JP3512764B2 - Surface treatment equipment - Google Patents
Surface treatment equipmentInfo
- Publication number
- JP3512764B2 JP3512764B2 JP2001198070A JP2001198070A JP3512764B2 JP 3512764 B2 JP3512764 B2 JP 3512764B2 JP 2001198070 A JP2001198070 A JP 2001198070A JP 2001198070 A JP2001198070 A JP 2001198070A JP 3512764 B2 JP3512764 B2 JP 3512764B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rail
- jig
- intermittent
- level
- transport
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 title claims description 14
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 32
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 28
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 claims description 20
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 17
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 103
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 37
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 25
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 23
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 8
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 7
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 6
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 5
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 4
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 4
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 101100321304 Bacillus subtilis (strain 168) yxdM gene Proteins 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 241001655798 Taku Species 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数のバッチ式前
処理槽群,連続処理槽および複数のバッチ式後処理槽群
がこの順でワーク搬送方向に配設された表面処理装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】図4(A),(B)において、表面処理
装置10Pは、バッチ式前処理槽群10F,連続処理槽
10Cおよびバッチ式後処理槽群10Bをこの順でワー
ク搬送(X)方向に配設した構成である。
【0003】ここに、ワークは、複数のバッチ式前処理
槽からなる前処理槽群10Fの手前(左側)に配設され
たロード位置LDにおいてかつ冶具を介して前処理用間
欠搬送手段に取付けられる。
【0004】この前処理用間欠搬送手段は、プッシャー
機構等を含み、前処理用昇降手段によって前処理用間欠
搬送ガイドレール33LDが側面図を表す図4(A)に
点線で示した上昇位置にある状態において、ワークを当
該冶具ごと前処理用間欠搬送ガイドレール33LDに沿
って各1ピッチだけX方向に間欠(タクト)搬送するこ
とができる。
【0005】搬送後に、前処理用昇降手段が働き、前処
理用間欠搬送ガイドレール33LDを実線で示す位置に
下降させることで、各ワークを次の当該各前処理槽(1
0F)内に浸漬させることができる。
【0006】連続搬送手段は、搬送コンベヤ機構等を含
み、下降位置にある前処理用間欠搬送ガイドレール33
LDから前処理終了後のワークを引受けつつ連続搬送ガ
イドレール33Cに沿って連続搬送する。この連続搬送
中に連続処理(例えば、めっき連続処理)を実行でき
る。
【0007】連続処理終了後のワークは、バッチ式後処
理槽群10Bの最初の後処理槽において、連続搬送ガイ
ドレール33Cから後処理用間欠搬送ガイドレール33
UDに引渡される。
【0008】すなわち、後処理用間欠搬送手段は、プッ
シャー機構等を含み、後処理用昇降手段によって後処理
用間欠搬送ガイドレール33UDが点線で示す上昇位置
にある状態において、ワークを当該冶具ごと後処理用間
欠搬送ガイドレール33UDに沿って各1ピッチだけ搬
送方向に間欠(タクト)搬送することができる。
【0009】搬送後に、後処理用昇降手段が働き、後処
理用間欠搬送ガイドレール33UDを実線で示す状態に
下降させることで、各ワークを次の当該各後処理槽(1
0B)内に浸漬させることができる。後処理終了後のワ
ークは、最右に配設されたアンロード位置UDにおいて
冶具から取り外される。
【0010】このアンロード位置UDにおいて表面処理
終了後のワークが取外された冶具は、再びロード位置L
Dに戻さなければならない。このために、平面図を表す
図4(B)に示す如く、アンロード位置UDに配設され
た下流側方向反転戻し搬送手段40UDP,方向反転後
の冶具を戻し搬送(Xr)方向に戻し搬送する戻し搬送
手段30BRPおよびロード位置LDに配設された上流
側方向反転戻し搬送手段40LDPを設け、冶具を戻し
搬送軌跡Rに沿ってロード位置LDへ戻し搬送すること
で、繰り返し使用可能に形成されている。つまり、冶具
の繰り返し使用により、ワークの表面処理をエンドレス
で連続的に行えるわけである。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記した従
来表面処理装置10Pでは、下流側方向反転戻し搬送手
段40UDP,戻し搬送手段30BRPおよび上流側方
向反転戻し搬送手段40LDPが、図4(B)に示すよ
うに、前処理用間欠搬送ガイドレール33LDおよび前
処理用間欠搬送手段,連続搬送ガイドレール33Cおよ
び連続搬送手段並びに後処理用間欠搬送ガイドレール3
3UDおよび後処理用間欠搬送手段と平面上に並行配設
されているので、平面的設置スペースが大きい。
【0012】つまり、小さなワーク(例えば、プリント
配線基板)に比較すれば、工場敷地(建屋)面積が非常
に大きく、装置のみならず建屋コスト高となっていると
の指摘が強い。さらに、各処理槽の平面的で一方側が戻
し搬送手段30BRP等によって占領されてしまうの
で、取扱性が悪く作業能率を低下させるばかりか危険性
も伴うという問題もある。
【0013】本発明の目的は、平面的な設置スペースを
大幅に縮小化できかつ表面処理を連続的に行える表面処
理装置を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明は、バッチ式前処
理槽群,連続処理槽およびバッチ式後処理槽群をこの順
でワーク搬送方向に配設し、連続処理槽の上方である第
1階層に固定配設された連続搬送レールを有しかつ冶具
に保持されたワークを連続搬送可能な連続搬送手段と,
前処理槽群の上方である第1階層とこの第1階層よりも
さらに上方である第2階層との間を昇降可能な前置間欠
搬送レールを有しかつ前置間欠搬送レールが第2階層に
位置決めされた状態において冶具に保持されたワークを
間欠搬送可能な前置間欠搬送手段と,後処理槽群の上方
である第1階層とこの第1階層よりもさらに上方である
第2階層との間を昇降可能な後置間欠搬送レールを有し
かつ後置間欠搬送レールが第2階層に位置決めされた状
態において冶具に保持されたワークを間欠搬送可能な後
置間欠搬送手段と,前置間欠搬送レールおよび後置間欠
搬送レールよりもさらに上方である第3階層に固定配設
された冶具戻し搬送レールを有しかつワーク搬送方向の
下流側で受取った冶具を上流側へ戻し搬送可能な冶具戻
し搬送手段とを設け、さらに、後置間欠搬送レールの下
流側に配設されかつ第1階層に位置決めされた後置間欠
搬送レールから上昇レールに受け渡された冶具を冶具戻
し搬送レールに引渡し可能な位置まで上昇可能な上昇手
段と,前置間欠搬送レールの上流側に配設されかつ冶具
戻し搬送レールから下降レールに受け渡された冶具を第
1階層に位置決めされた前置間欠搬送レールに引渡し可
能な位置まで下降可能な下降手段とが設けられた表面処
理装置である。
【0015】かかる発明では、バッチ式前処理槽群の例
えば手前側のロード位置において、ワークは冶具に保持
され、さらに第1階層に位置決めされた前置間欠搬送レ
ールに冶具ごと引き渡される。
【0016】すると、例えば前処理用昇降手段によっ
て、前置間欠搬送レールは第1階層よりもさらに上方で
ある第2階層に上昇される。すると、前置間欠搬送手段
が、前置間欠搬送レールが第2階層に位置決めされた状
態において、冶具に保持されたワークを前置間欠搬送レ
ールに沿って1ピッチずつ間欠搬送する。
【0017】この間欠搬送後に、例えば前処理用昇降手
段によって、前置間欠搬送レールを第1階層に下降させ
れば、各冶具に保持された各ワークを、当該時の各前処
理槽内に浸漬して当該各前処理を施すことができる。
【0018】前処理終了後のワークは冶具ごと、第1階
層に位置決めされた前置間欠搬送レールから連続処理槽
の上方である第1階層に固定配設された連続搬送レール
に引き渡される。
【0019】ここに、連続搬送手段は、冶具に保持され
たワークを第1階層に固定配設された連続搬送レールに
沿って連続搬送する。つまり、ワークは連続処理槽内で
連続処理される。
【0020】連続処理終了後のワークは冶具ごと、第1
階層に固定配設された連続搬送レールから第1階層に位
置決めされた後置間欠搬送レールに引き渡される。例え
ば後置間欠搬送手段によって、後置間欠搬送レールは第
2階層に上昇される。すると、後置間欠搬送手段は、後
置間欠搬送レールが第2階層に位置決めされた状態にお
いて、冶具に保持されたワークを1ピッチずつ間欠搬送
する。
【0021】この間欠搬送後に、例えば後置間欠搬送手
段が後置間欠搬送レールを第1階層に下降させれば、各
冶具に保持された各ワークを当該時の各後処理槽内に浸
漬して当該各後処理を施すことができる。
【0022】後処理終了後のワークは第1階層に位置決
めされた状態で冶具から取り外され、かつワークが取外
された冶具は上昇レールに引渡される。すると、上昇手
段が、後置間欠搬送レールから上昇レールに受け渡され
た冶具を、当該上昇レールごと後置間欠搬送レールより
もさらに上方である第3階層に固定配設された冶具戻し
搬送レールに引渡し可能な位置まで上昇させる。
【0023】冶具戻し搬送手段は、ワーク搬送方向の下
流側で受取った冶具を第3階層に固定配設された冶具戻
し搬送レールに沿って上流側へ戻し搬送する。引き続
き、下降手段は、冶具戻し搬送レールから下降レールに
受け渡された冶具を、第1階層に位置決めされた前置間
欠搬送レールに引渡し可能な位置まで下降させる。
【0024】前置間欠搬送レールの上流側に配設された
下降レールが第1階層に位置決めされる。そして、第1
階層に位置決めされた冶具に、未処理ワークを取付ける
ことができる。
【0025】したがって、平面的な設置スペースを従来
例の場合に比較して大幅に縮小化できかつ表面処理を連
続的に行える。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して詳細に説明する。
【0027】本表面処理装置10は、図1〜図3に示す
如く、バッチ式前処理槽群(10F2),連続処理槽1
0Cおよびバッチ式後処理槽群10Bをこの順でワーク
搬送(X)方向に配設し、連続処理槽10Cの上方であ
る第1階層F1に固定配設された連続搬送レール33C
を有する連続搬送手段30Cと,第1階層F1とこれよ
りも上方である第2階層F2との間を昇降可能な前置間
欠搬送レール(33F3B)を有しかつ第2階層F2に
位置決めされた状態において冶具20(ワーク)を間欠
搬送可能な前置間欠搬送手段(30F3B)と,第1階
層F1と第2階層F2との間を昇降可能な後置間欠搬送
レール33Rを有しかつ第2階層F2に位置決めされた
状態において冶具20(ワーク)を間欠搬送可能な後置
間欠搬送手段30Rと,さらに上方である第3階層F3
に固定配設された冶具戻し搬送レール33BRを有しか
つX方向の下流側で受取った冶具20を上流側へ戻し搬
送可能な冶具戻し搬送手段30BRとを設け、さらに、
第1階層F1に位置決めされた後置間欠搬送レール33
R(33R1,33R2)から上昇レール(43UD)
に受け渡された冶具20を冶具戻し搬送レール33BR
に引渡し可能な位置まで上昇可能な上昇手段(40U
D)と,冶具戻し搬送レール33BRから下降レール
(43LD)に受け渡された冶具20を第1階層F1に
位置決めされた前置間欠搬送レール(33LD1)に引
渡し可能な位置まで下降可能な下降手段(40LD)と
を設け、冶具20の戻し搬送を含む循環利用を第3階層
F3で行なう3階建構造として形成されている。
【0028】図1において、表面処理槽は、バッチ式前
処理槽群10F,連続処理槽10Cおよびバッチ式後処
理槽群10Bがこの順序でワーク搬送(X)方向に列配
されている。建屋内の1階床面に配設されている。
【0029】バッチ式前処理槽群10Fの上流側(左
側)には冶具20に未処理のワークを取り付けるための
ロード位置LD(第1,第2,第3ロード位置LD1,
LD2,LD3)が設けられ、バッチ式後処理槽群10
Bの下流側(右側)には冶具20から処理済ワークを取
外すためのアンロード位置UD(第1,第2,第3アン
ロード位置UD1,UD2,UD3)が設けられてい
る。
【0030】複数のロード位置LD1,LD2,LD3
のそれぞれでワークを冶具20に取り付けられ、かつ複
数のアンロード位置UD1,UD2,UD3のそれぞれ
で処理済みのワークを冶具20から取り外しできるか
ら、作業能率を向上できる。
【0031】なお、図1中の101はハンガー落下防止
ドア、102はクランパー(アンクランパー)、103
はフィーダー、105はストッパーである。このストッ
パー105とフィーダー103との協働により、冶具戻
し搬送レール33BRの下流側(図で左側)に多数の空
の冶具20を保留することができるから、冶具20の循
環利用を円滑に行なえる。
【0032】なお、前処理槽群10Fは、この実施形態
では、バッチ式第1前処理槽群10F1とバッチ式第2
前処理槽群10F2とから形成されている。両者は一体
的にしてもよいし、さらにその一方だけを設けた構造で
もよい。
【0033】同様に、前置間欠搬送手段30F3は、第
1前置間欠搬送手段30F3Aおよび第2前置間欠搬送
手段30F3Bから形成されている。したがって、本発
明に係る前置間欠搬送手段が第2前置間欠搬送手段30
F3Bで、前置間欠搬送レールが第2前置間欠搬送レー
ル33F3Bであるとして説明する。
【0034】ただし、ロード昇降手段(下降手段)40
LDとの関係では、介在されたロード下限移行手段30
LD1(ロード下限移行レール33LD1),ロード移
行手段30LD2(ロード移行レール33LD2)およ
び第1前置間欠搬送手段30F3A(第1前置間欠搬送
レール33F3A)の関係も含めて乃至代替的に説明す
る。
【0035】バッチ式第1前処理槽群10F1はスプレ
ー水洗槽10F1Aと4連一体の前処理槽10F1B〜
10F1Eから形成され、バッチ式第2前処理槽群10
F2はスプレー水洗,湯洗,酸洗等を含む複数(4つ)
の前処理槽10F2A〜10F2Dから形成されてい
る。
【0036】連続処理槽群10Cは、この実施形態で
は、投入部10C1と連続処理槽10C2と排出部10
C3とからなる一体槽から形成され、X方向に長い連続
処理槽10C2内において連続搬送中のワークにめっき
処理(電解処理)を連続して施すことができる。
【0037】バッチ式後処理槽群10Bは、湯洗,乾燥
等を含む複数(3つ)の後処理槽10B1A〜10B1
Cから形成されている。
【0038】ここにおいて、各処理槽(群)の上方であ
る第1階層F1には、図1で左側から右側に向かって、
ロード昇降レール(下降レール)43LD,ロード下限
移行レール(前置間欠搬送レール)33LD1,ロード
移行レール33LD2,第1前置間欠搬送レール33F
3A,第1前処理出口昇降レール43F2,第2前置間
欠搬送レール(前置間欠搬送レール)33F3B,めっ
き入口昇降レール43CF,連続搬送レール33C,め
っき出口昇降レール43CR,後置間欠搬送レール33
R(第1後置間欠搬送レール33R1,第2後置間欠搬
送レール33R2),アンロード下限移行レール33U
Dおよびアンロード昇降レール(上昇レール)43UD
が設けられている。
【0039】これらレールの中のロード下限移行レール
(前置間欠搬送レール)33LD1,第1前置間欠搬送
レール33F3A,連続搬送レール33Cおよびアンロ
ード下限移行レール33UDは、第1階層F1に固定配
設されている。
【0040】しかし、ロード移行レール33LD2,第
1前処理出口昇降レール43F2,第2前置間欠搬送レ
ール(前置間欠搬送レール)33F3B,めっき入口昇
降レール43CF,めっき出口昇降レール43CRおよ
び後置間欠搬送レール33R(第1後置間欠搬送レール
33R1,第2後置間欠搬送レール33R2)は、第1
階層F1とこれより上方の第2階層F2との間を昇降可
能である。かくして、冶具(ワーク)20の引渡し・引
受けを円滑に行える。
【0041】さらに、ロード昇降レール(下降レール)
43LDおよびアンロード昇降レール(上昇レール)4
3UDは、第1階層F1と第3階層F3(第2階層F2
よりさらに上方)との間を昇降可能である。
【0042】まず、下降手段を形成するロード昇降手段
40LDは、前置間欠搬送レール(33LD1)の上流
側に配設されかつ第3階層F3の冶具戻し搬送レール3
3BRから下降レール(ロード昇降レール43LD)に
引渡された冶具20を、第1階層F1に位置決めされた
前置間欠搬送レール[つまり、ロード下限移行レール3
3LD1(間接的には、第2前置間欠搬送レール33F
3B)]に引渡し可能な位置まで下降(および上昇)す
ることができる。
【0043】ロード下限移行手段30LD1は、ロード
下限移行レール33LD1を含み、空の冶具20をロー
ド昇降レール(下降レール)43LD,ロード下限移行
レール33LD1およびロード移行レール33LD2の
順に間欠移行させることができる。
【0044】このロード下限移行手段30LD1は、ロ
ード移行手段30LD2,第1前置間欠搬送手段30F
3A,第2前置間欠搬送手段30F3B,めっき投入移
行手段30CF,めっき出口移行手段30CR,後置間
欠搬送手段30Rおよびアンロード下限移行手段30U
Dの場合と同様に、一定ストロークをX方向に往復移動
する往復移動部材に一定ピッチ(間隔)を隔てて装着さ
れた複数のアンチバック爪33を有する、いわゆるタク
ト(間欠)搬送機構から形成されている。なお、連続搬
送手段30C(30C1,30C2)については、後記
する。
【0045】各アンチバック爪33は、往復移動部材の
往動時の往動力によって冶具20をX方向に一定ストロ
ークだけ移行可能で、往復移動部材の復動時には復動力
を発揮しないで冶具20を通過可能に形成されている。
往復移動部材は、シリンダ装置やサーボ機構で往復起動
される。往動速度よりも復動速度の方が高速に設定され
ている。
【0046】アンロード返送移行手段30UDRおよび
ロード返送移行手段30LDRは、ロード下限移行手段
30LD1等の場合と同様なタクト(間欠)搬送機構か
ら構成されているが、第3階層F3において冶具20を
戻し搬送(Xr)方向に戻し搬送可能に配設されてい
る。
【0047】すなわち、循環利用する多数の冶具20
を、バッチ式前処理槽群10F(10F2),連続処理
槽10Cおよびバッチ式後処理槽群10Bの上方空きス
ペース(F3)を利用して戻し搬送することができるの
で、従来例の場合(図4)に比較して平面的設置スペー
スを大幅に縮小化できると理解される。
【0048】また、冶具戻し搬送手段30BRはタクト
(間欠)搬送機構からなる複数(例えば、7つ)の冶具
戻し搬送要素手段30BR1〜30BR7を図2に示す
ように平面的に千鳥形状に配設したものとされ、各冶具
戻し搬送要素手段30BR1〜30BR7は前後2つの
アンチバック爪33を有しかつ冶具20をXr方向に戻
しストロークだけ戻し搬送することができる。
【0049】この戻しストロークは、アンロード返送移
行手段30UDRおよびロード返送移行手段30LDR
の戻し搬送ピッチよりも大きい。つまり、冶具戻し搬送
レール33BRの中間部での戻し搬送速度を高速化しか
つその両端側に複数の冶具20を保留可能に形成してあ
る。
【0050】第1前処理入口昇降手段40F1は、第1
前処理槽群10F1(10F1A)の入口に配設された
ロード移行レール33LD2を第1階層F1と2点鎖線
で示す第2階層F2との間を昇降する手段である。
【0051】ロード移行手段30LD2は、ロード移行
レール33LD2を含み、第2階層F2に位置決めされ
たロード移行レール33LD2上の冶具20をX方向に
1ピッチ分だけ移行させる。つまり、最左の冶具20を
第1番目の前処理槽10F1Aの上方位置に移行させ、
前処理槽10F1Aの上方位置にある冶具20を第2番
目の前処理槽10F1Bに移行させることができる。
【0052】第1前置間欠搬送手段30F3Aは、第1
前置間欠搬送レール33F3Aを含み、第1階層F1に
あるロード移行レール33LD2から引き受けたワーク
を保持する冶具20を一体で4連槽である前処理槽10
F1B,10F1C,10F1D,10F1Eへ順次に
間欠搬送する。
【0053】前処理槽10F1Eへ搬送された場合、冶
具20は第1階層F1にある第1前処理出口昇降レール
43F2上に乗っている。
【0054】第1前処理出口昇降手段40F2は、第1
前処理出口昇降レール43F2を第1階層F1とこの第
1階層よりもさらに上方である第2階層F2との間を昇
降可能である。
【0055】また、第2前処理昇降手段40F3は、前
置間欠搬送レール(第2前置間欠搬送レール33F3
B)を第1階層F1とこの第1階層よりもさらに上方で
ある第2階層F2との間を昇降可能である。同様に、め
っき入口昇降手段40CFは、めっき入口昇降レール4
3CFを第1階層F1と第2階層F2との間を昇降可能
である。
【0056】ここに、前置間欠搬送手段を構成する第2
前置間欠搬送手段30F3は、前処理槽群10F2の上
方である第1階層F1とこの第1階層よりもさらに上方
である第2階層F2との間を昇降可能な前置間欠搬送レ
ール(第2前置間欠搬送レール33F3B)を有しかつ
前置間欠搬送レール(33F3B)が第2階層F2に位
置決めされた状態において冶具20に保持されたワーク
をX方向に間欠搬送可能である。
【0057】詳しくは、第2階層F2において、第1前
処理出口昇降レール43F2および第2前置間欠搬送レ
ール(前置間欠搬送レール)33F3B上の各冶具20
を、前処理槽10F2A,10F2B,10F2C,1
0F2Dへ順次に間欠搬送する。そして、最終的に、ワ
ークそれぞれをめっき入口昇降レール43CF上に載せ
る。
【0058】めっき投入移行手段30CFは、第1階層
F1にあるめっき入口昇降レール43CF上の冶具20
をX方向に移行させて連続搬送レール33C上へ引き渡
す。
【0059】連続搬送手段30Cは、連続処理槽10C
(10C1〜10C3)の上方である第1階層F1に固
定配設された連続搬送レール33Cを有しかつ冶具20
に保持されたワークを連続搬送可能である。
【0060】この実施形態では、2組の間欠搬送型のタ
クト搬送機構(往復移動部材および複数のアンチバック
爪33)を組み合わせて連続搬送可能に形成されてい
る。図4(B)に示すようにコンベア機構(40UD
P,30BRP,40LDP)を採用した従来例の場合
のように帰路(R)を必要としない。
【0061】すなわち、一方のタクト搬送機構(第1連
続搬送手段30C1)が冶具20をX方向に連続搬送し
ている間に他方のタクト搬送機構(第2連続搬送手段3
0C2)をX方向と反対の方向に戻し、次いで他方のタ
クト搬送機構(第2連続搬送手段30C2)が冶具20
をX方向に連続搬送している間に一方のタクト搬送機構
(第1連続搬送手段30C1)をX方向と反対の方向に
戻す。これを繰り返すことで、冶具20をX方向に連続
搬送させることができる新規な構成である。
【0062】かくして、冶具20に取り付けられたワー
クを一定ピッチだけ間隔をおいた状態で連続処理槽(連
続めっき処理槽)10C2を設定速度でX方向に連続搬
送しつつ給電して高品質な連続めっき処理を行なえる。
【0063】めっき出口移行手段30CRは、連続搬送
レール33Cから第1階層F1にあるめっき出口昇降レ
ール43CRへ冶具20を引き渡す。すると、めっき出
口昇降手段40CRが、めっき出口昇降レール43CR
を第2階層F2に上昇させる。
【0064】後置間欠搬送手段30Rは、後処理槽群1
0Bの上方である第1階層F1と第2階層F2との間を
昇降可能な後置間欠搬送レール33R(33R1,33
R2)を有しかつ後置間欠搬送レール33R(33R
1,33R2)が第2階層F2に位置決めされた状態に
おいて、冶具20に保持されたワークのそれぞれをX方
向に間欠搬送可能に形成されている。
【0065】具体的には、めっき出口昇降レール43C
R上の冶具20を第2階層F2に上昇された後置間欠搬
送レール33R(第1後置間欠搬送レール33R1,第
2後置間欠搬送レール33R2)へ移行させつつ、冶具
20を一定ピッチごとに間欠搬送する。
【0066】第1,第2後処理昇降手段40R1,40
R2は、冶具20が一定ピッチ分だけ移行される都度
に、後置間欠搬送レール33Rを構成する第1後置間欠
搬送レール33R1,第2後置間欠搬送レール33R2
をそれぞれに昇降させる。ワークを排出部10C3から
バッチ式の後処理槽群10Bを構成する後処理槽10B
1A,10B1B,10B1Cの順に浸漬・移動させる
ことができる。
【0067】アンロード下限移行手段30UDは、第1
階層F1において第2後置間欠搬送レール33R2上の
冶具20をアンロード下限移行レール33UDおよびア
ンロード昇降レール(上昇レール)43UDに移行させ
る。
【0068】すなわち、冶具20が第2後置間欠搬送レ
ール33R2上にある第1アンロード位置UD1,アン
ロード下限移行レール33UD上にある第2アンロード
位置UD2およびアンロード昇降レール(上昇レール)
43UD上にある第3アンロード位置UD3において、
冶具20から表面処理済みのワークを取外すことができ
る。
【0069】さらに、アンロード昇降手段(上昇手段)
40UDは、後置間欠搬送レール33R(33R2)の
下流側に配設されかつ第1階層F1に位置決めされた後
置間欠搬送レール33R2からアンロード下限移行レー
ル33UDを介して上昇レール(43UD)に受け渡さ
れた冶具20を第3階層F3の冶具戻し搬送レール33
BRに引渡し可能な位置まで上昇可能である。
【0070】アンロード返送移行手段30UDRは、第
3階層F3に位置付けされたアンロード昇降レール(上
昇レール)43UDに保持された冶具20を、冶具戻し
搬送レール33BR上に返送移行可能に形成されてい
る。
【0071】冶具戻し搬送手段30BRは、前置間欠搬
送レール(33F3B)および後置間欠搬送レール(3
3R2)よりもさらに上方である第3階層F3に固定配
設された冶具戻し搬送レール33BRを有しかつワーク
搬送(X)方向の下流側(図1で右側)で受取った冶具
20を上流側へ戻し搬送(Xr)可能である。つまり、
Xr方向に空の冶具20を戻す。
【0072】この空の冶具20を円滑かつ連続的に循環
使用できるので、生産能率が高い。また、従来例の場合
(図4)の場合に比較して平面的大きさを大幅に狭小化
できると理解される。
【0073】ロード返送移行手段30LDRは、ロード
昇降レール(下降レール)43LDを第3階層F3と第
1階層F1との間で下降(上昇)可能に形成されてい
る。
【0074】かかる構成の実施形態では、バッチ式前処
理槽群10F(10F1)の手前側のロード位置LD1
〜3において、ワークは冶具20に保持される。
【0075】そして、冶具20に取り付けられたワーク
は、この実施形態ではロード下限移行手段30LD1
(ロード下限移行レール33LD1),ロード移行手段
30LD2(ロード移行レール33LD2),第1前置
間欠搬送手段30F3A(第1前置間欠搬送レール33
F3A)および第1前処理出口昇降手段40F2(第1
前処理出口昇降レール43F2)等を介して、第1階層
F1に位置決めされた前置間欠搬送レール(33F3
B)に冶具20ごと引渡される。
【0076】すると、前処理用昇降手段である第2前処
理昇降手段40F3によって、前置間欠搬送レール(3
3F3B)は第1階層F1よりもさらに上方である第2
階層F2に上昇される。そして、前置間欠搬送手段30
F3Bは、前置間欠搬送レール(33F3B)が第2階
層F2に位置決めされた状態において、冶具20に保持
されたワークを前置間欠搬送レール(33F3B)に沿
って1ピッチずつ間欠搬送する。
【0077】この間欠搬送後に、前処理用昇降手段(第
2前処理昇降手段40F3)等によって、前置間欠搬送
レール(33F3B)等を第1階層F1に下降させれ
ば、各冶具20に保持された当該各ワークを、当該時の
各前処理槽10F2A〜10F2D内に浸漬して当該各
前処理を施すことができる。
【0078】前処理終了後のワークは冶具20ごと、め
っき入口昇降手段40CF,めっき投入移行手段30C
F(めっき入口昇降レール43CF)を介して第1階層
F1に位置決めされた前置間欠搬送レール(33F3
B)から連続処理槽10Cの上方である第1階層F1に
固定配設された連続搬送レール33Cに引き渡される。
【0079】ここに、連続搬送手段30C(30C1,
30C2)は、冶具20に保持されたワークを第1階層
F1に固定配設された連続搬送レール33Cに沿って連
続搬送する。つまり、ワークは連続処理槽10C(10
C2)内で連続処理される。
【0080】連続処理終了後のワークは冶具20ごと、
めっき出口移行手段30CR,めっき出口昇降手段40
CR(めっき出口昇降レール43CR)を介して、第1
階層F1に固定配設された連続搬送レール33Cから第
1階層F1に位置決めされた後置間欠搬送レール33R
1に引き渡される。
【0081】第1,第2後処理昇降手段40R1,40
R2によって第1,第2後置間欠搬送レール33R1,
33R2を第2階層F2に上昇させると、後置間欠搬送
手段30Rは、第1,第2後置間欠搬送レール33R
1,33R2が第2階層F2に位置決めされた状態にお
いて、冶具20に保持されたワークを1ピッチずつX方
向に間欠搬送する。
【0082】なお、第1後処理昇降手段40R1と第2
後処理昇降手段40R2とは、同時に昇降しなくてもよ
い。つまり、第1,第2後置間欠搬送レール33R1,
33R2が、同時にかつ同じ第1階層F1または第2階
層F2に位置付けされなくてもよい。
【0083】この間欠搬送後に、後置間欠搬送レール3
3R1(または/および33R2)を第1階層F1に下
降させれば、各冶具20に保持された各ワークを当該時
の各後処理槽10B(10B1A,10B1B,10B
1C)内に浸漬して当該各後処理を施すことができる。
【0084】後処理終了後のワークは、第1階層F1に
位置決めされた状態の第2後置間欠搬送レール33R2
上の第1アンロード位置UD1,アンロード下限移行レ
ール33UD上の第2アンロード位置UD2またはアン
ロード昇降レール(上昇レール)43UD上の第3アン
ロード位置UD3において、冶具20から取り外され
る。
【0085】ワークが取外された冶具20は、アンロー
ド下限移行手段30UDによってアンロード昇降レール
(上昇レール)43UDに引渡される。すると、上昇手
段(アンロード昇降手段40UD)が、後置間欠搬送レ
ール33R2(33R1)から上昇レール(43UD)
に受け渡された冶具20を、当該上昇レールごと後置間
欠搬送レールよりもさらに上方である第3階層F3に固
定配設された冶具戻し搬送レール33BRに引渡し可能
な位置(第3階層F3)まで上昇させる。
【0086】冶具戻し搬送手段30BR(30BR1〜
30BR7)は、ワーク搬送(X)方向の下流側で受取
った冶具20を第3階層F3に固定配設された冶具戻し
搬送レール33BRに沿って上流側へつまりXr方向に
戻し搬送する。
【0087】引き続き、下降手段(ロード昇降手段40
LD)は、冶具戻し搬送レール33BRから下降レール
(43LD)に受け渡された冶具20を、第1階層F1
に位置決めされたロード下限移行レール(前置間欠搬送
レール)33LD1[33F3B]に引渡し可能な位置
まで下降させる。
【0088】前置間欠搬送レール33LD1(33F3
B)の上流側に配設された下降レール(43LD)が第
1階層F1に位置決めされる。そして、第1,第2,第
3ロード位置LD1,LD2,LD3において、第1階
層F1に位置決めされた冶具20に未処理ワークを取付
けることができる。
【0089】しかして、この実施形態によれば、平面的
な設置スペースを従来例の場合に比較して大幅に縮小化
できかつ表面処理を連続的に行えるとともに、工場敷地
面積を非常に小さくできるから本装置(10)のみなら
ず建屋のコスト低減もできる。
【0090】また、各処理槽(10F,10C,10
B)の平面的両側が戻し搬送手段によって占領されてし
まうことがないので、取扱性および作業能率を向上でき
るばかりか作業安全性を高められる。
【0091】特に、小さなワーク(例えば、プリント配
線基板)を連続処理する場合に、低コスト・高品質な製
品を提供する点において、大きく貢献できる。
【0092】さらに、連続搬送手段(30C)が、2組
の間欠(タクト)搬送機構(30C1および30C2)
を交互に搬送動作させることで各冶具20を同一搬送レ
ール(33C)上でかつ所定間隔を維持しつつ連続搬送
できる新規な構造であるから、往路と同一平面上での帰
路を必要とするコンベヤ構造等に比較して、設置スペー
スのより大幅な縮小化を図れるとともにレイアウトが簡
単でコスト低減ができる。冶具戻し搬送手段30BRの
場合も同様である。
【0093】
【発明の効果】本発明によれば、連続処理槽の上方であ
る第1階層に固定配設された連続搬送レールを有しかつ
冶具に保持されたワークを連続搬送可能な連続搬送手段
と,前処理槽群の上方である第1階層とこれより上方の
第2階層との間を昇降可能な前置間欠搬送レールを有し
かつ第2階層に位置決めされた状態において冶具に保持
されたワークを間欠搬送可能な前置間欠搬送手段と,後
処理槽群の上方である第1階層とこれより上方である第
2階層との間を昇降可能な後置間欠搬送レールを有しか
つ第2階層に位置決めされた状態において冶具に保持さ
れたワークを間欠搬送可能な後置間欠搬送手段と,前置
・後置間欠搬送レールよりも上方の第3階層に固定配設
された冶具戻し搬送レールを有しかつワーク搬送方向の
下流側で受取った冶具を上流側へ戻し搬送可能な冶具戻
し搬送手段とを設け、第1階層に位置決めされた後置間
欠搬送レールから上昇レールに受け渡された冶具を冶具
戻し搬送レールに引渡し可能な位置まで上昇可能な上昇
手段と,冶具戻し搬送レールから下降レールに受け渡さ
れた冶具を第1階層に位置決めされた前置間欠搬送レー
ルに引渡し可能な位置まで下降可能な下降手段とが設け
られた表面処理装置であるから、平面的な設置スペース
を従来例の場合に比較して大幅に縮小化できかつ表面処
理を連続的に行えるとともに、工場敷地面積を非常に小
さくできるから装置のみならず建屋のコスト低減もでき
る。さらに、各処理槽の平面的両側が戻し搬送手段によ
って占領されてしまうことがないので、取扱性および作
業能率を向上できるばかりか作業安全性を高められる。
特に、小さなワーク(例えば、プリント配線基板)を連
続処理する場合に、低コスト・高品質な製品を提供する
点において、大きく貢献できる。Description: BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
Processing tank group, continuous processing tank and multiple batch type post-processing tank group
Are in this order to the surface treatment device
Related. 2. Description of the Related Art FIGS. 4A and 4B show a surface treatment.
The apparatus 10P is a batch type pretreatment tank group 10F, a continuous treatment tank.
10C and batch type post-treatment tank group 10B in this order.
It is configured to be arranged in the transport direction (X). [0003] Here, the workpiece is a plurality of batch-type pretreatments.
It is arranged before (left side) the pretreatment tank group 10F consisting of tanks.
For pre-treatment at the loaded position LD and through the jig
It is attached to the missing transport means. The intermittent conveying means for pre-processing comprises a pusher
Intermittent pre-processing intermittent
FIG. 4A in which the transport guide rail 33LD shows a side view.
When the workpiece is in the raised position indicated by the dotted line,
The jig along the intermittent conveyance guide rail 33LD for pre-processing
Intermittently (tact) in the X direction by 1 pitch
Can be. After the conveyance, the pre-processing elevating means operates, and the pre-processing
Move the intermittent transfer guide rail 33LD to the position indicated by the solid line.
By lowering, each workpiece is placed in the next pretreatment tank (1).
0F). The continuous conveying means includes a conveying conveyor mechanism and the like.
The pre-process intermittent conveyance guide rail 33 at the lowered position.
Continuous undertaking while taking over the work after pre-processing from LD
The sheet is continuously conveyed along the id rail 33C. This continuous conveyance
Continuous processing (for example, plating continuous processing) can be performed during
You. After completion of the continuous processing, the workpiece is subjected to a batch type post-processing.
In the first post-treatment tank of the treatment tank group 10B, the continuous conveyance guide
From the rail 33C to the intermittent conveyance guide rail 33 for post-processing.
Delivered to UD. That is, the intermittent conveying means for post-processing
Including post-processing means
Ascending position of the intermittent transfer guide rail 33UD indicated by the dotted line
In the state above, the workpiece is
Carry only one pitch each along the guide rail 33UD
Intermittent (tact) transport in the transport direction is possible. After the transportation, the lifting / lowering means for post-processing works, and the post-processing
The intermittent transfer guide rail 33UD is in the state shown by the solid line.
By lowering, each work is moved to the next post-treatment tank (1).
OB). After completion of post-processing
At the rightmost unload position UD
Removed from the jig. [0010] Surface treatment at the unload position UD
The jig from which the work has been removed after the completion is returned to the load position L again.
I have to go back to D. For this, represent a plan view
As shown in FIG. 4 (B), it is arranged at the unload position UD.
Downstream direction inversion return transport means 40 UDP, after direction inversion
Transport that returns the jig in the return transport (Xr) direction
Means 30BRP and upstream located at loading position LD
Provide the side reversing return transport means 40LDP and return the jig
Returning the transport to the load position LD along the transport path R
, So that it can be used repeatedly. In other words, the jig
Endless surface treatment of workpiece by repeated use of
Can be performed continuously. [0011] By the way, the above-mentioned subordinate
In the next surface treatment apparatus 10P, the downstream side reversing return conveyance
Step 40 UDP, return conveyance means 30 BRP and upstream side
As shown in FIG.
As shown in FIG.
Intermittent transfer means for processing, continuous transfer guide rail 33C and
And continuous conveyance means and intermittent conveyance guide rail 3 for post-processing
3UD and post-processing intermittent conveyance means are arranged in parallel on a plane
The installation space is large. That is, a small work (for example, a print
Compared with wiring boards), the factory site (building) area is very
And the cost of the building as well as the equipment is high
Is strongly pointed out. In addition, each processing tank is flat and one side returns.
And it is occupied by the transport means 30BRP etc.
In addition, the handling efficiency is poor and the work efficiency is reduced, as well as danger.
There is also a problem that accompanies. An object of the present invention is to provide a flat installation space.
A surface treatment that can be greatly reduced in size and that can perform surface treatment continuously
To provide a processing device. SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a batch pretreatment system.
The treatment tank group, continuous treatment tank, and batch type post-treatment tank group are arranged in this order.
In the workpiece transfer direction, and the
A jig having a continuous transfer rail fixedly arranged on one level and
Continuous transport means capable of continuously transporting the workpiece held in the
The first level above the pretreatment tank group and the first level
Intermittent preposition that can move up and down with the second level above
With transport rails and intermittent transport rails at the front
The work held by the jig in the positioned state
Front intermittent transfer means capable of intermittent transfer and above the post-treatment tank group
And the first level is further higher than the first level
It has a rear intermittent transport rail that can move up and down between the second level
And the post-intermittent transport rail is positioned on the second level
The workpiece held by the jig can be intermittently transported
Intermittent transfer means, front intermittent transfer rail and rear intermittent
Fixedly installed on the third level above the transport rail
Jig return transfer rail and work transfer direction
A jig return that can return the jig received on the downstream side to the upstream side and transport it
Transfer means, and beneath the rear intermittent transfer rail.
Post-intermittent disposed on the upstream side and positioned on the first level
Jig returned from the transfer rail to the ascending rail
Hand that can be raised to a position where it can be delivered to the transfer rail
A step and a jig disposed upstream of the intermittent conveying rail
The jig transferred from the return conveyance rail to the descending rail
Can be delivered to the front intermittent transport rail positioned at one level
Surface with a lowering means capable of lowering to a
It is a physical device. In the invention, an example of a batch type pretreatment tank group is provided.
For example, at the front loading position, the workpiece is held by the jig
And the pre-intermittent transfer position positioned on the first level
The jig is handed over to the tool. Then, for example, by means of a pretreatment elevating means,
And the front intermittent transport rail is higher than the first level.
It is raised to a certain second hierarchy. Then, the front intermittent transport means
But the front intermittent conveyance rail is positioned on the second level.
In this state, the work held by the jig is
Is transported intermittently one pitch at a time. After this intermittent conveyance, for example,
Lower the intermittent pre-conveyance rail to the first level by the step
Then, each work held by each jig can be
Each of the pretreatments can be performed by immersing in a treatment tank. The work after the completion of the pretreatment is on the first floor together with the jig.
Continuous processing tank from pre-intermittent transfer rail positioned on layer
Continuous transfer rail fixedly arranged on the first level above
Handed over to Here, the continuous conveying means is held by a jig.
Work to the continuous transport rail fixedly arranged on the first level
It is continuously transported along. In other words, the work is
Processed continuously. After the end of the continuous processing, the work is set for each jig,
Placed on the first level from continuous transport rails fixedly arranged on the level
It is delivered to the fixed post-installation intermittent transport rail. example
If the intermittent post-conveyance rail is
It is raised to two levels. Then, the post-intermittent conveyance means
Make sure that the intermittent transfer rail is positioned on the second level.
And intermittently transport the work held by the jig one pitch at a time
I do. After the intermittent conveyance, for example, a post-intermittent conveyance
If the step lowers the post-intermittent transport rail to the first level,
Each work held in the jig is immersed in each post-treatment tank at that time.
Each post-treatment can be performed by immersion. After finishing the post-processing, the work is positioned on the first level.
Is removed from the jig and the workpiece is removed.
The jig is delivered to the lift rail. Then the rising hand
The step is transferred from the post-intermittent transfer rail to the lift rail.
From the post-intermittent transfer rail with the raised rail
Is also fixed on the third level above
Raise to a position where it can be delivered to the transport rail. The jig return transfer means is located below the work transfer direction.
Return the jig received on the upstream side to the jig fixedly arranged on the third level
Then, it is transported back to the upstream side along the transport rail. Continue
The lowering means moves from the jig return transport rail to the lowering rail.
The jig that was delivered is placed between the prepositions positioned on the first level.
Lower it to a position where it can be delivered to the missing transport rail. [0024] The apparatus is arranged upstream of the front intermittent conveyance rail.
The descending rail is positioned on the first level. And the first
Attach unprocessed workpieces to jigs positioned in the hierarchy
be able to. Therefore, a flat installation space is conventionally required.
Compared to the example, it is possible to reduce the size significantly and
Can be done continuously. Embodiments of the present invention will be described below.
This will be described in detail with reference to the drawings. This surface treatment apparatus 10 is shown in FIGS.
As shown, batch type pretreatment tank group (10F2), continuous treatment tank 1
0C and batch type post-treatment tank group 10B in this order.
Arranged in the transport (X) direction and above the continuous processing tank 10C.
Continuous transfer rail 33C fixedly disposed on the first level F1
And the first level F1 and the continuous transport means 30C having
A front space that can move up and down between the second floor F2 above
With a missing transport rail (33F3B) and on the second level F2
Intermittent jig 20 (work) in the positioned state
Intermittent front conveyance means (30F3B) capable of conveyance, and the first floor
Intermittent post-conveyance that can move up and down between the layer F1 and the second level F2
With the rail 33R and positioned on the second level F2
In a state where the jig 20 (work) can be intermittently transported
Intermittent transporting means 30R and third floor F3 further above
Has the jig return transfer rail 33BR fixedly arranged on the
Return the jig 20 received on the downstream side in the X direction to the upstream side and carry it
And a jig return / transport means 30BR capable of being transported.
Post-intermittent transport rail 33 positioned at the first level F1
Rail rising from R (33R1, 33R2) (43UD)
Jig 20 transferred to the jig is returned to the jig and transport rail 33BR
Means (40U) that can be raised to a position that can be delivered to
D) and the rail descending from the jig return transport rail 33BR
(43LD) the jig 20 passed to the first level F1
Pull to the positioned front intermittent transport rail (33LD1)
A lowering means (40LD) that can be lowered to a position where it can be delivered
Circulating use including return transport of the jig 20 is performed on the third level.
It is formed as a three-story structure performed in F3. In FIG. 1, the surface treatment tank is provided before the batch type.
Treatment tank group 10F, continuous treatment tank 10C and batch type post-treatment
The treatment tank group 10B is arranged in this order in the work transfer (X) direction.
Have been. It is located on the first floor of the building. The upstream side of the batch type pretreatment tank group 10F (left side)
Side) for attaching an unprocessed work to the jig 20
Load position LD (first, second, third load position LD1,
LD2, LD3), and a batch type post-treatment tank group 10
On the downstream side (right side) of B, the processed work is
Unload position UD for removal (first, second, third unload
Load positions UD1, UD2, UD3) are provided.
You. A plurality of load positions LD1, LD2, LD3
The work is attached to the jig 20 in each of
Number of unload positions UD1, UD2, UD3 respectively
The work that has been processed by the tool can be removed from the jig 20?
Therefore, work efficiency can be improved. Incidentally, reference numeral 101 in FIG.
Door, 102 is a clamper (unclamper), 103
Is a feeder, and 105 is a stopper. This storage
Jig return by cooperation of par 105 and feeder 103
A large number of empty spaces are located on the downstream side (left side in the figure) of the transfer rail 33BR.
Since the jig 20 of the jig 20 can be held,
It is possible to use the ring smoothly. The pretreatment tank group 10F is provided in this embodiment.
Then, the batch type first pretreatment tank group 10F1 and the batch type
The pretreatment tank group 10F2 is formed. Both are one
Or a structure with only one of them
Is also good. Similarly, the front intermittent transport means 30F3 is
First front intermittent conveyance means 30F3A and second front intermittent conveyance
Means 30F3B are formed. Therefore,
The front intermittent transport unit according to the present invention is the second front intermittent transport unit 30.
In F3B, the front intermittent conveyance rail is the second front intermittent conveyance rail.
It is assumed that the file is 33F3B. However, the load elevating means (lowering means) 40
In relation to the LD, the interposed load lower limit shift means 30
LD1 (load lower limit transition rail 33LD1), load transfer
Traveling means 30LD2 (load transition rail 33LD2) and
And the first front intermittent conveyance means 30F3A (first front intermittent conveyance
The rail 33F3A) is also included or described in an alternative manner.
You. The batch type first pretreatment tank group 10F1 is sprayed.
ー Pre-treatment tank 10F1B ~
10F1E, batch type second pretreatment tank group 10
F2 includes multiple (four) including spray water washing, hot water washing, pickling, etc.
Formed from the pretreatment tanks 10F2A to 10F2D
You. The continuous processing tank group 10C is used in this embodiment.
Is a charging section 10C1, a continuous processing tank 10C2, and a discharging section 10C1.
It is formed from an integrated tank consisting of C3 and is continuous in the X direction.
Plating the work being continuously transported in the processing tank 10C2
The treatment (electrolytic treatment) can be performed continuously. The batch type post-treatment tank group 10B is washed with hot water and dried.
(Three) post-treatment tanks 10B1A to 10B1
C is formed. Here, above each processing tank (group)
In the first level F1 from left to right in FIG.
Load lifting rail (falling rail) 43LD, load lower limit
Transition rail (pre-intermittent transfer rail) 33LD1, load
Transition rail 33LD2, first front intermittent transport rail 33F
3A, first pretreatment outlet lifting rail 43F2, second front space
Intermittent transport rail (front intermittent transport rail) 33F3B,
Entrance elevator rail 43CF, continuous transport rail 33C,
Exit lift rail 43CR, rear intermittent transfer rail 33
R (first rear intermittent transport rail 33R1, second rear intermittent transport
Feed rail 33R2), unload lower limit transition rail 33U
D and unload lift rail (lift rail) 43UD
Is provided. The lower limit load rail of these rails
(Front intermittent transfer rail) 33LD1, first front intermittent transfer
Rail 33F3A, continuous transport rail 33C and unlock
The lower limit transfer rail 33UD is fixedly arranged on the first level F1.
Is established. However, the load transition rail 33LD2, the second
1 Pretreatment exit lifting rail 43F2, 2nd intermittent conveyance
(Front intermittent transfer rail) 33F3B, plating entrance rise
Descending rail 43CF, plating exit elevating rail 43CR and
And the intermittent transfer rail 33R (the first intermittent transfer rail
33R1, the second rear intermittent transport rail 33R2) is the first
Can move up and down between the level F1 and the second level F2 above it
Noh. Thus, delivery / drawing of the jig (work) 20
Receiving can be done smoothly. Further, a load elevating rail (descent rail)
43LD and unload lift rail (lift rail) 4
3UD includes a first layer F1 and a third layer F3 (a second layer F2).
(Further above). First, the load elevating means forming the descending means
40LD is upstream of the front intermittent conveyance rail (33LD1)
Jig return transport rail 3 disposed on the side and on the third level F3
From 3BR to descending rail (load lifting rail 43LD)
The delivered jig 20 is positioned on the first level F1.
Preceding intermittent transport rail [that is, lower limit transition rail 3
3LD1 (indirectly, the second front intermittent conveyance rail 33F
3B)] (and rise) to a position where it can be delivered.
Can be The load lower limit transition means 30LD1
Including the lower transition rail 33LD1, the empty jig 20
Rail (descent rail) 43LD, load lower limit shift
Of the rail 33LD1 and the load transition rail 33LD2
Intermittent transition can be performed in order. The load lower limit shifting means 30LD1
Mode transfer means 30LD2, first front intermittent conveyance means 30F
3A, second front intermittent conveyance means 30F3B, plating transfer
Line means 30CF, plating exit transition means 30CR, after
Missing transport means 30R and unload lower limit shift means 30U
Similar to D, reciprocating a certain stroke in the X direction
At a fixed pitch (interval)
So-called “taku” having a plurality of anti-back claws 33
(Intermittent) transport mechanism. In addition, continuous carrying
The sending means 30C (30C1, 30C2) will be described later.
I do. Each anti-back claw 33 is provided with a reciprocating member.
The jig 20 is moved in the X direction by a constant
Can move only when the reciprocating member returns.
Is formed so as to be able to pass through the jig 20 without exhibiting the above.
Reciprocating member is reciprocated by cylinder device or servo mechanism
Is done. The return speed is set higher than the forward speed.
ing. Unload return transfer means 30UDR and
The load return shift means 30LDR is a load lower limit shift means.
Tact (intermittent) transfer mechanism similar to 30LD1 etc.
The jig 20 on the third level F3.
It is arranged so that it can be returned and transported in the return transport (Xr) direction.
You. That is, a large number of jigs 20 to be circulated
, Batch type pretreatment tank group 10F (10F2), continuous processing
Empty space above tank 10C and batch type post-treatment tank group 10B
Can be transported back using the pace (F3)
In comparison with the conventional example (FIG. 4),
It is understood that the cost can be significantly reduced. Also, the jig return / transport means 30BR is a tact
Multiple (eg, seven) jigs consisting of (intermittent) transport mechanisms
Return transport element means 30BR1 to 30BR7 are shown in FIG.
The jigs are arranged in a zigzag pattern as
The return transport element means 30BR1 to 30BR7 are
It has the anti-back claw 33 and returns the jig 20 in the Xr direction.
It is possible to carry back only by a stroke. This return stroke corresponds to the unload return
Line unit 30UDR and load return transition unit 30LDR
Is larger than the return conveyance pitch. In other words, jig return transport
Only the return transport speed at the middle part of the rail 33BR can be increased
A plurality of jigs 20 are formed on both ends of the
You. The first pretreatment entrance elevating means 40F1 is
It was arranged at the entrance of the pretreatment tank group 10F1 (10F1A).
The load transition rail 33LD2 is connected to the first level F1 by a two-dot chain line.
Means for moving up and down between the second floor F2 indicated by. The load transfer means 30LD2 performs load transfer.
Including rail 33LD2, positioned on second level F2
The jig 20 on the load transfer rail 33LD2 in the X direction
Shift by one pitch. In other words, the leftmost jig 20
Moved to the position above the first pretreatment tank 10F1A,
The jig 20 located above the pretreatment tank 10F1A
It can be moved to the eye pretreatment tank 10F1B. The first front intermittent transport means 30F3A
Including front intermittent transport rail 33F3A, on the first level F1
Work taken from a certain load transition rail 33LD2
Pretreatment tank 10 which is a four-tank integrated jig 20 for holding
F1B, 10F1C, 10F1D, 10F1E sequentially
Transport intermittently. When transported to the pretreatment tank 10F1E,
Fixture 20 is a first pretreatment exit elevation rail on the first level F1
I am on 43F2. The first pretreatment outlet elevating means 40F2 is
The pretreatment exit lifting rail 43F2 is connected to the first floor F1 and
Ascending between the second level F2, which is higher than the first level
It is possible to descend. Further, the second pretreatment raising / lowering means 40F3 is
Intermittent transfer rail (second front intermittent transfer rail 33F3
B) at the first level F1 and further above the first level
It is possible to move up and down between a certain second floor F2. Similarly,
The plating entrance elevating means 40CF is a plating entrance elevating rail 4
3CF can be moved up and down between the first level F1 and the second level F2
It is. Here, the second part constituting the front intermittent conveyance means is described.
The front intermittent transporting means 30F3 is located above the pretreatment tank group 10F2.
Is the first level F1 and further higher than the first level
Intermittent transfer tray that can move up and down with the second floor F2
(The second front intermittent conveyance rail 33F3B) and
Preceding intermittent transport rail (33F3B) ranks second level F2
Work held by the jig 20 in the set state
Can be intermittently transported in the X direction. More specifically, in the second level F2,
The processing outlet lift rail 43F2 and the second front intermittent transfer rail
Jig 20 on the tool (pre-intermittent transfer rail) 33F3B
To the pretreatment tanks 10F2A, 10F2B, 10F2C, 1
The sheets are intermittently conveyed sequentially to 0F2D. And finally, wa
Each of them on the plating entrance elevating rail 43CF.
You. The plating input transfer means 30CF is located on the first level
Jig 20 on plating entrance elevating rail 43CF in F1
Is transferred in the X direction and delivered onto the continuous transport rail 33C.
You. The continuous transfer means 30C includes a continuous processing tank 10C.
(10C1 to 10C3) and fixed to the first level F1.
A jig 20 having a continuous transfer rail 33C provided
Can be continuously transported. In this embodiment, two sets of intermittent transport type
Transport mechanism (reciprocating member and multiple anti-back
Claws 33) are combined to enable continuous conveyance.
You. As shown in FIG. 4B, the conveyor mechanism (40 UD)
P, 30BRP, 40LDP)
No return route (R) is required as in That is, one of the tact transport mechanisms (the first
The continuous transport means 30C1) continuously transports the jig 20 in the X direction.
While the other tact transfer mechanism (second continuous transfer means 3
0C2) in the direction opposite to the X direction, and then
Object transfer mechanism (second continuous transfer means 30C2)
One tact transfer mechanism during continuous transfer in the X direction
(1st continuous conveyance means 30C1) in the direction opposite to the X direction
return. By repeating this, the jig 20 is continuously in the X direction
This is a new configuration that can be transported. Thus, the work attached to the jig 20
In a continuous processing tank (serial
(Continuous plating tank) 10C2 is continuously transported in the X direction at the set speed
High quality continuous plating can be performed by feeding power while sending. The plating outlet transition means 30CR is a continuous conveyance
Rail exit from the rail 33C to the plating exit on the first level F1
Hand over the jig 20 to the rule 43CR. Then, plating out
The mouth elevating means 40CR is a plating exit elevating rail 43CR.
To the second level F2. The post-intermittent transfer means 30 R is provided in the post-processing tank group 1.
0B, between the first level F1 and the second level F2.
Post-intermittent transport rail 33R (33R1, 33
R2) and a post-intermittent conveyance rail 33R (33R).
1,33R2) is positioned on the second level F2
Then, each of the workpieces held by the jig 20 is
It is formed so that it can be intermittently transported. Specifically, the plating exit elevating rail 43C
Post-intermittent transportation of the jig 20 on R raised to the second level F2
The feed rail 33R (the first rear intermittent transfer rail 33R1, the first
Jig while shifting to 2 post-intermittent transfer rail 33R2)
20 is conveyed intermittently at a constant pitch. First and second post-processing elevating means 40R1, 40
R2 is calculated every time the jig 20 is shifted by a certain pitch.
First intermittent post-conveying rail 33R
Transfer rail 33R1, second intermittent transfer rail 33R2
Is raised and lowered individually. Work is ejected from 10C3
Post-processing tank 10B constituting batch-type post-processing tank group 10B
Immerse and move in the order of 1A, 10B1B, 10B1C
be able to. The unload lower limit shifting means 30UD is provided with the first
On the second post-intermittent conveyance rail 33R2 in the story F1
Fix the jig 20 to the unload lower limit transition rail 33UD and
Transfer to unloading lift rail (lift rail) 43UD
You. That is, the jig 20 is moved to the second
Unloading position UD1, unloading position
The second unload on the load lower transition rail 33UD
Position UD2 and unload lift rail (lift rail)
At a third unload position UD3 on 43 UD,
The surface-treated workpiece can be removed from the jig 20
You. Further, unloading elevating means (elevating means)
40UD is for the rear intermittent transport rail 33R (33R2).
After being located downstream and positioned on the first level F1
Unload lower limit transfer rail from the intermittent transfer rail 33R2
Delivered to the ascending rail (43UD) via the 33UD
The jig 20 is returned to the jig return transport rail 33 of the third level F3.
It can be raised to a position where it can be delivered to BR. The unload return transfer means 30UDR is
The unloading elevating rail positioned on the third level F3 (top
Jig 20 held at 43 UD is returned to the jig.
It is formed on the transport rail 33BR so as to be able to be returned.
You. The jig returning / transporting means 30BR is a
The feed rail (33F3B) and the post-intermittent transfer rail (3
3R2) is fixedly arranged on the third level F3, which is higher than
Work provided with the provided jig return transport rail 33BR
Jig received on the downstream side (right side in FIG. 1) in the transport (X) direction
20 can be returned to the upstream side and transported (Xr). That is,
Return the empty jig 20 in the Xr direction. The empty jig 20 is circulated smoothly and continuously.
High production efficiency because it can be used. In the case of the conventional example
Significantly smaller planar size compared to (Fig. 4)
It is understood that it can be done. The load return transition means 30 LDR
The lifting rail (descent rail) 43LD is connected to the third level F3 and the third level F3.
It is formed so as to be able to descend (ascend) with the first floor F1.
You. In the embodiment having such a configuration, the batch type preprocessing
Load position LD1 on the near side of the physical tank group 10F (10F1)
In ~ 3, the work is held by the jig 20. Then, the work attached to the jig 20
In this embodiment, the load lower limit shift means 30LD1
(Load lower limit transition rail 33LD1), load transition means
30LD2 (load transition rail 33LD2), 1st front
Intermittent transport means 30F3A (first front intermittent transport rail 33)
F3A) and the first pretreatment outlet elevating means 40F2 (first
Via the pretreatment exit elevating rail 43F2), etc., the first level
The front intermittent transport rail positioned at F1 (33F3
The jig 20 is delivered to B). Then, the second preprocessing, which is the preprocessing elevating means,
The intermittent conveyance rail (3
3F3B) is the second level which is further higher than the first level F1.
The level is raised to the level F2. Then, the front intermittent transport means 30
F3B has the front intermittent transport rail (33F3B) on the second floor.
Hold on the jig 20 while positioned on the layer F2
Along the intermittent conveyance rail (33F3B)
Is carried out one pitch at a time. After the intermittent conveyance, the pre-processing elevating means (the
(2) Pre-intermittent conveyance by pre-processing elevating means 40F3)
Lower rails (33F3B) to the first level F1
For example, the work held by each jig 20 is
Each pretreatment tank 10F2A to 10F2D
Pretreatment can be performed. The work after the completion of the pre-processing is
Inlet entrance raising / lowering means 40CF, plating input transfer means 30C
First level via F (plating entrance lifting rail 43CF)
The front intermittent transport rail positioned at F1 (33F3
From B) to the first level F1 above the continuous processing tank 10C
It is delivered to the continuous transport rail 33C which is fixed and arranged. Here, the continuous conveying means 30C (30C1,
30C2) moves the work held by the jig 20 to the first level.
Along the continuous transport rail 33C fixedly arranged at F1,
Continue transport. In other words, the work is stored in the continuous processing tank 10C (10
It is continuously processed in C2). After the end of the continuous processing, the work is
Plating exit transition means 30CR, Plating exit elevating means 40
First through the CR (plating exit lifting rail 43CR)
From the continuous transport rail 33C fixedly arranged on the level F1,
Post-intermittent transport rail 33R positioned on the first floor F1
Delivered to 1. First and second post-processing elevating means 40R1, 40
R2, the first and second rear intermittent transport rails 33R1,
When 33R2 is raised to the second level F2, the intermittent post-conveyance is performed.
The means 30R includes a first and a second rear intermittent conveyance rail 33R.
In a state where 1,33R2 is positioned on the second level F2.
And the work held by the jig 20 is
Intermittently. The first post-processing elevating means 40R1 and the second
The post-processing elevating means 40R2 does not have to be elevated at the same time.
No. That is, the first and second rear intermittent transport rails 33R1,
33R2 are simultaneously and in the same first floor F1 or second floor
It does not have to be positioned in the layer F2. After this intermittent conveyance, the rear intermittent conveyance rail 3
3R1 (or / and 33R2) down to the first level F1
If it is lowered, each work held by each jig 20 is
Of each post-treatment tank 10B (10B1A, 10B1B, 10B
1C) to perform the respective post-treatments. The work after the completion of the post-processing is stored in the first level F1.
Second post-intermittent transfer rail 33R2 in a positioned state
Upper first unload position UD1, unload lower limit shift level
Second unload position UD2 on the rule 33UD or unload
The third anchor on the load lift rail (lift rail) 43UD
At the load position UD3, it is removed from the jig 20.
You. The jig 20 from which the work has been removed is unloaded.
Unloading lift rail by lower limit shift means 30UD
(Rising rail) Delivered to 43UD. Then the rising hand
The step (unloading elevating means 40UD) is a
33R2 (33R1) to ascending rail (43UD)
The jig 20 delivered to the
Fixed to the third level F3, which is higher than the
Deliverable to fixed jig return transport rail 33BR
(The third level F3). The jig returning / transporting means 30BR (30BR1 to 30BR1)
30BR7) is received at the downstream side in the work transfer (X) direction.
Jig 20 fixed to the third level F3
Upstream along the transport rail 33BR, that is, in the Xr direction
Transport it back. Subsequently, the lowering means (load elevating means 40)
LD) is a descending rail from the jig return transport rail 33BR.
(43LD), the jig 20 passed to the first level F1
Lower limit transition rail positioned at
Rail) Position that can be delivered to 33LD1 [33F3B]
Down to The front intermittent conveyance rail 33LD1 (33F3
The descending rail (43LD) arranged upstream of B)
It is positioned on the first level F1. And the first, second and second
At the 3rd loading position LD1, LD2, LD3, the first floor
Attach unprocessed work to jig 20 positioned on layer F1
Can be opened. According to this embodiment, however,
Installation space is significantly reduced compared to the conventional example
And surface treatment can be performed continuously,
Since the area can be made very small, if only this device (10) is used
The cost of the building can be reduced. Further, each processing tank (10F, 10C, 10
B) Both sides of the plane are occupied by the return transport means.
It can improve handling efficiency and work efficiency
Not only can work safety be improved. In particular, a small work (for example, a print distribution)
Low-cost, high-quality products
Can greatly contribute in providing products. Further, the continuous conveying means (30C) has two sets.
(Intermittent) transfer mechanism (30C1 and 30C2)
Are alternately transported so that each jig 20 has the same transport level.
Transfer while maintaining a predetermined interval on the roller (33C)
Because it is a new structure that can be
Installation space compared to conveyor structures that require
Layout can be greatly reduced and the layout can be simplified.
Cost reduction can be achieved simply. Of the jig return conveyance means 30BR
The same applies to the case. According to the present invention, above the continuous processing tank,
A continuous transport rail fixedly disposed on the first level
Continuous transfer means that can continuously transfer the work held by the jig
And the first level above the pretreatment tank group and the
It has a front intermittent transport rail that can move up and down with the second level
And held in a jig when positioned on the second level
Intermittent conveyance means that can intermittently transport the work
The first level above the treatment tank group and the first level above
Do you have a rear intermittent transport rail that can move up and down between two levels?
Is held by the jig when it is positioned on the second level.
Intermittent transfer means that can intermittently transfer the work
・ Fixedly arranged on the third level above the post-intermittent transfer rail
Jig return transfer rail and work transfer direction
A jig return that can return the jig received on the downstream side to the upstream side and transport it
And a transfer means, and the rear space positioned on the first level is provided.
Jig transferred from the transfer rail to the ascending rail
A lift that can be raised to a position where it can be delivered to the return transport rail
Means and the jig return from the transfer rail to the descending rail
Pre-intermittent transfer rail positioned on the first level
And a descent means that can be lowered to a position where it can be delivered to the
Flat surface installation space
Can be greatly reduced compared to the
Process can be performed continuously, and the factory
The cost can be reduced not only for equipment but also for buildings.
You. Further, both sides of each processing tank in plan view are returned by the return conveying means.
Is not occupied.
Not only can the work efficiency be improved, but also the work safety can be improved.
In particular, small workpieces (for example, printed wiring boards)
Providing low-cost, high-quality products for continuous processing
In that respect, it can make a significant contribution.
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る表面処理装置を説明す
るための概略側面図である。
【図2】同じく、冶具戻し搬送手段を説明するための概
略平面図である。
【図3】同じく、組立側面図である。
【図4】従来例を説明するための概略図である。
【符号の説明】
10 表面処理槽
10F バッチ式前処理槽群
10F1 バッチ式第1前処理槽群
10F1A〜10F1E 前処理槽
10F2 バッチ式第2前処理槽群(バッチ式前処理槽
群)
10F2A〜10F2D 前処理槽
10C 連続処理槽群
10C2 連続処理槽
10B バッチ式後処理槽群
10B1A〜10B1C 後処理槽
20 冶具
30LD1 ロード下限移行手段
33LD1 ロード下限移行レール(前置間欠搬送レー
ル)
30F3 前置間欠搬送手段
30F3A 第1前置間欠搬送手段
33F3A 第1前置間欠搬送レール
30F3B 第2前置間欠搬送手段(前置間欠搬送手
段)
33F3B 第2前置間欠搬送レール(前置間欠搬送レ
ール)
30C 連続搬送手段
30C1 第1連続搬送手段
30C2 第2連続搬送手段
33C 連続搬送レール
30R 後置間欠搬送手段
33R 後置間欠搬送レール
33R1 第1後置間欠搬送レール
33R2 第2後置間欠搬送レール
30UDR アンロード返送移行手段
30BR 冶具戻し搬送手段
30BR1〜30BR7 冶具戻し搬送要素手段(冶具
戻し搬送手段)
33BR 冶具戻し搬送レール
30LDR ロード返送移行手段
40 昇降手段
40LD ロード昇降手段(下降手段)
43LD ロード昇降レール(下降レール)
40UD アンロード昇降手段(上昇手段)
43UD アンロード昇降レール(上昇レール)
LD(LD1〜LD3) ローディング位置
UD(UD1〜UD3) アンローディング位置
X 搬送方向
F1 第1階層
F2 第2階層
F3 第3階層BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a schematic side view for explaining a surface treatment apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic plan view for explaining a jig returning / transporting means. FIG. 3 is also an assembly side view. FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a conventional example. [Description of Signs] 10 Surface treatment tank 10F Batch type pretreatment tank group 10F1 Batch type first pretreatment tank group 10F1A to 10F1E Pretreatment tank 10F2 Batch type second pretreatment tank group (batch type pretreatment tank group) 10F2A 10F2D Pre-treatment tank 10C Continuous treatment tank group 10C2 Continuous treatment tank 10B Batch-type post-treatment tank group 10B1A to 10B1C Post-treatment tank 20 Jig 30LD1 Load lower limit transfer means 33LD1 Load lower limit transfer rail (pre-intermittent transfer rail) 30F3 pre-intermittent transfer Means 30F3A First front intermittent conveyance means 33F3A First front intermittent conveyance rail 30F3B Second front intermittent conveyance means (front intermittent conveyance means) 33F3B Second front intermittent conveyance rail (front intermittent conveyance rail) 30C Continuous conveyance Means 30C1 First continuous transport means 30C2 Second continuous transport means 33C Continuous transport rail 0R Post-intermittent transfer means 33R Post-intermittent transfer rail 33R1 First post-intermittent transfer rail 33R2 Second post-intermittent transfer rail 30UDR Unload return transfer means 30BR Jig return transfer means 30BR1 to 30BR7 Jig return transfer element means (jig return 33BR Jig return conveyance rail 30LDR Load return transition means 40 Elevating means 40LD Load elevating means (lowering means) 43LD Load elevating rail (lowering rail) 40UD Unload elevating means (elevating means) 43UD Unload elevating rail (elevating rail) LD (LD1 to LD3) Loading position UD (UD1 to UD3) Unloading position X Transport direction F1 First level F2 Second level F3 Third level
フロントページの続き (56)参考文献 特開 平5−339795(JP,A) 特開 平6−128797(JP,A) 特開2000−54197(JP,A) 特開 平5−320990(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C25D 17/06 C25D 19/00 B65G 49/02 B65G 49/04 Continuation of front page (56) References JP-A-5-339795 (JP, A) JP-A-6-128797 (JP, A) JP-A-2000-54197 (JP, A) JP-A-5-320990 (JP, A) A) (58) Field surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) C25D 17/06 C25D 19/00 B65G 49/02 B65G 49/04
Claims (1)
バッチ式後処理槽群をこの順でワーク搬送方向に配設
し、 連続処理槽の上方である第1階層に固定配設された連続
搬送レールを有しかつ冶具に保持されたワークを連続搬
送可能な連続搬送手段と,前処理槽群の上方である第1
階層とこの第1階層よりもさらに上方である第2階層と
の間を昇降可能な前置間欠搬送レールを有しかつ前置間
欠搬送レールが第2階層に位置決めされた状態において
冶具に保持されたワークを間欠搬送可能な前置間欠搬送
手段と,後処理槽群の上方である第1階層とこの第1階
層よりもさらに上方である第2階層との間を昇降可能な
後置間欠搬送レールを有しかつ後置間欠搬送レールが第
2階層に位置決めされた状態において冶具に保持された
ワークを間欠搬送可能な後置間欠搬送手段と,前置間欠
搬送レールおよび後置間欠搬送レールよりもさらに上方
である第3階層に固定配設された冶具戻し搬送レールを
有しかつワーク搬送方向の下流側で受取った冶具を上流
側へ戻し搬送可能な冶具戻し搬送手段とを設け、 さらに、後置間欠搬送レールの下流側に配設されかつ第
1階層に位置決めされた後置間欠搬送レールから上昇レ
ールに受け渡された冶具を冶具戻し搬送レールに引渡し
可能な位置まで上昇可能な上昇手段と,前置間欠搬送レ
ールの上流側に配設されかつ冶具戻し搬送レールから下
降レールに受け渡された冶具を第1階層に位置決めされ
た前置間欠搬送レールに引渡し可能な位置まで下降可能
な下降手段とを設けた、表面処理装置。(57) [Claims 1] A batch-type pretreatment tank group, a continuous processing tank group, and a batch-type post-treatment tank group are arranged in this order in the workpiece transfer direction, and are located above the continuous processing tank. A continuous transport means having a continuous transport rail fixedly arranged on the first level and capable of continuously transporting the work held by the jig; and a first transport means above the pretreatment tank group.
It has a front intermittent transfer rail that can be moved up and down between the first floor and a second floor higher than the first floor, and is held by the jig in a state where the front intermittent transfer rail is positioned on the second floor. Front intermittent transport means capable of intermittently transporting a workpiece, and intermittent rearward transport capable of moving up and down between a first level above the post-processing tank group and a second level above the first level. A rear intermittent conveyance means capable of intermittently conveying the work held by the jig in a state where the rear intermittent conveyance rail is positioned at the second level and a front intermittent conveyance rail and a rear intermittent conveyance rail; A jig return / transport means having a jig return / transport rail fixedly disposed on the third level, which is further above, and capable of returning and transporting the jig received on the downstream side in the workpiece transport direction to the upstream side; Post-intermittent transfer Means for raising the jig transferred from the post-intermittent transfer rail positioned on the first level and transferred to the lift rail to a position at which the jig can be transferred to the jig return transfer rail; A descent means disposed on the upstream side of the intermittent transfer rail and capable of lowering the jig transferred from the jig return transfer rail to the descending rail to a position where the jig can be delivered to the front intermittent transfer rail positioned at the first level; Surface treatment device provided with.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001198070A JP3512764B2 (en) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | Surface treatment equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001198070A JP3512764B2 (en) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | Surface treatment equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003013292A JP2003013292A (en) | 2003-01-15 |
| JP3512764B2 true JP3512764B2 (en) | 2004-03-31 |
Family
ID=19035575
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001198070A Expired - Fee Related JP3512764B2 (en) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | Surface treatment equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3512764B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5613499B2 (en) * | 2010-08-25 | 2014-10-22 | アルメックスPe株式会社 | Surface treatment equipment |
| JP5868290B2 (en) * | 2012-08-23 | 2016-02-24 | 三菱電機株式会社 | Photovoltaic device and manufacturing method thereof |
| CN109736036B (en) * | 2019-02-27 | 2023-05-12 | 岳西十行机械设备有限公司 | Fiber soaking method |
-
2001
- 2001-06-29 JP JP2001198070A patent/JP3512764B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2003013292A (en) | 2003-01-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN1101735C (en) | Coating equipment | |
| CN107012496A (en) | A fully automatic electroplating production line | |
| TW201036887A (en) | Automated warehouse | |
| CN107841726B (en) | Full-automatic film coating machine | |
| JP2012046782A (en) | Surface treatment apparatus | |
| JPH01172596A (en) | Treating device provided with rocking mechanism | |
| JP3512764B2 (en) | Surface treatment equipment | |
| JP4257897B2 (en) | Plating equipment | |
| KR200351226Y1 (en) | Plating surface treatment apparatus | |
| JPH10181866A (en) | Loader/unloader for elevator | |
| JP3107894B2 (en) | Transfer device for liquid treatment | |
| JP2004131227A (en) | Work transfer device | |
| JP5706201B2 (en) | Processing device and tray | |
| JP2675211B2 (en) | Surface treatment equipment | |
| JP2003011039A (en) | Continuous carrying apparatus | |
| CN112770513A (en) | Chemical deposition metal processing line and unit carrying and transporting structure | |
| KR0177010B1 (en) | Dipping device | |
| JP2006152345A (en) | Dipping treatment apparatus | |
| JP4684841B2 (en) | Surface treatment apparatus and surface treatment method | |
| JP2000102771A (en) | Conveying mechanism of automatic washer | |
| KR200341668Y1 (en) | Continuance conveyance apparatus of plating apparatus | |
| JP3755887B1 (en) | Substrate processing line | |
| JPS6131695B2 (en) | ||
| JP2014177713A (en) | Surface treatment apparatus | |
| JP4849255B2 (en) | Work equipment |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20031225 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040107 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |