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JP3535343B2 - Magnetic field application type single crystal manufacturing equipment - Google Patents
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JP3535343B2 - Magnetic field application type single crystal manufacturing equipment - Google Patents

Magnetic field application type single crystal manufacturing equipment

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JP3535343B2
JP3535343B2 JP12742197A JP12742197A JP3535343B2 JP 3535343 B2 JP3535343 B2 JP 3535343B2 JP 12742197 A JP12742197 A JP 12742197A JP 12742197 A JP12742197 A JP 12742197A JP 3535343 B2 JP3535343 B2 JP 3535343B2
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Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、例えば半導体装
置材料として用いられるシリコン結晶を結晶原料融液か
ら引き上げ製造する単結晶製造装置に関し、特に結晶引
き上げ部の結晶原料融液に磁界を印加する磁界発生部を
備えた磁界印加方式の単結晶製造装置に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a single crystal manufacturing apparatus for pulling and manufacturing, for example, a silicon crystal used as a semiconductor device material from a crystal raw material melt, and particularly to a magnetic field for applying a magnetic field to the crystal raw material melt in the crystal pulling portion. The present invention relates to a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus having a generator.

【0002】[0002]

【従来の技術】図10は例えば特公平3−61630号
公報に記載されたCZ法(チョクラルスキー法)による
従来の単結晶引上装置を示す構成図である。この従来の
単結晶引上装置においては、単結晶原料融液1(以下、
融液とする)がルツボ2内に充填されている。このルツ
ボ2の外側にはヒータ3が配設されており、ヒータ3の
加熱により、ルツボ2内に収められている単結晶原料が
溶融されて、常に融液状態に保たれている。そして、こ
の融液1中に種結晶4を浸漬させた後、引上駆動機構5
により該種結晶4をある一定の速度にて引き上げてゆく
と、固体−液界面境界層6にて結晶が成長し、単結晶7
が生成される。この時、ヒータ3の加熱によって誘起さ
れる融液1の流体的運動、即ち熱対流8が発生する。
2. Description of the Related Art FIG. 10 is a block diagram showing a conventional single crystal pulling apparatus by the CZ method (Czochralski method) described in Japanese Patent Publication No. 3-61630. In this conventional single crystal pulling apparatus, the single crystal raw material melt 1 (hereinafter,
The melt is filled in the crucible 2. A heater 3 is arranged outside the crucible 2, and the single crystal raw material contained in the crucible 2 is melted by the heating of the heater 3 and is always kept in a molten state. Then, after the seed crystal 4 is immersed in the melt 1, the pull-up drive mechanism 5
When the seed crystal 4 is pulled up at a constant rate by the above, the crystal grows in the solid-liquid interface boundary layer 6, and the single crystal 7
Is generated. At this time, the fluid movement of the melt 1, that is, the thermal convection 8 is induced by the heating of the heater 3.

【0003】この熱対流8の発生原因は次のように説明
される。即ち、熱対流8は、一般に流体の熱膨張による
浮力と流体の粘性力との釣り合いが破れた時に生じる。
この浮力と粘性力との釣り合い関係を表す無次元量がグ
ラスホフ数NGrである。 NGr=g・α・ΔT・R3/ν2 ここで、g:重力加速度、α:融液の熱膨張率、ΔT:
ルツボ半径方向温度差、R:ルツボ半径、ν:融液の動
粘性係数である。
The cause of generation of the thermal convection 8 will be explained as follows. That is, the thermal convection 8 generally occurs when the balance between the buoyant force due to the thermal expansion of the fluid and the viscous force of the fluid is broken.
A non-dimensional amount representing the balance between the buoyancy and the viscous force is the Grashof number N Gr . NGr = g · α · ΔT · R 3 / ν 2 where g: acceleration of gravity, α: coefficient of thermal expansion of melt, ΔT:
Crucible radial direction temperature difference, R: crucible radius, ν: melt kinematic viscosity coefficient.

【0004】一般に、グラスホフ数NGrが融液1の幾
何学的寸法、熱的境界条件等によって決定される臨界値
を越えると、融液1内に熱対流8が発生する。通常、N
Gr>10にて融液1の熱対流8は乱流状態となり、
Gr>10では撹乱状態となる。現在行われている
直径3〜4インチの単結晶引き上げの融液条件において
は、NGr>10となり(上記NGrの式による)融
液1内は撹乱状態となり、融液1の表面、即ち固体−液
界面境界層6は波立った状態となる。
Generally, when the Grashof number N Gr exceeds a critical value determined by the geometrical dimensions of the melt 1, thermal boundary conditions, etc., thermal convection 8 is generated in the melt 1. Usually N
When Gr > 10 6, the thermal convection 8 of the melt 1 becomes a turbulent state,
When N Gr > 10 9 , it is in a disturbed state. Under the melt conditions for pulling a single crystal having a diameter of 3 to 4 inches, which is currently performed, N Gr > 10 9 (according to the formula of N Gr ) and the inside of the melt 1 is disturbed, and the surface of the melt 1 is That is, the solid-liquid interface boundary layer 6 becomes wavy.

【0005】このような撹乱状態の熱対流8が存在する
と、融液1内、特に固体−液界面境界層6での温度変動
が激しくなり、固体−液界面境界層6の厚さの位置的及
び時間的変動が激しく、成長中結晶の微視的再溶解が顕
著となり、成長した単結晶7中には転位ループ、積層欠
陥等が発生する。しかも、この欠陥部分は、不規則な固
体−液界面境界層6の変動により単結晶引き上げ方向に
対して非均一に発生する。
The presence of such convective thermal convection 8 causes severe temperature fluctuations in the melt 1, especially in the solid-liquid interface boundary layer 6, and the thickness of the solid-liquid interface boundary layer 6 varies in position. In addition, the temporal fluctuation is severe, microscopic redissolution of the crystal during growth becomes remarkable, and dislocation loops, stacking faults, etc. occur in the grown single crystal 7. Moreover, this defective portion is nonuniformly generated in the single crystal pulling direction due to the irregular fluctuation of the solid-liquid interface boundary layer 6.

【0006】さらに、高温の融液1(例えば、1500
℃)が接するルツボ2内面における融液1とルツボ2と
の化学変化により、ルツボ2内面より融液1中に溶解し
ている不純物9が、この熱対流8に搬送されて、融液1
の内部全体にわたって分散する。この不純物9が核とな
り、単結晶7中に転位ループや欠陥、成長縞等が発生し
て、単結晶7の品質を劣化させている。このため、この
ような単結晶7よりLSI(Large Scale Integratio
n:大規模集積回路)のウエハーを製造すると、欠陥部
分を含んだウエハーは電気的特性が劣化しているため使
用不可能であり、従って歩留まりが悪くなる。
Further, a high temperature melt 1 (for example, 1500
Due to a chemical change between the melt 1 and the crucible 2 on the inner surface of the crucible 2 which is in contact with (° C.), The impurities 9 dissolved in the melt 1 from the inner surface of the crucible 2 are transferred to the thermal convection 8 and melt
Dispersed throughout the interior of. The impurities 9 serve as nuclei to generate dislocation loops, defects, growth fringes, etc. in the single crystal 7 and deteriorate the quality of the single crystal 7. Therefore, LSI (Large Scale Integratio
(n: large-scale integrated circuit), a wafer including a defective portion cannot be used because its electrical characteristics are deteriorated, resulting in poor yield.

【0007】今後、単結晶7は益々大直径化してゆく
が、上記のグラスホフ数の式からもわかるようにルツボ
2の直径が増大すればする程、グラスホフ数も増大し、
融液1の熱対流8は一層激しさを増して、単結晶7の品
質も劣化の一途をたどることになる。そこで、熱対流8
を抑制し、熱的・化学的に平衡状態に近い成長条件にて
単結晶引き上げを行うために、融液1に直流磁場を印加
する手法が提案されている。
In the future, the diameter of the single crystal 7 will become larger and larger, but as can be seen from the above equation of the Grashof number, the larger the diameter of the crucible 2, the larger the Grashof number,
The thermal convection 8 of the melt 1 becomes more violent, and the quality of the single crystal 7 will continue to deteriorate. Therefore, heat convection 8
A method of applying a DC magnetic field to the melt 1 has been proposed in order to suppress the above and pull the single crystal under the growth condition that is close to the equilibrium state thermally and chemically.

【0008】図11は磁場印加による従来の単結晶引上
装置を示す構成図である。なお、図において、図10の
単結晶引上装置と同一部分には同一符号を付してその説
明は省略する。図11に示された従来の単結晶引上装置
では、磁石10がルツボ2の外周に配置され、図中矢印
11で示される方向、即ち単結晶引き上げ方向と直交す
る方向の一様磁場が融液1中に印加されるようになって
いる。単結晶7の融液1は一般に電気伝導度σを有する
導電体である。このため、電気伝導度を有する流体が熱
対流8により運動する際、磁場印加方向11と平行でな
い方向に運動している流体は、レンツの法則により磁気
的抵抗力を受ける。このため、熱対流8の運動は阻止さ
れる。一般に、磁場が異なされた時の磁気抵抗力、即ち
磁気粘性係数νcf iは、次式で表される。 νcfi=(μHD)2σ/ρ ここで、μ:融液の透磁率、H:磁場強さ、D:ルツボ
直径、σ:融液の電気伝導度、ρ:融液の密度である。
FIG. 11 is a block diagram showing a conventional single crystal pulling apparatus by applying a magnetic field. In the figure, the same parts as those of the single crystal pulling apparatus of FIG. In the conventional single crystal pulling apparatus shown in FIG. 11, the magnet 10 is arranged on the outer circumference of the crucible 2 and a uniform magnetic field in the direction indicated by an arrow 11 in the figure, that is, the direction perpendicular to the single crystal pulling direction is melted. It is adapted to be applied in the liquid 1. The melt 1 of the single crystal 7 is generally a conductor having an electric conductivity σ. Therefore, when the fluid having electric conductivity moves due to the thermal convection 8, the fluid moving in a direction not parallel to the magnetic field applying direction 11 receives a magnetic resistance force according to Lenz's law. Therefore, the movement of the thermal convection 8 is prevented. Generally, the magnetic resistance force when the magnetic field is changed, that is, the magnetic viscosity coefficient ν cf i is expressed by the following equation. ν cfi = (μHD) 2 σ / ρ where μ: permeability of melt, H: magnetic field strength, D: diameter of crucible, σ: electrical conductivity of melt, ρ: density of melt.

【0009】そこで、磁場強さが増大すると磁気粘性係
数νcfiが増大し、先に示したグラスホフ数NGrの式中
のνが増大することになり、グラスホフ数は急激に減少
し、ある磁場強さによってグラスホフ数を臨界値より小
さくすることができる。これにより、融液1の熱対流8
は完全に抑制される。このように、磁場を印加すること
により熱対流8が抑制されるので、上述した単結晶7中
の不純物含有、転位ループの発生、欠陥・成長縞等の発
生がなくなり、しかも単結晶引き上げ方向に均一な品質
の単結晶7が得られ、単結晶7の品質および歩留まりを
向上させることができる。
Therefore, when the magnetic field strength is increased, the magnetic viscosity coefficient ν cfi is increased, and ν in the above equation of the Grashof number N Gr is increased, the Grashof number is rapidly decreased, and a certain magnetic field is generated. Depending on the strength, the Grashof number can be made smaller than the critical value. As a result, the thermal convection of the melt 1 8
Is completely suppressed. As described above, since the thermal convection 8 is suppressed by applying the magnetic field, the inclusion of impurities in the single crystal 7, the occurrence of dislocation loops, the occurrence of defects and growth stripes, etc. are eliminated, and the single crystal 7 is pulled in the pulling direction. A single crystal 7 of uniform quality is obtained, and the quality and yield of the single crystal 7 can be improved.

【0010】一方、このような特性を呈する磁場印加に
よる単結晶引上装置としては、近年脚光をあびてきた超
電導磁石を採用したものがある。
On the other hand, as a single crystal pulling apparatus for applying a magnetic field which exhibits such characteristics, there is one that employs a superconducting magnet which has been attracting attention in recent years.

【0011】図12および図13はそれぞれ超電導磁石
装置を備えた従来の単結晶引上装置を示す図であり、図
12は正面方向から見た構成図、図13は上面方向から
見た構成図である。なお、各図において、図11の単結
晶引上装置と同一部分には同一符号を付してその説明は
省略する。図12および図13に示された従来の単結晶
引上装置では、融液1に図12中矢印11なる方向の磁
場(以下、横磁場とする)を印加するために、円筒型の
超電導コイル13、14が、引上装置チャンバ12の外
部に、横磁場方向11とコイル中心軸とが一致する図示
位置に設置されている。
12 and 13 are views showing a conventional single crystal pulling apparatus equipped with a superconducting magnet device. FIG. 12 is a configuration diagram viewed from the front direction, and FIG. 13 is a configuration diagram viewed from the top direction. Is. In each figure, the same parts as those of the single crystal pulling apparatus of FIG. In the conventional single crystal pulling apparatus shown in FIGS. 12 and 13, a cylindrical superconducting coil is used to apply a magnetic field in the direction of arrow 11 in FIG. Nos. 13 and 14 are installed outside the pulling apparatus chamber 12 at positions shown in the drawing in which the transverse magnetic field direction 11 and the coil central axis coincide with each other.

【0012】超電導コイル13、14は、極低温(例え
ば、4.2k)液体ヘリウム15で満たされた内槽16
内に収納され、超電導状態に保持されている。超電導コ
イル13、14を極低温状態にしておく保冷容器17
a、17bは、内槽16と外槽18およびこれらの中間
に設置されて外部からの侵入熱量を低減させる輻射シー
ルド板19より構成されている。小型冷凍機50a、5
0b、60a、60bは、それぞれ保冷容器17a、1
7bに直接取り付けられている。
The superconducting coils 13 and 14 have an inner tank 16 filled with cryogenic (eg 4.2k) liquid helium 15.
It is housed inside and kept superconducting. Cooling container 17 for keeping the superconducting coils 13 and 14 in a cryogenic state
Each of a and 17b is composed of an inner tank 16 and an outer tank 18, and a radiation shield plate 19 which is installed between them and reduces the amount of heat entering from the outside. Small refrigerators 50a, 5
0b, 60a and 60b are cold storage containers 17a and 1a, respectively.
It is attached directly to 7b.

【0013】小型冷凍機50a、50bは、この小型冷
凍機50a、50b内を循環している冷凍冷媒(例えば
ヘリウム)51a、51bを圧縮する圧縮機ユニット5
2a、52bと、これらにより圧縮された冷凍冷媒51
a、51bを断熱膨張させて冷却する膨張機53a、5
3b(53bは図示せず)と、輻射シールド温度(例え
ば、80K)まで冷却された冷凍ステージ54a、54
b(54bは図示せず)と、ヘリウム液化温度(例え
ば、4.2K)まで冷却されたヘリウム再凝縮器55
a、55b(55bは図示せず)とより構成されてい
る。
The compact refrigerators 50a and 50b are compressor units 5 for compressing refrigerating refrigerants (helium, for example) 51a and 51b circulating in the compact refrigerators 50a and 50b.
2a and 52b, and the frozen refrigerant 51 compressed by these
Expanders 53a and 5 for adiabatically expanding and cooling a and 51b
3b (53b is not shown) and the freezing stages 54a, 54 cooled to the radiation shield temperature (for example, 80K).
b (54b not shown) and helium recondenser 55 cooled to helium liquefaction temperature (eg 4.2K).
a and 55b (55b is not shown).

【0014】小型冷凍機60a、60bは、小型冷凍機
50a、50bと同様な構造を有し、冷凍冷媒61a、
61bと、圧縮機ユニット62a、62bと、膨張機6
3a、63b(63bは図示せず)と、輻射シールド温
度を有する冷凍ステージ64a、64b(64bは図示
せず)と、極低温(例えば、20K)に冷却された冷凍
ステージ65a、65b(65bは図示せず)とにより
構成されている。
The small refrigerators 60a and 60b have a structure similar to that of the small refrigerators 50a and 50b.
61b, compressor units 62a and 62b, and expander 6
3a, 63b (63b is not shown), the freezing stages 64a, 64b (64b are not shown) having a radiation shield temperature, and the freezing stages 65a, 65b (65b are cooled to an extremely low temperature (for example, 20K)). And (not shown).

【0015】超電導コイル13、14は、常温中(例え
ば、300K)に布設されたパワーリード20により直
列に接続され、電源21より励磁電流が供給される。パ
ワーリード20よりの外部侵入熱は、小型冷凍機60
a、60bの冷凍ステージ64a、64b、65a、6
5bにより除去される。コイル励磁に伴い蒸発した内槽
16内のヘリウムガスは、小型冷凍機50a、50bの
ヘリウム再凝縮器55a、55bにより再凝縮(液化)
される。このようにして、保冷容器17a、17b内に
は、常に液体ヘリウムが満たされ、超電導コイル13、
14は超電導状態を保持し続けることができる。
The superconducting coils 13 and 14 are connected in series by a power lead 20 laid at room temperature (for example, 300K), and an exciting current is supplied from a power source 21. The heat entering the outside from the power lead 20 is the small refrigerator 60.
a, 60b freezing stages 64a, 64b, 65a, 6
Removed by 5b. The helium gas in the inner tank 16 evaporated with the coil excitation is recondensed (liquefied) by the helium recondensers 55a and 55b of the small refrigerators 50a and 50b.
To be done. In this way, the cold containers 17a, 17b are always filled with liquid helium, and the superconducting coil 13,
14 can keep the superconducting state.

【0016】この超電導磁石装置を備えた従来の単結晶
引上装置においても、融液1中に横磁場を印加すること
ができるので、融液1中の熱対流8が抑制され、図11
に示された従来の単結晶引上装置と同様に、単結晶7中
の不純物含有、転位ループの発生、欠陥・成長縞等の発
生がなくなり、しかも単結晶引き上げ方向に均一な品質
の単結晶7が得られ、単結晶7の品質および歩留まりを
向上させることができる。
Also in the conventional single crystal pulling apparatus equipped with this superconducting magnet device, since the transverse magnetic field can be applied in the melt 1, the thermal convection 8 in the melt 1 is suppressed, and FIG.
Similar to the conventional single crystal pulling apparatus shown in FIG. 1, the single crystal 7 does not contain impurities, the generation of dislocation loops, the occurrence of defects and growth fringes, and the single crystal having a uniform quality in the pulling direction of the single crystal. 7 is obtained, and the quality and yield of the single crystal 7 can be improved.

【0017】一般に、単結晶引上装置は、その引き上げ
運転が完了する毎にルツボ2および引上装置チャンバ1
2の内面を清掃する必要がある。超電導磁石装置を備え
た従来の単結晶引上装置では、この清掃を下記に示すよ
うな手順で実施している。まず、超電導磁石装置から発
生する電磁力が作用する保冷容器17a、17bを支え
るために設置してある支え棒22を取り除く。ついで、
各保冷容器17a、17bを保持している架台29a、
29bの下部に敷設された床固定レール23上を、水平
方向24に固定位置(図13中25で示される)まで移
動させて、単結晶引上装置本体と超電導磁石装置とを完
全に分離する。この状態で、ルツボ2およびチャンバ1
2の清掃を行う。
Generally, the single crystal pulling apparatus has a crucible 2 and a pulling apparatus chamber 1 each time the pulling operation is completed.
It is necessary to clean the inner surface of 2. In a conventional single crystal pulling apparatus equipped with a superconducting magnet device, this cleaning is carried out in the following procedure. First, the support rod 22 installed to support the cold insulation containers 17a and 17b on which the electromagnetic force generated from the superconducting magnet device acts is removed. Then,
A cradle 29a holding the cold containers 17a and 17b,
The floor fixing rail 23 laid at the bottom of 29b is moved in the horizontal direction 24 to a fixed position (indicated by 25 in FIG. 13) to completely separate the main body of the single crystal pulling apparatus and the superconducting magnet apparatus. . In this state, crucible 2 and chamber 1
Perform 2 cleaning.

【0018】また、例えば、特公平3−61630号公
報に記載された従来の単結晶引上装置では、図14およ
び図15に示されるように、U字型の配管で接続されて
ルツボ2を取り囲むように配設された超電導マグネット
により、ルツボ2の融液1に磁界を印加するようにして
いる。そして、この超電導マグネットのコイルは直列に
接続され、1つの電源から電流が供給されるようになっ
ている。さらに、この超電導マグネットは、水平方向
(図15中矢印24の方向)に移動できるような構造が
可能である。
Further, for example, in the conventional single crystal pulling apparatus disclosed in Japanese Patent Publication No. 3-61630, as shown in FIGS. 14 and 15, the crucible 2 is connected by a U-shaped pipe. A magnetic field is applied to the melt 1 of the crucible 2 by a superconducting magnet arranged so as to surround it. The coils of this superconducting magnet are connected in series so that current is supplied from one power source. Further, this superconducting magnet can have a structure capable of moving in the horizontal direction (direction of arrow 24 in FIG. 15).

【0019】しかしながら、上述した融液1中に横磁場
を印加する単結晶引上装置においては、軸対称的な熱対
流に対して、非軸対称的磁場(横磁場)を生じるため
に、対流の半径方向の流れのうち磁場方向と一致する流
れに対しては効果がなく、熱対流に非軸対称性が生じて
しまい、均一な円形断面を有する単結晶が得られないこ
と、さらには円形断面全体において結晶性の均一性が得
られないという問題があった。そこで、均一な円形断面
を有する単結晶を得るために、さらには円形断面全体に
おいて結晶性が均一な単結晶を得るために、融液1内に
等軸対称、かつ、放射状のカスプ磁場を印加する手法が
提案されている。
However, in the single crystal pulling apparatus for applying a transverse magnetic field in the melt 1 described above, convection occurs because a non-axisymmetric magnetic field (transverse magnetic field) is generated with respect to axisymmetric thermal convection. It has no effect on the flow in the radial direction that matches the magnetic field direction, and non-axial symmetry occurs in the thermal convection, and a single crystal with a uniform circular cross section cannot be obtained. There is a problem that the crystallinity is not uniform over the entire cross section. Therefore, in order to obtain a single crystal having a uniform circular cross section, and further, to obtain a single crystal having uniform crystallinity over the entire circular cross section, a radial cusp magnetic field is applied in the melt 1 in an equiaxial symmetry. The method of doing is proposed.

【0020】図16は例えば特開昭58−217493
号公報に記載された従来の単結晶引上装置における融液
内の熱対流および磁場を示す図で、図16(a)は縦断
面図、図16の(b)は上部断面図である。この従来の
単結晶引上装置では、ルツボ2の上下に超電導マグネッ
トが配設され、融液1内に、等軸対称かつ放射状のカス
プ磁場11aが形成されるようになっている。そこで、
ルツボ2の融液1部のほぼ中心付近に等軸対称かつ放射
状のカスプ磁界11aが印加され、融液1中の熱対流8
が均一に抑制されて、育成する結晶の性状を改善でき
る。
FIG. 16 shows, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 58-217493.
FIG. 16A is a view showing a thermal convection and a magnetic field in a melt in a conventional single crystal pulling apparatus described in Japanese Patent Laid-Open Publication No. 16A, and FIG. 16A is a vertical sectional view and FIG. 16B is an upper sectional view. In this conventional single crystal pulling apparatus, superconducting magnets are provided above and below the crucible 2 so that an equiaxially symmetric and radial cusp magnetic field 11a is formed in the melt 1. Therefore,
A radial cusp magnetic field 11a is applied in the vicinity of the center of the melt 1 part of the crucible 2 to cause thermal convection 8 in the melt 1.
Are uniformly suppressed, and the properties of the grown crystal can be improved.

【0021】また、特開昭61−222984号公報に
記載された図17に示す従来の単結晶引上装置では、コ
イル26によってルツボ2の融液部の表面に等軸対称か
つ放射状のカスプ磁界11aを印加することにより、育
成する結晶の性状が改善できることが示されている。
In the conventional single crystal pulling apparatus shown in FIG. 17 of Japanese Patent Laid-Open No. 61-222984, the coil 26 causes the surface of the melt portion of the crucible 2 to be equiaxially symmetric and have a radial cusp magnetic field. It has been shown that the properties of the grown crystal can be improved by applying 11a.

【0022】さらに、特開昭63−222408号公報
に記載された従来の超電導マグネット110は、図19
に示されるように、サイド側超電導コイル101a、1
01bおよびセンター側超電導コイル102a、102
bの4つに分割されたコイル構成をなし、周りに自己磁
気シールド106が設けられている。そして、これらの
分割されたコイルは、図18に示されるように、サイド
側超電導コイル101aと101b、センター側超電導
コイル102aと102bがそれぞれ直列接続され、こ
れらのコイル対がさらに直列に接続され、コイル保護素
子103e、103fが各コイル対の両端間にそれぞれ
並列に接続されている。さらに、直列接続されたコイル
の両端間には永久電流スイッチ105が接続され、閉回
路を構成するようにされている。そこで、コイルは対称
位置にあるコイル毎に直列に接続されているので、どの
超電導コイルに常電導転位が生じても電流分布は対称で
あるので不平衡電磁力が発生しない構造となっている。
Further, the conventional superconducting magnet 110 described in Japanese Patent Laid-Open No. 322408/1988 is shown in FIG.
, The side superconducting coils 101a, 1
01b and center side superconducting coils 102a, 102
The coil structure is divided into four parts of b, and the self magnetic shield 106 is provided around the coil structure. Then, these divided coils are, as shown in FIG. 18, side-side superconducting coils 101a and 101b, center-side superconducting coils 102a and 102b, respectively, connected in series, and these coil pairs are further connected in series, Coil protection elements 103e and 103f are connected in parallel between both ends of each coil pair. Further, a permanent current switch 105 is connected between both ends of the coils connected in series to form a closed circuit. Therefore, since the coils are connected in series to each other at symmetrical positions, the current distribution is symmetrical regardless of which superconducting coil the normal conducting dislocation occurs, so that the unbalanced electromagnetic force is not generated.

【0023】[0023]

【発明が解決しようとする課題】従来の磁界印加方式の
単結晶引上装置は以上のように構成されているので、下
記に記載されるような課題があった。融液1中に横磁場
を印加する方式においては、軸対称的な熱対流に対し
て、横磁場は非軸対称的磁場であるので、対流の半径方
向の流れのうち磁場方向と一致する流れに対しては効果
が得られない。そこで、熱対流に非軸対称性が生じてし
まい、均一な円形断面を有する単結晶が得られないこ
と、さらには円形断面全体において結晶性の均一性が得
られないという問題があった。また、融液1中にカスプ
磁界を印加する方式においては、ルツボ2の融液1部の
ほぼ中心付近に等軸対称かつ放射状のカスプ磁界11a
が印加されるので、融液1中の熱対流8が均一に抑制さ
れて、横磁場を印加する方式における不具合が解消さ
れ、育成する結晶の性状を改善できる。しかしながら、
図17に示される空心型のコイルでは、装置外部への漏
洩磁界が大きいという問題があった。漏洩磁界を低減す
る手段として、磁気シールドを設けることも考えられる
が、コイルが磁気シールドに対して対称な位置になかっ
たり、対のコイルの通電電流が異なった場合には、磁気
シールドとコイルとの間に大きな不平衡電磁力が働いて
しまう。そこで、極低温に冷却されたコイルの支持構造
が大きくする必要があり、コイル支持が困難となるとい
う問題があった。また、大きな電磁力を支持するために
コイル支持構造が大きくなると、コイル支持構造を介し
ての極低温に冷却されたコイルへの熱侵入量が大きくな
り、コイルの冷却が困難となったり、冷却のための液体
ヘリウムや電力の消費量が大きくなるという問題もあっ
た。
Since the conventional magnetic field applying type single crystal pulling apparatus is constructed as described above, it has the following problems. In the method of applying the transverse magnetic field in the melt 1, the transverse magnetic field is a non-axisymmetric magnetic field with respect to the axisymmetric thermal convection. Against the effect. Therefore, there has been a problem that non-axial symmetry occurs in the thermal convection, a single crystal having a uniform circular cross section cannot be obtained, and further, the uniformity of crystallinity cannot be obtained in the entire circular cross section. Further, in the method of applying the cusp magnetic field to the melt 1, the cusp magnetic field 11a having an axisymmetric and radial shape is provided in the vicinity of the center of the melt 1 portion of the crucible 2.
Is applied, the thermal convection 8 in the melt 1 is uniformly suppressed, the problem in the method of applying the transverse magnetic field is eliminated, and the property of the grown crystal can be improved. However,
The air-core type coil shown in FIG. 17 has a problem that the leakage magnetic field to the outside of the device is large. A magnetic shield may be provided as a means of reducing the leakage magnetic field, but if the coils are not in symmetrical positions with respect to the magnetic shield, or if the energization currents of the pair of coils are different, the magnetic shield and the coil A large unbalanced electromagnetic force will work between. Therefore, there is a problem that it is difficult to support the coil because it is necessary to increase the size of the structure for supporting the coil cooled to the extremely low temperature. Also, if the coil support structure becomes large in order to support a large electromagnetic force, the amount of heat that penetrates into the coil cooled to a cryogenic temperature via the coil support structure will increase, making it difficult to cool the coil. There was also a problem that the consumption of liquid helium and electric power for the battery would become large.

【0024】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたもので、磁気シールドとコイルとの間に
働く不平衡電磁力を小さくし、構造の簡略化を達成でき
る磁界印加方式の単結晶製造装置を得ることを目的とす
る。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and is of a magnetic field application system capable of reducing the unbalanced electromagnetic force acting between the magnetic shield and the coil and achieving simplification of the structure. The purpose is to obtain an apparatus for producing a single crystal.

【0025】[0025]

【課題を解決するための手段】この発明に係る磁界印加
方式の単結晶製造装置は、ルツボに充填された単結晶原
料融液に種結晶を挿入し、この結晶を引き上げることに
より単結晶を生成する単結晶引上装置本体と、この単結
晶引上装置本体を包囲するように配設された真空容器
と、互いに上下方向に離間して該単結晶引上装置本体を
包囲するように該真空容器内に収容され、該単結晶原料
融液部にカスプ磁界を印加する少なくとも2つの超電導
コイルと、該真空容器の外周に設置された磁気シールド
とを備えた磁界印加方式の単結晶製造装置において、該
少なくとも2つの超電導コイルは直列に接続され、該磁
気シールドは該真空容器の上下端面を覆う上下のフラン
ジ部が該超電導コイルの中心径と等しい内径に形成され
ているものである。
The apparatus for producing a single crystal of a magnetic field application system according to the present invention produces a single crystal by inserting a seed crystal into a single crystal raw material melt filled in a crucible and pulling the crystal. A single crystal pulling apparatus main body, a vacuum container arranged so as to surround the single crystal pulling apparatus main body, and the vacuum so as to surround the single crystal pulling apparatus main body vertically separated from each other. In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus, which is housed in a container and comprises at least two superconducting coils for applying a cusp magnetic field to the single crystal raw material melt portion, and a magnetic shield installed on the outer periphery of the vacuum container. The at least two superconducting coils are connected in series, and the magnetic shield has upper and lower flange portions that cover the upper and lower end surfaces of the vacuum container and are formed with an inner diameter equal to the central diameter of the superconducting coil.

【0026】この発明に係る磁界印加方式の単結晶製造
装置は、ルツボに充填された単結晶原料融液に種結晶を
挿入し、この結晶を引き上げることにより単結晶を生成
する単結晶引上装置本体と、この単結晶引上装置本体を
包囲するように配設された真空容器と、互いに上下方向
に離間して該単結晶引上装置本体を包囲するように該真
空容器内に収容され、該単結晶原料融液部にカスプ磁界
を印加する少なくとも2つの超電導コイルと、該真空容
器の外周に設置された磁気シールドとを備えた磁界印加
方式の単結晶製造装置において、該少なくとも2つの超
電導コイルは直列に接続され、該磁気シールドは該真空
容器の上下端面を覆う上下のフランジ部が該超電導コイ
ルの中心径より小径の内径に形成されているものであ
る。
A magnetic field applying type single crystal manufacturing apparatus according to the present invention is a single crystal pulling apparatus for producing a single crystal by inserting a seed crystal into a single crystal raw material melt filled in a crucible and pulling the crystal. A main body and a vacuum container arranged so as to surround the main body of the single crystal pulling device, and are housed in the vacuum container so as to surround the main body of the single crystal pulling device while being vertically separated from each other, In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising at least two superconducting coils for applying a cusp magnetic field to the single crystal raw material melt portion, and a magnetic shield installed on the outer periphery of the vacuum container, the at least two superconducting coils The coils are connected in series, and the magnetic shield has upper and lower flange portions that cover the upper and lower end surfaces of the vacuum container and are formed with an inner diameter smaller than the central diameter of the superconducting coil.

【0027】この発明に係る磁界印加方式の単結晶製造
装置は、ルツボに充填された単結晶原料融液に種結晶を
挿入し、この結晶を引き上げることにより単結晶を生成
する単結晶引上装置本体と、この単結晶引上装置本体を
包囲するように配設された真空容器と、互いに上下方向
に離間して該単結晶引上装置本体を包囲するように該真
空容器内に収容され、該単結晶原料融液部にカスプ磁界
を印加する少なくとも2つの超電導コイルと、該真空容
器の外周に設置された磁気シールドとを備えた磁界印加
方式の単結晶製造装置において、該少なくとも2つの超
電導コイルは直列に接続され、該磁気シールドは該真空
容器の上下端面を覆う上下のフランジ部が定格の磁界に
対して磁気的に飽和する厚みに形成されているものであ
る。
A magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus according to the present invention is a single crystal pulling apparatus for producing a single crystal by inserting a seed crystal into a single crystal raw material melt filled in a crucible and pulling the crystal. A main body and a vacuum container arranged so as to surround the main body of the single crystal pulling device, and are housed in the vacuum container so as to surround the main body of the single crystal pulling device while being vertically separated from each other, In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising at least two superconducting coils for applying a cusp magnetic field to the single crystal raw material melt portion, and a magnetic shield installed on the outer periphery of the vacuum container, the at least two superconducting coils The coils are connected in series, and the magnetic shield is formed such that upper and lower flange portions covering the upper and lower end surfaces of the vacuum container are magnetically saturated with respect to a rated magnetic field.

【0028】また、非磁性材料からなる環状の端部材を
磁気シールドの上下のフランジ部に気密的に接合して、
磁気シールドと真空容器とを一体に構成したものであ
る。
Further, annular end members made of a non-magnetic material are airtightly joined to the upper and lower flange portions of the magnetic shield,
The magnetic shield and the vacuum container are integrally configured.

【0029】また、磁気シールドと同一材料で、薄板か
らなる環状の端部材を該磁気シールドの上下のフランジ
部に気密的に接合して、磁気シールドと真空容器とを一
体に構成したものである。
Further, an annular end member made of the same material as the magnetic shield and made of a thin plate is hermetically joined to the upper and lower flange portions of the magnetic shield to integrally form the magnetic shield and the vacuum container. .

【0030】この発明に係る磁界印加方式の単結晶製造
装置は、ルツボに充填された単結晶原料融液に種結晶を
挿入し、この結晶を引き上げることにより単結晶を生成
する単結晶引上装置本体と、この単結晶引上装置本体を
包囲するように配設された真空容器と、互いに上下方向
に離間して該単結晶引上装置本体を包囲するように該真
空容器内に収容され、該単結晶原料融液部にカスプ磁界
を印加する少なくとも2つの超電導コイルと、該真空容
器の外周に設置された磁気シールドとを備えた磁界印加
方式の単結晶製造装置において、該磁気シールドは、中
心水平面に対して対称に配置された上側磁気シールドと
下側磁気シールドとから構成されているものである。
A magnetic field application type single crystal producing apparatus according to the present invention is a single crystal pulling apparatus for producing a single crystal by inserting a seed crystal into a single crystal raw material melt filled in a crucible and pulling the crystal. A main body and a vacuum container arranged so as to surround the main body of the single crystal pulling device, and are housed in the vacuum container so as to surround the main body of the single crystal pulling device while being vertically separated from each other, In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising at least two superconducting coils for applying a cusp magnetic field to the single crystal raw material melt portion, and a magnetic shield installed on the outer circumference of the vacuum container, the magnetic shield comprises: The upper magnetic shield and the lower magnetic shield are arranged symmetrically with respect to the central horizontal plane.

【0031】また、超電導コイルの冷却・通電用ポート
が、上側磁気シールドと下側磁気シールドとの間を通っ
て真空容器に取り付けられているものである。
Further, the cooling / energizing port of the superconducting coil is attached to the vacuum container through between the upper magnetic shield and the lower magnetic shield.

【0032】また、上側磁気シールドと下側磁気シール
ドとの間隙を調節する磁気シールド移動手段を備えてい
るものである。
Further, a magnetic shield moving means for adjusting a gap between the upper magnetic shield and the lower magnetic shield is provided.

【0033】[0033]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
について説明する。 実施の形態1.図1はこの発明の実施の形態1に係る磁
界印加方式の単結晶製造装置の構成を示す断面図であ
る。図において、図10乃至図19に示された従来の単
結晶引上装置と同一部分には同一符号を付してその説明
は省略する。図において、結晶引上装置本体100は、
融液1が充填されるルツボ2と、このルツボ2の外周に
配設されたヒータ3と、ルツボ2およびヒータ3が収容
される引上装置チャンバ12と、種結晶4を一定速度で
引き上げる引上駆動機構5とから構成されている。そし
て、ルツボ2は引上装置チャンバ12の軸心位置にほぼ
位置するように配設され、引上駆動機構5は種結晶4を
軸心方向に引き上げるようになっている。また、この結
晶引上装置本体100の外周には、融液1にカスプ磁界
11aを印加するための超電導マグネット200が配設
されている。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Embodiment 1. 1 is a cross-sectional view showing the structure of a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus according to Embodiment 1 of the present invention. In the figure, the same parts as those of the conventional single crystal pulling apparatus shown in FIGS. 10 to 19 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. In the figure, the crystal pulling apparatus main body 100 is
A crucible 2 filled with the melt 1, a heater 3 arranged on the outer periphery of the crucible 2, a pulling apparatus chamber 12 in which the crucible 2 and the heater 3 are housed, and a pulling crystal for pulling a seed crystal 4 at a constant speed. It is composed of the upper drive mechanism 5. The crucible 2 is arranged so as to be located substantially at the axial center of the pulling apparatus chamber 12, and the pulling drive mechanism 5 pulls the seed crystal 4 in the axial direction. A superconducting magnet 200 for applying a cusp magnetic field 11a to the melt 1 is arranged on the outer periphery of the crystal pulling apparatus body 100.

【0034】ついで、超電導マグネット200の構成に
ついて説明する。真空容器17は、非磁性材料、例えば
ステンレス鋼を用いて矩形断面の中空のリング状に作製
され、結晶引上装置本体100の外周に同軸に配設され
ている。超電導コイル31、32は、同一の超電導素線
を同じターン数リング状に巻回されて同じ寸法に作製さ
れている。そして、超電導コイル31、32は、結晶引
上装置本体100の外周に同軸に、ルツボ2の上下に対
向して真空容器17内に配設され、互いに直列に結線さ
れている。さらに、超電導コイル31、32は、それぞ
れ支持部材42により真空容器17の内壁面に軸心方
向、即ち鉛直方向に支持され、支持部材41により真空
容器17の内壁面に径方向、即ち水平方向に支持されて
いる。さらにまた、支持部材43が超電導コイル31、
32間を鉛直方向に支持している。これらの支持部材4
1、42、43は、周方向に所定間隔毎に複数設けられ
ている。磁気シールド40は、磁性材料、例えば純鉄を
用いてコの字状断面のリング状に作製され、真空容器1
7の外周を包囲するように配設されている。そして、磁
気シールド40は、その上下のフランジ部40aの内径
が超電導コイル31、32の中心径と等しく構成されて
いる。なお、超電導マグネット200には、図示されて
いないが、真空容器17内に配設されてコイル部への熱
侵入を抑制する熱シールド、真空容器17に配設されて
熱シールドやコイルを冷却する小型冷凍機等の冷却機
構、さらにはコイルに通電するための電流リード等が備
わっている。また、ここで言うコイルの中心径とは、コ
イルの内径と外径との中央の径、即ち(コイル内径+コ
イル外径)/2に相当するものである。
Next, the structure of the superconducting magnet 200 will be described. The vacuum container 17 is made of a non-magnetic material, such as stainless steel, and has a hollow ring shape with a rectangular cross section, and is coaxially arranged on the outer circumference of the crystal pulling apparatus body 100. The superconducting coils 31 and 32 are manufactured to have the same size by winding the same superconducting element wire in a ring shape with the same number of turns. Then, the superconducting coils 31 and 32 are coaxially arranged on the outer circumference of the crystal pulling apparatus main body 100 so as to face the upper and lower sides of the crucible 2 in the vacuum container 17, and are connected in series. Further, the superconducting coils 31 and 32 are respectively supported by the support member 42 on the inner wall surface of the vacuum container 17 in the axial direction, that is, in the vertical direction, and by the support member 41 on the inner wall surface of the vacuum container 17 in the radial direction, that is, the horizontal direction. It is supported. Furthermore, the support member 43 is the superconducting coil 31,
The space between 32 is supported vertically. These support members 4
A plurality of 1, 42, 43 are provided at predetermined intervals in the circumferential direction. The magnetic shield 40 is made of a magnetic material, for example, pure iron, into a ring shape having a U-shaped cross section.
It is arranged so as to surround the outer circumference of 7. In the magnetic shield 40, the inner diameters of the upper and lower flange portions 40a are equal to the central diameters of the superconducting coils 31 and 32. Although not shown, the superconducting magnet 200 is provided in the vacuum container 17 to suppress heat from entering the coil portion, and in the vacuum container 17 to cool the heat shield and the coil. It is equipped with a cooling mechanism such as a small refrigerator and a current lead for energizing the coil. The center diameter of the coil referred to here corresponds to the center diameter between the inner diameter and the outer diameter of the coil, that is, (coil inner diameter + coil outer diameter) / 2.

【0035】つぎに、このように構成された単結晶製造
装置の動作について説明する。ヒータ3の加熱により、
ルツボ2内に収容されている単結晶原料、例えばシリコ
ンが溶融される。そして、高温のシリコンの融液1が接
するルツボ2の内面から不純物9が融液1中に溶解され
る。また、融液1には、ヒータ3の加熱によって熱対流
8が誘起される。一方、超電導コイル31、32は小型
冷凍機(図示せず)により極低温に冷却され、電流リー
ド(図示せず)を介して電流が流される。そして、融液
1には、等軸対称かつ放射状のカスプ磁界11aが印加
される。なお、超電導コイル31、32は同じターン
数、同じ寸法に構成されているので、同一の起磁力が発
生している。ヒータ3の加熱によって誘起される熱対流
8はこのカスプ磁界11aによって生じる磁気的抵抗力
により対流の大きさが抑制される。そこで、ルツボ2の
内面から融液1中に溶解された不純物9は、ルツボ2の
内面側に滞留し、融液1の内部全体への分散が抑制され
る。さらには、熱対流8に起因する固体−液界面境界層
6での温度変動が抑制される。そこで、単結晶の品質を
劣化させる要因が抑えられ、高品質の単結晶を歩留まり
よく製造できる。
Next, the operation of the single crystal manufacturing apparatus thus configured will be described. By heating the heater 3,
The single crystal raw material, such as silicon, contained in the crucible 2 is melted. Then, the impurities 9 are dissolved in the melt 1 from the inner surface of the crucible 2 in contact with the high-temperature silicon melt 1. Further, thermal convection 8 is induced in the melt 1 by heating the heater 3. On the other hand, the superconducting coils 31 and 32 are cooled to a cryogenic temperature by a small refrigerator (not shown), and current is passed through current leads (not shown). Then, a radial cusp magnetic field 11a is applied to the melt 1 in an equiaxial symmetry. Since the superconducting coils 31 and 32 have the same number of turns and the same dimensions, the same magnetomotive force is generated. The thermal convection 8 induced by the heating of the heater 3 is suppressed in the magnitude of the convection due to the magnetic resistance generated by the cusp magnetic field 11a. Therefore, the impurities 9 dissolved in the melt 1 from the inner surface of the crucible 2 stay on the inner surface side of the crucible 2 and the dispersion of the melt 1 in the entire inside is suppressed. Furthermore, temperature fluctuations in the solid-liquid interface boundary layer 6 due to the thermal convection 8 are suppressed. Therefore, a factor that deteriorates the quality of the single crystal is suppressed, and a high quality single crystal can be manufactured with high yield.

【0036】ここで、カスプ磁界11aは結晶の製造に
最適な位置、値がシミュレーションや実験によって選択
されることになる。また、超電導コイル31、32によ
って発生する磁界は融液1にだけ作用すればよく、その
他の領域に対しては極力小さいことが望ましい。この磁
気シールド40は超電導マグネットから外部に漏れる磁
界を抑制するとともに、融液1に対して要求される磁界
に対する必要起磁力を低減する。
Here, the position and the value of the cusp magnetic field 11a which are optimum for manufacturing the crystal are selected by simulation or experiment. Further, the magnetic field generated by the superconducting coils 31 and 32 only needs to act on the melt 1, and is preferably as small as possible in other regions. The magnetic shield 40 suppresses the magnetic field leaking from the superconducting magnet to the outside and reduces the necessary magnetomotive force for the magnetic field required for the melt 1.

【0037】超電導コイル31と磁気シールド40との
間には典型的な例では数千kgfの電磁力(お互いに引合う
吸引力)が働いている。同様に超電導コイル32と磁気
シールド40との間にも同じ値で逆方向の電磁力が働い
ている。超電導コイル31、32は支持部材43で互い
に固定してあるので、コイルが磁気シールド40に対し
て対称の位置にある限りは超電導コイル31、32およ
び支持部材43を合せた構造体に働く力は0となる。超
電導コイル31、32は超電導にするため、低温に冷却
されているので、支持部材43も低温に冷却された状態
になっている。このため、支持部材43は超電導コイル
31、32を室温部分から支持する支持部材41、42
と異なり、十分に強固な支持部材とすることができる。
しかしながら、支持部材41、42は低温に冷却された
超電導コイル31、32を室温部分から支持しているた
め、コイルの冷却性能を損わないように十分に細くて熱
侵入量の小さい支持部材とする必要がある。
Between the superconducting coil 31 and the magnetic shield 40, in a typical example, an electromagnetic force of several thousand kgf (attracting force attracting each other) acts. Similarly, an electromagnetic force in the opposite direction acts between the superconducting coil 32 and the magnetic shield 40 with the same value. Since the superconducting coils 31 and 32 are fixed to each other by the supporting member 43, as long as the coils are symmetrical with respect to the magnetic shield 40, the force acting on the structure including the superconducting coils 31 and 32 and the supporting member 43 is It becomes 0. Since the superconducting coils 31 and 32 are cooled to a low temperature in order to make them superconducting, the support member 43 is also cooled to a low temperature. Therefore, the support member 43 supports the superconducting coils 31 and 32 from the room temperature portion.
Unlike the above, a sufficiently strong support member can be obtained.
However, since the supporting members 41 and 42 support the superconducting coils 31 and 32 cooled to a low temperature from the room temperature portion, the supporting members 41 and 42 are sufficiently thin so as not to impair the cooling performance of the coils and have a small amount of heat penetration. There is a need to.

【0038】この種超電導マグネットにおいては、先に
説明したように特開昭63−222408号公報で指摘
されているように、コイルの位置ずれに起因して不平衡
電磁力が発生することが知られている。そこで、支持部
材41、42を細く構成するためには、超電導コイル3
1、32、支持部材43等の低温に冷却された部分の質
量を軽量化するとともに、超電導コイル31、32の位
置ずれに起因する不平衡電磁力を小さくすることも必要
となる。
In this type of superconducting magnet, as described above, as pointed out in Japanese Patent Laid-Open No. 322408/1988, it is known that an unbalanced electromagnetic force is generated due to the displacement of the coil. Has been. Therefore, in order to make the support members 41, 42 thin, the superconducting coil 3
It is also necessary to reduce the weight of the parts cooled to a low temperature, such as 1, 32 and the support member 43, and to reduce the unbalanced electromagnetic force caused by the displacement of the superconducting coils 31, 32.

【0039】ここで、超電導コイル31、32に軸心方
向(鉛直方向)の位置ずれを生じさせた超電導マグネッ
トと超電導コイル31、32に半径方向(水平方向)の
位置ずれを生じさせた超電導マグネットとにおいて、磁
気シールド40のフランジ部40aの内径(直径)を変
えて、コイルと磁気シールドとの間に発生する不平衡電
磁力を測定し、その結果を図2に示す。なお、図2にお
いて、横軸はフランジ部40aの内径を表し、縦軸は不
平衡電磁力を表し、曲線Aは軸心方向に位置ずれを生じ
た超電導マグネットにおける不平衡電磁力を示し、曲線
Bは半径方向に位置ずれを生じさせた超電導マグネット
における不平衡電磁力を示している。図2から、不平衡
電磁力が磁気シールド40のフランジ部40aの内径に
影響を受けることが分かる。そして、コイルを軸心方向
に位置ずれさせた場合と半径方向に位置ずれさせた場合
とでは、発生する不平衡電磁力に対するフランジ部40
aの内径の影響が逆に作用することが分かる。そこで、
コイルが軸心方向および半径方向に位置ずれしている場
合には、フランジ部40aの内径をコイルの中心径に一
致させることにより、発生する不平衡電磁力を極小にで
きることが分かる。
Here, the superconducting magnet in which the superconducting coils 31 and 32 are displaced in the axial direction (vertical direction) and the superconducting magnet in which the superconducting coils 31 and 32 are displaced in the radial direction (horizontal direction). 2, the inner diameter (diameter) of the flange portion 40a of the magnetic shield 40 was changed, and the unbalanced electromagnetic force generated between the coil and the magnetic shield was measured. The result is shown in FIG. In addition, in FIG. 2, the horizontal axis represents the inner diameter of the flange portion 40a, the vertical axis represents the unbalanced electromagnetic force, and the curve A represents the unbalanced electromagnetic force in the superconducting magnet that is displaced in the axial direction. B indicates the unbalanced electromagnetic force in the superconducting magnet that is displaced in the radial direction. It can be seen from FIG. 2 that the unbalanced electromagnetic force is affected by the inner diameter of the flange portion 40a of the magnetic shield 40. Then, the flange portion 40 against the generated unbalanced electromagnetic force is different between when the coil is displaced in the axial direction and when it is displaced in the radial direction.
It can be seen that the effect of the inner diameter of a acts in reverse. Therefore,
When the coils are displaced in the axial direction and the radial direction, it can be seen that the unbalanced electromagnetic force generated can be minimized by matching the inner diameter of the flange portion 40a with the center diameter of the coil.

【0040】この実施の形態1では、磁気シールド40
のフランジ部40aの内径を超電導コイル31、32の
中心径に一致させているので、コイルの位置ずれに起因
する不平衡電磁力を小さくできる。また、超電導コイル
31、32が直列に接続されているので、コイルを流れ
る電流分布は対称となり、電流分布の変動に伴う不平衡
電磁力の発生が抑えられる。そこで、支持部材41、4
2を細く作製でき、支持部材41、42を介しての熱侵
入が抑制され、冷却特性の高性能な単結晶製造装置が得
られる。
In the first embodiment, the magnetic shield 40
Since the inner diameter of the flange portion 40a is matched with the center diameter of the superconducting coils 31 and 32, the unbalanced electromagnetic force caused by the positional deviation of the coils can be reduced. Moreover, since the superconducting coils 31 and 32 are connected in series, the distribution of the current flowing through the coils is symmetrical, and the generation of unbalanced electromagnetic force due to the fluctuation of the current distribution is suppressed. Therefore, the support members 41, 4
2 can be made thin, heat intrusion through the supporting members 41, 42 is suppressed, and a high-performance single crystal manufacturing apparatus with cooling characteristics can be obtained.

【0041】実施の形態2.図3はこの発明の実施の形
態2に係る磁界印加方式の単結晶製造装置の構成を示す
断面図である。この実施の形態2では、磁気シールド4
0の上下のフランジ部40aの厚さを薄くし、該フラン
ジ部40aの内径を真空容器17の内径に一致させてお
り、他の構成は上記実施の形態1と同様に構成されてい
る。この実施の形態2によれば、上下のフランジ部40
aの厚さが、定格のカスプ磁界11aに対して磁気的に
飽和する厚さに設計されている。そこで、超電導コイル
31、32に位置ずれが生じても、磁気シールド40と
超電導コイル31、32との間に働く不平衡電磁力を最
小にできる。従って、この実施の形態2においても、上
記実施の形態1と同様の効果が得られる。
Embodiment 2. FIG. 3 is a sectional view showing the structure of a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus according to Embodiment 2 of the present invention. In the second embodiment, the magnetic shield 4
The thicknesses of the upper and lower flange portions 40a of 0 are reduced so that the inner diameter of the flange portion 40a matches the inner diameter of the vacuum container 17, and the other configurations are the same as those of the first embodiment. According to the second embodiment, the upper and lower flange portions 40
The thickness of a is designed to be magnetically saturated with respect to the rated cusp magnetic field 11a. Therefore, even if the superconducting coils 31 and 32 are displaced, the unbalanced electromagnetic force acting between the magnetic shield 40 and the superconducting coils 31 and 32 can be minimized. Therefore, also in the second embodiment, the same effect as in the first embodiment can be obtained.

【0042】実施の形態3.図4はこの発明の実施の形
態3に係る磁界印加方式の単結晶製造装置の構成を示す
断面図である。この実施の形態3では、磁気シールド4
0の上下のフランジ部40aの内径を真空容器17の内
径に一致させて、支持部材41を省略するもので、他の
構成は上記実施の形態1と同様に構成されている。この
実施の形態3によれば、フランジ部40aの内径が真空
容器17の内径位置まで延びている。図2の曲線Bか
ら、コイルに半径方向に位置ずれを生じると、変位を抑
制する力、即ちコイルを対称位置に戻そうとする力がコ
イルに働くことが分かる。そこで、コイルを水平方向に
支持する支持部材41を省略できることになり、室温部
分からコイル部への熱侵入をさらに抑えることができ
る。
Embodiment 3. FIG. 4 is a sectional view showing the structure of a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus according to Embodiment 3 of the present invention. In the third embodiment, the magnetic shield 4
The inner diameters of the upper and lower flange portions 40a of 0 are made equal to the inner diameter of the vacuum container 17, and the support member 41 is omitted. Other configurations are the same as those in the first embodiment. According to the third embodiment, the inner diameter of the flange portion 40a extends to the inner diameter position of the vacuum container 17. It can be seen from the curve B in FIG. 2 that when the coil is displaced in the radial direction, a force that suppresses the displacement, that is, a force that returns the coil to the symmetrical position acts on the coil. Therefore, it is possible to omit the supporting member 41 that supports the coil in the horizontal direction, and it is possible to further suppress heat intrusion from the room temperature portion into the coil portion.

【0043】実施の形態4.図5はこの発明の実施の形
態4に係る磁界印加方式の単結晶製造装置の構成を示す
断面図である。この実施の形態4では、非磁性材料、例
えばステンレス鋼を用いて、コの字状断面で開口を外周
側とするリング状に作製された端部材17aを、磁気シ
ールド40の上下のフランジ部40aの内周縁部に溶接
44により接合一体化するもので、他の構成は上記実施
の形態1と同様に構成されている。この実施の形態4に
よれば、溶接44により接合一体化された磁気シールド
40と端部材17aとが真空容器として機能するので、
上記実施の形態1において必要であった真空容器17の
外周部分を省略することができ、装置の小型軽量化およ
び低コスト化が図られる。なお、この実施の形態4で
は、上記実施の形態1の単結晶製造装置に適用するもの
としているが、上記実施の形態2、3の単結晶製造装置
に適用しても、同様の効果を奏する。
Fourth Embodiment FIG. 5 is a sectional view showing the configuration of a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus according to Embodiment 4 of the present invention. In the fourth embodiment, a ring-shaped end member 17a having a U-shaped cross section with a non-magnetic material, such as stainless steel, is used as the upper and lower flange portions 40a of the magnetic shield 40. It is joined and integrated with the inner peripheral edge portion by welding 44, and other configurations are the same as those in the first embodiment. According to the fourth embodiment, since the magnetic shield 40 and the end member 17a which are joined and integrated by the welding 44 function as a vacuum container,
The outer peripheral portion of the vacuum container 17 required in the first embodiment can be omitted, and the size and weight of the device and the cost can be reduced. Although the fourth embodiment is applied to the single crystal manufacturing apparatus of the first embodiment, the same effect can be obtained even when applied to the single crystal manufacturing apparatus of the second and third embodiments. .

【0044】実施の形態5.上記実施の形態4では、真
空容器を非磁性材料からなる端部材17aと磁性材料か
らなる磁気シールド40とを溶接により接合一体化して
構成するものとしているが、この実施の形態5では、図
6に示すように、端部材17bを厚さを十分薄くした磁
気シールド40と同一の磁性材料で作製し、端部材17
bと磁気シールド40とを溶接により接合一体化して真
空容器を構成するものとしている。この実施の形態5に
よれば、端部材17bに磁性材料が用いられているが、
十分薄く作製されているので、超電導コイル31、32
で発生した磁界が融液1に印加され、熱対流8の大きさ
を抑制するのを阻害することがない。一方、磁気シール
ド40は上記実施の形態4と同様に、十分厚く作製され
ているので、十分なシールド効果が得られる。そこで、
真空容器17の外周部分を省略することができ、装置の
小型軽量化および低コスト化が図られる。
Embodiment 5. In the fourth embodiment described above, the vacuum container is configured by integrally joining the end member 17a made of the non-magnetic material and the magnetic shield 40 made of the magnetic material by welding. However, in the fifth embodiment, FIG. , The end member 17b is made of the same magnetic material as the magnetic shield 40 with a sufficiently thin thickness.
b and the magnetic shield 40 are joined and integrated by welding to form a vacuum container. According to the fifth embodiment, the magnetic material is used for the end member 17b,
Since it is made thin enough, the superconducting coils 31, 32
The magnetic field generated in 1 is applied to the melt 1 and does not hinder the suppression of the size of the thermal convection 8. On the other hand, since the magnetic shield 40 is made sufficiently thick as in the fourth embodiment, a sufficient shielding effect can be obtained. Therefore,
The outer peripheral portion of the vacuum container 17 can be omitted, and the size and weight of the device and the cost can be reduced.

【0045】実施の形態6.図7はこの発明の実施の形
態6に係る磁界印加方式の単結晶製造装置の構成を示す
断面図である。この実施の形態6では、磁性材料、例え
ば純鉄を用いてL字状断面のリング状に作製された上側
および下側磁気シールド40A、40Bが、軸心方向に
所定距離離反させて相対して、即ち中心水平面に対して
対称に真空容器17の外周を包囲するように配設されて
いる。そして、上側および下側磁気シールド40A、4
0Bの各フランジ部40aの内径は、コイルの中心径と
一致している。即ち、上側および下側磁気シールド40
A、40Bは、磁気シールド40の超電導コイル31、
32を包囲する部分に相当する。なお、他の構成は上記
実施の形態1と同様に構成されている。この実施の形態
6では、上側および下側磁気シールド40A、40Bが
軸心方向に所定の距離離反して相対して配設されている
ので、上側および下側磁気シールド40A、40B間に
空隙が生じている。しかしながら、該空隙を通過する磁
力線の量は少なく、磁気シールド効果にはほとんど影響
がない。そこで、分割された上側および下側磁気シール
ド40A、40Bは磁気シールド40に比べて上側およ
び下側磁気シールド40A、40B間の空隙部分を省略
でき、その分超電導マグネット200の軽量化が図られ
る。
Sixth Embodiment FIG. 7 is a sectional view showing the structure of a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus according to Embodiment 6 of the present invention. In the sixth embodiment, the upper and lower magnetic shields 40A, 40B made of a magnetic material, for example, pure iron, in a ring shape having an L-shaped cross section face each other while being separated by a predetermined distance in the axial direction. That is, they are arranged so as to surround the outer circumference of the vacuum container 17 symmetrically with respect to the central horizontal plane. Then, the upper and lower magnetic shields 40A, 4
The inner diameter of each flange portion 40a of 0B matches the center diameter of the coil. That is, the upper and lower magnetic shields 40
A and 40B are superconducting coils 31 of the magnetic shield 40,
It corresponds to a portion surrounding 32. The rest of the configuration is similar to that of the first embodiment. In the sixth embodiment, since the upper and lower magnetic shields 40A and 40B are arranged facing each other with a predetermined distance in the axial direction, a gap is formed between the upper and lower magnetic shields 40A and 40B. Has occurred. However, the amount of magnetic force lines passing through the gap is small, and the magnetic shield effect is hardly affected. Therefore, in the divided upper and lower magnetic shields 40A and 40B, the gap between the upper and lower magnetic shields 40A and 40B can be omitted as compared with the magnetic shield 40, and the weight of the superconducting magnet 200 can be reduced accordingly.

【0046】実施の形態7.この実施の形態7では、図
8に示すように、冷却・通電用ポート45が上側および
下側磁気シールド40A、40B間の空隙部分を通って
真空容器17に設けられている。なお、他の構成は上記
実施の形態6と同様に構成されている。この実施の形態
7によれば、超電導コイル31、32の冷却・通電に必
要な配管・配線を取り出す冷却・通電用ポート45が上
側および下側磁気シールド40A、40B間から水平方
向に延出されているので、超電導マグネット200の高
さ寸法の縮小化が図られる。
Embodiment 7. In the seventh embodiment, as shown in FIG. 8, the cooling / energizing port 45 is provided in the vacuum container 17 through the gap between the upper and lower magnetic shields 40A and 40B. The other structure is the same as that of the sixth embodiment. According to the seventh embodiment, the cooling / energizing port 45 for taking out piping / wiring required for cooling / energizing the superconducting coils 31 and 32 is horizontally extended from between the upper and lower magnetic shields 40A and 40B. Therefore, the height dimension of the superconducting magnet 200 can be reduced.

【0047】実施の形態8.この実施の形態8では、図
9に示すように、磁気シールド移動手段としてのジャッ
キボルト46が一対の上側および下側磁気シールド40
A、40B間に配設されている。なお、他の構成は上記
実施の形態6と同様に構成されている。この実施の形態
8によれば、ジャッキボルト46により上側および下側
磁気シールド40A、40B間の間隙を調整することが
できる。そこで、上側および下側磁気シールド40A、
40B間の間隙を調整することにより、カスプ磁界11
aの分布を微調整でき、熱対流8を効率的に抑制するこ
とができる。なお、磁気シールド移動手段としては、ジ
ャッキボルト46に限らず、油圧駆動機構でもよい。
Embodiment 8. In the eighth embodiment, as shown in FIG. 9, a jack bolt 46 as a magnetic shield moving means includes a pair of upper and lower magnetic shields 40.
It is arranged between A and 40B. The other structure is the same as that of the sixth embodiment. According to the eighth embodiment, the gap between the upper and lower magnetic shields 40A and 40B can be adjusted by the jack bolt 46. Therefore, the upper and lower magnetic shields 40A,
By adjusting the gap between 40B, the cusp magnetic field 11
The distribution of a can be finely adjusted, and the thermal convection 8 can be efficiently suppressed. The magnetic shield moving means is not limited to the jack bolt 46, but may be a hydraulic drive mechanism.

【0048】[0048]

【発明の効果】この発明は、以上のように構成されてい
るので、以下に記載されるような効果を奏する。
Since the present invention is constituted as described above, it has the following effects.

【0049】この発明によれば、ルツボに充填された単
結晶原料融液に種結晶を挿入し、この結晶を引き上げる
ことにより単結晶を生成する単結晶引上装置本体と、こ
の単結晶引上装置本体を包囲するように配設された真空
容器と、互いに上下方向に離間して該単結晶引上装置本
体を包囲するように該真空容器内に収容され、該単結晶
原料融液部にカスプ磁界を印加する少なくとも2つの超
電導コイルと、該真空容器の外周に設置された磁気シー
ルドとを備えた磁界印加方式の単結晶製造装置におい
て、該少なくとも2つの超電導コイルは直列に接続さ
れ、該磁気シールドは該真空容器の上下端面を覆う上下
のフランジ部が該超電導コイルの中心径と等しい内径に
形成されているので、超電導コイルの位置ずれに起因し
て発生する不平衡電磁力を小さくでき、超電導コイルの
支持構造の簡略化が図られ、熱侵入量が低減され、冷却
特性の高性能な磁界印加方式の単結晶製造装置を得るこ
とができる。
According to the present invention, a single crystal pulling apparatus main body for producing a single crystal by inserting a seed crystal into a single crystal raw material melt filled in a crucible, and pulling the single crystal pulling apparatus main body A vacuum container arranged so as to surround the apparatus main body, and is housed in the vacuum container so as to surround the single crystal pulling apparatus main body while being vertically separated from each other. In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising at least two superconducting coils for applying a cusp magnetic field and a magnetic shield installed on the outer periphery of the vacuum container, the at least two superconducting coils are connected in series, Since the upper and lower flanges of the magnetic shield that cover the upper and lower end surfaces of the vacuum container are formed to have an inner diameter equal to the central diameter of the superconducting coil, the unbalanced electromagnetic generated due to the displacement of the superconducting coil is generated. The can be reduced, simplifying the support structure of the superconducting coil is reduced, the amount of heat penetration is reduced, it is possible to obtain a single crystal manufacturing apparatus of high performance magnetic field application method for cooling characteristics.

【0050】この発明によれば、ルツボに充填された単
結晶原料融液に種結晶を挿入し、この結晶を引き上げる
ことにより単結晶を生成する単結晶引上装置本体と、こ
の単結晶引上装置本体を包囲するように配設された真空
容器と、互いに上下方向に離間して該単結晶引上装置本
体を包囲するように該真空容器内に収容され、該単結晶
原料融液部にカスプ磁界を印加する少なくとも2つの超
電導コイルと、該真空容器の外周に設置された磁気シー
ルドとを備えた磁界印加方式の単結晶製造装置におい
て、該少なくとも2つの超電導コイルは直列に接続さ
れ、該磁気シールドは該真空容器の上下端面を覆う上下
のフランジ部が該超電導コイルの中心径より小径の内径
に形成されているので、超電導コイルの水平方向の位置
ずれに起因して発生する不平衡電磁力が超電導コイルを
対称位置に戻すように働き、超電導コイルを水平方向に
支持する支持部材の径小化あるいは省略が可能となり、
構造の簡素化が図れるとともに、熱侵入量が低減され、
冷却性能の高性能な磁界印加方式の単結晶製造装置を得
ることができる。
According to the present invention, a single crystal pulling apparatus main body for producing a single crystal by inserting a seed crystal into the single crystal raw material melt filled in the crucible and pulling the crystal, and the single crystal pulling apparatus A vacuum container arranged so as to surround the apparatus main body, and is housed in the vacuum container so as to surround the single crystal pulling apparatus main body while being vertically separated from each other. In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising at least two superconducting coils for applying a cusp magnetic field and a magnetic shield installed on the outer periphery of the vacuum container, the at least two superconducting coils are connected in series, Since the upper and lower flanges of the magnetic shield that cover the upper and lower end surfaces of the vacuum container are formed to have an inner diameter smaller than the central diameter of the superconducting coil, the magnetic shield is generated due to the horizontal displacement of the superconducting coil. Unbalanced electromagnetic force acts to return the superconducting coils symmetrically positioned, enables the small-diameter reduction or omission of the support member for supporting the superconducting coil in a horizontal direction,
The structure can be simplified and the amount of heat penetration can be reduced.
It is possible to obtain a high-performance magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus with high cooling performance.

【0051】この発明によれば、ルツボに充填された単
結晶原料融液に種結晶を挿入し、この結晶を引き上げる
ことにより単結晶を生成する単結晶引上装置本体と、こ
の単結晶引上装置本体を包囲するように配設された真空
容器と、互いに上下方向に離間して該単結晶引上装置本
体を包囲するように該真空容器内に収容され、該単結晶
原料融液部にカスプ磁界を印加する少なくとも2つの超
電導コイルと、該真空容器の外周に設置された磁気シー
ルドとを備えた磁界印加方式の単結晶製造装置におい
て、該少なくとも2つの超電導コイルは直列に接続さ
れ、該磁気シールドは該真空容器の上下端面を覆う上下
のフランジ部が定格の磁界に対して磁気的に飽和する厚
みに形成されているので、超電導コイルの位置ずれに起
因して発生する不平衡電磁力を小さくでき、超電導コイ
ルの支持構造の簡略化が図られ、熱侵入量が低減され、
冷却特性の高性能な、超電導マグネットの高さ寸法の小
さい磁界印加方式の単結晶製造装置を得ることができ
る。
According to the present invention, a single crystal pulling apparatus main body for producing a single crystal by inserting a seed crystal into a single crystal raw material melt filled in a crucible and pulling this crystal, and the single crystal pulling apparatus main body A vacuum container arranged so as to surround the apparatus main body, and is housed in the vacuum container so as to surround the single crystal pulling apparatus main body while being vertically separated from each other. In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising at least two superconducting coils for applying a cusp magnetic field and a magnetic shield installed on the outer periphery of the vacuum container, the at least two superconducting coils are connected in series, Since the upper and lower flanges of the magnetic shield that cover the upper and lower end surfaces of the vacuum container are formed to a thickness that magnetically saturates against the rated magnetic field, the imbalance that occurs due to the displacement of the superconducting coil Magnetic force can be reduced, simplifying the support structure of the superconducting coil is reduced, the amount of heat penetration is reduced,
It is possible to obtain a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus having a high performance of cooling characteristics and a small height dimension of a superconducting magnet.

【0052】また、非磁性材料からなる環状の端部材を
磁気シールドの上下のフランジ部に気密的に接合して、
磁気シールドと真空容器とを一体に構成したので、真空
容器の外周部分が省略され、小形軽量化および低コスト
化が図られる。
Further, annular end members made of a non-magnetic material are airtightly joined to the upper and lower flange portions of the magnetic shield,
Since the magnetic shield and the vacuum container are integrally formed, the outer peripheral portion of the vacuum container is omitted, and the size and weight are reduced and the cost is reduced.

【0053】また、磁気シールドと同一材料で、薄板か
らなる環状の端部材を該磁気シールドの上下のフランジ
部に気密的に接合して、磁気シールドと真空容器とを一
体に構成したので、真空容器の外周部分を省略すること
ができ、小型軽量化および低コスト化が図られる
Further, since the annular end members made of the same material as the magnetic shield and made of a thin plate are hermetically joined to the upper and lower flange portions of the magnetic shield, the magnetic shield and the vacuum container are integrally formed, so that the vacuum Since the outer peripheral part of the container can be omitted, the size and weight can be reduced and the cost can be reduced.

【0054】この発明によれば、ルツボに充填された単
結晶原料融液に種結晶を挿入し、この結晶を引き上げる
ことにより単結晶を生成する単結晶引上装置本体と、こ
の単結晶引上装置本体を包囲するように配設された真空
容器と、互いに上下方向に離間して該単結晶引上装置本
体を包囲するように該真空容器内に収容され、該単結晶
原料融液部にカスプ磁界を印加する少なくとも2つの超
電導コイルと、該真空容器の外周に設置された磁気シー
ルドとを備えた磁界印加方式の単結晶製造装置におい
て、該磁気シールドは、中心水平面に対して対称に配置
された上側磁気シールドと下側磁気シールドとから構成
されているので、軽量の磁界印加方式の単結晶製造装置
が得られる。
According to the present invention, a single crystal pulling apparatus main body for producing a single crystal by inserting a seed crystal into a single crystal raw material melt filled in a crucible, and pulling the single crystal pulling apparatus main body A vacuum container arranged so as to surround the apparatus main body, and is housed in the vacuum container so as to surround the single crystal pulling apparatus main body while being vertically separated from each other. In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising at least two superconducting coils for applying a cusp magnetic field and a magnetic shield installed on the outer circumference of the vacuum container, the magnetic shields are arranged symmetrically with respect to a central horizontal plane. Since it is composed of the upper magnetic shield and the lower magnetic shield, a light-weight magnetic field applying system single crystal manufacturing apparatus can be obtained.

【0055】また、超電導コイルの冷却・通電用ポート
が、上側磁気シールドと下側磁気シールドとの間を通っ
て真空容器に取り付けられているので、超電導マグネッ
トの高さ寸法を小さくすることができる。
Further, since the cooling / energizing port of the superconducting coil is attached to the vacuum container through between the upper magnetic shield and the lower magnetic shield, the height of the superconducting magnet can be reduced. .

【0056】また、上側磁気シールドと下側磁気シール
ドとの間隙を調節する磁気シールド移動手段を備えてい
るので、磁界分布の微調整が可能であり、熱対流を効果
的に抑制できる。
Further, since the magnetic shield moving means for adjusting the gap between the upper magnetic shield and the lower magnetic shield is provided, the magnetic field distribution can be finely adjusted and the thermal convection can be effectively suppressed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 この発明の実施の形態1に係る単結晶製造装
置を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a single crystal manufacturing apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】 磁気シールドのフランジ部の内径に対する超
電導コイルの位置ずれに起因して発生する不平衡電磁力
の変化を表す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a change in an unbalanced electromagnetic force caused by a positional deviation of a superconducting coil with respect to an inner diameter of a flange portion of a magnetic shield.

【図3】 この発明の実施の形態2に係る単結晶製造装
置を示す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing a single crystal manufacturing apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図4】 この発明の実施の形態3に係る単結晶製造装
置を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a single crystal manufacturing apparatus according to a third embodiment of the present invention.

【図5】 この発明の実施の形態4に係る単結晶製造装
置を示す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing a single crystal manufacturing apparatus according to Embodiment 4 of the present invention.

【図6】 この発明の実施の形態5に係る単結晶製造装
置を示す断面図である。
FIG. 6 is a sectional view showing a single crystal manufacturing apparatus according to Embodiment 5 of the present invention.

【図7】 この発明の実施の形態6に係る単結晶製造装
置を示す断面図である。
FIG. 7 is a sectional view showing a single crystal manufacturing apparatus according to Embodiment 6 of the present invention.

【図8】 この発明の実施の形態7に係る単結晶製造装
置を示す断面図である。
FIG. 8 is a sectional view showing a single crystal manufacturing apparatus according to Embodiment 7 of the present invention.

【図9】 この発明の実施の形態8に係る単結晶製造装
置を示す断面図である。
FIG. 9 is a sectional view showing a single crystal manufacturing apparatus according to Embodiment 8 of the present invention.

【図10】 従来の単結晶引上装置を示す構成図であ
る。
FIG. 10 is a configuration diagram showing a conventional single crystal pulling apparatus.

【図11】 従来の横磁場印加方式の単結晶引上装置を
示す構成図である。
FIG. 11 is a configuration diagram showing a conventional transverse magnetic field applying system single crystal pulling apparatus.

【図12】 従来の超電導磁石装置による横磁場印加方
式の単結晶引上装置を正面方向から見た構成図である。
FIG. 12 is a structural view of a conventional single crystal pulling apparatus of a transverse magnetic field applying type using a superconducting magnet apparatus as seen from the front direction.

【図13】 従来の超電導磁石装置による横磁場印加方
式の単結晶引上装置を上面方向から見た構成図である。
FIG. 13 is a configuration view of a conventional single crystal pulling apparatus of a transverse magnetic field applying system using a superconducting magnet apparatus as viewed from the top surface direction.

【図14】 従来の超電導磁石装置による横磁場印加方
式の単結晶引上装置の他の例を正面方向から見た構成図
である。
FIG. 14 is a configuration diagram of another example of a conventional single crystal pulling apparatus of a transverse magnetic field applying system using a superconducting magnet apparatus as viewed from the front direction.

【図15】 従来の超電導磁石装置による横磁場印加方
式の単結晶引上装置の他の例を上面方向から見た構成図
である。
FIG. 15 is a configuration view of another example of a conventional single crystal pulling apparatus of a transverse magnetic field applying system using a superconducting magnet apparatus as viewed from the top surface direction.

【図16】 従来のカスプ磁界印加方式の単結晶引上装
置を説明する図である。
FIG. 16 is a diagram illustrating a conventional cusp magnetic field application type single crystal pulling apparatus.

【図17】 従来のカスプ磁界印加方式の単結晶引上装
置の他の例を説明する図である。
FIG. 17 is a diagram for explaining another example of the conventional single crystal pulling apparatus of the cusp magnetic field applying system.

【図18】 従来の超電導マグネット装置における結線
例を示す結線図である。
FIG. 18 is a connection diagram showing an example of connection in a conventional superconducting magnet device.

【図19】 従来の超電導マグネット装置におけるコイ
ル配置を示す断面図である。
FIG. 19 is a sectional view showing a coil arrangement in a conventional superconducting magnet device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 単結晶原料融液、2 ルツボ、4 種結晶、7 単
結晶、17 真空容器、17a、17b 端部材、3
1、32 超電導コイル、40 磁気シールド、40a
フランジ部、40A 上側磁気シールド、40B 下
側磁気シールド、45 冷却・通電用ポート、46 ジ
ャッキボルト(磁気シールド移動手段)、100 単結
晶引上装置本体。
1 melt of single crystal raw material, 2 crucible, 4 seed crystal, 7 single crystal, 17 vacuum container, 17a, 17b end member, 3
1, 32 superconducting coil, 40 magnetic shield, 40a
Flange portion, 40A upper magnetic shield, 40B lower magnetic shield, 45 cooling / energizing port, 46 jack bolt (magnetic shield moving means), 100 single crystal pulling apparatus main body.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−33093(JP,A) 特開 平10−167875(JP,A) 特開 平10−279394(JP,A) 特開 昭58−217493(JP,A) 特開 昭61−222984(JP,A) 特開 昭63−222408(JP,A) 特開 平8−333190(JP,A) 特開 平10−120485(JP,A) 特公 平3−61630(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C30B 1/00 - 35/00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A 64-33093 (JP, A) JP-A 10-167875 (JP, A) JP-A 10-279394 (JP, A) JP-A 58- 217493 (JP, A) JP 61-222984 (JP, A) JP 63-222408 (JP, A) JP 8-333190 (JP, A) JP 10-120485 (JP, A) Japanese Patent Publication No. 3-61630 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) C30B 1/00-35/00

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 ルツボに充填された単結晶原料融液に種
結晶を挿入し、この結晶を引き上げることにより単結晶
を生成する単結晶引上装置本体と、この単結晶引上装置
本体を包囲するように配設された真空容器と、互いに上
下方向に離間して前記単結晶引上装置本体を包囲するよ
うに前記真空容器内に収容され、前記単結晶原料融液部
にカスプ磁界を印加する少なくとも2つの超電導コイル
と、前記真空容器の外周に設置された磁気シールドとを
備えた磁界印加方式の単結晶製造装置において、前記少
なくとも2つの超電導コイルは直列に接続され、前記磁
気シールドは前記真空容器の上下端面を覆う上下のフラ
ンジ部が前記超電導コイルの中心径と等しい内径に形成
されていることを特徴とする磁界印加方式の単結晶製造
装置。
1. A single crystal pulling apparatus main body for producing a single crystal by inserting a seed crystal into a single crystal raw material melt filled in a crucible and surrounding the single crystal pulling apparatus main body. And a vacuum container arranged so as to be vertically separated from each other and housed in the vacuum container so as to surround the main body of the single crystal pulling apparatus, and apply a cusp magnetic field to the single crystal raw material melt portion. In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising at least two superconducting coils and a magnetic shield installed on the outer periphery of the vacuum container, the at least two superconducting coils are connected in series, and the magnetic shield is An apparatus for producing a single crystal by a magnetic field application method, wherein upper and lower flange portions covering upper and lower end surfaces of a vacuum container are formed to have an inner diameter equal to a central diameter of the superconducting coil.
【請求項2】 ルツボに充填された単結晶原料融液に種
結晶を挿入し、この結晶を引き上げることにより単結晶
を生成する単結晶引上装置本体と、この単結晶引上装置
本体を包囲するように配設された真空容器と、互いに上
下方向に離間して前記単結晶引上装置本体を包囲するよ
うに前記真空容器内に収容され、前記単結晶原料融液部
にカスプ磁界を印加する少なくとも2つの超電導コイル
と、前記真空容器の外周に設置された磁気シールドとを
備えた磁界印加方式の単結晶製造装置において、前記少
なくとも2つの超電導コイルは直列に接続され、前記磁
気シールドは前記真空容器の上下端面を覆う上下のフラ
ンジ部が前記超電導コイルの中心径より小径の内径に形
成されていることを特徴とする磁界印加方式の単結晶製
造装置。
2. A single crystal pulling apparatus main body for producing a single crystal by inserting a seed crystal into a single crystal raw material melt filled in a crucible and surrounding the single crystal pulling apparatus main body. And a vacuum container arranged so as to be vertically separated from each other and housed in the vacuum container so as to surround the main body of the single crystal pulling apparatus, and apply a cusp magnetic field to the single crystal raw material melt portion. In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising at least two superconducting coils and a magnetic shield installed on the outer periphery of the vacuum container, the at least two superconducting coils are connected in series, and the magnetic shield is An apparatus for producing a single crystal by a magnetic field application method, wherein upper and lower flange portions that cover upper and lower end surfaces of a vacuum container are formed with an inner diameter smaller than a central diameter of the superconducting coil.
【請求項3】 ルツボに充填された単結晶原料融液に種
結晶を挿入し、この結晶を引き上げることにより単結晶
を生成する単結晶引上装置本体と、この単結晶引上装置
本体を包囲するように配設された真空容器と、互いに上
下方向に離間して前記単結晶引上装置本体を包囲するよ
うに前記真空容器内に収容され、前記単結晶原料融液部
にカスプ磁界を印加する少なくとも2つの超電導コイル
と、前記真空容器の外周に設置された磁気シールドとを
備えた磁界印加方式の単結晶製造装置において、前記少
なくとも2つの超電導コイルは直列に接続され、前記磁
気シールドは前記真空容器の上下端面を覆う上下のフラ
ンジ部が定格の磁界に対して磁気的に飽和する厚みに形
成されていることを特徴とする磁界印加方式の単結晶製
造装置。
3. A single crystal pulling apparatus main body for producing a single crystal by inserting a seed crystal into a single crystal raw material melt filled in a crucible and surrounding the single crystal pulling apparatus main body. And a vacuum container arranged so as to be vertically separated from each other and housed in the vacuum container so as to surround the main body of the single crystal pulling apparatus, and apply a cusp magnetic field to the single crystal raw material melt portion. In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising at least two superconducting coils and a magnetic shield installed on the outer periphery of the vacuum container, the at least two superconducting coils are connected in series, and the magnetic shield is An apparatus for producing a single crystal by a magnetic field application method, wherein upper and lower flange portions that cover upper and lower end surfaces of a vacuum container are formed to have a thickness that is magnetically saturated with respect to a rated magnetic field.
【請求項4】 非磁性材料からなる環状の端部材を磁気
シールドの上下のフランジ部に気密的に接合して、磁気
シールドと真空容器とを一体に構成したことを特徴とす
る請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の磁界印加
方式の単結晶製造装置。
4. The magnetic shield and the vacuum container are integrally formed by air-tightly joining annular end members made of a non-magnetic material to the upper and lower flange portions of the magnetic shield. A magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus according to claim 3.
【請求項5】 磁気シールドと同一材料で、薄板からな
る環状の端部材を該磁気シールドの上下のフランジ部に
気密的に接合して、磁気シールドと真空容器とを一体に
構成したことを特徴とする請求項1ないし請求項3のい
ずれかに記載の磁界印加方式の単結晶製造装置。
5. A magnetic shield and a vacuum container are integrally formed by air-tightly joining annular end members made of a thin plate of the same material as the magnetic shield to upper and lower flange portions of the magnetic shield. The magnetic field applying system single crystal manufacturing apparatus according to claim 1.
【請求項6】 ルツボに充填された単結晶原料融液に種
結晶を挿入し、この結晶を引き上げることにより単結晶
を生成する単結晶引上装置本体と、この単結晶引上装置
本体を包囲するように配設された真空容器と、互いに上
下方向に離間して前記単結晶引上装置本体を包囲するよ
うに前記真空容器内に収容され、前記単結晶原料融液部
にカスプ磁界を印加する少なくとも2つの超電導コイル
と、前記真空容器の外周に設置された磁気シールドとを
備えた磁界印加方式の単結晶製造装置において、前記磁
気シールドは、中心水平面に対して対称に配置された上
側磁気シールドと下側磁気シールドとから構成されてい
ることを特徴とする磁界印加方式の単結晶製造装置。
6. A single crystal pulling apparatus main body for producing a single crystal by inserting a seed crystal into a single crystal raw material melt filled in a crucible and surrounding the single crystal pulling apparatus main body. And a vacuum container arranged so as to be vertically separated from each other and housed in the vacuum container so as to surround the main body of the single crystal pulling apparatus, and apply a cusp magnetic field to the single crystal raw material melt portion. In a magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising at least two superconducting coils and a magnetic shield installed on the outer periphery of the vacuum container, the magnetic shield is an upper magnetic field symmetrically arranged with respect to a central horizontal plane. A magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus comprising a shield and a lower magnetic shield.
【請求項7】 超電導コイルの冷却・通電用ポートが、
上側磁気シールドと下側磁気シールドとの間を通って真
空容器に取り付けられていることを特徴とする請求項6
記載の磁界印加方式の単結晶製造装置。
7. A cooling / energizing port for a superconducting coil,
7. The vacuum container is attached through a space between the upper magnetic shield and the lower magnetic shield.
A magnetic field application type single crystal manufacturing apparatus as described.
【請求項8】 上側磁気シールドと下側磁気シールドと
の間隙を調節する磁気シールド移動手段を備えているこ
とを特徴とする請求項6記載の磁界印加方式の単結晶製
造装置。
8. The magnetic field applying single crystal manufacturing apparatus according to claim 6, further comprising a magnetic shield moving means for adjusting a gap between the upper magnetic shield and the lower magnetic shield.
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