JP3513009B2

JP3513009B2 - デイスプレイ前面板用転写材

Info

Publication number: JP3513009B2
Application number: JP10691498A
Authority: JP
Inventors: 経夫川端
Original assignee: Oike and Co Ltd
Current assignee: Oike and Co Ltd
Priority date: 1998-04-02
Filing date: 1998-04-02
Publication date: 2004-03-31
Anticipated expiration: 2018-04-02
Also published as: JPH11288225A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、テレビ等のディスプレ
イの前面板において必要とされる防汚性、反射防止性、
ハ−ドコ−ト性、電磁波シ−ルド性、近赤外線遮断性な
どを付与するディスプレイ前面板用転写材に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＣＲＴをはじめＬＣＤ、ＰＤＰ、
ＥＬ等、ディスプレイ分野は目まぐるしい発達を遂げて
いる。それに伴い、防汚性、反射防止性、ハ−ドコ−ト
性、電磁波シ−ルド性、近赤外線遮断性などの物性がデ
ィスプレイの前面板に要求されてきている。それに対
し、従来よりそれら機能を前面板に直接コ−ティングも
しくはプラスチックフィルムにコ−ティングしたものを
貼ることにより機能付与が行われてきた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
板、アクリル板等のプラスチック板の前面板に直接コ−
ティングを行う方法は、一枚、一枚枚葉でのコ−ティン
グとなるため、生産性、歩留が悪くなるため、加工コス
トが高くなる。更に、良好な外観性を得ることは非常に
困難であった。また、プラスチックフィルムにコ−ティ
ングしたものを前面板に貼る方法は、長時間使用、保管
することによりプラスチックフィルムが剥離する等の問
題が発生する。

【０００４】したがって、本発明の目的は、本発明の転
写材を使用することで、従来のディスプレイ前面板作成
方法における物性面、加工コスト面、生産性面、外観性
面等の問題点を解決し、防汚性、反射防止性、電磁波シ
−ルド性、近赤外線遮断性、加工コスト、生産性、外観
性などに優れたディスプレイ前面板用転写材を提供する
ものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本願発明の請求項１に記載の発明は、離型性を有す
るベースフィルム面上に、少なくとも、フッ素系低屈折
率ハードコート層と、金属酸化物含有高屈折率導電性ハ
ードコート層と、プライマー層と、近赤外線吸収剤を含
んでなる接着層と、をこの順に積層してなること、を特
徴とする。

【０００６】

【発明の実施態様】本発明のディスプレイ前面板用転写
材において用いる離型性を有するベースフィルムとして
は、特に制限はなく、離型性を有し、充分な自己保持性
を有する通常の転写箔に用いられるものであればいずれ
も用いることができる。例えばポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネ
ートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリアミドフィ
ルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリエチレンフィル
ム、ポリ塩化ビニルフィルムなどの合成樹脂フィルムや
セルロースアセテートフィルムなどの人造樹脂フィル
ム、セロハン紙、グラシン紙などの洋紙、和紙などのフ
ィルム状物、あるいはこれらの複合フィルム状物もしく
は複合シート状物などやまたそれらに離型処理を施した
ものがあげられる。

【０００７】ベースフィルムの厚さとしては、特に制限
はなく、通常４〜１５０μｍの範囲、好ましくは１２〜
１００μｍの範囲のもの、さらに好ましくは３０〜１０
０μｍの範囲のものを用いるのがしわや亀裂などのない
ディスプレイ前面板用転写材の製造が容易にできる点か
ら好ましい。これらのベースフイルムの離型性が不充分
なときは、離型層を形成してもよいもので、離型層の形
成材は、公知の離型層を形成するポリマーやワックスな
どを適宜選択使用でき、例えばパラフィンワックス、ア
クリル系、ウレタン系、シリコン系、メラミン系、尿素
系、尿素−メラミン系、セルロ−ス系、ベンゾグアナミ
ン系などの樹脂及び界面活性剤を単独またはこれらの混
合物を主成分とした有機溶剤もしくは水に溶解させた塗
料をグラビア印刷法、スクリ−ン印刷法、オフセット印
刷法などの通常の印刷法で前記ベ−スフィルム上に塗
布、乾燥（熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂、電子線硬
化性樹脂、放射線硬化性樹脂など硬化性塗膜には硬化）
させて形成したものがあげられる。離型層の厚さとして
は特に制限はなく、０．１〜３μｍ程度の範囲から適宜
採用される。０．１μｍ未満の場合、離型しにくくな
り、逆に３μｍを越えると離型しやすくなり過ぎて転写
前に箔の脱離が起こったり、コスト面で好ましくない。

【０００８】本発明のフッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト層
は、屈折率が１．５以下、このましくは１．４以下
（１．２以上）の低屈折率のものであって、透明性に優
れたフッ素原子含有のしかも塗膜形成後の鉛筆硬度がＨ
以上のものであり、金属酸化物を含有する高屈折率導電
性ハ−ドコ−ト層との密着性にも優れたものである。こ
れらのフッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト層形成用の原料化
合物の具体例としては、パーフルオロアルキレン基含有
の末端珪素化合物、パーフルオロアルキレン基含有エポ
キシ化合物、パーフルオロアルキレン基含有メラミン系
化合物、パーフルオロアルキレン基含有珪素化合物、等
が挙げられ、これらの化合物からフッ素系低屈折率ハ−
ドコ−ト層が形成される。前記の化合物に予めＳｉＯ₂
の微粒子などの低屈折率化剤を含有せしめて樹脂化され
ハードコート層として形成したものでもよい。これらの
フッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト層の厚さは０．０５μｍ
から０．２μｍの範囲でありより好ましくは０．０９μ
ｍから０．１１μｍの範囲である。

【０００９】本発明の金属酸化物を含有する高屈折率導
電性ハ−ドコ−ト層は、屈折率が１．７以上、好ましく
は１．８以上のものであって、透明性に優れしかも導電
性をも有したもので塗膜形成後の鉛筆硬度がＨ以上のも
のであり、フッ素系低屈折率ハ−ドコ−ト層とのまた金
属化合物及び金属からなる層またはプライマ−層との密
着性にも優れたものである。その具体例としては、平均
粒子径で０．０３μｍ以下のＩＴＯ，酸化錫、酸化亜
鉛、等の導電性微粒子およびまたは平均粒子径で０．０
３μｍ以下のＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂ _、ＣｅＯ₂等の高屈折率化
剤微粒子を含有する、従来からのハードコート層に使用
される樹脂からの組成物が使用できる。これらの金属酸
化物を含有する高屈折率導電性ハ−ドコ−ト層の厚さは
１．０μｍから１０μｍの範囲である。これらの厚さが
１．０μｍに満たない時は硬化がし難く、また硬度も充
分でなく、１０μｍを超える場合は、層の割れや硬化不
良が発生し易くなる。上記フッ素系低屈折率ハ−ドコ−
ト層と金属酸化物を含有する高屈折率導電性ハ−ドコ−
ト層との積層によって反射防止性能が発現する。

【００１０】本発明においてより好ましい態様として使
用される、金属化合物およびまたは金属からなる単層お
よびまたは積層体は、金属酸化物を含有する高屈折率導
電性ハ−ドコ−ト層上にさらに積層してもよいものであ
って、金属酸化物を含有する高屈折率導電性ハ−ドコ−
ト層の電磁波シールド性を補完する機能を有したもので
あり、また赤外線をも遮断する機能をも付与するもので
あり、例えば酸化錫系（その組み合わせ例として、酸化
錫／酸化亜鉛、酸化錫／硫酸バリウム、酸化錫／ほう酸
アルミニウム、酸化錫／チタン酸カリウム、酸化錫／酸
化チタン、酸化錫／酸化アンチモン、酸化錫／リン）、
酸化インジュウム系（その組み合わせ例として、酸化イ
ンジュウム／酸化錫、酸化インジュウム／酸化亜鉛）等
の金属化合物層と、金、銀、銅等の金属層の、単層およ
びまたは積層体（これらの層を層と総称する）であり、
その層の厚さは透明性を損なわない範囲でなければなら
ず、１〜３０ｎｍの範囲、好ましくは３〜２０ｎｍの範
囲である。上記金属化合物およびまたは金属からなる単
層およびまたは積層体は、上記の例示物の金属アルコキ
シドからのもの、または平均粒子径で０．０３μｍ以下
の微粒子を含有した組成物の塗布によって形成してもよ
いが、上記例示物を蒸着、スパッタリング等の手段によ
って形成してもよい。

【００１１】本発明においてより好ましい態様として使
用されるプライマ−層は、金属酸化物を含有する高屈折
率導電性ハ−ドコ−ト層または金属化合物およびまたは
金属からなる単層およびまたは積層体と接着層との密着
性を高めるために必要に応じて使用されるものであり、
接着層形成のポリマー成分と金属酸化物を含有する高屈
折率導電性ハ−ドコ−ト層または金属化合物およびまた
は金属からなる単層およびまたは積層体との両者に接着
性のよいポリマー成分を主とする組成物の塗布層であ
り、厚さは０．５〜５μｍ程度の範囲が好ましい。その
具体例としては、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、
メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂
等が挙げられる。

【００１２】本発明の接着層は、ディスプレイ前面板に
本発明の転写箔を密着さすためのものであり、特に制限
はなく、例えばアクリル系、酢酸ビニル系、塩化ビニル
系、スチレンーブタジエン系、塩化ビニルー酢酸ビニル
系、エチレンー酢酸ビニル系、ポリエステル系、塩化ゴ
ム系、塩素化ポリプロピレン系、ウレタン系などの樹脂
の単独またはこれらの混合物を主成分とするエマルジョ
ン系樹脂や有機溶剤型樹脂、水溶性樹脂から適宜選択採
用される。接着層は、前記樹脂を水や有機溶剤で希釈さ
せた塗液をグラビア印刷法、スクリーン印刷法、オフセ
ット印刷法等で、金属酸化物を含有する高屈折率導電性
ハ−ドコ−ト層または金属化合物及び金属からなる積層
体またはプライマー層上に塗布、乾燥（熱硬化性樹脂、
紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、放射線硬化性樹
脂など硬化性塗膜には硬化）させて形成される。接着層
の厚さとしては特に制限はなく、通常０．３〜２０μｍ
程度の範囲から被転写物である前面板の表面状態などに
応じて適宜選択採用される。

【００１３】本発明においては、上記接着層に近赤外線
吸収剤を含有せしめることが好ましく、そのことによっ
て反射防止性、電磁波シールド性以外に近赤外線遮断性
をも兼ね備えたディスプレイ前面板用転写材を得ること
ができる。近赤外線吸収剤としてはジイモニウム系化合
物、アミニウム系化合物、ポリメチン系化合物、シアニ
ン系化合物、アントラキノン系化合物などの単独または
これらの混合物が好ましい。この中でも特にジイモニウ
ム系化合物が広域な近赤外線吸収能、透明性などから好
ましい。上記接着層形成用樹脂と近赤外線吸収剤とを主
成分とした有機溶剤もしくは水に溶解させた塗料を溶解
もしくは分散させ、グラビヤ印刷法、スクリ−ン印刷
法、オフセット印刷法などの通常の印刷法で接着層を形
成する。近赤外線吸収剤入り（透明）接着層の厚さにつ
いては特に制限はなく、通常０．５〜２０μｍ程度の範
囲から適宜選択される。また、透明近赤外線吸収剤含有
接着層中の近赤外線吸収剤の含有量としては目的とする
近赤外線吸収効果に合わせて０．０５〜１．０ｇ／ｍ²
から適宜選択される。

【００１４】透明近赤外線吸収層の厚みが０．５μｍ未
満の場合、要求される近赤外線吸収能を得るためには透
明近赤外線吸収層中の近赤外線吸収剤の含有％を高くし
なければならず、透明近赤外線吸収層の膜質の低下、着
色性、膜厚管理などの面で好ましくない。また２０μｍ
を越えるとコスト面、膜厚管理などの面で好ましくな
い。透明近赤外線吸収層中の近赤外線吸収剤の含有量が
０．０５ｇ／ｍ²未満の場合、目的の近赤外線吸収効果
が得られないので好ましくない。また１．０ｇ／ｍ²を
越えると可視光線の透過性とコスト面で好ましくない。

【００１５】

【実施例】以下に実施例をあげて本発明を詳細に説明す
る。＊＊実施例厚さ５０μｍの２軸延伸ポリエステルフイルム上に、両
末端アクリレートパーフルオロアルキレン基含有珪素化
合物５部（以下、ことわらない限り重量部を示す）、Ｍ
ＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）５０部、ＭＥＫ（メ
チルエチルケトン）４５部からなる溶液をリバースコー
テイング法により塗布、乾燥して厚さ０．１μｍのフッ
素系低屈折率ハードコート層を形成した。このフッ素系
低屈折率ハードコート層上に、ウレタンアクリレート系
樹脂１部、平均粒子径で０．０３μｍの酸化錫５部と平
均粒子径で０．０２μｍの酸化チタン２部、平均粒子径
で０．０３μｍの酸化ジルコニウム２部、トルエン４０
部、ＭＥＫ５０部からなる溶液をリバースコーテイング
法により塗布、乾燥して厚さ３．５μｍの高屈折率導電
性ハ−ドコ−ト層を形成した。この高屈折率導電性ハ−
ドコ−ト層上に、マグネトロンスパッタリング法により
厚さ３０ｎｍのＩＴＯ（インジウム錫酸化物）層を形成
した。このＩＴＯ（インジウム錫酸化物）層上に、マグ
ネトロンスパッタリング法により厚さ１０ｎｍのＡｇ．
Ａｕ合金層（Ａｇ：Ａｕが８：２の比）を形成した。こ
のＡｇ．Ａｕ合金層上に、マグネトロンスパッタリング
法により厚さ３０ｎｍのＩＴＯ（インジウム錫酸化物）
層を形成した。さらにこのＩＴＯ（インジウム錫酸化
物）層上に、エチレン．酢ビ系樹脂１０部、トルエン５
０部、ＭＥＫ４０部からなる溶液をリバースコーテイン
グ法により塗布、乾燥して厚さ０．５μｍのプライマー
層を形成した。このプライマー層上に、アクリル樹脂２
５部、ジイモニウム系近赤外線吸収剤０．５部、トルエ
ン１００部、ＭＥＫ７０部からなる溶液をリバースコー
テイング法により塗布、乾燥して厚さ４．０μｍの接着
層を形成しディスプレイ前面板用転写材を得た。

【００１６】＜評価方法＞実施例で得られた転写材をア
クリル板に転写したサンプルについて以下の評価を行っ
た、結果を下記する。

【００１７】透過率；分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ
（島津製作所製）を用い５５０ｎｍの光線透過率を測定
した。単位は％である。

【００１８】反射率；分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ
（島津製作所製）を用い５５０ｎｍの光線反射率を測定
した。単位は％である。

【００１９】鉛筆硬度；ＪＩＳ−Ｋ５４００に準じて
測定した。

【００２０】耐スチールウール性；スチールウール♯
００００にて表層のフッ素系低屈折率ハードコート層を
擦り、傷の具合を判定した。Ａ；傷が付かない。
Ｂ；やや傷が付く。Ｃ；顕著に傷が付く

【００２１】電磁波シールド性；社団法人関西電子振
興センター、ＫＥＣ法（電界モード）にて１から１００
０ＭＨｚの範囲で測定した。単位はｄＢである。

【００２２】近赤外線透過率；分光光度計ＵＶ−３１
００ＰＣ（島津製作所製）を用い、８００ｎｍから１２
００ｎｍの光線透過率を測定した。単位は％である。｛結果｝透過率；７３反射率；１．０鉛筆硬度；４Ｈ耐スチールウール性；Ａ電磁波シールド性；６５（２０ＭＨｚ），４５（１００ＭＨｚ）近赤外線透過率；２３（８００ｎｍ），８（８５０ｎｍ），２（９００ｎｍ），１（９５０ｎｍ）１（１０００ｎｍ），２（１０５０ｎｍ）３（１１００ｎｍ），３（１１５０ｎｍ）３（１２００ｎｍ）

【００２３】

【発明の効果】本発明の転写材を使用することで、従来
のディスプレイ前面板作成方法における物性面、加工コ
スト面、生産性面、外観性面等の問題点を解決し、防汚
性、反射防止性、電磁波シ−ルド性、近赤外線遮断性、
加工コスト、生産性、外観性などに優れたディスプレイ
前面板用転写材を提供できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩＧ０２Ｂ 1/11 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｚ (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G09F 9/00 G02B 1/10 - 1/12

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】離型性を有するベースフィルム面上に、少なくとも、フッ素系低屈折率ハードコート層と、金属酸化物含有高
屈折率導電性ハードコート層と、プライマー層と、近赤
外線吸収剤を含んでなる接着層と、をこの順に積層して
なること、を特徴とする、ディスプレイ前面板用転写材。