JP3533600B2

JP3533600B2 - 凹版並びに凹版の製造方法及びその装置

Info

Publication number: JP3533600B2
Application number: JP25435499A
Authority: JP
Inventors: 真言木下
Original assignee: リコーマイクロエレクトロニクス株式会社
Priority date: 1999-09-08
Filing date: 1999-09-08
Publication date: 2004-05-31
Anticipated expiration: 2019-09-08
Also published as: JP2001071451A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、凹版並びに凹版の
製造方法及びその装置に関し、詳しくは、印刷パターン
としての凹部を有し、該凹部に充填されたペーストを被
印刷体に密着させた後、該ペーストを該凹部から版抜け
させて被印刷体側に転写することによって、被印刷体に
印刷パターンを印刷するための凹版並びに凹版の製造方
法及びその装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】エキシマレーザやＹＡＧレーザの高調波
を使用したワークの加工は、非常に短い波長（１９３，
２４８，２６６，３０８，３５１ｎｍ）のレーザビーム
により誘起されるアブレーション反応によってワークを
加工する非熱加工であり、ＣＯ _２レーザ（赤外線域の９
〜１１μｍ）やＹＡＧレーザの基本波（近赤外線域の
１．０６４μｍ）などのような長波長のレーザビームに
よって誘起される熱効果による熱加工に比べて、加工精
度の優れたワーク加工が可能である。

【０００３】このように非常に短い波長のアブレーショ
ン加工では、例えば、ポリイミド、ポリエステル、エポ
キシ、ポリカーボネート等の合成樹脂に対して、熱的に
溶解させることなく、レーザビームが照射された表面か
ら順次、その高分子の分子の一つ一つを励起させて分子
間結合を開裂させ、固体の状態にある分子を直接飛散さ
せることにより、加工することができる。この加工法
は、通常、アブレーション加工と言われている。このア
ブレーション加工は、ＣＯ₂レーザや、ＹＡＧレーザに
よる基本波〜５３２，３５４．７ｎｍの波長での加工に
比べ、高精細な加工を行うことができる。

【０００４】このようなアブレーション加工の特質を生
かして、本出願人により、アブレーション加工により樹
脂板に開口を形成することによって、例えば、プリント
基板にクリーム半田を印刷するための印刷用プラスチッ
クマスクなどを製造する技術が提案されている（特開平
７−０１６９２４号公報、特開平７−０８１０２７号公
報、特開平９−２３２７２０号公報など）。

【０００５】また、本出願人は、上述のような印刷用プ
ラスチックマスクなどを製造するためのエキシマレーザ
による加工装置として、レーザビームの照射範囲に応じ
た一定の大きさの区画毎に、予め分割して形成された様
々な形状の透過口からなる加工パターンを有するアパー
チャマスクを使用して、該アパーチャマスクの任意の区
画の加工パターンを、該レーザビームにより選択的に照
射し、該アパーチャマスクの選択された区画の加工パタ
ーンを透過したレーザビームをワークに照射して、該ワ
ークに該加工パターンに応じた形状のレーザ加工を行う
レーザによる加工装置を開発した（特願平１０−１７４
１００号）。

【０００６】このレーザによる加工装置は、一つのアパ
ーチャマスクの各区画に、予め必要な形状の加工パター
ンを形成しておくことができるので、個別の形状の加工
パターンが形成された多数のアパーチャマスクを必要に
応じて交換しながら加工を行う従来の加工装置に比べ、
その加工時間を著しく短縮することができ、また、アパ
ーチャマスクの管理も極めて容易になるなどのメリット
を有している。

【０００７】また、上述のアブレーション加工技術を利
用して、樹脂板の表面に印刷パターンとしての凹部を彫
り込むことによって、凹版印刷用のプラスチック製の凹
版を形成することができる。この種の凹版を用いて電子
部品を製造する方法として、従来、可撓性樹脂の表面に
導体パターンに対応した凹部を彫り込んで凹版を形成
し、該凹版の凹部にＡｇペーストを充填して、被印刷体
としての絶縁性基板上に該凹版を重ね合わせて加圧密着
させた後、絶縁性基板から該凹版を引き剥がして該Ａｇ
ペーストを絶縁性基板上に転写し、該Ａｇペーストを焼
成して絶縁性基板上に導体パターンを形成する電子部品
の製造方法が提案されている（特開平７−１６９６３５
号公報、特開平９−３３０８４３号公報など）。このよ
うに、上記凹版を用いて絶縁性基板上にＡｇペーストな
どの導電性ペーストを凹版印刷することで、例えば、セ
ラミックチップの上に配線やコイルなどの導体パターン
を形成することができる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところが、エキシマレ
ーザによるアブレーション加工技術を利用して製造され
た凹版は、例えば、図１６に示すように、樹脂板からな
る凹版材１Ａに、エキシマレーザの発するレーザビーム
Ｌが照射されて凹部１ａが彫り込まれた際に、該凹部１
ａの底面と側面で構成されるコーナー部１ｂが鋭角にな
り、且つ、該コーナー部１ｂが他の底面よりも深く彫り
込まれて、該コーナー部１ｂに溝１ｃが形成される不具
合がある。

【０００９】このような溝１ｃが形成されるのは、次の
ようなことが原因であるといわれている。すなわち、図
１７に示すように、エキシマレーザによるアブレーショ
ン加工によって凹版材１Ａに形成された凹部１ａの内壁
１ｄは、凹版材１Ａに照射されるレーザビームＬの単位
面積当たりのエネルギー密度が、加工可能なしきい値を
上回ることができないことによるとされる角度の傾斜面
となることが知られている。これにより、凹版材１Ａに
レーザビームＬが照射された際に、この凹部１ａの内壁
１ｄ（傾斜面）によって反射される反射光Ｌ１と、該凹
部１ａの底面に直射される直射光Ｌ２とが、該凹部１ａ
のコーナー部１ｂの付近で重なり合って、該コーナー部
１ｂに照射されるレーザビームＬのエネルギー密度が増
大され、該コーナー部１ｂが他の底面よりも深く彫り込
まれるためと考えられている。

【００１０】また、溝１ｃが形成される他の原因として
は、エキシマレーザによるアブレーション加工によって
凹版材１Ａがガス化する際のインパクトにより該凹部１
ａの内壁１ｄが叩かれて、該凹部１ａのコーナー部１ｂ
に応力が集中するため、あるいは、該ガス化によって例
えば６０００℃もの高温ガスの溜まりが一瞬（数１０ｎ
／ｓｅｃ程度）生成され、この高温ガスによる二次的な
熱加工によって、該コーナー部１ｂが他の底面よりも深
く彫り込まれるためなどと考えられている。

【００１１】このため、このようなエキシマレーザによ
るアブレーション加工技術を利用して製造される凹版で
は、その製造工程で発生したアブレーションガスのイン
パクトによって加工される凹部の内壁が叩かれることに
なり、応力の集中する凹部１ａの溝１ｃにクラック１ｅ
が発生することになる。また、前述したように被印刷体
から該凹版を引き剥がしてペーストを被印刷体上に転写
する際に、該凹版の凹部１ａからペーストが版抜けする
ときに生じるストレスが該凹部１ａの内壁１ｄにかかる
ことによって、該凹部１ａのコーナー部１ｂに該ストレ
スによる応力が集中して、該コーナー部１ｂに形成され
たクラック１ｅが成長することがあった。このように、
この種の従来の凹版は、ペースト印刷が繰り返し行われ
ることによって、その凹部１ａのコーナー部１ｂに生じ
たクラック１ｅが次第に成長し、やがて該凹部１ａのコ
ーナー部１ｂが破損されて使用できなくなる（つまり短
寿命である）という欠点があった。特に、ペーストを硬
化させてから版抜けさせる印刷法を行う場合には、凹部
１ａのコーナー部１ｂの破損が顕著に現れる。

【００１２】本発明は以上の問題点に鑑みなされたもの
であり、その目的とするところは、凹部のコーナー部に
クラックが発生することがない長寿命な凹版並びに該凹
版の製造方法及びその装置を提供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１の発明は、印刷パターンに対応する凹部を
有し、該凹部に充填されたペーストを被印刷体に密着さ
せた後、該ペーストを該凹部から版抜けさせて被印刷体
側に転写することによって、被印刷体に印刷パターンを
印刷するための凹版であって、上記凹部の内壁の傾斜角
度が順次変化した形状に形成されていることを特徴とす
るものである。

【００１４】この凹版においては、その凹部の内壁の傾
斜角度が順次変化した形状に形成されているので、この
凹部の側面と底面で構成されるコーナー部にストレスが
集中しにくく、その機械的強度が増大される。この結
果、ペースト印刷を繰り返し行ってもコーナー部にクラ
ックが発生し難い長寿命な凹版が得られる。

【００１５】請求項２の発明は、エキシマレーザの発す
るレーザビームによって加工された印刷パターンに対応
する凹部を有し、該凹部に充填されたペーストを被印刷
体に密着させた後、該ペーストを該凹部から版抜けさせ
て被印刷体側に転写することによって、被印刷体に印刷
パターンを印刷するための凹版の製造方法であって、上
記凹版を製造するためのワークとしての凹版材に、上記
レーザビームを照射して該凹版材に上記凹部を形成する
際に、該凹版材に対する該レーザビームの照射面積及び
照射時間を順次変化させて、該レーザビームの照射面積
に応じた加工パターン及び該レーザビームの照射時間に
応じた深さの凹部を該凹版材に順次形成することによっ
て、該凹部の底面と側面で構成されるコーナー部を面取
り形状またはアール形状に形成することを特徴とするも
のである。

【００１６】この凹版の製造方法においては、上記凹版
材にレーザビームを照射して該凹版材に凹部を形成する
際に、該凹版材に対する該レーザビームの照射面積及び
照射時間が順次変化される。これにより、該レーザビー
ムの照射面積に応じた加工パターン及び該レーザビーム
の照射時間に応じた深さの凹部が該凹版材に順次形成さ
れる。つまり、この製造方法によれば、該凹版材に対す
る該レーザビームの照射面積と、該凹版材に照射される
レーザビームの照射時間との関係によって、凹版に形成
される凹部の底面側のコーナー部の形状を、階段状の面
取り形状あるいはほぼアール形状に近い形状に形成する
ことが可能になる（詳しくは後述する）。この結果、凹
版に形成される凹部のコーナー部の機械的強度が増大さ
れ、コーナー部にクラックが発生し難い長寿命な凹版が
得られる。

【００１７】請求項３の発明は、請求項２の凹版の製造
方法において、上記凹版材に対するレーザビームの照射
面積を、順次増大させることを特徴とするものである。

【００１８】この凹版の製造方法においては、上記凹版
材に対するレーザビームの照射面積が順次増大されるの
で、該レーザビームの照射により凹版材に形成される加
工パターンのパターン面積が、小さな状態から大きな状
態となるように次第に増大される。これにより、該凹版
材に対する該レーザビームの照射面積と、該凹版材に照
射されるレーザビームの照射時間との関係によって、凹
版に形成される凹部の底面側のコーナー部の形状が、滑
らかな階段状の面取り形状あるいはよりアール形状に近
い形状に形成される（詳しくは後述する）。この結果、
凹版に形成される凹部のコーナー部の機械的強度が更に
増大され、コーナー部にクラックが発生し難い、より長
寿命な凹版が得られる。

【００１９】請求項４の発明は、請求項２又は３の凹版
の製造方法において、上記レーザビームの照射経路に、
上記印刷パターンに対応し且つパターン面積が段階的に
異なった形状の複数種のアパーチャを有するアパーチャ
マスクを配置し、該アパーチャマスクの各アパーチャを
該レーザビームの照射経路に順次選択的に臨ませ、該レ
ーザビームの照射経路に順次臨む各アパーチャを通して
上記凹版材に該レーザビームを順次照射することによ
り、該凹版材に対するレーザビームの照射面積を段階的
に変化させることを特徴とするものである。

【００２０】この凹版の製造方法においては、上記アパ
ーチャマスクに形成された複数種のアパーチャが、レー
ザビームの照射経路に順次選択的に臨むことによって、
上記凹版材に対するレーザビームの照射面積が段階的に
変化される。すなわち、凹版材に照射されるレーザビー
ムの照射面積は、該レーザビームの照射経路に臨んでい
るアパーチャのパターン面積によって決定される。従っ
て、アパーチャマスクに形成された複数種のアパーチャ
が、該レーザビームの照射経路に順次選択的に臨むこと
により、該レーザビームの照射経路に臨んでいるアパー
チャのパターン面積に応じて、凹版材に照射されるレー
ザビームの照射面積が変化される。この結果、各アパー
チャのパターン面積と、各アパーチャを通して凹版材に
照射されるレーザビームの照射時間との関係によって、
凹版に形成される凹部の底面側のコーナー部の形状を、
階段状の面取り形状あるいはほぼアール形状に近い形状
に形成することが可能になる。

【００２１】請求項５の発明は、請求項４の凹版の製造
方法において、上記複数種のアパーチャを１つのアパー
チャマスク上に形成し、該アパーチャマスクを上記レー
ザビームの照射経路に対してほぼ直交する平面に沿って
回転移動又は直線移動させることにより、該照射経路に
各アパーチャを選択的に臨ませることを特徴とするもの
である。

【００２２】この凹版の製造方法においては、上記アパ
ーチャマスクが上記レーザビームの照射経路に対してほ
ぼ直交する平面に沿って回転移動又は直線移動すること
によって、１つのアパーチャマスク上に形成された複数
種のアパーチャが、該照射経路に臨むように入れ替えら
れる。これにより、１つのアパーチャマスクの各区画
に、予め必要な印刷パターンに対応し且つパターン面積
が段階的に異なった形状の複数種のアパーチャを形成し
ておくことができるので、複数種のアパーチャが個別に
形成された多数のアパーチャマスクを加工の都度入れ替
える必要がなく、加工時間を著しく短縮することがで
き、また、アパーチャマスクの管理を容易化したりアパ
ーチャの入れ替え機構を簡素化したりすることができ
る。

【００２３】請求項６の発明は、請求項２又は３の凹版
の製造方法において、上記レーザビームの照射経路に、
上記印刷パターンに対応した形状の開口を有し且つ該開
口のパターン面積を任意の値に設定できるシャッタを配
置し、該シャッタの開口のパターン面積を変化させなが
ら、該シャッタの開口を通して上記凹版材に該レーザビ
ームを照射することにより、該凹版材に対するレーザビ
ームの照射面積を変化させることを特徴とするものであ
る。

【００２４】この凹版の製造方法においては、上記シャ
ッタの開口のパターン面積が変化されることによって、
上記凹版材に対するレーザビームの照射面積が変化され
る。すなわち、凹版材に照射されるレーザビームの照射
面積は、該レーザビームの照射経路に配置されたシャッ
タの開口のパターン面積によって決定される。従って、
該シャッタの開口のパターン面積が変化されることによ
り、該シャッタの開口を通して上記凹版材に照射される
レーザビームの照射面積が変化される。この結果、該シ
ャッタの開口のパターン面積と、該シャッタの開口を通
して凹版材に照射されるレーザビームの照射時間との関
係によって、凹版に形成される凹部の底面側のコーナー
部の形状を、階段状の面取り形状あるいはほぼアール形
状に近い形状に形成することが可能になる。

【００２５】請求項７の発明は、エキシマレーザの発す
るレーザビームによって加工された印刷パターンに対応
する凹部を有し、該凹部に充填されたペーストを被印刷
体に密着させた後、該ペーストを該凹部から版抜けさせ
て被印刷体側に転写することによって、被印刷体に印刷
パターンを印刷するための凹版の製造方法であって、上
記凹版を製造するためのワークとしての凹版材に、上記
レーザビームを照射して該凹版材に上記凹部を形成する
際に、該レーザビームのエネルギー密度を変化させて、
該レーザビームによって該凹版材に彫り込まれる凹部の
内壁の傾斜角度を順次変化させることにより、該レーザ
ビームのエネルギー密度に応じた形状の凹部を該凹版材
に形成することを特徴とするものである。

【００２６】エキシマレーザの発するレーザビームのエ
ネルギー密度と、凹版材に彫り込まれる凹部の内壁の傾
斜角度とあいだには、エネルギー密度が大きい場合には
該傾斜角度が小、エネルギー密度が小さい場合には該傾
斜角度が大となる関係があることが知られている。従っ
て、上記レーザビームのエネルギー密度を所定の値に調
整して、該レーザビームによるアブレーション加工を行
うことにより、上記凹版材に彫り込まれる凹部の内壁の
傾斜角度を容易に変化させることが可能となる。そこ
で、この凹版の製造方法においては、レーザビームを照
射して凹版材に凹部を形成する際に、該レーザビームの
エネルギー密度を変化させて、該レーザビームによって
該凹版材に彫り込まれる凹部の内壁の傾斜角度を順次変
化させる。これにより、凹版に形成される凹部の底面側
のコーナー部の形状が、該レーザビームのエネルギー密
度に応じて段階的に傾斜した面取り形状に形成され、凹
版に形成される凹部のコーナー部の機械的強度が増大さ
れて、コーナー部にクラックが発生し難い長寿命な凹版
が得られる。

【００２７】請求項８の発明は、請求項７の凹版の製造
方法において、上記レーザビームのエネルギー密度を順
次増大させることを特徴とするものである。

【００２８】この凹版の製造方法においては、凹版材に
照射されるレーザビームのエネルギー密度が順次増大さ
れて、該レーザビームによって該凹版材に凹部が彫り込
まれるので、内壁の傾斜角度が凹部の深さ方向に向かっ
て次第に大きくなるように凹部が形成される。これによ
り、凹版に形成される凹部の底面側のコーナー部の形状
が、より傾斜した面取り形状に形成され、凹版に形成さ
れる凹部のコーナー部の機械的強度が更に増大されて、
コーナー部にクラックが発生し難い、より長寿命な凹版
が得られる。

【００２９】請求項９の発明は、請求項７の凹版の製造
方法において、上記レーザビームの照射経路に、集光率
の異なった集光レンズを、順次交換しながら配置して、
該レーザビームのエネルギー密度を変化させることを特
徴とするものである。

【００３０】凹版材に照射されるレーザビームのエネル
ギー密度は、レーザビームの照射経路に配置された集光
レンズの集光率を変えることで変化することが知られて
いる。そこで、この凹版の製造方法においては、集光率
の異なった集光レンズを複数個用意し、各集光レンズを
レーザビームの照射経路に順次交換しながら配置して、
凹版材に照射されるレーザビームのエネルギー密度を変
化させる。これにより、凹版材に内壁の傾斜角度が順次
変化した形状の凹部が形成される。

【００３１】請求項１０の発明は、請求項７の凹版の製
造方法において、上記エキシマレーザの駆動電圧を制御
して、上記レーザビームのエネルギー密度を変化させる
ことを特徴とするものである。

【００３２】エキシマレーザの発するレーザビームのエ
ネルギー密度は、エキシマレーザの駆動電圧を変えるこ
とにより変化することが知られている。そこで、この凹
版の製造方法においては、エキシマレーザの駆動電圧を
制御して、凹版材に照射されるレーザビームのエネルギ
ー密度を変化させる。これにより、凹版材に内壁の傾斜
角度が順次変化した形状の凹部が形成される。

【００３３】請求項１１の発明は、請求項７の凹版の製
造方法において、上記レーザビームの照射経路にアッテ
ネータを配置し、該アッテネータにより該レーザビーム
の透過率を制御して、該レーザビームのエネルギー密度
を変化させることを特徴とするものである。

【００３４】エキシマレーザの発するレーザビームのエ
ネルギー密度は、レーザビームの照射経路にアッテネー
タを配置し、該アッテネータにより該レーザビームの透
過率を制御することによって変化することが知られてい
る。そこで、この凹版の製造方法においては、該アッテ
ネータによりレーザビームの透過率を制御して、凹版材
に照射されるレーザビームのエネルギー密度を変化させ
る。これにより、凹版材に内壁の傾斜角度が順次変化し
た形状の凹部が形成される。

【００３５】請求項１２の発明は、エキシマレーザの発
するレーザビームによって加工された印刷パターンに対
応する凹部を有し、該凹部に充填されたペーストを被印
刷体に密着させた後、該ペーストを該凹部から版抜けさ
せて被印刷体側に転写することによって、被印刷体に印
刷パターンを印刷するための凹版の製造装置であって、
エキシマレーザと、上記凹版を製造するためのワークと
しての凹版材を載置するワーク載置台と、該ワーク載置
台上に載置された凹版材に対して、該エキシマレーザの
発するレーザビームを照射させる照射光学系と、上記印
刷パターンに対応し且つパターン面積比率が段階的に異
なった形状の複数種のアパーチャを有するアパーチャマ
スクを、該レーザビームの照射経路に対して該アパーチ
ャが対応するように保持するアパーチャマスク保持手段
と、該凹版材への該レーザビームの照射時に、該アパー
チャマスクの各アパーチャを、該レーザビームの照射経
路に対して順次選択的に入れ替えて対応させるアパーチ
ャ入れ替え手段と、該照射経路に順次対応した各アパー
チャを通して該凹版材に該レーザビームを順次照射する
レーザ駆動回路と、を有することを特徴とするものであ
る。

【００３６】この凹版の製造装置においては、請求項４
の凹版の製造方法によって形成される凹部のコーナー部
の形状が階段状の面取り形状あるいはほぼアール形状に
近い形状に形成されたコーナー部にクラックが発生し難
い長寿命な凹版を製造することができる。

【００３７】請求項１３の発明は、請求項１２の凹版の
製造装置において、上記アパーチャ入れ替え手段は、上
記照射経路に、パターン面積が小さなアパーチャからパ
ターン面積が大きなアパーチャの順に、各アパーチャを
入れ替えて配置するように制御されることを特徴とする
ものである。

【００３８】この凹版の製造装置においては、請求項４
の凹版の製造方法によって形成される凹部のコーナー部
の形状が、よりアール形状に近い形状に形成されたコー
ナー部にクラックが発生し難い、より長寿命な凹版を製
造することができる。

【００３９】請求項１４の発明は、請求項１２又は１３
の凹版の製造装置において、上記複数種のアパーチャ
は、１つのアパーチャマスク上に形成されており、上記
アパーチャ入れ替え手段は、上記照射経路に対してほぼ
直交する平面に沿って該アパーチャマスクを回転移動又
は直線移動させて該照射経路に入れ替えるように構成さ
れていることを特徴とするものである。

【００４０】この凹版の製造装置においては、上記アパ
ーチャ入れ替え手段により、上記アパーチャマスクが上
記レーザビームの照射経路に対してほぼ直交する平面に
沿って回転移動又は直線移動することによって、１つの
アパーチャマスク上に形成された複数種のアパーチャ
が、該照射経路に臨むように入れ替えられる。これによ
り、１つのアパーチャマスクの各区画に、予め必要な印
刷パターンに対応し且つパターン面積が段階的に異なっ
た形状の複数種のアパーチャを形成しておくことで、複
数種のアパーチャが個別に形成された多数のアパーチャ
マスクを加工の都度入れ替える必要がなくなり、加工時
間を著しく短縮することができ、また、アパーチャマス
クの管理が容易化され、アパーチャ入れ替え手段の構造
が簡素化される。

【００４１】請求項１５の発明は、エキシマレーザの発
するレーザビームによって加工された印刷パターンに対
応する凹部を有し、該凹部に充填されたペーストを被印
刷体に密着させた後、該ペーストを該凹部から版抜けさ
せて被印刷体側に転写することによって、被印刷体に印
刷パターンを印刷するための凹版の製造装置であって、
エキシマレーザと、上記凹版を製造するためのワークと
しての凹版材を載置するワーク載置台と、該ワーク載置
台上に載置された凹版材に対して、該エキシマレーザの
発するレーザビームを照射させる照射光学系と、該レー
ザビームの照射経路に配置され、上記印刷パターンに対
応した形状の開口を有し且つ該開口のパターン面積を任
意の値に設定できるシャッタと、該凹部材への該レーザ
ビームの照射時に、該シャッタの開口のパターン面積を
変化させるシャッタ駆動手段と、該シャッタの開口を通
して上記凹版材に該レーザビームを照射するレーザ駆動
回路と、を有することを特徴とするものである。

【００４２】この凹版の製造装置においては、請求項６
の凹版の製造方法により形成される凹部のコーナー部の
形状が階段状の面取り形状あるいはほぼアール形状に近
い形状に形成されたコーナー部にクラックが発生し難い
長寿命な凹版を製造することができる。

【００４３】請求項１６の発明は、請求項１５の凹版の
製造装置において、上記シャッタ駆動手段は、シャッタ
の開口のパターン面積を順次増大させるように制御され
ることを特徴とするものである。

【００４４】この凹版の製造装置においては、請求項６
の凹版の製造方法により形成される凹部の底面側のコー
ナー部の形状が、よりアール形状に近い形状に形成され
たコーナー部にクラックが発生し難い、より長寿命な凹
版を製造することができる。

【００４５】請求項１７の発明は、エキシマレーザの発
するレーザビームによって加工された印刷パターンに対
応する凹部を有し、該凹部に充填されたペーストを被印
刷体に密着させた後、該ペーストを該凹部から版抜けさ
せて被印刷体側に転写することによって、被印刷体に印
刷パターンを印刷するための凹版の製造装置であって、
エキシマレーザと、上記凹版を製造するためのワークと
しての凹版材を載置するワーク載置台と、該ワーク載置
台上に載置された凹版材に対して、該エキシマレーザの
発するレーザビームを照射させる照射光学系と、該エキ
シマレーザを駆動するレーザ駆動回路と、該凹版材への
該レーザビームの照射時に、該レーザビームのエネルギ
ー密度を変化させるエネルギー密度可変手段と、を有す
ることを特徴とするものである。

【００４６】この凹版の製造装置においては、請求項７
の凹版の製造方法により形成される凹部の内壁の形状が
多面体状の面取り形状あるいはほぼアール形状に近い形
状に形成されたコーナー部にクラックが発生し難い長寿
命な凹版を製造することができる。

【００４７】請求項１８の発明は、請求項１７の凹版の
製造装置において、上記エネルギー密度可変手段は、上
記レーザビームのエネルギー密度を順次増大させるよう
に制御されることを特徴とするものである。

【００４８】この凹版の製造装置においては、請求項８
の凹版の製造方法により形成される凹部のコーナー部の
形状が、より傾斜した面取り形状に形成されたコーナー
部にクラックが発生し難い、より長寿命な凹版を製造す
ることができる。

【００４９】請求項１９の発明は、請求項１７の凹版の
製造装置において、上記エネルギー密度可変手段は、上
記レーザビームの照射経路に配置される集光率の異なっ
た複数の集光レンズと、該凹版材への該レーザビームの
照射時に、該照射経路に該集光レンズを順次選択的に交
換して配置するレンズ交換手段と、で構成されているこ
とを特徴とするものである。

【００５０】この凹版の製造装置においては、上記エネ
ルギー密度可変手段により、レーザビームの照射経路に
配置される集光レンズを、集光率の異なった他の集光レ
ンズと順次交換しながら、レーザビームの照射経路に配
置して、凹版材に照射されるレーザビームのエネルギー
密度を変化させる。これにより、凹部内壁の傾斜角度が
順次変化した形状の凹部を有するコーナー部にクラック
が発生し難い長寿命な凹版を製造することができる。

【００５１】請求項２０の発明は、請求項１７の凹版の
製造装置において、上記エネルギー密度可変手段は、上
記エキシマレーザの駆動電圧を制御する駆動電圧制御手
段で構成されていることを特徴とするものである。

【００５２】この凹版の製造装置においては、上記エネ
ルギー密度可変手段により、エキシマレーザの駆動電圧
を制御して、凹版材に照射されるレーザビームのエネル
ギー密度を変化させる。これによって、凹部内壁の傾斜
角度が順次変化した形状の凹部を有するコーナー部にク
ラックが発生し難い長寿命な凹版を製造することができ
る。

【００５３】請求項２１の発明は、請求項１７の凹版の
製造方法において、上記エネルギー密度可変手段は、上
記レーザビームの照射経路に配置された該レーザビーム
の透過率を制御するためのアッテネータで構成されてい
ることを特徴とするものである。

【００５４】この凹版の製造装置においては、上記エネ
ルギー密度可変手段としてのアッテネータにより、レー
ザビームの透過率を制御して、凹版材に照射されるレー
ザビームのエネルギー密度を変化させる。これによっ
て、凹部内壁の傾斜角度が順次変化した形状の凹部を有
するコーナー部にクラックが発生し難い長寿命な凹版を
製造することができる。

【００５５】

【発明の実施の形態】以下、本発明を、セラミックなど
からなるチップに導電体コイルをペースト印刷するため
の、ＰＥＴやポリイミド等のプラスチック材からなる凹
版材に、該導電体コイルの印刷パターンに対応する凹部
（加工パターン）を形成した印刷用の凹版、並びに、該
凹版の製造方法及びその装置に適用した実施形態につい
て説明する。

【００５６】図１は、本実施形態に係る凹版の製造装置
の全体構成の一例を示す概略図である。図１に示すよう
に、この凹版の製造装置は、光源としてのエキシマレー
ザ１０、照射光学系２０、シャッタ３０、カード型のア
パーチャマスク４０、結像光学系５０、加工対象物であ
る凹版材１Ａが載置される加工対象物駆動手段としての
ワーク載置台６２及びＸ−Ｙステージ６３、制御手段と
してのコントローラ１００等により構成されている。

【００５７】上記エキシマレーザ１０は、コントローラ
１００により制御されたレーザ駆動回路１１から出力さ
れる駆動トリガ信号に基づいて、所定の繰り返し周波数
（例えば２００Ｈｚ）で紫外領域（例えば、波長＝２４
８ｎｍ）のパルスレーザビームＬを出射する。図２
（ａ）に示すように、エキシマレーザ１０から出射され
るレーザビームＬの断面形状Ｌｐ１は、ａ＝９〜１２ｍ
ｍ、ｂ＝２０〜２７ｍｍ程度の長円形状になっている。

【００５８】上記照射光学系２０は、光学アッテネータ
２１、アパーチャマスク４０に照射される光の断面形状
を調整する断面形状調整手段としてのビーム形状調整光
学系２２、照射レンズ群２３、反射ミラー２４等により
構成されている。光学アッテネータ２１は、面対称とな
るように互いに対向する表面に多層膜が形成された２枚
１組の石英ガラス板により構成され、該石英ガラス板の
傾きにより通過するレーザビームＬのエネルギー密度を
変化できる。この光学アッテネータ２１により、レーザ
ビームのエネルギー密度が、凹版材１Ａに加工される凹
部１ａの加工形状に適したエネルギー密度に調整される
（詳しくは後述する）。

【００５９】ビーム形状調整光学系２２は、上記光学ア
ッテネータ２１のレーザビーム光路下流側に配置されて
おり、図２（ｂ）に示す断面が半月状のシリンドリカル
レンズ２２ａや、凹レンズ２２ｂ等からなるコリメータ
光学素子等により構成されている。このビーム形状調整
光学系２２により、レーザビームの断面形状が、図２
（ｃ）に示すような、一辺の寸法ｃが約１１〜１２ｍｍ
程度のほぼ正方形の形状に整形される。

【００６０】上記照射レンズ群２３は、ビーム形状調整
光学系２２によって断面形状がほぼ正方形にされたレー
ザビームをアパーチャマスク４０上に集光するものであ
る。この照射レンズ群２３からのレーザビームは、反射
ミラー２４により下方のアパーチャマスク４０に向けて
反射される。

【００６１】上記シャッタ３０は、アパーチャマスク４
０に形成されている光通過パターンであるアパーチャＰ
ａのうちの使用しないものを覆うものであり、図３に示
すように、レーザビームＬの光軸に垂直で互いに直交す
る２方向（Ｘ方向およびＹ方向）において外側から挟み
込むように移動可能な２組のシャッタ部材３１ａ，３１
ｂ及び３２ａ，３２ｂと、該シャッタ部材の移動を制御
する駆動制御手段としての駆動モータなどからなる駆動
系３３とにより構成されている。この駆動系３３は、駆
動回路３４を介してコントローラ１００により制御さ
れ、各シャッタ部材３１ａ，３１ｂ及び３２ａ，３２ｂ
を独立に移動できるようになっている。ここで、Ｙ方向
に移動するシャッタ３１ａ，３１ｂ同士がリンクして移
動し、Ｘ方向に移動するシャッタ部材３２ａ，３２ｂ同
士がリンクして移動するように構成してもよい。また、
上記４枚のシャッタ部材３１ａ，３１ｂ及び３２ａ，３
２ｂを用いる代わりに、Ｌ字形状や三日月形状の複数枚
のシャッタ部材を組み合わせて、各シャッタ部材をそれ
ぞれ所定の方向に移動させることにより、光が通過する
範囲（照射スポット）を、菱形やほぼ円形状に形成する
ように構成してもよい。更に、凹版材１Ａに形成する凹
部１ａの開口形状が、矩形や菱形及び円形状などの比較
的単純な形状である場合には、上記アパーチャマスク４
０のアパーチャＰａ代わりに、上述したシャッタ部材に
よって形成される開口Ｐｓを、光通過パターンとして使
用するようにしてもよい。

【００６２】上記シャッタ部材３１ａ，３１ｂ及び３２
ａ，３２ｂの材質としてはステンレス材をエッチングし
たものを用いているが、このほかに、アパーチャマスク
４０と同じ材料やモリブデンなどの耐久性に優れた材料
を用いたり、必要に応じてニッケルメッキしたものを用
いたりしてもよい。また、上記シャッタ部材３１ａ，３
１ｂ及び３２ａ，３２ｂとして、ガラス板上に高反射率
の誘電体多層膜からなる遮光パターンを形成したものを
用いてもよい。また、各シャッタ部材３１ａ，３１ｂ及
び３２ａ，３２ｂの光入射側の面は、レーザビームに対
して高い反射率を有する光反射面にするのが好ましい。
これにより、該シャッタ部材の照射光の吸収を抑制し、
該シャッタ部材の照射光吸収による損傷を防止すること
ができる。また、各シャッタ部材３１ａ，３１ｂ及び３
２ａ，３２ｂの光出射側の面の色は黒色にするのが好ま
しい。これにより、該シャッタ部材の光出射側の面から
の熱輻射を促進させ、該シャッタ部材の昇温を抑え、該
シャッタ部材の昇温を抑えて温度上昇による損傷を防止
することができる。また、シャッタ部材の昇温を抑える
には、シャッタ部材を冷却用エアーが通過しうるエアー
カーテン型空気流路中にセットすることも有効である。
また、レーザビームが通過する光路に面する各シャッタ
部材の内壁面は、光出射側に行くしたがって広がったテ
ーパ面にしておくのが好ましい。これにより、各シャッ
タ部材の該光路側の端部によるレーザビームの散乱を小
さくすることができる。また、シャッタ部材３１ａ，３
１ｂとシャッタ部材３２ａ，３２ｂとの間隙は、できる
だけ狭い方が好ましい。本実施形態の場合、該間隙を５
〜６ｍｍ程度以下に設定した。

【００６３】上記シャッタ３０の開口を通過したレーザ
ビームは、アパーチャマスク４０に照射される。このア
パーチャマスク４０は、レーザビームの照射に対する耐
熱性及び耐摩耗性等が優れたステンレス板やガラス基板
上に誘電体多層膜を形成したものなどで構成することが
でき、ガイド部材４１上に固定部材４２で保持されてい
る。このガイド部材４１及び固定部材４２により、アパ
ーチャマスクを保持する保持手段が構成されている。ま
た、このガイド部材４１及び固定部材４２は、光軸周り
に回転駆動することができるように駆動モータ等からな
る駆動系４３で駆動される。この駆動は、駆動回路４４
を介してコントローラ１００により制御される。

【００６４】また、上記アパーチャマスク４０には、図
４（ａ）に示すように、レーザビームＬの光通過領域
（照射スポット）４０ａに、凹版材１Ａに形成される凹
部１ａに対応した光通過パターンとしてのアパーチャＰ
ａが形成されている。本実施形態に係る製造装置のアパ
ーチャＰａは、前述のセラミックなどからなるチップに
ペースト印刷される導電体コイルに対応した渦巻き形状
の光通過パターンである。ここで、該光通過パターン
は、図４（ａ）に示すように、１つのアパーチャマスク
４０に、１個のみ形成するようにしてもよいし、１つの
アパーチャマスク４０に、複数個形成するようにしても
よい。また、寸法が大きい光通過パターン（例えば、凹
版材１Ａ上の複数の照射区画にまたがるような光通過パ
ターン）の場合は、該光通過パターンを分割したアパー
チャＰａが形成されている複数のアパーチャマスク４０
を用いて、該光通過パターンを凹版材１Ａ上に形成すれ
ばよい。本実施形態に係る製造装置においては、光通過
パターンのパターン面積が、例えば、図４（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）に示すように、段階的に大きくなるよう
に異なったアパーチャＰａ，Ｐｂ，Ｐｃが形成された複
数枚のアパーチャマスク４０，４０’，４０"が、凹版
材１Ａに形成される凹部１ａの加工パターン形成に必要
な枚数（例えば、数十〜数百枚）用意される。

【００６５】また、本実施形態では、上記光通過領域４
０ａを１０ｍｍ角の正方形に設定している。このように
光通過領域を正方形の形状にすることにより、アパーチ
ャマスク４０を９０°ずつ回転させた場合でも、レーザ
ビームＬの断面形状を該光通過領域に合わせて整形しな
おす必要がない。

【００６６】また、このアパーチャマスク４０は、上記
固定部材４２で所定の位置に固定するために、固定部材
４２のピン４２ａに係合するかぎ孔４０ｂを有し、端部
には、識別マークとしての２次元バーコード４５が形成
されている。この２次元バーコード４５は、図４（ｄ）
に示すように１辺ｄが２ｍｍ程度の正方形の形状をして
おり、２５区画に分割されている。この２次元バーコー
ド４５により、２０桁の英数字の識別が可能である。装
置本体には、２次元バーコード４５を読み取る読取手段
としての光学センサ（不図示）が設けられている。ま
た、図４（ｅ）に示すように、固定部材４２の中央には
レーザビームが通過するための開口４２ｂを有してい
る。

【００６７】上記結像光学系５０は、アパーチャマスク
４０の光通過パターンとしてのアパーチャＰａを通過し
た光を、凹版材１Ａ上に所定の縮小率（例えば、１／
５）で結像するものであり、複数の反射ミラー５１，５
２，５３，５５及び結像光学素子としての結像レンズ群
５４等により構成されている。

【００６８】上記複数の反射ミラーのうち反射ミラー５
２及び５３は、図１の紙面の左右方向に移動可能に取り
付けられ、図５に示すように、アパーチャマスク４０と
結像レンズ群５４の中心と間の上流側の光路長Ｌ１（＝
Ｌ１１＋Ｌ１２＋Ｌ１３＋Ｌ１４）と、該結像レンズ群
５４の中心と凹版材１Ａとの間の下流側の光路長Ｌ２
（＝Ｌ１１＋Ｌ１２）との光路長比Ｌ２／Ｌ１を変える
光路長比可変手段を構成している。

【００６９】ここで、上記下流側の光路長Ｌ２は固定さ
れている。そして、上記反射ミラー５２及び５３を同時
に、例えば図１（図５）のＸ方向の右側に移動させ、反
射ミラー５１，５２間の距離Ｌ１２’及び反射ミラー５
３と結像レンズ群５４の中心との距離Ｌ１４’を長く
し、上記上流側の光路長Ｌ１を長くすると、光路長比Ｌ
２／Ｌ１が小さくなる。したがって、図５に示す凹版材
１Ａの１照射区画の１辺の長さを、アパーチャマスク４
０上の１光通過領域４０ａの１辺の長さで割った値であ
る縮小率を大きく、該縮小率の逆数であるＭ値を小さく
することができる。本実施形態では、上記アパーチャマ
スク４０上の１光通過領域４０ａの１辺の長さを１０ｍ
ｍ、上記凹版材１Ａの１照射区画の１辺の長さを２ｍｍ
とし、上記縮小率が１／５になるように、上記結像レン
ズ群５４の焦点距離及び上記下流側の光路長Ｌ２を設定
するとともに、上記反射ミラー５２及び５３の位置を調
整している。

【００７０】図６は、上記反射ミラー５２及び５３を移
動させるための駆動機構の一例を示す平面図である。こ
の駆動機構は、反射ミラー５２及び５３が所定の角度で
固定配置された可動ステージ５６、該可動ステージ５６
を矢印Ｘ方向に移動自在にガイドするガイド枠体５７、
該可動ステージ５６の下側に形成された雌ねじ部に螺合
しモータ５８で回転駆動される棒状のねじ部材５９等に
より構成されている。

【００７１】上記凹版材１Ａは枠体６１に取り付けら
れ、略水平な載置面を有するワーク載置台６２上に載置
される。このワーク載置台６２は、載置面を、図１の紙
面に対して直交する水平な平面のＸ方向と、Ｙ方向とに
移動させることができるＸ−Ｙテーブル６３上に配設さ
れている。このＸ−Ｙテーブル６３は、リニアモータ、
超音波モータあるいはピエゾ素子などで構成された駆動
系６４を介して、Ｘ−Ｙ方向に駆動される。この駆動系
６４は、駆動モータ（サーボモータ、ステッピングモー
タなど）と、ラックとピニオンあるいはワイヤーとプー
リとを組み合わせて構成してもよい。上記駆動系６４
は、コントローラ１００からの駆動指令に基づいて駆動
系の駆動モータに駆動電力を供給する駆動回路６５によ
り駆動制御される。上記Ｘ−Ｙテーブル６３及び駆動系
６４等により、加工対象物である凹版材１Ａを駆動する
加工対象物駆動手段が構成されている。

【００７２】上記構成の凹版の製造装置において、上記
凹版材１Ａに加工される加工パターンの要素形状に対応
する光通過パターンとしてのアパーチャＰａが形成され
たアパーチャマスク４０に、上記照射光学系２０からの
レーザビームＬが照射される。このアパーチャマスク４
０のアパーチャＰａを透過したレーザビームＬの光像
が、結像光学系５０により、上記Ｘ−Ｙテーブル６３に
より所定の照射区画（加工部位）が該レーザビームＬの
照射スポットに臨むように移動された該凹版材１Ａの加
工面に結像される。この凹版材１Ａの加工面に結像され
る光像により、該アパーチャマスク４０のアパーチャＰ
ａに対応した形状の凹部１ａが、アブレーション加工に
より凹版材１Ａの加工面に彫り込まれる。

【００７３】ここで、アパーチャマスク４０の光通過パ
ターンを光軸を中心に９０°単位で傾けた軸対称の加工
パターンを、凹版材１Ａ上に形成する場合は、Ｘ−Ｙ−
θテーブル４２を回転駆動することにより、アパーチャ
マスク４０を該光軸を中心に回転させる。

【００７４】また、上記構成の凹版の製造装置における
アパーチャマスク４０の切り替えは次のようにして行
う。図７（ａ）に示すように、アパーチャマスク４０を
レーザビームＬの照射位置で保持するガイド部材４１
は、その照射位置の両側で他のアパーチャマスク４
０’、４０"を凸状の支持部４１ａで中間的に保持する
中間保持手段を兼ねている。中央に位置するアパーチャ
マスク４０による加工が終了すると、図７（ｂ）に示す
ように固定部材４２が下降し、ピン４２ａの係合が解除
され、アパーチャマスク４０を図示しない搬送機構で移
動させる。ここで、現在の加工中のアパーチャマスク４
０の隣に、次の加工に用いるアパーチャマスク４０が待
機しているので、速やかに次のアパーチャマスク４０に
よる加工プロセスに移行できる。

【００７５】また、図８に示すように、ガイド部材４１
の両側には、複数のアパーチャマスク４０を収納する収
納手段としてのカセット４６，４７を備えている。図中
の左側のカセット４６が供給用のカセットであり、右側
のカセット４７が使用後のアパーチャマスク４０が収納
させる回収用のカセットである。各カセット４６，４７
とも、図示しないカセット駆動機構により上下方向に駆
動制御可能になっており、所定の位置でガイド部材への
アパーチャマスク４０の受け渡しをする。このカセット
駆動機構及びその制御部により、加工パターンに基づい
てアパーチャマスク４０を選択する選択手段が構成され
ている。

【００７６】また、図９に示すように、本実施形態の凹
版の製造装置と、多数のアパーチャマスク４０を格納す
る格納手段としての格納棚７０と、それらの間の搬送手
段としての搬送機構とを組み合わせることにより、更に
他品種の凹版の製造が可能となる凹版製造システムを構
成することができる。この凹版製造システムでは、アパ
ーチャマスク４０のカセット４６，４７へのセットをよ
り速やかに行うために、頻繁に使用するアパーチャマス
ク４０を格納棚７０のピッキング位置に近い箇所７０ａ
に格納し、使用頻度の低いアパーチャマスク４０を該ピ
ッキング位置から遠い箇所７０ｂに格納しておくのが好
ましい。また、カセット４６，４７から格納棚７０へア
パーチャマスク４０を格納するときに、アパーチャマス
ク４０の外観を図示しない検査手段で検査し、変形など
の不良品となっている場合は格納棚７０に格納せずに廃
棄処分するように、アパーチャマスク４０の搬送を制御
してもよい。

【００７７】次に、上述のように構成した凹版の製造装
置を使用して、凹部の底面と側面で構成されるコーナー
部が面取り形状またはアール形状に形成される凹版の製
造方法について説明する。このような凹版の製造方法と
しては、（１）凹版材に対するレーザビームの照射面積及び照射
時間を順次変化させる方法。（２）凹版材に照射されるレーザビームのエネルギー密
度を変化させる方法。がある。

【００７８】また、（１）の、凹版材に対するレーザビ
ームの照射面積を順次変化させる方法としては、パターン面積が段階的に異なった形状の複数種のアパ
ーチャを用いる方法。開口のパターン面積を任意の値に設定できるシャッタ
を用いる方法。がある。

【００７９】更に、（２）の、凹版材に照射されるレー
ザビームのエネルギー密度を変化させる方法としては、レーザビームの照射経路に集光率の異なった集光レン
ズを順次交換しながら配置する方法。エキシマレーザの駆動電圧を制御する方法。アッテネータによりレーザビームの透過率を制御する
方法。がある。

【００８０】まず、上記複数種のアパーチャを用いて、
凹版材に対するレーザビームの照射面積を順次変化させ
ることにより、凹部の底面側のコーナー部を面取り形状
またはアール形状に形成する凹版の製造方法について説
明する。この凹版の製造方法では、例えば、図４
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示したように、光通過パター
ンのパターン面積が、段階的に大きくなる複数種のアパ
ーチャＰａ，Ｐｂ，Ｐｃが形成された加工に必要な数枚
（個々では、説明の便宜上３枚とする）のアパーチャマ
スク４０が用意される。まず、図１０（ａ）に示すよう
に、光通過パターンのパターン面積が最小のアパーチャ
Ｐａが形成されたアパーチャマスク４０’を、上記レー
ザビームの照射経路に配置する。そして、該アパーチャ
マスク４０'のアパーチャＰａを通して凹版材１Ａにレ
ーザビームＬ’を照射する。これにより、アパーチャＰ
ａのパターン面積と、アパーチャＰａを通して凹版材１
Ａに照射されるレーザビームＬ’の照射時間とに応じた
凹部１ａ’が凹版材１Ａに形成される。次いで、図１０
（ｂ）に示すように、光通過パターンのパターン面積が
中間のアパーチャＰｂが形成されたアパーチャマスク４
０"を、上記レーザビームの照射経路に配置する。そし
て、該アパーチャマスク４０"のアパーチャＰｂを通し
て凹版材１ＡにレーザビームＬ"を照射する。これによ
り、アパーチャＰｂのパターン面積と、アパーチャＰｂ
を通して凹版材１Ａに照射されるレーザビームＬ"の照
射時間とに応じた凹部１ａ"が凹版材１Ａに形成され
る。次いで、図１０（ｃ）に示すように、光通過パター
ンのパターン面積が最大のアパーチャＰｃが形成された
アパーチャマスク４０を、上記レーザビームの照射経路
に配置する。そして、該アパーチャマスク４０のアパー
チャＰｃを通して凹版材１ＡにレーザビームＬを照射す
る。これにより、アパーチャＰｃのパターン面積と、ア
パーチャＰｃを通して凹版材１Ａに照射されるレーザビ
ームＬの照射時間とに応じた凹部１ａが凹版材１Ａに形
成される。

【００８１】このように、この凹版の製造方法において
は、各アパーチャマスク４０’，４０"，４０がレーザ
ビームＬの照射経路に順次配置され、各アパーチャマス
ク４０’，４０"，４０の３種のアパーチャＰａ，Ｐ
ｂ，Ｐｃを通して、レーザビームＬ’，Ｌ"，Ｌが凹版
材１Ａに照射されるので、凹版材１Ａに照射されるレー
ザビームＬの照射面積が段階的に変化される。この結
果、各アパーチャマスク４０’，４０"，４０に形成さ
れた３種のアパーチャＰａ，Ｐｂ，Ｐｃのパターン面積
と、各アパーチャＰａ，Ｐｂ，Ｐｃを通して凹版材１Ａ
に照射されるレーザビームＬ’，Ｌ"，Ｌの照射時間と
の関係によって、凹版材１Ａに形成される凹部１ａの底
面側のコーナー部１ｂの形状が、図１０（ｃ）に示すよ
うな階段状の面取り形状に形成される。なお、凹部１ａ
のコーナー部１ｂの形状は、実際には、図１０（ａ）、
（ｂ）、（ｃ）の順に、凹部１ａ’，１ａ"，１ａが次
第に彫り広げられることにより、この彫り広げられる際
のアブレーション加工によって発生する高温ガスによっ
て、各凹部１ａ’，１ａ"のエッジ部が次第に削り取ら
れることにより、図１０（ｃ）に破線で示すような比較
的滑らかな傾斜面もしくはアール形状に形成されること
になる。

【００８２】ここで、上記アパーチャマスクとしては、
図１１又は図１２に示すように、上記複数種のアパーチ
ャＰａ，Ｐｂ，Ｐｃを１つのアパーチャマスク４０上に
形成し、該アパーチャマスク４０を上記レーザビームＬ
の照射経路に対してほぼ直交する平面に沿って、回転移
動又は直線移動させることにより、該レーザビームＬの
照射経路に各アパーチャＰａ，Ｐｂ，Ｐｃを選択的に臨
ませるようにしてもよい。この場合には、１つのアパー
チャマスク４０の各区画に、予め必要な印刷パターンに
対応し且つパターン面積が段階的に異なった形状の複数
種のアパーチャＰａ，Ｐｂ，Ｐｃを形成しておくことが
できるので、図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）に示したよう
に、複数種のアパーチャＰａ，Ｐｂ，Ｐｃが個別に形成
された多数のアパーチャマスクを加工の都度入れ替える
必要がなく、加工時間を著しく短縮することができ、ま
た、アパーチャマスク４０の管理を容易化したりアパー
チャの入れ替え機構を簡素化したりすることができる。

【００８３】次に、上記シャッタを用いて凹版材に対す
るレーザビームの照射面積を順次変化させることによ
り、凹部の底面側のコーナー部を面取り形状またはアー
ル形状に形成する凹版の製造方法について説明する。こ
の製造方法に用いられるシャッタ３０は、上記印刷パタ
ーンに対応した形状の開口Ｐｓを有し且つ該開口Ｐｓの
パターン面積を任意の値に設定できるように構成されて
いる。この凹版の製造方法では、まず、図１３（ａ）に
示すように、シャッタ３０の開口が、パターン面積が最
小になるような開口Ｐｓ’に設定される。そして、該シ
ャッタ３０の開口Ｐｓ’を通して凹版材１Ａにレーザビ
ームＬ’を照射する。これにより、開口Ｐｓ’のパター
ン面積と、開口Ｐｓ’を通して凹版材１Ａに照射される
レーザビームＬ’の照射時間とに応じた凹部１ａ’が凹
版材１Ａに形成される。次いで、図１３（ｂ）に示すよ
うに、シャッタ３０の開口が、パターン面積が中間にな
るような開口Ｐｓ"に設定される。そして、該シャッタ
３０の開口Ｐｓ"を通して凹版材１ＡにレーザビームＬ"
を照射する。これにより、開口Ｐｓ"のパターン面積
と、開口Ｐｓ"を通して凹版材１Ａに照射されるレーザ
ビームＬ"の照射時間とに応じた凹部１ａ"が凹版材１Ａ
に形成される。次いで、図１３（ｃ）に示すように、シ
ャッタ３０の開口が、パターン面積が最大になるような
開口Ｐｓに設定される。そして、該シャッタ３０の開口
Ｐｓを通して凹版材１ＡにレーザビームＬを照射する。
これにより、開口Ｐｓのパターン面積と、開口Ｐｓを通
して凹版材１Ａに照射されるレーザビームＬの照射時間
とに応じた凹部１ａが凹版材１Ａに形成される。

【００８４】このように、この凹版の製造方法において
は、レーザビームＬの照射経路に配置された該シャッタ
３０の開口Ｐｓ’，Ｐｓ"，Ｐｓを通して、レーザビー
ムＬ’，Ｌ"，Ｌが凹版材１Ａに照射されるので、凹版
材１Ａに照射されるレーザビームＬの照射面積が段階的
に変化される。この結果、該シャッタ３０の開口Ｐ
ｓ’，Ｐｓ"，Ｐｓのパターン面積と、該シャッタ３０
の開口Ｐｓ’，Ｐｓ"，Ｐｓを通して凹版材１Ａに照射
されるレーザビームＬ’，Ｌ"，Ｌの照射時間との関係
によって、凹版に形成される凹部１ａのコーナー部１ｂ
の形状を、階段状の面取り形状あるいはほぼアール形状
に近い形状に形成することが可能になる。なお、凹部１
ａのコーナー部１ｂの形状は、実際には、図１３
（ａ）、（ｂ）、（ｃ）の順に、凹部１ａ’，１ａ"，
１ａが次第に彫り広げられることにより、この彫り広げ
られる際のアブレーション加工によって発生する高温ガ
スによって、各凹部１ａ’，１ａ"のエッジ部が次第に
削り取られるものと考えられるので、図１３（ｃ）に破
線で示すような比較的滑らかな傾斜面もしくはアール形
状に形成されるものと思われる。

【００８５】次に、レーザビームの照射経路に集光率の
異なった集光レンズを順次交換しながら配置して、凹版
材に照射されるレーザビームのエネルギー密度を変化さ
せることにより、凹部の底面側のコーナー部を面取り形
状またはアール形状に形成する凹版の製造方法について
説明する。前述したように、エキシマレーザ１０の発す
るレーザビームＬのエネルギー密度と、凹版材１Ａに彫
り込まれる凹部１ｂの内壁１ｄの傾斜角度θとあいだに
は、例えば、図１４に示すように、エネルギー密度が大
きい場合には該傾斜角度が小、エネルギー密度が小さい
場合には該傾斜角度が大となる関係があることが知られ
ている。また、凹版材１Ａに照射されるレーザビームＬ
のエネルギー密度は、レーザビームＬの照射経路に配置
された集光レンズ（この集光レンズは、例えば、図１に
示す結像レンズ群５４に配置される）の集光率を変える
ことで変化することが知られている。

【００８６】そこで、この凹版の製造方法においては、
図１５（ａ）に示すように、集光率の異なった複数個の
集光レンズ５４ａ、５４ｂ、５４ｃを用意し、各集光レ
ンズ５４ａ、５４ｂ、５４ｃを、レーザビームＬの照射
経路に順次交換しながら配置して、凹版材１Ａに照射さ
れるレーザビームＬのエネルギー密度を変化させる。こ
れにより、図１５（ｂ）に示すように、凹版材１Ａに内
壁１ｄの傾斜角度が順次変化した形状の凹部１ａが形成
される。この結果、凹部１ａのコーナー部１ｂの機械的
強度が増大されて、コーナー部１ｂにクラック１ｅが発
生し難い長寿命な凹版が得られる。

【００８７】次に、エキシマレーザの駆動電圧を制御し
て、凹版材に照射されるレーザビームのエネルギー密度
を変化させることにより、凹部の底面側のコーナー部を
面取り形状またはアール形状に形成する凹版の製造方法
について説明する。周知のように、エキシマレーザ１０
の発するレーザビームＬのエネルギー密度は、エキシマ
レーザ１０の駆動電圧を変えることにより変化すること
が知られている。そこで、この凹版の製造方法において
は、エキシマレーザ１０の駆動電圧を制御して、凹版材
１Ａに照射されるレーザビームのエネルギー密度を変化
させる。これにより、図１５（ｂ）に示した凹部１ａと
同様に、凹版材１Ａに内壁１ｄの傾斜角度が順次変化し
た形状の凹部１ａが形成される。

【００８８】次に、図１に示したアッテネータ２１によ
り、該レーザビームＬの透過率を制御して、該レーザビ
ームＬのエネルギー密度を変化させることにより、凹部
の底面側のコーナー部を面取り形状またはアール形状に
形成する凹版の製造方法について説明する。周知のよう
に、エキシマレーザ１０の発するレーザビームＬのエネ
ルギー密度は、レーザビームＬの照射経路に配置したア
ッテネータ２１により、該レーザビームＬの透過率を制
御することによって変化することが知られている。そこ
で、この凹版の製造方法においては、該アッテネータ２
１によりレーザビームＬの透過率を制御して、凹版材１
Ａに照射されるレーザビームＬのエネルギー密度を変化
させる。これにより、図１５（ｂ）に示した凹部１ａと
同様に、凹版材１Ａに内壁１ｄの傾斜角度が順次変化し
た形状の凹部１ａが形成される。

【００８９】上述のように、この凹版の製造方法によっ
て製造された凹版は、その凹部１ａのコーナー部１ｂが
面取り形状またはアール形状に形成されているので、該
コーナー部１ｂの機械的強度が増大される。これによ
り、ペースト印刷を繰り返し行ってもコーナー部１ｂ
に、図１７に示したようなクラック１ｅが発生し難い長
寿命な凹版が得られる。

【００９０】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、凹部の内壁の
傾斜角度が順次変化した形状に形成されているので、こ
の凹部の側面と底面で構成されるコーナー部の機械的強
度が増大され、ペースト印刷を繰り返し行ってもコーナ
ー部にクラックが発生し難い長寿命な凹版が得られると
いう優れた効果がある。

【００９１】請求項２乃至６の発明によれば、凹版材に
対するレーザビームの照射面積と、該凹版材に照射され
るレーザビームの照射時間との関係によって、凹版に形
成される凹部の底面側のコーナー部の形状を、階段状の
面取り形状あるいはほぼアール形状に近い形状に形成す
ることが可能になるので、凹版に形成される凹部のコー
ナー部にストレスが集中しにくく、その機械的強度が増
大され、コーナー部にクラックが発生し難い長寿命な凹
版が得られるという優れた効果がある。

【００９２】特に、請求項３の発明によれば、凹版に形
成される凹部の底面側のコーナー部の形状が、滑らかな
階段状の面取り形状あるいはよりアール形状に近い形状
に形成されるので、凹版に形成される凹部のコーナー部
の機械的強度が更に増大され、コーナー部にクラックが
発生し難い、より長寿命な凹版が得られるという優れた
効果がある。

【００９３】また、請求項４の発明によれば、各アパー
チャのパターン面積と、各アパーチャを通して凹版材に
照射されるレーザビームの照射時間との関係によって、
凹版に形成される凹部の底面側のコーナー部の形状を、
階段状の面取り形状あるいはほぼアール形状に近い形状
に形成することが可能になるという優れた効果がある。

【００９４】また、請求項５の発明によれば、１つのア
パーチャマスクの各区画に、予め必要な印刷パターンに
対応し且つパターン面積が段階的に異なった形状の複数
種のアパーチャを形成しておくことができるので、複数
種のアパーチャが個別に形成された多数のアパーチャマ
スクを加工の都度入れ替える必要がなく、加工時間を著
しく短縮することができ、また、アパーチャマスクの管
理を容易化したりアパーチャの入れ替え機構を簡素化し
たりすることができるという優れた効果がある。

【００９５】また、請求項６の発明によれば、シャッタ
の開口のパターン面積と、該シャッタの開口を通して凹
版材に照射されるレーザビームの照射時間との関係によ
って、凹版に形成される凹部の底面側のコーナー部の形
状を、階段状の面取り形状あるいはほぼアール形状に近
い形状に形成することが可能になるという優れた効果が
ある。

【００９６】請求項７乃至１１の発明によれば、凹版材
に照射されるレーザビームのエネルギー密度に応じて、
該レーザビームによって該凹版材に彫り込まれる凹部内
壁の傾斜角度が順次変化された形状の凹部が形成される
ので、凹版に形成される凹部のコーナー部の機械的強度
が増大され、コーナー部にクラックが発生し難い長寿命
な凹版が得られるという優れた効果がある。

【００９７】特に、請求項８の発明によれば、凹版に形
成される凹部の底面側のコーナー部の形状が、より傾斜
した面取り形状に形成されるので、凹版に形成される凹
部のコーナー部の機械的強度が更に増大されて、コーナ
ー部にクラックが発生し難い、より長寿命な凹版が得ら
れるという優れた効果がある。

【００９８】請求項１２の発明によれば、請求項４の凹
版の製造方法によって形成される凹部のコーナー部の形
状が階段状の面取り形状あるいはほぼアール形状に近い
形状に形成されたコーナー部にクラックが発生し難い長
寿命な凹版を製造することができるという優れた効果が
ある。

【００９９】請求項１３の発明によれば、請求項４の凹
版の製造方法によって形成される凹部のコーナー部の形
状が、よりアール形状に近い形状に形成されるので、コ
ーナー部にクラックが発生し難い、より長寿命な凹版を
製造することができるという優れた効果がある。

【０１００】請求項１４の発明によれば、１つのアパー
チャマスクの各区画に、予め必要な印刷パターンに対応
し且つパターン面積が段階的に異なった形状の複数種の
アパーチャを形成しておくことで、複数種のアパーチャ
が個別に形成された多数のアパーチャマスクを加工の都
度入れ替える必要がなくなり、加工時間を著しく短縮す
ることができ、また、アパーチャマスクの管理が容易化
され、アパーチャ入れ替え手段の構造が簡素化されると
いう優れた効果がある。

【０１０１】請求項１５の発明によれば、請求項６の凹
版の製造方法により形成される凹部のコーナー部の形状
が階段状の面取り形状あるいはほぼアール形状に近い形
状に形成されたコーナー部にクラックが発生し難い長寿
命な凹版を製造することができるという優れた効果があ
る。

【０１０２】請求項１６の発明によれば、請求項６の凹
版の製造方法により形成される凹部の底面側のコーナー
部の形状が、よりアール形状に近い形状に形成されるの
で、コーナー部にクラックが発生し難い、より長寿命な
凹版を製造することができるという優れた効果がある。

【０１０３】請求項１７の発明によれば、請求項７に示
したような凹部の内壁の形状が多面体状の面取り形状あ
るいはほぼアール形状に近い形状に形成されたコーナー
部にクラックが発生し難い長寿命な凹版を製造すること
ができるという優れた効果がある。

【０１０４】請求項１８の発明によれば、請求項８の凹
版の製造方法により形成される凹部のコーナー部の形状
が、より傾斜した面取り形状に形成されたコーナー部に
クラックが発生し難い、より長寿命な凹版を製造するこ
とができるという優れた効果がある。

【０１０５】請求項１９の発明によれば、レーザビーム
の照射経路に配置される集光レンズを、集光率の異なっ
た他の集光レンズと順次交換しながら、レーザビームの
照射経路に配置して、凹版材に照射されるレーザビーム
のエネルギー密度を変化させるので、凹部内壁の傾斜角
度が順次変化した形状の凹部を有するコーナー部にクラ
ックが発生し難い長寿命な凹版を製造することができる
という優れた効果がある。

【０１０６】請求項２０の発明によれば、エキシマレー
ザの駆動電圧を制御して、凹版材に照射されるレーザビ
ームのエネルギー密度を変化させるので、凹部内壁の傾
斜角度が順次変化した形状の凹部を有するコーナー部に
クラックが発生し難い長寿命な凹版を製造することがで
きるという優れた効果がある。

【０１０７】請求項２１の発明によれば、アッテネータ
によりレーザビームの透過率を制御して、凹版材に照射
されるレーザビームのエネルギー密度を変化させるの
で、凹部内壁の傾斜角度が順次変化した形状の凹部を有
するコーナー部にクラックが発生し難い長寿命な凹版を
製造することができるという優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態に係る凹版の製造装置の全体
構成の一例を示す概略図。

【図２】（ａ）は、同凹版の製造装置のエキシマレーザ
から出射されるレーザビームの整形前の断面形状を示す
説明図。（ｂ）は、同加工装置のビーム形状整形光学系
の斜視図。（ｃ）は、同レーザビームの整形後の断面形
状を示す説明図。

【図３】同凹版の製造装置のシャッタ部材の斜視図。

【図４】（ａ）は、同凹版の製造装置に用いるアパーチ
ャマスクの一例を示す平面図。（ｂ）は、同アパーチャ
マスク上に形成した２次元バーコードの説明図。（ｃ）
は、同アパーチャマスクの固定部材の斜視図。

【図５】同凹版の製造装置の結像光学系の光路を示す説
明図。

【図６】同結像光学系の反射ミラーの駆動機構の一例を
示す平面図。

【図７】（ａ）は、ガイド部材上のアパーチャマスクの
斜視図。（ｂ）は、同アパーチャマスクの固定解除の説
明図。

【図８】アパーチャマスクの供給及び回収の説明図。

【図９】光加工システムの概略図。

【図１０】アパーチャを用いた本実施形態に係る凹版の
製造方法を示す概略工程図。

【図１１】上記アパーチャが形成されるアパーチャマス
クの該略斜視図。

【図１２】上記アパーチャが形成される他のアパーチャ
マスクの該略斜視図。

【図１３】シャッタを用いた本実施形態に係る凹版の製
造方法を示す概略工程図。

【図１４】レーザビームのエネルギ密度と凹版に形成さ
れる凹部内壁の傾斜角度との関係を示すグラフ。

【図１５】集光レンズを用いた本実施形態に係る凹版の
製造方法を示す概略工程図。

【図１６】従来の凹版材に凹部が加工される工程を説明
するための概略断面図。

【図１７】従来の凹版材に凹部が加工される際にクラッ
クが発生する過程を説明するための概略断面図。

【符号の説明】

１Ａ凹版材１ａ凹版材に形成される凹部１ｂ凹部のコーナー部１ｃコーナー部に生じる溝１ｄ凹部の内壁１ｅコーナー部に生じるクラック１０エキシマレーザ１１エキシマレーザの駆動回路２０照射光学系２１アッテネー２３照射レンズ群３０シャッタ４０アパーチャマスク４０ａアパーチャマスク上の光通過領域４０ｂ駆動用かぎ穴４１ガイド部材４２固定部材４２ａピン４３ガイド部材及び固定部材の駆動系４４ガイド部材及び固定部材の駆動回路４６，４７カセット５０結像光学系５４ａ，５４ｂ，５４ｃ集光レンズ６０印刷マスク材７０格納棚１００コントローラＬレーザビームＰａ，Ｐｂ，ＰｃアパーチャＰｓシャッタの開口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献特開2000−77823（ＪＰ，Ａ) 特開平11−347778（ＪＰ，Ａ) 特開平10−291293（ＪＰ，Ａ) 特開平９−330843（ＪＰ，Ａ) 特開平10−100553（ＪＰ，Ａ) 特開平９−76459（ＪＰ，Ａ) 特開平８−48086（ＪＰ，Ａ) 特開平８−1899（ＪＰ，Ａ) 特開昭51−77998（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) B41C 1/05 B41N 1/12 B41N 1/06

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】印刷パターンに対応する凹部を有し、該凹
部に充填されたペーストを被印刷体に密着させた後、該
ペーストを該凹部から版抜けさせて被印刷体側に転写す
ることによって、被印刷体に印刷パターンを印刷するた
めの凹版であって、上記凹部の内壁の傾斜角度が順次変
化した形状に形成されていることを特徴とする凹版。
【請求項２】レーザビームによってアブレーション加工
された印刷パターンに対応する凹部を有し、該凹部に充
填されたペーストを被印刷体に密着させた後、該ペース
トを該凹部から版抜けさせて被印刷体側に転写すること
によって、被印刷体に印刷パターンを印刷するための凹
版の製造方法であって、上記凹版を製造するためのワークとしての凹版材に上記
レーザビームを照射して該凹版材に上記凹部を形成する
際に、該凹版材に対する該レーザビームの照射面積及び
照射時間を順次変化させて、該レーザビームの照射面積
に応じた加工パターン及び該レーザビームの照射時間に
応じた深さの凹部を該凹版材に順次形成することによっ
て、該凹部の底面と側面で構成されるコーナー部を面取
り形状またはアール形状に形成することを特徴とする凹
版の製造方法。
【請求項３】請求項２の凹版の製造方法において、上記凹版材に対するレーザビームの照射面積を、順次増
大させることを特徴とする凹版の製造方法。
【請求項４】請求項２又は３の凹版の製造方法におい
て、上記レーザビームの照射経路に、上記印刷パターンに対
応し且つパターン面積が段階的に異なった形状の複数種
のアパーチャを有するアパーチャマスクを配置し、該ア
パーチャマスクの各アパーチャを該レーザビームの照射
経路に順次選択的に臨ませ、該レーザビームの照射経路
に順次臨む各アパーチャを通して上記凹版材に該レーザ
ビームを順次照射することにより、該凹版材に対するレ
ーザビームの照射面積を段階的に変化させることを特徴
とする凹版の製造方法。
【請求項５】請求項４の凹版の製造方法において、上記複数種のアパーチャを１つのアパーチャマスク上に
形成し、該アパーチャマスクを上記レーザビームの照射
経路に対してほぼ直交する平面に沿って回転移動又は直
線移動させることにより、該照射経路に各アパーチャを
選択的に臨ませることを特徴とする凹版の製造方法。
【請求項６】請求項２又は３の凹版の製造方法におい
て、上記レーザビームの照射経路に、上記印刷パターンに対
応した形状の開口を有し且つ該開口のパターン面積を任
意の値に設定できるシャッタを配置し、該シャッタの開
口のパターン面積を変化させながら、該シャッタの開口
を通して上記凹版材に該レーザビームを照射することに
より、該凹版材に対するレーザビームの照射面積を変化
させることを特徴とする凹版の製造方法。
【請求項７】エキシマレーザの発するレーザビームによ
って加工された印刷パターンに対応する凹部を有し、該
凹部に充填されたペーストを被印刷体に密着させた後、
該ペーストを該凹部から版抜けさせて被印刷体側に転写
することによって、被印刷体に印刷パターンを印刷する
ための凹版の製造方法であって、上記凹版を製造するためのワークとしての凹版材に、上
記レーザビームを照射して該凹版材に上記凹部を形成す
る際に、該レーザビームのエネルギー密度を変化させ
て、該レーザビームによって該凹版材に彫り込まれる凹
部の内壁の傾斜角度を順次変化させることにより、該レ
ーザビームのエネルギー密度に応じた形状の凹部を該凹
版材に形成することを特徴とする凹版の製造方法。
【請求項８】請求項７の凹版の製造方法において、上記レーザビームのエネルギー密度を順次増大させるこ
とを特徴とする凹版の製造方法。
【請求項９】請求項７の凹版の製造方法において、上記レーザビームの照射経路に、集光率の異なった集光
レンズを、順次交換しながら配置して、該レーザビーム
のエネルギー密度を変化させることを特徴とする凹版の
製造方法。
【請求項１０】請求項７の凹版の製造方法において、上記エキシマレーザの駆動電圧を制御して、上記レーザ
ビームのエネルギー密度を変化させることを特徴とする
凹版の製造方法。
【請求項１１】請求項７の凹版の製造方法において、上記レーザビームの照射経路にアッテネータを配置し、
該アッテネータにより該レーザビームの透過率を制御し
て、該レーザビームのエネルギー密度を変化させること
を特徴とする凹版の製造方法。
【請求項１２】エキシマレーザの発するレーザビームに
よって加工された印刷パターンに対応する凹部を有し、
該凹部に充填されたペーストを被印刷体に密着させた
後、該ペーストを該凹部から版抜けさせて被印刷体側に
転写することによって、被印刷体に印刷パターンを印刷
するための凹版の製造装置であって、エキシマレーザと、上記凹版を製造するためのワークとしての凹版材を載置
するワーク載置台と、該ワーク載置台上に載置された凹版材に対して、該エキ
シマレーザの発するレーザビームを照射させる照射光学
系と、上記印刷パターンに対応し且つパターン面積比率が段階
的に異なった形状の複数種のアパーチャを有するアパー
チャマスクを、該レーザビームの照射経路に対して該ア
パーチャが対応するように保持するアパーチャマスク保
持手段と、該凹版材への該レーザビームの照射時に、該アパーチャ
マスクの各アパーチャを、該レーザビームの照射経路に
対して順次選択的に入れ替えて対応させるアパーチャ入
れ替え手段と、該照射経路に順次対応した各アパーチャを通して該凹版
材に該レーザビームを順次照射するレーザ駆動回路と、
を有することを特徴とする凹版の製造装置。
【請求項１３】請求項１２の凹版の製造装置において、上記アパーチャ入れ替え手段は、上記照射経路に、パタ
ーン面積が小さなアパーチャからパターン面積が大きな
アパーチャの順に、各アパーチャを入れ替えて配置する
ように制御されることを特徴とする凹版の製造装置。
【請求項１４】請求項１２又は１３の凹版の製造装置に
おいて、上記複数種のアパーチャは、１つのアパーチャマスク上
に形成されており、上記アパーチャ入れ替え手段は、上記照射経路に対して
ほぼ直交する平面に沿って該アパーチャマスクを回転移
動又は直線移動させて該照射経路に入れ替えるように構
成されていることを特徴とする凹版の製造装置。
【請求項１５】エキシマレーザの発するレーザビームに
よって加工された印刷パターンに対応する凹部を有し、
該凹部に充填されたペーストを被印刷体に密着させた
後、該ペーストを該凹部から版抜けさせて被印刷体側に
転写することによって、被印刷体に印刷パターンを印刷
するための凹版の製造装置であって、エキシマレーザと、上記凹版を製造するためのワークとしての凹版材を載置
するワーク載置台と、該ワーク載置台上に載置された凹版材に対して、該エキ
シマレーザの発するレーザビームを照射させる照射光学
系と、該レーザビームの照射経路に配置され、上記印刷パター
ンに対応した形状の開口を有し且つ該開口のパターン面
積を任意の値に設定できるシャッタと、該凹部材への該レーザビームの照射時に、該シャッタの
開口のパターン面積を変化させるシャッタ駆動手段と、該シャッタの開口を通して上記凹版材に該レーザビーム
を照射するレーザ駆動回路と、を有することを特徴とす
る凹版の製造装置。
【請求項１６】請求項１５の凹版の製造装置において、上記シャッタ駆動手段は、シャッタの開口のパターン面
積を順次増大させるように制御されることを特徴とする
凹版の製造装置。
【請求項１７】エキシマレーザの発するレーザビームに
よって加工された印刷パターンに対応する凹部を有し、
該凹部に充填されたペーストを被印刷体に密着させた
後、該ペーストを該凹部から版抜けさせて被印刷体側に
転写することによって、被印刷体に印刷パターンを印刷
するための凹版の製造装置であって、エキシマレーザと、上記凹版を製造するためのワークとしての凹版材を載置
するワーク載置台と、該ワーク載置台上に載置された凹版材に対して、該エキ
シマレーザの発するレーザビームを照射させる照射光学
系と、該エキシマレーザを駆動するレーザ駆動回路と、該凹版材への該レーザビームの照射時に、該レーザビー
ムのエネルギー密度を変化させるエネルギー密度可変手
段と、を有することを特徴とする凹版の製造装置。
【請求項１８】請求項１７の凹版の製造装置において、上記エネルギー密度可変手段は、上記レーザビームのエ
ネルギー密度を順次増大させるように制御されることを
特徴とする凹版の製造装置。
【請求項１９】請求項１７の凹版の製造装置において、上記エネルギー密度可変手段は、上記レーザビームの照射経路に配置される集光率の異な
った複数の集光レンズと、該凹版材への該レーザビームの照射時に、該照射経路に
該集光レンズを順次選択的に交換して配置するレンズ交
換手段と、で構成されていることを特徴とする凹版の製
造装置。
【請求項２０】請求項１７の凹版の製造装置において、上記エネルギー密度可変手段は、上記エキシマレーザの駆動電圧を制御する駆動電圧制御
手段で構成されていることを特徴とする凹版の製造装
置。
【請求項２１】請求項１７の凹版の製造方法において、上記エネルギー密度可変手段は、上記レーザビームの照射経路に配置された該レーザビー
ムの透過率を制御するためのアッテネータで構成されて
いることを特徴とする凹版の製造装置。