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JP3496451B2 - Application method of bond for bonding electronic parts - Google Patents
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JP3496451B2 - Application method of bond for bonding electronic parts - Google Patents

Application method of bond for bonding electronic parts

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JP3496451B2
JP3496451B2 JP12532297A JP12532297A JP3496451B2 JP 3496451 B2 JP3496451 B2 JP 3496451B2 JP 12532297 A JP12532297 A JP 12532297A JP 12532297 A JP12532297 A JP 12532297A JP 3496451 B2 JP3496451 B2 JP 3496451B2
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors
    • H05K3/303Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors with surface mounted components

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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品を基板に
接着するためのボンドを基板に塗布する電子部品接着用
ボンドの塗布方法に関するものである。 【0002】 【従来の技術】様々な品種の電子部品を基板に接着する
ために、基板の所定位置にボンドを塗布することが行わ
れる。この場合、ボンドの塗布量が過少であれば電子部
品の接着力不足を生じ、また過多であると電子部品がボ
ンドに埋没するなどの問題が生じるため、ボンドの塗布
量は適正になるように調整されなければならない。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】この塗布量の調整は、
従来はシリンジに貯溜されたボンドを加圧する空気圧の
大きさ、加圧時間などの変更により行われていた。しか
しながら、ボンドの塗布装置によってボンドの塗布を行
う場合には、空気圧の大きさや加圧時間などの因子以外
にも、ボンドの塗布量に影響を及ぼす因子が存在する。
例えば、シリンジを基板に対して移動させるすなわち塗
布タイミングのインターバル距離や、シリンジを基板上
に下降させて塗布を行うタイミングなどの因子によって
は基板に塗布されるボンドの塗布量が異なることが経験
的に知られている。しかしこれらの因子とボンドの塗布
量との関連は明らかにされておらず、因子の設定を変更
して塗布量の調整を行った場合でも、基板にボンドを塗
布する際には、各塗布点によって塗布量のばらつきが発
生するという問題点があった。 【0004】そこで本発明は、シリンジの移動距離や塗
布タイミングなどの塗布条件が異なる基板の多数の塗布
点に対して、ボンドの塗布量のばらつきがなく、しかも
高速度で安定したボンドの塗布が行える電子部品接着用
ボンドの塗布方法を提供することを目的とする。 【0005】 【課題を解決するための手段】本発明は、内部に貯溜さ
れたボンドを空気圧で加圧することによりノズルから吐
出して基板に塗布するシリンジと、シリンジの下方に設
けられた基板の位置決め部と、シリンジを基板に対して
相対的に水平方向へ移動させる移動テーブルと備えるボ
ンドの塗布装置による電子部品接着用ボンドの塗布方法
であって、シリンジに吐出動作を行わせるための空気圧
の加圧を開始するタイミングからシリンジが基板に対し
て相対的に水平移動してノズルの下端部に吐出されたボ
ンドを基板に塗布するまでの第1の吐出遡及時間のパラ
メータおよび当該塗布の前回の塗布動作時における空気
圧の加圧を開始するタイミングからシリンジが基板に対
して相対的に水平移動してノズルの下端部に吐出された
ボンドを基板に塗布するまでの第2の吐出遡及時間のパ
ラメータと基板に塗布されるボンドの塗布量との関係
を示す塗布条件調整データを予め実験により求めて塗布
条件調整データ記憶部に記憶させておき、各ボンド塗布
点の位置データにより求められる前記第1の吐出遡及時
間のパラメータおよび第2の吐出遡及時間のパラメータ
と前記塗布条件調整データに基づいて前記空気圧の加圧
時間を調整してシリンジのノズルの下端部に付着するボ
ンドの量を加減することにより基板に塗布されるボンド
の塗布量を調整するようにした。 【0006】 【発明の実施の形態】上記構成の本発明によれば、当該
塗布動作時および前回塗布動作時におけるノズルの下端
部よりボンドの吐出が開始されてから基板に塗布される
までの吐出遡及時間のパラメータに応じて、予め実験に
より求められ記憶された塗布条件調整データに基づき加
圧時間を調整することにより、塗布タイミングでノズル
の下端部に付着しているボンド量が一定になるように加
減することができ、したがって塗布量が安定したボンド
の塗布が行える。 【0007】次に、本発明の実施の形態を図面を参照し
て説明する。図1は、本発明の一実施の形態のボンドの
塗布装置の斜視図、図2は同ボンドの塗布装置によるボ
ンドの塗布態様を示す基板の斜視図、図3は同ボンドの
塗布装置の制御系のブロック図、図4(a)は同ボンド
の塗布装置の塗布動作のタイミングチャート、図4
(b)は同ボンドの塗布装置のノズルの拡大図、図4
(c)は同ボンドの塗布装置のノズルの下端部のボンド
付着量を示すグラフ、図5(a)は同ボンドの塗布装置
の塗布動作のタイミングチャート、図5(b)は同ボン
ドの塗布装置のノズルの拡大図、図5(c)は同ボンド
の塗布装置のノズルの下端部のボンド付着量を示すグラ
フ、図6(a)は同ボンドの塗布装置の塗布動作のタイ
ミングチャート、図6(b)は同ボンドの塗布装置のノ
ズルの拡大図、図6(c)は同ボンドの塗布装置のノズ
ルの下端部のボンド付着量を示すグラフ、図7(a)、
(b)は同ボンドの塗布装置のノズルの下端部のボンド
付着量を示すグラフ、図8は同ボンドの塗布装置の塗布
量をフィードフォワードするためのフローチャート、図
9は同ボンドの塗布装置のシリンジの移動距離と塗布面
積との関係を表すグラフ、図10は同ボンドの塗布装置
の加圧時間と塗布面積との関係を表すグラフ、図11
(a)、(b)は同ボンドの塗布装置のシリンジの移動
距離と塗布面積との関係を表すグラフである。 【0008】まず、図1を参照してボンドの塗布装置の
全体構造を説明する。図1において、本体フレーム11
の上部には透明なカバーボックス12が被蓋されてお
り、このカバーボックス12の内部に以下に述べる部品
が配置されている。13はXテーブル、14はXテーブ
ル13の両側部にこれと直交するように配設されたYテ
ーブルであって、Xテーブル13には、ヘッド15が装
着されている。このヘッド15には、複数本のシリンジ
16とカメラ10が保持されている。 【0009】それぞれのシリンジ16には、ボンドが貯
溜されているが、それぞれのシリンジ16によるボンド
の塗布量は異なっており、対象基板や対象チップなどに
応じて選択的に使用される。移動テーブルであるXテー
ブル13とYテーブル14にはモータMx,Myやこの
モータMx,Myに駆動されて回転するボールねじ18
などが配設されており、モータMx,Myが駆動する
と、ヘッド15はX方向や、Y方向に水平移動する。な
お作図の都合上モータMx,Myやボールねじ18はそ
の一部のみを図示している。 【0010】ヘッド15の移動路の下方には、左右一対
の棒状のガイドレール19a,19bが配設されてい
る。このガイドレール19a,19bの内面には、基板
20を搬送するコンベアベルト21が設けられている。
また一方のガイドレール19aの中央部にはクランパ1
9cが設けられており、基板20を他方のガイドレール
19b側へ押しつけて固定する。従って、ガイドレール
19bとクランパ19cは基板20の位置決め部を構成
している。そして、このように位置決めされた基板20
に対してボンドが塗布される。 【0011】22はコンベアベルトの駆動用モータ、2
3は基板20の横幅に応じてガイドレール19aとガイ
ドレール19bの間隔を調整するために、一方のガイド
レール19aを他方のガイドレール19bに対して基板
20の横幅方向(Y方向)に移動させるためのモータ、
24はそのガイドである。 【0012】次にガイドレール19bの側部に設けられ
たボンド1の試し塗布部30について説明する。ガイド
レール19bの側方には、繰り出しリール31と巻き取
りリール32が対設されており、繰り出しリール31に
卷回されたテープ33を巻き取りリール32で巻き取
る。このテープ33は、透明もしくは半透明の光透過性
のテープであり、合成樹脂などからなっている。 【0013】このテープ33の水平走行部の下方には光
源を有する光源部(図示せず)が配設されており、テー
プ33へ向かって光を照射する。34はテープ33の水
平走行部の直下に配設されたテープ33の受け台であっ
て、テープ33を水平に保持させるためのものであり、
透明や白色の光透過板にて形成されている。このテープ
33の水平走行部は、ボンドを試し塗布するためのステ
ージとなる。 【0014】図2は、ボンドの塗布態様を示している。
シリンジ16は基板20上をX方向やY方向へ水平移動
しながら、ノズル16aからボンド1を吐出し、基板2
0の所定の塗布点P(P1、P2、P3、・・・Pn)
に順に塗布する。図中、D(D1、D2、D3、・・・
Dn)は各塗布点間のシリンジの移動距離である。ま
た、Ta(Ta1、Ta2、Ta3、・・・Tan)
は、各塗布点間における吐出遡及時間(後述)である。
後に詳述するように、本ボンドの塗布装置は、移動距離
Dが異なる各塗布点間をシリンジ16を高速度で移動さ
せながら、ノズル16aからボンド1を吐出するために
シリンジ16内に空気圧を加える加圧時間を調整するこ
とにより、各塗布点P1〜Pnにおいて塗布量が均一な
安定したボンド1の塗布を実現するものである。 【0015】次にボンドの塗布装置の制御系の構成につ
いて説明する。図3において、40は主制御部であり、
以下に説明する各部からのデータを受け、また各部に指
令を出して全体の動作を制御する。塗布データ記憶部4
1は、塗布対象の基板20の各塗布点の座標を記憶す
る。塗布条件記憶部42は、ボンド1を吐出するための
加圧時間を記憶する。塗布条件調整データ記憶部43
は、前述の加圧時間の調整データを記憶する。 【0016】認識部44は、カメラ10によって撮像さ
れた各塗布点の画像データに基づき、各塗布点に塗布さ
れたボンド1の塗布面積を算出する。この塗布面積は、
各塗布点でのボンド1の塗布量を表す指標として用いら
れる。モータ駆動部45は、シリンジ16を水平移動す
るXテーブル13やYテーブル14の各軸のモータM
x,Myや、シリンジ16の上下移動をするZ軸モータ
Mzを制御する。バルブ駆動部46は、シリンジ16に
空気圧を付与する加圧バルブ47の動作を制御する。 【0017】このボンドの塗布装置は上記のような構成
より成り、以下このボンドの塗布装置による電子部品接
着用ボンドの塗布方法について説明する。まず、塗布装
置の具体的な動作を説明する前に、空気圧を用いてボン
ド1を塗布する方法について図4(b)を参照して説明
する。 【0018】このボンドの塗布装置では、ノズル16a
を下降させ、吐出されてノズル16aの下端部に付着し
たボンド1(このボンド1の量Qを以下、「付着量」と
いう)を基板20に転写することによりボンド1の塗布
が行われるため、塗布が行われるタイミング(図4
(b)の(ホ)に示すように、ノズル16aが下降して
その下端部に吐出されたボンド1が基板20に着地する
タイミング)での付着量(以下、「塗布時付着量」とい
う)Qeが、実際に基板20に塗布されるボンド1の量
(以下、単に「塗布量」という)Qtを左右することに
なる。すなわち、この塗布時付着量Qeが多ければ塗布
量Qtは多くなり、逆に少なければ塗布量Qtは少なく
なる。したがって、塗布量Qtが均一な安定したボンド
1の塗布を実現するためには、塗布時付着量Qeを均一
にすることが求められる。なお、図4(b)の(ニ)
は、ボンド1が基板20に着地する直前の状態を示した
ものであり、このときの付着量Qは前述の塗布時付着量
Qeとほぼ等しいと考えて良い。 【0019】そこで、塗布時付着量Qeと、シリンジ1
6をXY方向やZ方向へ移動させるタイミングや加圧バ
ルブ47の駆動タイミングとの関係について、図4〜図
6を参照して説明する。図4〜図6において、(a)は
シリンジ16の水平方向(XY方向)の速度パターン、
ノズル16aの上下動(Z方向)の速度パターン、およ
び加圧バルブ47の開閉タイミングを示すタイミングチ
ャートである。また(b)は、シリンジ16内に空気圧
を加圧することにより吐出されるボンド1の付着量Qの
変化およびノズル16aの高さを各タイミングごとに示
すものである。また、(c)はボンド1の付着量Qの時
間的変化を示している。 【0020】後述するように、ボンド1の塗布量Qt
は、シリンジ16に吐出動作を行わせるための空気圧の
加圧を開始するタイミングt0からシリンジ16が基板
20に対して相対的に水平移動し、かつノズル16aが
下降してノズル16aの下端部に吐出されたボンド1を
基板20に着地させて塗布するタイミングt5までの間
の時間(本発明では、「吐出遡及時間」という)Taに
よって左右される(t0,t5,Taについては各図を
参照)。すなわち吐出遡及時間Taは、基板20に塗布
されるボンドの塗布量Qtのパラメータである。また、
この吐出遡及時間Taは、シリンジ16がある塗布点か
ら次の塗布点へ移動する距離移動距離Dと略比例する関
係にあるので、移動距離Dは吐出遡及時間Taのパラメ
ータとなる(図2も参照)。図4はこの移動距離Dが標
準的な数値(例えば10mm)である標準移動距離Ds
の場合(すなわち、吐出遡及時間Taが標準の場合)を
示し、また図5は移動距離Dが図4のDsと比較して短
い場合、図6は長い場合を示している。 【0021】図4において、時間原点t0は一連の動作
が開始するタイミング、すなわち1つの塗布点での塗布
を終了し、次の塗布点への移動を開始するタイミングで
ある。まず時間原点t0において、シリンジ16のXY
方向への移動速度が立ち上がり、t1にて最高速に到達
しその後減速してt2にて停止する。すなわち、シリン
ジ16はこのタイミングt2で塗布点に到達する。次い
で、このタイミングt2にてZ軸モータMzが駆動を開
始しノズル16aが下降を開始する。また、時間原点t
0においてXY方向への移動動作を開始するのと同時に
加圧バルブ47が開になり、ノズル16aの下端部より
ボンド1の吐出が開始される。なお図4(b)において
破線矢印A,B,C,Dはノズル16a内におけるボン
ドの流れ方向を示している。この加圧バルブ47は予め
設定された時間(加圧時間Td)だけ開にされる。な
お、標準移動距離Dsにおける加圧時間をTdsとす
る。 【0022】図4(b)、(c)に示すように、ノズル
16aの下端部に吐出されたボンド1の付着量Qは、動
作開始タイミング(イ)でのボンド1の量、すなわち初
期付着量Qiから順次増大し、(ハ)に示すように加圧
バルブ47が閉じられるタイミングt4にて最大量Qm
となる。この後、加圧バルブ47が閉じられた後には、
(ニ)において破線矢印Cで示すようにボンド1はノズ
ル16a内をわずかに逆流してボンド1の付着量Qはあ
る時間(図4(c)で示すt4〜t6の間、以下「戻り
時間」Twという)の間わずかずつ減少を続け、ボンド
1の「戻り」の現象を示す。(ニ)において、破線で示
すボンド1は最大量Qmの状態を示し、また実線で示す
ボンド1は「戻り」により減少しつつあるボンド1を示
している。そしてこの時間Twを経過した後はボンド1
の付着量Qは一定量Qrとなる。 【0023】次に、タイミングt5にてノズル16aは
下降動作の下死点に達し下端部に付着しているボンド1
を基板20の表面に着地させて塗布する。このタイミン
グt5でのボンド1の量は前述の塗布時付着量Qeであ
り、この場合は移動距離が標準移動距離Dsの場合の塗
布時付着量Qesである。このうち塗布量Qts(移動
距離が標準移動距離Dsの場合の塗布量)が基板20に
塗布される。その結果、タイミングt5にてボンドの付
着量Qは図4(c)に示すようにQts(移動距離が標
準移動距離Dsの場合の塗布量)だけ減少し、その後も
戻り時間Twの間はなお減少を続ける(図4(b)
(へ)にて示す破線矢印D参照)。そしてタイミングt
6にて一定量になる。図4(c)にてタイミングt5以
後を鎖線で示すグラフq’は塗布が行われなかった場合
の付着量Qを示しており、実線のグラフqはこの鎖線の
グラフをタイミングt5にて塗布量Qtsだけ下にずら
したものとなっている。なお、(ヘ)にて示すSは基板
20上に塗布された塗布量Qtsのボンド1の塗布面積
を意味しており、(ト)はタイミングt7にてノズル1
6aが完全に上昇し、かつ戻り時間Twが経過し付着量
Qが一定量となってノズル16aの下端部に残留する量
(以下、「残留量」Qnという)Qns(移動距離が標
準移動距離Dsの場合の残留量)となった状態を示して
いる。 【0024】次に、図5を参照してシリンジ16の移動
距離Dが短い場合(すなわち吐出遡及時間Taが短い場
合)について説明する。図5(a)に示すように、t0
からt2までのXY方向の加減速時間が図4の標準移動
距離Dsの場合と比較して短い、すなわちシリンジ16
の移動距離Dが短いことを示している。図5(c)のボ
ンド1の付着量Qの時間的変化を示すグラフにおいて、
実線で示すグラフaは図4に示す標準移動距離Dsの場
合と同一の標準加圧時間Tdsで塗布を行った場合を示
す。タイミングt5以後の鎖線で示すグラフq’は図4
の場合と同様に塗布を行わない場合のボンド1の付着量
Qを表す。また、破線で示すグラフbは加圧時間Tdの
調整を行った場合を示しており、これについては後述す
る。 【0025】移動距離Dが短い場合には、加圧時間Td
がタイムアップするタイミングt4前にXY方向の移動
動作が完了しており(t2)、加圧バルブ47が閉にな
ったタイミングt4に前後してノズル16aの下降が開
始され、タイミングt5にて基板20へのボンド1の塗
布が行われる。このため、付着量Qが戻りにより余り減
少しないうちに、すなわち塗布時付着量がQe1(移動
距離Dが短い場合の塗布時付着量。Qe1>Qes)の
状態で塗布が行われ、この結果、基板20表面に塗布さ
れるボンド1の塗布量Qt1(移動距離Dが短い場合の
塗布量)は、図4の場合と比較して多くなる。この場合
には、塗布が行われるタイミングt5以後もボンド1の
付着量Qは戻り時間Tw(t4〜t6)の間減少を続け
(図5(b)(へ)、(ト)にて示す破線矢印D,E参
照)、その後一定の残留量Qn1(移動距離Dが短い場
合の残留量)になる。図5(b)(チ)は、タイミング
t6、t7以後でボンド1の戻りおよびノズル16aの
上昇が完了した状態を示している。 【0026】次に図6は、反対に移動距離Dが長い場合
(すなわち吐出遡及時間Taが長い場合)を示してい
る。図6(a)のグラフで示すように、t0からt1ま
での加速後に定速度を維持している時間(t1〜t
1’)が長く、移動距離Dが長いことを示している。図
6(c)のボンド1の付着量Qの時間的変化を示すグラ
フにおいて、実線で示すグラフcは図4に示す標準移動
距離Dsの場合と同一の標準加圧時間Tdsで塗布を行
った場合を示す。タイミングt5以後の鎖線で示すグラ
フq’は、塗布を行わない場合の付着量Qを示す。ま
た、破線で示すグラフdは加圧時間Tdの調整を行った
場合を示しており、これについては後述する。 【0027】移動距離Dが長い場合には、ノズル16a
が下降を開始し(t3)、下死点に到達してその下端部
に付着したボンド1を基板20に塗布するタイミングt
5には、ボンド1の戻りはすでに終了し(t6)、ボン
ド1の付着量QはQrとなっている。すなわち塗布時付
着量Qe2(移動距離Dが長い場合の塗布時付着量)は
Qrに等しく(Qe2=Qr<Qes)、この結果、塗
布量Qt2(移動距離Dが長い場合の塗布量)は前記図
4,図5の2例の場合よりも少ない。図6(b)(チ)
は、タイミングt7にてノズル16aの上昇が完了した
状態を示しており、付着量Qは残留量Qn2(移動距離
Dが長い場合の残留量)となっている。 【0028】このように、基板20に塗布されるボンド
1の塗布量Qtは吐出遡及時間Ta(タイミングt0〜
t5間の時間)によってばらつくが、このばらつきは、
前述のボンド1の戻り現象に起因するものである。すな
わち、戻り現象によりボンド1の付着量Qが変動してい
る戻り時間Twの間に塗布が行われる場合には、戻り時
間Tw中のどのタイミングでノズル16aの下端部に付
着するボンド1を基板20に着地させて塗布するかよっ
て塗布時付着量Qeが異なり、したがって塗布量Qtが
異なるからである。従来は、吐出遡及時間Taが長く、
塗布の行われるタイミングは戻り時間Twが経過した
後、すなわちボンド1の付着量Qが一定量Qrになった
状態であったため、塗布時付着量Qeは常にこの一定量
Qrであり塗布量Qtのばらつきは発生しなかった。し
かし吐出遡及時間Taが長いため、結果としてタクトタ
イムが長くなり、高速化の妨げとなっていた。 【0029】したがって、タクトタイムを短縮するため
には、吐出遡及時間Taを短縮することが必要であり、
必然的に戻り時間Tw中に塗布を行わなければならない
が、この場合には塗布時付着量Qeは吐出遡及時間Ta
によってばらつくこととなる。 【0030】次に、初期付着量Qiについて説明する。
上記の説明では、初期付着量Qiはいずれの場合も等し
いとの前提で、塗布量は吐出遡及時間Taに依存するこ
とを示したが、実際にはこの初期塗布量Qiは、以下に
説明するように一定しておらず、塗布時付着量Qeはこ
の初期付着量Qiによっても変動する。以下、図7
(a),(b)を参照してこの初期付着量Qiの変動の
因子について説明する。図7(a),(b)は、当該塗
布の前回の塗布時の状態をも考慮に入れた場合の、ノズ
ル16aの下端部に付着するボンド1の付着量Qの時間
的変化を折れ線で示したものであり、図7(a)は前回
吐出時の吐出遡及時間T’aが短い場合、図7(b)は
長い場合についてのものである。 【0031】図7(a)において、Taは当該塗布時の
吐出遡及時間(以下、「第1の吐出遡及時間」という)
であり、T’a(1)は、前回塗布時の吐出遡及時間
(以下、「第2の吐出遡及時間」という)である。Qi
(1),Q’i(1)はそれぞれ当該塗布時および前回
塗布時の初期付着量を示す。ボンド1の付着量Qは加圧
時間Td(t0〜t1)の間増加し、t1にて最大付着
量Qmに達した後は減少する。そしてタイミングt2に
てノズル16aが下降の下死点に到達しボンド1を基板
20に塗布することにより、塗布量Qt1だけ減少し、
その後も戻り時間Tw(t1〜t4)の間減少を続け
る。そして再び加圧が開始されるタイミングt3でのボ
ンド1の付着量が当該塗布時の初期付着量Qi(1)と
なる。その後、加圧時間Tdの間(t3〜t5)増加
し、タイミングt5にて最大量Qmに達した後、再び減
少する。そしてノズル16aを下降してボンド1を塗布
するタイミングであるt6での付着量が当該塗布時の塗
布時付着量Qe(1)である。 【0032】また、図7(b)において、Taは第1の
吐出遡及時間であり、T’a(2)は、第2の吐出遡及
時間である。Qi(2),Q’i(2)はそれぞれ当該
塗布時および前回塗布時の初期付着量を示す。ボンド1
の付着量Qは加圧時間Td(t0〜t1)の間増加し、
最大量Qmに達した後は戻り時間Tw(t1〜t2)の
間減少して一定量Qrになる。そしてタイミングt3に
てノズル16aが下降の下死点に到達しボンド1を基板
20に塗布することにより、塗布量Qt2だけ減少し、
その後は一定量を保つ。そして再び加圧が開始されるタ
イミングt4でのボンド1の付着量が当該塗布時の初期
付着量Qi(1)となる。その後、加圧時間Tdの間
(t4〜t5)増加し、タイミングt5にて最大量Qm
に達した後、再び減少する。そしてノズル16aを下降
してボンド1を塗布するタイミングであるt7での付着
量が当該塗布時の塗布時付着量Qe(2)である。 【0033】このように、第1の吐出遡及時間Taが等
しい場合でも、第2の吐出遡及時間T’aが異なる場合
には、当該塗布時の初期付着量Qiが異なり、したがっ
て塗布時付着量Qeが異なることとなる。すなわち、第
2の吐出遡及時間T’aが長い、すなわち図7(b)の
T’a(2)の場合の初期付着量Qi(2)は、図7
(a)のT’a(1)の場合の初期付着量Qi(1)よ
りも少なくなっている。したがって、第2吐出遡及時間
T’aが長い場合の塗布時付着量Qe(2)は第2の吐
出遡及時間T’aが短い場合の塗布時付着量Qe(1)
よりも少なくなる。 【0034】以上説明したように、塗布時付着量Qeを
調整するためには、当該塗布時の吐出遡及時間Taのみ
ならず、その前回塗布時の吐出遡及時間T’aをも考慮
に入れなければならないこととなる。 【0035】なお、このボンドの塗布装置では、シリン
ジ16が水平移動を開始するタイミングとボンド1塗布
のための加圧を開始するタイミングとが同期しており、
吐出遡及時間Taは、シリンジ16が塗布点間を移動す
る時間に等しい。また、この移動に要する時間と、シリ
ンジ16が基板20上の各塗布点間を移動する移動距離
Dとは、他の条件が同一であることを前提とすれば略比
例していると見なして実用上差し支えない。従ってこの
移動距離Dを以て吐出遡及時間Taを近似的に表すもの
として扱うことができる。すなわち、移動距離Dが異な
る場合には、塗布時付着量Qeにばらつきが生じ、結果
として塗布量がばらつくこととなる。 【0036】また、実際の塗布装置において基板20の
各塗布点の塗布条件を考慮する場合には、実際の基板上
での距離として直感容易な移動距離Dを用いる方が便宜
であることから、本実施の形態では塗布量のばらつきを
制御するための因子として、移動距離Dを用いる場合を
例にとって説明する。 【0037】実際の基板上の塗布点の配列は様々であ
り、各塗布点間をシリンジ16が移動する場合の移動距
離Dは一定していない。そして、当該塗布時の移動距離
(以下、「第1の移動距離」という)Dと、前回塗布時
の移動距離(以下、「第2の移動距離」という)D’の
双方の組み合わせは更に多様なものとなる。したがって
この場合に全ての塗布点について同一の塗布条件で塗布
を行えば、上記説明のように塗布量はばらつく。このた
め、均一な塗布量を得ようとすれば各塗布点について塗
布条件を適切に調整する必要がある。以下、この目的で
行われる塗布条件のフィードフォワード制御について図
8のフローに沿って各図を参照して説明する。 【0038】まず、制御部40(図3)に保持されてい
る前回塗布時の移動距離(第2の移動距離)D’が読み
込まれ(ST1)、次いでこの第2の移動距離D’に対
応した塗布面積のばらつき予測計算式が塗布条件調整デ
ータ記憶部43(図3)より読み込まれる(ST2)。
この塗布面積ばらつき予測計算式は、第1の移動距離D
と第2の移動距離D’の1つの組み合わせに対して1つ
の塗布面積のばらつき予測値とを対応させるものであ
る。この予測計算式は、第1の移動距離Dと第2の移動
距離D’とを様々に変化させて系統的に塗布実験を行
い、その実験結果を整理して適切な直線近似式に置き換
えて求めたものであり、第2の移動距離D’を固定して
考えた場合には、図9に示すように第1の移動距離Dと
塗布面積Sとの関係を表すグラフ上の2本の直線で近似
的に表される。すなわち、まず、第2の移動距離D’が
指定されることによりこのD’に対応した塗布面積のば
らつき予測計算式が求められ、次いで第1の移動距離D
が与えられることにより、塗布面積のばらつきの予測値
が求められることになる。 【0039】次に、塗布位置への移動指令により、塗布
データ記憶部41(図3)に記憶された各塗布点の位置
データに基づきシリンジ16が移動する第1の移動距離
Dが計算される(ST3)。次いで、第1の移動距離D
に基づいて前述のST2にて読み込まれた塗布面積のば
らつき予測計算式により塗布面積のばらつきの予測計算
が行われる(ST4)。すなわち、ST3にて第1の移
動距離Dが与えられると、図9のグラフより標準加圧時
間Tdsでの塗布面積Sが求められる。従ってこのSと
所望する塗布面積Sdとの差ΔSが求められ、このΔS
が予測される塗布面積のばらつきとなる。 【0040】次いで、この塗布面積のばらつきΔSに対
応する調整加圧時間Δtが図10のグラフより計算され
る(ST4)。このグラフも同様に加圧時間Tdと塗布
面積Sとの関係を実験データより求め、グラフで近似し
たものである。上述のSd及び調整すべきばらつきΔS
が与えられると、図10に示すように対応するΔtが計
算される(ST5)。これらのグラフで表される塗布条
件調整データは塗布条件調整データ記憶部43に記憶さ
れており、必要時に主制御部40に送られる。次に、主
制御部40では、この調整加圧時間Δtを標準塗布時間
Tdsに加えあわせ、個別の加圧時間Tdを計算する
(ST6)。すなわち各塗布点ごとにシリンジ16の移
動距離Dに応じて調整された異なる加圧時間Tdの間シ
リンジ16を加圧してボンド1がノズル16aより吐出
され(ST7)、基板20への塗布が行われる(ST
8)。 【0041】この調整加圧時間Δtをフィードフォワー
ドして塗布が行われた場合について再び図5、図6を参
照して説明する。図5において、(a)のタイミング線
図に示すΔt1は上述の第1の移動距離Dが短い場合の
調整加圧時間Δtである。すなわち、この場合には塗布
時付着量Qeを小さくするため、加圧時間TdsをΔt
1だけ短くする調整が行われる。この結果、Qを示すグ
ラフは、(c)に示す破線のグラフbとなり、塗布時付
着量QeはQe’1(=Qes)で示されるように、図
4で示す標準移動距離Dsの場合と等しくなっている。 【0042】また、図6において、Δt2は第1の移動
距離Dが長い場合の調整加圧時間Δtであり、この場合
には塗布時付着量Qeを大きくするため、(a)のタイ
ミング線図に示す加圧時間TdsをΔt2だけ長くする
調整が行われる。この結果、Qを示すグラフは、(c)
に示す破線のグラフdとなり、塗布時付着量QeはQ
e’2(=Qes)で示されるように、図4で示す標準
移動距離Dsの場合と等しくなっている。 【0043】上述のように、シリンジ16の第1の移動
距離Dおよび第2の移動距離D’が異なる場合でも、加
圧時間Tdをそれぞれの移動距離D,D’の組み合わせ
に応じて調整することにより、常に均一な塗布時付着量
Qeを得ることができる。 【0044】図11は、本実施の形態のフィードフォワ
ードを実際のボンド1の塗布に応用した場合の効果の例
を示したものである。図11(a)、(b)は、横軸に
シリンジ16の移動距離Dを、縦軸に塗布面積Sをと
り、それぞれフィードフォワードを行わない場合と、行
った場合の塗布面積Sのばらつきの程度をグラフで示す
ものである。データの採取方法は、同一のシリンジ16
にて本実施の形態の当該塗布および前回塗布に相当する
2回の塗布を連続して行い、当該塗布に相当する塗布の
結果、すなわち2回の塗布のうちの後の塗布の塗布点の
塗布面積Sを計測し、その結果を後の塗布時の移動距離
Dに対応する点にプロットしたものである。 【0045】図11(a)、(b)において、グラフa
およびa’は同一の移動距離Dで塗布を2回行った場合
のデータを示している。また、グラフbおよびb’は、
第1回目の塗布時の移動距離Dが5mmで、第2回目の
塗布時の移動距離Dが各データ点において横軸で示され
る距離である場合のデータである。すなわち、前回塗布
時の移動距離Dが短く、当該塗布時の移動距離Dが長い
塗布パターンの例である。グラフcおよびc’は、その
反対に、各データ点において横軸で示される距離に相当
する移動距離Dで塗布を行った後に、5mmの移動距離
Dで塗布を行った場合のデータである。すなわち、前回
塗布時の移動距離Dが長く、当該塗布時の移動距離Dが
短い塗布パターンの例である。 【0046】図11(a)で明らかなように、フィード
フォワードを行わずに同一塗布条件で塗布を行った場合
には、当該塗布時と前回塗布時の移動距離Dの組み合わ
せにより、塗布面積Sは大きくばらついている。これに
対し、フィードフォワードを行って加圧時間Tdを調整
した場合では、図11(b)に示すようにばらつきの範
囲が狭く、ほぼ一様な塗布面積Sが得られている。 【0047】上述のように、シリンジ16の今回塗布時
の移動距離Dおよび前回塗布時の移動距離D’が異なる
場合でも、加圧時間Tdを移動距離D,D’に応じて調
整することにより、常に均一な塗布時付着量Qeを得る
ことができる。なお、上記実施の形態では、吐出遡及時
間Ta,T’aのパラメータとして移動距離D,D’を
例にとって説明したが、吐出遡及時間Ta,T’aのパ
ラメータとしては、吐出遡及時間Ta,T’aそのもの
でもよく、あるいはX軸モータやY軸モータの駆動時間
や回転数などでもよく、要は吐出遡及時間Ta,T’a
と相関関係のあるパラメータを用いればよいものであ
る。 【0048】 【発明の効果】本発明によれば、当該塗布動作時および
前回塗布動作時におけるノズルの下端部よりボンドの吐
出が開始されてから基板に塗布されるまでの吐出遡及時
間のパラメータに応じて、予め実験により求められ記憶
された塗布条件調整データに基づき加圧時間を調整する
ようにしているので、各塗布点間におけるシリンジの移
動距離が著しく異なる場合にも塗布タイミングでノズル
下端部に付着しているボンド量を一定に保つことがで
き、加圧バルブの駆動時間を調整するという簡単な方法
で塗布量が安定したボンドの塗布が行える。さらに、ノ
ズルからボンドを吐出させた後のボンドの付着量が安定
していないボンドの戻り時間中にノズルを基板に着地さ
せてボンドの塗布を行えるため、吐出遡及時間を短縮す
ることができ、したがって各塗布点での塗布動作の時間
間隔が短縮され、タクトタイムを著しく短縮することが
できる。これにより、従来では不可能であった高速度で
しかも塗布量の安定した基板へのボンドの塗布が実現さ
れる。
Description: BACKGROUND OF THE INVENTION [0001] 1. Field of the Invention
For bonding electronic components to apply a bond to the substrate for bonding
The present invention relates to a method for applying a bond. [0002] Various kinds of electronic components are bonded to a substrate.
In order to apply a bond at a predetermined position on the substrate,
It is. In this case, if the coating amount of the bond is too small,
Insufficient adhesive strength of the product, and excessive electronic components
Problems, such as being buried in the bond.
The amount must be adjusted to be appropriate. [0003] The adjustment of the amount of coating is performed by:
Conventionally, air pressure that pressurizes the bond stored in the syringe
This was done by changing the size, pressurization time, etc. Only
While applying the bond with the bond application device.
Other than factors such as the magnitude of air pressure and pressurization time.
There are also factors that affect the amount of bond applied.
For example, moving or painting the syringe with respect to the substrate
Cloth timing interval distance or syringe on board
Depending on factors such as the timing of application
Experience that the amount of bond applied to the substrate is different
Is known. But these factors and bond application
The relationship with the amount was not disclosed, and the setting of the factor was changed.
Even if the coating amount is adjusted by applying
When fabrics are applied, the applied amount varies depending on the application point.
There was a problem of being born. [0004] Accordingly, the present invention provides a method of controlling the distance of movement of a syringe and the coating.
Many coatings on substrates with different coating conditions such as cloth timing
There is no variation in the amount of bond applied to the point, and
For bonding electronic parts that can apply a stable bond at high speed
An object of the present invention is to provide a method for applying a bond. SUMMARY OF THE INVENTION [0005] The present invention provides
The bonded bond is ejected from the nozzle by applying air pressure.
A syringe to be drawn out and applied to the substrate, and installed below the syringe.
And the syringe with respect to the board
A moving table and a box provided for relatively moving in the horizontal direction
Method for Bonding Electronic Components Using Bonder
Air pressure for causing the syringe to perform a discharging operation.
The syringe starts to press the substrate
To move the nozzle relatively horizontally and ejected to the lower end of the nozzle.
Parameter of the first discharge retrospective time until the solder is applied to the substrate.
Baa Tao And the air during the previous coating operation of the coating
Syringe contacts the substrate from the start of pressure application.
And moved relatively horizontally and was discharged to the lower end of the nozzle.
The second discharge retrospective time before applying the bond to the substrate
Parameters and , Relationship with the amount of bond applied to the substrate
The application condition adjustment data indicating
It is stored in the condition adjustment data storage unit, and each bond application
At the time of the first discharge retrospective obtained from the point position data
Between and parameters of the second discharge retrospective time
And the application conditions Adjustment Pressurization of the air pressure based on the data
Adjust the time to adjust the length of the syringe attached to the lower end of the syringe nozzle.
Bond applied to the substrate by adjusting the amount of
Was adjusted. [0006] According to the present invention having the above structure, the present invention
Lower end of nozzle during dispensing operation and previous dispensing operation
Is applied to the substrate after the discharge of the bond is started from the part
Depending on the parameters of the discharge retrospective time up to
Based on the application condition adjustment data obtained and stored
By adjusting the pressure time, the nozzle
So that the amount of bond attached to the lower end of the
Bonds that can be reduced and therefore have a stable coating weight
Can be applied. Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
Will be explained. FIG. 1 is a view of a bond according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view of a coating apparatus, and FIG.
FIG. 3 is a perspective view of a substrate showing an application mode of the bond, and FIG.
FIG. 4A is a block diagram of a control system of the coating apparatus, and FIG.
4 is a timing chart of the coating operation of the coating apparatus of FIG.
(B) is an enlarged view of a nozzle of the coating apparatus of the bond, and FIG.
(C) is the bond at the lower end of the nozzle of the coating device of the same bond.
5A is a graph showing the amount of adhesion, and FIG.
5B is a timing chart of the coating operation of FIG.
Fig. 5 (c) is an enlarged view of the nozzle of the nozzle
Is a graph showing the amount of adhered bond at the lower end of the nozzle of the coating device.
FIG. 6 (a) shows a tie of the coating operation of the coating apparatus of the same bond.
FIG. 6 (b) is a chart of the coating apparatus of the same bond.
Fig. 6 (c) is an enlarged view of the chisel,
FIG. 7A is a graph showing the amount of bond attached to the lower end of the
(B) shows the bond at the lower end of the nozzle of the coating apparatus of the bond.
FIG. 8 is a graph showing the amount of adhesion, and FIG.
Flow chart, figure for feedforward quantity
9 is the moving distance of the syringe and the coating surface of the coating device of the same bond.
A graph showing the relationship with the product, and FIG.
FIG. 11 is a graph showing the relationship between the pressing time and the application area of FIG.
(A) and (b) show the movement of the syringe of the coating apparatus of the same bond.
It is a graph showing the relationship between distance and application area. First, referring to FIG.
The overall structure will be described. In FIG. 1, the main body frame 11
A transparent cover box 12 is covered on top of
The components described below are provided inside the cover box 12.
Is arranged. 13 is an X table, 14 is an X table
Y-teeth arranged on both sides of the
The X table 13 has a head 15 mounted thereon.
Is being worn. The head 15 has a plurality of syringes.
16 and the camera 10 are held. [0009] Each syringe 16 stores a bond.
It is stored, but the bond by each syringe 16
Is different, and is applied to the target substrate, target chip, etc.
It is selectively used according to. X table which is a moving table
The motors Mx and My and the
Ball screw 18 driven and rotated by motors Mx and My
Are arranged, and the motors Mx and My are driven.
Then, the head 15 moves horizontally in the X direction or the Y direction. What
The motors Mx and My and the ball screw 18 are not
Are shown only partially. Below the moving path of the head 15, a pair of right and left
Rod-shaped guide rails 19a and 19b are provided.
You. Boards are provided on the inner surfaces of the guide rails 19a and 19b.
A conveyor belt 21 for transporting the conveyor belt 20 is provided.
A clamper 1 is provided at the center of one of the guide rails 19a.
9c, and the substrate 20 is connected to the other guide rail.
Press against the 19b side to fix. Therefore, the guide rail
19b and clamper 19c constitute a positioning portion of the substrate 20
are doing. Then, the substrate 20 positioned in this manner is
Is applied to the substrate. Reference numeral 22 denotes a conveyor belt driving motor, 2
3 is a guide rail 19a and a guide according to the width of the substrate 20.
One of the guides is used to adjust the distance between the drains 19b.
The rail 19a is mounted on the substrate with respect to the other guide rail 19b.
A motor for moving in the width direction (Y direction) of 20;
24 is the guide. Next, a guide rail 19b is provided on the side of the guide rail 19b.
The test application unit 30 of the bond 1 will be described. guide
On the side of the rail 19b, a pay-out reel 31 and a take-up reel are provided.
The reel 32 is opposed to the reel 31.
Take up the wound tape 33 with the take-up reel 32
You. This tape 33 is transparent or translucent light transmissive
Tape made of synthetic resin. The light below the horizontal running portion of the tape 33
A light source unit (not shown) having a light source is provided.
Light is irradiated toward the pump 33. 34 is water of the tape 33
It is a receiving tray for the tape 33 disposed directly below the flat running section.
To hold the tape 33 horizontally,
It is formed of a transparent or white light transmitting plate. This tape
The horizontal running section 33 has a step for trial application of the bond.
Page. FIG. 2 shows an application mode of the bond.
The syringe 16 moves horizontally on the substrate 20 in the X and Y directions.
While discharging the bond 1 from the nozzle 16a, the substrate 2
Predetermined application point P of 0 (P1, P2, P3,... Pn)
In order. In the figure, D (D1, D2, D3,...)
Dn) is the moving distance of the syringe between each application point. Ma
Ta (Ta1, Ta2, Ta3,... Tan)
Is a discharge retrospective time between each application point (described later).
As will be described in detail later, the coating device of the present bond has a moving distance of
The syringe 16 is moved at a high speed between the application points where D is different.
To discharge the bond 1 from the nozzle 16a
Adjust the pressurizing time for applying air pressure into the syringe 16.
With this, the coating amount is uniform at each of the coating points P1 to Pn.
This realizes stable application of the bond 1. Next, the configuration of a control system of the bond applying apparatus will be described.
Will be described. In FIG. 3, reference numeral 40 denotes a main control unit,
Receives data from each section described below,
Issue an order to control the overall operation. Application data storage unit 4
1 stores the coordinates of each application point on the substrate 20 to be applied.
You. The application condition storage unit 42 is used to discharge the bond 1
The pressurization time is stored. Coating condition adjustment data storage unit 43
Stores the adjustment data of the above-described pressurization time. The recognizing unit 44 captures an image captured by the camera 10.
Based on the image data of each application point,
The application area of the bonded bond 1 is calculated. This application area is
Used as an index to indicate the amount of bond 1 applied at each application point
It is. The motor drive unit 45 moves the syringe 16 horizontally.
Motor M for each axis of X table 13 and Y table 14
x-axis, My-axis, and Z-axis motor that moves the syringe 16 up and down
Control Mz. The valve drive unit 46 is connected to the syringe 16
The operation of the pressure valve 47 for applying air pressure is controlled. The bond applying apparatus has the above-described configuration.
In the following, electronic components are connected by this bond application device.
A method of applying a worn bond will be described. First, the coating equipment
Before explaining the specific operation of the
A method for applying the metal 1 will be described with reference to FIG.
I do. In the bond applying apparatus, the nozzle 16a
Is ejected and adheres to the lower end of the nozzle 16a.
Bond 1 (the amount Q of this bond 1 is hereinafter referred to as “adhesion amount”).
Is transferred to the substrate 20 to apply the bond 1
Is performed, the timing at which the coating is performed (FIG. 4)
As shown in (e) of (b), the nozzle 16a descends
The bond 1 discharged at its lower end lands on the substrate 20
(Hereinafter referred to as the “adhesion amount during application”)
Q) Qe is the amount of bond 1 actually applied to substrate 20
(Hereinafter simply referred to as “application amount”)
Become. In other words, if the applied amount Qe during coating is large,
The amount Qt increases, and conversely, if it is low, the coating amount Qt is low.
Become. Therefore, a stable bond having a uniform coating amount Qt
In order to realize the coating of No. 1, the coating amount Qe at the time of coating should be uniform.
Is required. In addition, (d) of FIG.
Indicates a state immediately before the bond 1 lands on the substrate 20.
The adhesion amount Q at this time is the adhesion amount at the time of application described above.
It can be considered that it is almost equal to Qe. Therefore, the adhesion amount Qe at the time of application and the syringe 1
6 in the XY and Z directions,
4 to FIG.
This will be described with reference to FIG. 4A to 6, FIG.
A velocity pattern in the horizontal direction (XY directions) of the syringe 16;
Speed pattern of the vertical movement (Z direction) of the nozzle 16a, and
Timing indicating the opening and closing timing of the
It is a chart. (B) shows the air pressure inside the syringe 16.
Of the adhesion amount Q of the bond 1 discharged by pressurizing
The change and the height of the nozzle 16a are shown at each timing.
It is something. (C) is for the amount of adhesion Q of bond 1
Shows intermittent changes. As will be described later, the coating amount Qt of the bond 1
Is the air pressure for causing the syringe 16 to perform the discharging operation.
From the timing t0 when the pressurization starts, the syringe 16
20 and the nozzle 16a moves horizontally.
The bond 1 that has descended and has been discharged to the lower end of the nozzle 16a
Until the timing t5 when the substrate 20 is landed and applied.
Time (in the present invention, referred to as “ejection retrospective time”) Ta
(For each of t0, t5, and Ta,
reference). That is, the discharge retrospective time Ta is applied to the substrate 20.
This is a parameter of the applied amount Qt of the bond to be performed. Also,
The discharge retrospective time Ta is determined based on whether the syringe 16 is located at the application point.
Distance to the next coating point
The travel distance D is a parameter of the discharge retrospective time Ta.
(See also FIG. 2). FIG. 4 shows that the moving distance D is the target.
Standard moving distance Ds which is a standard numerical value (for example, 10 mm)
(Ie, when the discharge retrospective time Ta is the standard)
FIG. 5 shows that the moving distance D is shorter than Ds in FIG.
FIG. 6 shows a long case. In FIG. 4, the time origin t0 is a series of operations.
Starts at the time of application, that is, application at one application point
At the timing to start moving to the next dispensing point
is there. First, at the time origin t0, the XY
Speed in the direction rises and reaches the highest speed at t1
Then, the vehicle decelerates and stops at t2. That is,
The die 16 reaches the application point at this timing t2. Next
At this timing t2, the Z-axis motor Mz starts driving.
The nozzle 16a starts descending. Also, the time origin t
At the same time as starting the movement in the XY directions at 0,
The pressurizing valve 47 is opened, and from the lower end of the nozzle 16a
The discharge of the bond 1 is started. Note that in FIG.
Dashed arrows A, B, C, and D indicate holes in the nozzle 16a.
The flow direction of the code is shown. This pressurizing valve 47 is
It is opened for a set time (pressurization time Td). What
The pressurizing time at the standard moving distance Ds is defined as Tds.
You. As shown in FIGS. 4B and 4C, the nozzle
The adhesion amount Q of the bond 1 discharged to the lower end of the bottom 16a is dynamic.
The amount of bond 1 at the start of cropping (a), that is, the first
From the initial deposition amount Qi and pressurized as shown in (c).
The maximum amount Qm at timing t4 when the valve 47 is closed
It becomes. Thereafter, after the pressurizing valve 47 is closed,
As shown by the dashed arrow C in FIG.
Flow slightly back through the nozzle 16a, and the adhesion amount Q of the bond 1 is
Time (from time t4 to time t6 shown in FIG.
Time "Tw")
1 shows the phenomenon of “return”. In (d), indicated by a broken line
Bond 1 shows the state of the maximum amount Qm, and is shown by a solid line.
Bond 1 shows Bond 1 decreasing due to "return"
are doing. After this time Tw has elapsed, the bond 1
Is a constant amount Qr. Next, at timing t5, the nozzle 16a
Bond 1 that has reached the bottom dead center of the lowering motion and is attached to the lower end
Is applied on the surface of the substrate 20. This timing
The amount of the bond 1 at the time t5 is the above-mentioned adhesion amount Qe during coating.
In this case, the painting is performed when the moving distance is the standard moving distance Ds.
This is the cloth deposition amount Qes. The application amount Qts (moving
The amount of coating when the distance is the standard moving distance Ds)
Applied. As a result, at the timing t5, the bonding
The landing amount Q is Qts (moving distance is
The amount of application in the case of the quasi-movement distance Ds), and thereafter
It continues to decrease during the return time Tw (FIG. 4B).
(See arrow D in dashed line). And timing t
It becomes a fixed amount at 6. At timing t5 in FIG.
The graph q ', which is indicated by a dashed line, shows the case where the coating was not performed.
The solid line graph q shows the adhesion amount Q of this chain line.
The graph is shifted downward by the coating amount Qts at the timing t5.
It has become. S shown in (f) is a substrate
Coating area of bond 1 with coating amount Qts applied on 20
(G) indicates the nozzle 1 at the timing t7.
6a has completely risen and the return time Tw has passed, and
Q is a fixed amount and remains at the lower end of the nozzle 16a
(Hereinafter referred to as “residual amount” Qn) Qns (moving distance is
(The residual amount in the case of the quasi-movement distance Ds)
I have. Next, referring to FIG. 5, the movement of the syringe 16 will be described.
When the distance D is short (that is, when the discharge retrospective time Ta is short)
) Will be described. As shown in FIG.
Acceleration / deceleration time in XY direction from t to t2
Shorter than the distance Ds, that is, the syringe 16
Is short. The button in FIG.
In the graph showing the change over time of the adhesion amount Q of the
Graph a shown by a solid line is a graph of the standard movement distance Ds shown in FIG.
Shows the case where coating is performed with the same standard pressurization time Tds as
You. A graph q ′ shown by a chain line after timing t5 is shown in FIG.
Amount of bond 1 when coating is not performed as in the case of
Represents Q. Further, a graph b indicated by a broken line indicates the pressure time Td.
This shows the case where adjustments have been made, which will be described later.
You. When the moving distance D is short, the pressing time Td
Move in XY directions before timing t4 when
The operation is completed (t2), and the pressurizing valve 47 is closed.
Before and after the timing t4, the lowering of the nozzle 16a opens.
Is started, and the coating of the bond 1 on the substrate 20 is performed at a timing t5.
Cloth is made. For this reason, the attached amount Q is reduced by return.
Within a short time, that is, when the amount of adhesion at the time of application is Qe1 (moving
The adhesion amount at the time of coating when the distance D is short. Qe1> Qes)
The application is performed in the state, and as a result, the
Amount Qt1 of the bond 1 to be applied (when the moving distance D is short)
Application amount) is larger than that in the case of FIG. in this case
In addition, after the timing t5 when the coating is performed, the bond 1
The adhesion amount Q continues to decrease during the return time Tw (t4 to t6).
(See the dashed arrows D and E shown in FIG. 5 (b) (f) and (g).
), And then a certain residual amount Qn1 (if the moving distance D is short)
Residual amount). FIG. 5B and FIG.
After t6 and t7, the bond 1 returns and the nozzle 16a
This shows a state where the ascent is completed. Next, FIG. 6 shows a case where the moving distance D is long.
(That is, when the discharge retrospective time Ta is long).
You. As shown in the graph of FIG.
Time during which the constant speed is maintained after acceleration at
1 ′) is long, indicating that the moving distance D is long. Figure
6 (c) is a graph showing the change over time in the amount of adhesion Q of the bond 1;
In the graph, the graph c shown by a solid line represents the standard movement shown in FIG.
The application is performed with the same standard pressurization time Tds as in the case of the distance Ds.
The following shows the case. The graph indicated by the dashed line after timing t5
The character q ′ indicates the amount of adhesion Q when the coating is not performed. Ma
In addition, a graph d shown by a broken line is obtained by adjusting the pressurizing time Td.
A case is shown, which will be described later. When the moving distance D is long, the nozzle 16a
Starts descending (t3), reaches the bottom dead center and its lower end
To apply the bond 1 attached to the substrate 20 to the substrate 20
At 5, the return of Bond 1 has already been completed (t6) and
The adhesion amount Q of the node 1 is Qr. In other words, when applying
The amount of deposition Qe2 (the amount of adhesion at the time of application when the moving distance D is long) is
Equal to Qr (Qe2 = Qr <Qes).
The cloth amount Qt2 (the amount of application when the moving distance D is long) is as shown in the above figure.
4, less than in the two examples of FIG. Fig. 6 (b) (h)
Indicates that the rising of the nozzle 16a has been completed at the timing t7.
The state is shown, and the adhesion amount Q is the remaining amount Qn2 (moving distance).
(Residual amount when D is long). As described above, the bond applied to the substrate 20
The application amount Qt of No. 1 corresponds to the discharge retrospective time Ta (timing t0 to t0).
(time between t5), but this variation is
This is due to the return phenomenon of the bond 1 described above. sand
That is, the adhesion amount Q of the bond 1 fluctuates due to the return phenomenon.
If the application is performed during the return time Tw
At any time during the interval Tw, it is attached to the lower end of the nozzle 16a.
Depending on whether the bond 1 to be landed is
Therefore, the applied amount Qe at the time of application is different, so that the applied amount Qt is
Because it is different. Conventionally, the discharge retrospective time Ta is long,
The return time Tw has passed since the application was performed.
Later, that is, the attached amount Q of the bond 1 became a constant amount Qr.
Because of this state, the adhesion amount Qe at the time of application is always a fixed amount
Qr, and no variation in the coating amount Qt occurred. I
Since the discharge discharge retrospective time Ta is long, as a result,
Im longer and hindered speeding up. Therefore, in order to reduce the tact time
It is necessary to shorten the discharge retrospective time Ta
Inevitably, the application must be performed during the return time Tw
However, in this case, the applied adhesion amount Qe is equal to the discharge retroactive time Ta.
Will vary. Next, the initial adhesion amount Qi will be described.
In the above description, the initial adhesion amount Qi is equal in each case.
The application amount depends on the discharge retrospective time Ta.
However, in practice, the initial coating amount Qi is
As described, it is not constant.
Also varies depending on the initial adhesion amount Qi. Hereinafter, FIG.
Referring to (a) and (b), the variation of the initial adhesion amount Qi
The factors will be described. FIGS. 7 (a) and 7 (b) show the corresponding coatings.
When taking into account the condition of the previous application of the cloth,
Time of the adhesion amount Q of the bond 1 adhering to the lower end of the screw 16a
FIG. 7 (a) shows the target change in the previous line.
When the discharge retrospective time T′a during discharge is short, FIG.
It is about the long case. In FIG. 7 (a), Ta is
Discharge retrospective time (hereinafter referred to as "first discharge retrospective time")
And T'a (1) is the discharge retrospective time at the time of the previous application.
(Hereinafter, referred to as “second ejection retrospective time”). Qi
(1) and Q'i (1) are the time of the application and the last time, respectively.
Shows the initial amount of coating during application. The adhesion amount Q of bond 1 is pressurized
Increases during time Td (t0 to t1), and reaches maximum at t1
It decreases after reaching the quantity Qm. And at timing t2
The nozzle 16a reaches the bottom dead center and moves down to bond 1
20, the amount of coating Qt1 is reduced,
After that, it continues to decrease for the return time Tw (t1 to t4)
You. Then, the button at timing t3 at which pressurization is started again
And the initial adhesion amount Qi (1) at the time of the application.
Become. Thereafter, the pressure increases during the pressurization time Td (t3 to t5).
Then, after reaching the maximum amount Qm at timing t5, it decreases again.
Less. Then, bond 1 is applied by descending nozzle 16a.
The amount of adhesion at t6, which is the timing of
This is the cloth deposition amount Qe (1). In FIG. 7B, Ta is the first
The discharge retrospective time, and T'a (2) is the second discharge retrospective.
Time. Qi (2) and Q'i (2) are
Shows the initial amount of adhesion at the time of application and at the time of previous application. Bond 1
Increases during the pressurization time Td (t0 to t1),
After reaching the maximum amount Qm, the return time Tw (t1 to t2)
The amount decreases to a constant amount Qr. And at timing t3
The nozzle 16a reaches the bottom dead center and moves down to bond 1
By applying the composition to the area 20, the application amount Qt2 is reduced,
After that, keep a certain amount. Then, pressurization is started again.
The adhesion amount of the bond 1 at the time of the imaging t4 is an initial value at the time of the application.
This is the adhesion amount Qi (1). Then, during the pressurization time Td
(T4 to t5) increases and reaches the maximum amount Qm at timing t5.
After reaching, it decreases again. Then descend the nozzle 16a
At time t7, which is the timing to apply bond 1
The amount is the applied adhesion amount Qe (2) during the application. As described above, the first discharge retrospective time Ta is equal.
Even if the second discharge retrospective time T'a is different
The initial adhesion amount Qi at the time of the application is different, and
As a result, the application adhesion amount Qe is different. That is,
2 has a long discharge retrospective time T′a, that is, FIG.
The initial adhesion amount Qi (2) in the case of T′a (2) is shown in FIG.
(A) The initial adhesion amount Qi (1) in the case of T'a (1)
Less. Therefore, the second discharge retrospective time
When the coating amount Qe (2) when T'a is long, the
Adhesion amount Qe (1) at the time of application when return time T'a is short
Less than. As described above, the adhesion amount Qe at the time of coating is
In order to adjust, only the discharge retrospective time Ta at the time of the coating is applied.
In addition, the discharge retrospective time T'a at the time of the previous application is also considered.
It must be put in. In this bond application apparatus, the
Timing to start horizontal movement of the die 16 and application of bond 1
And the timing to start pressurizing for
The discharge retrospective time Ta is such that the syringe 16 moves between the application points.
Time. In addition, the time required for this movement
The moving distance that the nozzle 16 moves between the application points on the substrate 20
D is approximately the same assuming other conditions are the same.
It is practically acceptable to regard it as an example. So this
What approximately represents the discharge retrospective time Ta by using the moving distance D
Can be treated as That is, the moving distance D is different.
In this case, the applied amount Qe at the time of application varies,
As a result, the application amount varies. In an actual coating apparatus, the substrate 20
When considering the application conditions for each application point,
It is more convenient to use the intuitive moving distance D as the distance in
Therefore, in this embodiment, the variation of the coating amount is reduced.
When the moving distance D is used as a control factor,
An example will be described. The arrangement of application points on an actual substrate may vary.
The moving distance when the syringe 16 moves between the application points.
The separation D is not constant. And the moving distance at the time of the application
(Hereinafter referred to as “first movement distance”) D and the time of previous application
Of the moving distance (hereinafter referred to as “second moving distance”) D ′
The combination of both will be even more diverse. Therefore
In this case, apply at the same application condition for all application points
Is performed, the application amount varies as described above. others
Therefore, if an attempt is made to obtain a uniform coating amount,
It is necessary to adjust cloth conditions appropriately. Below, for this purpose
Diagram of feedforward control of application conditions performed
8 will be described with reference to the drawings. First, it is stored in the control unit 40 (FIG. 3).
The moving distance (second moving distance) D ′ at the previous coating
(ST1), and this second moving distance D '
The formula for estimating the dispersion of the applied coating area is
The data is read from the data storage unit 43 (FIG. 3) (ST2).
The formula for estimating the application area variation is expressed by the first moving distance D
And one for the combination of the second moving distance D ′
And the predicted variation in the coating area
You. This prediction formula is obtained by calculating the first movement distance D and the second movement distance.
Varying the distance D 'and conducting coating experiments systematically
And sort the experimental results into appropriate linear approximations.
With the second moving distance D 'fixed.
In consideration of this, as shown in FIG.
Approximated by two straight lines on the graph showing the relationship with the application area S
Is represented by That is, first, the second moving distance D ′ is
If specified, the application area corresponding to D '
A fluctuation prediction formula is obtained, and then the first moving distance D
Is given, the predicted value of the variation of the application area
Will be required. Next, in response to a movement command to the application position, the application
The position of each application point stored in the data storage unit 41 (FIG. 3)
The first movement distance that the syringe 16 moves based on the data
D is calculated (ST3). Then, the first moving distance D
Of the application area read in ST2 based on
Prediction calculation of variation of coating area by fluctuation prediction formula
Is performed (ST4). That is, the first transfer is performed in ST3.
Given the dynamic distance D, it can be seen from the graph of FIG.
The application area S in the interval Tds is obtained. So this S and
The difference ΔS from the desired application area Sd is obtained, and this ΔS
Is the expected variation in the application area. Next, with respect to the variation ΔS of the coating area,
The corresponding adjustment pressurization time Δt is calculated from the graph of FIG.
(ST4). This graph also shows the pressurization time Td and coating
The relationship with the area S is obtained from the experimental data and approximated by a graph.
It is a thing. The above-mentioned Sd and the variation ΔS to be adjusted
Is given, the corresponding Δt is calculated as shown in FIG.
Is calculated (ST5). Coating strips represented by these graphs
The condition adjustment data is stored in the application condition adjustment data storage unit 43.
It is sent to the main control unit 40 when necessary. Next, the Lord
The control unit 40 determines the adjusted pressurizing time Δt as a standard application time.
Calculate individual pressurization time Td in addition to Tds
(ST6). That is, the syringe 16 is moved for each application point.
During the different pressurization times Td adjusted according to the moving distance D,
Bond 1 is discharged from nozzle 16a by pressurizing syringe 16
(ST7), and application to the substrate 20 is performed (ST7).
8). The adjustment pressurizing time Δt is determined by feed forward
5 and FIG. 6 again when the coating is performed
It will be described in the light of the above. In FIG. 5, the timing line (a)
Δt1 shown in the figure is the value when the above-mentioned first movement distance D is short.
The adjustment pressurization time Δt. That is, in this case coating
The pressurizing time Tds is set to Δt
An adjustment is made to shorten it by one. As a result, the group indicating Q
The rough is a broken line graph b shown in FIG.
As indicated by Qe′1 (= Qes), the landing amount Qe
4 is equal to the case of the standard movement distance Ds. In FIG. 6, Δt2 represents the first movement.
The adjustment pressurization time Δt when the distance D is long, in this case
In order to increase the adhesion amount Qe during coating,
Pressurization time Tds shown in the Mining diagram is lengthened by Δt2
Adjustments are made. As a result, the graph showing Q is (c)
A graph d indicated by a broken line shown in FIG.
As shown by e′2 (= Qes), the standard shown in FIG.
It is equal to the case of the moving distance Ds. As described above, the first movement of the syringe 16
Even if the distance D and the second moving distance D 'are different,
Compression time Td is the combination of each moving distance D, D '
By adjusting according to
Qe can be obtained. FIG. 11 shows a feed forward of this embodiment.
Example of the effect when the code is applied to the actual bond 1 application
It is shown. FIGS. 11A and 11B are plotted on the horizontal axis.
The moving distance D of the syringe 16 and the application area S on the vertical axis
When no feedforward is performed,
The degree of variation of the application area S in the case of
Things. The data collection method is the same for the syringe 16
Corresponds to the application and the previous application in the present embodiment.
The application is performed twice in succession, and the application corresponding to the application is performed.
The result, ie the application point of the later application of the two applications
The application area S is measured, and the result is used as the travel distance during subsequent application.
It is plotted at a point corresponding to D. In FIGS. 11A and 11B, the graph a
And a 'when the coating is performed twice at the same moving distance D
2 shows the data. Graphs b and b ′ are
The moving distance D at the time of the first application is 5 mm, and the second application
The moving distance D during dispensing is shown on the horizontal axis at each data point.
Data when the distance is That is, the last application
The moving distance D at the time of coating is short, and the moving distance D at the time of coating is long.
It is an example of a coating pattern. Graphs c and c ′ are
Conversely, it corresponds to the distance indicated on the horizontal axis at each data point
5 mm moving distance after coating with moving distance D
D is the data when coating was performed. That is, last time
The moving distance D during coating is long, and the moving distance D during coating is
It is an example of a short application pattern. As is apparent from FIG.
When applying under the same application conditions without performing forward
Is the combination of the travel distance D at the time of the application and the previous application.
As a result, the application area S varies greatly. to this
Adjust the pressurization time Td by performing feed forward
In this case, as shown in FIG.
The surrounding area is narrow, and a substantially uniform application area S is obtained. As described above, when the syringe 16 is applied this time.
Moving distance D and moving distance D 'at the time of previous application are different
Even in this case, the pressurizing time Td is adjusted according to the moving distances D and D '.
To obtain a uniform coating amount Qe during coating.
be able to. Note that, in the above embodiment,
The movement distances D and D 'are used as parameters of the intervals Ta and T'a.
As described above, the discharge retrospective times Ta and T'a
As parameters, the discharge retrospective time Ta, T'a itself
Or the driving time of the X-axis motor or Y-axis motor
Or the number of revolutions, etc., and the point is that the discharge retrospective time Ta,
It is only necessary to use parameters that have a correlation with
You. According to the present invention, during the coating operation,
Discharge the bond from the lower end of the nozzle during the previous coating operation
At the time of discharge from the start of discharge until application to the substrate
Determined and stored in advance by experiment according to the parameters between
The pressurization time based on the applied application condition adjustment data
The syringe between each application point.
Nozzle at application timing even when the moving distance is significantly different
It is possible to keep the amount of bond attached to the lower end constant.
Simple method of adjusting the operating time of the pressure valve
With this, a stable amount of bond can be applied. In addition,
Stable bond amount after ejecting bond from swarf
Nozzle landed on substrate during bond return time
To reduce the time required for discharge
And therefore the time of the dispensing operation at each dispensing point
The interval is shortened, and the takt time can be significantly reduced
it can. As a result, at high speeds that were previously impossible
In addition, bond application to a substrate with a stable application amount is realized.
It is.

【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置の斜
視図 【図2】本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置によ
るボンドの塗布態様を示す基板の斜視図 【図3】本発明の一実施の形態の同ボンドの塗布装置の
制御系のブロック図 【図4】(a)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装
置の塗布動作のタイミングチャート (b)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの拡大図 (c)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの下端部のボンド付着量を示すグラフ 【図5】(a)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装
置の塗布動作のタイミングチャート (b)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの拡大図 (c)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの下端部のボンド付着量を示すグラフ 【図6】(a)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装
置の塗布動作のタイミングチャート (b)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの拡大図 (c)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの下端部のボンド付着量を示すグラフ 【図7】(a)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装
置のノズルの下端部のボンド付着量を示すグラフ (b)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のノズ
ルの下端部のボンド付着量を示すグラフ 【図8】本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置の塗
布量をフィードフォワードするためのフローチャート 【図9】本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のシ
リンジの移動距離と塗布面積との関係を表すグラフ 【図10】本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置の
加圧時間と塗布面積との関係を表すグラフ 【図11】(a)本発明の一実施の形態のボンドの塗布
装置のシリンジの移動距離と塗布面積との関係を表すグ
ラフ (b)本発明の一実施の形態のボンドの塗布装置のシリ
ンジの移動距離と塗布面積との関係を表すグラフ 【符号の説明】 1 ボンド 10 カメラ 11 Xテーブル 12 Yテーブル 16 シリンジ 16a ノズル 19a ガイドレール 19b ガイドレール 19c クランパ 20 基板 31 繰り出しリール 32 巻き取りリール 33 テープ 40 主制御部 41 塗布データ記憶部 42 塗布条件記憶部 43 塗布条件調整データ記憶部 44 認識部 Ta 第1の吐出遡及時間 T’a 第2の吐出遡及時間
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a perspective view of a bond applying apparatus according to one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a substrate showing a bond applying mode by a bond applying apparatus according to one embodiment of the present invention. FIG. 3 is a block diagram of a control system of the bond applying apparatus according to one embodiment of the present invention. FIG. 4A is a timing chart of a coating operation of the bond applying apparatus according to one embodiment of the present invention. Chart (b) is an enlarged view of a nozzle of a bond applying apparatus according to an embodiment of the present invention. (C) is a graph showing a bond adhesion amount at a lower end portion of the nozzle of the bond applying apparatus according to an embodiment of the present invention. 5A is a timing chart of the coating operation of the bond coating apparatus according to one embodiment of the present invention. FIG. 5B is an enlarged view of a nozzle of the bond coating apparatus according to one embodiment of the present invention. Bond at the lower end of the nozzle of the bond application device according to the embodiment FIG. 6A is a timing chart of a coating operation of the bond coating apparatus according to one embodiment of the present invention; FIG. 6B is an enlarged view of a nozzle of the bond coating apparatus according to one embodiment of the present invention; (C) A graph showing a bond adhesion amount at a lower end portion of a nozzle of the bond applying apparatus according to one embodiment of the present invention. (A) A lower end of a nozzle of the bond applying apparatus according to one embodiment of the present invention. (B) Graph showing the amount of bond adhesion at the lower end of the nozzle of the bond application device according to one embodiment of the present invention. Flow chart for feed-forwarding the application amount of the apparatus. FIG. 9 is a graph showing the relationship between the moving distance of a syringe and the application area of a bond application apparatus according to an embodiment of the present invention. Coating device in the form of FIG. 11A is a graph showing a relationship between a moving distance of a syringe and an application area of a bond applying apparatus according to an embodiment of the present invention. 1 is a graph showing a relationship between a moving distance of a syringe and a coating area of a bond applying apparatus according to an embodiment of the present invention. [Description of References] 1 Bond 10 Camera 11 X table 12 Y table 16 Syringe 16a Nozzle 19a Guide rail 19b Guide rail 19c clamper 20 substrate 31 pay-out reel 32 take-up reel 33 tape 40 main control unit 41 coating data storage unit 42 coating condition storage unit 43 coating condition adjustment data storage unit 44 recognition unit Ta first discharge retrospective time T'a second Discharge retrospective time

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−253295(JP,A) 特開 平4−246886(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H05K 3/34 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) References JP-A-1-253295 (JP, A) JP-A-4-246886 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) H05K 3/34

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】 【請求項1】内部に貯溜されたボンドを空気圧で加圧す
ることによりノズルから吐出して基板に塗布するシリン
ジと、シリンジの下方に設けられた基板の位置決め部
と、シリンジを基板に対して相対的に水平方向へ移動さ
せる移動テーブルと備えるボンドの塗布装置による電子
部品接着用ボンドの塗布方法であって、シリンジに吐出
動作を行わせるための空気圧の加圧を開始するタイミン
グからシリンジが基板に対して相対的に水平移動してノ
ズルの下端部に吐出されたボンドを基板に塗布するまで
の第1の吐出遡及時間のパラメータおよび当該塗布の前
回の塗布動作時における空気圧の加圧を開始するタイミ
ングからシリンジが基板に対して相対的に水平移動して
ノズルの下端部に吐出されたボンドを基板に塗布するま
での第2の吐出遡及時間のパラメータと基板に塗布さ
れるボンドの塗布量との関係を示す塗布条件調整データ
を予め実験により求めて塗布条件調整データ記憶部に記
憶させておき、各ボンド塗布点の位置データにより求め
られる前記第1の吐出遡及時間のパラメータおよび第2
の吐出遡及時間のパラメータと前記塗布条件調整データ
に基づいて前記空気圧の加圧時間を調整してシリンジの
ノズルの下端部に付着するボンドの量を加減することに
より基板に塗布されるボンドの塗布量を調整することを
特徴とする電子部品接着用ボンドの塗布方法。
(57) [Claim 1] A syringe which is applied from the nozzle to the substrate by applying pressure to the bond stored in the inside by air pressure, and a substrate positioning portion provided below the syringe. And a method of applying a bond for bonding electronic components by a bond applying device having a moving table for moving the syringe in a horizontal direction relative to the substrate, wherein air pressure is applied to cause the syringe to perform a discharging operation. the timing for starting the syringe of the previous relative horizontal movement to the first ejection retroactive time parameters and the coating before applying a bond discharged to the lower end of the nozzle to the substrate relative to the substrate The syringe moves horizontally relative to the substrate from the timing of starting the application of air pressure during the application operation to apply the bond discharged to the lower end of the nozzle to the substrate. And parameters of the second discharge retroactive time to, may be stored in the coating condition adjusting data storing unit determined by experiment a coating condition adjusting data showing the relationship between the coating amount of the bond that is applied to the substrate, each bond A parameter of the first ejection retrospective time obtained from the position data of the application point and a second
The application of the bond applied to the substrate by adjusting the pressurizing time of the air pressure based on the parameters of the discharge retrospective time and the application condition adjustment data to adjust the amount of the bond attached to the lower end of the syringe nozzle A method for applying a bond for bonding electronic parts, characterized by adjusting the amount.
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