JP3499446B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、処理液を基板上に
供給して基板に所定の処理を行う基板処理装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基
板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用ガラス基
板などの基板に種々の処理を行うために基板処理装置が
用いられている。たとえば、基板の表面に形成された感
光性膜の現像処理には、回転式の現像装置が用いられて
いる。

【０００３】図９は従来の現像装置の概略断面図であ
る。図９において、基板保持部３１は、円形板状のスピ
ンベース３２を備える。スピンベース３２はモータ３の
回転軸２の先端部に水平に固定され、鉛直方向の軸の周
りで回転駆動される。

【０００４】スピンベース３２の上面には環状支持部３
３が固定され、この環状支持部３３に基板Ｗの裏面を支
持する複数の基板支持ピン３４が設けられている。ま
た、スピンベース３２には、基板Ｗの水平位置を規制す
る複数の基板保持ピン３７が軸受３８により鉛直方向の
軸の周りで回動可能に取り付けられている。各基板保持
ピン３７の下部には棒状の永久磁石３９が取り付けられ
ている。

【０００５】スピンベース３２の下方には環状磁石４１
が配設されている。この環状磁石４１は、駆動装置（図
示せず）により上下動自在に設けられた磁石支持部材４
２に固定されている。

【０００６】基板保持部３１の上方には、現像液を吐出
する現像ノズル４３が上下方向および水平方向に移動可
能に設けられている。この現像ノズル４３は、現像処理
前および現像処理後に基板Ｗの上方から外れた位置に待
機し、現像処理時に基板Ｗの中心部の上方に移動する。

【０００７】上記の現像装置における現像処理時の動作
を以下に説明する。この現像装置を用いた基板の現像処
理は、現像液供給、現像液保持、純水洗浄および乾燥の
各工程からなる。

【０００８】まず、現像液供給工程では、環状磁石４１
が上昇して複数の基板保持ピン３７により基板Ｗが水平
方向に保持される。その後、モータ３により基板保持部
３１が回転駆動され、基板Ｗが鉛直方向の軸の周りで低
速回転する。この状態で、現像ノズル４３から基板Ｗ上
に現像液が吐出される。基板Ｗの回転により現像液は基
板Ｗの表面の全体に均一に塗り広げられる。

【０００９】現像液保持工程では、基板保持部３１の回
転が停止される。基板Ｗの回転が停止すると、環状磁石
４１が下降して基板保持ピン３７が開放状態となる。こ
れにより、基板Ｗ上に現像液が液盛りされ、一定時間静
止される。この間に、基板Ｗの感光性膜の現像が進行す
る。

【００１０】純水洗浄工程では、基板保持部３１が再び
回転駆動され、基板Ｗの表面に純水供給ノズル（図示せ
ず）から純水が供給され、基板Ｗの表面の純水洗浄が行
われる。

【００１１】乾燥工程では、純水の供給が停止された
後、基板保持部３１が高速で回転駆動され、回転に伴う
遠心力により基板Ｗの表面から純水が振り切られる。こ
れにより、基板Ｗが乾燥する。その後、基板保持部３１
の回転が停止し、基板Ｗの現像処理が終了する。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】上記の現像液供給工程
では、基板保持部３１に保持された基板Ｗが低速で回転
駆動された状態で現像ノズル４３から現像液４５が基板
Ｗの表面に吐出される。現像液４５が基板Ｗの全面に均
一に行き渡るように多量に吐出されると、現像液４５は
基板Ｗの外周部から基板保持ピン３７の上面やスピンベ
ース３２の上面外周部に流れ落ち、さらにスピンベース
３２の外周部から下方に流れ落ちる。その後、基板Ｗの
回転が停止すると、一部の現像液はスピンベース３２の
外周部から裏面を伝って構成部品間に徐々に浸透する。

【００１３】特に、処理液が基板保持ピン３７の軸受３
８内に浸入すると、基板保持ピン３７の滑らかな動きが
損なわれる。また、構成部品間に浸透した現像液が固化
すると、乾燥工程で基板保持部３１が高速回転したとき
に、固化した現像液がパーティクル（固体粒子）となっ
てカップ４０内を浮遊し、基板Ｗの表面に再付着して基
板Ｗを汚染する。

【００１４】本発明の目的は、基板に供給される処理液
が基板を保持する保持部材の回動部分に浸入することが
防止された基板処理装置を提供することである。

【００１５】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る基板処理装置は、基板上に処理液を供給して
基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、基板の
外径よりも大きな径を有する回転部材と、回転部材を回
転駆動する駆動手段と、基板の外周部に沿うように回転
部材に設けられ、基板の外周端部に当接して基板を保持
する複数の保持部材と、複数の保持部材により保持され
た基板上に処理液を供給する処理液供給手段とを備え、
複数の保持部材のうち少なくとも１つの保持部材は、回
転部材を上下に貫通するように設けられた軸受と、軸受
により回転部材上に回動自在に設けられた支持部と、支
持部の回動に伴って基板の外周端部に当接するように支
持部に設けられた保持部とを備え、回転部材は、回転部
材の外周部から下方に延びる周壁部を備えたものであ
る。

【００１６】第１の発明に係る基板処理装置において
は、複数の保持部材により基板が回転部材上に保持され
る。この場合、少なくとも１つの保持部材の保持部が軸
受による支持部の回動に伴って基板の外周端部に当接す
る。この状態で、回転部材が駆動手段により回転駆動さ
れ、処理液供給手段から基板上に処理液が供給される。

【００１７】基板上に供給された処理液の一部は基板の
外周部から回転部材上に流れ落ち、さらに回転部材の外
周部を伝って下面側に回り込もうとする。回転部材の外
周部には下方に延びる周壁部が形成されているため、そ
の周壁部により処理液が回転部材の下面側に回り込むこ
とが阻止される。それにより、保持部材の軸受に処理液
が浸入せず、処理液の浸入による軸受の動作不良が防止
される。また、軸受に浸入した処理液が固化することに
よるパーティクルの発生が防止される。

【００１８】第２の発明に係る基板処理装置は、第１の
発明に係る基板処理装置の構成において、少なくとも１
つの保持部材は、回転部材の上面側に突出する環状壁部
を有しかつ軸受を収納する軸受収納部をさらに備え、支
持部は、軸受収納部の環状壁部の上部から外側を一定の
隙間を介して取り囲む蓋状部を有するものである。

【００１９】この場合、軸受が軸受収納部に収納される
とともに、回転部材の上面側に突出する軸受収納部の環
状壁部の上部から外側が支持部の蓋状部により一定の隙
間を介して覆われているので、基板上から保持部材の支
持部上に流れ落ちた処理液は支持部の蓋状部の外面に沿
って回転部材上に流れ落ちる。そのため、処理液が回転
部材の上面側から軸受収納部内の軸受に浸入しない。ま
た、軸受収納部の内部は環状壁部と支持部の蓋状部との
間の屈曲した隙間を通して外部に連通しているので、処
理液が環状壁部と支持部の蓋状部との間の隙間を通して
軸受収納部内の軸受に浸入することは困難となる。した
がって、処理液が保持部材の軸受内に浸入することが確
実に防止される。

【００２０】第３の発明に係る基板処理装置は、基板上
に処理液を供給して基板に所定の処理を行う基板処理装
置であって、基板の外径よりも大きな径を有する回転部
材と、回転部材を回転駆動する駆動手段と、基板の外周
部に沿うように回転部材に設けられ、基板の外周端部に
当接して基板を保持する複数の保持部材と、複数の保持
部材により保持された基板上に処理液を供給する処理液
供給手段とを備え、複数の保持部材のうち少なくとも１
つの保持部材は、回転部材を上下に貫通するように設け
られた軸受と、軸受により回転部材上に回動自在に設け
られた支持部と、支持部の回動に伴って基板の外周端部
に当接するように支持部に設けられた保持部と、回転部
材の下面側かつ外周部側で軸受の外側を遮蔽する遮蔽部
とを備えたものである。

【００２１】第３の発明に係る基板処理装置において
は、複数の保持部材により基板が回転部材上に保持され
る。この場合、少なくとも１つの保持部材の保持部が軸
受による支持部の回動に伴って基板の外周端部に当接す
る。この状態で、回転部材が駆動手段により回転駆動さ
れ、処理液供給手段から基板上に処理液が供給される。

【００２２】基板上に供給された処理液の一部は基板の
外周部から回転部材上に流れ落ち、さらに回転部材の外
周部を伝って下面側に回り込もうとする。回転部材の下
面側かつ外周部側で軸受の外側を遮蔽する遮蔽部が設け
られているため、その遮蔽部により処理液が保持部材の
下面側に回り込むことが阻止される。それにより、保持
部材の軸受に処理液が浸入せず、処理液の浸入による軸
受の動作不良が防止される。また、軸受に浸入した処理
液が固化することによるパーティクルの発生が防止され
る。

【００２３】第４の発明に係る基板処理装置は、第３の
発明に係る基板処理装置の構成において、少なくとも１
つの保持部材は、回転部材の上面側に突出する環状壁部
を有しかつ軸受を収納する軸受収納部をさらに備え、支
持部は、軸受収納部の環状壁部の上部から外側を一定の
隙間を介して取り囲む蓋状部を有するものである。

【００２４】この場合、軸受が軸受収納部に収納される
とともに、回転部材の上面側に突出する軸受収納部の環
状壁部の上部から外側が支持部の蓋状部により一定の隙
間を介して覆われているので、基板上から保持部材の支
持部上に流れ落ちた処理液は支持部の蓋状部の外面に沿
って回転部材上に流れ落ちる。そのため、処理液が回転
部材の上面側から軸受収納部内の軸受に浸入しない。ま
た、軸受収納部の内部は環状壁部と支持部の蓋状部との
間の屈曲した隙間を通して外部に連通しているので、処
理液が環状壁部と支持部の蓋状部との間の隙間を通して
軸受収納部内の軸受に浸入することは困難となる。した
がって、処理液が保持部材の軸受内に浸入することが確
実に防止される。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る基板処理装置
の一例として回転式の現像装置について説明する。

【００２６】図１は本発明の第１の実施例による回転式
の現像装置の断面図であり、図２は図１の現像装置の平
面図である。

【００２７】図１および図２において、基板保持部１は
円形板状のスピンベース１１を備える。スピンベース１
１は、アルミニウムを母材に使用し、上面にニッケル−
ポリテトラフルオロエチレンめっきが施されている。ニ
ッケル−ポリテトラフルオロエチレンめっきの水に対す
る接触角は約１００°と大きく、現像液を弾くことがで
きる。また、スピンベース１１の他の例としては、アル
マイトに撥水性の樹脂を含浸処理したもの、あるいはチ
タン合金などの金属材料の表面にフッ素系樹脂をコーテ
ィング（被膜処理）したものを用いてもよい。

【００２８】スピンベース１１はモータ３の回転軸２の
先端にベース取り付け部材１２を介して水平に固定さ
れ、鉛直方向の軸の周りで回転駆動される。

【００２９】スピンベース１１の上面には、撥水性を有
する樹脂からなる環状支持部１３が設けられており、こ
の環状支持部１３の上面には、基板Ｗの下面を支持する
複数の支持ピン１４が設けられている。

【００３０】図２に示すように、環状支持部１３の外周
部には複数の切欠部１３ｂが設けられている。環状支持
部１３の各切欠部１３ｂには基板Ｗの水平位置を規制す
る回転式保持ピン１５が配設されている。回転式保持ピ
ン１５はスピンベース１１に鉛直方向の軸の周りで回動
可能に取り付けられている。この回転式保持ピン１５の
構造については後述する。

【００３１】図１に示すように、スピンベース１１の下
方には環状磁石６が配設されている。この環状磁石６
は、駆動装置（図示せず）により上下動自在に設けられ
た磁石支持部材７に固定されている。

【００３２】モータ３の回転軸２は中空軸により構成さ
れ、その内部に基板Ｗの裏面洗浄用のバックリンスノズ
ル９（図２参照）が挿入されている。このバックリンス
ノズル９は、ベース取り付け部材１２を貫通して基板Ｗ
の裏面側に突出している。バックリンスノズル９の先端
には、円錐台状のキャップ８が取り付けられている。キ
ャップ８はバックリンスノズル９から吐出される純水等
のリンス液が回転軸２の内部に浸入することを防止する
ために設けられている。

【００３３】基板保持部１の上方には、現像液を吐出す
る現像ノズル１０が上下方向および水平方向に移動可能
に設けられている。この現像ノズル１０は、現像処理前
および現像処理後に基板Ｗの上方から外れた位置に待機
し、現像処理時に基板Ｗの中心部の上方に移動する。

【００３４】さらに、基板保持部１の周囲を取り囲むよ
うに中空のカップ４が配設されている。カップ４は上下
方向に移動可能な上カップ４ａと、上カップ４ａの下方
に固定された下カップ４ｂとを備える。下カップ４ｂの
下部には現像装置の上方からカップ４内に下降される清
浄な空気の下降流（ダウンフロー）を排気するための排
気口４ｃが設けられている。

【００３５】図３は図２中のＸ−Ｘ線断面図であり、図
４は図１の現像装置の回転式保持ピンの分解斜視図であ
る。

【００３６】図３および図４において、回転式保持ピン
１５は、棒状のピン部材１６、ほぼ円柱状のピン支持部
１７、取り付け部材１８および磁石収納部２１を備え
る。ピン部材１６は、ピン支持部１７の上面にピン支持
部１７の中心に対して偏心して設けられている。

【００３７】ピン支持部１７は、蓋状部１７ａと、後述
する取り付け部材１８のベアリング２０内に挿入される
挿入部１７ｂと、磁石収納部２１に連結される連結部１
７ｃとを備える。

【００３８】磁石収納部２１は、棒状の永久磁石２２を
収納する収納部２１ａと、ピン支持部１７の連結部１７
ｃに図３のねじ２５によって固定される連結部２１ｂと
を備える。

【００３９】取り付け部材１８は、スピンベース１１に
固定される固定部１８ａと、スピンベース１１の取り付
け孔に挿入される円筒状の挿入部１８ｂと、スピンベー
ス１１の上方に突出する円筒状の突出部１８ｃとを有す
る。挿入部１８ｂおよび突出部１８ｃの内側には、ベア
リング２０が収納されており、また、そのベアリング２
０の脱落を防止するベアリング支持部材２４が挿入され
ている（図３参照）。

【００４０】取り付け部材１８の固定部１８ａには、一
対の取り付け孔１９が形成されており、ねじ（図示せ
ず）を取り付け孔１９に挿入することにより固定部１８
ａがスピンベース１１に固定される。取り付け部材１８
の突出部１８ｃはスピンベース１１の上面から上方に突
出する。取り付け部材１８の突出部１８ｃの内側に挿入
されたベアリング２０内にはピン支持部１７の挿入部１
７ｂが挿入される。また、ベアリング２０内には取り付
け部材１８の下端側から磁石収納部２１の連結部２１ｂ
が挿入され、図３のねじ２５によりピン支持部１７と磁
石収納部２１とが連結される。これにより、ピン支持部
１７および磁石収納部２１が一体化され、ベアリング２
０により回動可能にスピンベース１１に支持される。

【００４１】回転式保持ピン１５がスピンベース１１に
取り付けられた状態では、ピン支持部１７の蓋状部１７
ａが取り付け部材１８の突出部１８ｃの上端面および外
周面を一定の隙間を介して覆っている。これにより、ピ
ン支持部１７の外部から取り付け部材１８内のベアリン
グ２０に達する隙間が上下方向に蛇行し、外部からベア
リング２０内に現像液が浸入することが困難となる。

【００４２】また、図３に示すように、取り付け部材１
８の下面と磁石収納部２１の収納部２１ａおよび連結部
２１ｂの表面との間には、その構造上、隙間Ａが生じ
る。このため、基板Ｗからスピンベース１１上に流下し
た現像液の一部が磁石収納部２１に流れ落ちると、隙間
Ａを通ってベアリング２０に浸入するおそれがある。

【００４３】そこで、スピンベース１１の外周部には円
環状の外周カバー部材２６が設けられている。外周カバ
ー部材２６は、スピンベース１１の外周部から下方に延
びており、複数の回転式保持ピン１５の外方を取り囲ん
でいる。

【００４４】スピンベース１１に流下した現像液は、外
周カバー部材２６の外表面を伝って下方に流れ落ちる。
したがって、ベアリング２０に現像液が浸入することが
防止される。

【００４５】本実施例においては、スピンベース１１が
回転部材に相当し、モータ３が駆動手段に相当し、回転
式保持ピン１５が保持部材に相当し、現像ノズル１０が
処理液供給手段に相当する。また、回転式保持ピン１５
におけるベアリング２０が軸受に相当し、ピン支持部１
７が支持部に相当し、ピン部材１６が保持部に相当し、
外周カバー部材２６が周壁部に相当する。さらに、取り
付け部材１８が軸受収納部に相当し、突出部１８ｃが環
状壁部に相当し、蓋状部１７ａが蓋状部に相当する。

【００４６】次に、上記構造を有する現像装置における
現像処理時の動作について説明する。この現像装置にお
いては、上方から清浄なダウンフローがカップ４の内外
に供給されつつ現像処理が行われる。現像処理では、現
像液供給、現像液保持、純水洗浄および乾燥の各工程が
順に行われる。

【００４７】まず、基板Ｗが基板保持部１の支持ピン１
４上に載置される。次に、環状磁石６が上昇して複数の
回転式保持ピン１５が基板Ｗを水平方向に保持する。

【００４８】現像液供給工程では、モータ３により基板
保持部１が低速で回転駆動された状態で、現像ノズル１
０から基板Ｗ上に現像液が吐出される。吐出された現像
液は基板Ｗの全面に均一に塗り広げられる。

【００４９】現像ノズル１０からは比較的多量の現像液
が吐出される。このため、現像液の一部は回転式保持ピ
ン１５を伝わり、あるいは直接環状支持部１３の上面外
周部に流れ落ちる。さらに、現像液は、環状支持部１３
の上面外周部から外周カバー部材２６の外表面を伝って
カップ４内の下方に流れ落ちる。

【００５０】また、回転式保持ピン１５のピン支持部１
７の上面に流れ落ちた現像液は、ピン支持部１７の蓋状
部１７ａに沿って切欠部１３ｂ内のスピンベース１１表
面に流れ落ち、さらに外周カバー部材２６の外表面を伝
って下方へ流れ落ちる。

【００５１】これにより、現像液が取り付け部材１８内
のベアリング２０に浸入することが防止される。

【００５２】現像液保持工程では、基板保持部１の回転
が停止されるとともに、環状磁石６が下降して回転式保
持ピン１５が開放状態となる。この状態で、現像液が基
板Ｗ上に一定時間静止保持される。これにより、基板Ｗ
上の感光性膜の現像が進行する。この場合にも、基板Ｗ
の外周部から現像液が流れ落ちると、その現像液は外周
カバー部材２６の外表面に沿ってカップ４の下方に流し
去られる。

【００５３】洗浄工程では、環状磁石６が再び上昇して
回転式保持ピン１５が基板Ｗを水平方向に保持する。そ
して、モータ３により基板保持部１が回転駆動され、基
板Ｗが所定の速度で回転する。この洗浄工程では、純水
供給ノズル（図示せず）から基板Ｗ上に純水が吐出され
て基板Ｗの表面が洗浄されるとともにバックリンスノズ
ル９（図２参照）からリンス液（純水）が吐出されて基
板Ｗの裏面が洗浄される。

【００５４】基板Ｗの表面および裏面の洗浄処理が終了
すると、乾燥工程に移行する。乾燥工程では、モータ３
の回転数が高められ、基板Ｗが高速で回転する。これに
より、基板Ｗの表面に供給された純水が外方に振り切ら
れ、基板Ｗの表面が乾燥する。

【００５５】このように、本実施例の現像装置では、ス
ピンベース１１の外周部の下面側に外周カバー部材２６
が設けられているので、スピンベース１１の下面側に現
像液が回り込むことが阻止される。それにより、ベアリ
ング２０に現像液が浸入して回転式保持ピン１５の動き
が損なわれることが防止される。また、ベアリング２０
に浸入した現像液が固化することによるパーティクルの
発生が防止される。

【００５６】図５は本発明の第２の実施例による回転式
の現像装置の断面図であり、図６は図５の現像装置の平
面図である。また、図７は図６中のＹ−Ｙ線断面図であ
り、図８は図５の現像装置の回転式保持ピンの分解斜視
図である。

【００５７】図５の現像装置においては、図１の現像装
置の外周カバー部材２６の代わりに各取り付け部材１８
に軸受カバー部１８ｄが設けられている。図５の現像装
置の他の部分の構成は、図１の現像装置の構成と同様で
ある。本実施例においては、取り付け部材１８の軸受カ
バー部１８ｄが遮蔽部に相当する。

【００５８】図７および図８において、取り付け部材１
８の下面には、軸受カバー部１８ｄが設けられている。
軸受カバー部１８ｄは取り付け部材１８の固定部１８ａ
の下面から下方に延び、磁石収納部２１の外側のほぼ半
分を覆う半円筒状に形成されている。

【００５９】基板Ｗからスピンベース１１に流下した現
像液は、さらに取り付け部材１８の軸受カバー部１８ｄ
の外表面を伝ってカップ４の下方に流れ落ちる。それに
より、現像液が取り付け部材１８の下面と磁石収納部２
１の表面との間の隙間Ａを通ってベアリング２０に浸入
することが防止される。

【００６０】したがって、ベアリング２０への現像液の
浸入により回転式保持ピン１５の動きが損なわれること
が防止される。また、ベアリング２０に浸入した現像液
が固化することによるパーティクルの発生が防止され
る。

【００６１】なお、軸受カバー部１８ｄは、磁石収納部
２１を駆動する環状磁石６が磁石収納部２１内の永久磁
石２２に近接できるように、半円筒状に形成することが
好ましい。しかし、環状磁石６が磁石収納部２１内の永
久磁石２２に十分に磁力を及ぼすことができる場合に
は、軸受カバー部１８ｄを磁石収納部２１の周囲を取り
囲む円筒状に形成してもよい。

【００６２】なお、上記実施例の現像装置では、複数の
保持部材として回転式保持ピン１５を用いているが、複
数の保持部材の少なくとも１つとして回転式保持ピン１
５を用い、残りの保持部材として固定式保持ピンを用い
てもよい。

【００６３】なお、本発明は、上記実施例のように現像
液を供給する現像装置のみならず、他の処理液を基板に
供給する他の基板処理装置に適用することもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施例による回転式の現像装置
の断面図である。

【図２】図１の現像装置の平面図である。

【図３】図２中のＸ−Ｘ線断面図である。

【図４】図１の現像装置の回転式保持ピンの分解斜視図
である。

【図５】本発明の第２の実施例による回転式の現像装置
の断面図である。

【図６】図５の現像装置の平面図である。

【図７】図６中のＹ−Ｙ線断面図である。

【図８】図５の現像装置の回転式保持ピンの分解斜視図
である。

【図９】従来の現像装置の断面図である。

【符号の説明】

１ 基板保持部 １１ スピンベース １２ 取り付け部材 １３ 環状支持部 １５ 回転式保持ピン １６ ピン部材 １７ ピン支持部 １７ａ 蓋状部 １７ｂ 挿入部 １７ｃ 連結部 １８ 取り付け部材 １８ａ 固定部 １８ｂ 挿入部 １８ｃ 突出部 １８ｄ 軸受カバー部 ２０ ベアリング ２１ 磁石収納部 ２１ａ 収納部 ２１ｂ 連結部 ２２ 永久磁石 ２６ 外周カバー部材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−323274（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−222512（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−141478（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/027 G03F 7/30 501

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に処理液を供給して基板に所定の
   処理を行う基板処理装置であって、 基板の外径よりも大きな径を有する回転部材と、 前記回転部材を回転駆動する駆動手段と、 基板の外周部に沿うように前記回転部材に設けられ、基
   板の外周端部に当接して基板を保持する複数の保持部材
   と、 前記複数の保持部材により保持された基板上に処理液を
   供給する処理液供給手段とを備え、 前記複数の保持部材のうち少なくとも１つの保持部材
   は、 前記回転部材を上下に貫通するように設けられた軸受
   と、 前記軸受により前記回転部材上に回動自在に設けられた
   支持部と、 前記支持部の回動に伴って基板の外周端部に当接するよ
   うに前記支持部に設けられた保持部とを備え、 前記回転部材は、前記回転部材の外周部から下方に延び
   る周壁部を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 前記少なくとも１つの保持部材は、前記
   回転部材の上面側に突出する環状壁部を有しかつ前記軸
   受を収納する軸受収納部をさらに備え、 前記支持部は、前記軸受収納部の前記環状周壁の上部か
   ら外側を一定の隙間を介して取り囲む蓋状部を有するこ
   とを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
3. 【請求項３】 基板上に処理液を供給して基板に所定の
   処理を行う基板処理装置であって、 基板の外径よりも大きな径を有する回転部材と、 前記回転部材を回転駆動する駆動手段と、 基板の外周部に沿うように前記回転部材に設けられ、基
   板の外周端部に当接して基板を保持する複数の保持部材
   と、 前記複数の保持部材により保持された基板上に処理液を
   供給する処理液供給手段とを備え、 前記複数の保持部材のうち少なくとも１つの保持部材
   は、 前記回転部材を上下に貫通するように設けられた軸受
   と、 前記軸受により前記回転部材上に回動自在に設けられた
   支持部と、 前記支持部の回動に伴って基板の外周端部に当接するよ
   うに前記支持部に設けられた保持部と、 前記回転部材の下面側かつ外周部側で前記軸受の外側を
   遮蔽する遮蔽部とを備えたことを特徴とする基板処理装
   置。
4. 【請求項４】 前記少なくとも１つの保持部材は、前記
   回転部材の上面側に突出する環状壁部を有しかつ前記軸
   受を収納する軸受収納部をさらに備え、 前記支持部は、前記軸受収納部の前記環状壁部の上部か
   ら外側を一定の隙間を介して取り囲む蓋状部を有するこ
   とを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。