JP3521150B2 - １，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンの製造方法 - Google Patents
１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンの製造方法Info
- Publication number
- JP3521150B2 JP3521150B2 JP26286693A JP26286693A JP3521150B2 JP 3521150 B2 JP3521150 B2 JP 3521150B2 JP 26286693 A JP26286693 A JP 26286693A JP 26286693 A JP26286693 A JP 26286693A JP 3521150 B2 JP3521150 B2 JP 3521150B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tert
- hydrocarbon solvent
- methyl
- butylphenyl
- tris
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は１，１，３−トリス（２
−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）
ブタン（以下、ＡＯ−３０と称することがある）の製造
方法に関し、詳しくは、芳香族炭化水素溶媒を不純物と
して含有するＡＯ−３０を特定の沸点を有する飽和炭化
水素系溶媒で処理することにより、不純物の低減された
ＡＯ−３０を製造する方法に関する。 【０００２】 【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ＡＯ−
３０は、ポリオレフィン、ＡＢＳ樹脂、スチレン−ブタ
ジエン共重合体等の合成高分子材料の酸化防止剤として
広く用いられている化合物であり、例えば、特公昭３９
−４４６９号公報に記載されているように、２−第三ブ
チル−５−メチルフェノールとクロトンアルデヒドとを
反応させることによって製造されることが知られてい
る。 【０００３】上記、特公昭３９−４４６９号公報には、
２−第三ブチル−５−メチルフェノールとクロトンアル
デヒドとをメタノール中、濃塩酸を触媒として反応させ
た後トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒から再
結晶することにより製造できることが記載されている。
しかしながら、このような方法で製造されたＡＯ−３０
にはかなりの量の溶媒が含有されており、臭気および衛
生上好ましくないばかりでなく、酸化防止剤として合成
高分子材料に配合した場合には発泡の原因ともなるた
め、その使用には大きな制約を受けていた。このような
不利益を回避するためには、低沸点の不純物の含有量を
２％以下に減少させることが必要とされていた。 【０００４】この溶媒を除去するためには、高温で長時
間加熱する必要があるが、工程上煩雑であるばかりでな
く製品に着色を与える欠点もあった。 【０００５】このため、特開昭５６−４０６２９号公報
には、反応終了後の粗生成物を含水メタノールで洗浄
し、次いで、水洗を行なうことにより、ＡＯ−３０を三
水和物として得る方法が提案されている。この方法によ
れば、有機溶媒を含有することはなく、臭気あるいは衛
生上の問題は解決できるものの、原料あるいは副生成物
等の不純物の除去が十分には行なえないばかりでなく、
結晶水として結合した水分が製品の約９重量％と極めて
多量なため、この水分が発泡原因となり、合成高分子材
料に配合した場合の発泡性を改善することはできなかっ
た。 【０００６】また、米国特許第４４６７１１９号明細書
には、反応終了後の粗生成物をトルエン等の芳香族炭化
水素溶媒で再結晶し、次いで含水アルコールで処理する
ことにより芳香族炭化水素溶媒の含有量の低減されたＡ
Ｏ−３０の製造方法が提案されている。しかしながら、
この方法では芳香族炭化水素溶媒の除去が不十分である
ばかりでなく、用いた含水アルコールがＡＯ−３０中に
抱き込まれてしまうため、低沸点不純物を低減させる目
的には適していなかった。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の現
状に鑑み、低沸点不純物の含有量の低減された１，１，
３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブ
チルフェニル）ブタンを製造する方法を見出すべく鋭意
検討を重ねた結果、特定の沸点を有する飽和炭化水素系
溶媒で処理することにより、低沸点不純物の含有量が著
しく低減された１，１，３−トリス（２−メチル−４−
ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンが得られ
ることを見出し本発明に到達した。 【０００８】即ち、本発明は、芳香族炭化水素溶媒を不
純物として含有する１，１，３−トリス（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンを沸
点１２０〜２００℃の飽和炭化水素系溶媒で処理するこ
とを特徴とする、不純物の低減された１，１，３−トリ
ス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェ
ニル）ブタンの製造方法を提供するものである。 【０００９】以下、上記要旨をもってなる本発明の製造
方法についてさらに詳細に説明する。 【００１０】本発明の方法で処理される１，１，３−ト
リス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフ
ェニル）ブタンは、２−第三ブチル−５−メチルフェノ
ールとクロトンアルデヒドとを反応させることによって
製造されるものであり、本発明においては、この反応が
終了した反応混合物から反応溶媒を除去した粗生成物を
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒から再結晶
した、芳香族炭化水素溶媒を不純物として含有するもの
である。 【００１１】本発明の方法において処理に用いられる飽
和炭化水素系溶媒は、沸点が１２０〜２００℃の範囲の
ものである。沸点が１２０℃未満のものは、引火性が大
きく使用上危険であるばかりでなく、処理温度が低いた
め不純物を十分除去できないので好ましくない。また、
沸点が２００℃を超えるものは処理後の乾燥工程に長時
間を要することとなり、製品の着色原因となるので好ま
しくない。 【００１２】また、本発明で用いられる飽和炭化水素溶
媒としては、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン、
ｎ−ウンデカン、ｎ−ドデカン等の直鎖飽和炭化水素あ
るいは２−メチルオクタン、３−メチルオクタン、４−
メチルオクタン、２−エチルヘプタン、２，２−ジメチ
ルヘプタン、２，３−ジメチルヘプタン、２，４−ジメ
チルヘプタン、２，２，３−トリメチルヘキサン、２，
２，４−トリメチルヘキサン、２，２，５−トリメチル
ヘキサン、２−メチルノナン、３−メチルノナン、２，
２−ジメチルオクタン、２，２，６−トリメチルヘプタ
ン、２，２−ジメチル−４−エチルヘキサン等の分岐飽
和炭化水素を主成分とするパラフィン系炭化水素溶媒あ
るいはエチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサ
ン、メチルエチルシクロヘプタン、トリメチルシクロペ
ンタン等のナフテン系炭化水素溶媒があげられ、また、
これらは単一の飽和炭化水素化合物からなるものであっ
ても、または、多数の飽和炭化水素化合物の混合物であ
ってもよく、通常市販されている飽和炭化水素系溶媒を
用いることができる。 【００１３】また、この飽和炭化水素系溶媒は、上記沸
点範囲に包含されることを条件に、少量の芳香族炭化水
素溶媒を含有するものであってもよいが、芳香族炭化水
素溶媒の含有量は、３０重量％以下、より好ましくは２
０重量％以下でなければならない。芳香族炭化水素溶媒
の含有量が３０重量％より多い場合には含有量に伴って
ＡＯ−３０の溶解量が増加し、収率が低下するばかりで
なく用いた溶媒がＡＯ−３０中に含まれることもあり好
ましくない。 【００１４】飽和炭化水素系溶媒はＡＯ−３０をほとん
ど溶解せず、含有される不純物の芳香族炭化水素のみを
除去するので、処理による収率の低下はほとんど認めら
れない。また、飽和炭化水素系溶媒のＡＯ−３０に対す
る使用量は特に限定されないが、通常は処理時の撹拌を
容易にするためにＡＯ−３０の０．５〜１０倍量が用い
られる。溶媒の使用量が０．５倍未満のときは撹拌が困
難となるおそれがあり、また、１０倍を超えて使用する
とバッチ当たりの処理量を低下させることとなる。 【００１５】また、処理は室温〜溶媒の沸点までの任意
の温度で行なうことができるが、短時間で処理を行なわ
せるためには加熱下に処理することが好ましく、通常は
６０〜１８０℃の範囲で処理することが好ましい。 【００１６】本発明の方法で製造されたＡＯ−３０は、
芳香族炭化水素不純物が著しく低減されており、また、
処理に使用した飽和炭化水素溶媒もほとんど残存しない
ので使用時に臭気が発生することもなく、また、酸化防
止剤として合成高分子材料に用いたときにも発泡等の悪
影響を及ぼすことがないという特徴を有するものであ
る。 【００１７】 【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定され
るものではない。 【００１８】（ＡＯ−３０の製造例）２−第三ブチル−
５−メチルフェノール４９２ｇ、メタノール３５０ｇお
よび濃塩酸１７５ｇをとり、撹拌しながら加熱し、メタ
ノールが還流を開始した時点でクロトンアルデヒド７０
ｇをゆっくりと滴下し、滴下終了後１時間さらに撹拌を
続けた。 【００１９】炭酸ナトリウム２６ｇを３００ｇの水に溶
解した溶液を加え、塩酸を中和した後、メタノールを留
去し、トルエン１５００ｇをゆっくり加え、反応生成物
を溶解させた。有機層をとり、水洗を２回行なった後、
撹拌しながら室温までゆっくりと冷却した。析出した生
成物（１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキ
シ−５−第三ブチルフェニル）ブタン）をろ別し、乾燥
した。 【００２０】得られた生成物の分析の結果、目的物（Ａ
Ｏ−３０）：８４．４％、水：１．２％、メタノール：
２．７％、トルエン：１１．０％、その他：０．７％を
含有していた。 【００２１】（実施例１）製造例で得られた生成物５
０．０ｇおよび沸点１５６〜１７５℃のイソパラフィン
系炭化水素溶媒（アイソパーＧ：エクソン化学製）１０
０ｇをとり、１２０℃で３０分間撹拌した。冷却後ろ過
し、３０〜１０ｍｍＨｇの減圧下に９５℃で２時間乾燥
し、白色粉末の処理物４２．４ｇを得た。処理物の分析
結果、ＡＯ−３０：９８．７％、水：０．１％、メタノ
ール：０．１％、トルエン０．２％、その他０．９％で
あり、ＡＯ−３０の回収率は９９．１％であった。ま
た、示差熱分析の結果、１８５℃までの重量減少は１．
１％であった。 【００２２】（実施例２）溶媒の使用量を２００ｇとす
る以外は実施例１と同様の操作によって処理を行ない、
処理物４２．１ｇを得た。処理物の分析結果、ＡＯ−３
０：９９．１％、水：０．１％、メタノール：不検出、
トルエン０．１％、その他０．７％であり、ＡＯ−３０
の回収率は９８．８％であった。また、示差熱分析の結
果、１８５℃までの重量減少は０．８％であった。 【００２３】（実施例３）炭化水素溶媒として、ナフテ
ン系炭化水素２６．４％、パラフィン系炭化水素５８．
０％および芳香族炭化水素１５．６％の組成を有する沸
点範囲１５４〜１９７℃の混合溶媒（エクソンナフサ
Ｎｏ．５：エクソン化学製）１００ｇを用いる他は実施
例１と同様の操作によって処理を行ない、処理物４１．
６ｇを得た。処理物の分析結果、ＡＯ−３０：９８．２
％、水：０．２％、メタノール：０．１％、トルエン
０．６％、その他０．９％であり、ＡＯ−３０の回収率
は９６．８％であった。また、示差熱分析の結果、１８
５℃までの重量減少は１．６％であった。 【００２４】（比較例１）製造例で得られた製造物を処
理することなく３０〜１０ｍｍＨｇの減圧下に９５℃で
２時間乾燥した。乾燥物の分析結果、ＡＯ−３０：９
５．１％、水：０．４％、メタノール：０．６％、トル
エン：３．４％、その他：０．５％を含有していた。ま
た、示差熱分析の結果、１８５℃までの重量減少は４．
５％であった。 【００２５】（比較例２）製造例で得られた生成物５
０．０ｇおよび沸点１８０〜２１５℃の芳香族炭化水素
溶媒（ＩＰ１５０：出光石油化学製）２００ｇをとり、
１２０℃で３０分間撹拌したところ完全に溶解した。冷
却後析出した粉末をろ過し、３０〜１０ｍｍＨｇの減圧
下に９５℃で２時間乾燥し、白色粉末の処理物４２．１
ｇを得た。処理物の分析結果、ＡＯ−３０：８９．２
％、水：０．２％、メタノール：不検出、トルエン０．
２％、その他１０．４％であり、ＡＯ−３０の回収率は
８９．０％であった。また、示差熱分析の結果、１８５
℃までの重量減少は５．０％であった。 【００２６】（比較例３）製造例で得られた生成物５
０．０ｇおよび２５％含水メタノール２００ｇをとり、
還流下に３０分間撹拌した。冷却後ろ過し、３０〜１０
ｍｍＨｇの減圧下に９５℃で２時間乾燥し、白色粉末の
処理物４２．５ｇを得た。処理物の分析結果、ＡＯ−３
０：９５．２％、水：０．８％、メタノール：２．１
％、トルエン１．３％、その他０．６％であり、ＡＯ−
３０の回収率は９６．０％であった。また、示差熱分析
の結果、１８５℃までの重量減少は４．４％であった。 【００２７】（比較例４）製造例で得られた生成物５
０．０ｇおよび石油エーテル（沸点３０〜７０℃）２０
０ｇをとり、還流下に３０分間撹拌した。冷却後ろ過
し、３０〜１０ｍｍＨｇの減圧下に９５℃で２時間乾燥
し、白色粉末の処理物４３．１ｇを得た。処理物の分析
結果、ＡＯ−３０：９５．９％、水：０．４％、メタノ
ール：０．１％、トルエン３．１％、その他０．５％で
あり、ＡＯ−３０の回収率は９７．９％であった。ま
た、示差熱分析の結果、１８５℃までの重量減少は３．
７％であった。 【００２８】各実施例に示したように、特定の沸点範囲
の飽和炭化水素系溶媒を用いて処理することにより、目
的物である１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンの収率をほと
んど低下させずに低沸点の不純物の含有量を著しく減少
できることが明らかである。 【００２９】これに対し、処理を行なわずに乾燥しただ
けでは低沸点の不純物の量を大幅に減少させることはで
きない。また、溶媒を用いて処理した場合にも、芳香族
炭化水素を用いた場合にはトルエンの含有量は減少させ
ることができるが、逆に用いた芳香族炭化水素が残存
し、不純物の量を大幅に減少させることができないばか
りか、目的物が溶解してしまうために収率が低下してし
まい、目的物を溶解させない含水アルコールを用いた場
合には収率はあまり低下させずにトルエンの含有量を減
少させることができるが、水およびアルコールの含有量
が増加してしまい低沸点の不純物を十分に減少させるこ
とはできず、また、低沸点の脂肪族炭化水素を用いた場
合には収率は低下させないが、不純物の除去が不十分で
ある。 【００３０】 【発明の効果】１，１，３−トリス（２−メチル−４−
ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンを特定の
沸点を有する飽和炭化水素溶媒で処理することによっ
て、収率を低下させることなく、低沸点の不純物を除去
することができる。
−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）
ブタン（以下、ＡＯ−３０と称することがある）の製造
方法に関し、詳しくは、芳香族炭化水素溶媒を不純物と
して含有するＡＯ−３０を特定の沸点を有する飽和炭化
水素系溶媒で処理することにより、不純物の低減された
ＡＯ−３０を製造する方法に関する。 【０００２】 【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ＡＯ−
３０は、ポリオレフィン、ＡＢＳ樹脂、スチレン−ブタ
ジエン共重合体等の合成高分子材料の酸化防止剤として
広く用いられている化合物であり、例えば、特公昭３９
−４４６９号公報に記載されているように、２−第三ブ
チル−５−メチルフェノールとクロトンアルデヒドとを
反応させることによって製造されることが知られてい
る。 【０００３】上記、特公昭３９−４４６９号公報には、
２−第三ブチル−５−メチルフェノールとクロトンアル
デヒドとをメタノール中、濃塩酸を触媒として反応させ
た後トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒から再
結晶することにより製造できることが記載されている。
しかしながら、このような方法で製造されたＡＯ−３０
にはかなりの量の溶媒が含有されており、臭気および衛
生上好ましくないばかりでなく、酸化防止剤として合成
高分子材料に配合した場合には発泡の原因ともなるた
め、その使用には大きな制約を受けていた。このような
不利益を回避するためには、低沸点の不純物の含有量を
２％以下に減少させることが必要とされていた。 【０００４】この溶媒を除去するためには、高温で長時
間加熱する必要があるが、工程上煩雑であるばかりでな
く製品に着色を与える欠点もあった。 【０００５】このため、特開昭５６−４０６２９号公報
には、反応終了後の粗生成物を含水メタノールで洗浄
し、次いで、水洗を行なうことにより、ＡＯ−３０を三
水和物として得る方法が提案されている。この方法によ
れば、有機溶媒を含有することはなく、臭気あるいは衛
生上の問題は解決できるものの、原料あるいは副生成物
等の不純物の除去が十分には行なえないばかりでなく、
結晶水として結合した水分が製品の約９重量％と極めて
多量なため、この水分が発泡原因となり、合成高分子材
料に配合した場合の発泡性を改善することはできなかっ
た。 【０００６】また、米国特許第４４６７１１９号明細書
には、反応終了後の粗生成物をトルエン等の芳香族炭化
水素溶媒で再結晶し、次いで含水アルコールで処理する
ことにより芳香族炭化水素溶媒の含有量の低減されたＡ
Ｏ−３０の製造方法が提案されている。しかしながら、
この方法では芳香族炭化水素溶媒の除去が不十分である
ばかりでなく、用いた含水アルコールがＡＯ−３０中に
抱き込まれてしまうため、低沸点不純物を低減させる目
的には適していなかった。 【０００７】 【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記の現
状に鑑み、低沸点不純物の含有量の低減された１，１，
３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブ
チルフェニル）ブタンを製造する方法を見出すべく鋭意
検討を重ねた結果、特定の沸点を有する飽和炭化水素系
溶媒で処理することにより、低沸点不純物の含有量が著
しく低減された１，１，３−トリス（２−メチル−４−
ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンが得られ
ることを見出し本発明に到達した。 【０００８】即ち、本発明は、芳香族炭化水素溶媒を不
純物として含有する１，１，３−トリス（２−メチル−
４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンを沸
点１２０〜２００℃の飽和炭化水素系溶媒で処理するこ
とを特徴とする、不純物の低減された１，１，３−トリ
ス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェ
ニル）ブタンの製造方法を提供するものである。 【０００９】以下、上記要旨をもってなる本発明の製造
方法についてさらに詳細に説明する。 【００１０】本発明の方法で処理される１，１，３−ト
リス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフ
ェニル）ブタンは、２−第三ブチル−５−メチルフェノ
ールとクロトンアルデヒドとを反応させることによって
製造されるものであり、本発明においては、この反応が
終了した反応混合物から反応溶媒を除去した粗生成物を
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒から再結晶
した、芳香族炭化水素溶媒を不純物として含有するもの
である。 【００１１】本発明の方法において処理に用いられる飽
和炭化水素系溶媒は、沸点が１２０〜２００℃の範囲の
ものである。沸点が１２０℃未満のものは、引火性が大
きく使用上危険であるばかりでなく、処理温度が低いた
め不純物を十分除去できないので好ましくない。また、
沸点が２００℃を超えるものは処理後の乾燥工程に長時
間を要することとなり、製品の着色原因となるので好ま
しくない。 【００１２】また、本発明で用いられる飽和炭化水素溶
媒としては、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン、
ｎ−ウンデカン、ｎ−ドデカン等の直鎖飽和炭化水素あ
るいは２−メチルオクタン、３−メチルオクタン、４−
メチルオクタン、２−エチルヘプタン、２，２−ジメチ
ルヘプタン、２，３−ジメチルヘプタン、２，４−ジメ
チルヘプタン、２，２，３−トリメチルヘキサン、２，
２，４−トリメチルヘキサン、２，２，５−トリメチル
ヘキサン、２−メチルノナン、３−メチルノナン、２，
２−ジメチルオクタン、２，２，６−トリメチルヘプタ
ン、２，２−ジメチル−４−エチルヘキサン等の分岐飽
和炭化水素を主成分とするパラフィン系炭化水素溶媒あ
るいはエチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサ
ン、メチルエチルシクロヘプタン、トリメチルシクロペ
ンタン等のナフテン系炭化水素溶媒があげられ、また、
これらは単一の飽和炭化水素化合物からなるものであっ
ても、または、多数の飽和炭化水素化合物の混合物であ
ってもよく、通常市販されている飽和炭化水素系溶媒を
用いることができる。 【００１３】また、この飽和炭化水素系溶媒は、上記沸
点範囲に包含されることを条件に、少量の芳香族炭化水
素溶媒を含有するものであってもよいが、芳香族炭化水
素溶媒の含有量は、３０重量％以下、より好ましくは２
０重量％以下でなければならない。芳香族炭化水素溶媒
の含有量が３０重量％より多い場合には含有量に伴って
ＡＯ−３０の溶解量が増加し、収率が低下するばかりで
なく用いた溶媒がＡＯ−３０中に含まれることもあり好
ましくない。 【００１４】飽和炭化水素系溶媒はＡＯ−３０をほとん
ど溶解せず、含有される不純物の芳香族炭化水素のみを
除去するので、処理による収率の低下はほとんど認めら
れない。また、飽和炭化水素系溶媒のＡＯ−３０に対す
る使用量は特に限定されないが、通常は処理時の撹拌を
容易にするためにＡＯ−３０の０．５〜１０倍量が用い
られる。溶媒の使用量が０．５倍未満のときは撹拌が困
難となるおそれがあり、また、１０倍を超えて使用する
とバッチ当たりの処理量を低下させることとなる。 【００１５】また、処理は室温〜溶媒の沸点までの任意
の温度で行なうことができるが、短時間で処理を行なわ
せるためには加熱下に処理することが好ましく、通常は
６０〜１８０℃の範囲で処理することが好ましい。 【００１６】本発明の方法で製造されたＡＯ−３０は、
芳香族炭化水素不純物が著しく低減されており、また、
処理に使用した飽和炭化水素溶媒もほとんど残存しない
ので使用時に臭気が発生することもなく、また、酸化防
止剤として合成高分子材料に用いたときにも発泡等の悪
影響を及ぼすことがないという特徴を有するものであ
る。 【００１７】 【実施例】以下、実施例によって本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定され
るものではない。 【００１８】（ＡＯ−３０の製造例）２−第三ブチル−
５−メチルフェノール４９２ｇ、メタノール３５０ｇお
よび濃塩酸１７５ｇをとり、撹拌しながら加熱し、メタ
ノールが還流を開始した時点でクロトンアルデヒド７０
ｇをゆっくりと滴下し、滴下終了後１時間さらに撹拌を
続けた。 【００１９】炭酸ナトリウム２６ｇを３００ｇの水に溶
解した溶液を加え、塩酸を中和した後、メタノールを留
去し、トルエン１５００ｇをゆっくり加え、反応生成物
を溶解させた。有機層をとり、水洗を２回行なった後、
撹拌しながら室温までゆっくりと冷却した。析出した生
成物（１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキ
シ−５−第三ブチルフェニル）ブタン）をろ別し、乾燥
した。 【００２０】得られた生成物の分析の結果、目的物（Ａ
Ｏ−３０）：８４．４％、水：１．２％、メタノール：
２．７％、トルエン：１１．０％、その他：０．７％を
含有していた。 【００２１】（実施例１）製造例で得られた生成物５
０．０ｇおよび沸点１５６〜１７５℃のイソパラフィン
系炭化水素溶媒（アイソパーＧ：エクソン化学製）１０
０ｇをとり、１２０℃で３０分間撹拌した。冷却後ろ過
し、３０〜１０ｍｍＨｇの減圧下に９５℃で２時間乾燥
し、白色粉末の処理物４２．４ｇを得た。処理物の分析
結果、ＡＯ−３０：９８．７％、水：０．１％、メタノ
ール：０．１％、トルエン０．２％、その他０．９％で
あり、ＡＯ−３０の回収率は９９．１％であった。ま
た、示差熱分析の結果、１８５℃までの重量減少は１．
１％であった。 【００２２】（実施例２）溶媒の使用量を２００ｇとす
る以外は実施例１と同様の操作によって処理を行ない、
処理物４２．１ｇを得た。処理物の分析結果、ＡＯ−３
０：９９．１％、水：０．１％、メタノール：不検出、
トルエン０．１％、その他０．７％であり、ＡＯ−３０
の回収率は９８．８％であった。また、示差熱分析の結
果、１８５℃までの重量減少は０．８％であった。 【００２３】（実施例３）炭化水素溶媒として、ナフテ
ン系炭化水素２６．４％、パラフィン系炭化水素５８．
０％および芳香族炭化水素１５．６％の組成を有する沸
点範囲１５４〜１９７℃の混合溶媒（エクソンナフサ
Ｎｏ．５：エクソン化学製）１００ｇを用いる他は実施
例１と同様の操作によって処理を行ない、処理物４１．
６ｇを得た。処理物の分析結果、ＡＯ−３０：９８．２
％、水：０．２％、メタノール：０．１％、トルエン
０．６％、その他０．９％であり、ＡＯ−３０の回収率
は９６．８％であった。また、示差熱分析の結果、１８
５℃までの重量減少は１．６％であった。 【００２４】（比較例１）製造例で得られた製造物を処
理することなく３０〜１０ｍｍＨｇの減圧下に９５℃で
２時間乾燥した。乾燥物の分析結果、ＡＯ−３０：９
５．１％、水：０．４％、メタノール：０．６％、トル
エン：３．４％、その他：０．５％を含有していた。ま
た、示差熱分析の結果、１８５℃までの重量減少は４．
５％であった。 【００２５】（比較例２）製造例で得られた生成物５
０．０ｇおよび沸点１８０〜２１５℃の芳香族炭化水素
溶媒（ＩＰ１５０：出光石油化学製）２００ｇをとり、
１２０℃で３０分間撹拌したところ完全に溶解した。冷
却後析出した粉末をろ過し、３０〜１０ｍｍＨｇの減圧
下に９５℃で２時間乾燥し、白色粉末の処理物４２．１
ｇを得た。処理物の分析結果、ＡＯ−３０：８９．２
％、水：０．２％、メタノール：不検出、トルエン０．
２％、その他１０．４％であり、ＡＯ−３０の回収率は
８９．０％であった。また、示差熱分析の結果、１８５
℃までの重量減少は５．０％であった。 【００２６】（比較例３）製造例で得られた生成物５
０．０ｇおよび２５％含水メタノール２００ｇをとり、
還流下に３０分間撹拌した。冷却後ろ過し、３０〜１０
ｍｍＨｇの減圧下に９５℃で２時間乾燥し、白色粉末の
処理物４２．５ｇを得た。処理物の分析結果、ＡＯ−３
０：９５．２％、水：０．８％、メタノール：２．１
％、トルエン１．３％、その他０．６％であり、ＡＯ−
３０の回収率は９６．０％であった。また、示差熱分析
の結果、１８５℃までの重量減少は４．４％であった。 【００２７】（比較例４）製造例で得られた生成物５
０．０ｇおよび石油エーテル（沸点３０〜７０℃）２０
０ｇをとり、還流下に３０分間撹拌した。冷却後ろ過
し、３０〜１０ｍｍＨｇの減圧下に９５℃で２時間乾燥
し、白色粉末の処理物４３．１ｇを得た。処理物の分析
結果、ＡＯ−３０：９５．９％、水：０．４％、メタノ
ール：０．１％、トルエン３．１％、その他０．５％で
あり、ＡＯ−３０の回収率は９７．９％であった。ま
た、示差熱分析の結果、１８５℃までの重量減少は３．
７％であった。 【００２８】各実施例に示したように、特定の沸点範囲
の飽和炭化水素系溶媒を用いて処理することにより、目
的物である１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒド
ロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンの収率をほと
んど低下させずに低沸点の不純物の含有量を著しく減少
できることが明らかである。 【００２９】これに対し、処理を行なわずに乾燥しただ
けでは低沸点の不純物の量を大幅に減少させることはで
きない。また、溶媒を用いて処理した場合にも、芳香族
炭化水素を用いた場合にはトルエンの含有量は減少させ
ることができるが、逆に用いた芳香族炭化水素が残存
し、不純物の量を大幅に減少させることができないばか
りか、目的物が溶解してしまうために収率が低下してし
まい、目的物を溶解させない含水アルコールを用いた場
合には収率はあまり低下させずにトルエンの含有量を減
少させることができるが、水およびアルコールの含有量
が増加してしまい低沸点の不純物を十分に減少させるこ
とはできず、また、低沸点の脂肪族炭化水素を用いた場
合には収率は低下させないが、不純物の除去が不十分で
ある。 【００３０】 【発明の効果】１，１，３−トリス（２−メチル−４−
ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンを特定の
沸点を有する飽和炭化水素溶媒で処理することによっ
て、収率を低下させることなく、低沸点の不純物を除去
することができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 平１−301634（ＪＰ，Ａ)
特開 平１−226842（ＪＰ，Ａ)
特開 昭56−40629（ＪＰ，Ａ)
特公 昭39−4469（ＪＰ，Ｂ１)
特公 昭42−533（ＪＰ，Ｂ１)
特公 昭32−426（ＪＰ，Ｂ１)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C07C 39/00
C07C 37/00
Claims (1)
- (57)【特許請求の範囲】 【請求項１】 芳香族炭化水素溶媒を不純物として含有
する１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ
−５−第三ブチルフェニル）ブタンを、沸点１２０〜２
００℃の飽和炭化水素系溶媒で処理することを特徴とす
る、不純物の低減された１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26286693A JP3521150B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | １，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26286693A JP3521150B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | １，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0789889A JPH0789889A (ja) | 1995-04-04 |
| JP3521150B2 true JP3521150B2 (ja) | 2004-04-19 |
Family
ID=17381721
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26286693A Expired - Lifetime JP3521150B2 (ja) | 1993-09-27 | 1993-09-27 | １，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3521150B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114516783B (zh) * | 2022-03-10 | 2023-03-03 | 江苏极易新材料有限公司 | 一种抗氧剂的合成方法 |
-
1993
- 1993-09-27 JP JP26286693A patent/JP3521150B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0789889A (ja) | 1995-04-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2002034713A1 (en) | Process for producing b-form nateglinide crystal | |
| WO2004085371A1 (de) | Verfahren zur abtrennung von monomeren aus einer monomer-haltigen zusammensetzung | |
| SK13442002A3 (sk) | Spôsob rafinácie cyklických esterov | |
| DE3034060C2 (ja) | ||
| EP2054367B1 (en) | Process for the preparation of sodium salt of ibuprofen of different particle sizes | |
| JP3521150B2 (ja) | １，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタンの製造方法 | |
| KR20010043407A (ko) | 차단된 폴리하이드록시스티렌 수지의 정제된 용액의제조방법 | |
| WO2001085657A1 (en) | Synthesis of cyclohexene dimethanol compounds | |
| EP1819661B1 (en) | Crystallization method for benzphetamine | |
| CA1067085A (fr) | Stabilisants des polymeres et copolymeres du chlorure de vinyle | |
| JP3570759B2 (ja) | 高純度の２−ｔ−ブチルハイドロキノンと２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノンとを同時に製造する方法 | |
| JPS6244538B2 (ja) | ||
| JPH02152945A (ja) | ２−（４−ヒドロキシフェノキシ）プロピオン酸エステルの精製法 | |
| JP3312811B2 (ja) | トランス−１，４−シクロヘキサンジメタノールジアルキルスルホネートの精製方法 | |
| KR100567926B1 (ko) | 파라-디옥사논의 정제방법 | |
| JPS62138452A (ja) | ポリアルキレングリコ−ルモノオレエ−トの製造法 | |
| JPS62142141A (ja) | ソルビタンオレエ−トの製造法 | |
| BE840903R (fr) | Procede de preparation d'une composition tensio-active obtenue par transesterification du saccharose avec un ou plusieurs triglycerides | |
| JPS6023338A (ja) | 高純度ｐ，ｐ′−ビフエノ−ルの製造方法 | |
| JP3800356B2 (ja) | エトポシドの異性体の生成を抑える方法 | |
| JPS61204152A (ja) | アシロキシナフタレンおよびその誘導体の製造法 | |
| KR20000028822A (ko) | 2,3,5-트리메틸-ｐ-벤조퀴논의 정제 및 분리 방법 | |
| KR20020091078A (ko) | α-(2-4-디술포페닐)-Ｎ-ｔｅｒｔ-부틸니트론 및 제약상허용되는 그의 염의 신규 제조 방법 | |
| JP2694775B2 (ja) | ショ糖脂肪酸エステルの精製方法 | |
| JPH02502533A (ja) | ペンタエリトリル‐テトラキス‐［３‐（３，５‐ジ第三ブチル‐４‐ヒドロキシフェニル）プロピオナート］を該生成物の合成において得られた反応物から回収する方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040127 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040202 |
|
| S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080213 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090213 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090213 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100213 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110213 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110213 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120213 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130213 Year of fee payment: 9 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |