 is different from the bleaching tank 20 in that the replenishing tank 51 is
The fixer (replenisher) is stored in the circulation device 54.
This is the point that the flowmeter 58 is not provided.

【0030】また、定着槽24では、図6に示すよう
に、オーバーフローした定着液が隣接する漂白定着槽2
2に流れ込む(矢印B)ようになっている。 [水洗槽]水洗槽26は、定着槽24とほぼ同様の構造
であるので、定着槽24との相違点のみを説明する。水
洗槽26が定着槽24と相違する点は、容積が異なる
点、補充タンク51に水洗水(補充液)が貯留されてい
る点、図6に示すようにオーバーフローした水洗水が隣
接する定着槽24に流れ込む(矢印D)ようになってい
る点である。
Further, in the fixing tank 24, as shown in FIG.
It flows into 2 (arrow B). [Washing Tank] The washing tank 26 has substantially the same structure as the fixing tank 24, and therefore only the differences from the fixing tank 24 will be described. The difference between the washing tank 26 and the fixing tank 24 is that the washing tank 26 has a different volume, that the washing water (replenishing liquid) is stored in the replenishing tank 51, and the fixing tank having overflowed washing water adjacent thereto as shown in FIG. The point is that it flows into 24 (arrow D).

【0031】なお、水洗槽26の槽壁には、図4に示す
ように傾斜壁66が形成されており、水洗槽26の傾斜
壁66は次に説明する第1安定浴槽28の槽壁に形成さ
れた傾斜壁66に連続している。 [第1安定浴槽]第1安定浴槽28は、発色現像槽18
とほぼ同様の構造であるので、相違点のみを説明する。
第1安定浴槽28が発色現像槽18と相違する点は、容
積が異なる点、補充手段43が設けられていない点、循
環装置54に流量計58が設けられていない点である。
An inclined wall 66 is formed on the tank wall of the washing bath 26 as shown in FIG. 4, and the inclined wall 66 of the washing tank 26 is formed on the tank wall of the first stabilizing bath 28 described below. It continues to the formed inclined wall 66. [First Stabilizing Bath] The first stabilizing bath 28 is a color developing tank 18.
Since the structure is almost the same as the above, only the difference will be described.
The first stabilizing bath 28 is different from the color developing bath 18 in that the volume is different, the replenishing means 43 is not provided, and the flow meter 58 is not provided in the circulation device 54.

【0032】図4及び図6に示すように、第1安定浴槽
28では、安定浴液がスリット64からオーバーフロー
し、傾斜壁66を伝わって落ちた後、配管82、継手8
3及び配管72を介して第1の廃液タンク74内に回収
されるようになっている。なお、第1安定浴槽28の傾
斜壁66は、前述したように水洗槽26の傾斜壁66に
連続しており(図4参照)、また、次に説明する第2安
定浴槽30の槽壁に形成される傾斜壁66にも連続して
いる。 [第2安定浴槽]第2安定浴槽30は、第1安定浴槽2
8とほぼ同様の構造であるので、第1安定浴槽28との
相違点のみを説明する。第2安定浴槽30が第1安定浴
槽28と相違する点は、補充手段43が設けられてお
り、補充タンク51に安定浴液(補充液)が貯留されて
いる点、スリット64が設けられていない点、オーバー
フローした安定浴液が第1安定浴槽28へ流出する(図
6、矢印C)点である。なお、槽壁に第1安定浴槽28
の傾斜壁66に連続する傾斜壁66を備えている点は前
述した通りである。
As shown in FIG. 4 and FIG. 6, in the first stabilizing bath 28, the stabilizing bath liquid overflows from the slit 64 and travels down the inclined wall 66, and then falls down to the pipe 82 and the joint 8.
It is configured to be collected in the first waste liquid tank 74 via 3 and the pipe 72. In addition, the inclined wall 66 of the first stabilizing bath 28 is continuous with the inclined wall 66 of the washing bath 26 as described above (see FIG. 4), and is formed on the tank wall of the second stabilizing bath 30 described next. It is also continuous to the formed inclined wall 66. [Second Stabilizing Bathtub] The second stabilizing bathtub 30 is the first stabilizing bathtub 2
Since the structure is almost the same as that of No. 8, only the difference from the first stabilizing bath 28 will be described. The difference between the second stabilizing bath 30 and the first stabilizing bath 28 is that the replenishing means 43 is provided, the stabilizing bath liquid (replenishing liquid) is stored in the replenishing tank 51, and the slit 64 is provided. There is no point, and the overflowing stabilizing bath solution flows out to the first stabilizing bath 28 (arrow C in FIG. 6). The first stabilizing bath 28 is attached to the tank wall.
The point that the inclined wall 66 that is continuous with the inclined wall 66 is provided as described above.

【0033】なお、図1に示すように、ケーシング17
の上部には、排気ファン84が取り付けられている。こ
の排気ファン84は、ケーシング17の内部の空気(乾
燥室32で使用された排気の一部を含む)を排気するこ
とによって内部の結露を防止している。
As shown in FIG. 1, the casing 17
An exhaust fan 84 is attached to the upper part of the. The exhaust fan 84 prevents the dew condensation inside by exhausting the air inside the casing 17 (including a part of the exhaust used in the drying chamber 32).

【0034】次に、本実施形態の作用を説明する。この
フィルムプロセッサ10では、カートリッジ13から引
き出された露光済みのフィルム12が発色現像槽18、
漂白槽20、漂白定着槽22、定着槽24、水洗槽2
6、第1安定浴槽28及び第2安定浴槽30を順に搬送
され、これらの各槽の処理液にて処理されたフィルム1
2は乾燥室32へ送り込まれ乾燥された後に機外へ排出
される。
Next, the operation of this embodiment will be described. In this film processor 10, the exposed film 12 pulled out from the cartridge 13 is a color developing tank 18,
Bleaching tank 20, bleach-fixing tank 22, fixing tank 24, washing tank 2
6, the first stabilizing bath 28, and the second stabilizing bath 30 in that order, and the film 1 treated with the treatment liquid in each of these baths.
2 is sent to the drying chamber 32, dried, and then discharged to the outside of the machine.

【0035】ところで、現像処理を行うと、フィルム1
2の処理に応じて各処理液が劣化するため、発色現像槽
18、漂白槽20、定着槽24、水洗槽26、第2安定
浴槽30には、フィルム12の処理量に応じて新鮮な補
充液が補充手段43によって所定量補充される。
By the way, when the development process is performed, the film 1
Since each processing solution is deteriorated according to the processing of No. 2, the color developing tank 18, the bleaching tank 20, the fixing tank 24, the washing tank 26, and the second stabilizing bath 30 are freshly replenished according to the processing amount of the film 12. A predetermined amount of liquid is replenished by the replenishing means 43.

【0036】ここで、発色現像槽18に補充液が補充さ
れると、オーバーフローした発色現像液がスリット64
を介して槽外へ排出される。スリット64から排出され
た発色現像液は、傾斜壁66の全面に渡って広がりなが
らゆっくりと下方へ流れて行く。
When the color developing tank 18 is replenished with the replenishing solution, the overflowing color developing solution is slit 64.
Is discharged to the outside of the tank via. The color developer discharged from the slit 64 slowly spreads downward while spreading over the entire surface of the inclined wall 66.

【0037】この傾斜壁66は、処理タンク40内の加
温された発色現像液によって温められているため、傾斜
壁66を伝わってゆっくりと下方へ流れて行く発色現像
液の蒸発を促進させる。これにより、オーバーフローし
た発色現像液は、傾斜壁66の下端に至るまでの間に水
分が蒸発して濃縮され、樋70及び配管72を介して第
1の廃液タンク74内に回収される。
Since the inclined wall 66 is warmed by the heated color developing solution in the processing tank 40, the inclined wall 66 promotes evaporation of the color developing solution which flows along the inclined wall 66 and slowly flows downward. As a result, the overflowed color developing solution is concentrated by evaporating water until it reaches the lower end of the inclined wall 66, and is collected in the first waste liquid tank 74 via the gutter 70 and the pipe 72.

【0038】一方、漂白槽20に補充液が補充される
と、オーバーフローした漂白液は漂白定着槽22に流れ
込む。また、定着槽24及び水洗槽26に補充液が補充
されると、オーバーフローした定着液及び水洗水は漂白
定着槽22に流れ込む。漂白定着槽22からオーバーフ
ローした漂白定着液は、スリット64を介して槽外へ排
出される。
On the other hand, when the replenishing solution is replenished in the bleaching tank 20, the overflowed bleaching solution flows into the bleach-fixing tank 22. When the fixing bath 24 and the washing bath 26 are replenished with the replenishing liquid, the overflowing fixing bath and washing water flow into the bleach-fixing bath 22. The bleach-fixing solution overflowing from the bleach-fixing tank 22 is discharged out of the tank through the slit 64.

【0039】スリット64から排出された漂白定着液
は、傾斜壁66の全面に渡って広がりながらゆっくりと
下方へ流れて行く。傾斜壁66は、漂白定着液及び定着
液によって温められているため、傾斜壁66を伝わって
ゆっくりと下方へ流れて行く漂白定着液の蒸発を促進さ
せる。これにより、オーバーフローした漂白定着液は、
傾斜壁66の下端に至るまでの間に水分が蒸発して濃縮
され、樋70及び配管76を介して第2の廃液タンク7
8内に回収される。
The bleach-fixing solution discharged from the slit 64 slowly spreads downward while spreading over the entire surface of the inclined wall 66. Since the inclined wall 66 is warmed by the bleach-fix solution and the fixing solution, the inclined wall 66 promotes the evaporation of the bleach-fix solution flowing down the inclined wall 66 and slowly. As a result, the overflowed bleach-fix solution
The water evaporates and is concentrated before reaching the lower end of the inclined wall 66, and the second waste liquid tank 7 passes through the gutter 70 and the pipe 76.
Recovered within 8.

【0040】また、第2安定浴槽30に補充液が補充さ
れると、オーバーフローした安定浴液が第1安定浴槽2
8に流れ込む。さらに、第1安定浴槽28からオーバー
フローした安定浴液は、スリット64を介して槽外へ排
出される。スリット64から排出された安定浴液は、傾
斜壁66の全面に渡って広がりながらゆっくりと下方へ
流れて行く。
Further, when the second stabilizing bath 30 is replenished with the replenishing liquid, the overflowing stabilizing bath liquid becomes the first stabilizing bath 2.
Pour into 8. Further, the stabilizing bath liquid overflowing from the first stabilizing bath 28 is discharged to the outside of the bath through the slit 64. The stabilizing bath solution discharged from the slit 64 slowly flows downward while spreading over the entire surface of the inclined wall 66.

【0041】傾斜壁66は、安定浴液によって温められ
ているため、傾斜壁66を伝わってゆっくりと下方へ流
れて行く間に安定浴液の蒸発を促進させる。これによ
り、オーバーフローした安定浴液は、傾斜壁66の下端
に至るまでの間に水分が蒸発して濃縮され、樋70及び
配管82、継手83及び配管72を介して第1の廃液タ
ンク74内に回収される。
Since the inclined wall 66 is warmed by the stabilizing bath liquid, it promotes the evaporation of the stabilizing bath liquid while passing through the inclined wall 66 and slowly flowing downward. As a result, the overflowed stabilizing bath liquid is concentrated by evaporating water until it reaches the lower end of the inclined wall 66, and is then stored in the first waste liquid tank 74 via the gutter 70 and the pipe 82, the joint 83 and the pipe 72. Will be collected.

【0042】このように、本実施形態のフィルムプロセ
ッサ10では、オーバーフローした処理液を、温められ
た傾斜壁66で蒸発させてその容積を減少させるので、
第1の廃液タンク74及び第2の廃液タンク78の廃液
量を低減することができる。
As described above, in the film processor 10 of the present embodiment, the overflowed processing liquid is evaporated by the warmed inclined wall 66 to reduce its volume.
The amount of waste liquid in the first waste liquid tank 74 and the second waste liquid tank 78 can be reduced.

【0043】なお、図2に示すように、傾斜壁66で生
じた蒸気67は、排気ファン84によってケーシング1
7の外へ排出される。
As shown in FIG. 2, the steam 67 generated on the inclined wall 66 is discharged from the casing 1 by the exhaust fan 84.
7 is discharged to the outside.

【0044】また、乾燥室32で使用された排気の一部
を傾斜壁66に当ててから機外に排出させることによ
り、廃液の蒸発をさらに促進することができる。
Further, a part of the exhaust gas used in the drying chamber 32 is applied to the inclined wall 66 and then discharged to the outside of the machine, so that the evaporation of the waste liquid can be further promoted.

【0045】なお、乾燥室32の排気を傾斜壁66に導
くダクト等を設け、積極的に乾燥室32の温まった排気
を傾斜壁66に当てても良い。また、機器に使用される
発熱源(例えばモータ)を冷却した後の排熱(温風)を
導いても良い。
A duct or the like for guiding the exhaust gas of the drying chamber 32 to the inclined wall 66 may be provided to positively apply the warm exhaust gas of the drying chamber 32 to the inclined wall 66. In addition, exhaust heat (warm air) after cooling a heat source (for example, a motor) used in the device may be guided.

【0046】廃液のオーバーフローは、ドライブ状態に
て補充が行われた時に生じるため、効率良く廃液を蒸発
させることができる。
Since the overflow of the waste liquid occurs when the liquid is replenished in the drive state, the waste liquid can be efficiently evaporated.

【0047】また、本実施形態では、廃液の蒸発を促進
するために、各槽の温まった傾斜壁66を利用してお
り、蒸発濃縮用の加熱装置や設備を別途用意する必要が
無い。このため、安価で効率的な廃液処理が可能とな
る。また、第1の廃液タンク74及び第2の廃液タンク
78に排出される廃液の量が少ないので、第1の廃液タ
ンク74及び第2の廃液タンク78の小型化が図れ、機
器を小型化することも可能である。さらに、第1の廃液
タンク74及び第2の廃液タンク78の交換といったメ
インテナンスの回数も低減でき、オペレーターの負担が
低減できる。
Further, in this embodiment, in order to promote the evaporation of the waste liquid, the warm inclined wall 66 of each tank is used, and it is not necessary to separately prepare a heating device or equipment for evaporative concentration. For this reason, it becomes possible to treat the waste liquid inexpensively and efficiently. Further, since the amount of the waste liquid discharged to the first waste liquid tank 74 and the second waste liquid tank 78 is small, the first waste liquid tank 74 and the second waste liquid tank 78 can be downsized, and the device can be downsized. It is also possible. Further, the number of maintenance such as replacement of the first waste liquid tank 74 and the second waste liquid tank 78 can be reduced, and the burden on the operator can be reduced.

【0048】なお、廃液量の割合に応じて、蒸発面積
(傾斜壁の面積)を各々変えても良い。また、傾斜壁6
6の鉛直線に対する角度を大きくすれば、廃液の流速を
遅くすることができ、時間をかけて廃液を蒸発させるこ
とができる。
The evaporation area (area of the inclined wall) may be changed according to the ratio of the amount of waste liquid. Also, the inclined wall 6
If the angle of 6 with respect to the vertical line is increased, the flow rate of the waste liquid can be slowed down, and the waste liquid can be evaporated over time.

【0049】さらに、廃液の蒸発を促進するためには、
処理槽の温まった槽壁であれば処理槽の何れの部位でも
利用でき、例えば、処理槽の底壁を利用しても良い。こ
の場合、処理槽の底壁を傾斜させたり、円弧状とすれば
良い。
Furthermore, in order to accelerate the evaporation of the waste liquid,
Any portion of the treatment tank can be used as long as it is a warm treatment tank wall, and for example, the bottom wall of the treatment tank may be used. In this case, the bottom wall of the processing tank may be inclined or arcuate.

【0050】また、前記実施形態では、傾斜壁66にオ
ーバーフローした液が全面に渡って広がるように複数の
傾斜した溝68を交互に形成したが、液が広がり、かつ
空気との接触面積が広がるように、細かな凹凸を全面に
形成したり、表面を波うたせる等しても良い。
Further, in the above embodiment, the plurality of inclined grooves 68 are alternately formed so that the overflowed liquid spreads over the entire surface of the inclined wall 66, but the liquid spreads and the contact area with the air expands. Thus, fine irregularities may be formed on the entire surface, or the surface may be wavy.

【0051】また、臭気のする廃液を蒸発させる場合に
は、蒸発面積を小さくしたり、傾斜壁66を介さずに廃
液タンクに直接排出させても良い。また、脱臭手段(例
えば、活性炭フィルター等)を介して内部の空気を排出
するようにしても良い。
When the odorous waste liquid is evaporated, the evaporation area may be reduced, or the waste liquid may be directly discharged to the waste liquid tank without the inclined wall 66. Further, the air inside may be discharged via a deodorizing means (for example, an activated carbon filter or the like).

【0052】従来の感光材料処理装置では、図7に示す
ように、液の補充を感光材料の処理毎もしくは想像線で
示すように何回かの処理に1回(まとめて補充)行って
いた。
In the conventional photosensitive material processing apparatus, as shown in FIG. 7, the replenishment of the liquid is performed once for each processing of the photosensitive material or once for several processings as indicated by an imaginary line (collective replenishment). .

【0053】本実施形態では、液の補充(方法1)で示
すように、できるだけ少量ずつ長い時間をかけてゆっく
りと補充を行うとより効果的である。
In the present embodiment, it is more effective to replenish the solution as little as possible over a long time and slowly, as shown in the replenishment of the liquid (method 1).

【0054】例えば、発色現像処理槽の液補充量がフィ
ルム1本当たり23ミリリットル必要とされ、通常時の液補充
速度が1ミリリットル/分である場合、23分以内に次の処理
がなければオーバーフローした廃液は蒸発してほとんど
無くなることになる。
For example, when the liquid replenishing amount in the color developing tank is required to be 23 ml per film, and the liquid replenishing rate at the normal time is 1 ml / min, overflow occurs unless the next process is performed within 23 minutes. The waste liquid is evaporated and almost disappears.

【0055】したがって、本方法は処理量の少ない処理
機ほど有効である。即ち、処理量が少なければオーバー
フローする液の量は少なく、これによって傾斜壁66で
殆どの水分を蒸発させることが可能となる。
Therefore, the present method is more effective for a processor having a smaller processing amount. That is, if the processing amount is small, the amount of the overflowed liquid is small, which makes it possible to evaporate most of the water on the inclined wall 66.

【0056】特に、低処理能力機においては、殆ど廃液
が出なくなり、溶解物を傾斜壁66に固形状にして回収
することもできる。この場合、固化に必要な体積を有す
る傾斜壁66を確保し、図8に示すように、予めスポン
ジ、フェルト、不織布、紙、綿等の吸水性を有する回収
シート(あるいはマット)86を傾斜壁66に交換可能
に貼り付けておき、定期的に固化した廃液を回収するこ
ともできる。このように廃液が殆ど出ない場合には、図
8に示すように、容量の小さな廃液タンク88を設ける
構成とすることが可能である。
Particularly, in a low-throughput machine, almost no waste liquid is produced, and the dissolved matter can be collected in the solid state on the inclined wall 66. In this case, an inclined wall 66 having a volume necessary for solidification is secured, and as shown in FIG. 8, a water-absorbing recovery sheet (or mat) 86 such as sponge, felt, non-woven fabric, paper, cotton, etc. is previously attached to the inclined wall. It is also possible to replaceably attach it to 66 and periodically collect the solidified waste liquid. When almost no waste liquid is generated as described above, it is possible to provide a waste liquid tank 88 having a small capacity as shown in FIG.

【0057】一方、連続処理する場合には、制御装置5
5にメモリーを設け、一定の補充量になるまで補充量を
メモリーに加えてゆき、一定量を超える毎に少しずつ補
充速度を速めてゆく(図7、液の補充(方法2)参
照)。例えば、補充量が46ミリリットルになったら補充速度
を2ミリリットル/分、補充量が69ミリリットルになったら補充速
度を3ミリリットル/分と速くして行く。
On the other hand, in the case of continuous processing, the controller 5
5 is provided with a memory, and the replenishment amount is added to the memory until a constant replenishment amount is reached, and the replenishment rate is gradually increased each time the predetermined amount is exceeded (see FIG. 7, liquid replenishment (method 2)). For example, when the replenishment amount is 46 ml, the replenishment rate is 2 ml / min, and when the replenishment amount is 69 ml, the replenishment rate is 3 ml / min.

【0058】なお、結露防止用の排気ファン84から排
出される湿った排気を冷却装置で冷却し、冷却によって
得られた再生水を回収しても良い。これによって、周囲
の湿度の上昇を抑えることができる。
The moist exhaust gas discharged from the dew condensation preventing exhaust fan 84 may be cooled by a cooling device and the regenerated water obtained by the cooling may be recovered. This can suppress an increase in ambient humidity.

【0059】また、傾斜壁66に直接風を送風するファ
ンを別途設けても良い。また、前記実施形態では、本発
明をフィルムプロセッサに適用した例を示したが、本発
明は、感光材料を処理する処理液を貯留する処理槽と、
処理槽の処理液を加温する温調手段と、を備え、処理槽
から排出された処理液の廃液を廃液貯留部へ貯留する感
光材料処理装置であれば、フィルムプロセッサ以外の感
光材料処理装置にも適用できることは勿論である。フィ
ルムプロセッサ以外の感光材料処理装置としては、印画
紙等を現像処理するプリンタプロセッサ、フィルムプロ
セッサとプリンタプロセッサとを一体化した感光材料処
理装置、湿式コピー、印刷版処理機等を上げることがで
きる。なお、プリンタプロセッサ等では、焼付け用のラ
ンプ等の冷却に用いた排熱を蒸発促進用として利用する
こともできる。 [試験例]次に、富士写真フイルム社製のフィルムプロ
セッサFP506Bを改造し、廃液量を通常のフィルム
プロセッサFP506Bと比較した。
Further, a fan for directly blowing air to the inclined wall 66 may be provided separately. Further, in the above embodiment, an example in which the present invention is applied to a film processor is shown, but the present invention is a processing tank for storing a processing liquid for processing a photosensitive material,
A photosensitive material processing apparatus other than a film processor, as long as it is a photosensitive material processing apparatus including a temperature adjusting means for heating the processing liquid in the processing tank, and storing the waste liquid of the processing liquid discharged from the processing tank in a waste liquid storage section. Of course, it can also be applied to. Examples of the photosensitive material processing apparatus other than the film processor include a printer processor that develops printing paper and the like, a photosensitive material processing apparatus in which a film processor and a printer processor are integrated, a wet copy, and a printing plate processing machine. In a printer processor or the like, exhaust heat used for cooling a baking lamp or the like can be used for promoting evaporation. [Test Example] Next, the film processor FP506B manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was modified and the amount of waste liquid was compared with that of a normal film processor FP506B.

【0060】なお、通常のフィルムプロセッサFP50
6Bは、サブタンク側に、数mmの内径の廃液口が設けら
れており、補充が行われるとオーバーフローして廃液が
排液タンクに直接排出される構造である。
A normal film processor FP50
6B has a structure in which a waste liquid port having an inner diameter of several mm is provided on the sub-tank side, and overflows when refilling is performed, and the waste liquid is directly discharged to the drainage tank.

【0061】一方、改造したフィルムプロセッサFP5
06Bは、通常のオーバーフロー用の廃液口を塞ぎ、処
理タンク側の槽壁を切り欠き、そこに図4等に示すよう
に傾斜壁を設けた構造のものである。傾斜壁の表面積
は、現像処理液用、漂白定着液用及び安定浴液用とも約
600cm2 とした。
On the other hand, the modified film processor FP5
No. 06B has a structure in which a normal overflow waste port is closed, a tank wall on the processing tank side is cut out, and an inclined wall is provided therein as shown in FIG. 4 and the like. The surface area of the inclined wall was about 600 cm 2 for the developing solution, the bleach-fixing solution and the stabilizing bath solution.

【0062】各槽の槽壁の温度は、処理タンク内の液の
流れによって、約37.6〜38.0°Cの範囲内に保
たれており、処理タンクより熱を受け、かつ従来から備
え付けられている結露防止用の排気ファンによって蒸発
が促進され濃縮が進んだ。さらに、処理中は、乾燥部か
らの排気風が自然に現像処理部へまわり込んでいるため
に、蒸発がさらに促進された。
The temperature of the tank wall of each tank is kept within the range of about 37.6 to 38.0 ° C. by the flow of the liquid in the processing tank, receives heat from the processing tank, and is conventionally A built-in exhaust fan for preventing dew condensation promoted evaporation and concentration. Further, during the processing, the exhaust air from the drying section naturally entered the development processing section, so that the evaporation was further promoted.

【0063】ここで、排気ファンの風量は、0.85〜
1.10m3 /分、乾燥風生成手段のファンの風量は
8.5m3 /分であり、この状態で40〜80ミリリットル/
時の蒸発がケーシング内で自然に生じることが判明し
た。
Here, the air volume of the exhaust fan is 0.85 to
The air volume of the fan of the dry air generating means is 1.10 m 3 / min and is 8.5 m 3 / min, and in this state 40 to 80 ml / min.
It has been found that temporal evaporation naturally occurs in the casing.

【0064】運転状況や環境条件(温度や湿度)によっ
て異なるが、図9乃至図10に示すような関係が判明し
た。
Although different depending on the operating conditions and environmental conditions (temperature and humidity), the relationships shown in FIGS. 9 to 10 were found.

【0065】ここで、図9には、改造したフィルムプロ
セッサFP506Bを3時間ドライブ状態とし、種々の
環境条件におけるケーシング内の蒸気圧P、各処理槽の
処理液の蒸発量及び蒸発速度を測定した結果が示されて
いる。また、図10は、図9に示した蒸発量の結果を1
時間当たりの平均の蒸発量に直し、棒グラフとしたもの
である。一方、図11は、ドライブ状態の改造したフィ
ルムプロセッサFP506Bのケーシング内における約
150cm2 当たりの平均の蒸発速度と蒸気圧との関係
を示したものである。
Here, in FIG. 9, the modified film processor FP506B was driven for 3 hours, and the vapor pressure P in the casing and the evaporation amount and evaporation rate of the processing liquid in each processing tank were measured under various environmental conditions. Results are shown. Further, FIG. 10 shows the result of the evaporation amount shown in FIG.
This is a bar graph that is corrected to the average evaporation amount per hour. On the other hand, FIG. 11 shows the relationship between the average evaporation rate per about 150 cm 2 and the vapor pressure in the casing of the modified film processor FP506B in the drive state.

【0066】なお、発色現像槽18の開口面積は170
cm2 、漂白槽20の開口面積は150cm2 、漂白定
着槽22の開口面積は190cm2 、定着槽24の開口
面積、水洗槽26の開口面積、第1安定浴槽28及び第
2安定浴槽30の開口面積は各々130cm2 であり、
発色現像液の液温は37.6°C、漂白液、漂白定着
液、定着液、水洗水及び安定浴液の液温は各々38.0
°Cであった。
The opening area of the color developing tank 18 is 170
cm 2 , the opening area of the bleaching tank 20 is 150 cm 2 , the opening area of the bleach-fixing tank 22 is 190 cm 2 , the opening area of the fixing tank 24, the opening area of the washing tank 26, the first stabilizing bath 28 and the second stabilizing bath 30. The opening area is 130 cm 2 each,
The liquid temperature of the color developing solution is 37.6 ° C, and the liquid temperatures of the bleaching solution, the bleach-fixing solution, the fixing solution, the washing water and the stabilizing bath solution are each 38.0.
Was ° C.

【0067】また、ドライブ状態(電源がオンされてか
つフィルムを処理している状態)では、排気ファン、乾
燥風生成手段のヒータびファンが作動しており、そのと
きの排気ファンの風量は0.85〜1.10m3 /分
(平均で、約1m3 /分)であり、乾燥風生成手段のフ
ァンの風量は8.5m3 /分であった。
In the drive state (the power is on and the film is being processed), the exhaust fan, the heater of the dry air generating means and the fan are operating, and the air volume of the exhaust fan at that time is 0. It was 0.85 to 1.10 m 3 / min (on average, about 1 m 3 / min), and the air volume of the fan of the dry air generating means was 8.5 m 3 / min.

【0068】次に、図12は、改造したフィルムプロセ
ッサFP506Bを5時間スタンバイ状態(処理液の加
温用のヒータ、乾燥風生成手段のヒータびファンがオ
ン、フィルムの搬送はオフ)とし、種々の環境条件にお
けるケーシング内の蒸気圧P、各処理槽の処理液の蒸発
量及び蒸発速度を測定した結果が示されている。また、
図13は、図12に示した蒸発量の結果を1時間当たり
の平均の蒸発量に直し、棒グラフとしたものである。一
方、図14は、スタンバイ状態のフィルムプロセッサF
P506Bのケーシング内における約150cm2 当た
りの平均の蒸発速度と蒸気圧との関係を示したものであ
る。
Next, in FIG. 12, the modified film processor FP506B is placed in a standby state for 5 hours (a heater for heating the processing liquid, a heater and a fan of the dry air generating means are turned on, and the film is not conveyed), and various conditions are set. The results of measuring the vapor pressure P in the casing, the amount of evaporation of the processing liquid in each processing tank, and the evaporation rate under the above environmental conditions are shown. Also,
FIG. 13 is a bar graph in which the result of the evaporation amount shown in FIG. 12 is converted into an average evaporation amount per hour. On the other hand, FIG. 14 shows the film processor F in the standby state.
It shows the relationship between the average evaporation rate per about 150 cm 2 in the casing of P506B and the vapor pressure.

【0069】試験の結果、ドライブ状態(現像処理状
態)で乾燥風の影響を受けると、温度15°C、湿度2
0%の環境下では水分を80ミリリットル/時も蒸発できるこ
とが判明し、また、温度32°C、湿度83%の高湿度
下でも水分を40ミリリットル/時蒸発できることが判明し
た。
As a result of the test, when it was affected by dry air in the drive condition (developing condition), the temperature was 15 ° C. and the humidity was 2
It was found that water can be vaporized at 80 ml / hour under an environment of 0%, and that water can be vaporized at 40 ml / hour even under a high humidity condition of temperature 32 ° C. and humidity 83%.

【0070】ここで、改造前のフィルムプロセッサFP
506Bと改造後のフィルムプロセッサFP506Bと
で、各々カラーネガフィルムを富士フイルム株式会社の
カラーネガフィルム現像処理処方CN−16FA(商品
名)に基づいて1時間当たり4本現像処理した結果、廃
液タンクに溜まった廃液の量は以下の表1に示すように
なった(但し、温度25°C、湿度35%時)。
Here, the film processor FP before modification
The 506B and the modified film processor FP506B each developed a color negative film on the basis of a color negative film development processing formulation CN-16FA (trade name) of Fuji Film Co., Ltd. 4 times per hour, and the result was accumulated in a waste liquid tank. The amount of waste liquid is as shown in Table 1 below (however, at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 35%).

【0071】なお、フィルム1本当たりの液補充は、発
色現像液が23ミリリットル/本、漂白液が5ミリリットル/本、定
着液が16ミリリットル/本、水洗水が34ミリリットル/本、安定
浴液が20ミリリットル/本、合計で98ミリリットル/本であり、
補充速度は、平均して発色現像液が92ミリリットル/時、漂
白液が20ミリリットル/時、定着液が64ミリリットル/時、水洗
水(スーパーリンス液)が136ミリリットル/時、安定浴液
が80ミリリットル/時とした。
The liquid replenishment per film is 23 ml / color developing solution, 5 ml / color bleaching solution, 16 ml / fixing solution, 34 ml / washing water, and stabilizing bath solution. Is 20 ml / bottle, totaling 98 ml / bottle,
The replenishment rates are, on average, 92 ml / hr for color developer, 20 ml / hr for bleach, 64 ml / hr for fixer, 136 ml / hr for wash water (super rinse), and 80 for stable bath. Milliliter / hour.

【0072】[0072]

【表1】 [Table 1]

【0073】試験の結果、改造後のフィルムプロセッサ
FP506Bは、改造前のフィルムプロセッサFP50
6Bよりも廃液量を47%も低減できることが分かっ
た。
As a result of the test, the modified film processor FP506B is the same as the unmodified film processor FP50.
It was found that the amount of waste liquid can be reduced by 47% compared to 6B.

【0074】[0074]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1に記載の
感光材料処理装置は上記の構成としたので、廃液を蒸発
させるための加熱手段を別途必要とせず、簡単な構造
で、しかも低コストで廃液量を低減することができ、ま
た、余計なエネルギーも消費しない、という優れた効果
を有する。
As described above, since the photosensitive material processing apparatus according to the first aspect has the above-mentioned structure, the waste liquid is evaporated.
Simple structure without the need for additional heating means
In addition, the amount of waste liquid can be reduced at low cost.
Also, the excellent effect of not consuming extra energy
Have.

【0075】[0075]

【0076】請求項2に記載の感光材料処理装置は上記
の構成としたので、蒸発を促進して廃液量の低減効果を
高められる、という優れた効果を有する。また、従来よ
り用いられている乾燥風生成手段を利用することによ
り、部品点数の増加が抑えられ、構造を複雑化すること
がない。また、送風手段としては、例えば、従来より用
いられている結露防止用の排気ファンを利用することが
できる。これにより部品点数の増加が抑えられ、構造を
複雑化することがない。なお、温められた槽壁を伝わる
廃液に風を当てることにより、蒸発をさらに促進するこ
とができる。
The photosensitive material processing apparatus according to claim 2 is the above-mentioned.
With this configuration , there is an excellent effect that evaporation can be promoted and the effect of reducing the amount of waste liquid can be enhanced. Further, by using the conventionally used dry air generating means, the increase in the number of parts can be suppressed and the structure is not complicated. Further, as the blowing means, for example, an exhaust fan for preventing dew condensation that has been conventionally used can be used. This suppresses an increase in the number of parts and does not complicate the structure. Note that evaporation can be further promoted by applying air to the waste liquid that has propagated through the heated tank wall.

【0077】また、請求項3に記載の感光材料処理装置
は上記の構成としたので、多量の水分を蒸発させること
が可能となり廃液貯留部へ貯留される廃液量を確実に低
減することができる、という優れた効果を有する。
A photosensitive material processing apparatus according to claim 3
Since it has the above-mentioned configuration, it has an excellent effect that a large amount of water can be evaporated and the amount of waste liquid stored in the waste liquid storage portion can be surely reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る感光材料処理装置の
内部構造を示す正面図である。
FIG. 1 is a front view showing an internal structure of a photosensitive material processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】発色現像槽の断面図である。FIG. 2 is a sectional view of a color developing tank.

【図3】傾斜壁の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of an inclined wall.

【図4】各処理槽の正面図である。FIG. 4 is a front view of each processing tank.

【図5】漂白槽の断面図である。FIG. 5 is a sectional view of a bleaching tank.

【図6】各処理槽と廃液タンクとの関係を示すブロック
図である。
FIG. 6 is a block diagram showing a relationship between each processing tank and a waste liquid tank.

【図7】フィルムの処理と液補充との関係を示すタイミ
ングチャートである。
FIG. 7 is a timing chart showing the relationship between film processing and liquid replenishment.

【図8】処理槽の他の実施形態である。FIG. 8 is another embodiment of the processing tank.

【図9】改造したフィルムプロセッサFP506Bをド
ライブ状態としたときの、種々の環境条件におけるケー
シング内の蒸気圧P、各処理槽の処理液の蒸発量及び蒸
発速度を測定した結果である。
FIG. 9 is a result of measuring the vapor pressure P in the casing, the evaporation amount and evaporation rate of the processing liquid in each processing tank under various environmental conditions when the modified film processor FP506B is set in a drive state.

【図10】図9に示した蒸発量の結果を1時間当たりの
平均の蒸発量に直し、棒グラフとしたものである。
FIG. 10 is a bar graph in which the result of the evaporation amount shown in FIG. 9 is converted into an average evaporation amount per hour.

【図11】改造したフィルムプロセッサFP506Bを
ドライブ状態としたときの、ケーシング内における15
0cm2 当たりの平均の蒸発速度と蒸気圧との関係を示
したものである。
FIG. 11 shows the inside of the casing 15 when the modified film processor FP506B is set in the drive state.
It shows the relationship between the average evaporation rate per 0 cm 2 and the vapor pressure.

【図12】改造したフィルムプロセッサFP506Bを
5時間スタンバイ状態としたときの、種々の環境条件に
おけるケーシング内の蒸気圧P、各処理槽の処理液の蒸
発量及び蒸発速度を測定した結果である。
FIG. 12 is a result of measuring the vapor pressure P in the casing, the evaporation amount of the processing liquid in each processing tank, and the evaporation rate under various environmental conditions when the modified film processor FP506B is placed in a standby state for 5 hours.

【図13】図12に示した蒸発量の結果を1時間当たり
の平均の蒸発量に直し、棒グラフとしたものである。
FIG. 13 is a bar graph in which the results of the evaporation amount shown in FIG. 12 are converted into an average evaporation amount per hour.

【図14】改造したフィルムプロセッサFP506Bを
スタンバイ状態としたときの、ケーシング内における1
50cm2 当たりの平均の蒸発速度と蒸気圧との関係を
示したグラフである。
FIG. 14 shows the inside of the casing when the modified film processor FP506B is in the standby state.
5 is a graph showing the relationship between the average evaporation rate per 50 cm 2 and vapor pressure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 フィルムプロセッサ(感光材料処理装置) 12 フィルム(感光材料) 18 発色現像槽(処理槽) 22 漂白定着槽(処理槽) 28 第1安定浴槽(処理槽) 36 ヒータ(乾燥風生成手段) 38 ファン(乾燥風生成手段) 43 補充手段 50 ヒータ(温調手段) 66 傾斜壁(槽壁) 74 第1の廃液タンク(廃液貯留部) 78 第2の廃液タンク(廃液貯留部) 84 排気ファン(送風手段) 88 廃液タンク(廃液貯留部) 10 Film Processor (Photosensitive Material Processing Device) 12 Film (photosensitive material) 18 Color development tank (processing tank) 22 Bleach-fixing tank (processing tank) 28 First Stabilizing Bath (Treatment Tank) 36 heater (dry air generating means) 38 fan (dry air generating means) 43 Replenishing means 50 heater (temperature control means) 66 inclined wall (tank wall) 74 First waste liquid tank (waste liquid storage part) 78 Second waste liquid tank (waste liquid storage part) 84 Exhaust fan (Blower) 88 Waste liquid tank (waste liquid storage part)

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 感光材料を処理する処理液を貯留する処
理槽と、前記処理槽の処理液を加温する温調手段と、を
備え、前記処理槽から排出された処理液の廃液を廃液貯
留部へ貯留する感光材料処理装置であって、前記廃液の容積を廃液貯留部へ貯留する前に減量する減
量手段を備え、前記減量手段は処理液により加温された
前記処理槽の槽壁であり、前記廃液は前記槽壁を伝わっ
た後に前記廃液貯留部へ貯留されることを特徴とした感
光材料処理装置。
1. A processing tank for storing a processing solution for processing a light-sensitive material, and a temperature adjusting means for heating the processing solution in the processing tank, the waste liquid of the processing solution discharged from the processing tank being a waste liquid. A light-sensitive material processing apparatus for storing in a storage unit, the volume of the waste liquid being reduced before being stored in the waste liquid storage unit.
A measuring means, and the reducing means is heated by the treatment liquid.
It is a tank wall of the processing tank, and the waste liquid is transmitted through the tank wall.
After being stored, it is stored in the waste liquid storage section.
Optical material processing equipment.
【請求項2】 送風手段及び処理液で処理された感光材
料を乾燥させる乾燥風生成手段の少なくとも一方を備
え、前記廃液は前記廃液貯留部へ貯留される前に前記送
風手段によって生成される風及び前記乾燥風生成手段に
よって生成される乾燥風の少なくとも一方の影響を受け
ることを特徴とした請求項1に記載の感光材料処理装
置。
2. A photosensitive material treated with a blowing means and a processing liquid.
At least one of dry air generating means for drying the material
The waste liquid is sent to the waste liquid storage unit before being stored in the waste liquid storage unit.
The wind generated by the wind means and the dry air generating means
Affected by at least one of the dry winds generated
The photosensitive material processing apparatus according to claim 1, wherein
Place
【請求項3】 前記温調手段が作動しているときに、単
位時間当たりの処理槽からオーバーフローする廃液を平
均化するように補充液の補充を行う補充手段を備えたこ
とを特徴とした請求項1または請求項2に記載の感光材
料処理装置。
3. When the temperature control means is operating,
The waste liquid overflowing from the processing tank per unit time is leveled.
A replenisher that replenishes the replenisher so that it is leveled is provided.
The photosensitive material according to claim 1 or 2, characterized in that
Processing equipment.
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