JP3527460B2 - Ultrashort pulse X-ray pulse waveform measurement method - Google Patents
Ultrashort pulse X-ray pulse waveform measurement methodInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、超短パルスX線の
パルス波形を高時間分解能で計測する方法に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for measuring a pulse waveform of ultrashort pulse X-ray with high time resolution.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、高出力の超短パルスレーザ光を利
用することによって、超短パルスX線を発生させる光源
が開発されている。これらの超短パルスX線光源によっ
て、100ps(ピコ秒)から100fs(フェムト
秒)程度のX線パルスが得られている。従来、これらの
X線パルス波形を計測するために、高時間分解能を有す
るX線計測器であるX線ストリークカメラが広く利用さ
れている。2. Description of the Related Art In recent years, a light source for generating ultrashort pulse X-rays has been developed by utilizing high-power ultrashort pulse laser light. With these ultrashort pulse X-ray light sources, X-ray pulses of about 100 ps (picoseconds) to 100 fs (femtoseconds) have been obtained. Conventionally, in order to measure these X-ray pulse waveforms, an X-ray streak camera, which is an X-ray measuring instrument having high time resolution, has been widely used.
【0003】しかしながら、X線ストリークカメラの時
間分解能は、ps程度であるため、ps以下の時間幅を
有する超短パルスX線は測定することができないという
問題点があった。しかも、X線ストリークカメラの時間
分解能は、ストリーク管への印加電圧の掃引速度、光電
子の初速分布、電子系の空間分解能などにより決まって
おり、サブpsの時間分解能を実現することは原理的に
極めて難しい。However, since the time resolution of the X-ray streak camera is about ps, there is a problem that ultrashort pulse X-rays having a time width of ps or less cannot be measured. Moreover, the time resolution of the X-ray streak camera is determined by the sweep speed of the voltage applied to the streak tube, the initial velocity distribution of photoelectrons, the spatial resolution of the electronic system, etc., and it is theoretically possible to realize sub-ps time resolution. Extremely difficult.
【0004】そこで、超短パルスレーザ光を希ガスに照
射することによって引き起こされる希ガスの超高速イオ
ン化を超高速シャッタとして利用する方法、すなわち、
超短パルスレーザ光を希ガスに照射することによって、
中性原子を消滅させ、中性原子固有のX線吸収の高速変
化を計測することで、超短パルスX線のパルス波形を測
定することが試みられた(M.H.Sher,U.Mohideen,H.W.K.
Tom,O.R.Wood II,G.D.Aumiller,and R.R.Freeman,Opt.L
ett.18,646(1993))。しかしながら、この方法では、超
高速で消滅させた中性原子が再び現れるまでに長い時間
が必要となるため、狭い時間幅を有するゲートとしての
作用をしないことから、X線パルス波形を得るために測
定されたデータを微分する必要がある。そのため、誤差
が大きくなり、信頼度が低いという問題があった。Therefore, a method of utilizing the ultrafast ionization of the rare gas caused by irradiating the rare gas with the ultrashort pulsed laser light as an ultrafast shutter, that is,
By irradiating the rare gas with ultrashort pulsed laser light,
An attempt was made to measure the pulse waveform of ultrashort pulsed X-rays by extinguishing neutral atoms and measuring the rapid change in X-ray absorption characteristic of neutral atoms (MHSher, U. Mohideen, HWK).
Tom, ORWood II, GDAumiller, and RRFreeman, Opt.L
ett. 18,646 (1993)). However, in this method, since it takes a long time for the neutral atoms that have been extinguished at an ultra high speed to reappear, it does not act as a gate having a narrow time width. It is necessary to differentiate the measured data. Therefore, there is a problem that the error becomes large and the reliability is low.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】以上のように、サブp
sの時間幅を持つ超短パルスX線のパルス波形を測定す
るためにはX線ストリークカメラでは不可能であった。
また、超短パルスレーザ光を希ガスに照射することによ
って引き起こされる希ガスの超高速イオン化に伴う中性
原子の消滅を超高速シャッタとして利用する方法では、
信頼度が低いという問題点があった。As described above, the sub-p
It was not possible with an X-ray streak camera to measure the pulse waveform of an ultrashort pulse X-ray having a time width of s.
Further, in the method of utilizing the disappearance of neutral atoms accompanying the ultrafast ionization of the rare gas caused by irradiating the rare gas with the ultrashort pulsed laser as the ultrafast shutter,
There was a problem of low reliability.
【0006】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、その目的はサブpsの時間幅を有する超短
パルスX線のパルス波形を高い信頼度で測定可能とする
超短パルスX線のパルス波形計測方法を提供することに
ある。The present invention has been made to solve the above problems, and its purpose is to provide an ultrashort pulse X which enables highly reliable measurement of the pulse waveform of an ultrashort pulse X-ray having a sub-ps time width. It is to provide a method for measuring a pulse waveform of a line.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、イオン化ガスの特定価数の状態に
よるX線吸収の変化を用いる超短パルスX線のパルス波
形計測方法において、第1レーザパルスと第2レーザパ
ルスとから成る2連のレーザパルスを上記イオン化ガス
に照射し、上記第1レーザパルスにより上記イオン化ガ
スを上記特定価数の状態とし、上記第2レーザパルスに
より上記イオン化ガスを別の価数の状態とし、上記第1
レーザパルスと上記第2レーザパルスの時間間隔を変化
させることで上記特定価数の状態の持続時間を制御し、
任意の時間分解能でX線パルス波形を測定することを特
徴とするものである。In order to achieve such an object, the present invention provides a pulse waveform measuring method for ultrashort pulse X-rays, which uses a change in X-ray absorption depending on a state of a specific valence of an ionized gas. , Irradiating the ionized gas with two laser pulses consisting of a first laser pulse and a second laser pulse to bring the ionized gas into the state of the specific valence by the first laser pulse, and the second laser pulse The ionized gas is put into a state of another valence, and the first
The duration of the state of the specific valence is controlled by changing the time interval between the laser pulse and the second laser pulse,
The feature is that the X-ray pulse waveform is measured with arbitrary time resolution.
【0008】つまり、ガスをイオン化するレーザパルス
を、時間差を与えた2つの超短パルスレーザ光(第1イ
オン化レーザパルス、第2イオン化レーザパルス)を用
いることを特徴とする。また、2つの超短パルスレーザ
光を用いることにより特定のイオン種(特定の価数のイ
オン)の持続する時間を制御可能にし、それを超高速の
ゲートとして利用することで超短パルスX線のパルス波
形を計測するものである。That is, the laser pulse for ionizing the gas is characterized by using two ultrashort pulsed laser beams (first ionization laser pulse, second ionization laser pulse) with a time difference. In addition, by using two ultra-short pulse laser beams, it is possible to control the duration of a specific ion species (ions with a specific valence), and by using it as an ultra-fast gate, ultra-short pulse X-rays can be obtained. The pulse waveform of is measured.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施例について説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0010】図1は、本発明の実施の形態である超短パ
ルスX線パルス波形計測方法の構成を示す説明図で、高
出力超短パルスレーザ装置1から出射した超短パルスレ
ーザ光2は、第1のビームスプリッタ3により、X線発
生用レーザ光4とイオン化用レーザ光5に2分割され
る。X線発生用レーザ光4は、X線発生部7に配置され
たX線発生用ターゲット8に照射され、超短パルスX線
9が発生する。FIG. 1 is an explanatory diagram showing the configuration of an ultrashort pulse X-ray pulse waveform measuring method according to an embodiment of the present invention. An ultrashort pulse laser beam 2 emitted from a high power ultrashort pulse laser device 1 is shown in FIG. The first beam splitter 3 splits the laser beam 4 into an X-ray generating laser beam 4 and an ionizing laser beam 5. The X-ray generation laser light 4 is applied to the X-ray generation target 8 arranged in the X-ray generation unit 7, and ultrashort pulse X-rays 9 are generated.
【0011】イオン化用レーザ光5は、超短パルスX線
9とイオン化用レーザ光5の時間間隔を制御する第1遅
延回路11を通過する。次に、イオン化用レーザ光5
は、第2のビームスプリッタ12によって、第1イオン
化用レーザパルス13と第2イオン化用レーザパルス1
4に2分割される。第2イオン化用レーザパルス14
は、第1イオン化用レーザパルス13と第2イオン化用
レーザパルス14の時間間隔を制御する第2遅延回路1
5を通過し、第3のビームスプリッタ16により、再び
第1イオン化用レーザパルス13と同一の光路をとり、
ガス19に照射される。The ionizing laser light 5 passes through a first delay circuit 11 which controls the time interval between the ultrashort pulse X-ray 9 and the ionizing laser light 5. Next, the ionizing laser beam 5
Is transmitted by the second beam splitter 12 to the first ionization laser pulse 13 and the second ionization laser pulse 1
It is divided into four. Second ionization laser pulse 14
Is a second delay circuit 1 for controlling the time interval between the first ionization laser pulse 13 and the second ionization laser pulse 14.
5, and the third beam splitter 16 takes the same optical path as that of the first ionization laser pulse 13 again,
The gas 19 is irradiated.
【0012】相互作用部18中に配管20によって供給
されるガス19は、第1イオン化用レーザパルス13に
よって一価イオンにイオン化される。さらに、生成した
一価イオンは、時間間隔ΔτP の後、第2イオン化用レ
ーザパルス14によって二価イオンにイオン化される。
このようにイオン化したガス中にX線集光素子10によ
って集光された超短パルスX線9を照射し、ガスイオン
によるX線透過スペクトルをX線分光器21とX線検出
器22によって測定する。なお、符号6と17は、レー
ザ光の集光素子(レンズ、反射鏡など)を示している。The gas 19 supplied through the pipe 20 into the interaction section 18 is ionized into monovalent ions by the first laser pulse 13 for ionization. Further, the generated monovalent ions are ionized into divalent ions by the second ionization laser pulse 14 after the time interval Δτ P.
Ultrashort pulse X-rays 9 focused by the X-ray focusing element 10 are irradiated into the gas thus ionized, and the X-ray transmission spectrum by the gas ions is measured by the X-ray spectroscope 21 and the X-ray detector 22. To do. It should be noted that reference numerals 6 and 17 denote laser light focusing elements (lenses, reflecting mirrors, etc.).
【0013】次に、上述したようなX線パルス波形計測
方法の構成において、どのようにして超短パルスX線の
パルス波形が計測されるかについて説明する。Next, how the pulse waveform of the ultrashort pulse X-ray is measured in the configuration of the X-ray pulse waveform measuring method as described above will be described.
【0014】図2は、X線パルス波形測定法の原理を説
明した模式図で、図2(a)は、第1イオン化用レーザ
パルス13と第2イオン化用レーザパルス14の2つの
パルスによってガス19のイオン化がどのように進行す
るかを示した模式図である。FIG. 2 is a schematic diagram for explaining the principle of the X-ray pulse waveform measuring method. FIG. 2 (a) shows a gas by two pulses of a first ionization laser pulse 13 and a second ionization laser pulse 14. It is a schematic diagram which showed how the ionization of 19 advances.
【0015】ガス19により早く到着する第1イオン化
用レーザパルス13によって、もともと存在していた中
性ガスの密度は急速に減少し、一価イオンの密度が急速
に増加する。第1イオン化用レーザ光パルスの強度を適
切に選ぶことによってすべての中性の希ガスを一価イオ
ンにイオン化させることができる。さらに、時間間隔Δ
τP の後、第2イオン化用レーザパルス14を照射する
と、一価イオンの密度は急速に減少し、二価イオンの密
度は急激に増加する。第2イオン化用レーザパルス14
の強度を適切に選ぶことによって、すべての一価イオン
を二価イオンにイオン化させることができる。このよう
な密度の時間変化を起こすガス19中にイオン化用レー
ザ光5に対して時間間隔Δtを与えた超短パルスX線9
を透過させる。The first ionizing laser pulse 13 arriving earlier by the gas 19 causes the originally existing neutral gas density to decrease rapidly and the monovalent ion density to increase rapidly. By appropriately selecting the intensity of the first laser light pulse for ionization, all neutral rare gases can be ionized into monovalent ions. Furthermore, the time interval Δ
When the second laser pulse 14 for ionization is irradiated after τ P , the density of monovalent ions rapidly decreases and the density of divalent ions rapidly increases. Second ionization laser pulse 14
All monovalent ions can be ionized into divalent ions by appropriately selecting the intensity of the. Ultrashort pulsed X-ray 9 in which a time interval Δt is given to the laser light 5 for ionization in the gas 19 which causes such a temporal change in density.
Through.
【0016】図2(b)は、時間間隔Δtを変化させた
ことによってX線透過スペクトルがどのように変化する
かを示したX線透過スペクトルの模式図である。中性、
一価イオン、二価イオンのそれぞれにのみ特徴的に現れ
る吸収線に注目すれば、その吸収量は時間間隔Δtに従
って変化する。すなわち、第1イオン化用レーザ光13
が到着する前に超短パルスX線9がガスを通過すると一
番下のスペクトルのように、もともと中性の吸収線しか
見えない。時間間隔Δtが増えるに従って少しずつ一価
イオンの吸収線が見えてくる。さらに、二価イオンの吸
収線が見え始めて増加すると共に一価イオンの吸収線が
弱くなっていく。FIG. 2B is a schematic diagram of the X-ray transmission spectrum showing how the X-ray transmission spectrum changes by changing the time interval Δt. neutral,
Focusing on the absorption lines characteristically appearing only in the monovalent ions and the divalent ions, the amount of absorption changes according to the time interval Δt. That is, the first ionization laser beam 13
If the ultra-short pulsed X-ray 9 passes through the gas before the arrival of, only the originally neutral absorption line is visible, as in the bottom spectrum. As the time interval Δt increases, the absorption line of monovalent ions gradually becomes visible. Furthermore, the absorption line of divalent ions begins to be seen and increases, and the absorption line of monovalent ions becomes weaker.
【0017】図2(b)において、一価イオンの吸収線
の吸収量に注目し、時間間隔Δtの関数としてその吸収
量をグラフ化した図を図2(c)に示す。図2(c)に
示された波形は、超短パルスX線9における一価イオン
の吸収線に対応する波長のX線パルス波形を示してい
る。In FIG. 2B, attention is paid to the absorption amount of the absorption line of monovalent ions, and FIG. 2C is a graph showing the absorption amount as a function of the time interval Δt. The waveform shown in FIG. 2C shows an X-ray pulse waveform having a wavelength corresponding to the absorption line of monovalent ions in the ultrashort pulse X-ray 9.
【0018】図3は、ガス19としてKrを選んだ場合
におけるイオン密度の時間変化を数値計算によってシミ
ュレーションした結果を示した図である。時間間隔Δτ
P を300fs、第1イオン化用レーザパルス13、第
2イオン化用レーザパルス14の強度をそれぞれ3×1
014W/cm2 、1×1015W/cm2 、パルス幅を2
00fsと仮定した。図3における条件では、Kr一価
イオンの吸収線の波長にあたる15.5nmの超短パル
スX線のX線パルス波形を、時間分解能およそ300f
sで測定することが可能である。FIG. 3 is a diagram showing the result of a numerical calculation simulation of the time variation of the ion density when Kr is selected as the gas 19. Time interval Δτ
P is 300 fs, and the intensity of the first ionization laser pulse 13 and the second ionization laser pulse 14 is 3 × 1 respectively.
0 14 W / cm 2 , 1 × 10 15 W / cm 2 , pulse width 2
It was assumed to be 00fs. Under the conditions shown in FIG. 3, an X-ray pulse waveform of an ultrashort pulse X-ray of 15.5 nm, which corresponds to the wavelength of the absorption line of Kr monovalent ions, has a time resolution of about 300 f.
It is possible to measure with s.
【0019】さらに、本発明では、時間間隔ΔτP を、
第2遅延回路15を調節することによって一価イオンの
持続時間を制御することができ、時間分解能を選択する
ことが可能である。また、着目するイオン種(価数)な
らびに、用いるガスの種類をArやXeもしくはO2 や
N2 などに変更することにより、測定するX線の波長を
変更することが可能である。Further, in the present invention, the time interval Δτ P is
By adjusting the second delay circuit 15, the duration of monovalent ions can be controlled, and the time resolution can be selected. Further, the wavelength of the X-ray to be measured can be changed by changing the ion species (valence) of interest and the type of gas used to Ar, Xe, O 2 , N 2, or the like.
【0020】[0020]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、第
1レーザパルスと第2レーザパルスとから成る2連のレ
ーザパルスをイオン化ガスに照射し、第1レーザパルス
によりイオン化ガスを特定価数の状態とし、第2レーザ
パルスによりイオン化ガスを別の価数の状態とし、第1
レーザパルスと第2レーザパルスの時間間隔を変化させ
ることで特定価数の状態の持続時間を制御し、任意の時
間分解能でX線パルス波形を測定するようにしたので、
2つのパルスを用いてガスをイオン化し、生成したイオ
ンによる超短パルスX線の吸収量を測定することによ
り、超短パルスX線のパルス波形を高い時間分解能、か
つ信頼度の高い測定によって得ることが可能であるとい
う極めて優れた効果が得られる。As described above, according to the present invention, the ionized gas is irradiated with two laser pulses consisting of the first laser pulse and the second laser pulse, and the ionized gas is irradiated with the specified value by the first laser pulse. Number of states, the ionized gas is changed to another state of valence by the second laser pulse, and the first
By changing the time interval between the laser pulse and the second laser pulse, the duration of the state of the specific valence is controlled, and the X-ray pulse waveform is measured with an arbitrary time resolution.
Ionization of gas using two pulses and measurement of absorption of ultrashort pulsed X-rays by the generated ions gives pulse waveform of ultrashort pulsed X-ray with high time resolution and high reliability. It is possible to obtain an extremely excellent effect.
【0021】また、レーザプラズマによるX線、高次高
調波光によるX線など高出力超短パルスレーザを用いる
ことによって発生し、レーザ光との同期が容易な超短パ
ルスX線光源すべてにおいて有効であるという極めて優
れた効果が得られる。Further, it is effective in all ultrashort pulse X-ray light sources which are generated by using a high-power ultrashort pulse laser such as X-ray by laser plasma and X-ray by high-order harmonic light, and which can be easily synchronized with laser light. There is an extremely excellent effect.
【図1】本発明の実施の形態である超短パルスX線のパ
ルス波形計測方法の構成を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram showing a configuration of a pulse waveform measuring method for an ultrashort pulse X-ray that is an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の測定原理を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating the measurement principle of the present invention.
【図3】Krガスにおけるイオン密度の時間変化を数値
シミュレーションした結果を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a result of numerical simulation of time variation of ion density in Kr gas.
1 高出力超短パルスレーザ装置 2 超短パルスレーザ光 3 第1のビームスプリッタ 4 X線発生用レーザ光 5 イオン化用レーザ光 7 X線発生部 8 X線発生用ターゲット 9 超短パルス 10 X線集光素子 11 第1遅延回路 12 第2のビームスプリッタ 13 第1イオン化用レーザパルス 14 第2イオン化用レーザパルス 15 第2遅延回路 16 第3のビームスプリッタ 18 相互作用部 19 ガス 20 配管 21 X線分光器 22 X線検出器 6、17 集光素子 1 High-power ultrashort pulse laser system 2 Ultra short pulse laser light 3 First beam splitter 4 X-ray generation laser light 5 Laser light for ionization 7 X-ray generator 8 X-ray generation target 9 Ultra short pulse 10 X-ray condensing element 11 First Delay Circuit 12 Second beam splitter 13 First Ionization Laser Pulse 14 Second Ionization Laser Pulse 15 Second delay circuit 16 Third beam splitter 18 Interaction part 19 gas 20 piping 21 X-ray spectrometer 22 X-ray detector 6,17 Condensing element
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上杉 直 東京都千代田区大手町二丁目3番1号 日本電信電話株式会社内 (56)参考文献 特開2001−56378(JP,A) 特開 平5−99740(JP,A) 特開 平10−221173(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01T 1/00 G01J 11/00 H01S 4/00 G01N 23/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Naoshi Uesugi 2-3-1, Otemachi, Chiyoda-ku, Tokyo Inside Nippon Telegraph and Telephone Corporation (56) References JP 2001-56378 (JP, A) JP Heihei 5-99740 (JP, A) JP-A-10-221173 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G01T 1/00 G01J 11/00 H01S 4/00 G01N 23 / 00
Claims (2)
線吸収の変化を用いる超短パルスX線のパルス波形計測
方法において、第1レーザパルスと第2レーザパルスと
から成る2連のレーザパルスを上記イオン化ガスに照射
し、上記第1レーザパルスにより上記イオン化ガスを上
記特定価数の状態とし、上記第2レーザパルスにより上
記イオン化ガスを別の価数の状態とし、上記第1レーザ
パルスと上記第2レーザパルスの時間間隔を変化させる
ことで上記特定価数の状態の持続時間を制御し、任意の
時間分解能でX線パルス波形を測定することを特徴とす
る超短パルスX線のパルス波形計測方法。1. X depending on the state of specific valence of the ionized gas
In a method for measuring a pulse waveform of an ultrashort pulse X-ray using a change in line absorption, the ionized gas is irradiated with two laser pulses including a first laser pulse and a second laser pulse, and the first laser pulse causes The ionized gas is brought to the state of the specific valence, the ionized gas is brought to another state of the valence by the second laser pulse, and the time interval between the first laser pulse and the second laser pulse is changed to obtain the above-mentioned special valence. A pulse waveform measuring method for ultrashort pulse X-rays, characterized by controlling the duration of a constant-value state and measuring the X-ray pulse waveform at an arbitrary time resolution.
ることを特徴とする請求項1に記載の超短パルスX線の
パルス波形計測方法。2. The ultrashort pulse X-ray pulse waveform measuring method according to claim 1, wherein the duration is controlled by delay means.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000118586A JP3527460B2 (en) | 2000-04-19 | 2000-04-19 | Ultrashort pulse X-ray pulse waveform measurement method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000118586A JP3527460B2 (en) | 2000-04-19 | 2000-04-19 | Ultrashort pulse X-ray pulse waveform measurement method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001305229A JP2001305229A (en) | 2001-10-31 |
| JP3527460B2 true JP3527460B2 (en) | 2004-05-17 |
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ID=18629695
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000118586A Expired - Fee Related JP3527460B2 (en) | 2000-04-19 | 2000-04-19 | Ultrashort pulse X-ray pulse waveform measurement method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3527460B2 (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN101922974B (en) * | 2010-08-31 | 2012-02-01 | 中国科学院西安光学精密机械研究所 | An automatic calibration device and method for laser parameter performance testing |
| CN105222889B (en) * | 2015-10-12 | 2018-05-15 | 绍兴文理学院 | A kind of measuring device of light laser power density |
| KR101613883B1 (en) | 2015-12-03 | 2016-05-02 | 기초과학연구원 | An amplitude and phase analysis device of the light wave |
| KR101613882B1 (en) | 2015-11-18 | 2016-04-20 | 기초과학연구원 | A method for measuring amplitude and phase of light wave using ionization |
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-
2000
- 2000-04-19 JP JP2000118586A patent/JP3527460B2/en not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
| JP2001305229A (en) | 2001-10-31 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20040209 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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