JP3530936B2 - Metal oxide structure, manufacturing method and manufacturing apparatus - Google Patents
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Landscapes
- Inorganic Fibers (AREA)
- Cold Cathode And The Manufacture (AREA)
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は機械的強度の改善さ
れたウイスカーを有する金属酸化物構造体、その製造方
法及び製造装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal oxide structure having whiskers with improved mechanical strength, a method for manufacturing the same, and a manufacturing apparatus for the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】金属酸化物は、セラミックコンデンサ
ー、アクチュエーター、光波長変換素子、レーザー発振
素子、冷陰極素子等の電子材料や光材料、抗菌、防汚効
果等を目的とする表面改質剤、気相や液相やその両方の
相における触媒やその担体等幅広い用途に使用されてい
る。そして、これらの用途に使用する金酸化物として
は、容積当たりの表面積が大きいものが求められてい
る。本発明者らは、加熱された基材表面に気化された金
属化合物をキャリアガスとともに大気圧開放下で吹き付
けることによって、狭い面積に多数のウイスカーを有す
る金属酸化物構造体が得られることを見出し、先に提案
した。(特開2000−58365号公報等)2. Description of the Related Art Metal oxides are surface modifiers for the purpose of antibacterial and antifouling effects, etc. for electronic materials and optical materials such as ceramic capacitors, actuators, light wavelength conversion elements, laser oscillation elements and cold cathode elements. It is used in a wide range of applications such as catalysts and their supports in the gas phase, liquid phase and both phases. The gold oxide used for these purposes is required to have a large surface area per volume. The present inventors have found that a metal oxide structure having a large number of whiskers in a small area can be obtained by spraying a vaporized metal compound on a heated substrate surface together with a carrier gas under atmospheric pressure open. , I proposed earlier. (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-58365, etc.)
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】これらの金属酸化物ウ
イスカー密集構造体は、きわめて大きい表面積を有し導
電性、圧電性等種々の性状に優れるが、ウイスカーの機
械的強度が弱いために、ウイスカーが加工時に折れた
り、例えば電界放出素子として使用する際に放電により
ウイスカーが破壊される等の問題点があった。本発明
は、これらの従来技術の問題点を解消して、金属酸化物
ウイスカー母材の機能特性を低下させることなく、機械
的強度と耐久性が大幅に改善されたウイスカーを有する
金属酸化物構造体、及びその製造方法ならびに製造装置
を提供することを目的とする。These metal oxide whisker dense structures have an extremely large surface area and are excellent in various properties such as conductivity and piezoelectricity. However, the mechanical strength of the whiskers is weak, However, there is a problem in that the whiskers are broken during processing, and the whiskers are destroyed by discharge when used as a field emission device, for example. The present invention solves these problems of the prior art, and has a metal oxide structure having whiskers with significantly improved mechanical strength and durability without deteriorating the functional characteristics of the metal oxide whisker matrix. An object is to provide a body, a manufacturing method thereof, and a manufacturing apparatus.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明では、上記課題を
解決するために、次のような構成をとるものである。
1.円近似断面径が0.01〜100μmで、円近似断
面径に対する長さの比が1以上である金属酸化物のウイ
スカーを有する金属酸化物構造体において、ウイスカー
がウイスカー内部にウイスカーの長軸方向に沿ってウイ
スカーを構成する母材とは異なる元素添加によって得ら
れる母材組成とは異なる組成の強化層を有することを特
徴とする金属酸化物構造体。
2.異種元素の割合が母材を構成する元素に対して0.
1〜10原子%であることを特徴とする1に記載の金属
酸化物構造体。
3.ウイスカーが基板表面上の10μm×10μm の
面積当たり0.1〜10000個の密度で存在すること
を特徴とする1又は2に記載の金属酸化物構造体。
4.ウイスカーがウイスカーの長軸方向に沿って一貫し
た性状を有することを特徴とする1〜3のいずれかに記
載の金属酸化物構造体。
5.ウイスカーを構成する母材と強化層が化学的に結合
していることを特徴とする1〜4のいずれかに記載の金
属酸化物構造体。
6.ウイスカーを構成する母材と強化層の結晶関係がエ
ピタキシャルであることを特徴とする1〜5のいずれか
に記載の金属酸化物構造体。
7.ウイスカーを構成する母材元素および異種元素が、
周期律表において水素を除く1族、2族、ホウ素を除く
13族、炭素を除く14族、窒素とリンと砒素を除く1
5族及び3,4,5,6,7,8,9,10,11,1
2族から選ばれる少なくとも一種の金属を含むものであ
ることを特徴とする1〜6のいずれかに記載の金属酸化
物構造体。
8.金属がZn、Si、Al、Sn、Ti、Zr及びP
bから選ばれたものであることを特徴とする7に記載の
金属酸化物構造体。
9.有機物質、無機物質、金属から選ばれる材料でウイ
スカーの間を充填したことを特徴とする1〜8のいずれ
かに記載の金属酸化物構造体。
10.気化させた金属酸化物ウイスカー母材構成元素を
含むガスと気化させた母材とは異なる元素を含むガス
を、キャリアガスとともに均一に混合した後に、大気圧
開放下に加熱された基材表面に吹き付けて基材表面に円
近似断面径が0.01〜100μmで、円近似断面径に
対する長さの比が1以上である金属酸化物のウイスカー
を有する金属酸化物構造体を堆積することを特徴とする
1〜9のいずれかに記載の金属酸化物構造体の製造方
法。
11.さらに、得られた金属酸化物構造体のウイスカー
の間を有機物質、無機物質、金属から選ばれる材料で充
填することを特徴とする10に記載の金属酸化物構造体
の製造方法。
12.金属酸化物ウイスカーを構成する母材の気化器、
該母材とは異なる元素の気化器、気化させた母材及び母
材とは異なる元素をキャリアガスとともに均一に混合す
る原料混合器、混合原料ガスを噴出するノズル及び基材
加熱台を有することを特徴とする請求項1〜9のいずれ
かに記載の金属酸化物構造体の製造装置。In order to solve the above problems, the present invention has the following constitution. 1. In a metal oxide structure having a metal oxide whisker having a circle approximate cross-sectional diameter of 0.01 to 100 μm and a length ratio to the circle approximate cross-sectional diameter of 1 or more, the whisker is inside the whisker in the long axis direction of the whisker. metal oxide structure, characterized in that it has a reinforcing layer of different composition than the base metal composition obtained by the different elements added to the base material constituting the Huy <br/> Scar along. 2. The ratio of the different elements is 0.
The metal according to 1, which is 1 to 10 atom%.
Oxide structure. 3. Whiskers on the substrate surface 10 μm × 10 μm of
Be present at a density of 0.1 to 10,000 per area
3. The metal oxide structure according to 1 or 2, characterized in that. 4. 4. The metal oxide structure according to any one of 1 to 3, wherein the whiskers have consistent properties along the long axis direction of the whiskers. 5. 5. The metal oxide structure according to any one of 1 to 4, wherein the base material forming the whiskers and the reinforcing layer are chemically bonded. 6. 6. The metal oxide structure according to any one of 1 to 5, wherein the crystal relationship between the base material forming the whiskers and the reinforcing layer is epitaxial. 7. The base material elements and heterogeneous elements that make up the whiskers
In the periodic table, groups 1 and 2 excluding hydrogen, groups 13 excluding boron, groups 14 excluding carbon, nitrogen, phosphorus and arsenic excluding 1
Group 5 and 3,4,5,6,7,8,9,10,11,1
7. The metal oxide structure according to any one of 1 to 6, which contains at least one metal selected from Group 2. 8. Metals are Zn, Si, Al, Sn, Ti, Zr and P
8. The metal oxide structure according to 7, which is selected from b. 9. 9. The metal oxide structure according to any one of 1 to 8, wherein the space between the whiskers is filled with a material selected from organic substances, inorganic substances, and metals. 10. A gas containing a vaporized metal oxide whisker base material constituent element and a gas containing an element different from the vaporized base material are uniformly mixed with a carrier gas, and then on a substrate surface heated under atmospheric pressure release. Characterized by depositing a metal oxide structure having a metal oxide whisker having a circle approximate cross-sectional diameter of 0.01 to 100 μm and a length ratio to the circle approximate cross-sectional diameter of 1 or more by spraying. The method for producing a metal oxide structure according to any one of 1 to 9 below. 11. 11. The method for producing a metal oxide structure according to 10, further comprising filling the space between the whiskers of the obtained metal oxide structure with a material selected from organic substances, inorganic substances and metals. 12. Vaporizer of the base material that constitutes the metal oxide whiskers,
A vaporizer of an element different from the base material, a vaporized base material and a raw material mixer for uniformly mixing an element different from the base material with a carrier gas, a nozzle for ejecting the mixed raw material gas, and a base material heating table. The apparatus for producing a metal oxide structure according to any one of claims 1 to 9, wherein:
【0005】[0005]
【発明の実施の形態】本発明におけるウイスカーとは、
円近似断面径が0.01〜100μm(平均値:以下同
様)で、円近似断面径に対する長さの比(アスペクト
比)が1以上である略棒状の構造を有する物を意味す
る。また、ウイスカーの長さとは、ウイスカーが面上か
ら実質的に突起する位置(基部)から先端部までの長さ
を意味し、円近似断面径はウイスカーの長さの1/2の
位置において測定する。この円近似断面径は、例えば画
像解析等による従来公知の方法で断面積を求め、得られ
た面積を円周率πで除したものの平方根の2倍の値で表
される。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION With whiskers in the present invention,
It means a substance having a substantially rod-shaped structure having a circle approximate cross-sectional diameter of 0.01 to 100 μm (average value: the same applies hereinafter) and a length ratio (aspect ratio) to the circle approximate cross-sectional diameter of 1 or more. The whisker length means the length from the position where the whisker substantially protrudes from the surface (base) to the tip, and the approximate circle cross-section diameter is measured at a position half the length of the whisker. To do. The circle approximate cross-sectional diameter is represented by a value that is twice the square root of the area obtained by obtaining the cross-sectional area by a conventionally known method such as image analysis and dividing the obtained area by the pi.
【0006】ウイスカーの円近似断面径が0.01未満
の場合には、成長したウイスカーを得ることが困難であ
り、100μmを超えた場合には、表面積増加による所
望の特性を得ることが難しくなる。この円近似断面径
は、0.05〜50μm、特に0.1〜10μmとする
ことが好ましい。ウイスカーの長さは、使用する用途に
より任意に選択されるが、通常は0.1〜1000μm
(平均値)、好ましは1〜500μmである。また、ア
スペクト比は1以上、好ましくは5以上であり、アスペ
クト比が小さすぎるとウイスカーによる表面積増加の効
果が現れない。If the whisker has an approximate circle cross-sectional diameter of less than 0.01, it is difficult to obtain a grown whisker, and if it exceeds 100 μm, it becomes difficult to obtain desired characteristics due to an increase in surface area. . The circle approximate cross-sectional diameter is preferably 0.05 to 50 μm, and particularly preferably 0.1 to 10 μm. The length of the whiskers is arbitrarily selected depending on the intended use, but is usually 0.1 to 1000 μm.
(Average value), preferably 1 to 500 μm. The aspect ratio is 1 or more, preferably 5 or more. If the aspect ratio is too small, the effect of increasing the surface area by whiskers does not appear.
【0007】ウイスカーは、10μm×10μmの面積
当たり0.1〜10000個、特に1〜1000個の割
合で密集状に存在することが好ましい。この割合が小さ
い場合には、ウイスカーにより表面積増加の効果が乏し
く、大きすぎる場合には成長したウイスカーを得ること
が困難となる。ウイスカーの形状としては、根元部分か
ら先端部分まで径が変わらないもの、根元部分からある
距離まで径が変わらないもの、ウイスカーの根元部分の
径が小さく先端部に行くにつれ一度径が大きくなった後
再度径が少しずつ減少していくもの、ウイスカーの根元
部分から先端部に行くにつれ径が少しずつ減少していく
もの、先端近くのある距離から角錐又は角錐台や円錐ま
たは円錐台や半球のような形状を取っているもの等、及
びこれらの組み合わせが挙げられる。好ましくは角柱
状、あるいは、ウイスカーの根元部分の径が小さく一旦
径が大きくなった後角柱状の形状を取るものである。角
柱状の場合、具体的な形状は結晶構造により異なるが、
例えば、金属酸化物が酸化亜鉛の場合は六角柱、酸化ア
ルミニウムの場合は四角柱あるいは六角柱、酸化チタン
の場合は四角柱となることが多い。また、それ以外の多
角形を断面の形状を持つ角柱であっても差し支えない。
これらの中でも特に好ましくは一本の角柱の中で、向か
い合った面同士が相互に平行な部分を持つものである。
またこの場合、相互に平行な面を有していれば、ウイス
カーがそれ以外の形状を取っていても差し支えない。[0007] It is preferable that the whiskers are densely present at a ratio of 0.1 to 10000, and particularly 1 to 1000, per 10 µm x 10 µm area. When this ratio is small, the effect of increasing the surface area due to whiskers is poor, and when it is too large, it becomes difficult to obtain grown whiskers. The shape of the whisker is that the diameter does not change from the root part to the tip part, the diameter does not change from the root part to a certain distance, the diameter of the base part of the whisker is small, and the diameter once increases as it goes to the tip part. The diameter gradually decreases again, the diameter decreases gradually from the root of the whisker to the tip, and the pyramid or the truncated pyramid or the cone or the truncated cone or the hemisphere is seen from a certain distance near the tip. And the like, and combinations thereof. A prismatic shape or a prismatic shape in which the diameter of the root portion of the whisker is small and the diameter is once large is preferable. In the case of a prism, the specific shape depends on the crystal structure,
For example, when the metal oxide is zinc oxide, it is often a hexagonal column, when it is aluminum oxide, it is a square column or hexagonal column, and when it is titanium oxide, it is a square column. In addition, other polygonal prisms having a cross-sectional shape may be used.
Among these, it is particularly preferable that one prism has a portion in which the surfaces facing each other are parallel to each other.
Further, in this case, the whiskers may have other shapes as long as they have mutually parallel surfaces.
【0008】本発明のウイスカーを有する金属酸化物構
造体は、ウイスカーがウイスカーを構成する母材とは異
なる元素添加によって得られる強化構造を有することを
特徴とする。このような強化構造を有するウイスカー
は、例えば図1に示す装置を使用して、気化させた金属
酸化物ウイスカー母材構成元素を含むガスと気化させた
母材とは異なる元素を含むガスを、キャリアガスととも
に均一に混合した後に、大気圧開放下に加熱された基材
表面に吹き付けて基材表面に金属酸化物構造体を堆積す
ることによって得ることが出来る。The metal oxide structure having whiskers of the present invention is characterized in that the whiskers have a reinforced structure obtained by adding an element different from the base material forming the whiskers. The whiskers having such a reinforced structure can be obtained by using, for example, the apparatus shown in FIG. 1 to generate a gas containing a vaporized metal oxide whisker base material constituent element and a gas containing an element different from the vaporized base material. It can be obtained by uniformly mixing with a carrier gas and then spraying the heated substrate surface under atmospheric pressure to deposit a metal oxide structure on the substrate surface.
【0009】図1は、本発明の金属酸化物構造体を製造
する装置の1例を示す模式図である。この製造装置1
は、キャリアガスとなる窒素ガス供給源2,2、金属酸
化物ウイスカーを構成する母材の気化器3、該母材とは
異なる元素の気化器4、気化させた母材及び異種元素を
キャリアガスとともに均一に混合する原料混合器5、混
合原料ガスを噴出するノズル9及び基材10の加熱台1
1を具備する。金属酸化物ウイスカーを構成する母材及
び該母材とは異なる元素は、それぞれ気化器3及び4で
加熱気化され、窒素ガスとともに原料混合器5内の原料
混合溜6に送られ、ヒーター7の外周に設けられたコイ
ル状加熱混合器8によりキャリアガスとともに均一に混
合される。均一に混合された原料ガスは、ノズル9から
大気圧開放下にヒーター12を有する加熱台11上で加
熱された基材10の表面に吹き付けられて、基材表面に
金属酸化物ウイスカーを有する金属酸化物構造体を形成
する。FIG. 1 is a schematic view showing an example of an apparatus for producing the metal oxide structure of the present invention. This manufacturing device 1
Is a nitrogen gas supply source 2 or 2 serving as a carrier gas, a vaporizer 3 of a base material constituting a metal oxide whisker, a vaporizer 4 of an element different from the base material, a vaporized base material and a heterogeneous element as a carrier. Raw material mixer 5 for uniformly mixing with gas, nozzle 9 for jetting mixed raw material gas, and heating base 1 for substrate 10.
1 is provided. The base material forming the metal oxide whiskers and the element different from the base material are heated and vaporized by vaporizers 3 and 4, respectively, and sent to the raw material mixing reservoir 6 in the raw material mixer 5 together with the nitrogen gas, and then the heater 7 It is uniformly mixed with the carrier gas by the coiled heating mixer 8 provided on the outer periphery. The uniformly mixed raw material gas is sprayed from the nozzle 9 onto the surface of the base material 10 heated on the heating table 11 having the heater 12 under the atmospheric pressure, and the metal having the metal oxide whiskers on the surface of the base material. Form an oxide structure.
【0010】本発明でウイスカー母材及び該母材とは異
なる元素からなる強化構造を構成する金属酸化物として
は、金属種が、周期律表において水素を除く1族、2
族、ホウ素を除く13族、炭素を除く14族、窒素とリ
ンと砒素を除く15族及び3、4、5、6、7、8、
9、10、11、12族に属する各元素の強化物が挙げ
られる。金属種としては、例えば、Li、Na、K、R
b、Cs、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Al、G
a、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B
i、Po、Sc、Y、La、Th、Ce、Pr、Nd、
Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、T
m、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、
Cr、Mo、W、Mn、Tc、Re、Fe、Ru、O
s、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、A
g、Au、Zn、Cd、Hg等が挙げられ、これらのな
かでも、好ましくはLi、Na、K、Rb、Cs、B
e、Mg、Ca、Sr、Ba、Al、Ga、In、T
i、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi,Sc、Y、
La、Ce、Th、Ti、Zr、V、Nb、Ta、C
r、Mo、W、Mn、Re、Fe、Ru、Os、Co、
Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Z
n、Cd、Hgであり、さらに好ましくは、Li、K、
Mg、Ca、Sr、Ba、Al、In、Si、Sn、P
b、Th、Y、Ce、Ti、Zr、V、Nb、Ta、C
r、Mo、W、Mn、Fe、Co、Ni、Pd、Pt、
Cu、Ag、Zn、Cdが挙げられる。最も好ましい金
属種としては、Zn、Si、Al、Sn、Ti、Zr、
及びPbが例示される。In the present invention, as the metal oxide constituting the whisker base material and the reinforced structure composed of an element different from the base material, the metal species is a group 1 or 2 except hydrogen in the periodic table.
Group, group 13 excluding boron, group 14 excluding carbon, group 15 excluding nitrogen, phosphorus and arsenic, and 3, 4, 5, 6, 7, 8,
Reinforcements of each element belonging to groups 9, 10, 11, and 12 can be mentioned. Examples of the metal species include Li, Na, K and R
b, Cs, Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Al, G
a, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B
i, Po, Sc, Y, La, Th, Ce, Pr, Nd,
Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er, T
m, Yb, Lu, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta,
Cr, Mo, W, Mn, Tc, Re, Fe, Ru, O
s, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, A
g, Au, Zn, Cd, Hg, and the like. Among these, Li, Na, K, Rb, Cs, and B are preferable.
e, Mg, Ca, Sr, Ba, Al, Ga, In, T
i, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, Bi, Sc, Y,
La, Ce, Th, Ti, Zr, V, Nb, Ta, C
r, Mo, W, Mn, Re, Fe, Ru, Os, Co,
Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Z
n, Cd, and Hg, more preferably Li, K,
Mg, Ca, Sr, Ba, Al, In, Si, Sn, P
b, Th, Y, Ce, Ti, Zr, V, Nb, Ta, C
r, Mo, W, Mn, Fe, Co, Ni, Pd, Pt,
Cu, Ag, Zn, Cd may be mentioned. The most preferable metal species are Zn, Si, Al, Sn, Ti, Zr,
And Pb are exemplified.
【0011】金属酸化物としては、例えば、MgO、A
l2 O3 、In2 O3 、SiO 2 、SnO2 、T
iO2 、ZnO、BaTiO3、SrTiO3 、Li
NiO3、PZT[Pb(Zr×Ti1−× )O
3 ]、YBCO(YBaCu3O7−× )、YSZ
(イットリア安定化ジルコニア)、YAG(Y3Al5
O 12または3Y2O3・5Al2O3)、ITO(I
n2O3/SnO2)等が挙げられる。また、アルカリ
金属と他の金属を組み合わせて使用することもできる。
例えば、Ta、Nbとアルカリ金属等を組み合わせてK
TaO3や、NbLiO3 のような複合化合物を形成
させて、金属酸化物とすることができる。Examples of metal oxides include MgO and A.
lTwo OThree , InTwo OThree , SiO Two , SnOTwo , T
iOTwo , ZnO, BaTiOThree, SrTiOThree , Li
NiOThree, PZT [Pb (Zr×Ti1- × ) O
Three ], YBCO (YBaCuThreeO7-x ), YSZ
(Yttria-stabilized zirconia), YAG (YThreeAl5
O 12Or 3YTwoOThree・ 5AlTwoOThree), ITO (I
nTwoOThree/ SnOTwo) And the like. Also alkali
It is also possible to use a combination of a metal and another metal.
For example, by combining Ta, Nb and alkali metal, etc., K
TaOThreeOr NbLiOThree Forming complex compounds like
And can be made into a metal oxide.
【0012】本発明の金属酸化物構造体において、ウイ
スカー母材及び該母材とは異種元素からなる強化構造を
構成する原料となる金属化合物は、目的とする構造体の
金属酸化物中の金属を有し、酸素、水等の大気中に含ま
れる化合物と反応して酸化物を形成するものが好まし
い。しかしながら、金属化合物を吹き付ける雰囲気に、
例えばオゾン等の通常大気中に存在しない物質を供給・
存在させ、これらと反応して酸化物を形成するものであ
っても良い。In the metal oxide structure of the present invention, the metal compound as a raw material for forming the whisker base material and the strengthening structure composed of a different element from the base material is a metal in the metal oxide of the target structure. It is preferable that the compound has an oxygen atom and reacts with a compound contained in the atmosphere such as oxygen and water to form an oxide. However, in the atmosphere in which the metal compound is sprayed,
Supply substances that are not normally present in the atmosphere, such as ozone
It may be present and react with these to form an oxide.
【0013】この様な金属化合物として、例えば、金属
または金属類似元素の原子にアルコールの水酸基の水素
が金属で置換されたアルコキシド類、金属または金属類
似元素の原子にアセチルアセトン、エチレンジアミン、
ビピペリジン、ビピラジン、シクロヘキサンジアミン、
テトラアザシクロテトラデカン、エチレンジアミンテト
ラ酢酸、エチレンビス(グアニド)、エチレンビス(サ
リチルアミン)、テトラエチレングリコール、アミノエ
タノール、グリシン、トリグリシン、ナフチリジン、フ
ェナントロニン、ペンタンジアミン、ピリジン、サリチ
ルアルデヒド、サリチリデンアミン、ポルフィリン、チ
オ尿素などから選ばれる配位子を1種あるいは2種以上
有する各種の錯体、配位子としてカルボニル基を有する
Fe、Cr、Mn、Co、Ni、Mo、V、W、Ruな
どの各種金属カルボニル、更に、カルボニル基、アルキ
ル基、アルケニル基、フェニルあるいはアルキルフェニ
ル基、オレフィン基、アリール基、シクロブタジエン基
をはじめとする共役ジエン基、シクロペンタジエニル基
をはじめとするジエニル基、トリエン基、アレーン基、
シクロヘプタトリエニル基をはじめとするトリエル基な
どから選ばれる配位子を1種あるいは2種以上有する各
種の金属化合物、ハロゲン化金属化合物を使用すること
ができる。また、その他の金属錯体も使用することがで
きる。この中でも、金属アセチルアセトナート化合物、
金属アルコキシド化合物等がより好ましく用いられる。Examples of such a metal compound include alkoxides in which the hydrogen atom of the alcohol hydroxyl group is replaced with a metal at the atom of the metal or metal-like element, acetylacetone, ethylenediamine at the atom of the metal or metal-like element,
Bipiperidine, bipyrazine, cyclohexanediamine,
Tetraazacyclotetradecane, ethylenediaminetetraacetic acid, ethylenebis (guanide), ethylenebis (salicylamine), tetraethyleneglycol, aminoethanol, glycine, triglycine, naphthyridine, phenanthronine, pentanediamine, pyridine, salicylaldehyde, salicylyl Various complexes having one or more kinds of ligands selected from denamine, porphyrin, thiourea, etc., Fe, Cr, Mn, Co, Ni, Mo, V, W having a carbonyl group as a ligand, Various metal carbonyls such as Ru, carbonyl groups, alkyl groups, alkenyl groups, phenyl or alkylphenyl groups, olefin groups, aryl groups, conjugated diene groups including cyclobutadiene groups, and cyclopentadienyl groups. The Group, triene group, arene group,
Various metal compounds and halogenated metal compounds having one kind or two or more kinds of ligands selected from a triel group such as a cycloheptatrienyl group can be used. Also, other metal complexes can be used. Among these, metal acetylacetonate compounds,
A metal alkoxide compound and the like are more preferably used.
【0014】本発明における錯体としては、金属にβ−
ジケトン類、ケトエステル類、ヒドロキシカルボン酸類
またはその塩類、各種のシッフ塩基類、ケトアルコール
類、多価アミン類、アルカノールアミン類、エノール性
活性水素化合物類、ジカルボン酸類、グリコール類、フ
ェロセン類などの配位子が1種あるいは2種以上結合し
た化合物が挙げられる。As the complex in the present invention, β-
Diketones, ketoesters, hydroxycarboxylic acids or salts thereof, various Schiff bases, keto alcohols, polyvalent amines, alkanolamines, enolic active hydrogen compounds, dicarboxylic acids, glycols, ferrocenes, etc. Examples thereof include compounds in which one or more kinds of ligands are bound.
【0015】本発明において、ウイスカーの母材を構成
する元素とウイスカーの強化構造を構成する異種元素と
の割合は任意であるが、通常は母材を構成する元素に対
して少量(0.1〜10原子%程度)の異種元素を存在
させる。本発明のウイスカーにおいては、異種元素が母
材を構成する金属酸化物に対する固溶限界以上の量で存
在するときに、ウイスカー結晶中の特定の場所に折出
し、機械強度の高い母材とは異なる組成の強化構造を形
成するものと考えられる。したがって、ウイスカー中の
異種元素の量は、ウイスカーを構成する金属酸化物に対
する固溶限界以上の量とすることが好ましい。In the present invention, the ratio of the element composing the base material of the whiskers to the different element composing the reinforcing structure of the whiskers is arbitrary, but usually a small amount (0.1 A different element of about 10 atomic% is present. In the whiskers of the present invention, when the heterogeneous element is present in an amount equal to or more than the solid solution limit with respect to the metal oxide constituting the base material, it is extruded at a specific place in the whisker crystal, and the base material has high mechanical strength. It is believed to form reinforced structures of different composition. Therefore, it is preferable that the amount of the different element in the whisker is not less than the solid solution limit with respect to the metal oxide forming the whisker.
【0016】本発明において、ウイスカー中の強化構造
は、ウイスカーの長軸方向に沿って形成された、母材と
は異なる組成の強化層として存在する。図2は、本発明
のウイスカー中の強化構造の1例を示す模式図であり、
図2(A)はウイスカーの側断面図(図2(B)のXX
線における断面図)、また図2(B)はウイスカーの横
断面図である。このウイスカー20は、根元部分から先
端部にかけて徐々に径が減少する6角柱状の形状を有
し、酸化亜鉛からなる母材21の中心部に酸化アルミニ
ウムからなる強化構造22が、ウイスカー20の長軸方
向に沿って層状に形成されたものである。In the present invention, the reinforcing structure in the whiskers is present as a reinforcing layer formed along the long axis direction of the whiskers and having a composition different from that of the base material. FIG. 2 is a schematic view showing an example of the reinforcing structure in the whisker of the present invention,
FIG. 2A is a side sectional view of the whisker (XX in FIG. 2B).
FIG. 2B is a cross-sectional view of the whisker. The whisker 20 has a hexagonal columnar shape whose diameter gradually decreases from the root portion to the tip portion, and a reinforcing structure 22 made of aluminum oxide is provided at the center of a base material 21 made of zinc oxide. It is formed in layers along the axial direction.
【0017】図3及び図4は、それぞれウイスカー中の
強化構造の他の例を示す図であり、各図の(A)はウイ
スカーの側断面図(各図(B)のXX線における断面
図)、また(B)はウイスカーの横断面図である。これ
らのウイスカー30及び40は図2のウイスカーと同様
に6角柱状の形状を有し、図3のウイスカー30では酸
化亜鉛からなる母材31中に、6角柱の対向する各稜を
結んだ対角線状に形成された酸化アルミニウムからなる
層状の強化構造32を有する(図3(B)参照)。ま
た、図4のウイスカー40は、図3のウイスカー30の
中央部に、さらに中心部に空洞43を有する強化構造4
2が形成されたものである(図4(B)参照)。FIGS. 3 and 4 are views showing other examples of the reinforcing structure in the whiskers. FIG. 3A is a side sectional view of the whiskers (a sectional view taken along line XX of each figure (B)). ) And (B) are cross-sectional views of the whiskers. These whiskers 30 and 40 have a hexagonal columnar shape similar to the whiskers of FIG. 2, and in the whiskers 30 of FIG. 3, a base material 31 made of zinc oxide has a diagonal line connecting opposite edges of the hexagonal columns. It has a layered reinforcing structure 32 made of aluminum oxide formed in a striped shape (see FIG. 3B). In addition, the whisker 40 of FIG. 4 is a reinforced structure 4 having a cavity 43 in the center of the whisker 30 of FIG.
2 is formed (see FIG. 4 (B)).
【0018】ウイスカー中に形成される強化構造は、上
記各例に見られるようにウイスカーを完全に横断するよ
うに形成されたもののほかに、ウイスカーの横断面にお
いて部分的に形成されたものでもよい。本発明のウイス
カーは、上記のように長軸方向に沿った強化層を有する
ことにより横方向の歪に対して強くなり、またウイスカ
ーの長軸方向に沿って、導電性、強度、圧電性等の物性
が一貫したウイスカーとなる。ウイスカーを構成する母
材と強化構造は、イオン結合、共有結合等により、化学
的に結合していることが好ましい。また、母材と強化構
造の結晶関係がエピタキシャルである場合には、導電
性、圧電性等の特性にすぐれた金属酸化物構造体が得ら
れるので好ましい。The reinforcing structure formed in the whisker may be formed so as to completely traverse the whisker as seen in the above examples, or may be partially formed in the cross section of the whisker. . The whisker of the present invention is strong against lateral strain by having the reinforcing layer along the major axis direction as described above, and also has conductivity, strength, piezoelectricity, etc. along the major axis direction of the whisker. The whisker has consistent physical properties. It is preferable that the base material forming the whiskers and the reinforcing structure are chemically bonded to each other by an ionic bond, a covalent bond, or the like. Further, when the crystal relationship between the base material and the reinforced structure is epitaxial, a metal oxide structure having excellent characteristics such as conductivity and piezoelectricity can be obtained, which is preferable.
【0019】本発明のウイスカーを有する金属酸化物構
造体を製造する際の基材としては、例えば、酸化アルミ
ニウムのような金属酸化物単結晶、半導体単結晶、セラ
ミック、シリコン、Fe、Ni等の金属、ガラス、プラ
スチック等が挙がられる。本発明のウイスカーを有する
金属酸化物構造体は、そのウイスカーが基板上にエピタ
キシャル成長をしていることがより好ましい。金属酸化
物が基板上でエピタキシャル成長しているかどうかは、
通常のX線回折法により確認することができる。特に、
φスキャン法により基板、及び金属酸化物の面内方位関
係を観察することにより確認する方法が好ましく用いら
れる。The base material for producing the metal oxide structure having whiskers of the present invention is, for example, a metal oxide single crystal such as aluminum oxide, a semiconductor single crystal, a ceramic, silicon, Fe, Ni or the like. Examples include metal, glass, and plastic. The metal oxide structure having whiskers of the present invention more preferably has the whiskers epitaxially grown on the substrate. Whether the metal oxide is epitaxially grown on the substrate depends on
It can be confirmed by a usual X-ray diffraction method. In particular,
A method of confirming by observing the in-plane orientation relationship between the substrate and the metal oxide by the φ scan method is preferably used.
【0020】本発明の基板として特に好ましく用いられ
るものは、具体的には、シリコン、酸化アルミニウム、
酸化マグネシウム、SrTiO3等の金属酸化物単結晶
である。この場合の結晶は一種以上の単結晶であって
も、多結晶であっても、非晶部と結晶部を同時に有する
一種以上の半結晶性物質であっても、また、これらの混
合物であってもよい。最も好ましくは単結晶である。こ
の場合、基板表面は単結晶の特定の面になっていること
が好ましい。Those which are particularly preferably used as the substrate of the present invention are specifically silicon, aluminum oxide,
It is a metal oxide single crystal such as magnesium oxide or SrTiO 3 . In this case, the crystal may be one or more single crystals, a polycrystal, one or more semi-crystalline substances having an amorphous part and a crystal part at the same time, or a mixture thereof. May be. Most preferably, it is a single crystal. In this case, the surface of the substrate is preferably a specific surface of the single crystal.
【0021】本発明では、ウイスカー母材を構成する原
料化合物と、該母材とは異種元素のウイスカーの強化構
造を構成する原料化合物をそれぞれ加熱気化させたガス
をキャリアガスとともに均一に混合した後に、大気圧開
放下に加熱された基材表面に吹き付けて目的とするウイ
スカーを有する金属酸化物構造体を製造する。キャリア
ガスとしては、使用する金属化合物と反応するものでな
ければ、特に限定はされない。具体例として、窒素ガス
やヘリウム、ネオン、アルゴン等の不活性ガス、炭酸ガ
ス、有機弗素ガス、あるいはヘプタン、ヘキサン等の有
機物質等が挙げられる。これらのうちで安全性、経済性
の上から不活性ガスが好ましい。特に、窒素ガスが経済
性の面より最も好ましい。In the present invention, the raw material compound constituting the whisker base material and the raw material compound constituting the whisker strengthening structure of a different element from the base material are heated and vaporized, respectively, and then uniformly mixed with the carrier gas. A metal oxide structure having a target whisker is manufactured by spraying the surface of a base material heated under atmospheric pressure. The carrier gas is not particularly limited as long as it does not react with the metal compound used. Specific examples thereof include nitrogen gas, an inert gas such as helium, neon, and argon, carbon dioxide gas, organic fluorine gas, and organic substances such as heptane and hexane. Of these, inert gas is preferable from the viewpoint of safety and economy. In particular, nitrogen gas is the most preferable in terms of economy.
【0022】また、金属酸化物構造体が形成される基材
の温度は、基材近傍及び表面で金属酸化物が形成される
温度であれば特に限定されないが、基材表面に吹き付け
る原料ガスの温度よりも高い温度に設定することが好ま
しく、通常は100〜700℃に設定される。本発明
で、ウイスカーを有する金属酸化物構造体を形成するの
に必要な反応時間は、原料の種類や反応条件、目的とす
る構造体の用途等に応じて適宜選択される。The temperature of the base material on which the metal oxide structure is formed is not particularly limited as long as it is the temperature at which the metal oxide is formed near and on the surface of the base material. It is preferable to set the temperature higher than the temperature, and usually it is set to 100 to 700 ° C. In the present invention, the reaction time required to form the metal oxide structure having whiskers is appropriately selected depending on the type of raw material, reaction conditions, intended use of the structure, and the like.
【0023】本発明では、通常ウイスカーが密集状に形
成された金属酸化物構造体が得られるが、各々のウイス
カーの間には空隙が存在する。したがって、その構造体
は、使用する形態等によっては使用時に変形が起こる可
能性がある。すなわち物理的応力により、多くのウイス
カーがなぎ倒されたような状況になる可能性がある。こ
れを防ぐために、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
エラストマー、シアノアクリレートのような瞬間接着剤
等の有機物質、ガラス、セラミック等の無機物質、金属
等でウイスカーの間を充填固定することもできる。In the present invention, a metal oxide structure in which whiskers are usually formed in a dense state is obtained, but voids exist between the whiskers. Therefore, the structure may be deformed at the time of use depending on the form used. In other words, physical stress may cause many whiskers to be knocked down. To prevent this, for example, thermoplastic resin, thermosetting resin,
The whiskers can be filled and fixed with an organic substance such as an elastomer or an instant adhesive such as cyanoacrylate, an inorganic substance such as glass or ceramic, or a metal.
【0024】ウイスカーの間を充填固定する為に用いら
れる熱可塑性樹脂としては、低、中、高密度ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重
合体(以下「SAN樹脂」と略記する)、アクリロニト
リルーブタジエンースチレン共重合体(以下「ABS樹
脂」と略記する)、ポリアミド、ポリアセタール、ポリ
カーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリフェニレンエーテル、ポリメ
チルメタアクリレート、ポリエーテルイミド、ポリスル
ホン、ポリエステルイミド、ポリアリレート、ポリフェ
ニレンサルファイト、スチレンーブタジエン共重合体及
びその水素添加組成物等、及びこれら2種類以上の組み
合わせのポリマーブレンド及び共重合体、例えば、ポリ
カーボネートとアクリロニトリルーブタジエンースチレ
ン共重合体、ポリフェニレンエーテルとポリスチレン等
が挙げられる。The thermoplastic resin used for filling and fixing between the whiskers includes low, medium and high density polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, polyvinyl chloride, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer (hereinafter referred to as "SAN"). Abbreviated as "resin"), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (abbreviated as "ABS resin" hereinafter), polyamide, polyacetal, polycarbonate, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyphenylene ether, polymethylmethacrylate, polyetherimide. , Polysulfones, polyesterimides, polyarylates, polyphenylene sulphite, styrene-butadiene copolymers and hydrogenated compositions thereof, and polymers of combinations of two or more thereof. Rend and copolymers, for example, polycarbonate and acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polyphenylene ether and polystyrene, and the like.
【0025】また、ウイスカーの間を充填固定する為に
用いられる熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、DF
K樹脂、キシレン樹脂、グアナミン樹脂、ジアリルフタ
レート樹脂、ビニルエステル樹脂、フェノール樹脂、不
飽和ポリエステル樹脂、フラン樹脂、ポリイミド、ポリ
(p−ヒドロキシ安息香酸)、ポリウレタン、マレイン
酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂などが挙げられる。
ウイスカーを固定する為に用いられるエラストマーとし
ては、天然ゴムやブタジエンゴム、シリコーンゴム、ポ
リイソプレンゴム、クロロプレンゴム、エチレンプロピ
レンゴム、ブチルゴム、イソブチレンゴム、スチレン・
ブタジエンゴム、スチレン・イソプレン・スチレンブロ
ック共重合体ゴム、アクリルゴム、アクリロニトリル・
ブタジエンゴム、塩酸ゴム、クロロスルホン化ポリエチ
レンゴム、多硫化ゴム等の合成ゴム、等が挙げられる。
その他ポリテトラフルオロエチレン、石油樹脂、アルキ
ド樹脂等も用いることができる。As the thermosetting resin used for filling and fixing the space between the whiskers, epoxy resin, DF
K resin, xylene resin, guanamine resin, diallyl phthalate resin, vinyl ester resin, phenol resin, unsaturated polyester resin, furan resin, polyimide, poly (p-hydroxybenzoic acid), polyurethane, maleic acid resin, melamine resin, urea resin And so on.
Elastomers used to fix whiskers include natural rubber, butadiene rubber, silicone rubber, polyisoprene rubber, chloroprene rubber, ethylene propylene rubber, butyl rubber, isobutylene rubber, styrene.
Butadiene rubber, styrene / isoprene / styrene block copolymer rubber, acrylic rubber, acrylonitrile /
Examples thereof include butadiene rubber, hydrochloric acid rubber, chlorosulfonated polyethylene rubber, synthetic rubber such as polysulfide rubber, and the like.
In addition, polytetrafluoroethylene, petroleum resin, alkyd resin and the like can also be used.
【0026】本発明で得られるウイスカーを有する金属
酸化物構造体は、絶縁体、導電体、固定電解質、蛍光表
示管、EL素子、セラミックコンデンサー、アクチュエ
ーター、レーザー発振素子、冷陰極素子、強誘電体メモ
リー、圧電体、サーミスター、バリス、超伝導体、プリ
ント基板等の電子材料、電磁波シールド材、光誘電体、
光スイッチ、光センサー、太陽電池、光波長変換素子、
光吸収フィルター等の光素子、温度センサー、ガスセン
サー等のセンサー材料、気相や液相やその両方の相にお
ける触媒や担体等に使用することができる。The metal oxide structure having whiskers obtained in the present invention is an insulator, a conductor, a fixed electrolyte, a fluorescent display tube, an EL device, a ceramic capacitor, an actuator, a laser oscillator, a cold cathode device, a ferroelectric. Electronic materials such as memory, piezoelectric material, thermistor, ballis, superconductor, printed circuit board, electromagnetic wave shield material, photodielectric material,
Optical switch, optical sensor, solar cell, optical wavelength conversion element,
It can be used as an optical element such as a light absorption filter, a sensor material such as a temperature sensor or a gas sensor, a catalyst or a carrier in a gas phase, a liquid phase or both phases.
【0027】[0027]
【実施例】つぎに、実施例により本発明をさらに説明す
るが、以下の具体例は本発明を限定するものではない。
(実施例1)図1の大気開放型CVD装置を使用し、以
下の手順によりサファイア単結晶基板(0001)面上
に、Al:ZnOウイスカー密集構造体を作製した。金
属酸化物ウイスカーを構成する母材の気化器3内にアセ
チルアセトナトZnを、また異種元素の気化器4内にア
セチルアセトナトAlを仕込んだ。母材の気化器3を1
15℃に、また異種元素の気化器4を100〜125℃
に加熱し、それぞれ流量1.5l/min及び流量0.
5〜1.5l/minの窒素ガスにより原料混合器5に
輸送した。原料混合器5内のコイル状加熱混合器8によ
り125℃に加熱された原料ガスは、ノズル9から加熱
台11上で550℃に加熱された厚さ0.5mmのサフ
ァイア単結晶(0001)面に、大気圧開放下に吹き付
けた。スリット9と基板10の距離は2cmであった。
原料ガスは大気中で熱分解し、Al:ZnOウイスカー
としてサファイア単結晶基板上に堆積した。この例にお
けるウイスカーの長さは25μm、ウイスカーの円近似
断面径は1.5μmで、ウイスカー中のAlの含有量は
1.8原子%であった。一般に知られているZnOに対
するAlの固溶限界は1原子%であるため、固溶限界を
超えたAlはウイスカー内部の長軸方向に沿って析出
し、機械強度の高い酸化アルミニウム層からなる強化構
造を形成した。生成したAl:ZnOウイスカーの優先
配向方向は(0001)方位であった。EXAMPLES Next, the present invention will be further described with reference to examples, but the following specific examples do not limit the present invention. Example 1 An Al: ZnO whisker dense structure was produced on a sapphire single crystal substrate (0001) surface by the following procedure using the atmosphere open type CVD apparatus of FIG. Acetylacetonato Zn was charged in the vaporizer 3 of the base material forming the metal oxide whiskers, and acetylacetonato Al was charged in the vaporizer 4 of different elements. Base material vaporizer 3 1
At 15 ° C, the vaporizer 4 for different elements is set to 100 to 125 ° C.
At a flow rate of 1.5 l / min and a flow rate of 0.
It was transported to the raw material mixer 5 by nitrogen gas of 5 to 1.5 l / min. The raw material gas heated to 125 ° C. by the coiled heating mixer 8 in the raw material mixer 5 is heated from the nozzle 9 to 550 ° C. on the heating table 11 to form a 0.5 mm thick sapphire single crystal (0001) plane. Then, it was sprayed under atmospheric pressure. The distance between the slit 9 and the substrate 10 was 2 cm.
The source gas was thermally decomposed in the atmosphere and deposited as Al: ZnO whiskers on the sapphire single crystal substrate. In this example, the length of the whiskers was 25 μm, the circle approximate cross-sectional diameter of the whiskers was 1.5 μm, and the Al content in the whiskers was 1.8 atom%. Since the solid solution limit of Al to ZnO that is generally known is 1 atom%, Al exceeding the solid solution limit is precipitated along the long axis direction inside the whiskers and strengthened by an aluminum oxide layer with high mechanical strength. The structure formed. The preferred orientation direction of the generated Al: ZnO whiskers was the (0001) orientation.
【0028】(比較例1)異種元素の気化器4内にアセ
チルアセトナトAlを仕込まなかったほかは、実施例1
と同様にしてサファイア単結晶基板上に、実施例1と同
様の寸法を有するZnOウイスカーを堆積した。Comparative Example 1 Example 1 was repeated except that acetylacetonato Al was not charged in the vaporizer 4 for different elements.
ZnO whiskers having the same dimensions as in Example 1 were deposited on the sapphire single crystal substrate in the same manner as in.
【0029】(押込み座屈試験)実施例1及び比較例1
で得られたウイスカーを有する金属酸化物構造体に対し
て、200×200mm2のダイヤモンド平担圧子を装
着したナノインデンターを使用して押込み座屈試験を行
った。実施例1のウイスカーを有する金属構造体の破壊
強度は450mNであり、一方、比較例1の構造体の破
壊強度は350mNであった。(Indentation Buckling Test) Example 1 and Comparative Example 1
The indentation buckling test was performed on the metal oxide structure having the whiskers obtained in 1. using a nano indenter equipped with a 200 × 200 mm 2 flat diamond indenter. The fracture strength of the metal structure having whiskers of Example 1 was 450 mN, while the fracture strength of the structure of Comparative Example 1 was 350 mN.
【0030】(樹脂埋めこみ試験)実施例1及び比較例
1で得られたウイスカーを有する金属酸化物構造体のウ
イスカー間の空隙にエポキシ樹脂を注入し、ウイスカー
により強化された厚さ25μmのエポキシ樹脂膜を作製
した。得られたウイスカー強化エポキシ樹脂膜の垂直方
向における圧縮強度を常法により測定したところ、実施
例1から得られたものの50mNにおける圧縮率は3%
であった。これに対して比較例1から得られたものの5
0mNにおける圧縮率は7%であり、本発明により寸法
変化の小さい薄膜回路基板等として有用な材料が得られ
ることが判明した。(Resin embedding test) An epoxy resin having a thickness of 25 μm was injected by injecting an epoxy resin into the voids between the whiskers of the metal oxide structure having whiskers obtained in Example 1 and Comparative Example 1 A membrane was prepared. When the compressive strength in the vertical direction of the obtained whisker-reinforced epoxy resin film was measured by a conventional method, the compressive ratio at 50 mN of that obtained from Example 1 was 3%.
Met. On the other hand, 5 of those obtained from Comparative Example 1
The compressibility at 0 mN was 7%, and it was found that the present invention can provide a material useful as a thin film circuit board or the like having a small dimensional change.
【0031】(実施例2)異種元素の気化器4の加熱温
度を130℃、気化器4に供給する窒素ガスの流量を
1.0l/minとしたほかは、実施例1と同様にして
厚さ0.5mmのサファイア単結晶(0001)面上
に、Al:ZnOウイスカーを堆積させた。この例で
は、原料の仕込量及び吹き付け時間を調整することによ
って、長さ20μm、円近似断面積径が1.5μmで、
ウイスカー中のAlの含有量が2.8原子%のウイスカ
ーを得た。このウイスカーは実施例1と同様に、機械強
度の高い酸化アルミニウム層からなる強化構造を有して
いた。(Example 2) The thickness was the same as in Example 1 except that the heating temperature of the vaporizer 4 for different elements was 130 ° C and the flow rate of nitrogen gas supplied to the vaporizer 4 was 1.0 l / min. Al: ZnO whiskers were deposited on a sapphire single crystal (0001) surface having a thickness of 0.5 mm. In this example, the length is 20 μm, the circle approximate cross-sectional area diameter is 1.5 μm, by adjusting the charging amount of the raw material and the spraying time.
Whiskers having an Al content of 2.8 atomic% in the whiskers were obtained. Similar to Example 1, this whisker had a reinforced structure composed of an aluminum oxide layer having high mechanical strength.
【0032】(比較例2)異種元素の気化器4内にアセ
チルアセトナトAlを仕込まなかったほかは、実施例2
と同様にしてサファイア単結晶基板上に、実施例2と同
様の寸法を有するZnOウイスカーを堆積した。Comparative Example 2 Example 2 was repeated except that acetylacetonato Al was not charged in the vaporizer 4 for different elements.
ZnO whiskers having the same dimensions as in Example 2 were deposited on the sapphire single crystal substrate in the same manner as in.
【0033】(圧電素子試験)実施例2及び比較例2で
得られたウイスカーを有する金属酸化物構造体のウイス
カー間の空隙にエポキシ樹脂を注入し、ウイスカーによ
り強化された厚さ20μmのエポキシ樹脂膜を作製し
た。得られたウイスカー強化エポキシ樹脂膜の垂直方向
における圧電特性を常法により評価したところ、実施例
2から得られたものは、650mNでの圧縮が限界でそ
のときの最大電圧は65Vであった。一方、比較例2か
ら得られたものは、450mNでの圧縮が限界でそのと
きの最大電圧は45Vであり、本発明によってより大き
い歪みを感知できるセンサー材料を得ることができる。(Piezoelectric element test) An epoxy resin having a thickness of 20 μm, which was reinforced by injecting an epoxy resin into the voids between the whiskers of the metal oxide structure having whiskers obtained in Example 2 and Comparative Example 2. A membrane was prepared. When the piezoelectric characteristics of the obtained whisker reinforced epoxy resin film in the vertical direction were evaluated by a conventional method, the one obtained from Example 2 had a limit of compression at 650 mN and the maximum voltage at that time was 65V. On the other hand, the material obtained from Comparative Example 2 has a limit of compression at 450 mN and the maximum voltage at that time is 45 V, and a sensor material capable of sensing a larger strain can be obtained by the present invention.
【0034】(実施例3)異種元素の気化器4の加熱温
度を118℃、気化器4に供給する窒素ガスの流量を
1.2l/minとし、基板として厚さ0.5mmのS
US316基板を使用したほかは、実施例1と同様にし
て基板上にAl:ZnOウイスカーを堆積させた。この
例では、長さ10μm、円近似断面積が1.0μmで、
ウイスカー中のAlの含有量が1.3原子%のウイスカ
ーが得られた。このウイスカーは実施例1と同様に、機
械強度の高い酸化アルミニウム層からなる強化構造を有
していた。(Embodiment 3) The heating temperature of the vaporizer 4 for different elements is 118 ° C., the flow rate of the nitrogen gas supplied to the vaporizer 4 is 1.2 l / min, and the substrate is S having a thickness of 0.5 mm.
Al: ZnO whiskers were deposited on the substrate as in Example 1 except that a US316 substrate was used. In this example, the length is 10 μm, the approximate circle cross section is 1.0 μm,
Whiskers having an Al content of 1.3 atomic% in the whiskers were obtained. Similar to Example 1, this whisker had a reinforced structure composed of an aluminum oxide layer having high mechanical strength.
【0035】(比較例3)異種元素の気化器4内にアセ
チルアセトナトAlを仕込まなかったほかは、実施例3
と同様にしてサファイア単結晶基板上に、実施例3と同
様の寸法を有するZnOウイスカーを堆積した。Comparative Example 3 Example 3 was repeated except that acetylacetonato Al was not charged in the vaporizer 4 for different elements.
ZnO whiskers having the same dimensions as in Example 3 were deposited on the sapphire single crystal substrate in the same manner as in.
【0036】(電子放出試験)実施例3及び比較例3で
得られた、長さ10μmのウイスカー密集構造体から電
子放出素子を形成して、電子放出電流の測定を行なっ
た。ウイスカー先端から陽極までの距離を200μm
にして陽極に5kVの正の電圧を印加したところ、実施
例3から得られた電子放出素子は、放出電流が0.1m
A/cm2で300時間電流を放出し続けた。一方、比
較例3から得られた電子放出素子は、放出電流が0.1
mA/cm2で3時間電流を放出した。本発明によれ
ば、ウイスカー中のAlの強化構造により放電の際にも
ウイスカーの形状が崩れずに維持されるので、より長時
間動作の可能な電子放出素子を得ることができる。(Electron Emission Test) An electron emitting device was formed from the whisker dense structure having a length of 10 μm obtained in Example 3 and Comparative Example 3, and the electron emission current was measured. Distance from whisker tip to anode is 200μm
Then, when a positive voltage of 5 kV was applied to the anode, the electron-emitting device obtained from Example 3 had an emission current of 0.1 m.
The current was continuously emitted at A / cm 2 for 300 hours. On the other hand, the electron-emitting device obtained from Comparative Example 3 has an emission current of 0.1.
The current was discharged at mA / cm 2 for 3 hours. According to the present invention, the Al reinforced structure in the whiskers keeps the shape of the whiskers unchanged during discharge, so that an electron-emitting device capable of operating for a longer period of time can be obtained.
【図1】本発明の金属酸化物構造体を製造する装置の1
例を示す模式図である。FIG. 1 is an apparatus 1 for producing a metal oxide structure of the present invention.
It is a schematic diagram which shows an example.
【図2】本発明のウイスカー中の強化構造の1例を示す
模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing an example of a reinforcing structure in a whisker of the present invention.
【図3】本発明のウイスカー中の強化構造の他の例を示
す模式図である。FIG. 3 is a schematic view showing another example of the reinforcing structure in the whisker of the present invention.
【図4】本発明のウイスカー中の強化構造の他の例を示
す模式図である。FIG. 4 is a schematic view showing another example of the reinforced structure in the whisker of the present invention.
1 製造装置 2 窒素ガス供給源 3 母材の気化器 4 異種元素の気化器 5 原料混合器 6 原料混合溜 7、12 ヒーター 8 コイル状加熱混合器 9 ノズル 10 基材 11 加熱台 20,30,40 ウイスカー 21,31,41 母材 22,32,42 強化構造 43 空洞 1 Manufacturing equipment 2 Nitrogen gas supply source 3 Base material vaporizer 4 Vaporizer of different elements 5 Raw material mixer 6 Raw material mixing reservoir 7, 12 heater 8 coiled heating mixer 9 nozzles 10 Base material 11 heating table 20, 30, 40 whiskers 21, 31, 41 Base material 22, 32, 42 Reinforced structure 43 cavity
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開2000−58365(JP,A) 特開 平2−60988(JP,A) 特開2001−114600(JP,A) 特開2002−167300(JP,A) 国際公開99/057345(WO,A1) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C30B 1/00 - 35/00 D01F 9/08 CAplus(STN) JSTPlus(JOIS) WPI(DIALOG)─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP 2000-58365 (JP, A) JP 2-60988 (JP, A) JP 2001-114600 (JP, A) JP 2002-167300 (JP , A) International publication 99/057345 (WO, A1) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C30B 1/00-35/00 D01F 9/08 CAplus (STN) JSTPlus (JOIS) WPI (DIALOG)
Claims (12)
円近似断面径に対する長さの比が1以上である金属酸化
物のウイスカーを有する金属酸化物構造体において、ウ
イスカーがウイスカー内部にウイスカーの長軸方向に沿
ってウイスカーを構成する母材とは異なる元素添加によ
って得られる母材組成とは異なる組成の強化層を有する
ことを特徴とする金属酸化物構造体。1. A circle approximate cross-sectional diameter of 0.01 to 100 μm,
In a metal oxide structure having metal oxide whiskers in which the ratio of the length to the approximate circular cross-section diameter is 1 or more, the whiskers are arranged inside the whiskers along the long axis direction of the whiskers.
Metal oxide structure characterized <br/> have a reinforcing layer of different composition than the base metal composition obtained by the different elements added to the base material constituting the whiskers I.
して0.1〜10原子%であることを特徴とする請求項
1に記載の金属酸化物構造体。 2. The ratio of different elements to the elements constituting the base material
0.1 to 10 atomic%
1. The metal oxide structure according to 1.
μm の面積当たり0.1〜10000個の密度で存在
することを特徴とする請求項1又は2に記載の金属酸化
物構造体。 3. Whiskers are 10 μm × 10 on the surface of the substrate.
μm Exists at a density of 0.1 to 10,000 per area
The metal oxide according to claim 1 or 2, characterized in that
Object structure.
て一貫した性状を有することを特徴とする請求項1〜3
のいずれかに記載の金属酸化物構造体。4. The whiskers have consistent properties along the long axis of the whiskers.
The metal oxide structure according to any one of 1.
的に結合していることを特徴とする請求項1〜4のいず
れかに記載の金属酸化物構造体。5. The metal oxide structure according to claim 1, wherein the base material forming the whiskers and the reinforcing layer are chemically bonded.
関係がエピタキシャルであることを特徴とする請求項1
〜5のいずれかに記載の金属酸化物構造体。6. The crystal relationship between the base material forming the whiskers and the reinforcing layer is epitaxial.
The metal oxide structure according to any one of 1 to 5.
元素が、周期律表において水素を除く1族、2族、ホウ
素を除く13族、炭素を除く14族、窒素とリンと砒素
を除く15族及び3,4,5,6,7,8,9,10,
11,12族から選ばれる少なくとも一種の金属を含む
ものであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに
記載の金属酸化物構造体。7. A matrix element and a heterogeneous element constituting a whisker are groups 1 and 2 excluding hydrogen, group 13 excluding boron, group 14 excluding carbon, group 14 excluding carbon, and excluding nitrogen, phosphorus and arsenic 15 in the periodic table. Tribe and 3,4,5,6,7,8,9,10,
The metal oxide structure according to any one of claims 1 to 6, which contains at least one metal selected from Groups 11 and 12.
r及びPbから選ばれたものであることを特徴とする請
求項7に記載の金属酸化物構造体。8. The metal is Zn, Si, Al, Sn, Ti, Z.
The metal oxide structure according to claim 7, which is selected from r and Pb.
料でウイスカーの間を充填したことを特徴とする請求項
1〜8のいずれかに記載の金属酸化物構造体。9. The metal oxide structure according to claim 1, wherein the space between the whiskers is filled with a material selected from organic substances, inorganic substances and metals.
成元素を含むガスと気化させた母材とは異なる元素を含
むガスを、キャリアガスとともに均一に混合した後に、
大気圧開放下に加熱された基材表面に吹き付けて基材表
面に円近似断面径が0.01〜100μmで、円近似断
面径に対する長さの比が1以上である金属酸化物のウイ
スカーを有する金属酸化物構造体を堆積することを特徴
とする請求項1〜9のいずれかに記載の金属酸化物構造
体の製造方法。10. A gas containing a vaporized metal oxide whisker base material constituent element and a gas containing an element different from the vaporized base material are uniformly mixed with a carrier gas,
A metal oxide whisker having a circular approximate cross-sectional diameter of 0.01 to 100 μm and a length ratio to the approximate circular cross-sectional diameter of 1 or more is sprayed onto the surface of the base material heated under atmospheric pressure release. The method for producing a metal oxide structure according to claim 1, wherein the metal oxide structure having the metal oxide structure is deposited.
イスカーの間を有機物質、無機物質、金属から選ばれる
材料で充填することを特徴とする請求項10に記載の金
属酸化物構造体の製造方法。11. The metal oxide structure according to claim 10, wherein the whiskers of the obtained metal oxide structure are filled with a material selected from organic substances, inorganic substances and metals. Manufacturing method.
気化器、該母材とは異なる元素の気化器、気化させた母
材及び母材とは異なる元素をキャリアガスとともに均一
に混合する原料混合器、混合原料ガスを噴出するノズル
及び基材加熱台を有することを特徴とする請求項1〜9
のいずれかに記載の金属酸化物構造体の製造装置。12. A vaporizer of a base material forming a metal oxide whisker, a vaporizer of an element different from the base material, a vaporized base material, and a raw material for uniformly mixing an element different from the base material with a carrier gas. 10. A mixer, a nozzle for ejecting a mixed raw material gas, and a base material heating base are provided.
An apparatus for producing a metal oxide structure according to any one of 1.
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