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JP3505827B2 - Dicing method - Google Patents
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JP3505827B2 - Dicing method - Google Patents

Dicing method

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JP3505827B2 JP32797294A JP32797294A JP3505827B2 JP 3505827 B2 JP3505827 B2 JP 3505827B2 JP 32797294 A JP32797294 A JP 32797294A JP 32797294 A JP32797294 A JP 32797294A JP 3505827 B2 JP3505827 B2 JP 3505827B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、シリコンウェハーに形
成されたICチップのダイシング(dicing)方法
に係り、中でもライン型イメージセンサーチップのよう
な小幅長尺チップのダイシング方法に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dicing method for IC chips formed on a silicon wafer, and more particularly to a dicing method for narrow and long chips such as line image sensor chips.

【0002】[0002]

【従来の技術】通常、シリコンウェハー6周辺部断面
は、周辺部から発生するシリコン屑の付着によるICパ
ターンニング歩留り低下を防止するために、図3に示す
ようになっている。
2. Description of the Related Art Generally, a cross section of a peripheral portion of a silicon wafer 6 is as shown in FIG. 3 in order to prevent a decrease in IC patterning yield due to adhesion of silicon debris generated from the peripheral portion.

【0003】このため、ダイシング中にシリコンウェハ
ー6周辺部とダイシングテープの間に切削水等が侵入
し、その水圧によって周辺部シリコン片がダイシングテ
ープから剥がれ、飛散する。
Therefore, during dicing, cutting water or the like enters between the peripheral portion of the silicon wafer 6 and the dicing tape, and the water pressure causes the peripheral silicon pieces to be peeled off from the dicing tape and scattered.

【0004】特に、ライン型イメージセンサーチップの
ような小幅長尺チップの場合、シリコンウェハー6の周
辺部シリコン片5はコンマ数ミリ角となるため飛散数が
多くなる。飛散した周辺部シリコン片5は、シリコンウ
ェハー6上のいたる所に傷を付け、不良チップを多数発
生させる。
In particular, in the case of a small width and long chip such as a line type image sensor chip, the peripheral silicon piece 5 of the silicon wafer 6 has a comma number of millimeters square, and thus the scattering number increases. The scattered peripheral silicon pieces 5 scratch everywhere on the silicon wafer 6 and generate many defective chips.

【0005】図4にこの様子を簡単に示す。図4におい
て、1はダイシングのカットライン、2はダイシングテ
ープである。ダイシングブレード3は図中矢印の向きに
20,000〜50,000rpm で回転しながら、左か
ら右に進行している。
This state is briefly shown in FIG. In FIG. 4, 1 is a dicing cut line and 2 is a dicing tape. The dicing blade 3 advances from left to right while rotating at 20,000 to 50,000 rpm in the direction of the arrow in the figure.

【0006】切削水等はダイシングブレード3の遠心力
を受け、強力な勢いで周辺部シリコン片5とダイシング
テープ2の隙間に侵入する。この際、周辺部シリコン片
5に剥離方向への力が加わり、ダイシングテープ2との
接触面積が小さいものは飛散する。飛散した周辺部シリ
コン片5は、シリコンウェハー6上に傷をつける。
Cutting water or the like receives the centrifugal force of the dicing blade 3 and enters the gap between the peripheral silicon piece 5 and the dicing tape 2 with a strong force. At this time, a force in the peeling direction is applied to the peripheral silicon pieces 5, and those having a small contact area with the dicing tape 2 scatter. The scattered peripheral silicon pieces 5 scratch the silicon wafer 6.

【0007】従来、この解決策として実施されているダ
イシング方法の概略を図5に示すが、この方法は図3の
厚みと対比すれば分かるように、ダイシング前にシリコ
ンウェハー6裏面を厚みが約半分になるまでラッピング
し、ダイシング中の切削水侵入を防止するものである。
FIG. 5 shows an outline of a dicing method conventionally implemented as a solution to this problem. As can be seen by comparing this method with the thickness in FIG. Lapping is performed until it is halved to prevent cutting water from entering during dicing.

【0008】しかしこの従来例では、この場合、ウェハ
ーラッピング(wafer lapping)にコスト
が掛かる。しかも、チップ厚が薄くなるため、後工程の
ダイマウントで、チップクラックが発生し易く、ダイ接
着剤がチップ表面まで這い上がる等の課題がある(以
下、これらを総称して『従来例』という)。
However, in this conventional example, in this case, the wafer lapping is costly. Moreover, since the chip thickness becomes thinner, chip cracks are likely to occur in the die mount in the subsequent process, and the die adhesive may crawl up to the chip surface (hereinafter, these are collectively referred to as "conventional examples"). ).

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ここにおいて本発明
は、これらの課題を解決しようとするもので、低コスト
で、後工程に何ら支障を来さず、確実に周辺部飛散によ
るチップ傷不良を防止するダイシング方法を提供するこ
とを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION Here, the present invention is intended to solve these problems, and is low in cost, does not hinder the post-process, and reliably causes chip damage defects due to scattering of the peripheral portion. An object is to provide a dicing method for preventing.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、本発明は、切削水を供給してダイシングブレードに
よってウェハーのダイシングを行うダイシング方法であ
って、ダイシングブレードの侵入方向におけるウェハー
の先端周辺部の上面とダイシングテープ上面との間に保
護テープを貼り、切削水の侵入を防止するダイシング方
法である。また好ましくは保護テープ材質がポリオレフ
ィンであるダイシング方法である。さらにまた好ましく
は保護テープの表面に弾性体を介してローラーで押圧し
ながらそのローラーを回転させ、ウェハーの上面に保護
テープを貼付させるダイシング方法である。
To achieve this object, the present invention provides a dicing blade by supplying cutting water.
Therefore, it is a dicing method for dicing a wafer.
The wafer in the dicing blade penetration direction
Keep it between the upper surface around the tip of the
Dicing method with protective tape to prevent cutting water from entering
Is the law. Further , a dicing method in which the protective tape material is polyolefin is preferable . Still more preferably, it is a dicing method in which the roller is rotated while pressing it against the surface of the protective tape via an elastic body, and the protective tape is attached to the upper surface of the wafer.

【0011】[0011]

【作用】本発明は、上記のように構成したことにより、
低コストで確実にシリコン片飛散を防止できると共に、
ウェハーラッピングの必要がないので、ダイマウント時
に全く支障が生じず、製品の歩留りが飛躍的に向上す
る。
The present invention has the above-mentioned configuration,
It is possible to reliably prevent silicon fragments from scattering at low cost,
Since there is no need for wafer wrapping, no problems occur at the time of die mounting, resulting in a dramatic improvement in product yield.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の実施例について、図面を参照
しながら説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0013】図1は、本発明の一実施例におけるダイシ
ング方法の概略を示す側断面図である。
FIG. 1 is a side sectional view showing an outline of a dicing method in one embodiment of the present invention.

【0014】図1おいて、1はダイシングのカットライ
ン、2はダイシングテープである。ダイシングブレード
3は、図中矢印の向きに20,000〜50,000rp
m で回転しながら、左から右に進行している。
In FIG. 1, 1 is a dicing cut line and 2 is a dicing tape. The dicing blade 3 is 20,000 to 50,000 rp in the direction of the arrow in the figure.
Rotating from m, proceeding from left to right.

【0015】4はポリオレフィン系材料を基材とした保
護テープで、周辺部シリコン片5をダイシングテープ2
との間でサンドウイッチするように配されている。
Reference numeral 4 is a protective tape made of a polyolefin material as a base material. The peripheral silicon piece 5 is a dicing tape 2.
It is arranged to sandwich between and.

【0016】切削水等はダイシングブレード3の遠心力
を受け、強力な勢いで周辺部シリコン片5とダイシング
テープ2の隙間に侵入しようとするが、保護テープ4に
よって完全にシャットアウトされる。
Cutting water or the like receives the centrifugal force of the dicing blade 3 and tries to enter the gap between the peripheral silicon piece 5 and the dicing tape 2 with a strong force, but is completely shut out by the protective tape 4.

【0017】これにより、周辺部シリコン片5の飛散は
全く生じなくなる。尚、保護テープ4の基材はポリオレ
フィン系に限るものではなく、また、粘着層の有無は問
わない。
As a result, the peripheral silicon pieces 5 are not scattered at all. The base material of the protective tape 4 is not limited to the polyolefin type, and the presence or absence of the adhesive layer does not matter.

【0018】図2に、本発明の一実施例で使用する保護
テープのマウント装置の側面図を示す。
FIG. 2 is a side view of a protective tape mounting device used in one embodiment of the present invention.

【0019】図2において、6はシリコンウェハーであ
る。シリコンウェハー6は、市販のテープマウンター
(図示せず)により金属製のリング7中にダイシングテ
ープ2(図示せず)を用いて保持されている。
In FIG. 2, 6 is a silicon wafer. The silicon wafer 6 is held by a dicing tape 2 (not shown) in a metal ring 7 by a commercially available tape mounter (not shown).

【0020】シリコンウェハー6は、この状態でステー
ジ8上に設置される。この際、シリコンウェハー6の位
置決めはリング7に設けられた位置決め穴9a,9bと
ステージ8に設けられた位置決めピン10a,10bに
よってなされる。
The silicon wafer 6 is placed on the stage 8 in this state. At this time, the silicon wafer 6 is positioned by the positioning holes 9a and 9b provided on the ring 7 and the positioning pins 10a and 10b provided on the stage 8.

【0021】ここで、特に位置精度が要求される場合
は、パターン認識ユニットを使い(図示せず)、ステー
ジ8にXY軸および回転方向の駆動系を取り付けること
も可能である。
Here, if positional accuracy is particularly required, it is possible to use a pattern recognition unit (not shown) and attach a drive system in the XY axes and the rotational direction to the stage 8.

【0022】位置決めがなされたシリコンウェハー6
は、ステージ8に多数設けられた吸着孔11を介して、
真空吸着され固定される。保護テープ4はリール状で装
置内に供給されており、チャック12a,12bにより
保持されている。13は保護テープ4を貼り付けるため
の樹脂製のローラーであり、対象ワークに合わせたサイ
ズに加工されている。
Positioned silicon wafer 6
Through the suction holes 11 provided on the stage 8 in large numbers,
It is vacuum-adsorbed and fixed. The protective tape 4 is supplied in a reel form inside the apparatus, and is held by the chucks 12a and 12b. Reference numeral 13 denotes a resin roller for attaching the protective tape 4, which is processed into a size suitable for the target work.

【0023】また、ローラー13はチャック12aと1
2bの間で必要ストローク分駆動する。ローラー13が
駆動する際、保護テープ4を介してダイシングテープ2
を押す方向に一定荷重が加わるよう、スプリング14等
が取り付けられており、保護テープ4はダイシングテー
プ2の粘着力により、所定位置に貼り付けられる。15
はカッターであり、ローラー13とチャック12a間で
保護テープ4をカットする。
Further, the roller 13 includes the chucks 12a and 1a.
Drive the required stroke between 2b. When the roller 13 is driven, the dicing tape 2 is passed through the protective tape 4
A spring 14 or the like is attached so that a constant load is applied in the pushing direction, and the protective tape 4 is attached to a predetermined position by the adhesive force of the dicing tape 2. 15
Is a cutter, which cuts the protective tape 4 between the roller 13 and the chuck 12a.

【0024】保護テープ4の供給およびローラー13に
よる貼り付け動作について、概略を説明する。ローラー
13は始め原点位置Aにある。この状態でチャック12
bがチャック12aの位置まで駆動して、保護テープ4
の端部を保持する。次にチャック12aが開放状態とな
り、チャック12bは保護テープ4を引き出しながら、
図2に示す位置まで移動する。
The supply of the protective tape 4 and the sticking operation by the roller 13 will be briefly described. The roller 13 is at the origin position A at the beginning. Chuck 12 in this state
b is driven to the position of the chuck 12a, and the protective tape 4
Hold the end of. Next, the chuck 12a is opened, and the chuck 12b pulls out the protective tape 4,
Move to the position shown in FIG.

【0025】移動完了後、ローラー13が貼付開始位置
Bまで降下し、チャック12aが閉じる。この状態でカ
ッター15がスライドして保護テープ4を切断する。切
断後ローラー13は保護テープ4を貼り付けながら、図
中右から左へ移動する。ローラー13が所定ストローク
長の約80%に達した時点でチャック12bは開放され
る。ローラー13は更に所定ストロークになるまで移動
した後、同じ道程を戻って原点位置Aに帰る。その後ス
テージ8が下降しワークが排出される。
After the movement is completed, the roller 13 descends to the sticking start position B and the chuck 12a is closed. In this state, the cutter 15 slides to cut the protective tape 4. After cutting, the roller 13 moves from right to left in the figure while attaching the protective tape 4. When the roller 13 reaches about 80% of the predetermined stroke length, the chuck 12b is released. The roller 13 further moves until reaching a predetermined stroke, then returns on the same path and returns to the origin position A. After that, the stage 8 descends and the work is discharged.

【0026】次に、本発明の第1の実験例について説明
する。上記の本発明の先の一実施例の方法でダイシング
を行い、ウェハー周辺部の飛散シリコン片およびウェハ
ー上に発生した傷の数をカウントした。試験には6イン
チシリコンウェハー(厚み680μm)を用い、縦8m
m/横0.4mmピッチでダイシングを行った。また、
保護テープ4として、粘着層を有しないポリオレフィン
系のテープを使用した。比較例1aとして保護テープ4
を使用しない以外は全て一実施例と同様の試験を行っ
た。比較例1bとして厚みを半分(350μm)にラッ
ピングしたシリコンウェハー6を用い、保護テープ4を
使用せずに一実施例と同様の試験を行った。これら一実
施例および比較例1a,1bの結果を(表1)に示す。
Next, a first experimental example of the present invention will be described. Dicing was performed by the method of the above-described first embodiment of the present invention, and the number of scattered silicon pieces around the wafer and the number of scratches generated on the wafer were counted. For the test, a 6-inch silicon wafer (thickness: 680 μm) was used and the length was 8 m.
Dicing was performed at a pitch of m / width of 0.4 mm. Also,
As the protective tape 4, a polyolefin tape having no adhesive layer was used. Protective tape 4 as Comparative Example 1a
A test similar to that of one example was performed except that was not used. As Comparative Example 1b, a silicon wafer 6 lapped to a half thickness (350 μm) was used, and the same test as that of the example was performed without using the protective tape 4. The results of these Examples and Comparative Examples 1a and 1b are shown in (Table 1).

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】(表1)から分かるように、本発明の保護
テープ4を使用したダイシング方法は、従来例に比べ大
幅に飛散シリコン片数が減少し、その結果シリコンウェ
ハー6の傷発生率が激減される。その降下は、ラッピン
グ処理品と同レベルである。
As can be seen from Table 1, the dicing method using the protective tape 4 of the present invention greatly reduces the number of scattered silicon pieces as compared with the conventional example, and as a result, the scratch occurrence rate of the silicon wafer 6 is drastically reduced. To be done. The drop is at the same level as the lapping processed product.

【0029】さらに、本発明の第2の実験例について言
及する。先の第1の実験例でダイシングしたシリコンウ
ェハー6を使用し、ダイマウント後の電気的不良率を測
定した。比較例2a,2bとして比較例1a,1bでの
ダイシングしたシリコンウェハー6を使用し、第1の実
験例と同様の試験を行った。その結果を(表2)に示
す。
Further, a second experimental example of the present invention will be mentioned. Using the silicon wafer 6 diced in the first experimental example, the electrical defect rate after die mounting was measured. As the comparative examples 2a and 2b, the dicing silicon wafer 6 of the comparative examples 1a and 1b was used, and the same test as the first experimental example was performed. The results are shown in (Table 2).

【0030】[0030]

【表2】 [Table 2]

【0031】(表2)にから分かるように、本発明のダ
イシング方法は、従来例(比較例2a)に比べ、シリコ
ンウェハー6傷による電気的不良が大幅に減少してい
る。また、従来例のラッピングしたシリコンウェハー6
(比較例2b)に比べ、チップクラック,ダイ接着剤這
い上がりによる不良も大幅に低下している。
As can be seen from (Table 2), the dicing method of the present invention significantly reduces electrical defects due to flaws on the silicon wafer 6 as compared with the conventional example (Comparative Example 2a). In addition, a conventional wrapped silicon wafer 6
Compared to (Comparative Example 2b), chip cracks and defects due to creeping up of the die adhesive were also significantly reduced.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のダイシング方法は、ダイシング工程中に飛散し易いウ
ェハー周辺部に、予め保護テープを貼り付けると言う簡
単な処理を行うことにより、周辺部シリコン片飛散を確
実に防止でき、ウェハー不良を大幅に低減可能という特
段の効果を奏することができる。
As is apparent from the above description, the dicing method according to the present invention allows the peripheral portion of the wafer, which easily scatters during the dicing process, to be subjected to a simple process of attaching a protective tape in advance. Partial scattering of silicon fragments can be reliably prevented, and a particular effect of significantly reducing wafer defects can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例におけるダイシング方法の概
略を示す側断面図
FIG. 1 is a side sectional view showing an outline of a dicing method according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例で使用する保護テープのマウ
ント装置の側面図
FIG. 2 is a side view of a protective tape mounting device used in an embodiment of the present invention.

【図3】シリコンウェハーの周辺部の概略的側断面図FIG. 3 is a schematic side sectional view of a peripheral portion of a silicon wafer.

【図4】シリコンウェハーの周辺部のシリコン片飛散の
原理を簡単に説明した模式図
FIG. 4 is a schematic diagram briefly explaining the principle of scattering of silicon fragments in the peripheral portion of a silicon wafer.

【図5】従来例(ラッピング済)のシリコンウェハーの
概略を表す側断面図
FIG. 5 is a side sectional view showing an outline of a conventional (lapped) silicon wafer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ダイシングのカットライン 2 ダイシングテープ 3 ダイシングブレード 4 保護テープ 5 周辺部シリコン 6 シリコンウェハー 7 リング 8 ステージ 9a,9b 位置決め穴 10a,10b 位置決めピン 11 吸着孔 12a,12b チャック 13 ローラー 14 スプリング 15 カッター 1 Dicing cut line 2 dicing tape 3 dicing blade 4 protective tape 5 Peripheral silicon 6 Silicon wafer 7 ring 8 stages 9a, 9b Positioning hole 10a, 10b Positioning pin 11 Adsorption hole 12a, 12b chuck 13 roller 14 spring 15 cutter

フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/301 Continuation of front page (58) Fields surveyed (Int.Cl. 7 , DB name) H01L 21/301

Claims (3)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 切削水を供給してダイシングブレードに
よってウェハーのダイシングを行うダイシング方法であ
って、前記ダイシングブレードの侵入方向における前記
ウェハーの先端周辺部の上面と前記ダイシングテープ上
面との間に保護テープを貼り、前記切削水の侵入を防止
することを特徴とするダイシング方法。
1. A dicing blade by supplying cutting water.
Therefore, dicing method der to perform the dicing of the wafer
Therefore, in the intrusion direction of the dicing blade
The upper surface of the periphery of the wafer tip and the dicing tape
A protective tape is stuck between the surface and the cutting water to prevent it from entering
A dicing method comprising:
【請求項2】 前記保護テープ材質がポリオレフィンで
あることを特徴とする請求項1記載のダイシング方法。
2. The dicing method according to claim 1, wherein the protective tape material is polyolefin.
【請求項3】 前記保護テープの表面に弾性体を介して
ローラーで押圧しながらそのローラーを回転させ、前記
ウェハーの上面に前記保護テープを貼付させることを特
徴とする請求項1または2に記載のダイシング方法。
3. Rotate the roller while pressing a roller through the elastic member on the surface of the protective tape, according to claim 1 or 2, characterized in that for sticking the protective tape on the upper surface of the wafer Dicing method.
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